JPH1073723A - 光学機能素子の製造方法 - Google Patents
光学機能素子の製造方法Info
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- JPH1073723A JPH1073723A JP8231850A JP23185096A JPH1073723A JP H1073723 A JPH1073723 A JP H1073723A JP 8231850 A JP8231850 A JP 8231850A JP 23185096 A JP23185096 A JP 23185096A JP H1073723 A JPH1073723 A JP H1073723A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、均一な配向状態を有する液晶が積
層された光学機能素子の製造方法を提供することを目的
とする。 【解決手段】 含水率が３重量％以下となされた、液晶
分子配向能を有するセルロース誘導体からなる基材の少
なくとも一面に液晶性材料層が積層されてなる積層体を
加熱し、液晶性材料を配向させることを特徴とする。
層された光学機能素子の製造方法を提供することを目的
とする。 【解決手段】 含水率が３重量％以下となされた、液晶
分子配向能を有するセルロース誘導体からなる基材の少
なくとも一面に液晶性材料層が積層されてなる積層体を
加熱し、液晶性材料を配向させることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子用の
位相差板や液晶セル等に利用される光学機能素子の製造
方法に関する。
位相差板や液晶セル等に利用される光学機能素子の製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶を利用した光学機能素子としては、
液晶表示素子用の位相差板、液晶セル、旋光子、選択波
長反射板等が挙げられる。このような光学機能素子は、
透明な等方性基材上に液晶を積層して得られ、その一例
として、特開平３−８７７２０号公報には、透光性基板
と該基板上に形成された配向膜と、該配向膜上に形成さ
れた、特定の液晶性高分子よりなる膜から構成される液
晶表示素子用補償板及びその製造方法が開示されてい
る。
液晶表示素子用の位相差板、液晶セル、旋光子、選択波
長反射板等が挙げられる。このような光学機能素子は、
透明な等方性基材上に液晶を積層して得られ、その一例
として、特開平３−８７７２０号公報には、透光性基板
と該基板上に形成された配向膜と、該配向膜上に形成さ
れた、特定の液晶性高分子よりなる膜から構成される液
晶表示素子用補償板及びその製造方法が開示されてい
る。
【０００３】しかしながら、上記液晶表示素子用補償板
の製造方法では、同一材料を用いたとしても、液晶の配
向に不均一が生じることがあり、高度な配向の均一性が
要求される液晶ディスプレイ等に用いた場合、画面のコ
ントラストの低下や視野角が狭まる等の問題があった。
の製造方法では、同一材料を用いたとしても、液晶の配
向に不均一が生じることがあり、高度な配向の均一性が
要求される液晶ディスプレイ等に用いた場合、画面のコ
ントラストの低下や視野角が狭まる等の問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、均一な配向
状態を有する液晶が積層された光学機能素子の製造方法
を提供することを目的とする。
状態を有する液晶が積層された光学機能素子の製造方法
を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明で用いられる基材
は、含水率が３重量％以下となされた、液晶分子配向能
を有するセルロース誘導体からなるものであれば、特に
限定されず、該セルロース誘導体としては、特に限定さ
れず、例えば、酢酸セルロース、酢酸・プロピオン酸セ
ルロース、酢酸・酪酸セルロース、ニロトセルロース、
メチルセルロース、エチルセルロース等が挙げられる
が、酢酸セルロースが特に好ましい。
は、含水率が３重量％以下となされた、液晶分子配向能
を有するセルロース誘導体からなるものであれば、特に
限定されず、該セルロース誘導体としては、特に限定さ
れず、例えば、酢酸セルロース、酢酸・プロピオン酸セ
ルロース、酢酸・酪酸セルロース、ニロトセルロース、
メチルセルロース、エチルセルロース等が挙げられる
が、酢酸セルロースが特に好ましい。
【０００６】そして、上記基材はその少なくとも一面に
積層される液晶性材料を配向させるべく、液晶分子配向
能を有している必要があり、該液晶分子配向能を基材に
与える時期は、液晶性材料を積層する前後いずれでもよ
い。
積層される液晶性材料を配向させるべく、液晶分子配向
能を有している必要があり、該液晶分子配向能を基材に
与える時期は、液晶性材料を積層する前後いずれでもよ
い。
【０００７】基材に液晶分子配向能を与える方法は、特
に限定されず、一般に用いられる方法が採用され、以下
に説明する。先ず、液晶性材料を積層する前に液晶分子
配向能を与える方法としては、例えば、ナイロン、綿、
ポリエステル等からなる植毛布で基材表面を一方向に擦
するラビング法の他、斜め蒸着法、イオンビーム法、プ
ラズマ法、引上げ塗布法等の基材面変形配向処理法、液
晶配向能力を有する配向剤を含有する溶液を塗布する溶
液塗布法、低分子量の配向剤を基材面に重合付着させる
プラズマ重合法、高分子量の配向剤を高電界の作用で基
材に付着させるスパッタリング法等の基材面直接配向処
理法、基材表面に配向性を有するポリイミド、ポリビニ
ルアルコール等のフィルムを積層する方法等が挙げられ
る。次に、液晶性材料を積層した後に液晶分子配向能を
与える方法としては、例えば、配向剤を溶解させた液晶
性材料を基材表面に積層し、液晶性材料からしみだした
配向剤を基材表面に吸着させる基材面間接配向処理法等
が挙げられる。
に限定されず、一般に用いられる方法が採用され、以下
に説明する。先ず、液晶性材料を積層する前に液晶分子
配向能を与える方法としては、例えば、ナイロン、綿、
ポリエステル等からなる植毛布で基材表面を一方向に擦
するラビング法の他、斜め蒸着法、イオンビーム法、プ
ラズマ法、引上げ塗布法等の基材面変形配向処理法、液
晶配向能力を有する配向剤を含有する溶液を塗布する溶
液塗布法、低分子量の配向剤を基材面に重合付着させる
プラズマ重合法、高分子量の配向剤を高電界の作用で基
材に付着させるスパッタリング法等の基材面直接配向処
理法、基材表面に配向性を有するポリイミド、ポリビニ
ルアルコール等のフィルムを積層する方法等が挙げられ
る。次に、液晶性材料を積層した後に液晶分子配向能を
与える方法としては、例えば、配向剤を溶解させた液晶
性材料を基材表面に積層し、液晶性材料からしみだした
配向剤を基材表面に吸着させる基材面間接配向処理法等
が挙げられる。
【０００８】又、本発明の基材の含水率は、大きいと、
水の影響で得られる液晶の配向の均一性が低下するの
で、３重量％以下に限定される。このような含水率に調
節する方法としては、特に限定されず、例えば、基材に
熱風を吹き付ける方法、熱ロール間に挟持する方法、赤
外線又はマイクロ波を照射する方法等が挙げられる。本
発明において、含水率とは、カールフィッシャー法によ
り測定されたものをいう。なお、基材の厚みは、特に限
定されないが、薄いと、取扱いが不便となるので１０μ
ｍ以上が好ましい。
水の影響で得られる液晶の配向の均一性が低下するの
で、３重量％以下に限定される。このような含水率に調
節する方法としては、特に限定されず、例えば、基材に
熱風を吹き付ける方法、熱ロール間に挟持する方法、赤
外線又はマイクロ波を照射する方法等が挙げられる。本
発明において、含水率とは、カールフィッシャー法によ
り測定されたものをいう。なお、基材の厚みは、特に限
定されないが、薄いと、取扱いが不便となるので１０μ
ｍ以上が好ましい。
【０００９】次に、基材の少なくとも一面に積層される
液晶性材料について説明する。本発明で用いられる液晶
性材料は、加熱することにより配向（液晶状態を発現）
するものであれば、特に限定されず、例えば、ポリエス
テル系、ポリアミド系、ポリカーボネート系、ポリエス
テルイミド系等の主鎖型液晶性材料、ポリエーテル系、
ポリシロキサン系、ポリアクリレート系、ポリメタクリ
レート系、ポリビニルエーテル系、ポリマロネート系、
ポリエステル系等の側鎖型液晶性材料等の分子量が１，
０００〜２００，０００の高分子量液晶性材料の他、ア
ゾメチル系化合物、エステル系化合物、ビフェニル系化
合物、スチルベン化合物、アゾキシ系化合物、アゾ系化
合物等の低分子量液晶性材料等が挙げられる。高分子量
液晶性材料を使用する場合、常温でガラス状態の材料が
より高度に均一な配向状態を有する液晶が得られ好まし
い。
液晶性材料について説明する。本発明で用いられる液晶
性材料は、加熱することにより配向（液晶状態を発現）
するものであれば、特に限定されず、例えば、ポリエス
テル系、ポリアミド系、ポリカーボネート系、ポリエス
テルイミド系等の主鎖型液晶性材料、ポリエーテル系、
ポリシロキサン系、ポリアクリレート系、ポリメタクリ
レート系、ポリビニルエーテル系、ポリマロネート系、
ポリエステル系等の側鎖型液晶性材料等の分子量が１，
０００〜２００，０００の高分子量液晶性材料の他、ア
ゾメチル系化合物、エステル系化合物、ビフェニル系化
合物、スチルベン化合物、アゾキシ系化合物、アゾ系化
合物等の低分子量液晶性材料等が挙げられる。高分子量
液晶性材料を使用する場合、常温でガラス状態の材料が
より高度に均一な配向状態を有する液晶が得られ好まし
い。
【００１０】積層体は、上記基材の少なくとも一面に液
晶性材料が積層されてなるが、その積層方法は特に限定
されず、例えば、高分子量液晶性材料が溶解した溶液
を、通常用いられる方法で基材表面に塗布、乾燥する方
法が挙げられる。なお、通常用いられる塗布方法として
は、例えば、ロールコート法、ナイフコート法、ダイコ
ート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート
法、オフセットグラビアコート法、リップコート法、浸
漬法、スピンコート法等が挙げられる。なお、通常、液
晶性材料は溶媒に溶解させた上で上記汎用の方法により
塗布されるが、液晶性材料によっては特定溶媒しか使用
できず、しかも該溶媒が積層しようとする基材をおかす
場合は、基材に直接液晶性材料を積層するのではなく、
先ず、溶媒におかされない予備基材上に上記方法により
液晶性材料を塗布し液晶性材料塗膜を得た上で、得られ
た液晶性材料塗膜を所望の上記条件を満たす基材上に転
写させて積層体を得てもよい。ここで、転写方法は通常
用いられる方法が採られ、例えば、所望の基材上に液晶
層を熱ラミネートし、裏面の予備基材を剥離する方法等
が挙げられる。
晶性材料が積層されてなるが、その積層方法は特に限定
されず、例えば、高分子量液晶性材料が溶解した溶液
を、通常用いられる方法で基材表面に塗布、乾燥する方
法が挙げられる。なお、通常用いられる塗布方法として
は、例えば、ロールコート法、ナイフコート法、ダイコ
ート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート
法、オフセットグラビアコート法、リップコート法、浸
漬法、スピンコート法等が挙げられる。なお、通常、液
晶性材料は溶媒に溶解させた上で上記汎用の方法により
塗布されるが、液晶性材料によっては特定溶媒しか使用
できず、しかも該溶媒が積層しようとする基材をおかす
場合は、基材に直接液晶性材料を積層するのではなく、
先ず、溶媒におかされない予備基材上に上記方法により
液晶性材料を塗布し液晶性材料塗膜を得た上で、得られ
た液晶性材料塗膜を所望の上記条件を満たす基材上に転
写させて積層体を得てもよい。ここで、転写方法は通常
用いられる方法が採られ、例えば、所望の基材上に液晶
層を熱ラミネートし、裏面の予備基材を剥離する方法等
が挙げられる。
【００１１】本発明では、上記の如く得られた積層体を
液晶状態が発現する温度範囲に加熱し、液晶性材料を配
向させ、例えば、ホモジニアス配向、ねじれネマチック
配向等の配向を有する液晶が積層された光学機能素子を
得る。この際、加熱方法としては、汎用の加熱器が用い
られる。
液晶状態が発現する温度範囲に加熱し、液晶性材料を配
向させ、例えば、ホモジニアス配向、ねじれネマチック
配向等の配向を有する液晶が積層された光学機能素子を
得る。この際、加熱方法としては、汎用の加熱器が用い
られる。
【００１２】又、ガラス転移温度の低い基材を用いたい
場合、上記加熱により基材が損なわれるので、かかる場
合は、先ずガラス転移温度の高い予備基材上に液晶性材
料を塗布、配向させた後、所望の基材上に転写する方法
を用いてもよい。転写の方法は、上記方法の他、所望の
基材上に粘着剤を介して液晶層を積層した後、裏面から
予備基材を剥離する方法等公知の方法が用いられる。
場合、上記加熱により基材が損なわれるので、かかる場
合は、先ずガラス転移温度の高い予備基材上に液晶性材
料を塗布、配向させた後、所望の基材上に転写する方法
を用いてもよい。転写の方法は、上記方法の他、所望の
基材上に粘着剤を介して液晶層を積層した後、裏面から
予備基材を剥離する方法等公知の方法が用いられる。
【００１３】なお、ねじれネマチック配向に配向させる
場合には、液晶性材料にコレステロール誘導体、４−
（４−ヘキシルオキシベンゾイルオキシ）安息香酸２−
オクチルエステル等のカイラル剤と呼ばれる光学活性物
質を添加するか、液晶性材料自体に光学活性部位を導入
する必要がある。上記カイラル剤の添加量は、多いと、
得られる液晶の配向の均一性が低下するので、１０重量
％以下が好ましい。
場合には、液晶性材料にコレステロール誘導体、４−
（４−ヘキシルオキシベンゾイルオキシ）安息香酸２−
オクチルエステル等のカイラル剤と呼ばれる光学活性物
質を添加するか、液晶性材料自体に光学活性部位を導入
する必要がある。上記カイラル剤の添加量は、多いと、
得られる液晶の配向の均一性が低下するので、１０重量
％以下が好ましい。
【００１４】
（実施例１）１１０℃の熱風加熱炉に１分間滞留させて
含水率を２．５重量％とした厚み８０μｍ、置換度１．
４の酢酸セルロースからなる基材表面を、ナイロンの植
毛布で擦することでラビング処理を施し液晶分子配向能
を付与した。次に、式１に示した分子構造を有するポリ
アクリレート系の分子量８０，０００の高分子量液晶性
材料の２３重量％アニソール溶液を、ラビング処理を施
した基材表面にマイクログラビアコーターにより塗布
後、１１０℃で３分間加熱し、アニソールを蒸発させる
とともに、液晶性材料をホモジニアス配向に配向させ光
学機能素子を得た。なお、酢酸セルロースの置換度は、
下記方法により測定したものである。得られた光学機能
素子のコントラスト比及び液晶の配向の均一度を下記方
法により測定し、その結果を表１に示した。
含水率を２．５重量％とした厚み８０μｍ、置換度１．
４の酢酸セルロースからなる基材表面を、ナイロンの植
毛布で擦することでラビング処理を施し液晶分子配向能
を付与した。次に、式１に示した分子構造を有するポリ
アクリレート系の分子量８０，０００の高分子量液晶性
材料の２３重量％アニソール溶液を、ラビング処理を施
した基材表面にマイクログラビアコーターにより塗布
後、１１０℃で３分間加熱し、アニソールを蒸発させる
とともに、液晶性材料をホモジニアス配向に配向させ光
学機能素子を得た。なお、酢酸セルロースの置換度は、
下記方法により測定したものである。得られた光学機能
素子のコントラスト比及び液晶の配向の均一度を下記方
法により測定し、その結果を表１に示した。
【００１５】（置換度）酢酸セルロースをアセトンに溶
解させた後、水酸化ナトリウム水溶液でアセチル基をケ
ン化し、それに要した水酸化ナトリウムの量を塩酸で滴
定してアセチル化度を測定し、その値を置換度とした。
解させた後、水酸化ナトリウム水溶液でアセチル基をケ
ン化し、それに要した水酸化ナトリウムの量を塩酸で滴
定してアセチル化度を測定し、その値を置換度とした。
【００１６】（コントラスト比）得られた光学機能素子
を位相差板として、１／２００デューティ駆動のＳＴＮ
液晶セルを用いた液晶ディスプレイに組み込み、画像信
号を入力した時のコントラスト比を測定した。
を位相差板として、１／２００デューティ駆動のＳＴＮ
液晶セルを用いた液晶ディスプレイに組み込み、画像信
号を入力した時のコントラスト比を測定した。
【００１７】（液晶の配向の均一度）直行ニコル配置の
偏光板の間に、液晶の配向軸が偏光板の吸収軸と４５°
をなすように光学機能素子を挿入し、５ｍｍピッチで縦
横各６点、計３６点の位相差を測定し、それらの位相差
値の平均値に対する標準偏差の百分率を液晶の配向の均
一度とした。
偏光板の間に、液晶の配向軸が偏光板の吸収軸と４５°
をなすように光学機能素子を挿入し、５ｍｍピッチで縦
横各６点、計３６点の位相差を測定し、それらの位相差
値の平均値に対する標準偏差の百分率を液晶の配向の均
一度とした。
【００１８】（実施例２）１２０℃の熱風加熱炉に１分
間滞留させて含水率を１．０重量％とした厚み５０μ
ｍ、置換度１．７の酢酸セルロースからなる基材表面
を、ポリエステルの植毛布で擦することでラビング処理
を施し液晶分子配向能を付与した。次に、式２に示した
光学活性部位が導入された分子構造を有するポリアクリ
レート系の分子量１２７，０００の高分子量液晶性材料
の１５重量％テトラクロロエタン溶液を、ラビング処理
を施した基材表面にスピンコーターにより塗布後、１１
５℃で４分間加熱し、テトラクロロエタンを蒸発させる
とともに、液晶性材料をねじれネマチック配向に配向さ
せ光学機能素子を得た。なお、酢酸セルロースの置換度
は、実施例１と同様の方法により測定したものである。
得られた光学機能素子のコントラスト比及び液晶の配向
の均一度を実施例１と同様にして測定し、その結果を表
１に示した。
間滞留させて含水率を１．０重量％とした厚み５０μ
ｍ、置換度１．７の酢酸セルロースからなる基材表面
を、ポリエステルの植毛布で擦することでラビング処理
を施し液晶分子配向能を付与した。次に、式２に示した
光学活性部位が導入された分子構造を有するポリアクリ
レート系の分子量１２７，０００の高分子量液晶性材料
の１５重量％テトラクロロエタン溶液を、ラビング処理
を施した基材表面にスピンコーターにより塗布後、１１
５℃で４分間加熱し、テトラクロロエタンを蒸発させる
とともに、液晶性材料をねじれネマチック配向に配向さ
せ光学機能素子を得た。なお、酢酸セルロースの置換度
は、実施例１と同様の方法により測定したものである。
得られた光学機能素子のコントラスト比及び液晶の配向
の均一度を実施例１と同様にして測定し、その結果を表
１に示した。
【００１９】（比較例１）４０℃且つ９５％ＲＨの恒温
恒湿機に７日間滞留させて含水率７．４重量％とした厚
み８０μｍ、置換度１．４の酢酸セルロースからなる基
材表面を、ナイロンの植毛布で擦することでラビング処
理を施し液晶分子配向能を付与した。次に、式１に示し
た分子構造を有するポリアクリレート系の分子量８０，
０００の高分子量液晶性材料の２３重量％アニソール溶
液を、ラビング処理を施した基材表面にマイクログラビ
アコーターにより塗布後、１１０℃で３分間加熱し、ア
ニソールを蒸発させるとともに、液晶性材料をホモジニ
アス配向に配向させ光学機能素子を得た。なお、酢酸セ
ルロースの置換度は、実施例１と同様の方法により測定
したものである。得られた光学機能素子のコントラスト
比及び液晶の配向の均一度を実施例１と同様にして測定
し、その結果を表１に示した。
恒湿機に７日間滞留させて含水率７．４重量％とした厚
み８０μｍ、置換度１．４の酢酸セルロースからなる基
材表面を、ナイロンの植毛布で擦することでラビング処
理を施し液晶分子配向能を付与した。次に、式１に示し
た分子構造を有するポリアクリレート系の分子量８０，
０００の高分子量液晶性材料の２３重量％アニソール溶
液を、ラビング処理を施した基材表面にマイクログラビ
アコーターにより塗布後、１１０℃で３分間加熱し、ア
ニソールを蒸発させるとともに、液晶性材料をホモジニ
アス配向に配向させ光学機能素子を得た。なお、酢酸セ
ルロースの置換度は、実施例１と同様の方法により測定
したものである。得られた光学機能素子のコントラスト
比及び液晶の配向の均一度を実施例１と同様にして測定
し、その結果を表１に示した。
【００２０】（比較例２）４０℃且つ９５％ＲＨの恒温
恒湿機に７日間滞留させて含水率４．１重量％とした厚
み５０μｍ、置換度１．７の酢酸セルロースからなる基
材表面を、ポリエステルの植毛布で擦することでラビン
グ処理を施し液晶分子配向能を付与した。次に、式２に
示した光学活性部位が導入された分子構造を有するポリ
アクリレート系の分子量１２７，０００の高分子量液晶
性材料の１５重量％テトラクロロエタン溶液を、ラビン
グ処理を施した基材表面にスピンコーターにより塗布
後、１１５℃で４分間加熱し、テトラクロロエタンを蒸
発させるとともに、液晶性材料をねじれネマチック配向
に配向させ光学機能素子を得た。なお、酢酸セルロース
の置換度は、実施例１と同様の方法により測定したもの
である。得られた光学機能素子のコントラスト比及び液
晶の配向の均一度を実施例１と同様にして測定し、その
結果を表１に示した。
恒湿機に７日間滞留させて含水率４．１重量％とした厚
み５０μｍ、置換度１．７の酢酸セルロースからなる基
材表面を、ポリエステルの植毛布で擦することでラビン
グ処理を施し液晶分子配向能を付与した。次に、式２に
示した光学活性部位が導入された分子構造を有するポリ
アクリレート系の分子量１２７，０００の高分子量液晶
性材料の１５重量％テトラクロロエタン溶液を、ラビン
グ処理を施した基材表面にスピンコーターにより塗布
後、１１５℃で４分間加熱し、テトラクロロエタンを蒸
発させるとともに、液晶性材料をねじれネマチック配向
に配向させ光学機能素子を得た。なお、酢酸セルロース
の置換度は、実施例１と同様の方法により測定したもの
である。得られた光学機能素子のコントラスト比及び液
晶の配向の均一度を実施例１と同様にして測定し、その
結果を表１に示した。
【００２１】
【式１】
【００２２】
【式２】
【００２３】
【表１】
【００２４】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、均一な配向
状態を有する液晶が積層された光学機能素子が得られ
る。又、本製造方法により得られた光学機能素子は、液
晶ディスプレイに用いると、コントラスト比の高い高品
質の液晶ディスプレイを得ることが出来る。
状態を有する液晶が積層された光学機能素子が得られ
る。又、本製造方法により得られた光学機能素子は、液
晶ディスプレイに用いると、コントラスト比の高い高品
質の液晶ディスプレイを得ることが出来る。
Claims (1)
- 【請求項１】 含水率が３重量％以下となされた、液晶
分子配向能を有するセルロース誘導体からなる基材の少
なくとも一面に液晶性材料層が積層されてなる積層体を
加熱し、液晶性材料を配向させることを特徴とする光学
機能素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8231850A JPH1073723A (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | 光学機能素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8231850A JPH1073723A (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | 光学機能素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1073723A true JPH1073723A (ja) | 1998-03-17 |
Family
ID=16929998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8231850A Pending JPH1073723A (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | 光学機能素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1073723A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002093213A1 (fr) * | 2001-05-10 | 2002-11-21 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Compose cristallin liquide et film a dephasage l'utilisant |
| CN112368143A (zh) * | 2018-07-25 | 2021-02-12 | 住友化学株式会社 | 层叠体 |
-
1996
- 1996-09-02 JP JP8231850A patent/JPH1073723A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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