JPH1085970A - レーザ溶接方法 - Google Patents
レーザ溶接方法Info
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- JPH1085970A JPH1085970A JP8246177A JP24617796A JPH1085970A JP H1085970 A JPH1085970 A JP H1085970A JP 8246177 A JP8246177 A JP 8246177A JP 24617796 A JP24617796 A JP 24617796A JP H1085970 A JPH1085970 A JP H1085970A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁束密度に勾配をもたせることなくプラズマ
を移動させることが可能なレーザ溶接方法の提供。 【解決手段】 レーザ加工部の近傍に形成されるプラズ
マ８に対して、外部電源１４と接続されている一対の電
極２２を近づけプラズマ８を通して電流２４を流すとと
もに、これと同時に外部からプラズマ８に磁場２１を与
える。プラズマ８中を移動する電子が電磁力を受け、フ
レミングの左手の法則に従って、磁場２１の方向と電流
２４の方向のいずれにも直角となる方向へプラズマ８が
駆動される。レーザ光１１がプラズマ８によって遮られ
ることがなくなり、レーザ光１１による被溶接物１の溶
融が促進される。
を移動させることが可能なレーザ溶接方法の提供。 【解決手段】 レーザ加工部の近傍に形成されるプラズ
マ８に対して、外部電源１４と接続されている一対の電
極２２を近づけプラズマ８を通して電流２４を流すとと
もに、これと同時に外部からプラズマ８に磁場２１を与
える。プラズマ８中を移動する電子が電磁力を受け、フ
レミングの左手の法則に従って、磁場２１の方向と電流
２４の方向のいずれにも直角となる方向へプラズマ８が
駆動される。レーザ光１１がプラズマ８によって遮られ
ることがなくなり、レーザ光１１による被溶接物１の溶
融が促進される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ溶接方法に
関し、とくにレーザ溶接部近傍に生じるプラズマの動き
を制御するレーザ溶接方法に関する。
関し、とくにレーザ溶接部近傍に生じるプラズマの動き
を制御するレーザ溶接方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ溶接では、被溶接物へのレーザ光
の照射によりプラズマが発生する。プラズマは、レーザ
光を遮るため、レーザ光の被溶接物へのエネルギー伝達
効率が悪くなり、加工能力が低下する。レーザ溶接中に
生じるプラズマに外部から磁場を与え、その磁束密度に
勾配をもたせることにより、磁束密度の高い方から低い
方に向かってプラズマを移動させ、被溶接物へのエネル
ギー伝達効率を高める技術として、特開平６−１２２０
８５号公報が知られている。
の照射によりプラズマが発生する。プラズマは、レーザ
光を遮るため、レーザ光の被溶接物へのエネルギー伝達
効率が悪くなり、加工能力が低下する。レーザ溶接中に
生じるプラズマに外部から磁場を与え、その磁束密度に
勾配をもたせることにより、磁束密度の高い方から低い
方に向かってプラズマを移動させ、被溶接物へのエネル
ギー伝達効率を高める技術として、特開平６−１２２０
８５号公報が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の方法に
よるプラズマの移動には、つぎの問題があった。レーザ
光の照射により生じるプラズマは、直径が１ｍｍから数
ｍｍ程度の小さなものである。このプラズマ中に磁束密
度の勾配をもたせるためには、プラズマに入る磁束を絞
り、プラズマから出る磁束を拡げることになるが、磁束
を拡げることは比較的容易であるのに対し、磁束を絞る
ことは難しい。これは、磁束を絞る場合は、電磁コイル
が巻付けられる鉄心（フェライトコア）の先端を十分に
細くする必要があるが、先端を極端に細くしても鉄心の
磁束密度が飽和する時点では、これ以上磁束を絞ること
ができず、絞りの限界に達するからである。さらに、鉄
心の先端は、高温のプラズマの極く近傍に配置されるこ
とから、鉄心には高耐熱性が要求され、耐久性の面でも
問題がある。本発明の目的は、磁束密度に勾配をもたせ
ることなくプラズマを移動させることが可能なレーザ溶
接方法を提供することにある。
よるプラズマの移動には、つぎの問題があった。レーザ
光の照射により生じるプラズマは、直径が１ｍｍから数
ｍｍ程度の小さなものである。このプラズマ中に磁束密
度の勾配をもたせるためには、プラズマに入る磁束を絞
り、プラズマから出る磁束を拡げることになるが、磁束
を拡げることは比較的容易であるのに対し、磁束を絞る
ことは難しい。これは、磁束を絞る場合は、電磁コイル
が巻付けられる鉄心（フェライトコア）の先端を十分に
細くする必要があるが、先端を極端に細くしても鉄心の
磁束密度が飽和する時点では、これ以上磁束を絞ること
ができず、絞りの限界に達するからである。さらに、鉄
心の先端は、高温のプラズマの極く近傍に配置されるこ
とから、鉄心には高耐熱性が要求され、耐久性の面でも
問題がある。本発明の目的は、磁束密度に勾配をもたせ
ることなくプラズマを移動させることが可能なレーザ溶
接方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明に係るレーザ溶接方法は、つぎの通りである。レーザ
加工部の近傍に形成されるプラズマに対して、外部電源
と接続されている一対の電極を近づけプラズマを通して
電流を流すとともに、これと同時に外部から磁場を与え
ることを特徴とするレーザ溶接方法。
明に係るレーザ溶接方法は、つぎの通りである。レーザ
加工部の近傍に形成されるプラズマに対して、外部電源
と接続されている一対の電極を近づけプラズマを通して
電流を流すとともに、これと同時に外部から磁場を与え
ることを特徴とするレーザ溶接方法。
【０００５】本発明に係るレーザ溶接方法では、プラズ
マを通して電流を流すことにより、プラズマ中を一定の
方向に電子が移動する。プラズマには、外部から磁場が
与えられるので、プラズマ中を移動する電子に磁場が作
用して、電子が電磁力を受けて磁気吹きが生じ、プラズ
マを移動させることができる。プラズマの移動方向は、
フレミングの左手の法則に従う。
マを通して電流を流すことにより、プラズマ中を一定の
方向に電子が移動する。プラズマには、外部から磁場が
与えられるので、プラズマ中を移動する電子に磁場が作
用して、電子が電磁力を受けて磁気吹きが生じ、プラズ
マを移動させることができる。プラズマの移動方向は、
フレミングの左手の法則に従う。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明に係るレーザ溶接方法を図
１〜図８を参照して説明する。図１および図２は本発明
の第１実施例を示しており、図３および図４は本発明の
第２実施例を示している。図５および図６は本発明の第
３実施例を示しており、図７および図８は本発明の第３
実施例を示している。本発明の全実施例に共通する部分
には、全実施例にわたって同じ符号を付してある。
１〜図８を参照して説明する。図１および図２は本発明
の第１実施例を示しており、図３および図４は本発明の
第２実施例を示している。図５および図６は本発明の第
３実施例を示しており、図７および図８は本発明の第３
実施例を示している。本発明の全実施例に共通する部分
には、全実施例にわたって同じ符号を付してある。
【０００７】まず、本発明方法を実施するための装置の
全実施例に共通する部分を、たとえば図１ないし図３を
参照して説明する。レーザ溶接装置の加工ヘッド１０の
下方には、金属材料からなる被溶接物１が配置されてい
る。被溶接物１は、溶接予定部位が突き合わされてい
る。加工ヘッド１０の下部は、下方にいくにつれて先細
りとなっており、下端部には被溶接物１側に開口する開
口部が形成されている。加工ヘッド１０内には、図示し
ないレーザ発振器からのレーザ光１１を集光させる集光
部１２が設けられている。レーザ光１１の照射による被
溶接物１の溶融部分には、アルゴンガス等のシールドガ
スが供給される。プラズマ８は、レーザ光１１の照射に
よる、シールドガスおよび金属蒸気の電離により生じ
る。レーザ溶接装置は、外部電源１４を有している。被
溶接物１の突き合わせ部１ａの近傍には、プラズマ８に
接近可能に一対の電極２２が配置され、一対の電極２２
は外部電源１４に接続されている。電極２２間には、プ
ラズマ８を通して電流２４が流される。レーザ溶接装置
は、プラズマ８に外部から磁場２１を与える磁場発生コ
イル２０または磁石２６を有している。
全実施例に共通する部分を、たとえば図１ないし図３を
参照して説明する。レーザ溶接装置の加工ヘッド１０の
下方には、金属材料からなる被溶接物１が配置されてい
る。被溶接物１は、溶接予定部位が突き合わされてい
る。加工ヘッド１０の下部は、下方にいくにつれて先細
りとなっており、下端部には被溶接物１側に開口する開
口部が形成されている。加工ヘッド１０内には、図示し
ないレーザ発振器からのレーザ光１１を集光させる集光
部１２が設けられている。レーザ光１１の照射による被
溶接物１の溶融部分には、アルゴンガス等のシールドガ
スが供給される。プラズマ８は、レーザ光１１の照射に
よる、シールドガスおよび金属蒸気の電離により生じ
る。レーザ溶接装置は、外部電源１４を有している。被
溶接物１の突き合わせ部１ａの近傍には、プラズマ８に
接近可能に一対の電極２２が配置され、一対の電極２２
は外部電源１４に接続されている。電極２２間には、プ
ラズマ８を通して電流２４が流される。レーザ溶接装置
は、プラズマ８に外部から磁場２１を与える磁場発生コ
イル２０または磁石２６を有している。
【０００８】つぎに、本発明方法の全実施例に共通する
部分について説明する。被溶接物１が所定の位置に位置
決めされると、被溶接物１の突き合わせ部１ａにシール
ドガスが供給され、レーザ光１１が照射される。被溶接
物１の突き合わせ部１ａは、レーザ光１１の照射により
溶融される。レーザ光１１の照射によって生じた溶融金
属２は、時間の経過とともに冷却され、凝固金属３とな
る。レーザ光１１の照射時には、図１に示すように、被
溶接物１の溶融部分にはクレータ５と呼ばれるくぼみが
生じる。クレータ５内およびその近傍のシールドガスお
よび被溶接物１の金属蒸気は、レーザ光１１の照射によ
って電離し、プラズマ８が生じる。プラズマ８に近づけ
て配置される一対の電極２２間には、プラズマ８を通し
て電流２４が流され、これと同時にプラズマ８には、磁
場発生コイル２０または磁石２６により磁場２１が与え
られるので、プラズマ８中を移動する電子が電磁力を受
け、フレミングの左手の法則に従って、磁場２１の方向
と電流２４の方向のいずれにも直角となる方向にプラズ
マ８が移動する。すなわち、プラズマ８を通して電流２
４を流す工程と、磁場発生コイル２０または磁石２６に
よりプラズマ８に磁場２１を与える工程の、両工程は同
時に実施される。
部分について説明する。被溶接物１が所定の位置に位置
決めされると、被溶接物１の突き合わせ部１ａにシール
ドガスが供給され、レーザ光１１が照射される。被溶接
物１の突き合わせ部１ａは、レーザ光１１の照射により
溶融される。レーザ光１１の照射によって生じた溶融金
属２は、時間の経過とともに冷却され、凝固金属３とな
る。レーザ光１１の照射時には、図１に示すように、被
溶接物１の溶融部分にはクレータ５と呼ばれるくぼみが
生じる。クレータ５内およびその近傍のシールドガスお
よび被溶接物１の金属蒸気は、レーザ光１１の照射によ
って電離し、プラズマ８が生じる。プラズマ８に近づけ
て配置される一対の電極２２間には、プラズマ８を通し
て電流２４が流され、これと同時にプラズマ８には、磁
場発生コイル２０または磁石２６により磁場２１が与え
られるので、プラズマ８中を移動する電子が電磁力を受
け、フレミングの左手の法則に従って、磁場２１の方向
と電流２４の方向のいずれにも直角となる方向にプラズ
マ８が移動する。すなわち、プラズマ８を通して電流２
４を流す工程と、磁場発生コイル２０または磁石２６に
よりプラズマ８に磁場２１を与える工程の、両工程は同
時に実施される。
【０００９】つぎに、本発明方法の各実施例に特有な部
分を説明する。本発明の第１実施例では、レーザ溶接装
置は、図１および図２に示すように、加工ヘッド１０の
下端部外周に、磁場発生コイル２０を有している。磁場
発生コイル２０は、直流電流を流すことにより、レーザ
光１１の光軸方向の向きをもつ磁場（磁界）２１を発生
させる。磁場発生コイル２０の直下には、一対の電極２
２が配置されている。各電極２２は、プラズマ８が生じ
る被溶接物１の突き合わせ部１ａを中心として左右に配
置されている。各電極２２の一端部は、プラズマ８と接
触可能な位置に位置している。一方の電極２２は、外部
電源１４の＋極に接続されている。他方の電極２２は、
外部電源１４の−極に接続されている。プラズマ８を通
して電極２２間に流れる電流２４の方向は、レーザ光１
１の光軸方向とほぼ直角となっている。電極２２は、プ
ラズマ８に接触し高温となるので、冷却手段により冷却
するのが望ましい。第１実施例に係る本発明方法では、
図１および図２に示すように、磁場発生コイル２０に直
流電流を流し、プラズマ８にレーザ光１１の光軸方向か
ら磁場２１を与えるとともに、電極２２間にプラズマ８
を通してレーザ光１１の光軸方向とほぼ直角方向から電
流２４を流すので、図２の矢印Ｆ1 に示すように、プラ
ズマ８を被溶接物１の表面と平行で、かつ磁場２１と直
角方向に移動させることができる。したがって、レーザ
光１１はプラズマ８によってほとんど遮られることはな
くなり、レーザ光１１の照射による被溶接物１の溶融が
促進される。
分を説明する。本発明の第１実施例では、レーザ溶接装
置は、図１および図２に示すように、加工ヘッド１０の
下端部外周に、磁場発生コイル２０を有している。磁場
発生コイル２０は、直流電流を流すことにより、レーザ
光１１の光軸方向の向きをもつ磁場（磁界）２１を発生
させる。磁場発生コイル２０の直下には、一対の電極２
２が配置されている。各電極２２は、プラズマ８が生じ
る被溶接物１の突き合わせ部１ａを中心として左右に配
置されている。各電極２２の一端部は、プラズマ８と接
触可能な位置に位置している。一方の電極２２は、外部
電源１４の＋極に接続されている。他方の電極２２は、
外部電源１４の−極に接続されている。プラズマ８を通
して電極２２間に流れる電流２４の方向は、レーザ光１
１の光軸方向とほぼ直角となっている。電極２２は、プ
ラズマ８に接触し高温となるので、冷却手段により冷却
するのが望ましい。第１実施例に係る本発明方法では、
図１および図２に示すように、磁場発生コイル２０に直
流電流を流し、プラズマ８にレーザ光１１の光軸方向か
ら磁場２１を与えるとともに、電極２２間にプラズマ８
を通してレーザ光１１の光軸方向とほぼ直角方向から電
流２４を流すので、図２の矢印Ｆ1 に示すように、プラ
ズマ８を被溶接物１の表面と平行で、かつ磁場２１と直
角方向に移動させることができる。したがって、レーザ
光１１はプラズマ８によってほとんど遮られることはな
くなり、レーザ光１１の照射による被溶接物１の溶融が
促進される。
【００１０】第２実施例では、レーザ溶接装置は、図３
および図４に示すように、加工ヘッド１０の下端部の直
下に、第１実施例と同様に、外部電源１４と接続された
一対の電極２２を有している。各電極２２は、プラズマ
８が生じる被溶接物１の突き合わせ部１ａを中心として
左右に配置されている。加工ヘッド１０の下端部の直下
には、プラズマ８に磁場２１を与える２つの磁石２６が
設けられている。各磁石２６は、プラズマ８が発生する
位置の両側に配置されている。一方の磁石２６のＮ極か
ら他方の磁石２６のＳ極に向かう磁力線の向きは、電極
２２間を流れる電流２４の向きに対して直角となってい
る。第２実施例に係る本発明方法では、図３および図４
に示すように、電極２２間にプラズマ８を通してレーザ
光１１の光軸と直角方向から電流２４を流すとともに、
プラズマ８に磁場２１を光軸方向と直角でかつ電流２４
の方向と直角方向から与えるので、図４に示すように、
プラズマ８をクレータ５内に押し込めることができる。
レーザ光１１のエネルギーは、プラズマ８に吸収される
ので、被溶接物１の突き合わせ部分の溶融が促進され
る。
および図４に示すように、加工ヘッド１０の下端部の直
下に、第１実施例と同様に、外部電源１４と接続された
一対の電極２２を有している。各電極２２は、プラズマ
８が生じる被溶接物１の突き合わせ部１ａを中心として
左右に配置されている。加工ヘッド１０の下端部の直下
には、プラズマ８に磁場２１を与える２つの磁石２６が
設けられている。各磁石２６は、プラズマ８が発生する
位置の両側に配置されている。一方の磁石２６のＮ極か
ら他方の磁石２６のＳ極に向かう磁力線の向きは、電極
２２間を流れる電流２４の向きに対して直角となってい
る。第２実施例に係る本発明方法では、図３および図４
に示すように、電極２２間にプラズマ８を通してレーザ
光１１の光軸と直角方向から電流２４を流すとともに、
プラズマ８に磁場２１を光軸方向と直角でかつ電流２４
の方向と直角方向から与えるので、図４に示すように、
プラズマ８をクレータ５内に押し込めることができる。
レーザ光１１のエネルギーは、プラズマ８に吸収される
ので、被溶接物１の突き合わせ部分の溶融が促進され
る。
【００１１】第３実施例では、レーザ溶接装置は、図５
および図６に示すように、加工ヘッド１０の下端部外周
に、第１実施例と同様に磁場発生コイル２０を有してい
る。磁場発生コイル２０は、直流電流を流すことにより
磁場２１を発生させる。本実施例では、発生した磁場２
１のうちプラズマ８と干渉する部分の向きは、半径方向
外方に設定されている。加工ヘッド１０は、外部電源１
４の＋極に接続されている。被溶接物１は、外部電源１
４の−極に接続されている。本実施例では、被溶接物１
と加工ヘッド１０は電極２２として機能しており、加工
ヘッド１０と被溶接物１との間にプラズマ８を通して電
流２４が流される。加工ヘッド１０の下端部は、プラズ
マ８の発生位置の直上に位置している。加工ヘッド１０
の下端部は、プラズマ８に接触し高温となるので、冷却
手段により冷却するのが望ましい。第３実施例に係る本
発明方法では、図５および図６に示すように、加工ヘッ
ド１０と被溶接物１との間にプラズマ８を通して電流２
４を流すとともに、プラズマ８に磁場２１を与えるが、
プラズマ８に与えられる磁場２１は半径方向外方に向か
うので、図６に示すように、クレータ５内のプラズマ８
を半径方向に膨張拡散させることができる。したがっ
て、レーザ光１１はプラズマ８によってほとんど遮られ
ることはなくなり、レーザ光１１による被溶接物１の溶
融が促進される。
および図６に示すように、加工ヘッド１０の下端部外周
に、第１実施例と同様に磁場発生コイル２０を有してい
る。磁場発生コイル２０は、直流電流を流すことにより
磁場２１を発生させる。本実施例では、発生した磁場２
１のうちプラズマ８と干渉する部分の向きは、半径方向
外方に設定されている。加工ヘッド１０は、外部電源１
４の＋極に接続されている。被溶接物１は、外部電源１
４の−極に接続されている。本実施例では、被溶接物１
と加工ヘッド１０は電極２２として機能しており、加工
ヘッド１０と被溶接物１との間にプラズマ８を通して電
流２４が流される。加工ヘッド１０の下端部は、プラズ
マ８の発生位置の直上に位置している。加工ヘッド１０
の下端部は、プラズマ８に接触し高温となるので、冷却
手段により冷却するのが望ましい。第３実施例に係る本
発明方法では、図５および図６に示すように、加工ヘッ
ド１０と被溶接物１との間にプラズマ８を通して電流２
４を流すとともに、プラズマ８に磁場２１を与えるが、
プラズマ８に与えられる磁場２１は半径方向外方に向か
うので、図６に示すように、クレータ５内のプラズマ８
を半径方向に膨張拡散させることができる。したがっ
て、レーザ光１１はプラズマ８によってほとんど遮られ
ることはなくなり、レーザ光１１による被溶接物１の溶
融が促進される。
【００１２】第４実施例では、レーザ溶接装置は、図７
および図８に示すように、加工ヘッド１０に、第３実施
例と同様に、外部電源１４の＋極が接続されており、被
溶接物１には、外部電源１４の−極が接続されている。
加工ヘッド１０の下端部の直下には、第２実施例と同様
にプラズマ８に磁場２１を与える２つの磁石２６が配置
されている。各磁石２６は、プラズマ８が発生する被溶
接物１の突き合わせ部１ａを中心として左右に配置され
ている。一方の磁石２６のＮ極から他方の磁石２６のＳ
極に向かう磁力線の向きは、加工ヘッド１０と被溶接物
１との間を流れる電流２４の向きに対して直角となって
いる。第４実施例に係る本発明方法では、図７および図
８に示すように、加工ヘッド１０と被溶接物１との間に
プラズマ８を通して電流を流すとともに、プラズマ８に
レーザ光１１の光軸と直角方向から磁石２６による磁場
２１を与えるので、図８の矢印Ｆ2 に示すように、クレ
ータ５内のプラズマ８を被溶接物１の表面と平行な方向
へ移動させることができる。したがって、レーザ光１１
はプラズマ８によってほとんど遮られることはなくな
り、レーザ光１１による被溶接物１の溶融が促進され
る。
および図８に示すように、加工ヘッド１０に、第３実施
例と同様に、外部電源１４の＋極が接続されており、被
溶接物１には、外部電源１４の−極が接続されている。
加工ヘッド１０の下端部の直下には、第２実施例と同様
にプラズマ８に磁場２１を与える２つの磁石２６が配置
されている。各磁石２６は、プラズマ８が発生する被溶
接物１の突き合わせ部１ａを中心として左右に配置され
ている。一方の磁石２６のＮ極から他方の磁石２６のＳ
極に向かう磁力線の向きは、加工ヘッド１０と被溶接物
１との間を流れる電流２４の向きに対して直角となって
いる。第４実施例に係る本発明方法では、図７および図
８に示すように、加工ヘッド１０と被溶接物１との間に
プラズマ８を通して電流を流すとともに、プラズマ８に
レーザ光１１の光軸と直角方向から磁石２６による磁場
２１を与えるので、図８の矢印Ｆ2 に示すように、クレ
ータ５内のプラズマ８を被溶接物１の表面と平行な方向
へ移動させることができる。したがって、レーザ光１１
はプラズマ８によってほとんど遮られることはなくな
り、レーザ光１１による被溶接物１の溶融が促進され
る。
【００１３】上記各実施例においては、磁場２１と電流
２４の方向が互いに直角でなくてもそれらの直角成分に
よってプラズマ８中を移動する電子が電磁力を受け、フ
レミングの左手の法則に従って、磁場２１の方向と電流
２４の方向のいずれにも直角となる方向へプラズマ８が
駆動される。したがって、磁場２１の方向と電流２４の
方向を適宜設定することにより、プラズマ８を任意に方
向に移動させることが可能となる。
２４の方向が互いに直角でなくてもそれらの直角成分に
よってプラズマ８中を移動する電子が電磁力を受け、フ
レミングの左手の法則に従って、磁場２１の方向と電流
２４の方向のいずれにも直角となる方向へプラズマ８が
駆動される。したがって、磁場２１の方向と電流２４の
方向を適宜設定することにより、プラズマ８を任意に方
向に移動させることが可能となる。
【００１４】
【発明の効果】本発明に係るレーザ溶接方法によれば、
レーザ加工部の近傍に形成されるプラズマに対して、外
部電源と接続されている一対の電極を近づけプラズマを
通して電流を流すとともに、これと同時に外部から磁場
を与えるので、磁束密度に勾配をもたせることなくプラ
ズマを移動させることができる。
レーザ加工部の近傍に形成されるプラズマに対して、外
部電源と接続されている一対の電極を近づけプラズマを
通して電流を流すとともに、これと同時に外部から磁場
を与えるので、磁束密度に勾配をもたせることなくプラ
ズマを移動させることができる。
【図１】本発明の第１実施例に係るレーザ溶接方法を実
施するための装置の要部断面図である。
施するための装置の要部断面図である。
【図２】図１を溶接進行方向に対して直角方向からみた
断面図である。
断面図である。
【図３】本発明の第２実施例に係るレーザ溶接方法を実
施するための装置の要部平面図である。
施するための装置の要部平面図である。
【図４】図３を溶接進行方向に対して同じ方向からみた
断面図である。
断面図である。
【図５】本発明の第３実施例に係るレーザ溶接方法を実
施するための装置の要部断面図である。
施するための装置の要部断面図である。
【図６】図５のプラズマが半径方向外方に拡散する状態
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図７】本発明の第４実施例に係るレーザ溶接方法を実
施するための装置の要部断面図である。
施するための装置の要部断面図である。
【図８】図７を溶接進行方向に対して直角方向からみた
断面図である。
断面図である。
１ 被溶接物 ８ プラズマ １０ 加工ヘッド １１ レーザ光 １４ 外部電源 ２０ 磁場発生コイル ２１ 磁場 ２２ 電極 ２４ 電流 ２６ 磁石
Claims (1)
- 【請求項１】 レーザ加工部の近傍に形成されるプラズ
マに対して、外部電源と接続されている一対の電極を近
づけプラズマを通して電流を流すとともに、これと同時
に外部から磁場を与えることを特徴とするレーザ溶接方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8246177A JPH1085970A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | レーザ溶接方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8246177A JPH1085970A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | レーザ溶接方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1085970A true JPH1085970A (ja) | 1998-04-07 |
Family
ID=17144669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8246177A Pending JPH1085970A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | レーザ溶接方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1085970A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007079650A1 (fr) * | 2006-01-13 | 2007-07-19 | Cheng-Rui Xiong | Procédé de contrôle et de dissipation de plasma nocif dans une production industrielle au moyen d'un champ magnétique moteur et son dispositif de génération de champ magnétique moteur |
| JP2009056499A (ja) * | 2007-09-03 | 2009-03-19 | Toyota Boshoku Corp | レーザ溶接装置及びレーザ溶接方法 |
| CN105036057A (zh) * | 2015-04-17 | 2015-11-11 | 温州大学 | 一种激光束直写构造图形化磁性微纳结构的方法 |
| CN108723581A (zh) * | 2018-06-15 | 2018-11-02 | 湖南大学 | 一种双涡旋电场辅助超快激光加工系统及其加工方法 |
| CN110640315A (zh) * | 2019-08-26 | 2020-01-03 | 江苏大学 | 一种外加变频磁场的激光焊接方法和装置 |
-
1996
- 1996-09-18 JP JP8246177A patent/JPH1085970A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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