JPH1074841A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH1074841A
JPH1074841A JP8229091A JP22909196A JPH1074841A JP H1074841 A JPH1074841 A JP H1074841A JP 8229091 A JP8229091 A JP 8229091A JP 22909196 A JP22909196 A JP 22909196A JP H1074841 A JPH1074841 A JP H1074841A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit, mounting a ring oscillator circuit which can monitoring the gate lag in a semiconductor chip with high accuracy by slightly increasing the area of an I/O buffer, without requiring inner cell and without setting a regulation of oscillation frequency for each design of user circuit. SOLUTION: Gate lag circuits 25 are arranged surrounding a semiconductor chip 100 with one gate lag circuit 25 substituting for an oscillation control circuit 22. Further, interconnections for two adjacent gate lag circuits 25 are provided at four corners A, thus constituting a ring oscillator circuit. Oscillation of the ring oscillator circuit is controlled through an oscillation control input buffer 20, the oscillation control circuit 22 and an oscillation control ring interconnection 24.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
関し、特にリングオシレータ回路を同一半導体基板上に
搭載する半導体集積回路に関する。
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having a ring oscillator circuit mounted on a same semiconductor substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、半導体プロセスの微細化に伴い、
半導体デバイスが急速に高速化しており、より高速で高
精度な設計が必要となってきている。従って、半導体集
積回路の動作保証を行うために半導体集積回路のテスト
を高精度で行う必要がある。
2. Description of the Related Art Recently, with the miniaturization of semiconductor processes,
2. Description of the Related Art The speed of semiconductor devices is rapidly increasing, and higher-speed and higher-precision designs are required. Therefore, it is necessary to test the semiconductor integrated circuit with high accuracy in order to guarantee the operation of the semiconductor integrated circuit.

【0003】そこで、ゲートアレイ、セルベースICな
どASIC(Application Specifi
c IC)のテストを高精度で行うため、テスタを用い
てASICの交流特性を測定する方法が半導体製造ライ
ンで行われている。
Therefore, an ASIC (Application Specification) such as a gate array and a cell-based IC has been proposed.
c) In order to perform a test of IC) with high accuracy, a method of measuring the AC characteristics of an ASIC using a tester is used in a semiconductor manufacturing line.

【0004】この方法は、大きく分けて2つの方法が知
られており、第1の方法は回路設計者が設計した回路を
用い、この回路の入力端子から出力端子までの遅延時間
を測定する方法であり、第2の方法は、半導体製造メー
カが回路設計者に提供しているNAND,NOR,フリ
ップフロップなどの基本セルを用いて遅延時間を専用に
測定する回路を用意する方法である。
This method is roughly classified into two methods. The first method uses a circuit designed by a circuit designer and measures a delay time from an input terminal to an output terminal of the circuit. The second method is a method of preparing a circuit for exclusively measuring a delay time using a basic cell such as a NAND, NOR, or flip-flop provided by a semiconductor manufacturer to a circuit designer.

【0005】第1の方法は、回路構成が製品毎に多種多
様であり、かつMOSトランジスタのスレッシュホール
ド電圧や他のパラメータが大きくばらつくため、遅延値
の保証規格値を決定するのは容易でなく、またこの保証
規格値を決定する方法を誤ると、ASICの歩留まりが
低下してしまうという問題がある。
In the first method, it is not easy to determine the guaranteed standard value of the delay value because the circuit configuration is various for each product and the threshold voltage and other parameters of the MOS transistor greatly vary. In addition, if the method of determining the guaranteed standard value is incorrect, there is a problem that the yield of the ASIC is reduced.

【0006】第2の方法としては、インバータ、NAN
D,NORなどの基本セルを奇数段直列に接続し、この
出力を最初の基本セルの入力端子に帰還して発振させ入
力波形のなまりを波形成形するリングオシレータ回路が
広く用いられている。
As a second method, an inverter, a NAN
A ring oscillator circuit is widely used in which basic cells such as D and NOR are connected in series in an odd number of stages, and the output is fed back to the input terminal of the first basic cell to oscillate to form a rounded input waveform.

【0007】このリングオシレータ回路を用いて遅延時
間を測定する方法は、第1の方法で問題となった製品毎
に測定すべき遅延時間が大きく異なるという問題が無
く、リングオシレータ回路を構成する基本セルの段数を
固定化することにより、一定した発振周波数が得られる
ため、容易に半導体製造ラインの工程能力を反映した遅
延値の保証規格値を決定することが出来る。
The method of measuring the delay time using the ring oscillator circuit does not have the problem that the delay time to be measured differs greatly for each product which is a problem in the first method, and the basic method of forming the ring oscillator circuit By fixing the number of cell stages, a constant oscillation frequency can be obtained, so that the guaranteed standard value of the delay value that reflects the process capability of the semiconductor manufacturing line can be easily determined.

【0008】従来のリングオシレータ回路を用いた遅延
時間測定回路は、図6に示すようにリングオシレータ回
路1と、リングオシレータ回路1の発振を制御するNA
NDゲート7から構成される発振制御回路2と、インバ
ータ8を偶数段直列に接続したゲート遅延回路3と、ボ
ンディングパッド4及び4’と、発振制御入力バッファ
5と、発振モニター出力バッファ6とから構成される。
A conventional delay time measuring circuit using a ring oscillator circuit includes a ring oscillator circuit 1 and an NA controlling the oscillation of the ring oscillator circuit 1 as shown in FIG.
An oscillation control circuit 2 composed of an ND gate 7, a gate delay circuit 3 in which an even number of inverters 8 are connected in series, bonding pads 4 and 4 ', an oscillation control input buffer 5, and an oscillation monitor output buffer 6 Be composed.

【0009】次に、従来のリングオシレータ回路1を用
いた遅延時間測定回路の基本動作について説明する。
Next, the basic operation of the delay time measuring circuit using the conventional ring oscillator circuit 1 will be described.

【0010】ASICの外部端子からボンディングパッ
ド4に入力する制御信号aがロウレベルのとき、発振制
御回路2を構成するNANDゲート7の一方のゲートが
ロウレベルに固定されるため、NANDゲート7の出力
信号bはハイレベルに固定される。従って、この場合リ
ングオシレータ回路1は発振動作を停止し、消費電流も
流れない。すなわち、制御信号aは、リングオシレータ
回路1の発振周波数を測定する場合だけハイレベルと
し、他の場合についてはロウレベルに固定する。
When the control signal a input from the external terminal of the ASIC to the bonding pad 4 is at a low level, one of the NAND gates 7 constituting the oscillation control circuit 2 is fixed at a low level. b is fixed at a high level. Therefore, in this case, the ring oscillator circuit 1 stops the oscillating operation, and no current consumption flows. That is, the control signal a is set to the high level only when the oscillation frequency of the ring oscillator circuit 1 is measured, and is fixed to the low level in other cases.

【0011】次に、発振制御信号aをハイレベルとする
とNANDゲート7の一方のゲートはハイレベル、他方
のゲートはゲート遅延回路3の出力信号cによって、ハ
イレベル又はロウレベルとなるため、NANDゲート7
の出力信号bは、信号cの変化によりハイレベル又はロ
ウレベルに変化する。従って、NANDゲート7及びゲ
ート遅延回路3を構成するインバータ8は、奇数段の基
本セルからなる帰還回路を構成し、NANDゲート7及
びインバータ8の遅延時間とゲート遅延回路3のインバ
ータ段数によって決まる発振周波数で発振する。また、
NANDゲート7又はインバータ8の遅延値は、リング
オシレータ回路1の発振周波数から容易に求めることが
出来る。
Next, when the oscillation control signal a is set to the high level, one of the gates of the NAND gate 7 is set to the high level and the other gate is set to the high level or the low level according to the output signal c of the gate delay circuit 3. 7
Changes to a high level or a low level according to a change in the signal c. Therefore, the inverter 8 forming the NAND gate 7 and the gate delay circuit 3 forms a feedback circuit composed of an odd number of basic cells, and the oscillation is determined by the delay time of the NAND gate 7 and the inverter 8 and the number of inverter stages of the gate delay circuit 3. Oscillates at the frequency. Also,
The delay value of the NAND gate 7 or the inverter 8 can be easily obtained from the oscillation frequency of the ring oscillator circuit 1.

【0012】発振モニター出力バッファ6は、リングオ
シレータ回路1の発振出力を入力としボンディングパッ
ド4’に出力する。従って、ボンディングパッド4’に
接続する外部端子(図示せず)をテスタで観測すること
により、ASICの内部回路の遅延時間に連動している
リングオシレータ回路1の発振周波数を測定することが
できる。
The oscillation monitor output buffer 6 receives the oscillation output of the ring oscillator circuit 1 and outputs it to the bonding pad 4 '. Therefore, by observing an external terminal (not shown) connected to the bonding pad 4 'with a tester, the oscillation frequency of the ring oscillator circuit 1 linked to the delay time of the internal circuit of the ASIC can be measured.

【0013】図6に示す従来のリングオシレータ回路1
を用いた遅延時間測定回路をもとにゲートアレイ基板上
に形成した遅延時間測定回路の公知例が、特開平3−2
28353号公報及び実開昭63−128735号公報
に開示されている。特開平3−228353号公報に記
載されているゲートアレイ装置を図7を参照して説明す
ると、9はゲートアレイチップ、10は基本セル列、1
1は入出力バッファ領域、12はリングオシレータ回路
1を構成する基本セル列、13は遅延測定回路の入力バ
ッファ部、14は遅延測定回路の出力バッファ部、1
5,16は、ゲートアレイチップ9のコーナー部であ
る。
A conventional ring oscillator circuit 1 shown in FIG.
A well-known example of a delay time measuring circuit formed on a gate array substrate based on a delay time measuring circuit using a semiconductor device is disclosed in
No. 28353 and Japanese Utility Model Laid-Open No. 63-128735. The gate array device described in JP-A-3-228353 will be described with reference to FIG.
Reference numeral 1 denotes an input / output buffer area, 12 denotes a basic cell row constituting the ring oscillator circuit 1, 13 denotes an input buffer unit of the delay measurement circuit, 14 denotes an output buffer unit of the delay measurement circuit,
Reference numerals 5 and 16 denote corner portions of the gate array chip 9.

【0014】遅延測定回路の入力バッファ部及び出力バ
ッファ部をチップ上の4角に配置し、リングオシレータ
回路1を内部基本セル列のうち、最上段の列又は最下段
の列を使って配置している。
The input buffer unit and the output buffer unit of the delay measuring circuit are arranged at four corners on the chip, and the ring oscillator circuit 1 is arranged using the uppermost column or the lowermost column among the internal basic cell columns. ing.

【0015】リングオシレータ回路1を基本セル列10
に配置し、基本セル間を配線する方法としてマニュアル
設計で行う方法と、計算機を用いた自動設計で行う方法
とがある。マニュアル設計の場合、基本セルは基本セル
列の中で比較的均一に配置され、基本セル間を接続する
配線長も短いため、基本セルの出力に付加されるアルミ
配線容量や配線抵抗は一定となり、リングオシレータ回
路1の発振周波数はゲートアレイの製品毎の設計に依存
せず、一定に保てるというメリットがある。
The ring oscillator circuit 1 is connected to the basic cell row 10
There are a method of performing manual design and a method of performing automatic design using a computer as a method of arranging and wiring between basic cells. In the case of manual design, the basic cells are arranged relatively uniformly in the basic cell row and the wiring length connecting the basic cells is short, so the aluminum wiring capacitance and wiring resistance added to the output of the basic cells are constant. The advantage is that the oscillation frequency of the ring oscillator circuit 1 can be kept constant without depending on the design of each product of the gate array.

【0016】しかしながら、基本セル列の中でリングオ
シレータ回路1が配置された領域には、回路設計者が設
計した回路素子を配置することが出来ず、回路素子の配
置効率を低下させてしまうという問題がある。
However, the circuit element designed by the circuit designer cannot be arranged in the area where the ring oscillator circuit 1 is arranged in the basic cell row, and the arrangement efficiency of the circuit element is reduced. There's a problem.

【0017】一方、計算機を用いた自動設計の場合、短
時間で基本セルの配置と基本セル間の配線が行えるとい
うメリットがあるが、基本セルが基本セル列10の任意
の場所に配置され、かつ基本セル間を接続するアルミ配
線の長さが一定にならず、ゲートアレイの製品毎に異な
るアルミ配線容量や配線抵抗がリングオシレータ回路1
を構成する基本セルの出力に付加されるため、ゲート遅
延回路3の遅延時間が一定とならずゲートアレイの製品
毎にリングオシレータ回路の発振周波数が異なってしま
う。
On the other hand, in the case of automatic design using a computer, there is an advantage that the basic cells can be arranged and the wiring between the basic cells can be performed in a short time, but the basic cells are arranged at an arbitrary position in the basic cell row 10. In addition, the length of the aluminum wiring connecting the basic cells is not constant, and the aluminum wiring capacitance and the wiring resistance that differ for each product of the gate array are different from those of the ring oscillator circuit 1.
, The delay time of the gate delay circuit 3 is not constant, and the oscillation frequency of the ring oscillator circuit differs for each product of the gate array.

【0018】また、実開昭63−128735公報に開
示されている従来例では、発振制御入力バッファ5と発
振モニター出力バッファ6は、特開平3−228353
号公報と同様にボンディングパッドの内側に位置するチ
ップ外部領域に配置し、ゲート遅延回路3と発振制御回
路2から構成されるリングオシレータ回路1をマスター
スライス方式で予めチップ外部領域に形成している。こ
の場合、マスタースライス基板上に形成されたリングオ
シレータ回路1の発振周波数は、マスタースライスの製
品に依存せず常に一定であり、さらにリングオシレータ
回路1を構成する基本セルは内部領域を使用しないた
め、内部セルアレイを有効に使用できるという特徴があ
る。
In the conventional example disclosed in Japanese Utility Model Laid-Open Publication No. 63-128735, the oscillation control input buffer 5 and the oscillation monitor output buffer 6 are disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-228353.
The ring oscillator circuit 1 including the gate delay circuit 3 and the oscillation control circuit 2 is disposed in the chip external region in advance by a master slice method, as in the same manner as in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-157572. . In this case, the oscillation frequency of the ring oscillator circuit 1 formed on the master slice substrate is always constant irrespective of the product of the master slice, and the basic cells constituting the ring oscillator circuit 1 do not use the internal area. The feature is that the internal cell array can be used effectively.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、リン
グオシレータ回路1を基本セル列10に配置した特開平
3−228353号公報に記載されている遅延時間測定
回路は、リングオシレータ回路1が占有する基本セル列
10の領域に回路素子を配置することが出来ないので、
実質的に配置可能な基本セル数が減少するだけでなく、
既に基本セル列10に配置されているリングオシレータ
回路1を回避して回路素子を基本セル列10に配置しな
ければならず、レイアウト設計の自由度が低下し、回路
素子の未配置や未配線が発生し易くなる。
As described above, the ring oscillator circuit 1 is occupied by the delay time measuring circuit described in JP-A-3-228353 in which the ring oscillator circuit 1 is arranged in the basic cell row 10. Circuit elements cannot be arranged in the region of the basic cell row 10
Not only does the number of base cells that can be placed substantially decrease,
Circuit elements must be arranged in the basic cell row 10 avoiding the ring oscillator circuit 1 already arranged in the basic cell row 10, so that the degree of freedom in layout design is reduced, and the circuit elements are not arranged or not wired. Is more likely to occur.

【0020】また、計算機を用いた自動設計によりリン
グオシレータ回路1をレイアウトした場合、リングオシ
レータ回路1を構成するインバータ、NANDなどの基
本セルは、レイアウト設計の度に基本セル列10の任意
の位置に配置され、さらに基本セル間を接続する配線の
配線長も製品毎に変化してしまう。従って、配線に付随
する配線容量や配線抵抗も変化し、リングオシレータ回
路1の発振周波数が製品毎に変化し、発振周波数のテス
ト規格値を決めるのが困難である。
When the ring oscillator circuit 1 is laid out by automatic design using a computer, basic cells such as inverters and NANDs constituting the ring oscillator circuit 1 can be placed at any position in the basic cell row 10 every time the layout is designed. In addition, the wiring length of the wiring connecting the basic cells also changes for each product. Therefore, the wiring capacitance and the wiring resistance associated with the wiring also change, and the oscillation frequency of the ring oscillator circuit 1 changes for each product, making it difficult to determine a test standard value of the oscillation frequency.

【0021】また、実開昭63−128735号公報に
記載されている遅延時間測定回路は、リングオシレータ
回路1を半導体チップコーナー部又はボンディングパッ
ドの内側のチップ外部領域に位置する小面積の領域に配
置しているため、半導体チップ内の製造ばらつきを十分
把握できないという問題がある。
In the delay time measuring circuit described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 63-128735, a ring oscillator circuit 1 is mounted in a small area located in a semiconductor chip corner or a chip external area inside a bonding pad. Since they are arranged, there is a problem that manufacturing variations in a semiconductor chip cannot be sufficiently grasped.

【0022】例えば、インバータの論理しきい値のチッ
プ内製造ばらつきをモニターする場合、ウェハーサイズ
を6インチ(=25.4mm×6)とし、チップサイズ
を15mm□、6インチウェハー面内におけるインバー
タの論理しきい値のばらつきを絶対値で15%と仮定す
ると、チップ内でのインバータの論理しきい値のばらつ
きは、15%×15mm÷(25.4mm×6)≒1.
5%となる。また、リングオシレータ回路1のレイアウ
ト面積を0.15mm□とすると、この領域におけるイ
ンバータの論理しきい値のばらつきは、15%×0.1
5mm÷(25.4mm×6)≒0.01%となる。こ
れにより、リングオシレータ回路1は、半導体チップの
一部領域をモニターするに過ぎず、半導体チップ内の遅
延ばらつきを把握できないことがわかる。
For example, when monitoring the in-chip manufacturing variation of the logical threshold value of the inverter, the wafer size is set to 6 inches (= 25.4 mm × 6), the chip size is set to 15 mm square, and the inverter size in the 6-inch wafer plane is changed. Assuming that the variation of the logic threshold is 15% in absolute value, the variation of the logic threshold of the inverter in the chip is 15% × 15 mm15 (25.4 mm × 6) ≒ 1.
5%. Further, assuming that the layout area of ring oscillator circuit 1 is 0.15 mm □, the variation of the logic threshold value of the inverter in this region is 15% × 0.1
5 mm ÷ (25.4 mm × 6) ≒ 0.01%. This indicates that the ring oscillator circuit 1 only monitors a partial area of the semiconductor chip, and cannot grasp delay variations in the semiconductor chip.

【0023】このため、本発明の目的は回路素子を配置
する半導体チップの内部領域を使用することなく、遅延
時間を測定することが可能な半導体集積回路を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit capable of measuring a delay time without using an internal area of a semiconductor chip on which circuit elements are arranged.

【0024】また、本発明の他の目的は、製品に依存し
ない一定の遅延時間を発生する半導体集積回路を提供す
ることにある。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit which generates a constant delay time independent of products.

【0025】さらに、本発明の他の目的は、半導体チッ
プ内の遅延時間のばらつきをモニターすることができる
半導体集積回路を提供することにある。
Still another object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit capable of monitoring delay time variations in a semiconductor chip.

【0026】[0026]

【課題を解決するための手段】そのため、本発明による
半導体集積回路は、半導体基板上の端側に設けられた複
数のボンディングパッドと、これらのボンディングパッ
ドの内側に配置された複数の入出力バッファと、これら
入出力バッファの配列方向に沿って入出力バッファの内
側に配置された発振制御リング配線とを備え、前記入出
力バッファを構成する回路素子間を配線することにより
入力信号を反転して出力する反転回路を偶数個接続した
ゲート遅延回路と前記ボンディングパッドから入力する
制御信号を前記発振制御リング配線に出力する発振制御
入力バッファと前記制御信号により活性化されたとき前
記ゲート遅延回路の出力信号を反転して出力する発振制
御回路とを構成する半導体集積回路において、前記ゲー
ト遅延回路を偶数個順次接続して遅延回路列を構成し、
この遅延回路列の最後の前記ゲート遅延回路の出力端を
前記発振制御回路の入力端に接続し、前記発振制御回路
の出力端を前記遅延回路列の最初の前記ゲート遅延回路
の入力端に接続してリングオシレータ回路を構成し、前
記発振制御リング配線と前記発振制御入力バッファの出
力端及び前記発振制御回路の入力端をそれぞれ接続し、
前記発振制御入力バッファの出力信号により前記リング
オシレータ回路の発振を制御することを特徴としてい
る。
Therefore, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises a plurality of bonding pads provided on an end side of a semiconductor substrate and a plurality of input / output buffers arranged inside these bonding pads. And an oscillation control ring wiring arranged inside the input / output buffer along the arrangement direction of these input / output buffers, and inverting an input signal by wiring between circuit elements constituting the input / output buffer. A gate delay circuit having an even number of output inverting circuits connected thereto, an oscillation control input buffer for outputting a control signal input from the bonding pad to the oscillation control ring wiring, and an output of the gate delay circuit when activated by the control signal An oscillation control circuit for inverting and outputting a signal, wherein the gate delay circuit is an even number And sequentially connected to constitute a delay circuit array,
The output terminal of the last gate delay circuit of this delay circuit row is connected to the input terminal of the oscillation control circuit, and the output terminal of the oscillation control circuit is connected to the input terminal of the first gate delay circuit of the delay circuit row. Forming a ring oscillator circuit, connecting the oscillation control ring wiring and the output terminal of the oscillation control input buffer and the input terminal of the oscillation control circuit,
The oscillation of the ring oscillator circuit is controlled by an output signal of the oscillation control input buffer.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0028】図1は、本発明の第1の実施の形態を示す
半導体チップの概略図、図2は図1の領域23に対応す
る回路を構成する素子の配置と配線の情報を配慮して表
現した回路図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of a semiconductor chip showing a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is based on the arrangement of elements constituting a circuit corresponding to the region 23 of FIG. It is a circuit diagram expressed.

【0029】本実施の形態による半導体集積回路は、図
1に示すように、半導体チップ100の内部領域に内部
セル19を格子状に配置し、その周囲に入出力バッファ
18を固定して配置し、この入出力バッファ18を構成
するトランジスタや抵抗などの素子の一部を用いて、こ
れらの素子間を配線することにより回路を形成した発振
制御入力バッファ20と発振モニター出力バッファ21
を配置し、さらにその外側にボンディングパッド17を
配置している。
In the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment, as shown in FIG. 1, internal cells 19 are arranged in a grid in an internal region of a semiconductor chip 100, and an input / output buffer 18 is fixed around the internal cells. An oscillation control input buffer 20 and an oscillation monitor output buffer 21 which form a circuit by using a part of elements such as transistors and resistors constituting the input / output buffer 18 and wiring between these elements.
Are arranged, and a bonding pad 17 is further arranged outside.

【0030】内部セル19と入出力バッファ18の間に
発振制御リング配線24を半導体チップ100を一周す
るように配置し、入出力バッファ18を構成する素子の
一部を用いて、これらの素子間を配線することにより形
成したゲート遅延回路25を入出力バッファ18の内部
セル19に近い位置に配置し、同様に発振制御入力バッ
ファ20の内側にもゲート遅延回路25を配置する。発
振モニター出力バッファ21が形成されている入出力バ
ッファ18には、入出力バッファ18を構成する素子の
一部を用いて発振制御回路22を配置する。
An oscillation control ring wiring 24 is arranged between the internal cell 19 and the input / output buffer 18 so as to go around the semiconductor chip 100, and a part of the elements constituting the input / output buffer 18 is used to connect these elements. Is arranged at a position near the internal cell 19 of the input / output buffer 18, and the gate delay circuit 25 is similarly arranged inside the oscillation control input buffer 20. In the input / output buffer 18 in which the oscillation monitor output buffer 21 is formed, an oscillation control circuit 22 is arranged using a part of the elements constituting the input / output buffer 18.

【0031】また、水平方向の遅延回路25と垂直方向
の遅延回路25の4つのコーナー部Aには、遅延回路2
5どうしを接続する配線が配置されており、このため、
発振制御リング配線24に沿って配置された遅延回路2
5と、1つの発振制御回路22と、コーナー部Aに配置
された4つの配線(図示せず)により、リングオシレー
タ回路1を構成する。
The four corners A of the horizontal delay circuit 25 and the vertical delay circuit 25 have delay circuits 2
Wirings that connect the five are arranged, so
Delay circuit 2 arranged along oscillation control ring wiring 24
5, one oscillation control circuit 22, and four wirings (not shown) arranged at the corner A constitute the ring oscillator circuit 1.

【0032】さらに、発振モニター出力バッファ21の
内側に配置され、発振制御リング配線24と配線27で
接続された発振制御回路22と、発振制御リング配線2
4に配線26で接続された発振制御入力バッファ20と
によりリングオシレータ回路1の発振を制御する。
Further, an oscillation control circuit 22 disposed inside the oscillation monitor output buffer 21 and connected by an oscillation control ring wiring 24 and a wiring 27, and an oscillation control ring wiring 2
The oscillation of the ring oscillator circuit 1 is controlled by the oscillation control input buffer 20 connected to the wiring 4 by the wiring 26.

【0033】また、発振制御入力バッファ20と、発振
モニター出力バッファ21及び発振制御回路22の配置
位置は、これらの回路が入出力バッファ18に配置され
ている素子間を配線することにより形成されるので、図
1に示す位置に限らず入出力バッファ18が配置されて
いる位置ならば任意の位置に配置することが出来る。従
って、回路動作上使用しない入出力バッファ18を用い
ることにより、半導体集積回路の外部ピンを増やすこと
なく、リングオシレータ回路1を制御し、かつ発振出力
をモニターすることができる。
The positions where the oscillation control input buffer 20, the oscillation monitor output buffer 21, and the oscillation control circuit 22 are arranged are formed by wiring the elements in which these circuits are arranged in the input / output buffer 18. Therefore, it is not limited to the position shown in FIG. 1 but can be arranged at any position as long as the input / output buffer 18 is arranged. Therefore, by using the input / output buffer 18 which is not used in the circuit operation, the ring oscillator circuit 1 can be controlled and the oscillation output can be monitored without increasing the number of external pins of the semiconductor integrated circuit.

【0034】発振制御回路22とゲート遅延回路25の
レイアウト面積はそれぞれ、入出力バッファ18、発振
制御入力バッファ20又は発振モニター出力バッファ2
1のレイアウト面積に比べ0.8%程度と小さく、半導
体チップ100のチップサイズが実用的な最小サイズで
ある4mm□の場合においても、発振制御回路22とゲ
ート遅延回路25のそれぞれの面積を加算した面積が半
導体チップ100に占める面積比は高々0.2%程度と
僅かであり、半導体チップ100の面積を増やすことな
く、リングオシレータ回路1及びこれを用いた遅延時間
測定回路を半導体チップ上に搭載することが出来る。
The layout areas of the oscillation control circuit 22 and the gate delay circuit 25 are the input / output buffer 18, the oscillation control input buffer 20 or the oscillation monitor output buffer 2 respectively.
1, the area of the oscillation control circuit 22 and the gate delay circuit 25 is added even when the chip size of the semiconductor chip 100 is 4 mm square, which is a practical minimum size. The area ratio occupied by the semiconductor chip 100 is as small as about 0.2% at most, and the ring oscillator circuit 1 and the delay time measurement circuit using the same are mounted on the semiconductor chip without increasing the area of the semiconductor chip 100. Can be mounted.

【0035】次に本発明の実施の形態の半導体集積回路
について、図2を参照してより詳しく説明する。なお、
図1に示す領域に対応する回路素子及び配線には、図1
の対応する参照数字に’を付して対応関係を明確にして
ある。
Next, a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIG. In addition,
Circuit elements and wiring corresponding to the region shown in FIG.
The corresponding reference numerals of the above are marked with 'to clarify the correspondence.

【0036】リングオシレータ回路1の単位遅延回路を
構成するゲート遅延回路25’は、2つのインバータ2
8と、水平又は垂直方向に隣接するゲート遅延回路2
5’に信号を伝える信号配線30A及び30Bとから構
成される。
The gate delay circuit 25 'constituting the unit delay circuit of the ring oscillator circuit 1 has two inverters 2
8 and a gate delay circuit 2 adjacent in the horizontal or vertical direction
5 ', and signal wirings 30A and 30B for transmitting signals to 5'.

【0037】また、発振制御回路22’は、NANDゲ
ート29と、ゲート遅延回路25’と同様に水平又は垂
直方向に隣接するゲート遅延回路25’に信号を伝える
信号配線31A及び31Bとから構成され、信号配線3
1A及び31Bは隣接するゲート遅延回路25’内の信
号配線30A及び30Bと自動的に接続されるように設
計される。
The oscillation control circuit 22 'is composed of a NAND gate 29 and signal wirings 31A and 31B for transmitting a signal to a horizontally or vertically adjacent gate delay circuit 25' like the gate delay circuit 25 '. , Signal wiring 3
1A and 31B are designed to be automatically connected to the signal lines 30A and 30B in the adjacent gate delay circuit 25 '.

【0038】次に、発振制御回路22’の動作について
説明すると、ボンディングパッド17から発振制御入力
バッファ20’に入力した発振制御信号は、発振制御リ
ング配線24’に伝達し、さらに発振制御回路22’を
構成するNANDゲート29の1つの入力端子に入力し
て、リングオシレータ回路1の発振を制御する。また、
リングオシレータ回路1の発振信号は、インバータ32
と発振モニター出力バッファ21’を介して半導体集積
回路の外部端子に接続するボンディングパッド17に出
力する。従って、テスタを用いて、外部端子を観測する
ことによりリングオシレータの発振出力をテストするこ
とができる。
Next, the operation of the oscillation control circuit 22 'will be described. The oscillation control signal input from the bonding pad 17 to the oscillation control input buffer 20' is transmitted to the oscillation control ring wiring 24 '. ′ Is input to one input terminal of the NAND gate 29 to control the oscillation of the ring oscillator circuit 1. Also,
The oscillation signal of the ring oscillator circuit 1
And output to the bonding pad 17 connected to the external terminal of the semiconductor integrated circuit via the oscillation monitor output buffer 21 '. Therefore, the oscillation output of the ring oscillator can be tested by observing the external terminal using the tester.

【0039】本発明の実施の形態では、ゲート遅延回路
25を半導体チップ100を一周するように配置するの
で、半導体チップ100の左辺、右辺及び上辺、下辺そ
れぞれで異なる4つの遅延値を取り込んでテストするこ
とができる。
In the embodiment of the present invention, since the gate delay circuit 25 is arranged so as to go around the semiconductor chip 100, four different delay values are taken in the left side, right side, upper side, and lower side of the semiconductor chip 100, respectively, and the test is performed. can do.

【0040】なお、発振制御入力バッファ20’は、抵
抗又はトランジスタによって通常ロウレベルにクランプ
されているので、発振制御入力バッファ20’に入力信
号が入ってこない場合、リングオシレータ回路1の発振
は自動的に停止するように設計される。
Since the oscillation control input buffer 20 'is normally clamped to a low level by a resistor or a transistor, the oscillation of the ring oscillator circuit 1 is automatically performed when no input signal enters the oscillation control input buffer 20'. Designed to stop at.

【0041】本発明の実施の形態では、リングオシレー
タ回路1を構成するゲート遅延回路25が入出力バッフ
ァ18の一部を用いて構成され、ゲート遅延回路25ど
うしを接続する配線も半導体チップ100の基板上に最
小長となるように、固定的に設けられているので、配線
に起因する遅延が製品毎に変化し、製品毎にゲート遅延
回路25の遅延値が異なることにより、リングオシレー
タ回路1の発振周波数が変動するという問題はない。
In the embodiment of the present invention, the gate delay circuit 25 forming the ring oscillator circuit 1 is formed by using a part of the input / output buffer 18, and the wiring connecting the gate delay circuits 25 is the same as that of the semiconductor chip 100. Since it is fixedly provided so as to have the minimum length on the substrate, the delay caused by the wiring changes for each product, and the delay value of the gate delay circuit 25 differs for each product. There is no problem that the oscillation frequency fluctuates.

【0042】次に、図3及び図4を参照して本発明の第
2の実施の形態について説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0043】図3は、本発明の第2の実施の形態を示す
半導体チップの概略図、図4は図3の領域33に対応す
る回路を構成する素子の配置と配線の情報を配慮して表
現した回路図である。
FIG. 3 is a schematic view of a semiconductor chip showing a second embodiment of the present invention, and FIG. 4 takes into account the arrangement and wiring information of elements constituting a circuit corresponding to the region 33 of FIG. It is a circuit diagram expressed.

【0044】本発明の実施の形態による半導体集積回路
は、半導体チップ110の下辺111に沿って、入出力
バッファ18と、ゲート遅延回路25と、発振制御回路
22と、発振制御入力バッファ200と、発振モニター
出力バッファ210と、配線26,27とが配置されて
いる。
The semiconductor integrated circuit according to the embodiment of the present invention includes an input / output buffer 18, a gate delay circuit 25, an oscillation control circuit 22, an oscillation control input buffer 200 along a lower side 111 of a semiconductor chip 110. An oscillation monitor output buffer 210 and wirings 26 and 27 are arranged.

【0045】ゲート遅延回路25は、垂直方向に隣接し
て2段構成で配置されるが、図4からわかるように各々
のインバータの向きは逆方向にレイアウトされている。
また、第1の実施の形態と同様に、半導体チップ110
を一周して発振制御リング配線24が配置され、上辺と
左辺及び右辺には入出力バッファ18が配置されてい
る。
The gate delay circuits 25 are arranged in a two-stage configuration adjacent to each other in the vertical direction. As can be seen from FIG. 4, the direction of each inverter is laid out in the opposite direction.
Further, similarly to the first embodiment, the semiconductor chip 110
, An oscillation control ring wiring 24 is arranged, and an input / output buffer 18 is arranged on the upper side, the left side, and the right side.

【0046】2段構成からなるゲート遅延回路25の配
列で、外側(ボンディングパッド17に近い方)のゲー
ト遅延回路25の配列では、右方向から左方向に向かっ
てインバータ28及び配線30A,30Bを介して左端
に信号が伝達し、配線34を介して内側のゲート遅延回
路25に信号が伝達すると、今度は左方向から右方向に
向かってインバータ28及び配線30A,30Bを介し
てNANDゲート29のゲートに信号が伝達する。NA
NDゲート29の他のゲートに接続する信号配線27’
がハイレベルとすると、NANDゲート29の1つのゲ
ートに接続している信号配線31Aからの信号は、NA
NDゲート29の出力に伝達し、信号配線31Bを介し
て隣接するゲート遅延回路25に伝達する。
In the arrangement of the gate delay circuit 25 having a two-stage configuration, in the arrangement of the gate delay circuit 25 on the outer side (closer to the bonding pad 17), the inverter 28 and the wirings 30A and 30B are arranged from right to left. When the signal is transmitted to the left end via the wiring 34 and the signal is transmitted to the inner gate delay circuit 25 via the wiring 34, the NAND gate 29 is turned on from the left to the right via the inverter 28 and the wirings 30A and 30B. A signal is transmitted to the gate. NA
Signal wiring 27 'connected to another gate of ND gate 29
Is at a high level, the signal from the signal line 31A connected to one gate of the NAND gate 29
The signal is transmitted to the output of the ND gate 29 and transmitted to the adjacent gate delay circuit 25 via the signal wiring 31B.

【0047】このように、内側のゲート遅延回路25を
左方向から右方向に向かって信号が伝達し、右端のゲー
ト遅延回路25に信号が伝達すると、配線34と対にな
っている配線(図示せず)を介して、内側のゲート遅延
回路25から外側のゲート遅延回路25に信号が伝達す
る。従って、偶数個のインバータ28と1つのNAND
ゲート29からなるリングオシレータ回路1が形成され
発振を行う。
As described above, when a signal is transmitted from the left side to the right side through the inner gate delay circuit 25 and the signal is transmitted to the right end gate delay circuit 25, the wiring paired with the wiring 34 (FIG. A signal is transmitted from the inner gate delay circuit 25 to the outer gate delay circuit 25 via a not shown). Therefore, an even number of inverters 28 and one NAND
The ring oscillator circuit 1 including the gate 29 is formed and oscillates.

【0048】本実施の形態では、リングオシレータ回路
1を形成するのに、下辺に配置されている入出力バッフ
ァ18を用い、上辺と右辺及び左辺に配置されている入
出力バッファ18を用いないので、入出力バッファ18
内に配置されている素子を用いて、素子数を多く必要と
する特殊バッファを使用する場合、この特殊バッファを
半導体チップの上辺と右辺112及び左辺の任意の入出
力バッファ18を用いて配置することが出来るという利
点がある。
In the present embodiment, the ring oscillator circuit 1 is formed by using the input / output buffer 18 disposed on the lower side and not using the input / output buffer 18 disposed on the upper side, the right side, and the left side. , Input / output buffer 18
When a special buffer requiring a large number of elements is used by using the elements arranged in the semiconductor chip, the special buffer is arranged by using arbitrary input / output buffers 18 on the upper side, the right side 112 and the left side of the semiconductor chip. There is an advantage that can be.

【0049】次に、図5を参照して本発明の第3の実施
の形態について説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0050】図5は、本発明の第3の実施の形態を示す
半導体チップの概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram of a semiconductor chip showing a third embodiment of the present invention.

【0051】本実施の形態による半導体集積回路は、半
導体チップ120の下辺111と右辺112の一部に沿
って、入出力バッファ18と、ゲート遅延回路25と、
発振制御回路22と、発振制御入力バッファ200と、
発振モニター出力バッファ210と、配線26,27と
が配置されており、本発明の第2の実施の形態でゲート
遅延回路25を右辺112の一部に延長した構成となっ
ている。
The semiconductor integrated circuit according to the present embodiment includes an input / output buffer 18, a gate delay circuit 25, and a portion of the lower side 111 and the right side 112 of the semiconductor chip 120.
An oscillation control circuit 22, an oscillation control input buffer 200,
An oscillation monitor output buffer 210 and wirings 26 and 27 are arranged, and the gate delay circuit 25 is extended to a part of the right side 112 in the second embodiment of the present invention.

【0052】従って、下辺111に沿ったゲート遅延回
路25は垂直方向に隣接して2段構成で配置され、右辺
112に沿ったゲート遅延回路25は水平方向に隣接し
て2段構成で配置され、コーナー部Bには、下辺111
に沿って配置された遅延回路25のうちの右端の遅延回
路25と、右辺112に沿って配置された遅延回路25
のうちの下端の遅延回路25とを接続する配線が設けら
れている。
Therefore, the gate delay circuits 25 along the lower side 111 are vertically arranged adjacently in two stages, and the gate delay circuits 25 along the right side 112 are horizontally adjacently arranged in two stages. In the corner B, the lower side 111
Of the delay circuit 25 arranged along the right side, and the delay circuit 25 arranged along the right side 112
Are provided for connection to the delay circuit 25 at the lower end.

【0053】本実施の形態に於いても、第2の実施の形
態と同様に特殊バッファを使用する場合、半導体チップ
の上辺と左辺及び右辺112の一部の任意の入出力バッ
ファ18を用いて特殊バッファを配置することが出来る
という利点がある。
Also in the present embodiment, when a special buffer is used as in the second embodiment, an arbitrary input / output buffer 18 of a part of the upper side, the left side, and the right side 112 of the semiconductor chip is used. There is an advantage that a special buffer can be arranged.

【0054】なお、第2の実施の形態を半導体チップの
他の辺にまで適用してもよい。例えば、半導体チップの
上辺、下辺111、右辺112、左辺それぞれに独立に
本発明の第2の実施の形態を適用したリングオシレータ
回路を配置してもよい。この場合、半導体チップの上
辺、下辺111、右辺112、左辺近傍の遅延値をそれ
ぞれ独立にモニターすることができるという利点があ
る。
Note that the second embodiment may be applied to other sides of the semiconductor chip. For example, a ring oscillator circuit to which the second embodiment of the present invention is applied may be independently disposed on each of the upper side, lower side 111, right side 112, and left side of the semiconductor chip. In this case, there is an advantage that the delay values near the upper side, lower side 111, right side 112, and left side of the semiconductor chip can be independently monitored.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように、本発明による半導
体集積回路は、内部セルを使用せずにリングオシレータ
回路を構成するので、内部セル全てを回路素子として用
いることが出来る。また、発振制御回路とゲート遅延回
路を入出力バッファ内に設けることが出来るように、従
来の入出力バッファを変更することによる面積の増加も
ごく僅かである。
As described above, the semiconductor integrated circuit according to the present invention forms a ring oscillator circuit without using internal cells, so that all of the internal cells can be used as circuit elements. Also, the change in the conventional input / output buffer causes a very small increase in the area so that the oscillation control circuit and the gate delay circuit can be provided in the input / output buffer.

【0056】また、従来の半導体集積回路に搭載されて
いるリングオシレータ回路は、製品毎に発振周波数が異
なり、発振周波数のテスト規格を決めることが困難であ
ったが、本発明の半導体集積回路に搭載されているリン
グオシレータ回路においては、半導体チップのチップサ
イズが決まれば、リングオシレータ回路を構成するゲー
ト遅延回路の個数及び配置、さらにゲート遅延回路どう
しを接続する配線及びゲート遅延回路と発振制御回路を
接続する配線がそれぞれ最適に設計されているので、リ
ングオシレータ回路の発振周波数は製品によらず一定と
なり、発振周波数のテスト規格を容易に決めることが出
来る。
Further, the ring oscillator circuit mounted on the conventional semiconductor integrated circuit has a different oscillation frequency for each product, and it is difficult to determine a test standard for the oscillation frequency. In the mounted ring oscillator circuit, if the chip size of the semiconductor chip is determined, the number and arrangement of the gate delay circuits constituting the ring oscillator circuit, the wiring connecting the gate delay circuits, the gate delay circuit and the oscillation control circuit Are designed optimally, the oscillation frequency of the ring oscillator circuit is constant regardless of the product, and the test standard for the oscillation frequency can be easily determined.

【0057】さらに、発明の半導体集積回路に搭載され
ているリングオシレータ回路は、半導体チップのボンデ
ィングパッドに沿った広い領域に配置されているので、
半導体チップ内で変動するゲート遅延値を正確にモニタ
ーすることが出来る。
Further, since the ring oscillator circuit mounted on the semiconductor integrated circuit of the present invention is arranged in a wide area along the bonding pad of the semiconductor chip,
The gate delay value fluctuating in the semiconductor chip can be accurately monitored.

【0058】また、発振制御入力バッファと、発振モニ
ター出力バッファ及びこの発振モニター出力バッファと
同一入出力バッファ内で形成されている発振制御回路の
配置位置は、入出力バッファが配置されている位置なら
ば任意の位置に配置することが出来る。従って、回路動
作上使用しない入出力バッファを用いることにより、半
導体集積回路の外部ピンを増やすことなく、リングオシ
レータ回路を制御し、かつ発振出力をモニターすること
ができる。
The oscillation control input buffer, the oscillation monitor output buffer, and the oscillation control circuit formed in the same input / output buffer as the oscillation monitor output buffer may be located at a position where the input / output buffer is located. Can be placed at any position. Therefore, by using an input / output buffer that is not used in the circuit operation, the ring oscillator circuit can be controlled and the oscillation output can be monitored without increasing the number of external pins of the semiconductor integrated circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態を示す半導体チップ
の概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of a semiconductor chip showing a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の領域23に対応する回路を構成する素子
の配置と配線の情報を配慮して表現した回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram expressing the arrangement and wiring information of elements constituting a circuit corresponding to a region 23 in FIG. 1 in consideration.

【図3】本発明の第2の実施の形態を示す半導体チップ
の概略図である。
FIG. 3 is a schematic view of a semiconductor chip showing a second embodiment of the present invention.

【図4】図3の領域33に対応する回路を構成する素子
の配置と配線の情報を配慮して表現した回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram expressing the arrangement and wiring information of elements constituting a circuit corresponding to a region 33 in FIG. 3 in consideration.

【図5】本発明の第3の実施の形態を示す半導体チップ
の概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram of a semiconductor chip showing a third embodiment of the present invention.

【図6】制御回路付きリングオシレータ回路を備える遅
延時間測定回路の回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram of a delay time measurement circuit including a ring oscillator circuit with a control circuit.

【図7】従来の半導体チップの概略図である。FIG. 7 is a schematic view of a conventional semiconductor chip.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リングオシレータ回路 2,22,22’ 発振制御回路 3,25,25’ ゲート遅延回路 4,4’,17 ボンディングパッド 5,20,20’,200,200’ 発振制御入力
バッファ 6,21,21’,210,210’ 発振モニター
出力バッファ 7,29 NANDゲート 8,28,31,32 インバータ 9 ゲートアレイチップ 10 基本セル列 11 入出力バッファ領域 12 リングオシレータ回路を構成する基本セル列 13 遅延測定回路の入力バッファ部 14 遅延測定回路の出力バッファ部 15,16 ゲートアレイチップのコーナー部 18 入出力バッファ 19 内部セル 24,24’ 発振制御リング配線 100,110,120 半導体チップ
1 Ring oscillator circuit 2, 22, 22 'Oscillation control circuit 3, 25, 25' Gate delay circuit 4, 4 ', 17 Bonding pad 5, 20, 20', 200, 200 'Oscillation control input buffer 6, 21, 21 ', 210, 210' Oscillation monitor output buffer 7, 29 NAND gate 8, 28, 31, 32 Inverter 9 Gate array chip 10 Basic cell array 11 Input / output buffer area 12 Basic cell array constituting ring oscillator circuit 13 Delay measurement circuit Input buffer section 14 Output buffer section of delay measurement circuit 15, 16 Corner section of gate array chip 18 Input / output buffer 19 Internal cell 24, 24 'Oscillation control ring wiring 100, 110, 120 Semiconductor chip

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体基板上の端側に設けられた複数の
ボンディングパッドと、これらのボンディングパッドの
内側に配置された複数の入出力バッファと、これら入出
力バッファの配列方向に沿って入出力バッファの内側に
配置された発振制御リング配線とを備え、 前記入出力バッファを構成する回路素子間を配線するこ
とにより入力信号を反転して出力する反転回路を偶数個
接続したゲート遅延回路と前記ボンディングパッドから
入力する制御信号を前記発振制御リング配線に出力する
発振制御入力バッファと前記制御信号により活性化され
たとき前記ゲート遅延回路の出力信号を反転して出力す
る発振制御回路とを構成する半導体集積回路において、 前記ゲート遅延回路を偶数個順次接続して遅延回路列を
構成し、この遅延回路列の最後の前記ゲート遅延回路の
出力端を前記発振制御回路の入力端に接続し、前記発振
制御回路の出力端を前記遅延回路列の最初の前記ゲート
遅延回路の入力端に接続してリングオシレータ回路を構
成し、 前記発振制御リング配線と前記発振制御入力バッファの
出力端及び前記発振制御回路の入力端をそれぞれ接続
し、前記発振制御入力バッファの出力信号により前記リ
ングオシレータ回路の発振を制御することを特徴とする
半導体集積回路。
1. A plurality of bonding pads provided on an end side of a semiconductor substrate, a plurality of input / output buffers arranged inside these bonding pads, and input / outputs along an arrangement direction of the input / output buffers. An oscillation control ring wiring disposed inside the buffer, and a gate delay circuit having an even number of inverting circuits connected to circuit elements constituting the input / output buffer to invert and output an input signal, and An oscillation control input buffer for outputting a control signal input from a bonding pad to the oscillation control ring wiring and an oscillation control circuit for inverting and outputting an output signal of the gate delay circuit when activated by the control signal. In a semiconductor integrated circuit, an even number of the gate delay circuits are sequentially connected to form a delay circuit row, and the last of the delay circuit row An output terminal of the gate delay circuit is connected to an input terminal of the oscillation control circuit, and an output terminal of the oscillation control circuit is connected to an input terminal of the first gate delay circuit of the delay circuit row to form a ring oscillator circuit. Connecting the oscillation control ring wiring to the output terminal of the oscillation control input buffer and the input terminal of the oscillation control circuit, and controlling the oscillation of the ring oscillator circuit by the output signal of the oscillation control input buffer. Semiconductor integrated circuit.
【請求項2】 前記ゲート遅延回路は、前記半導体チッ
プを一周して配置されていることを特徴とする請求項1
記載の半導体集積回路。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the gate delay circuit is arranged around the semiconductor chip.
A semiconductor integrated circuit as described in the above.
【請求項3】 前記リングオシレータ回路は、前記ボン
ディングパッドに近い方に配置されたゲート遅延回路と
前記ボンディングパッドに遠い方に配置されたゲート遅
延回路とを対にした遅延回路を順次接続して遅延回路列
を構成したことを特徴とする請求項1記載の半導体集積
回路。
3. The ring oscillator circuit sequentially connects a delay circuit having a pair of a gate delay circuit disposed closer to the bonding pad and a gate delay circuit disposed farther from the bonding pad. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a delay circuit array is formed.
【請求項4】 前記遅延回路列が半導体チップの一辺又
は複数辺に渡って配置されていることを特徴とする請求
項3記載の半導体集積回路。
4. The semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein said delay circuit row is arranged over one side or a plurality of sides of the semiconductor chip.
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