JPH1071674A - Copper clad laminated sheet - Google Patents

Copper clad laminated sheet

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JPH1071674A
JPH1071674A JP23055496A JP23055496A JPH1071674A JP H1071674 A JPH1071674 A JP H1071674A JP 23055496 A JP23055496 A JP 23055496A JP 23055496 A JP23055496 A JP 23055496A JP H1071674 A JPH1071674 A JP H1071674A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carbon atoms
group
copper
formula
acid
Prior art date
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Pending
Application number
JP23055496A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiaki Hayashi
利明 林
Yasuhiro Endo
康博 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
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Priority to EP97109116A priority patent/EP0811619B1/en
Priority to CA 2207177 priority patent/CA2207177A1/en
Priority to KR1019970023397A priority patent/KR100511482B1/en
Priority to DE1997603182 priority patent/DE69703182T2/en
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Priority to US08/870,009 priority patent/US6270899B1/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a copper clad laminated sheet excellent in low dielectric constant properties and low dielectric loss tangent properties by heating and molding a prepreg obtained by using a thermosetting resin compsn. containing an aryl ester compd., an epoxy resin and a curing catalyst as essential components and copper foil. SOLUTION: Polyhydric phenol of an aryl ester compd. used in a thermosetting resin compsn. of a copper clad laminated sheet is synthesized by the condensing reaction of resorcinol represented by formula I and a carbonyl compd. represented by formula II in the presence of an acid catalyst. In the formula I, P is respectively independently a hydrogen atom, a halogen atom, a 1-10C alkyl group, a 5-10C cycloalkyl group, a 6-20C aryl group or a 7-20 aralkyl group and i is an integer of 0-2. In the formula II, X and X' are a hydrogen atom, a 1-10C alkyl group, 5-10C cycloalkyl group, a 6-20C aryl group or a 7-20C aralkyl group and may form a ring.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、低誘電正接性や低
誘電率性に優れた熱硬化性樹脂組成物を用いた銅張り積
層板に関する。本発明の銅張り積層板は、特に低誘電特
性が必要とされるプリント配線板として有用である。
[0001] The present invention relates to a copper-clad laminate using a thermosetting resin composition having excellent low dielectric loss tangent and low dielectric constant. The copper-clad laminate of the present invention is particularly useful as a printed wiring board requiring low dielectric properties.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気・電子用途に用いられるエポキシ樹
脂のうち、プリント配線基板の材料としては、従来主と
してビスフェノール型エポキシ樹脂とジシアンジアミド
の組み合わせが用いられている。近年、プリント配線基
板の薄型化、多層化に伴い、信号速度向上と回路のイン
ピーダンス整合の目的から樹脂の低誘電率性が、また信
号の高周波化に伴い、信号の伝送損失低減の目的から樹
脂の低誘電正接性が要求されてきている。それに対して
従来のエポキシ樹脂に低誘電率、低誘電正接の熱可塑性
樹脂を組み合わせる方法が考案されている。例えば反応
性ポリブタジエン樹脂で変性する方法、ポリテトラフル
オロエチレン樹脂の粉末を分散させる方法等である。し
かし、これら従来の技術においては、基本となるエポキ
シ樹脂の誘電率が高いため、望ましい誘電率を達成する
には組み合わせる熱可塑性樹脂の占める割合が大きくな
り、エポキシ樹脂の特長である耐熱性、接着性、寸法安
定性、耐薬品性等が損なわれてしまう。そして、このよ
うな樹脂の組合せを用いた銅張り積層板は、これらの性
質に劣っていた。
2. Description of the Related Art Among epoxy resins used for electric and electronic applications, a combination of a bisphenol type epoxy resin and dicyandiamide is mainly used as a material for a printed wiring board. In recent years, as the printed wiring board has become thinner and more multilayered, the resin has a low dielectric constant for the purpose of improving the signal speed and impedance matching of the circuit. Are required to have a low dielectric loss tangent. In contrast, a method has been devised in which a conventional epoxy resin is combined with a thermoplastic resin having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. For example, a method of modifying with a reactive polybutadiene resin, a method of dispersing a powder of polytetrafluoroethylene resin, and the like. However, in these conventional techniques, since the basic epoxy resin has a high dielectric constant, the ratio of the thermoplastic resin to be combined increases to achieve a desired dielectric constant. Properties, dimensional stability, chemical resistance, etc. are impaired. And the copper-clad laminate using such a combination of resins was inferior in these properties.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
のエポキシ樹脂を使って得た銅張り積層板の特性を損な
うことなく、特に耐熱性、低誘電率性、低誘電正接性等
に優れた銅張り積層板を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to improve the heat resistance, low dielectric constant, low dielectric loss tangent, etc. without impairing the characteristics of a copper-clad laminate obtained using a conventional epoxy resin. It is to provide an excellent copper-clad laminate.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、エポキシ
樹脂と熱硬化反応し得る化合物の官能基構造、骨格構造
について鋭意研究を続けた結果、特定の官能基構造、骨
格構造を持つ化合物と組み合わせたエポキシ樹脂組成物
を使用した銅張り積層板が前記目的を満足することを見
出し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明
は、次のとおりである。 (1)(A)下記一般式(1)
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on the functional group structure and skeletal structure of a compound capable of undergoing thermosetting reaction with an epoxy resin. It has been found that a copper-clad laminate using an epoxy resin composition in combination with the above satisfies the above objects, and has accomplished the present invention. That is, the present invention is as follows. (1) (A) The following general formula (1)

【0005】[0005]

【化4】 (式中、Pは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原
子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜10のシ
クロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、あるい
は炭素数7〜20のアラルキル基を表す。iは、0以上
2以下の整数値を表す。)で表されるレゾルシノール類
と、下記一般式(2)
Embedded image (Wherein, P is independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or 7 to 7 carbon atoms) Represents an aralkyl group of 20. i represents an integer value of 0 or more and 2 or less), and a resorcinol represented by the following general formula (2)

【0006】[0006]

【化5】 (式中、X、X'は、それぞれ独立に、水素原子あるいは
炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜10のシクロ
アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、あるいは炭
素数7〜20のアラルキル基を表すが、XとX'は、環を
形成していてもよい。)で表されるカルボニル化合物と
の縮合生成物である多価フェノールのOH基の少なくとも
1個が、炭素数1〜20を有する有機多酸あるいはその
誘導体を必ず含む、炭素数1〜20を有する有機酸ある
いはその誘導体でエステル化されたアリールエステル化
合物と、(B)エポキシ樹脂と、(C)硬化触媒とを必
須成分とする熱硬化性樹脂組成物を用いて得られるプリ
プレグと銅箔とを加熱成形してなる銅張り積層板。 (2)(A)成分であるエステル化合物の原料となる多
価フェノールが、下記一般式(3)
Embedded image (In the formula, X and X ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or 7 to 7 carbon atoms. And X and X ′ may form a ring. At least one of the OH groups of the polyhydric phenol which is a condensation product with the carbonyl compound represented by the formula An aryl ester compound esterified with an organic acid having 1 to 20 carbon atoms or a derivative thereof, which contains an organic polyacid having 1 to 20 or a derivative thereof, (B) an epoxy resin, and (C) a curing catalyst A copper-clad laminate obtained by heating and molding a prepreg and a copper foil obtained using a thermosetting resin composition containing, as essential components. (2) The polyhydric phenol which is a raw material of the ester compound as the component (A) is represented by the following general formula (3)

【0007】[0007]

【化6】 (式中、nは、平均繰り返し数であり、1以上20以下
である。Pは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原
子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜10のシ
クロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、あるい
は炭素数7〜20のアラルキル基を表す。iは、0以上
2以下の整数値を表す。R1、R2、R3、R4、R5は、
それぞれ独立に、水素原子あるいは炭素数1〜10のア
ルキル基、炭素数5〜10のシクロアルキル基、炭素数
6〜20のアリール基、あるいは炭素数7〜20のアラ
ルキル基を表すが、R1とR2、およびR4とR5は、それ
ぞれ独立に、環を形成していてもよい。)で表される化
合物である、(1)に記載の熱硬化性樹脂組成物を用い
て得られるプリプレグと銅箔とを加熱成形してなる銅張
り積層板。 (3)(A)成分を合成するのに用いられる炭素数1〜
20を有する有機酸あるいはその誘導体が、炭素数1〜
20を有する有機多酸あるいはその誘導体を10〜50%含
むものである、(1)あるいは(2)に記載の銅張り積
層板。 (4)熱硬化性樹脂組成物が(A)、(B)、(C)成
分に加えて、(D)難燃剤を必須成分とするものであ
る、(1)あるいは(2)に記載の銅張り積層板。
Embedded image (In the formula, n is the average number of repetitions and is 1 or more and 20 or less. P is each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms. Represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, i represents an integer of 0 to 2. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 Is
Each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or represents an aralkyl group having a carbon number of 7 to 20, R 1 And R 2 , and R 4 and R 5 may each independently form a ring. A copper-clad laminate obtained by heating and molding a prepreg obtained by using the thermosetting resin composition according to (1), which is a compound represented by (1), and a copper foil. (3) carbon number 1 to be used for synthesizing component (A)
The organic acid having 20 or a derivative thereof has 1 to 1 carbon atoms.
The copper-clad laminate according to (1) or (2), comprising 10 to 50% of an organic polyacid having 20 or a derivative thereof. (4) The thermosetting resin composition according to (1) or (2), wherein the thermosetting resin composition contains (D) a flame retardant as an essential component in addition to the components (A), (B), and (C). Copper clad laminate.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明において用いられるエステ
ル化合物の製造中間体である多価フェノールは、上記一
般式(1)で表されるレゾルシノール類と、上記一般式
(2)で表されるカルボニル化合物とを酸触媒の存在下
で縮合反応させる等の公知の方法で合成される。レゾル
シノール類としては、4位と6位に置換基を有しないも
のが使用される〔一般式(1)〕。その例としては、レ
ゾルシノール、2−メチルレゾルシノール、5−メチル
レゾルシノール、2−プロピルレゾルシノール、2−n
−ブチルレゾルシノール、5−イソブチルレゾルシノー
ル、5−t−ブチルレゾルシノール、5−オクチルレゾ
ルシノール、5−ノニルレゾルシノール、2,5−ジメ
チルレゾルシノール、2,5−ジエチルレゾルシノー
ル、2,5−ジイソプロピルレゾルシノール、2−メチ
ル−5−ブチルレゾルシノール、2−メチル−5−ノニ
ルレゾルシノール等を代表とするアルキルレゾルシノー
ル類、あるいは2−シクロぺンチルレゾルシノール、2
−シクロヘキシルレゾルシノール、2−シクロヘプチル
クレゾール等を代表とするシクロアルキルレゾルシノー
ル類、あるいは5−フェニルレゾルシノール、5−ナフ
チルレゾルシノール等のアリールレゾルシノール類、あ
るいは5−ベンジルレゾルシノール、5−フェネチルレ
ゾルシノール等のアラルキルレゾルシノール類、2−ク
ロロレゾルシノール、5−クロロレゾルシノール、2,
5−ジクロロレゾルシノール、2−ブロモレゾルシノー
ル、5−ブロモレゾルシノール、2,5−ジブロモレゾ
ルシノール、2−ヨードレゾルシノール、5−ヨードレ
ゾルシノール、2,5−ジヨードレゾルシノール等のハ
ロゲン化レゾルシノール類等があげられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The polyhydric phenol which is an intermediate for producing an ester compound used in the present invention comprises a resorcinol represented by the above general formula (1) and a carbonyl represented by the above general formula (2). The compound is synthesized by a known method such as a condensation reaction in the presence of an acid catalyst. As the resorcinols, those having no substituent at the 4- and 6-positions are used [general formula (1)]. Examples thereof include resorcinol, 2-methylresorcinol, 5-methylresorcinol, 2-propylresorcinol, 2-n
-Butyl resorcinol, 5-isobutyl resorcinol, 5-t-butyl resorcinol, 5-octyl resorcinol, 5-nonyl resorcinol, 2,5-dimethyl resorcinol, 2,5-diethyl resorcinol, 2,5-diisopropyl resorcinol, 2-methyl Alkyl resorcinols such as -5-butyl resorcinol, 2-methyl-5-nonyl resorcinol, etc., or 2-cyclopentyl resorcinol,
Cycloalkyl resorcinols such as cyclohexyl resorcinol and 2-cycloheptyl cresol, aryl resorcinols such as 5-phenyl resorcinol and 5-naphthyl resorcinol, and aralkyl resorcinols such as 5-benzyl resorcinol and 5-phenethyl resorcinol , 2-chlororesorcinol, 5-chlororesorcinol, 2,
Halogenated resorcinols such as 5-dichlororesorcinol, 2-bromoresorcinol, 5-bromoresorcinol, 2,5-dibromoresorcinol, 2-iodoresorcinol, 5-iodoresorcinol, and 2,5-diiodoresorcinol;

【0009】カルボニル化合物〔一般式(2)〕の例と
しては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピ
オンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ペンチルアルデヒ
ド、フェニルアセトアルデヒド、シクロヘキシルアセト
アルデヒド等に代表されるアルデヒド類、アセトン、メ
チルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メ
チルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、ベンジルフ
ェニルケトン、ベンジルメチルケトン、メチルフェネチ
ルケトン、アセトフェノン、アセトナフテノン、インダ
ン−1−オン等のケトン類があげられる。
Examples of the carbonyl compound (general formula (2)) include aldehydes represented by formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, pentylaldehyde, phenylacetaldehyde, cyclohexylacetaldehyde, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, Ketones such as methyl propyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methyl cyclohexanone, cycloheptanone, benzyl phenyl ketone, benzyl methyl ketone, methyl phenethyl ketone, acetophenone, acetonaphthenone, indan-1-one and the like.

【0010】レゾルシノール類とカルボニル化合物との
縮合反応に用いる酸触媒としては、塩酸、硫酸などの無
機酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸お
よびメタンスルホン酸などの有機酸、酸性白土、活性ア
ルミナ、ゼオライトなどの固体酸、酸性イオン交換樹脂
などがあげられる。これらの酸触媒の量は、原料として
仕込むレゾルシノール類とカルボニル化合物との重量の
和に対して、好ましくは0.01〜50重量%を用いるが、よ
り好ましくは0.5〜20重量%である。縮合反応において
は、公知の非反応性有機溶媒を用いてよく、トルエン、
キシレン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、メタノール、エタノールなどが例示されるが、これ
らに限定されない。縮合反応の際のレゾルシノール類の
カルボニル化合物類に対するモル比は、0.1〜 2.0で行
うが、より好ましくは、0.3〜1.5である。この範囲を超
えると、過剰のレゾルシノール類の残存あるいは生成物
のOH残基が少なくなる問題が生じる。また反応温度は、
好ましくは0〜200℃で行うが、より好ましくは20
〜160℃である。この範囲を超えると、温度の低い場
合は転化率が下がり、温度が高い場合は副生成物が多量
に生じる。反応時間は好ましくは1〜100時間、より
好ましくは2〜80時間である。この範囲を超えると、
時間が短い場合は、反応が不完全になり、これ以上長時
間行っても収率は変化しないため、経済的でない。縮合
反応の際には、反応により生じる水を、系から除いても
除かなくても構わない。除く場合は、トルエン、キシレ
ンなどの共沸脱水可能な溶媒を用いて、系内の水分を除
きながら反応させることの出来るディーンスターク管な
どの装置を使って反応させれば良い。また、脱水を促進
させるために減圧下で反応させてもよい。
Examples of the acid catalyst used in the condensation reaction between resorcinols and carbonyl compounds include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, organic acids such as p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid and methanesulfonic acid, acidic clay, activated alumina and the like. , Zeolite and other solid acids, and acidic ion exchange resins. The amount of these acid catalysts is preferably 0.01 to 50% by weight, more preferably 0.5 to 20% by weight, based on the sum of the weights of the resorcinols and the carbonyl compound charged as raw materials. In the condensation reaction, a known non-reactive organic solvent may be used, and toluene,
Xylene, dioxane, tetrahydrofuran, N, N-
Examples include, but are not limited to, dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, methanol, ethanol, and the like. The molar ratio of resorcinols to carbonyl compounds at the time of the condensation reaction is from 0.1 to 2.0, preferably from 0.3 to 1.5. Exceeding this range causes a problem that excessive resorcinols remain or OH residues of the product decrease. The reaction temperature is
It is preferably carried out at 0 to 200 ° C, more preferably at 20 ° C.
160160 ° C. Above this range, lower temperatures result in lower conversions and higher temperatures produce large amounts of by-products. The reaction time is preferably 1 to 100 hours, more preferably 2 to 80 hours. Beyond this range,
When the time is short, the reaction is incomplete, and the yield does not change even if the reaction is performed for a longer time, which is not economical. At the time of the condensation reaction, water generated by the reaction may or may not be removed from the system. In the case of removal, the reaction may be carried out using an apparatus such as a Dean-Stark tube capable of performing a reaction while removing water in the system using a solvent capable of azeotropic dehydration such as toluene and xylene. Further, the reaction may be performed under reduced pressure to promote dehydration.

【0011】本発明で用いられるエステル化合物として
より好ましいものとしては、原料の多価フェノールが、
上記一般式(3)で表される化合物である。同式におい
て、Pは一般式(1)のレゾルシノール類に由来するも
のであり、その例としては、上記のレゾルシノール類の
例が参考となる。また、R1 〜R5において、炭素数1
〜10のアルキル基、炭素数5〜10のシクロアルキル
基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のア
ラルキル基は、一般式(2)のカルボニル化合物に由来
するものであり、その例としては、上記のカルボニル化
合物の例が参考となる。一般式(3)において、nは、
平均繰り返し数を表し、1以上20以下の値を取り得る
が、操作性の点からは、1以上10以下が好ましい。
More preferably, the ester compound used in the present invention is a raw material polyhydric phenol,
It is a compound represented by the general formula (3). In the above formula, P is derived from the resorcinols of the general formula (1), and the examples of the resorcinols are referred to above. In R 1 to R 5 , the number of carbon atoms is 1
The alkyl group of 10 to 10, the cycloalkyl group of 5 to 10 carbon atoms, the aryl group of 6 to 20 carbon atoms, and the aralkyl group of 7 to 20 carbon atoms are derived from the carbonyl compound of the general formula (2), As examples thereof, the examples of the above-mentioned carbonyl compounds can be referred to. In the general formula (3), n is
It represents the average repetition number and can take a value of 1 or more and 20 or less, but from 1 to 10 is preferable from the viewpoint of operability.

【0012】縮合生成物である多価フェノールのエステ
ル化は、塩基存在下で、炭素数1以上20以下の有機酸
あるいはその誘導体と反応して行われる。有機酸および
その誘導体のうち、本発明のエステル化合物の合成にお
いて必須な有機多酸およびその誘導体は、カルボキシル
基を2つ以上有する有機化合物およびその酸無水物ある
いは酸ハロゲン化物であり、例示すると、シュウ酸、マ
ロン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、マレイ
ン酸、フマル酸、シトラコン酸等の脂肪族多カルボン酸
およびそれらの酸ハロゲン化物および酸無水物、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレンジカルボ
ン酸、ベンゼントリカルボン酸などの芳香族多カルボン
酸およびそれらの酸ハロゲン化物および酸無水物、シク
ロペンタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン
酸、シクロヘプタンジカルボン酸等の脂環式多カルボン
酸およびそれらの酸ハロゲン化物および酸無水物等をあ
げることができるが、これらに限定されるものではな
い。また、上記以外の有機酸およびその誘導体の例とし
ては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ラウ
リン酸、ステアリン酸、フェニル酢酸、ブロモ酢酸等の
脂肪族モノカルボン酸およびそれらの酸ハロゲン化物お
よび酸無水物、安息香酸、メチル安息香酸、ナフトエ
酸、ビフェニルカルボン酸等の芳香族モノカルボン酸お
よびそれらの酸ハロゲン化物および酸無水物、シクロペ
ンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロ
ヘプタンカルボン酸等の脂環式モノカルボン酸およびそ
れらの酸ハロゲン化物および酸無水物等をあげることが
できるが、これらに限定されるものではない。エステル
化に用いる炭素数1〜20を有する有機酸あるいはその
誘導体の内、炭素数1〜20を有する有機多酸あるいは
その誘導体は、10〜50%が好ましく、これよりも少ない
とエポキシ樹脂組成物の硬化物の耐熱性が低下し、これ
より多い場合は、エステル化合物合成時に高分子量化
し、さらにはゲル化するに至る。エステル化反応で使用
する塩基性化合物について例示すると、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムのような無機塩基化合物、ピリジ
ン、トリエチルアミン、トリフェニルホスフィン、イミ
ダゾール化合物のような有機塩基化合物等があげられ
る。また、エステル化反応においては、公知の有機溶媒
を用いてよく、トルエン、キシレン、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメ
チルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなど
が例示されるが、トルエン、キシレン、メチルイソブチ
ルケトンが好ましい。
The polyhydric phenol which is a condensation product is esterified in the presence of a base by reacting with an organic acid having 1 to 20 carbon atoms or a derivative thereof. Among the organic acids and derivatives thereof, the organic polyacids and derivatives thereof essential for the synthesis of the ester compound of the present invention are organic compounds having two or more carboxyl groups and acid anhydrides or acid halides thereof. Aliphatic polycarboxylic acids such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, adipic acid, azelaic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid and their acid halides and anhydrides, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, Aromatic polycarboxylic acids such as naphthalenedicarboxylic acid, benzenetricarboxylic acid and the like and their acid halides and anhydrides, cyclopentanedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, cycloheptanedicarboxylic acid and the like and their acids Halides and acid anhydrides Although it is not intended to be limited thereto. Examples of organic acids and derivatives thereof other than the above include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, lauric acid, stearic acid, phenylacetic acid, and bromoacetic acid, and their acid halogens. And acid anhydrides, benzoic acid, methylbenzoic acid, naphthoic acid, aromatic monocarboxylic acids such as biphenylcarboxylic acid and their acid halides and acid anhydrides, cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cycloheptanecarboxylic acid And the like, but not limited thereto. Among the organic acids or derivatives thereof having 1 to 20 carbon atoms used for the esterification, the organic polyacids or derivatives thereof having 1 to 20 carbon atoms are preferably 10 to 50%, and if less than this, the epoxy resin composition When the heat resistance of the cured product of the compound (1) is lowered, if it is higher than this, the molecular weight becomes high at the time of synthesis of the ester compound, and further the gelation occurs. Examples of the basic compound used in the esterification reaction include inorganic base compounds such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and organic base compounds such as pyridine, triethylamine, triphenylphosphine, and imidazole compounds. In the esterification reaction, a known organic solvent may be used, and toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, dioxane, tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like can be used. Although exemplified, toluene, xylene and methyl isobutyl ketone are preferred.

【0013】エステル化反応の際に用いる全部の有機酸
あるいはその誘導体の、多価フェノールのOH基に対する
モル当量比は、0.3〜2.0で行うが、より好ましくは、0.
5〜1.5である。この範囲を超えると、過剰の有機酸の残
存あるいは生成物のアシル化率が少なくなる問題が生じ
る。また反応温度は、20〜200℃で行うが、より好
ましくは、40〜150℃である。この範囲を超える
と、温度の低い場合は添加率が下がり、温度が高い場合
は副生成物が多量に生じる。反応時間は2〜50時間、
より好ましくは4〜30時間である。この範囲を超える
と、時間が短い場合は、反応が不完全になり、これ以上
長時間行っても収率は変化しないため、経済的でない。
エステル反応の際に、有機酸自体を原料として用いる場
合は、反応により生じる水を、系から除いても除かなく
ても構わない。除く場合は、トルエン、キシレン、メチ
ルイソブチルケトンなどの共沸脱水可能な溶媒を用い
て、系内の水分を除きながら反応させることの出来るデ
ィーンスターク管などの装置を使って反応させれば良
い。また、脱水を促進させるために減圧下で反応させて
もよい。
The molar equivalent ratio of all the organic acids or derivatives thereof used in the esterification reaction to the OH group of the polyhydric phenol is from 0.3 to 2.0, more preferably from 0.1 to 2.0.
5 to 1.5. If it exceeds this range, there is a problem that an excessive amount of the organic acid remains or the acylation rate of the product decreases. The reaction is carried out at a temperature of from 20 to 200 ° C., preferably from 40 to 150 ° C. When the temperature exceeds this range, the addition rate decreases when the temperature is low, and a large amount of by-products are generated when the temperature is high. The reaction time is 2 to 50 hours,
More preferably, it is 4 to 30 hours. If it exceeds this range, the reaction is incomplete if the time is short, and the yield does not change even if the reaction is carried out for a longer time, which is not economical.
When the organic acid itself is used as a raw material in the ester reaction, water generated by the reaction may or may not be removed from the system. In the case of removal, the reaction may be carried out using a solvent such as toluene, xylene, methyl isobutyl ketone or the like which can be reacted while removing water in the system using an azeotropic dehydration solvent such as toluene, xylene and methyl isobutyl ketone. Further, the reaction may be performed under reduced pressure to promote dehydration.

【0014】本発明で使用されるエポキシ樹脂として
は、分子内に2個以上のエポキシ基を含む公知の化合物
があげられ、特にその化学構造を限定するものではな
い。例示すれば、ビスフェノールAのジグリシジルエー
テル、テトラブロモビスフェノールAのジグリシジルエ
ーテルのような2官能型エポキシ、あるいは、トリス
(4−ヒドロキシフェニル)メタンのグリシジルエーテ
ル、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エ
タンのグリシジルエーテルのような3官能型エポキシ、
あるいは、フェノールノボラックのグリシジルエーテ
ル、クレゾールノボラックのグリシジルエーテル、フェ
ノール類とヒドロキシアリールアルデヒド類との脱水縮
合によって得られるノボラックのグリシジルエーテル、
ポリ(4−ヒドロキシスチレン)のグリシジルエーテ
ル、フェノール変性ポリブタジエンのグリシジルエーテ
ル、フェノール−ジシクロペンタジエン付加物のグリシ
ジルエーテル、ビスフェノールAノボラックのグリシジ
ルエーテルのような多官能型エポキシ、エポキシ樹脂と
ビスフェノールA、レゾルシノール、テトラブロモビス
フェノールAあるいはテトラクロロビスフェノールA等
のフェノール化合物を予め反応させて得られた生成物、
2種以上のエポキシ樹脂の混合物などが挙げられるが、
さらに本発明の目的とする低誘電性を与えるのには、置
換基として、少なくとも1分子中に1つ炭素数4以上の
アルキル基を芳香核に有するエポキシ樹脂がより好まし
く、例示すれば、2−t−ブチル−5−メチルフェノー
ルのノボラックのグリシジルエーテル、シクロヘキシル
フェノールノボラックのグリシジルエーテル、オクチル
フェノールノボラックのグリシジルエーテル、1,1−
(4−ヒドロキシ−5−t−ブチル−2−メチルフェニ
ル)ブタンのジグリシジルエーテル、リモネンビス(2
−sec−ブチルフェノール)のジグリシジルエーテル
などがあげられる。
Examples of the epoxy resin used in the present invention include known compounds containing two or more epoxy groups in a molecule, and the chemical structure is not particularly limited. For example, bifunctional epoxy such as diglycidyl ether of bisphenol A, diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A, or glycidyl ether of tris (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,1-tris (4 Trifunctional epoxy such as glycidyl ether of -hydroxyphenyl) ethane,
Alternatively, glycidyl ether of phenol novolak, glycidyl ether of cresol novolak, glycidyl ether of novolak obtained by dehydration condensation of phenols and hydroxyaryl aldehydes,
Polyfunctional epoxy such as glycidyl ether of poly (4-hydroxystyrene), glycidyl ether of phenol-modified polybutadiene, glycidyl ether of phenol-dicyclopentadiene adduct, glycidyl ether of bisphenol A novolak, epoxy resin and bisphenol A, resorcinol A product obtained by previously reacting a phenol compound such as tetrabromobisphenol A or tetrachlorobisphenol A,
A mixture of two or more epoxy resins, and the like,
In order to provide the low dielectric property which is the object of the present invention, an epoxy resin having at least one alkyl group having 4 or more carbon atoms in the aromatic nucleus as a substituent is more preferable. Glycidyl ether of novolak of t-butyl-5-methylphenol, glycidyl ether of cyclohexylphenol novolak, glycidyl ether of octylphenol novolak, 1,1-
Diglycidyl ether of (4-hydroxy-5-t-butyl-2-methylphenyl) butane, limonenebis (2
-Sec-butylphenol).

【0015】本発明におけるエポキシ樹脂とエステル化
合物との量的割合は、エポキシ樹脂中のエポキシ基のモ
ル数とエステル化合物中のエステル基のモル数との比率
が1対0.3〜1対1.5になるように配合することが
好ましく、さらに好ましくは1対0.5〜1対1.2の
範囲である。この範囲を外れると硬化不良が起こり、良
好な硬化物が得られない。本発明において用いられる難
燃剤は、有機化合物や無機化合物にかかわらず、公知の
ものを任意に用いることができる。その中でも特に入手
の容易さ等から、テトラブロモビスフェノールAのグリ
シジルエーテルやブロモ含有フェノールノボラックのグ
リシジルエーテルが良いが、これらに限定されるもので
はない。これらの難燃剤は、任意の割合で樹脂組成物中
に配合することができるが、通常プリント配線板用の樹
脂組成物として用いる場合は、難燃性の指針であるUL
規格V−0を達成できる程度まで加える。必要以上に加
えると、Tgや誘電率などの特性が低下してしまう。
The quantitative ratio of the epoxy resin to the ester compound in the present invention is such that the ratio of the number of moles of the epoxy group in the epoxy resin to the number of moles of the ester group in the ester compound is 1: 0.3 to 1: 1. It is preferable to mix them so as to be 0.5, more preferably in the range of 1: 0.5 to 1: 1.2. If it is out of this range, poor curing occurs, and a good cured product cannot be obtained. As the flame retardant used in the present invention, a known flame retardant can be arbitrarily used regardless of an organic compound or an inorganic compound. Among them, glycidyl ether of tetrabromobisphenol A and glycidyl ether of bromo-containing phenol novolak are particularly preferred from the viewpoint of availability and the like, but are not limited thereto. These flame retardants can be blended in the resin composition in an arbitrary ratio, but when used as a resin composition for a printed wiring board, UL which is a guide to flame retardancy is usually used.
Add to the extent that standard V-0 can be achieved. If added more than necessary, properties such as Tg and dielectric constant will be reduced.

【0016】本発明において用いられる硬化触媒は、エ
ポキシ樹脂と硬化剤の硬化反応を促進させる通常の化合
物であり、例示すると2−エチル−4−メチルイミダゾ
ール、4−メチルイミダゾールの様なイミダゾール類、
トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、1,4-ジア
ザビシクロ[2.2.2]ウンデセンの様な3級アミン類、臭
化テトラn−ブチルアンモニウム、臭化テトラn−アミ
ルアンモニウムの様な4級アンモニウム塩類、トリフェ
ニルホスフィンの様なリン系化合物等が挙げられる。ま
たその量的割合は全樹脂中に0.05〜3重量%になる
ように添加することが望ましい。また、本発明の効果を
損なわない程度に、エポキシ樹脂以外の他の熱硬化性樹
脂あるいは官能基を有する熱可塑性樹脂等を併用するこ
とも可能である。具体的には、シアネート樹脂、マレイ
ミド樹脂、グリシジル修飾ポリブタジエン、無水マレイ
ン酸修飾ポリエチレン等である。本発明では、使途によ
り組成物中に離型剤、表面処理剤、充填剤等の公知の添
加剤を加えても良い。離型剤としてはワックス類、ステ
アリン酸亜鉛等を、表面処理剤としてはシランカップリ
ング剤を挙げることができる。充填剤としてはシリカ、
アルミナ、タルク、クレー等をあげることができる。
The curing catalyst used in the present invention is an ordinary compound which accelerates the curing reaction between the epoxy resin and the curing agent. Examples thereof include imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 4-methylimidazole;
Tertiary amines such as triethylamine, benzyldimethylamine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] undecene; quaternary ammonium salts such as tetra-n-butylammonium bromide and tetra-n-amylammonium bromide; triphenyl And phosphorus-based compounds such as phosphine. Further, it is desirable to add such a quantitative ratio so as to be 0.05 to 3% by weight in the whole resin. It is also possible to use a thermosetting resin other than the epoxy resin, a thermoplastic resin having a functional group, or the like in combination without impairing the effects of the present invention. Specific examples include a cyanate resin, a maleimide resin, glycidyl-modified polybutadiene, and maleic anhydride-modified polyethylene. In the present invention, known additives such as a release agent, a surface treatment agent, and a filler may be added to the composition depending on the use. Examples of the release agent include waxes and zinc stearate, and examples of the surface treatment agent include a silane coupling agent. Silica as a filler,
Alumina, talc, clay and the like can be mentioned.

【0017】本発明の銅張り積層板の製造は、いかなる
方法を用いても行うことができる。一般的な製法として
は、熱硬化性樹脂組成物を有機溶媒に溶解した溶液であ
る樹脂ワニスを基材に含浸させ、熱処理してプリプレグ
とした後に、プリプレグと銅箔とを積層、加熱成形して
銅張り積層板とする方法であるが、これに限定されるも
のではない。使用される有機溶媒としては、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルジメチルエーテル、トルエン、キシレン、1,4-ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムア
ミド等の単独または二種以上の混合物があげられる。樹
脂ワニスを含浸させる基材としては、ガラス繊維、アル
ミナ繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維等の無機
または有機繊維からなる織布、不織布、マット、紙ある
いはこれらの組み合わせがあげられる。プリプレグの熱
処理条件は、使用する溶媒、添加触媒、その他の各種添
加剤の種類や使用量に応じて適宜選択されるが、通常1
00℃〜200℃の温度で3分〜30分の条件で行われ
る。プリプレグと銅箔との積層、加熱成形方法として
は、150℃〜300℃の温度で、10kg/cm2
100kg/cm2 の成形圧で、20分〜300分の時
間で熱プレス成形する方法が例示される。本発明の銅張
り積層板は、低誘電率性、低誘電正接性そして低吸水率
性が必要とされるプリント配線基板に用いられる。以下
に本発明の実施例を示すが、本発明はこれに限定される
ものではない。例中、エポキシ当量とは、エポキシ基1
個あたりのエポキシ樹脂の分子量で定義され、OH当量と
はOH基1個あたりのポリフェノール化合物の分子量で定
義される。
The production of the copper-clad laminate of the present invention can be performed by any method. As a general manufacturing method, a resin varnish, which is a solution obtained by dissolving a thermosetting resin composition in an organic solvent, is impregnated into a base material, and then heat-treated to form a prepreg. However, the method is not limited to this. As the organic solvent used, acetone,
Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, toluene, xylene, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide and the like, or a mixture of two or more thereof. Examples of the substrate to be impregnated with the resin varnish include woven fabric, nonwoven fabric, mat, paper made of inorganic or organic fiber such as glass fiber, alumina fiber, polyester fiber and polyamide fiber, or a combination thereof. The heat treatment conditions for the prepreg are appropriately selected according to the type and amount of the solvent, the added catalyst, and other various additives to be used.
The reaction is performed at a temperature of 00 ° C to 200 ° C for 3 minutes to 30 minutes. As a method of laminating the prepreg and the copper foil and forming by heating, a temperature of 150 ° C. to 300 ° C. and 10 kg / cm 2 to
An example is a method of hot press molding at a molding pressure of 100 kg / cm 2 for a period of 20 minutes to 300 minutes. The copper-clad laminate of the present invention is used for a printed wiring board requiring low dielectric constant, low dielectric loss tangent, and low water absorption. Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, the epoxy equivalent refers to an epoxy group 1
The OH equivalent is defined by the molecular weight of the epoxy resin per unit, and the OH equivalent is defined by the molecular weight of the polyphenol compound per OH group.

【0018】[0018]

【実施例】【Example】

合成例1 本合成例は、本発明の銅張り積層板の熱硬化性樹脂組成
物に用いるエポキシ樹脂の原料である、2−t−ブチル
−5−メチルフェノールのノボラックのグリシジルエー
テルの製法に関するものである。2−t−ブチル−5−
メチルフェノール 2231.0g(13.58 OHmol eq.)、p−ト
ルエンスルホン酸 12.9g(0.068mol)、イオン交換水 22
3.2g を温度計、攪拌装置、冷却管、滴下管を付けた5
リットル4つ口丸底フラスコに仕込み、100℃に昇温す
る。37%ホルマリン 218.4g(2.715mol)を2時間かけ
て滴下した後、100℃で2時間保温して反応を行った。
その後 80℃まで冷却し、10%NaOH水溶液 27.7g(0.069m
ol)で中和した。分液後の有機層を700gのイオン交換水
で2回洗浄した。洗浄後の有機層を減圧濃縮 (180℃/10
mmHg/1時間)して樹脂状物857.2gを得た。得られた樹脂
状物の OH当量は176.0 g/eqであった。上記のように得
られた反応生成物 246.4g(1.4 OHmol eq.)、エピクロロ
ヒドリン 906.5g(9.8 mol)、ジメチルスルホキシド 45
3.3g、イオン交換水 14.0gを、温度計、攪拌装置、分離
管付き冷却管を付けた2リットル4つ口丸底フラスコに
仕込み、49℃ 42torrの条件下で48.6%苛性ソーダ水溶
液 108.31g(1.316mol)を5時間かけて滴下する。この
間、温度は49℃に保ちながら、共沸するエピクロロヒド
リンと水を冷却液化し、有機層を反応系内に戻しながら
反応させた。反応終了後は、未反応のエピクロロヒドリ
ンを減圧濃縮により除去し、副生塩とジメチルスルホキ
シドを含むエポキシ化物をメチルイソブチルケトンに溶
解させ、副生塩とジメチルスルホキシドを温水洗浄によ
り除去した。減圧下で溶媒を除くことによりにより、エ
ポキシ樹脂 304.9g を得た。このようにして得られたエ
ポキシ樹脂のエポキシ当量は256 g/eqであった。赤外吸
収スペクトル測定の結果、フェノール性OHの吸収3200-3
600cm -1は消失し、エポキシドの吸収1240、910cm -1
吸収を有することが確認された。
Synthesis Example 1 This synthesis example relates to a method for producing a glycidyl ether of novolac of 2-t-butyl-5-methylphenol, which is a raw material of an epoxy resin used for the thermosetting resin composition of the copper-clad laminate of the present invention. It is. 2-t-butyl-5-
Methylphenol 2231.0 g (13.58 OHmol eq.), P-toluenesulfonic acid 12.9 g (0.068 mol), ion-exchanged water 22
3.2g was equipped with a thermometer, stirrer, cooling pipe and dropping pipe.
Charge into a 4-liter round bottom flask and heat to 100 ° C. After 218.4 g (2.715 mol) of 37% formalin was added dropwise over 2 hours, the reaction was carried out by keeping the temperature at 100 ° C. for 2 hours.
After that, it was cooled to 80 ° C and 27.7 g (0.069m
ol). The separated organic layer was washed twice with 700 g of ion-exchanged water. The organic layer after washing is concentrated under reduced pressure (180 ° C / 10
mmHg / 1 hour) to obtain 857.2 g of a resinous material. The OH equivalent of the obtained resinous material was 176.0 g / eq. 246.4 g (1.4 OH mol eq.) Of the reaction product obtained as described above, 906.5 g (9.8 mol) of epichlorohydrin, 45 dimethyl sulfoxide
3.3 g and 14.0 g of ion-exchanged water were charged into a 2 liter four-necked round bottom flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube equipped with a separation tube, and 108.31 g of a 48.6% aqueous sodium hydroxide solution (1.316 mol) is added dropwise over 5 hours. During this time, while maintaining the temperature at 49 ° C., azeotropic epichlorohydrin and water were cooled and liquefied, and the reaction was performed while returning the organic layer into the reaction system. After completion of the reaction, unreacted epichlorohydrin was removed by concentration under reduced pressure, an epoxidized product containing by-product salt and dimethyl sulfoxide was dissolved in methyl isobutyl ketone, and the by-product salt and dimethyl sulfoxide were removed by washing with warm water. By removing the solvent under reduced pressure, 304.9 g of an epoxy resin was obtained. The epoxy equivalent of the epoxy resin thus obtained was 256 g / eq. As a result of infrared absorption spectrum measurement, absorption of phenolic OH 3200-3
600 cm -1 disappeared and it was confirmed that the absorption of epoxide absorption 1240,910cm -1.

【0019】合成例2 本合成例は、合成例1で得られたエポキシ樹脂とテトラ
ブロモビスフェノールAのジグリシジルエーテル、およ
びテトラブロモビスフェノールAとの付加反応により、
末端エポキシ樹脂を得る方法に関するものである。合成
例1で得られたエポキシ樹脂 83.8 g 、テトラブロモビ
スフェノールAのジグリシジルエーテル(住友化学工業
(株)製、商品名スミエポキシESB-400、エポキシ当量4
03g/eq)75.5 g、テトラブロモビスフェノールA 17.5
g、メチルエチルケトン 15.9 gを、温度計、冷却管およ
び攪拌装置を付けた300 ml4つ口丸底フラスコに仕込
み、110℃で加熱溶融させた。その後、トリフェニルホ
スフィンの10%メチルエチルケトン溶液 0.71 g (ト
リフェニルホスフィンの対樹脂重量比 4×10-4)を加
え、110℃で4時間保持しエポキシ基とフェノール性水
酸基の付加反応を行った。反応後、系内を90℃まで冷却
しプロピレングリコールモノメチルエーテル63.5gを滴
下しながら加えて樹脂固形分70wt%の樹脂溶液250 gを得
た。得られた樹脂付加物のエポキシ当量は、固形分換算
で390.0 g/eq.であった。
Synthesis Example 2 In this synthesis example, an addition reaction of the epoxy resin obtained in Synthesis Example 1 with the diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A and tetrabromobisphenol A was carried out.
The present invention relates to a method for obtaining a terminal epoxy resin. 83.8 g of the epoxy resin obtained in Synthesis Example 1, diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name: Sumiepoxy ESB-400, epoxy equivalent: 4)
03g / eq) 75.5 g, tetrabromobisphenol A 17.5
g and 15.9 g of methyl ethyl ketone were charged into a 300 ml four-necked round-bottomed flask equipped with a thermometer, a condenser and a stirrer, and were heated and melted at 110 ° C. Thereafter, 0.71 g of a 10% solution of triphenylphosphine in methyl ethyl ketone (weight ratio of triphenylphosphine to resin: 4 × 10 −4 ) was added, and the mixture was kept at 110 ° C. for 4 hours to carry out an addition reaction between an epoxy group and a phenolic hydroxyl group. After the reaction, the system was cooled to 90 ° C., and 63.5 g of propylene glycol monomethyl ether was added dropwise to obtain 250 g of a resin solution having a resin solid content of 70 wt%. The epoxy equivalent of the obtained resin adduct was 390.0 g / eq. In terms of solid content.

【0020】合成例3 本合成例は、本発明の銅張り積層板の熱硬化性樹脂組成
物に用いるアリールエステル化合物の原料である多価フ
ェノール、2,4,4−トリメチル−2−(2,4−ジ
ヒドロキシフェニル)−7−ヒドロキシクロマン(CAS
No. 26505-28-2)の製法に関するものである。レゾルシ
ノール 1000.0g(9.1 mol)、p−トルエンスルホン酸 6.
9g(0.036 mol)、メタノール 330.0g、アセトン 176.0g
(3.0 mol)を温度計、攪拌装置、冷却管、滴下漏斗を付
けた5リットル4つ口丸底フラスコに仕込み、65℃に昇
温した。9時間65℃に保持した後、イオン交換水750gを
仕込み、40℃で3時間保持した後、析出した結晶を濾
過、洗浄した。得られた粗結晶は、メタノールに溶解し
た後イオン交換水を滴下して再結晶を行った。濾過、減
圧乾燥後の得量は 265gであった。1H-NMR、IRにより目
的物であることを確認した。
Synthesis Example 3 In this synthesis example, a polyhydric phenol, 2,4,4-trimethyl-2- (2), which is a raw material of an arylester compound used for the thermosetting resin composition of the copper-clad laminate of the present invention, is used. , 4-Dihydroxyphenyl) -7-hydroxychroman (CAS
No. 26505-28-2). Resorcinol 1000.0 g (9.1 mol), p-toluenesulfonic acid 6.
9 g (0.036 mol), methanol 330.0 g, acetone 176.0 g
(3.0 mol) was charged into a 5-liter 4-neck round bottom flask equipped with a thermometer, a stirrer, a condenser, and a dropping funnel, and the temperature was raised to 65 ° C. After maintaining at 65 ° C. for 9 hours, 750 g of ion-exchanged water was charged, and the mixture was maintained at 40 ° C. for 3 hours, and the precipitated crystals were filtered and washed. The obtained crude crystals were dissolved in methanol and then recrystallized by adding dropwise ion-exchanged water. The yield after filtration and drying under reduced pressure was 265 g. 1H-NMR and IR confirmed that it was the target compound.

【0021】合成例4 本合成例は、本発明の銅張り積層板の熱硬化性樹脂組成
物に用いるアリールエステル化合物の製法に関するもの
である。 冷却管、温度計、撹拌装置、滴下装置を付け
た2L4つ口フラスコに、合成例3で得られた、2,
4,4−トリメチル−2−(2,4−ジヒドロキシフェ
ニル)−7−ヒドロキシクロマン 70 g(0.7 moleq.)、
トリエチルアミン 77.8 g(0.77 moleq.)、MIBK(メチル
イソブチルケトン) 300.8 gを仕込み、70℃に昇温す
る。テレフタル酸ジクロリド 21.3 g(0.21 moleq.)をMI
BK 168.0 gに溶かしたスラリー液を30分で滴下した
後、無水酢酸57.1 g(0.56 moleq.)を1時間で滴下す
る。90℃に昇温して5時間保温した後、水洗して塩を除
去し、溶媒を減圧で除いて樹脂状固体 96.9 gを得る。 赤外吸収スペクトル:2970, 1760(酢酸エステルのカル
ボニル伸縮), 1740(テレフタル酸エステルのカルボニ
ル伸縮), 1605, 1580, 1490, 1410, 1365, 1240, 120
0, 1145, 1120, 1100, 1070, 1055, 1010, 900, 720 cm
-1OH伸縮振動による吸収はみられなかった。
Synthesis Example 4 This synthesis example relates to a method for producing an aryl ester compound used in the thermosetting resin composition of the copper-clad laminate of the present invention. The 2L four-necked flask equipped with a cooling tube, a thermometer, a stirrer, and a dropping device was charged with 2,2 obtained in Synthesis Example 3.
70 g (0.7 moleq.) Of 4,4-trimethyl-2- (2,4-dihydroxyphenyl) -7-hydroxychroman,
Charge 77.8 g (0.77 moleq.) Of triethylamine and 300.8 g of MIBK (methyl isobutyl ketone) and raise the temperature to 70 ° C. 21.3 g (0.21 moleq.) Of terephthalic dichloride was added to MI
After the slurry solution dissolved in 168.0 g of BK is dropped in 30 minutes, 57.1 g (0.56 moleq.) Of acetic anhydride is dropped in 1 hour. After raising the temperature to 90 ° C. and keeping it for 5 hours, it was washed with water to remove salts, and the solvent was removed under reduced pressure to obtain 96.9 g of a resinous solid. Infrared absorption spectrum: 2970, 1760 (carbonyl stretch of acetate), 1740 (carbonyl stretch of terephthalate), 1605, 1580, 1490, 1410, 1365, 1240, 120
0, 1145, 1120, 1100, 1070, 1055, 1010, 900, 720 cm
No absorption by -1OH stretching vibration was observed.

【0022】合成例5 本実施例は、本発明の銅張り積層板の熱硬化性樹脂組成
物に用いるエステル化合物の製法に関するものである。
冷却管、温度計、撹拌装置、滴下装置を付けた2L4つ
口フラスコに、合成例3で得られた、2,4,4−トリ
メチル−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−7−
ヒドロキシクロマン 70 g(0.7 moleq.)、トリエチルア
ミン 77.8 g(0.77 moleq.)、MIBK 189.0 gを仕込み、70
℃に昇温する。イソフタル酸ジクロリド 21.3 g(0.21 m
oleq.)をMIBK 190.0 gに溶かしたスラリー液を30分で
滴下した後、無水酢酸57.1 g(0.56 moleq.)を1時間で
滴下する。90℃に昇温して5時間保温した後、水洗して
塩を除去し、溶媒を減圧で除いて樹脂状固体73.2 gを得
る。 赤外吸収スペクトル:2970, 1765(酢酸エステルのカル
ボニル伸縮), 1740(shoulder)(イソフタル酸エステル
のカルボニル伸縮), 1610, 1585, 1495, 1420, 1375,
1300, 1210, 1145, 1125, 1055, 1015, 900, 755 cm -1
OH伸縮振動による吸収はみられなかった。
Synthesis Example 5 This example relates to a method for producing an ester compound used in the thermosetting resin composition of the copper-clad laminate of the present invention.
The 2,4,4-trimethyl-2- (2,4-dihydroxyphenyl) -7- obtained in Synthesis Example 3 was placed in a 2 L four-necked flask equipped with a cooling tube, a thermometer, a stirring device, and a dropping device.
Hydroxychroman 70 g (0.7 moleq.), Triethylamine 77.8 g (0.77 moleq.), MIBK 189.0 g were charged, and 70
Heat to ° C. Isophthalic dichloride 21.3 g (0.21 m
oleq.) in 190.0 g of MIBK is added dropwise over 30 minutes, and then 57.1 g (0.56 moleq.) of acetic anhydride is added dropwise over 1 hour. After elevating the temperature to 90 ° C. and keeping the temperature for 5 hours, it was washed with water to remove salts, and the solvent was removed under reduced pressure to obtain 73.2 g of a resinous solid. Infrared absorption spectrum: 2970, 1765 (carbonyl stretching of acetate ester), 1740 (shoulder) (carbonyl stretching of isophthalic ester), 1610, 1585, 1495, 1420, 1375,
1300, 1210, 1145, 1125, 1055, 1015, 900, 755 cm -1
No absorption by OH stretching vibration was observed.

【0023】実施例1〜4 本実施例は、本発明の銅張り積層板の熱硬化性樹脂組成
物を用いた銅張り積層板の作製例に関するものである。
表1中に記載の配合割合で配合した熱硬化性樹脂組成物
50gをMEKに溶解させ、樹脂含有率60%の均一な樹
脂ワニスとした。該ワニスをガラスクロス(商品名KS
−1600S962LP、鐘紡(株)製)に含浸し、1
60℃の熱風乾燥器で6分処理してプリプレグを得た。
プリプレグ5枚と銅箔(TSTO処理、35μm厚さ、
古河サーキットホイル(株)製)を重ね合わせ、170℃
で2時間熱プレスを行ない、1mm厚さの銅張り積層板
を得た。得られた銅張り積層板の物性を表1に示す。
Examples 1 to 4 This example relates to a production example of a copper-clad laminate using the thermosetting resin composition for a copper-clad laminate of the present invention.
Thermosetting resin composition blended in the blending ratio described in Table 1
50 g was dissolved in MEK to obtain a uniform resin varnish having a resin content of 60%. Place the varnish on a glass cloth (trade name KS)
1600S962LP, manufactured by Kanebo Co., Ltd.)
A prepreg was obtained by treating with a hot air dryer at 60 ° C. for 6 minutes.
5 prepregs and copper foil (TSTO treatment, 35 μm thickness,
Furukawa Circuit Wheel Co., Ltd.), 170 ℃
For 2 hours to obtain a copper-clad laminate having a thickness of 1 mm. Table 1 shows the physical properties of the obtained copper-clad laminate.

【0024】比較例1 表1中に記載の配合割合で配合した熱硬化性樹脂組成物
50gをDMF(ジメチルホルムアミド)に溶解させ、樹脂
含有率60%の均一な樹脂ワニスとした。この樹脂ワニ
スを加熱撹拌して90℃で2時間プレポリマー化を行っ
た。該ワニスをガラスクロス(商品名KS−1600S
962LP、鐘紡(株)製)に含浸し、150℃の熱風乾
燥器で6分処理してプリプレグを得た。プリプレグ5枚
と銅箔(TSTO処理、35μm厚さ、古河サーキット
ホイル(株)製)を重ね合わせ、160℃で2時間熱プレ
スを行ない、1mm厚さの銅張り積層板を得た。得られ
た銅張り積層板の物性を表1に示す。なお、表1におい
て、物性は次の方法で測定した。 ・ガラス転移温度(Tg):(株)島津製作所製熱機械
分析装置DT−30を用いて熱膨張曲線の変曲点から求
めた。 ・誘電率、誘電正接:(株)日本ヒューレットパッカー
ド社製インピーダンスアナライザー4291Aを用いて
測定した。 ・吸水率:サンプルを煮沸水中に48時間浸漬させた
後、その重量変化から算出した。 ・銅箔剥離強度は、JIS−C−6481に準じて測定
した。
Comparative Example 1 Thermosetting resin composition blended in the blending ratio shown in Table 1
50 g was dissolved in DMF (dimethylformamide) to obtain a uniform resin varnish having a resin content of 60%. The resin varnish was heated and stirred to perform prepolymerization at 90 ° C. for 2 hours. The varnish is applied to a glass cloth (trade name KS-1600S).
962 LP, manufactured by Kanebo Co., Ltd.) and treated with a hot-air dryer at 150 ° C. for 6 minutes to obtain a prepreg. Five prepregs and a copper foil (TSTO treatment, 35 μm thickness, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) were overlapped and hot pressed at 160 ° C. for 2 hours to obtain a 1 mm-thick copper-clad laminate. Table 1 shows the physical properties of the obtained copper-clad laminate. In Table 1, physical properties were measured by the following methods. -Glass transition temperature (Tg): It was determined from the inflection point of the thermal expansion curve using a thermomechanical analyzer DT-30 manufactured by Shimadzu Corporation. -Dielectric constant and dielectric loss tangent: Measured using an impedance analyzer 4291A manufactured by Hewlett-Packard Japan. Water absorption: The sample was immersed in boiling water for 48 hours, and then calculated from the change in weight. -Copper foil peeling strength was measured according to JIS-C-6481.

【0025】[0025]

【表1】 [Table 1]

【発明の効果】本発明の銅張り積層板は、従来のエポキ
シ樹脂を使って得た銅張り積層板の特性を損なうことな
く、特に耐熱性、低誘電率性、低誘電正接性等に優れて
おり、特に高速演算処理用あるいは高周波通信用の多層
プリント配線板用として好適である。
The copper-clad laminate of the present invention has excellent heat resistance, low dielectric constant, low dielectric loss tangent, etc., without deteriorating the characteristics of the copper-clad laminate obtained by using the conventional epoxy resin. It is particularly suitable for a multilayer printed wiring board for high-speed arithmetic processing or high-frequency communication.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(A)下記一般式(1) 【化1】 (式中、Pは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原
子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜10のシ
クロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、あるい
は炭素数7〜20のアラルキル基を表す。iは、0以上
2以下の整数値を表す。)で表されるレゾルシノール類
と、下記一般式(2) 【化2】 (式中、X、X'は、それぞれ独立に、水素原子あるいは
炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜10のシクロ
アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、あるいは炭
素数7〜20のアラルキル基を表すが、XとX'は、環を
形成していてもよい。)で表されるカルボニル化合物と
の縮合生成物である多価フェノールのOH基の少なくとも
1個が、炭素数1〜20を有する有機多酸あるいはその
誘導体を必ず含む、炭素数1〜20を有する有機酸ある
いはその誘導体でエステル化されたエステル化合物と、
(B)エポキシ樹脂と、(C)硬化触媒とを必須成分と
する熱硬化性樹脂組成物を用いて得られるプリプレグ
と、銅箔とを積層、加熱成形してなる銅張り積層板。
(A) The following general formula (1): (Wherein, P is independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or 7 to 7 carbon atoms) Represents an aralkyl group of 20. i represents an integer value of 0 or more and 2 or less), and a resorcinol represented by the following general formula (2): (In the formula, X and X ′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or 7 to 7 carbon atoms. And X and X ′ may form a ring. At least one of the OH groups of the polyhydric phenol which is a condensation product with the carbonyl compound represented by the formula An ester compound esterified with an organic acid having 1 to 20 carbon atoms or a derivative thereof, which necessarily contains an organic polyacid having 1 to 20 or a derivative thereof,
A copper-clad laminate obtained by laminating a copper foil and a prepreg obtained by using a thermosetting resin composition containing (B) an epoxy resin and (C) a curing catalyst as essential components, and heat molding.
【請求項2】(A)成分であるエステル化合物の原料と
なる多価フェノールが、下記一般式(3) 【化3】 (式中、nは、平均繰り返し数であり、1以上20以下
である。Pは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原
子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜10のシ
クロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、あるい
は炭素数7〜20のアラルキル基を表す。iは、0以上
2以下の整数値を表す。R1 、R2 、R3、R4 、R5
は、それぞれ独立に、水素原子あるいは炭素数1〜10
のアルキル基、炭素数5〜10のシクロアルキル基、炭
素数6〜20のアリール基、あるいは炭素数7〜20の
アラルキル基を表すが、R1 、R2 およびR4 とR
5 は、それぞれ独立に、環を形成していてもよい。)で
表される化合物である、請求項1に記載の銅張り積層
板。
2. The polyhydric phenol used as a raw material of the ester compound as the component (A) is represented by the following general formula (3). (In the formula, n is the average number of repetitions and is 1 or more and 20 or less. P is each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms. Represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, i represents an integer of 0 to 2. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5
Are each independently a hydrogen atom or a group having 1 to 10 carbon atoms.
An alkyl group, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, wherein R 1 , R 2 and R 4 and R 4
5 may each independently form a ring. The copper-clad laminate according to claim 1, which is a compound represented by the formula:
【請求項3】(A)成分を合成するのに用いられる炭素
数1〜20を有する有機酸あるいはその誘導体が、炭素
数1〜20を有する有機多酸あるいはその誘導体を10〜
50%含むものである、請求項1あるいは2に記載の銅張
り積層板。
3. The organic acid having 1 to 20 carbon atoms or a derivative thereof used for synthesizing the component (A) is an organic acid having 1 to 20 carbon atoms or a derivative thereof having 10 to 10 carbon atoms.
The copper-clad laminate according to claim 1 or 2, which contains 50%.
【請求項4】熱硬化性樹脂組成物が(A)、(B)、
(C)成分に加えて、(D)難燃剤を必須成分とするも
のである、請求項1、2あるいは3に記載の銅張り積層
板。
4. A thermosetting resin composition comprising (A), (B),
The copper-clad laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein (D) a flame retardant is an essential component in addition to the component (C).
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