JPH1081690A - キラル化合物 - Google Patents

キラル化合物

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JPH1081690A
JPH1081690A JP9145155A JP14515597A JPH1081690A JP H1081690 A JPH1081690 A JP H1081690A JP 9145155 A JP9145155 A JP 9145155A JP 14515597 A JP14515597 A JP 14515597A JP H1081690 A JPH1081690 A JP H1081690A
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ライナー、シュテュルマー
Jun Prof Dr Okuda
ジュン、オクダ
Kurt Dr Ritter
クルト、リター
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 エナンチオ選択性水素添加用の触媒として用
いることができ、上記の欠点を有さず、特に簡単な方法
で製造できる、新規な化合物を提供する。 【解決手段】 一般式I、例えば式14 のキラル化合物、その製造方法、エナンチオ選択性水素
添加のための活性触媒成分としてのこれらの使用方法、
およびエナンチオ選択性水素添加の方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、キラル化合物に関
する。
【0002】また、本発明は、このキラル化合物の製造
方法、エナンチオ選択性水素添加のための活性触媒成分
としてのこれらの使用方法、およびエナンチオ選択性水
素添加の方法に関する。
【0003】
【従来の技術】光学活性化合物とキラル中間体の合成
に、触媒としてロジウム又はルテニウム錯体を用いるエ
ナンチオ選択性水素添加は、EP−A 151 282
及びEP−A 269 395に記載されている如く非
常に重要である。しかしながら、かかるロジウム及びル
テニウム錯体は、複雑な方法によってのみ得ることがで
きる。
【0004】US−A 5,292,893, US−
A 5,220,020及びWO92/09545 に
は、エナンチオ選択性水素添加用の触媒としてチタン化
合物が記載されている。この化合物は同様に複雑な方法
によってのみ製造でき、更にラセミ体の分割に供さねば
ならず、その間物質の少なくとも50%が失われる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】エナンチオ選択性水素
添加用の触媒として用いられることが従来公知である化
合物は、工業的な使用が困難であり経済性がなかった。
【0006】そこで本発明の目的は、エナンチオ選択性
水素添加用の触媒として用いることができ、上記の欠点
を有さず、特に簡単な方法で製造できる、新規な化合物
を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、この目的
が、下記一般式Iのキラル化合物によって達成されるこ
とを見出した。
【0008】本発明者らは、更にそのキラル化合物の製
造方法、エナンチオ選択性水素添加用の活性触媒として
の使用方法、及びエナンチオ選択性水素添加の方法を見
出した。
【0009】即ち、本発明のキラル化合物は、次の一般
式I、
【0010】
【化5】 (式中、Mは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バ
ナジウム、ニオブ、タンタル又はランタニド系列から選
ばれた元素、Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子、水素原子、C〜C10のアルキル基、C
〜C15のアリール基、アルキル基に1〜10の炭素
原子を有し、かつアリール基に6〜20の炭素原子を有
するアルキルアリール基、−OR基又は−NR
基、ここで、R及びRは、いずれの場合もアルキル
基に1〜10の炭素原子を有し、かつアリール基に6〜
20の炭素原子を有する、C〜C10のアルキル基、
〜C15のアリール基、アルキルアリール基、アリ
ールアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアリ
ール基、R〜Rは、水素原子、それ自体置換基とし
てC〜C10のアルキル基を有してもよい5員環〜7
員環のシクロアルキル基、C〜C15のアリール基又
はアリールアルキル基で、2つの近接した基とともに4
〜15の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の環状の
基でもよく、又はSi(R10基、ここで、R10
はC〜C10のアルキル基、C〜C10のシクロア
ルキル基又はC〜C15のアリール基、Rは、
【0011】
【化6】 =BR11、=AlR11、−Ge−、−Sn−、−O
−、−S−、=SO、=SO、=NR11、=CO、
=PR11又は=POR11、ここで、R11、R12
及びR13は、同一でも異なっていてもよく、水素原
子、塩素原子、C〜C10のアルキル基、C〜C
10のフルオロアルキル基、C〜C10のフルオロア
リール基、C〜C10のアリール基、C〜C10
アルコキシ基、C〜C10のアルケニル基、C〜C
40のアリールアルキル基、C〜C40のアリールア
ルケニル基、C〜C40のアルキルアリール基、或い
はここで、2つの近接した基が、いずれの場合もそれに
結合している原子とともに環を形成し、Mは、ケイ
素、ゲルマニウム又はスズ、Aは、ホウ素、アルミニウ
ム、ガリウム、インヂウム、タリウム、窒素原子、リ
ン、ヒ素、アンチモン又はビスマス、RとRは、異
なっており、C〜C10のアルキル基、C〜C15
のアリール基、いずれの場合もアルキル基に1〜10の
炭素原子を有し、かつアリール基に6〜20の炭素原子
を有するアルキルアリール基又はアリールアルキル基、
それ自体C〜C10のアルキル基か、又はヘテロ原子
を有する基によって置換され得る5員環〜7員環のシク
ロアルキル基、
【0012】
【化7】 又はCR1718、或いはRとRが一緒となり、
それ自体、C〜C10のアルキル基、C〜C15
アリール基で置換され、又は無置換で、若しくはヘテロ
原子又はヘテロ原子を含む基によって置換されてもよい
4〜20の炭素原子を有する飽和又は不飽和の環状の
基、R14、R15及びR16は、水素原子、C〜C
10のアルキル基、C〜C10のシクロアルキル基又
はC〜C15のアリール基、R17及びR18は、C
〜C10のシクロアルキル基、C〜C15のアリー
ル基又はヘテロ原子を含む基、mは、1〜4の整数、ま
た、nは、Mの原子価から2を引いた数に相当する)で
表されることを特徴とするものである。
【0013】
【発明の実施の形態】次の一般式I、
【0014】
【化8】 で表されるキラル化合物のうち、好ましいものは、M
は、チタン、ジルコニウム又はハフニウム、特にはチタ
ン、Xは、塩素原子、C〜Cのアルキル基又はフェ
ニル基、Xは同一でも異なっていてもよいが、好ましく
は同一、R〜Rは、水素原子又はC〜Cのアル
キル基、或いは2つの近接した基が4〜10の炭素原子
を有する飽和又は不飽和の基、例えば置換又は無置換の
インデニル基、テトラヒドロインデニル基又はベンゾイ
ンデニル基、Rは、
【0015】
【化9】 特には、−Si(CH−又は−CH−CH
−、もしくは−Si(C−又は−C(CH
)H−CH−、Aは、ホウ素、アルミニウム、窒素
原子、又はリン、好ましくは、ホウ素、アルミニウム、
窒素原子又はリンであり、特には窒素原子、RとR
は、化合物にキラリティを付与し、C〜C10のアル
キル基、好ましくはC〜Cのアルキル基、特にはメ
チル基、エチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基
又はtert−ブチル基、C 〜C12のアリール
基、特にはフェニル基、アルキルアリール基、特にはト
リル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基又はアミ
ノ置換シクロヘキシル基、ーCHOR16又は−C
(CH)HOR16、−CHSR16又は−CH
−CH−SR16、−C(C11)(NHRNR
)、或いはRとRが一緒になる環状の基で、好ま
しくはフェニル基、シクロヘキシル基、ナフタレニル
(naphthalenyl)基又は置換のナフタレニル基であるキ
ラル化合物である。
【0016】特に好ましくは、次の一般式、
【0017】
【化10】 で表される基で、両鏡像異性体形態において、またキラ
リテイの更なる中心を持っている化合物の場合には、そ
れぞれジアステレオマーおよび鏡像異性体において、
【0018】
【化11】
【0019】
【化12】 である。
【0020】これら好ましい基において、基Rは、好ま
しくはメチル基、エチル基、tert−ブチル基、ベン
ジル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基又はp−メトキシベンジル基であ
る。
【0021】前記一般式Iの新規なキラル化合物を、適
式に置換されたシクロペンタジエニル基と、R
びMX(ここで、Zは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ
素である)とを反応し、次いで、次の一般式、
【0022】
【化13】 (ここで、R19は、水素原子、アルカリ金属、好まし
くはリチウム、又はMY、但し、Mはアルカリ土類
金属、好ましくはマグネシウム、Yはフッ素原子、塩素
原子、臭素原子又はヨウ素原子である)で表される化合
物とを反応することによって製造することができる。
【0023】これらの反応における個々のステップはそ
れ自体、公知であり、例えば、Organometallics,14,(19
95),791に記載されている。反応条件はそれ自体では余
り重要ではないが、温度は一般的に−78〜50℃、好
ましくは0〜30℃である。しかしながら、これら反応
における、一連の新規な個々の工程は、収率が高いとい
う利点を有する。
【0024】前記一般式Iの新規なキラル化合物は、エ
ナンチオ選択性水素添加のための活性触媒成分として使
用される。
【0025】適当な共触媒は、US,A 5,391,
793に記載されている如きアリールオキシアルモキサ
ン(aryloxyalumoxanes)、US−A 5,371,26
0に記載されている如きアミノアルミノキサン、EP−
A 633 264に記載されている如きアミノアルミ
ノキサンヒドロクロリド、EP−A 621 279に
記載されている如きシリルオキシアルミノキサン、また
はこれらの混合物である。
【0026】金属化合物、例えば、アルキルリチウム、
アルキルマグネシウム、及びアルキルアルミニウム化合
物、好ましくはn−ブチルリチウム、n−ブチル−n−
オクチルマグネシウム、n−ブチル−n−ヘプチルマグ
ネシウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリメ
チルアルミニウム、およびエチルマグネシウムクロリド
を共触媒として使用することもまた可能である。
【0027】好ましくはn−ブチルリチウム、エチルマ
グネシウムクロリド、及びメチルアルミノキサンであ
る。
【0028】さまざまな共触媒の混合物及び前記一般式
Iのさまざまなキラル化合物の混合物を使用することも
できる。
【0029】前記一般式Iのキラル化合物の量は、水素
添加される化合物に対して、好ましくは0.001mo
l%〜50mol%、より好ましくは0.01〜10m
ol%、特には0.02〜1mol%である。
【0030】共触媒の量は、前記一般式Iのキラル化合
物の量に対して、好ましくは0.01〜50mol当
量、より好ましくは0.5〜2.5mol当量、特に
1.5〜2.0mol当量である。
【0031】触媒は、担体の形態でも使用することがで
き、挙げ得る担体物質はアルミノシリケート、二酸化ケ
イ素、例えば、シリカゲルまたは硅藻土、活性化された
チャコール、酸化アルミニウム、ゼオライトまたはセラ
イトである。触媒を担体化する工程はそれ自体公知であ
り、例えば、EP−A 206 794に記載されてい
る。
【0032】添加物を加えることもまた可能であり、か
かる添加物は活性触媒成分、例えば、シラン、好ましく
は少なくとも1つの水素置換基を有するもの、例えば、
ポリメリックヒドリドシラン、ポリメリックスズヒドリ
ド、またはトリアルキルスズヒドリドを安定化すること
ができる。好ましくはフェニルシラン、トリ−n−ブチ
ル−及びトリ−n−オクチルスズ水素化物である。かか
る添加物を使用する場合、これらの量は、前記一般式I
のキラル化合物の量に対して、好ましくは0.1〜10
00mol当量、より好ましくは1〜10mol当量で
ある。
【0033】水素添加に対する好ましい化合物は、二重
結合、例えば、一つ又はそれ以上の置換基を有するC=
O、C=N、又はC=Cを含有するもの全てである。好
ましくは、非環状及び環状イミン、一置換、二置換、及
び三置換オレフィン、アジン、ヒドラゾン、オキシムエ
ーテル、アリルエーテル、アリルアルコール、エナミ
ン、エナミド、オキサゾロン、及びケトンである。アリ
ルアルコール及びケトンを、好ましくは、添加剤として
のアルキル又はアリールシラン存在下、水素添加する。
水素添加におけるこのような化合物及びその使用法はそ
れ自体、公知であり、例えばUS−A 5,292,8
93及びUS−A 5,491,233に記載されてい
る。好ましくは非環状および環状イミンである。
【0034】前記一般式Iの新規なキラル化合物を触媒
成分として使用するエナンチオ選択性水素添加は、好ま
しくは溶液状態で行う。好ましい溶媒は、有機金属化合
物に対して安定な溶媒、例えば、炭化水素および非環状
および環状エーテル、例えばテトラヒドロフラン、トル
エン、ジエチルエーテル、ヘプタン、ヘキサン、メチル
−tert−ブチルエーテル、ジオキサン、石油エーテ
ル、ジメチルエーテルおよびベンゼン、特にはテトラヒ
ドロフラン、トルエン、ヘプタン、およびこれらの混合
液の全てである。液体化合物を水素添加する場合、溶媒
無しで行なうことも可能である。
【0035】エナンチオ選択性水素添加反応はそれ自
体、公知である。これらは通常1〜100bar、好ま
しくは10〜500barの範囲の圧力、および−10
〜250℃、好ましくは20〜150℃、特には40〜
90℃の範囲の温度で行なわれる。
【0036】エナンチオ選択性水素添加反応は、連続方
式又はバッチ方式で、あらゆる圧力反応器で行なうこと
ができる。
【0037】好適な方法では、前記一般式Iの新規なキ
ラル化合物を溶媒と混合し、共触媒を室温で加える。次
に、水素添加すべき化合物を加え、水素を用いて3〜4
8時間の間水素添加する。次いで、反応器を除圧し、溶
媒を除去し、生じた水素添加化合物を精製する。
【0038】添加剤を使用する場合、好ましくはこれ
を、共触媒の後に直接加える。
【0039】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づき説明する。実施例1 {η5;η1−[1−(1’−(1R)−メチルベンジ
ルアミド)ジメチルシリル]シクロペンタジエニル}チ
タニウムジクロライド(I1)の調製
【0040】
【化14】
【0041】15.0mmolのクロロジメチルシリル
シクロペンタジエニルチタニウム(III)クロライド(R
oyo et.al.;Organometallics,1995,177)を150ml
のエーテルに溶解し、15mmolのトリエチルアミン
を加えた。リチウム(1R)−1−フェニルエチルアミ
ドの180mlTHF/エーテル(1:1)溶液を−7
8℃に冷却し、同様に78℃に冷却したチタニウム錯体
溶液に滴下した。混合液を、この温度で30分間、次い
で室温で2時間攪拌した。バッチをろ過し、溶媒を除去
し、残留物をエーテルから再結晶化し、黄色プリズム状
晶4.10g、収率72%でチタニウム錯体I1を得
た。
【0042】分光データ 400MHz H−NMR(C ):-0.48(s,3
H);0.08(s,3H);1.50(d,J=6.8Hz,3H);5.99-6.04(m,2H);
6.47-6.50(m,2H);6.52(q,J=6.8 Hz,1H),7.02(m,3H),7.2
7(m,2H) 100MHz C−NMR(C):-3.11;-0.69;
0.92;19.12;64.63;109.51;124.12;124.44;126.06;126.1
1;127.26;128.06;128.80;144.10 マススペクトル m/z:106(58%);241(38%)344;(100%);346(68%) 元素分析: C1519Cl2 NSiTi(360.2) 計算値 C 50.00 H 5.32 N 3.89 実測値 C 49.87 H 5.31 N 3.79 光学回転: 1R−1−フェニルエチルアミン錯体:+344.1°
(ジエチルエーテル中、589nm,22℃、c=1) 1S−1−フェニルエチルアミン錯体:−344.1°
(ジエチルエーテル中、589nm、22℃、c=1)
【0043】実施例2 (1S)−1−フェニルエチルアミンのエナンチオ錯体
を同様に調製した。
【0044】実施例3:エナンチオ選択性水素添加 0.1mmolの実施例1の錯体I1を、シュレンク(S
chlenk)管中、アルゴン存在下、トルエン20mlに溶
解し、0.2mmolのn−BuLiを室温で滴下し
た。初めオレンジ色の溶液が茶色になった。室温で5分
間攪拌し、100mmolのアセトフェンのN−ベンジ
ルイミンを少しずつ(物質/溶媒比1000:1)加え
た。得られた溶液をオートクレーブに移し、80℃及び
150barの水素圧下で12時間攪拌した。オートク
レーブを除圧し、反応混合物から溶媒を除去し、オイル
状残留物をバルブチューブで蒸留し、92mmol(9
2%)の1R−N−ベンジル−1−フェニルエチルアミ
ンを無色のオイルとして得た。トリフルオロアセチル化
の後、対掌体過剰はガスクロマトグラフィーにより、e
e=12%と測定された。
【0045】
【発明の効果】前記一般式Iの新規なキラル化合物は、
製造が簡単で、ラセミ体の分割又は一方のエナンチオマ
ーの富化を必要とせず、エナンチオ選択性水素添加にお
ける触媒成分として好適であり、多くの場合において、
99%以上の対掌体過剰が達成されるので、極めて経済
的でかつ工業的に好適な水素添加工程が得られる。更
に、エナンチオ選択性水素添加に対して幅広い範囲の化
合物を使用することが可能である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成9年9月10日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項1
【補正方法】変更
【補正内容】
【化1】 (式中、Mは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バ
ナジウム、ニオブ、タンタル又はランタニド系列から選
ばれた元素、 Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、
水素原子、C1 〜C10のアルキル基、C6 〜C15アリー
ル基、アルキル基に1〜10の炭素原子を有し、かつア
リール基に6〜20の炭素原子を有するアルキルアリー
ル基、−OR8基又は−NR89 基、 ここで、R8 及びR9 は、いずれの場合もC 1 〜C10
アルキル基、C6 〜C15のアリール基、アルキル基に1
〜10の炭素原子を有し、かつアリール基に6〜20の
炭素原子を有するアルキルアリール基、アリールアルキ
ル基、フルオロアルキル基又はフルオロアリール基、 R1 〜R4 は、水素原子、それ自体置換基としてC1
10のアルキル基を有してもよい5員環〜7員環のシク
ロアルキル基、C6 〜C15のアリール基又はアリールア
ルキル基で、2つの近接した基とともに4〜15の炭素
原子を有する飽和若しくは不飽和の環状の基でもよく、
又はSi(R103 基、 ここで、R10はC1 〜C10のアルキル基、C3 〜C10
シクロアルキル基又はC6 〜C15のアリール基、 R5 は、
【化2】 =BR11、=AlR11、−Ge−、−Sn−、−O−、
−S−、=SO、=SO2 、=NR11、=CO、=PR
11又は=POR11、 ここで、R11、R12及びR13は、同一でも異なっていて
もよく、水素原子、ハロゲン原子、C1 〜C10のアルキ
ル基、C1 〜C10のフルオロアルキル基、C6〜C10
フルオロアリール基、C6 〜C10のアリール基、C1
10のアルコキシ基、C2 〜C10のアルケニル基、C7
〜C40のアリールアルキル基、C8 〜C40のアルールア
ルケニル基、C7 〜C40のアルキルアリール基、或いは
ここで、2つの近接した基が、いずれの場合もそれに結
合している原子とともに環を形成し、 M1 は、ケイ素、ゲルマニウム又はスズ、 Aは、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インヂウム、
タリウム、窒素原子、リン、ヒ素、アンチモン又はビス
マス、 R6 とR7 は、異なっており、C1 〜C10のアルキル
基、C6 〜C15のアリール基、いずれの場合もアルキル
基に1〜10の炭素原子を有し、かつアリール基に6〜
20の炭素原子を有するアルキルアリール基又はアリー
ルアルキル基、それ自体C1 〜C10のアルキル基か、又
はヘテロ原子を有する基によって置換され得る5員環〜
7員環のシクロアルキル基、
【化3】 又はCR1718、或いはR6 とR7 が一緒となり、それ
自体、C1 〜C10のアルキル基、C6 〜C15のアリール
基で置換され、又は無置換で、若しくはヘテロ原子又は
ヘテロ原子を含む基によって置換されてもよい4〜20
の炭素原子を有する飽和又は不飽和の環状の基、 R14、R15及びR16は、水素原子、C1 〜C10のアルキ
ル基、C3 〜C10のシクロアルキル基又はC6 〜C15
アリール基、 R17及びR18は、C3 〜C10のシクロアルキル基、C6
〜C15のアリール基又はヘテロ原子を含む基、 mは、1〜4の整数、また、 nは、Mの原子価から2を引いた数に相当する)で表さ
れることを特徴とするキラル化合物。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】
【化5】 (式中、Mは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バ
ナジウム、ニオブ、タンタル又はランタニド系列から選
ばれた元素、Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子、水素原子、C1 〜C10のアルキル基、C6
〜C15のアリール基、アルキル基に1〜10の炭素原子
を有し、かつアリール基に6〜20の炭素原子を有する
アルキルアリール基、−OR8 基又は−NR89 基、
ここで、R8 及びR9 は、いずれの場合もC 1 〜C10
アルキル基、C6 〜C15のアリール基、アルキル基に1
〜10の炭素原子を有し、かつアリール基に6〜20の
炭素原子を有するアルキルアリール基、アリールアルキ
ル基、フルオロアルキル基又はフルオロアリール基、R
1 〜R4 は、水素原子、それ自体置換基としてC1 〜C
10のアルキル基を有してもよい5員環〜7員環のシクロ
アルキル基、C6 〜C15のアリール基又はアリールアル
キル基で、2つの近接した基とともに4〜15の炭素原
子を有する飽和若しくは不飽和の環状の基でもよく、又
はSi(R103 基、ここで、R10はC1 〜C10のアル
キル基、C3 〜C10のシクロアルキル基又はC6 〜C15
のアリール基、R5 は、
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0011
【補正方法】変更
【補正内容】
【0011】
【化6】 =BR11、=AlR11、−Ge−、−Sn−、−O−、
−S−、=SO、=SO2 、=NR11、=CO、=PR
11又は=POR11、ここで、R11、R12及びR13は、同
一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、
1 〜C10のアルキル基、C1 〜C10のフルオロアルキ
ル基、C6〜C10のフルオロアリール基、C6 〜C10
アリール基、C1 〜C10のアルコキシ基、C2 〜C10
アルケニル基、C7 〜C40のアリールアルキル基、C8
〜C40のアリールアルケニル基、C7 〜C40のアルキル
アリール基、或いはここで、2つの近接した基が、いず
れの場合もそれに結合している原子とともに環を形成
し、M1 は、ケイ素、ゲルマニウム又はスズ、Aは、ホ
ウ素、アルミニウム、ガリウム、インヂウム、タリウ
ム、窒素原子、リン、ヒ素、アンチモン又はビスマス、
6 とR7 は、異なっており、C1 〜C10のアルキル
基、C6 〜C15のアリール基、いずれの場合もアルキル
基に1〜10の炭素原子を有し、かつアリール基に6〜
20の炭素原子を有するアルキルアリール基又はアリー
ルアルキル基、それ自体C1 〜C10のアルキル基か、又
はヘテロ原子を有する基によって置換され得る5員環〜
7員環のシクロアルキル基、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07F 5/02 C07F 5/02 F 5/06 5/06 F 7/00 7/00 A Z 9/00 9/00 A Z 9/6596 9/6596 9/80 9/80 9/90 9/90 9/94 9/94 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 C07M 7:00 (72)発明者 クルト、リター アメリカ合衆国、マサチューセッツ州、 02160、ニュートン、アッシュモント ア ヴェニュー、30

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の一般式I、 【化1】 (式中、Mは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バ
    ナジウム、ニオブ、タンタル又はランタニド系列から選
    ばれた元素、 Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、
    水素原子、C〜C10のアルキル基、C〜C15
    アリール基、アルキル基に1〜10の炭素原子を有し、
    かつアリール基に6〜20の炭素原子を有するアルキル
    アリール基、−OR基又は−NR基、 ここで、R及びRは、いずれの場合もアルキル基に
    1〜10の炭素原子を有し、かつアリール基に6〜20
    の炭素原子を有する、C〜C10のアルキル基、C
    〜C15のアリール基、アルキルアリール基、アリール
    アルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアリール
    基、 R〜Rは、水素原子、それ自体置換基としてC
    10のアルキル基を有してもよい5員環〜7員環のシ
    クロアルキル基、C〜C15のアリール基又はアリー
    ルアルキル基で、2つの近接した基とともに4〜15の
    炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の環状の基でもよ
    く、又はSi(R10基、 ここで、R10はC〜C10のアルキル基、C〜C
    10のシクロアルキル基又はC〜C15のアリール
    基、 Rは、 【化2】 =BR11、=AlR11、−Ge−、−Sn−、−O
    −、−S−、=SO、=SO、=NR11、=CO、
    =PR11又は=POR11、 ここで、R11、R12及びR13は、同一でも異なっ
    ていてもよく、水素原子、塩素原子、C〜C10のア
    ルキル基、C〜C10のフルオロアルキル基、C
    10のフルオロアリール基、C〜C10のアリール
    基、C〜C10のアルコキシ基、C〜C10のアル
    ケニル基、C〜C40のアリールアルキル基、C
    40のアリールアルケニル基、C〜C40のアルキ
    ルアリール基、或いはここで、2つの近接した基が、い
    ずれの場合もそれに結合している原子とともに環を形成
    し、 Mは、ケイ素、ゲルマニウム又はスズ、 Aは、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インヂウム、
    タリウム、窒素原子、リン、ヒ素、アンチモン又はビス
    マス、 RとRは、異なっており、C〜C10のアルキル
    基、C〜C15のアリール基、いずれの場合もアルキ
    ル基に1〜10の炭素原子を有し、かつアリール基に6
    〜20の炭素原子を有するアルキルアリール基又はアリ
    ールアルキル基、それ自体C〜C10のアルキル基
    か、又はヘテロ原子を有する基によって置換され得る5
    員環〜7員環のシクロアルキル基、 【化3】 又はCR1718、或いはRとRが一緒となり、
    それ自体、C〜C10のアルキル基、C〜C15
    アリール基で置換され、又は無置換で、若しくはヘテロ
    原子又はヘテロ原子を含む基によって置換されてもよい
    4〜20の炭素原子を有する飽和又は不飽和の環状の
    基、 R14、R15及びR16は、水素原子、C〜C10
    のアルキル基、C〜C10のシクロアルキル基又はC
    〜C15のアリール基、 R17及びR18は、C〜C10のシクロアルキル
    基、C〜C15のアリール基又はヘテロ原子を含む
    基、 mは、1〜4の整数、また、 nは、Mの原子価から2を引いた数に相当する)で表さ
    れることを特徴とするキラル化合物。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の一般式Iで表されるキ
    ラル化合物の製造方法において、適式に置換されたシク
    ロペンタジエニル基と、R及びMX(ここで、
    Zは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子
    である)とを反応し、次いで、次の一般式、 【化4】 (ここで、R19は、水素原子、アルカリ金属又はM
    Y、但し、Mはアルカリ土類金属であり、またYはフ
    ッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である)
    で表される化合物とを反応することを特徴とするキラル
    化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の一般式Iで表されるキ
    ラル化合物を、活性触媒成分として用いるエナンチオ選
    択性水素添加方法。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の一般式
    Iで表されるキラル化合物を、溶液中で作用させ、かつ
    活性触媒成分として用いることを特徴とするイミン類の
    エナンチオ選択性水素添加方法。
JP9145155A 1996-06-03 1997-06-03 キラル化合物 Withdrawn JPH1081690A (ja)

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DE19622271A1 (de) 1997-12-04
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DE59712516D1 (de) 2006-01-19
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