JPH1067736A - Thiol compound, sulfur-containing o-(meth)acrylate compound and its use - Google Patents

Thiol compound, sulfur-containing o-(meth)acrylate compound and its use

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JPH1067736A
JPH1067736A JP9125886A JP12588697A JPH1067736A JP H1067736 A JPH1067736 A JP H1067736A JP 9125886 A JP9125886 A JP 9125886A JP 12588697 A JP12588697 A JP 12588697A JP H1067736 A JPH1067736 A JP H1067736A
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誠一 小林
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啓也 川内
Yoriyuki Suzuki
順行 鈴木
Masao Imai
雅夫 今井
Kenichi Fujii
謙一 藤井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new sulfur-containing O-(meth)acryalte compound being polymerized in a short time and useful for producing optical resins exhibiting good optical physical properties, especially having high refractive indexes and an excellent impact resistance and little in the generation of smells on their processing treatments. SOLUTION: A sulfur-containing O-(meth)acrylate compound of formula I [R is H, methyl; (1) is 1-3; B is methine, C(=O), NHC(=O); when B is the methine, (n) is 2, and (m) is 1, 2; A is a group of formula II, a group of formula III, etc.], e.g. bis(2-acryloyloxyethyl) dithioacetalbenzene of formula IV. The compound of formula I is obtained by converting a new thiol compound of formula V to a dithioacetal compound, a thioester compound or a thiourethane compound and subsequently removing a hydrogen halide from the compound. The compound of formula I is polymerized singly or copolymerized with a copolymerizable monomer or a polythiol to produce an optical resin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な含硫O−
(メタ)アクリレート化合物、および新規なチオール化
合物を、ジチオアセタール化、チオエステル化またはチ
オウレタン化した後、脱ハロゲン化水素化する含硫O−
(メタ)アクリレート化合物の製造方法、該化合物を含
有する光学樹脂用組成物、該組成物を重合させて得られ
る光学用樹脂および、に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel sulfur-containing O-
(Meth) acrylate compounds and novel thiol compounds are subjected to dithioacetalization, thioesterification or thiourethane formation and then dehydrohalogenated sulfur-containing O-
The present invention relates to a method for producing a (meth) acrylate compound, an optical resin composition containing the compound, an optical resin obtained by polymerizing the composition, and an optical resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラスチックレンズは、無機レンズに比
べ軽量で割れ難く、染色が可能なため近年、眼鏡レン
ズ、カメラレンズ等の光学素子に急速に普及してきてい
る。現在、これらの目的に広く用いられる樹脂として
は、ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)
(以下、D.A.C と称す)をラジカル重合させたものがあ
る。この樹脂は、耐衝撃性に優れていること、軽量であ
ること、染色性に優れていること、切削性および研磨性
等の加工性が良好であること等、種々の特徴を有してい
る。しかしながら、この樹脂は、屈折率nd が1.50
前後と低く、レンズの中心厚やコバ厚が厚くなってしま
い、より屈折率の高いレンズ用樹脂が望まれていた。
2. Description of the Related Art Plastic lenses are lighter and harder to break than inorganic lenses, and can be dyed. Therefore, plastic lenses have recently been rapidly used in optical elements such as spectacle lenses and camera lenses. Currently, resins widely used for these purposes include diethylene glycol bis (allyl carbonate)
(Hereinafter referred to as DAC) by radical polymerization. This resin has various characteristics such as being excellent in impact resistance, being lightweight, being excellent in dyeing properties, being excellent in workability such as cutting property and polishing property, and the like. . However, this resin has a refractive index n d of 1.50.
Since the center thickness and the edge thickness of the lens are large before and after, the resin for the lens having a higher refractive index has been desired.

【0003】D.A.C 樹脂よりも屈折率を高くしたものと
して、樹脂中に硫黄原子を導入した、ポリチオウレタン
樹脂(特開昭63−46213等)や含硫O−(メタ)
アクリレート樹脂(特開平1−128966、特開平3
−217412、特開平4−161410等)やチオ
(メタ)アクリレート樹脂(特開昭63−18866
0、特公平3−59060等)が知られている。ポリチ
オウレタン樹脂は、高屈折率で耐衝撃性が良好である
等、バランスの優れた樹脂であるものの、短時間で重合
させようとすると、重合が不均一になりやすく、光学的
に均質なレンズを得るには重合時間を長くする必要があ
った。さらに、樹脂を切削研磨して加工する際には、作
業時に硫黄臭がすることもあった。
As a resin having a higher refractive index than that of a DAC resin, a polythiourethane resin (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-46213) or a sulfur-containing O- (meth)
Acrylate resin (JP-A-1-128966, JP-A-3
217412, JP-A-4-161410 and thio (meth) acrylate resins (JP-A-63-18866).
0, Japanese Patent Publication No. 3-59060, etc.). Polythiourethane resin is a well-balanced resin, such as high refractive index and good impact resistance.However, if it is attempted to polymerize in a short time, the polymerization tends to be non-uniform and optically homogeneous. To obtain a lens, it was necessary to lengthen the polymerization time. Further, when the resin is cut and polished for processing, there is a case where a sulfur odor sometimes occurs during the work.

【0004】含硫O−(メタ)アクリレート樹脂やチオ
(メタ)アクリレート樹脂は、紫外線等で短時間で重合
させることも可能であるが、一般に、得られる樹脂の強
度、耐衝撃性が充分なものとはいえず、脆くて割れやす
い樹脂になることがあった。特に近年では、眼鏡レンズ
に広く利用されているツーポイント加工に適した加工強
度を有することがもとめられ、また眼鏡レンズの中心厚
は小さくなる傾向にあり、より大きな強度、耐衝撃性を
有する樹脂が望まれていた。さらに、チオ(メタ)アク
リレート化合物の安定性が低く、ゲル化が起こったり、
また重合が暴走しやすく、制御しにくい等、作業性が煩
雑になることがあった。このため、これらの問題点を解
決すべくさらなる改良が望まれていた。
[0004] Sulfur-containing O- (meth) acrylate resins and thio (meth) acrylate resins can be polymerized in a short time by ultraviolet rays or the like, but generally the obtained resin has sufficient strength and impact resistance. In some cases, the resin was brittle and easily broken. Particularly in recent years, it has been required to have a processing strength suitable for two-point processing widely used for spectacle lenses, and the center thickness of the spectacle lens tends to be small, and a resin having higher strength and impact resistance Was desired. Furthermore, the stability of the thio (meth) acrylate compound is low, causing gelation,
Further, the workability may be complicated, for example, the polymerization may easily run away and the control may be difficult. Therefore, further improvement has been desired to solve these problems.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、短時
間重合が可能で、良好な光学物性、特に高い屈折率をも
ち、耐衝撃性に非常に優れ、かつ、加工時に臭気の少な
い光学用樹脂を与え、ハンドリング性に優れた光学樹脂
用組成物を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an optical system which can be polymerized in a short time, has good optical properties, especially has a high refractive index, has excellent impact resistance, and has a low odor during processing. An object of the present invention is to provide an optical resin composition having excellent handling properties.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述の課
題を解決するために、鋭意検討した結果、ある種の含硫
O−(メタ)アクリレート化合物が有効であることを見
出し、本発明を完成するに至ったものである。即ち、本
発明は、下記式(1)(化11)で表される含硫O−
(メタ)アクリレート化合物に関するものである。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that certain sulfur-containing O- (meth) acrylate compounds are effective. The invention has been completed. That is, the present invention provides a sulfur-containing O-form represented by the following formula (1) (Formula 11).
It relates to a (meth) acrylate compound.

【0007】[0007]

【化11】 〔式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、lは1〜
3の整数を示し、Bはメチン基、−C(=O)−基また
は−NHC(=O)−基を表し、Bがメチン基の場合
は、nは2であり、mは1又は2であり、Aは下記式
(化12)で表されるいずれかの基を表し、
Embedded image [Wherein, R represents a hydrogen atom or a methyl group;
3 represents an integer, B represents a methine group, a —C (= O) — group or a —NHC (= O) — group, and when B is a methine group, n is 2 and m is 1 or 2 And A represents any group represented by the following formula (Formula 12);

【0008】[0008]

【化12】 (上式中、mは1又は2を示し、各環は1個以上の炭素
数1又は2のアルキル基、アルキルチオ基またはアルコ
キシ基で置換されていてもよく、p、qは0又は1を表
す。但し、pが1の時、mは1である。) Bが−C(=O)−基の場合、nは1であり、mは2ま
たは3であり、Aは下記式(化13)で表されるいずれ
かの基を表し、
Embedded image (In the above formula, m represents 1 or 2, and each ring may be substituted with one or more alkyl, alkylthio, or alkoxy groups having 1 or 2 carbon atoms, and p and q represent 0 or 1. Where, when p is 1, m is 1.) When B is a —C (= O) — group, n is 1, m is 2 or 3, and A is a compound represented by the following formula: 13) represents any group represented by

【0009】[0009]

【化13】 (式中、r、sは1〜3の整数を表す) Bが−NHC(=O)−基の場合、nは1であり、mは
2であり、Aは下記式(化14)で表されるいずれかの
Embedded image (Wherein, r and s represent an integer of 1 to 3) When B is a —NHC (= O) — group, n is 1, m is 2, and A is the following formula (Formula 14) Any group represented

【0010】[0010]

【化14】 (式中、r、sは1〜3の整数を表す)を表す。〕 また、本発明は、下記式(2)(化15)で表されるチ
オール化合物を、分子内に少なくとも1つのアルデヒド
基を有する化合物を用いてジチオアセタール化した後、
分子内に少なくとも2つのカルボキシル基を有する化合
物を用いてチオエステル化した後、または、分子内に2
つのイソシアナート基を有する化合物を用いてチオウレ
タン化した後、脱ハロゲン化水素化することを特徴とす
る前記式(1)の含硫O−(メタ)アクリレート化合物
の製造方法に関するものである。
Embedded image (Wherein, r and s represent an integer of 1 to 3). In addition, the present invention provides a method for dithioacetalizing a thiol compound represented by the following formula (2) using a compound having at least one aldehyde group in the molecule,
After thioesterification using a compound having at least two carboxyl groups in the molecule, or
The present invention relates to a process for producing a sulfur-containing O- (meth) acrylate compound of the above formula (1), which comprises subjecting a compound having two isocyanate groups to thiourethanization and then dehydrohalogenation.

【0011】[0011]

【化15】 (式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、Rは水素
原子またはメチル基を表し、lは1〜3の整数を表す) さらにまた、本発明は、前記の含硫O−(メタ)アクリ
レート化合物を含有する光学樹脂用組成物、該組成物を
重合させて得られる含硫樹脂、および、該樹脂からなる
レンズに関するものである。また、前記式(2)の化合
物も新規なものであり、前記式(1)の含硫O−(メ
タ)アクリレート化合物の中間体として本発明に包含さ
れる。
Embedded image (In the formula, X represents a chlorine atom or a bromine atom, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and l represents an integer of 1 to 3.) Further, the present invention provides the above sulfur-containing O- (meth) The present invention relates to a composition for an optical resin containing an acrylate compound, a sulfur-containing resin obtained by polymerizing the composition, and a lens made of the resin. Further, the compound of the formula (2) is also novel and is included in the present invention as an intermediate of the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound of the formula (1).

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の式(1)で表される含硫O−(メタ)アクリレ
ート化合物は、前記式(2)で表されるチオール化合物
を用いて製造することができる。すなわち、メルカプト
基と反応しうる官能基を有する化合物、例えば、アルデ
ヒド類、カルボン酸類、イソシアネート類と、ジチオア
セタール化、チオエステル化またはチオウレタン化した
後、さらに脱ハロゲン化水素化して得ることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The sulfur-containing O- (meth) acrylate compound represented by the formula (1) of the present invention can be produced using the thiol compound represented by the formula (2). That is, a compound having a functional group capable of reacting with a mercapto group, such as aldehydes, carboxylic acids, and isocyanates, can be obtained by dithioacetalization, thioesterification, or thiourethane formation, and further dehydrohalogenation. .

【0013】本発明の式(2)で表されるチオール化合
物は、以下の方法によって得ることができる。すなわ
ち、2−メルカプトエタノール、3−メルカプトプロパ
ノール等と、3−クロロプロピオン酸、3−ブロモプロ
ピオン酸、または3−クロロ−2−メチルプロピオン
酸、3−ブロモ−2−メチルプロピオン酸等から、溶媒
中で、p−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸等の触媒の
存在下で、10〜200℃に加熱し、生成する水を除去
しながら脱水エステル化させて得ることができる。ま
た、原料となる2−メルカプトエタノール、3−メルカ
プトプロパノール等の安定性を考慮し、反応系内をあま
り加熱しないで、20〜400mmHgの減圧下で脱水エ
ステル化を行うことによっても得ることができる。
The thiol compound represented by the formula (2) of the present invention can be obtained by the following method. That is, a solvent is formed from 2-mercaptoethanol, 3-mercaptopropanol, or the like and 3-chloropropionic acid, 3-bromopropionic acid, or 3-chloro-2-methylpropionic acid, 3-bromo-2-methylpropionic acid, or the like. In the presence of a catalyst such as p-toluenesulfonic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, etc., it can be obtained by heating to 10 to 200 ° C. and performing dehydration esterification while removing generated water. In addition, in consideration of the stability of 2-mercaptoethanol, 3-mercaptopropanol and the like as raw materials, it can be obtained by performing dehydration esterification under reduced pressure of 20 to 400 mmHg without heating the reaction system much. .

【0014】本発明のチオール化合物を利用することに
より、容易に分子内に硫黄原子を導入することができ、
得られる化合物の屈折率をさらに向上させることが可能
となる。また、本発明のチオール化合物は、有するメル
カプト基を反応させた後には、脱ハロゲン化水素化する
事により、O−(メタ)アクリレート化合物へ誘導で
き、メルカプト基と反応しうる官能基を有する化合物、
例えば、アルデヒド類、カルボン酸類、イソシアネート
類から、容易に、しかも高純度で、所望の含硫O−(メ
タ)アクリレート化合物へと導くことが可能である。
By utilizing the thiol compound of the present invention, a sulfur atom can be easily introduced into a molecule,
It is possible to further improve the refractive index of the obtained compound. In addition, the thiol compound of the present invention is a compound having a functional group that can be derived to an O- (meth) acrylate compound by reacting with a mercapto group and then dehydrohalogenating to react with the mercapto group. ,
For example, a desired sulfur-containing O- (meth) acrylate compound can be easily and highly purified from aldehydes, carboxylic acids, and isocyanates.

【0015】本発明の式(1)で表される含硫O−(メ
タ)アクリレート化合物の内、Bがメチン基の場合は、
分子内に少なくとも1つのアルデヒド基を有する化合物
と、上記式(2)のチオール化合物とから次の2段階の
方法で製造できる。まず、少なくとも1つのアルデヒド
基を有する化合物と上記のチオール化合物とを、溶媒中
で、p−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸等の触媒の存
在下で、10〜200℃に加熱し、生成する水を除去し
ながら、脱水ジチオアセタール化させる。ついで、塩基
を、−20℃〜60℃で反応させ、脱ハロゲン化水素に
より(メタ)アクリル化する方法によって製造される。
この後段の(メタ)アクリル化反応で用いるハロゲン水
素補足剤としての塩基は特に限定されないが、一般に使
用される塩基として、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン等のトリアルキルアミンや、ピリジン、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等が挙げられる。
In the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound represented by the formula (1) of the present invention, when B is a methine group,
It can be produced from the compound having at least one aldehyde group in the molecule and the thiol compound of the above formula (2) by the following two-stage method. First, a compound having at least one aldehyde group and the above thiol compound are heated to 10 to 200 ° C. in a solvent in the presence of a catalyst such as p-toluenesulfonic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and the like. While removing the dithioacetal. Then, the base is reacted at −20 ° C. to 60 ° C., and is produced by a method of (meth) acrylation by dehydrohalogenation.
The base used as a halogen-hydrogen scavenger used in the subsequent (meth) acrylation reaction is not particularly limited. Examples of a commonly used base include trialkylamines such as trimethylamine and triethylamine, pyridine, sodium hydroxide, and potassium hydroxide. And the like.

【0016】分子内に少なくとも1つのアルデヒド基を
有する化合物は、容易に入手可能なアルデヒド化合物、
以下の構造を有する化合物(化16)が挙げられる。
Compounds having at least one aldehyde group in the molecule include readily available aldehyde compounds,
A compound having the following structure (Formula 16) is exemplified.

【0017】[0017]

【化16】 (上式中、mは1又は2を示し、各環は1個以上の炭素
数1又は2のアルキル基またはアルコキシ基で置換され
ていてもよく、p、qは0又は1を表す。但し、pが1
の時、mは1である。)
Embedded image (In the above formula, m represents 1 or 2, each ring may be substituted by one or more alkyl or alkoxy groups having 1 or 2 carbon atoms, and p and q represent 0 or 1. , P is 1
At the time, m is 1. )

【0018】具体的には、ベンズアルデヒド、2−メチ
ルベンズアルデヒド、3−メチルベンズアルデヒド、4
−エチルベンズアルデヒド、2,4−ジメチルベンズア
ルデヒド、2,5−ジメチルベンズアルデヒド、3,4
−ジメチルベンズアルデヒド、2,4,5−トリメチル
ベンズアルデヒド、2,4,6−トリメチルベンズアル
デヒド、2−メトキシベンズアルデヒド、3−メトキシ
ベンズアルデヒド、4−メトキシベンズアルデヒド、
2,3−ジメトキシベンズアルデヒド、2,4−ジメト
キシベンズアルデヒド、2,5−ジメトキシベンズアル
デヒド、3,4−ジメトキシベンズアルデヒド、3,5
−ジメトキシベンズアルデヒド、2−エトキシベンズア
ルデヒド、3−エトキシベンズアルデヒド、4−エトキ
シベンズアルデヒド、フタルアルデヒド、イソフタルア
ルデヒド、テレフタルアルデヒド、2−メチルチオベン
ズアルデヒド、4−メチルチオベンズアルデヒド、4−
メチルチオメチルベンズアルデヒド、フェニルアセトア
ルデヒド、2−チオフェンアルデヒド、3−チオフェン
アルデヒド、3−メチル−2−チオフェンアルデヒド、
4−メチル−2−チオフェンアルデヒド、5−メチル−
2−チオフェンアルデヒド、5−エチル−2−チオフェ
ンアルデヒド、5−メチルチオチオフェン−2−アルデ
ヒド、2,3−チオフェンジアルデヒド、2,5−チオ
フェンジアルデヒド、1−ナフトアルデヒド、2−ナフ
トアルデヒド、1,2−ナフタレンジアルデヒド、2,
3−ナフタレンジアルデヒド等を使用することができ
る。本発明の式(1)で表される含硫O−(メタ)アク
リレート化合物は、主鎖の構造が同一になるため、分子
内の架橋点間距離がほぼ同じであり、得られる樹脂の熱
物性、機械物性などを余り変化させずに、母骨格となる
アルデヒド化合物を変えることにより、光学物性の異な
る樹脂を選択することが可能となる。
Specifically, benzaldehyde, 2-methylbenzaldehyde, 3-methylbenzaldehyde, 4
-Ethylbenzaldehyde, 2,4-dimethylbenzaldehyde, 2,5-dimethylbenzaldehyde, 3,4
-Dimethylbenzaldehyde, 2,4,5-trimethylbenzaldehyde, 2,4,6-trimethylbenzaldehyde, 2-methoxybenzaldehyde, 3-methoxybenzaldehyde, 4-methoxybenzaldehyde,
2,3-dimethoxybenzaldehyde, 2,4-dimethoxybenzaldehyde, 2,5-dimethoxybenzaldehyde, 3,4-dimethoxybenzaldehyde, 3,5
-Dimethoxybenzaldehyde, 2-ethoxybenzaldehyde, 3-ethoxybenzaldehyde, 4-ethoxybenzaldehyde, phthalaldehyde, isophthalaldehyde, terephthalaldehyde, 2-methylthiobenzaldehyde, 4-methylthiobenzaldehyde, 4-
Methylthiomethylbenzaldehyde, phenylacetaldehyde, 2-thiophenaldehyde, 3-thiophenaldehyde, 3-methyl-2-thiophenaldehyde,
4-methyl-2-thiophenaldehyde, 5-methyl-
2-thiophenaldehyde, 5-ethyl-2-thiophenaldehyde, 5-methylthiothiophen-2-aldehyde, 2,3-thiophendialdehyde, 2,5-thiophendialdehyde, 1-naphthaldehyde, 2-naphthaldehyde, 1 , 2-Naphthalenedialdehyde, 2,
For example, 3-naphthalenedialdehyde can be used. Since the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound represented by the formula (1) of the present invention has the same main chain structure, the distance between crosslinking points in the molecule is almost the same, and the heat of the obtained resin is By changing the aldehyde compound serving as the mother skeleton without significantly changing the physical properties, mechanical properties, and the like, it becomes possible to select resins having different optical properties.

【0019】同様にして、本発明の式(1)で表される
含硫O−(メタ)アクリレート化合物の内、Bが−C
(=O)−基である場合は、分子内に少なくとも2つの
カルボキシル基を有する含硫カルボン酸化合物と、上記
式(2)のチオール化合物とから、チオエステル化、脱
ハロゲン化水素化の2段階の方法で製造できる。さら
に、本発明の式(1)で表される含硫O−(メタ)アク
リレート化合物の内、Bが−NHC(=O)−基である
場合は、分子内に2つのイソシアネート基を有する化合
物と、上記式(2)のチオール化合物とから、チオウレ
タン化、脱ハロゲン化水素化の2段階の方法で製造でき
る。
Similarly, in the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound represented by the formula (1) of the present invention, B is -C
When it is a (= O) — group, two steps of thioesterification and dehalogenation from a sulfur-containing carboxylic acid compound having at least two carboxyl groups in the molecule and the thiol compound of the above formula (2). It can be manufactured by the method of. Further, among the sulfur-containing O- (meth) acrylate compounds represented by the formula (1) of the present invention, when B is a —NHC (= O) — group, a compound having two isocyanate groups in the molecule And a thiol compound of the above formula (2) by a two-stage method of thiourethane formation and dehydrohalogenation.

【0020】Bが−C(=O)−基であるとき、含硫O
−(メタ)アクリレート化合物を得るための、母骨格と
なる含硫カルボン酸は、容易に入手可能な含硫カルボン
酸であり、下記構造式(化17)で表される化合物であ
る。
When B is a —C (= O) — group, the sulfur-containing O
The sulfur-containing carboxylic acid serving as the mother skeleton for obtaining the-(meth) acrylate compound is a sulfur-containing carboxylic acid that can be easily obtained, and is a compound represented by the following structural formula (Formula 17).

【0021】[0021]

【化17】 (上式中、r、sはそれぞれ1〜3の整数を表す。)Embedded image (In the above formula, r and s each represent an integer of 1 to 3.)

【0022】具体的には、チオジグリコール酸、チオジ
プロピオン酸、4,4−チオジブタン酸、ジチオジグリ
コール酸、ジチオジプロピオン酸、4,4−ジチオジブ
タン酸、メチレンビス(チオグリコール酸)、メチレン
ビス(チオプロピオン酸)、メチレンビス(チオブタン
酸)、エチレンビス(チオグリコール酸)、エチレンビ
ス(チオプロピオン酸)、エチレンビス(チオブタン
酸)、メチントリス(チオグリコール酸)、メチントリ
ス(チオプロピオン酸)、メチントリス(チオブタン
酸)等を使用することができる。これらの含硫O−(メ
タ)アクリレート化合物は、分子内にエステル結合を多
く含んでいるため、親水性が増し、レンズにした場合に
は、染色性の向上が期待できる。
Specifically, thiodiglycolic acid, thiodipropionic acid, 4,4-thiodibutanoic acid, dithiodiglycolic acid, dithiodipropionic acid, 4,4-dithiodibutanoic acid, methylene bis (thioglycolic acid), methylene bis (Thiopropionic acid), methylene bis (thiobutanoic acid), ethylene bis (thioglycolic acid), ethylene bis (thiopropionic acid), ethylene bis (thiobutanoic acid), methine tris (thioglycolic acid), methine tris (thiopropionic acid), methine tris (Thiobutanoic acid) and the like can be used. Since these sulfur-containing O- (meth) acrylate compounds contain a large number of ester bonds in the molecule, the hydrophilicity is increased, and when a lens is used, an improvement in dyeability can be expected.

【0023】また、Bが−NHC(=O)−基であると
き、含硫O−(メタ)アクリレート化合物を得るため
の、母骨格となるイソシアネート化合物は、下記式(化
18)で表される化合物である。
When B is a —NHC (= O) — group, an isocyanate compound serving as a mother skeleton for obtaining a sulfur-containing O- (meth) acrylate compound is represented by the following formula (Formula 18). Compound.

【0024】[0024]

【化18】 (上式中、r、sはそれぞれ1〜3の整数を表す。)Embedded image (In the above formula, r and s each represent an integer of 1 to 3.)

【0025】具体的には、ジイソシアネートメチルスル
フィド、ジイソシアネートエチルスルフィド、ジイソシ
アネートプロピルスルフィド、ジイソシアネートメチル
ジスルフィド、ジイソシアネートエチルジスルフィド、
ジイソシアネートプロピルジスルフィド、ビス(イソシ
アネートメチルチオ)メタン、ビス(イソシアネートエ
チルチオ)メタン、ビス(イソシアネートプロピルルチ
オ)メタン等が挙げられる。これらの含硫O−(メタ)
アクリレート化合物は、分子内にチオウレタン結合を有
し、屈折率の向上、耐衝撃性などの樹脂強度のさらなる
向上が期待できる。
Specifically, diisocyanate methyl sulfide, diisocyanate ethyl sulfide, diisocyanate propyl sulfide, diisocyanate methyl disulfide, diisocyanate ethyl disulfide,
Examples thereof include diisocyanatepropyl disulfide, bis (isocyanatomethylthio) methane, bis (isocyanatoethylthio) methane, and bis (isocyanatopropyllthio) methane. These sulfur-containing O- (meta)
The acrylate compound has a thiourethane bond in the molecule, and can be expected to improve the refractive index and further improve the resin strength such as impact resistance.

【0026】これらの反応においては、必要に応じて、
有機溶媒を用いてもよい。使用される有機溶媒は、特に
限定されないが、反応に必要な原料類との反応性を有し
ていないものが使用できる。有機溶媒としては、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタ
ン、石油エーテル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化
エチレン等の脂肪族または芳香族炭化水素類、あるいは
ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン等のケトン類、N,N−ジメチルホル
ムアミド等が挙げられる。使用する有機溶媒の種類は、
使用する原料、反応の種類等により、適宜決められる。
これらのチオール化合物、アルデヒド化合物、含硫カル
ボン酸化合物およびイソシアネート化合物は、必要に応
じて蒸留などの精製処理を行うこともできる。
In these reactions, if necessary,
An organic solvent may be used. The organic solvent used is not particularly limited, but those having no reactivity with the raw materials necessary for the reaction can be used. As the organic solvent, for example, benzene, toluene, xylene, hexane, heptane, petroleum ether, chloroform, methylene chloride, aliphatic or aromatic hydrocarbons such as ethylene chloride, or halogenated hydrocarbons, diethyl ether, dioxane, Ethers such as tetrahydrofuran; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; and N, N-dimethylformamide. The type of organic solvent used
It is appropriately determined depending on the starting materials used, the type of reaction, and the like.
These thiol compounds, aldehyde compounds, sulfur-containing carboxylic acid compounds and isocyanate compounds can be subjected to purification treatment such as distillation if necessary.

【0027】これらの方法によって得られる本発明の含
硫O−(メタ)アクリレート化合物は、チオ(メタ)ア
クリレート化合物と比べると、モノマーとしての安定性
が向上しており、ゲル化などが比較的起こりにくく、そ
の取り扱いが容易である。
The sulfur-containing O- (meth) acrylate compound of the present invention obtained by these methods has improved stability as a monomer as compared with a thio (meth) acrylate compound, and has relatively low gelation. Less likely to occur and easy to handle.

【0028】本発明の光学樹脂用組成物は、本発明の含
硫O−(メタ)アクリレート化合物を含有するものであ
り、また、本発明の含硫O−(メタ)アクリレート化合
物、および、これと共重合可能な単量体あるいはポリチ
オール化合物の少なくとも1種とを含有するものであ
る。他の単量体あるいはポリチオール化合物を含有する
組成物の場合、本発明の含硫O−(メタ)アクリレート
化合物は、含硫O−(メタ)アクリレート化合物と、他
の単量体あるいはポリチオール化合物の全量に対し、2
0重量%以上、好ましくは40重量%以上、より好まし
くは60重量%以上である。
The composition for an optical resin of the present invention contains the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound of the present invention, and further comprises the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound of the present invention, and And at least one copolymerizable monomer or polythiol compound. In the case of a composition containing another monomer or polythiol compound, the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound of the present invention is obtained by mixing the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound with another monomer or polythiol compound. 2 for all
It is at least 0% by weight, preferably at least 40% by weight, more preferably at least 60% by weight.

【0029】本発明の含硫(メタ)アクリレート化合物
と共重合可能な単量体あるいはポリチオール化合物は、
屈折率等の光学物性の調整や、耐衝撃性、比重等の諸物
性を調整するためや、モノマーの粘度、その他の取扱い
を調整するためなど、目的に応じて選択され、特に限定
はされない。また、これらの共重合可能な単量体あるい
はポリチオール化合物は、単独で使用することも、また
は、2種以上を混合して使用する事もできる。
The monomer or polythiol compound copolymerizable with the sulfur-containing (meth) acrylate compound of the present invention comprises:
It is selected according to the purpose, such as adjustment of optical properties such as refractive index, adjustment of various properties such as impact resistance and specific gravity, and adjustment of viscosity and other handling of monomers, and is not particularly limited. These copolymerizable monomers or polythiol compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0030】共重合可能な単量体としては、例えば、ベ
ンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ブチキ
シエチルアクリレート、ブトキシメチルメタクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシメチルメタクリレート、グリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレート、フェノキシエチルア
クリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェニ
ルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレン
グリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラ
エチレングリコールジアクリレート、テトラエチレング
リコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペン
チルグリコールジメタクリレート、エチレングリコール
ビスグリシジルアクリレート、エチレングリコールビス
グリシジルメタクリレート、ビスフェノールAジアクリ
レート、ビスフェノールAジメタクリレート、2,2−
ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−メタクリロキシエトキシフェニル)
プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキシジエトキシ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキ
シジエトキシフェニル)プロパン、ビスフェノールFジ
アクリレート、ビスフェノールFジメタクリレート、
1,1−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)メ
タン、1,1−ビス(4−メタクリロキシエトキシフェ
ニル)メタン、1,1−ビス(4−アクリロキシジエト
キシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−メタクリロ
キシジエトキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−
アクリロキシエトキシフェニル)スルホン、1,1−ビ
ス(4−メタクリロキシエトキシフェニル)スルホン、
1,1−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)
スルホン、1,1−ビス(4−メタクリロキシジエトキ
シフェニル)スルホン、ジメチロールトリシクロデカン
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グ
リセロールジアクリレート、グリセロールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、メチルチオアクリレート、
メチルチオメタクリレート、フェニルチオアクリレー
ト、ベンジルチオメタクリレート、キシリレンジチオー
ルジアクリレート、キシリレンジチオールジメタクリレ
ート、メルカプトエチルスルフィドジアクリレート、メ
ルカプトエチルスルフィドジメタクリレート等の(メ
タ)アクリレート化合物、アリルグリシジルエーテル、
ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリ
ルイソフタレート、ジアリルカーボネート、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート等のアリル化合物、
スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ブロモス
チレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、3,9
−ジビニルスピロビ(m−ジオキサン)等のビニル化合
物、ジイソプロペニルベンゼン等が挙げられる。
Examples of the copolymerizable monomer include benzyl acrylate, benzyl methacrylate, butoxyethyl acrylate, butoxymethyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate,
Hydroxymethyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxyethyl methacrylate, phenyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, ethylene glycol bisglycidyl acrylic Over DOO, ethylene glycol bisglycidyl methacrylate, bisphenol A diacrylate, bisphenol A dimethacrylate, 2,2
Bis (4-acryloxyethoxyphenyl) propane,
2,2-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl)
Propane, 2,2-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) propane, bisphenol F diacrylate, bisphenol F dimethacrylate,
1,1-bis (4-acryloxyethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) methane, 1,1- Bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-
Acryloxyethoxyphenyl) sulfone, 1,1-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) sulfone,
1,1-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl)
Sulfone, 1,1-bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) sulfone, dimethylol tricyclodecane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, glycerol diacrylate, glycerol dimethacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, methylthioacrylate,
(Meth) acrylate compounds such as methylthiomethacrylate, phenylthioacrylate, benzylthiomethacrylate, xylylenedithiol diacrylate, xylylenedithiol dimethacrylate, mercaptoethyl sulfide diacrylate, mercaptoethyl sulfide dimethacrylate, allyl glycidyl ether,
Diallyl phthalate, diallyl terephthalate, diallyl isophthalate, diallyl carbonate, allyl compounds such as diethylene glycol bisallyl carbonate,
Styrene, chlorostyrene, methylstyrene, bromostyrene, dibromostyrene, divinylbenzene, 3,9
-Vinyl compounds such as divinylspirobi (m-dioxane), diisopropenylbenzene and the like.

【0031】ポリチオール化合物としては、1,2−エ
タンジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,
2,3−プロパントリチオール、2,3−ジメルカプト
−1−プロパノール、ジエチレングリコールビス(2−
メルカプトアセテート)、ジエチレングリコールビス
(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプ
ロパンビス(2−メルカプトアセテート)、トリメチロ
ールプロパンビス(3−メルカプトプロピオネート)、
ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトアセ
テート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メル
カプトプロピオネート)、1,2−ジメルカプトベンゼ
ン、1,3−ジメルカプトベンゼン、1,4−ジメルカ
プトベンゼン、1,2−ビス(メルカプトメチル)ベン
ゼン、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、
1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,
3−トリメルカプトベンゼン、1,2,4−トリメルカ
プトベンゼン、1,3,5−トリメルカプトベンゼン、
1,2,3−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、
1,2,4−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、
1,3,5−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、
4,4’−チオビスベンゼンチオール、ビス(2−メル
カプトエチル)スルフィド、ビス(2−メルカプトエチ
ルチオ)メタン、1,2−ビス(2−メルカプトエチル
チオ)エタン、1,3−ビス(2−メルカプトエチルチ
オ)プロパン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエ
チルチオ)プロパン、テトラキス(2−メルカプトエチ
ルチオメチル)メタン、1,2−ビス(2−メルカプト
エチルチオ)−3−メルカプトプロパン、4,8−ビス
(メルカプトメチル)−3,6,9−トリチア−1,1
1−ウンデカンジチオール、2,5−ジメルカプト−
1,4−ジチアン、2,5−ジメルカプトメチル−1,
4−ジチアン、2,5−ジメルカプトメチル−2,5−
ジメチル−1,4−ジチアン等が挙げられる。共重合可
能な単量体として、式(3)(化19)で表される化合
物が好ましく用いられる。
Examples of the polythiol compound include 1,2-ethanedithiol, 1,3-propanedithiol,
2,3-propanetrithiol, 2,3-dimercapto-1-propanol, diethylene glycol bis (2-
Mercaptoacetate), diethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), trimethylolpropanebis (2-mercaptoacetate), trimethylolpropanebis (3-mercaptopropionate),
Pentaerythritol tetrakis (2-mercaptoacetate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), 1,2-dimercaptobenzene, 1,3-dimercaptobenzene, 1,4-dimercaptobenzene, 1,2- Bis (mercaptomethyl) benzene, 1,3-bis (mercaptomethyl) benzene,
1,4-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,2,2
3-trimercaptobenzene, 1,2,4-trimercaptobenzene, 1,3,5-trimercaptobenzene,
1,2,3-tris (mercaptomethyl) benzene,
1,2,4-tris (mercaptomethyl) benzene,
1,3,5-tris (mercaptomethyl) benzene,
4,4'-thiobisbenzenethiol, bis (2-mercaptoethylthio) methane, bis (2-mercaptoethylthio) methane, 1,2-bis (2-mercaptoethylthio) ethane, 1,3-bis (2 -Mercaptoethylthio) propane, 1,2,3-tris (2-mercaptoethylthio) propane, tetrakis (2-mercaptoethylthiomethyl) methane, 1,2-bis (2-mercaptoethylthio) -3-mercapto Propane, 4,8-bis (mercaptomethyl) -3,6,9-trithia-1,1
1-undecanedithiol, 2,5-dimercapto-
1,4-dithiane, 2,5-dimercaptomethyl-1,
4-dithiane, 2,5-dimercaptomethyl-2,5-
Dimethyl-1,4-dithiane and the like. As the copolymerizable monomer, a compound represented by the formula (3) (Formula 19) is preferably used.

【0032】[0032]

【化19】 〔式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、t、uは
0〜4の整数を表し、Eは、−CH2 −、−C(C
3 2 −、−S−、−SO2 −を表す。〕
Embedded image [Wherein, R represents a hydrogen atom or a methyl group, t, u represents an integer of 0 to 4, E is, -CH 2 -, - C ( C
H 3 ) 2 —, —S—, and —SO 2 —. ]

【0033】本発明の光学用樹脂は、本願の光学樹脂用
組成物を重合させて得られるものであり、本発明の含硫
O−(メタ)アクリレート化合物を単独で重合させたも
の、あるいは、含硫O−(メタ)アクリレート化合物を
他の共重合可能な単量体、あるいはポリチオール化合物
と共重合させたものである。本発明の光学用樹脂を得る
ための重合方法としては、特に限定されることはなく、
公知のラジカル重合方法をとることができる。この場合
の重合開始手段としては、種々の過酸化物やアゾ化合物
等のラジカル開始剤の使用、あるいは、紫外線、可視光
線、α線、β線、γ線、電子線等の照射、あるいはこれ
らの併用が挙げられる。
The optical resin of the present invention is obtained by polymerizing the optical resin composition of the present invention, and is obtained by polymerizing the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound of the present invention alone, or It is obtained by copolymerizing a sulfur-containing O- (meth) acrylate compound with another copolymerizable monomer or a polythiol compound. The polymerization method for obtaining the optical resin of the present invention is not particularly limited,
A known radical polymerization method can be used. In this case, as the polymerization initiation means, use of radical initiators such as various peroxides and azo compounds, or irradiation of ultraviolet rays, visible rays, α rays, β rays, γ rays, electron rays, or the like, Combination is mentioned.

【0034】ラジカル開始剤としては、公知のものが使
用でき、代表的なものとしては、ベンゾイルパーオキサ
イド、ジクミルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサ
イド、ジ−t−ブチルパーオキシアゼレート、t−ブチ
ルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチル
パーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシベンゾエ
ート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチル
ヘキサノエート、t−ブチルパーオキシアセテート、ビ
ス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカー
ボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネ
ート等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のア
ゾ化合物等が挙げられ、これらは単独、または2種以上
混合して使用することもできる。
As the radical initiator, known ones can be used. Representative examples thereof include benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, lauroyl peroxide, di-t-butylperoxyazelate, and t-butylperoxide. Oxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxyacetate, bis ( Peroxides such as 4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate and t-butylperoxyisopropylcarbonate; and azo compounds such as azobisisobutyronitrile. These may be used alone or in combination of two or more. Can also be used.

【0035】紫外線等を照射して重合を開始させる場合
には、公知の光開始剤等を使用することもできる。光開
始剤の代表的なものとしては、ベンゾフェノン、4,4
−ジエチルアミノベンゾフェノン、1−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−
フェニルアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸
イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ベン
ゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2,
2−ジエトキシアセトフェノン、o−ベンゾイル安息香
酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル
プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイ
ルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビスアシルフォ
スフィンオキサイド等が挙げられ、これらは単独、また
は2種以上混合して、さらに上述のラジカル開始剤と併
用して使用することもできる。
When the polymerization is started by irradiating ultraviolet rays or the like, a known photoinitiator or the like can be used. Representative photoinitiators include benzophenone, 4,4
-Diethylaminobenzophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-
Phenylacetophenone, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, methyl 4-dimethylaminobenzoate, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, 2,
2-diethoxyacetophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bisacylphosphine oxide, etc. These may be used alone or in combination of two or more, and may be used in combination with the above-mentioned radical initiator.

【0036】本発明の光学用樹脂(例えば、プラスチッ
クレンズ)を得る際の代表的な重合方法としては、注型
重合が挙げられる。即ち、ガスケットまたはテープ等で
保持されたモールド間に、ラジカル開始剤または光開始
剤、あるいはこの両方を含む本発明の光学樹脂用組成物
(モノマー混合物ともいう)を注入する。この時、必要
に応じて、脱泡等の処理を行っても何ら差し支えはな
い。次いで、紫外線等を照射するか、または、オーブン
中で加熱するか、あるいは、これらを併用して硬化さ
せ、重合物を取り出すことができる。
A typical polymerization method for obtaining the optical resin (for example, a plastic lens) of the present invention includes cast polymerization. That is, the composition (also referred to as a monomer mixture) for an optical resin of the present invention containing a radical initiator and / or a photoinitiator is injected between molds held by a gasket or a tape or the like. At this time, if necessary, any treatment such as defoaming may be performed. Then, the polymer can be irradiated with ultraviolet rays or the like, heated in an oven, or cured by using these together, and the polymer can be taken out.

【0037】本発明の光学用樹脂を得るための重合法、
重合条件等は、用いる開始剤等の種類や量、単量体の種
類や割合によって、一概に限定する事はできない。例え
ば、紫外線等を照射する場合、モノマー混合物の過熱を
防ぐために冷却等の処理を行うこともあり、また、重合
に必要な波長域のみを照射させるため、特定波長以下を
カットできる波長カットフィルター等も使用することも
できる。また、オーブン中で加熱する場合には、最適な
温度条件を選択するため、温度制御することもある。オ
ーブン中で加熱する場合、一般的には、低温から徐々に
加熱し、高温で保持して重合を完結させる方法が採用さ
れる。また、重合の時間についても、使用する開始剤等
の種類や量、単量体の種類や割合により影響を受けるた
め、一概には限定することはできない。一般的には、紫
外線等の照射により重合時間の短縮を図ることは可能で
ある。
A polymerization method for obtaining the optical resin of the present invention,
The polymerization conditions and the like cannot be unconditionally limited depending on the type and amount of the initiator and the like used and the type and ratio of the monomer. For example, when irradiating with ultraviolet rays or the like, a treatment such as cooling may be performed to prevent overheating of the monomer mixture, and a wavelength cut filter or the like capable of cutting a specific wavelength or less to irradiate only a wavelength region necessary for polymerization. Can also be used. When heating in an oven, the temperature may be controlled in order to select the optimal temperature condition. When heating in an oven, generally, a method of gradually heating from a low temperature and holding at a high temperature to complete the polymerization is employed. Also, the polymerization time is affected by the type and amount of the initiator and the like used, and the type and ratio of the monomer, and therefore cannot be unconditionally limited. Generally, it is possible to shorten the polymerization time by irradiation with ultraviolet rays or the like.

【0038】本発明の樹脂の成形の際には、目的に応じ
て公知の成形法におけると同様に、鎖延長剤、架橋剤、
光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色防止剤、染
料、香料、充填剤などの種々の物質を添加してもよい。
また、取り出した樹脂成形体については、必要に応じ
て、アニール等の処理を行ってもよい。
When molding the resin of the present invention, a chain extender, a crosslinking agent,
Various substances such as a light stabilizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a coloring inhibitor, a dye, a fragrance, and a filler may be added.
The removed resin molded body may be subjected to a treatment such as annealing, if necessary.

【0039】本発明の含硫O−(メタ)アクリレートを
用いて得られた光学用樹脂は、高屈折率で、低分散であ
り、耐熱性、耐候性に優れ、特に耐衝撃性に非常に優れ
た特徴を有し、また、加工時に発生する臭気が少ないと
いう特徴を有している。さらに、本発明の樹脂は、注型
重合時のモールドを変えることにより種々の形態の成形
体として得ることができ、眼鏡レンズ、カメラレンズ等
の光学素子素材、透明樹脂としての各種の用途に使用す
ることができる。特に、眼鏡レンズ、カメラレンズ等の
光学素子素材として好適である。さらに、本発明の光学
用樹脂を用いたレンズでは、必要に応じ、反射防止、高
硬度付与、耐摩耗性向上、耐薬品性向上、防曇性付与、
あるいは、ファッション性付与等の改良を行うため、表
面研磨、帯電防止処理、ハードコート処理、無反射コー
ト処理、染色処理等の物理的あるいは化学的処理を施す
ことができる。
The optical resin obtained by using the sulfur-containing O- (meth) acrylate of the present invention has a high refractive index, low dispersion, excellent heat resistance, excellent weather resistance, and particularly excellent impact resistance. It has excellent characteristics and has a characteristic that odor generated during processing is small. Furthermore, the resin of the present invention can be obtained as molded articles of various forms by changing the mold at the time of casting polymerization, and is used for various uses as optical element materials such as eyeglass lenses and camera lenses, and transparent resins. can do. In particular, it is suitable as an optical element material for eyeglass lenses, camera lenses, and the like. Further, in the lens using the optical resin of the present invention, if necessary, antireflection, high hardness, improved wear resistance, improved chemical resistance, imparted anti-fog properties,
Alternatively, physical or chemical treatments such as surface polishing, antistatic treatment, hard coat treatment, anti-reflection coat treatment, and dyeing treatment can be performed to improve the fashionability.

【0040】[0040]

【実施例】以下、本発を実施例により具体的に説明す
る。尚、得られた光学用樹脂の性能試験のうち、屈折
率、アッベ数、比重、耐衝撃性、研磨時の臭気、外観
は、以下の試験法により評価した。 ・屈折率、アッベ数:プルフリッヒ屈折計を用い20℃
で測定した。 ・外 観:目視により観察した。 ・耐衝撃性:作製したレンズの中心部分に、高さ127
cmから種々の重量の鉄球を落下させて耐衝撃性を評価
した。レンズが割れなかった最大の鉄球の重量を表し
た。 ・研磨時の臭気:レンズのコバ部分をエッジャーによっ
て切削、研磨したときに不快な硫黄臭があるか否かを次
のようにして評価した。 ○ : 不快な硫黄臭が全くしなかったもの △ : 硫黄臭が少しするもの × : 不快な硫黄臭がするもの
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. In the performance test of the obtained optical resin, the refractive index, Abbe number, specific gravity, impact resistance, odor during polishing, and appearance were evaluated by the following test methods. -Refractive index, Abbe number: 20 ° C using a Pulfrich refractometer
Was measured.・ Appearance: Observed visually. -Shock resistance: Height 127 at the center of the manufactured lens
The impact resistance was evaluated by dropping iron balls of various weights from cm. It represents the weight of the largest iron ball that did not crack the lens. Odor during polishing: The edge of the lens was cut and polished by an edger to determine whether there was an unpleasant sulfur odor as follows. :: Those with no unpleasant sulfur odor △: Those with little sulfur odor ×: Those with unpleasant sulfur odor

【0041】実施例1 攪拌棒、温度計、コンデンサーを付けたディーンスター
ク管を備えた反応フラスコに、3−クロロプロピオン酸
65.1g(0.60モル)、2−メルカプトエタノー
ル56.3g(0.72モル)、トルエン400ml、
p−トルエンスルホン酸3.0gを仕込み、40〜70
mmHgの減圧下で、40℃で還流するように圧力を調
整して、9時間、脱水エステル化反応を行った。次に、
5%重炭酸ソーダ水溶液で有機層を洗浄したのち、更に
水で数回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥したのち、トルエンを減圧下に留去して、無色の液体
の下記式(化20)で表される3−クロロプロピオン酸
(2−メルカプトエチルエステル)97.7g(0.5
8モル)を得た。
Example 1 A reaction flask equipped with a Dean-Stark tube equipped with a stir bar, a thermometer, and a condenser was charged with 65.1 g (0.60 mol) of 3-chloropropionic acid and 56.3 g (0.03 mol) of 2-mercaptoethanol. .72 mol), 400 ml of toluene,
3.0 g of p-toluenesulfonic acid was charged, and 40-70.
The pressure was adjusted to reflux at 40 ° C. under a reduced pressure of mmHg, and the dehydration esterification reaction was performed for 9 hours. next,
After washing the organic layer with a 5% aqueous sodium bicarbonate solution, it was further washed several times with water. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, toluene was distilled off under reduced pressure, and 97.7 g of a colorless liquid 3-chloropropionic acid (2-mercaptoethyl ester) represented by the following formula (Formula 20) was obtained. (0.5
8 mol).

【0042】[0042]

【化20】 このものの元素分析値を次に示した。 組成:C5 9 ClO2 S C H S Cl 分析値(%) 35.4 5.3 19.3 21.1 計算値(%) 35.6 5.4 19.0 21.0 また、 1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチル
シラン基準)チャートを(図1)に示した。
Embedded image The elemental analysis values of this product are shown below. Composition: C 5 H 9 ClO 2 S CH S Cl Analytical value (%) 35.4 5.3 19.3 21.1 Calculated value (%) 35.6 5.4 19.0 21.0 1 An H-NMR (in CDCl 3 solvent, based on tetramethylsilane) chart is shown in FIG. 1.

【0043】実施例2 攪拌棒、温度計、コンデンサーを付けたディーンスター
ク管を備えた反応フラスコに、ベンズアルデヒド21.
2g(0.20モル)、3−クロロプロピオン酸(2−
メルカプトエチルエステル)70.8g(0.42モ
ル)、p−トルエンスルホン酸0.3g、トルエン30
0mlを仕込み、80〜110mmHgの減圧下で、5
0℃で還流するように圧力を調整して、2時間、ジチオ
アセタール化反応を行った。冷却後、水で洗浄し、次い
で5%重炭酸ソーダ水溶液で有機層を洗浄したのち、更
に水で数回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥したのち、トルエンを減圧下に留去して、無色の液
体82.1g(0.19モル)を得た。これをアセトン
200mlに溶解して、攪拌棒、温度計、滴下ロートを
付けた反応フラスコに仕込み、10℃以下に冷却して攪
拌しながら、トリエチルアミン43.0g(0.42モ
ル)を徐々に滴下した。滴下終了後、さらに25℃で、
10時間攪拌した。その後、トルエン200mlと水2
00mlを加えて、反応生成物を有機層に抽出して分液
した後、有機層を希塩酸、希重炭酸ソーダ水溶液、水で
洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、トル
エンを減圧留去して、目的の無色透明の下記式(化2
1)で表される含硫O−アクリレート化合物、ビス(2
−アクリロイルオキシエチル)ジチオアセタールベンゼ
ン66.9g(0.190モル)を得た。
Example 2 Benzaldehyde was added to a reaction flask equipped with a Dean-Stark tube equipped with a stir bar, a thermometer, and a condenser.
2 g (0.20 mol) of 3-chloropropionic acid (2-
70.8 g (0.42 mol) of mercaptoethyl ester, 0.3 g of p-toluenesulfonic acid, toluene 30
0 ml, and under reduced pressure of 80 to 110 mmHg, 5
The pressure was adjusted to reflux at 0 ° C., and the dithioacetalization reaction was performed for 2 hours. After cooling, the mixture was washed with water, and then the organic layer was washed with a 5% aqueous sodium bicarbonate solution, and then further washed with water several times. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, toluene was distilled off under reduced pressure to obtain 82.1 g (0.19 mol) of a colorless liquid. This was dissolved in 200 ml of acetone, charged into a reaction flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel. 43.0 g (0.42 mol) of triethylamine was gradually added dropwise while stirring at 10 ° C or lower. did. After the completion of dropping, at 25 ° C,
Stirred for 10 hours. Then, 200 ml of toluene and water 2
After addition of 00 ml, the reaction product was extracted into an organic layer and separated, and the organic layer was washed with dilute hydrochloric acid, dilute aqueous sodium bicarbonate, and water. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the toluene was distilled off under reduced pressure to obtain the desired colorless and transparent compound of the following formula (Chemical Formula 2).
The sulfur-containing O-acrylate compound represented by 1), bis (2
-Acryloyloxyethyl) dithioacetal benzene (66.9 g, 0.190 mol) was obtained.

【0044】[0044]

【化21】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチル
シラン基準)チャートを(図2)に示した。
Embedded image The elemental analysis values of this product are shown below. A chart of 1 H-NMR (based on tetramethylsilane in CDCl 3 solvent) is shown in FIG. 2.

【0045】実施例3 実施例2のベンズアルデヒド21.2g(0.20モ
ル)を4−メチルチオベンズアルデヒド30.4g
(0.20モル)に変えた以外は、実施例2と同様にし
て、ジチオアセタール化反応、アクリル化反応を行い、
下記構造式(化22)で表される無色透明の含硫O−ア
クリレート化合物、4−メチルチオベンズアルデヒドビ
ス(2−アクリロイルオキシエチル)ジチオアセタール
76.4g(0.192モル)を得た。
Example 3 21.2 g (0.20 mol) of the benzaldehyde of Example 2 was replaced with 30.4 g of 4-methylthiobenzaldehyde.
(0.20 mol), a dithioacetalization reaction and an acrylation reaction were carried out in the same manner as in Example 2.
Thus, 76.4 g (0.192 mol) of a colorless and transparent sulfur-containing O-acrylate compound represented by the following structural formula (Formula 22), 4-methylthiobenzaldehyde bis (2-acryloyloxyethyl) dithioacetal, was obtained.

【0046】[0046]

【化22】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチル
シラン基準)チャートを(図3)に示した。
Embedded image The elemental analysis values of this product are shown below. A chart of 1 H-NMR (based on tetramethylsilane in a CDCl 3 solvent) is shown in FIG. 3.

【0047】実施例4 実施例2のベンズアルデヒド21.2g(0.20モ
ル)を1−ナフトアルデヒド31.2g(0.20モ
ル)に変えた以外は、実施例2と同様にして、ジチオア
セタール化反応、アクリル化反応を行い下記構造式(化
23)で表される無色透明の含硫O−アクリレート化合
物、1−ナフトアルデヒドビス(2−アクリロイルオキ
シエチル)ジチオアセタール78.3g(0.195モ
ル)を得た。
Example 4 A dithioacetal was prepared in the same manner as in Example 2 except that 21.2 g (0.20 mol) of benzaldehyde in Example 2 was changed to 31.2 g (0.20 mol) of 1-naphthaldehyde. A colorless and transparent sulfur-containing O-acrylate compound represented by the following structural formula (Formula 23), 78.3 g of 1-naphthaldehydebis (2-acryloyloxyethyl) dithioacetal (0.195) Mol).

【0048】[0048]

【化23】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチル
シラン基準)チャートを(図4)に示した。
Embedded image The elemental analysis values of this product are shown below. A chart of 1 H-NMR (based on tetramethylsilane in CDCl 3 solvent) is shown in FIG. 4.

【0049】実施例5 実施例2のベンズアルデヒド21.2g(0.20モ
ル)を2−チオフェンアルデヒド22.4g(0.20
モル)に変えた以外は、実施例2と同様にして、ジチオ
アセタール化反応、アクリル化反応を行い、下記構造式
(化24)で表される無色透明の含硫O−アクリレート
化合物、2−ビス(2−アクリロイルオキシエチル)ジ
チオアセタールチオフェン54.1g(0.151モ
ル)を得た。
Example 5 21.2 g (0.20 mol) of the benzaldehyde of Example 2 was replaced with 22.4 g (0.20 mol) of 2-thiophenaldehyde.
Mol), a dithioacetalization reaction and an acrylation reaction were carried out in the same manner as in Example 2 to obtain a colorless and transparent sulfur-containing O-acrylate compound represented by the following structural formula (Formula 24). 54.1 g (0.151 mol) of bis (2-acryloyloxyethyl) dithioacetalthiophene were obtained.

【0050】[0050]

【化24】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチル
シラン基準)チャートを(図5)に示した。
Embedded image The elemental analysis values of this product are shown below. A chart of 1 H-NMR (based on tetramethylsilane in CDCl 3 solvent) is shown in FIG. 5.

【0051】実施例6 実施例2のベンズアルデヒド21.2g(0.20モ
ル)をフェニルアセトアルデヒド24.0g(0.20
モル)に変えた以外は、実施例2と同様にして、ジチオ
アセタール化反応、アクリル化反応を行い下記構造式
(化25)で表される無色透明の含硫O−アクリレート
化合物、フェニルメチレンビス(2−アクリロイルオキ
シエチル)ジチオアセタール65.2g(0.178モ
ル)を得た。
Example 6 21.2 g (0.20 mol) of the benzaldehyde of Example 2 was replaced with 24.0 g (0.20 mol) of phenylacetaldehyde.
Mol), a dithioacetalization reaction and an acrylation reaction were carried out in the same manner as in Example 2 to carry out a colorless and transparent sulfur-containing O-acrylate compound represented by the following structural formula (Formula 25), phenylmethylenebis 65.2 g (0.178 mol) of (2-acryloyloxyethyl) dithioacetal were obtained.

【0052】[0052]

【化25】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチル
シラン基準)チャートを(図6)に示した。
Embedded image The elemental analysis values of this product are shown below. A chart of 1 H-NMR (based on tetramethylsilane in a CDCl 3 solvent) is shown in FIG. 6.

【0053】実施例7 攪拌棒、温度計、滴下ロートを備えた反応フラスコに、
メチレンビス(チオグリコール酸)39.3g(0.2
0モル)、3−クロロプロピオン酸(2−メルカプトエ
チルエステル)81.0g(0.48モル)、ジメチル
アミノピリジン0.1g、クロロホルム400mlを仕
込み、水浴下で攪拌しながら、クロロホルム100ml
に溶解したジシクロヘキシルカルボジイミド90.8g
(0.44モル)をゆっくりと滴下した。滴下終了後、
さらに25℃で、15時間攪拌した。過剰のジシクロヘ
キシルカルボジイミドを酢酸で潰した後に、生成したウ
レアを吸引濾過で除いた。クロロホルムを減圧下に留去
した後に、トルエン300mlに溶解した。5%重炭酸
ソーダ水溶液で有機層を洗浄したのち、更に水で洗浄
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、ト
ルエンを減圧下に留去して、無色の液体88.6g
(0.18モル)を得た。これをアセトン300mlに
溶解して、攪拌棒、温度計、滴下ロートを付けた反応フ
ラスコに仕込み、10℃以下に冷却して攪拌しながら、
トリエチルアミン37.8g(0.37モル)を徐々に
滴下した。滴下終了後、さらに25℃で、10時間攪拌
した。その後、トルエン400mlと水300mlを加
えて、反応生成物を有機層に抽出して分液した後、有機
層を希塩酸、希重炭酸ソーダ水溶液、水で洗浄した。無
水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、トルエンを減圧留
去して、目的の下記構造式(化26)で表される無色透
明の含硫O−アクリレート化合物、メチレンビス(チオ
グリコール酸アクリロイルオキシエチルチオエステル)
59.2g(0.14モル)を得た。
Example 7 A reaction flask equipped with a stirring rod, a thermometer, and a dropping funnel was placed in a reaction flask.
39.3 g of methylenebis (thioglycolic acid) (0.2
0 mol), 81.0 g (0.48 mol) of 3-chloropropionic acid (2-mercaptoethyl ester), 0.1 g of dimethylaminopyridine and 400 ml of chloroform, and 100 ml of chloroform with stirring in a water bath.
90.8 g of dicyclohexylcarbodiimide dissolved in water
(0.44 mol) was slowly added dropwise. After dropping,
The mixture was further stirred at 25 ° C. for 15 hours. After crushing the excess dicyclohexylcarbodiimide with acetic acid, the formed urea was removed by suction filtration. After chloroform was distilled off under reduced pressure, the residue was dissolved in 300 ml of toluene. The organic layer was washed with a 5% aqueous sodium bicarbonate solution, further washed with water, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and toluene was distilled off under reduced pressure to obtain 88.6 g of a colorless liquid.
(0.18 mol). This was dissolved in 300 ml of acetone, and charged into a reaction flask equipped with a stirring rod, a thermometer, and a dropping funnel.
37.8 g (0.37 mol) of triethylamine was gradually added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at 25 ° C. for 10 hours. Thereafter, 400 ml of toluene and 300 ml of water were added, and the reaction product was extracted into an organic layer and separated, and then the organic layer was washed with dilute hydrochloric acid, dilute aqueous sodium bicarbonate, and water. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the toluene is distilled off under reduced pressure, and the desired colorless and transparent sulfur-containing O-acrylate compound represented by the following structural formula (Chemical Formula 26), methylene bis (acryloyloxyethyl thioester thioglycolate) is obtained.
59.2 g (0.14 mol) were obtained.

【0054】[0054]

【化26】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチル
シラン基準)チャートを(図7)に示した。
Embedded image The elemental analysis values of this product are shown below. A chart of 1 H-NMR (based on tetramethylsilane in CDCl 3 solvent) is shown in FIG. 7.

【0055】実施例8 実施例7のメチレンビス(チオグリコール酸)39.3
g(0.20モル)をチオジグリコール酸30.0g
(0.20モル)に変えた以外は、実施例1と同様にし
て、脱水エステル化反応、アクリル化反応を行い、無色
透明の含硫O−アクリレート化合物、チオジグリコール
酸ビス(アクリロイルオキシエチルチオエステル)(化
27)52.7g(0.14モル)を得た。
Example 8 The methylenebis (thioglycolic acid) of Example 7 39.3
g (0.20 mol) in 30.0 g of thiodiglycolic acid
(0.20 mol), a dehydration esterification reaction and an acrylation reaction were carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a colorless and transparent sulfur-containing O-acrylate compound, bis (acryloyloxyethyl thiodiglycolate). 52.7 g (0.14 mol) of thioester) was obtained.

【0056】[0056]

【化27】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチル
シラン基準)チャートを(図8)に示した。
Embedded image The elemental analysis values of this product are shown below. A chart of 1 H-NMR (based on tetramethylsilane in CDCl 3 solvent) is shown in FIG. 8.

【0057】実施例9 実施例6のメチレンビス(チオグリコール酸)39.3
g(0.20モル)をメチントリス(チオグリコール
酸)57.3g(0.20モル)に変え、さらに使用し
た他の原料は、3−クロロプロピオン酸(2−メルカプ
トエチルエステル)を0.72モル、ジシクロヘキシル
カルボジイミドを0.66モル、トリエチルアミンを
0.59モルに変えた以外は、実施例1と同様にして、
脱水エステル化反応、アクリル化反応を行い、無色透明
の含硫O−アクリレート化合物、メチントリス〔チオグ
リコール酸(アクリロイルオキシエチルチオエステ
ル)〕(化28)100.6g(0.16モル)を得
た。
Example 9 Methylene bis (thioglycolic acid) of Example 6 39.3
g (0.20 mol) was changed to 57.3 g (0.20 mol) of methine tris (thioglycolic acid), and the other raw material used was 3-chloropropionic acid (2-mercaptoethyl ester) of 0.72 g. Mol, dicyclohexylcarbodiimide was changed to 0.66 mol, and triethylamine was changed to 0.59 mol in the same manner as in Example 1.
The dehydration esterification reaction and the acrylation reaction were performed to obtain 100.6 g (0.16 mol) of a colorless and transparent sulfur-containing O-acrylate compound, methine tris [thioglycolic acid (acryloyloxyethyl thioester)] (formula 28).

【0058】[0058]

【化28】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチル
シラン基準)チャートを(図9)に示した。
Embedded image The elemental analysis values of this product are shown below. A chart of 1 H-NMR (based on tetramethylsilane in a CDCl 3 solvent) is shown in FIG. 9.

【0059】実施例10 攪拌棒、温度計、滴下ロートを備えた反応フラスコに、
ビス(イソシアネートメチルチオ)メタン19.0g
(0.10モル)、、ジメチルチンジクロライド15m
g、トルエン100mlを仕込み、水浴下で攪拌しなが
ら、3−クロロプロピオン酸(2−メルカプトエチルエ
ステル)33.7g(0.20モル)をゆっくりと滴下
した。滴下終了後、そのまま2時間攪拌し、さらに50
℃で、2時間攪拌した。冷却した後、生成してきた結晶
物を濾過して洗浄した後に乾燥させた。白色の結晶4
2.5g(0.08モル)を得た。これをアセトン20
0mlに溶解して、攪拌棒、温度計、滴下ロートを付け
た反応フラスコに仕込み、10℃以下に冷却して攪拌し
ながら、トリエチルアミン17.1g(0.17モル)
を徐々に滴下した。滴下終了後、さらに25℃で、10
時間攪拌した。その後、トルエン200mlと水200
mlを加えて、反応生成物を有機層に抽出して分液した
後、有機層を希塩酸、希重炭酸ソーダ水溶液、水で洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、トルエン
を減圧留去して目的の白色結晶の含硫O−アクリレート
化合物(化29)29.7g(0.065モル)を得
た。
Example 10 A reaction flask equipped with a stirring rod, a thermometer, and a dropping funnel was placed in a reaction flask.
Bis (isocyanatomethylthio) methane 19.0g
(0.10 mol), dimethyltin dichloride 15m
g, 100 ml of toluene and 33.7 g (0.20 mol) of 3-chloropropionic acid (2-mercaptoethyl ester) were slowly added dropwise while stirring in a water bath. After the completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 2 hours, and then further
Stirred at C for 2 hours. After cooling, the formed crystal was filtered, washed, and dried. White crystal 4
2.5 g (0.08 mol) were obtained. This is acetone 20
The solution was dissolved in 0 ml, charged into a reaction flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel, and cooled to 10 ° C. or lower while stirring, and 17.1 g (0.17 mol) of triethylamine was stirred.
Was gradually added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was further heated
Stirred for hours. Then, 200 ml of toluene and 200 ml of water
The reaction product was extracted into an organic layer and separated, and the organic layer was washed with dilute hydrochloric acid, dilute aqueous sodium bicarbonate, and water. After drying over anhydrous magnesium sulfate, toluene was distilled off under reduced pressure to obtain 29.7 g (0.065 mol) of the objective sulfur-containing O-acrylate compound (formula 29) as white crystals.

【0060】[0060]

【化29】 このものの元素分析値を次に示した。 組成:C15222 6 4 C H N S 分析値(%) 39.8 5.1 6.0 28.5 計算値(%) 39.6 4.9 6.2 28.2 また、 1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチル
シラン基準)チャートを(図10)に示した。
Embedded image The elemental analysis values of this product are shown below. Composition: C 15 H 22 N 2 O 6 S 4 C H N S Analysis value (%) 39.8 5.1 6.0 28.5 Calculated (%) 39.6 4.9 6.2 28.2 A chart of 1 H-NMR (based on tetramethylsilane in a CDCl 3 solvent) is shown in FIG. 10.

【0061】実施例11〜19 実施例2〜10で得られた化合物50gに対して、光開
始剤として2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル
プロパン−1−オン50〜100mgを添加してよく混
合した。これらを十分に脱泡した後、ガラスモールドと
ガスケットよりなるモールド型に注入した。紫外線を1
0〜60秒照射した後120℃で一時間加熱して重合を
行った。重合終了後、徐々に冷却し、成型体をモールド
から取り出した。得られた成型体(レンズ)の物性を表
−1(表1)に示した。
Examples 11 to 19 To 50 g of the compound obtained in Examples 2 to 10, 50 to 100 mg of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one as a photoinitiator was added. Mix well. After these were sufficiently degassed, they were poured into a mold composed of a glass mold and a gasket. UV light 1
After irradiation for 0 to 60 seconds, polymerization was carried out by heating at 120 ° C. for 1 hour. After the completion of the polymerization, the mixture was gradually cooled, and the molded product was taken out of the mold. Table 1 (Table 1) shows the physical properties of the obtained molded body (lens).

【0062】[0062]

【表1】 [Table 1]

【0063】実施例20 実施例2で得られたベンズアルデヒドビス(2−アクリ
ロイルオキシエチル)ジチオアセタール35gに対し
て、ビス(4−アクロキシジエトキシフェニル)メタン
15gと光開始剤として2−ヒドロキシ−2−メチル−
1−フェニルプロパン−1−オン50mgを添加してよ
く混合した。これを十分に脱泡した後、ガラスモールド
とテープよりなるモールド型に注入した。紫外線を10
秒間照射したのち、120℃で1時間加熱し、重合を行
った。重合終了後、徐々に冷却し、成形体をモールドよ
り取り出した。得られた成形体(レンズ)の評価結果
を、表−2(表2)に示した。
Example 20 To 35 g of the benzaldehyde bis (2-acryloyloxyethyl) dithioacetal obtained in Example 2, 15 g of bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) methane and 2-hydroxy- as a photoinitiator were used. 2-methyl-
50 mg of 1-phenylpropan-1-one was added and mixed well. After this was sufficiently degassed, it was poured into a mold composed of a glass mold and a tape. UV rays 10
After irradiation for 2 seconds, the mixture was heated at 120 ° C. for 1 hour to perform polymerization. After the completion of the polymerization, the mixture was gradually cooled and the molded product was taken out of the mold. The evaluation results of the obtained molded body (lens) are shown in Table 2 (Table 2).

【0064】実施例21〜26 表−2に示したモノマー組成物を使用した以外は、実施
例20と同様の操作を行い、プラスチックレンズを得
た。これらのプラスチックレンズの評価結果を実施例2
0の評価結果とともに表−2に示した。表−2から、本
実施例20〜26のプラスチックレンズは、無色透明で
あり、屈折率、アッベ数、比重のバランスがよく、耐衝
撃性の非常に優れ、また、樹脂を研磨する際に不快な硫
黄臭が全くないものであった。
Examples 21 to 26 A plastic lens was obtained in the same manner as in Example 20, except that the monomer compositions shown in Table 2 were used. The evaluation results of these plastic lenses are shown in Example 2.
The results are shown in Table 2 together with the evaluation results of 0. From Table 2, the plastic lenses of Examples 20 to 26 are colorless and transparent, have a well-balanced refractive index, Abbe number, and specific gravity, have excellent impact resistance, and are unpleasant when polishing a resin. Had no significant sulfur odor.

【0065】比較例1〜3 表−2に示したモノマー組成物を使用した以外は、実施
例20と同様の操作を行い、プラスチックレンズを得
た。これらのプラスチックレンズの評価結果を実施例の
評価結果とともに表−2に示した。表−2から、比較例
のプラスチックレンズは、本実施例20〜26と比較す
ると、耐衝撃性は劣り、また、樹脂を研磨する際に硫黄
臭があるものであった。
Comparative Examples 1 to 3 A plastic lens was obtained in the same manner as in Example 20, except that the monomer compositions shown in Table 2 were used. Table 2 shows the evaluation results of these plastic lenses together with the evaluation results of the examples. From Table 2, the plastic lens of the comparative example was inferior in impact resistance as compared with Examples 20 to 26, and had a sulfur smell when polishing the resin.

【0066】[0066]

【表2】 BSFA ;ビス(4−アクロキシジエトキシフェニ
ル)メタン TEGDMA;テトラエチレングリコールジメタクリレ
ート DTAET;2,5−ビス(アクリロキシエチルチオメ
チル)−1,4−ジチアン AETE ;ビス(アクリロキシエチルチオ)エタン XDMET;p−ビス(β−メタクリロキシエチルチ
オ)キシリレン BSAM ;2,2−ビス(4−メタクロキシジエトキ
シフェニル)プロパン DCPA ;ジメチロールトリシクロデカンジアクリレ
ート
[Table 2] BSFA; bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) methane TEGDMA; tetraethylene glycol dimethacrylate DTAET; 2,5-bis (acryloxyethylthiomethyl) -1,4-dithiane AETE; bis (acryloxyethylthio) ethane XDMET; p-bis (β-methacryloxyethylthio) xylylene BSAM; 2,2-bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) propane DCPA; dimethylol tricyclodecane diacrylate

【0067】[0067]

【発明の効果】本発明の含硫O−(メタ)アクリレート
化合物は新規な化合物であり、モノマーの安定性が向上
し、作業性に優れている。また、本発明の光学樹脂用組
成物は短時間重合が可能であり、良好な光学物性、特に
高い屈折率をもち、耐衝撃性に非常に優れ、かつ、加工
時に臭気の少ない光学用樹脂を与える。
Industrial Applicability The sulfur-containing O- (meth) acrylate compound of the present invention is a novel compound and has improved monomer stability and excellent workability. In addition, the optical resin composition of the present invention can be polymerized in a short time, has good optical properties, particularly has a high refractive index, has excellent impact resistance, and has a low odor during processing. give.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1で得られた含硫O−アクリレート化合
物の 1H−NMRチャート。
FIG. 1 is a 1 H-NMR chart of a sulfur-containing O-acrylate compound obtained in Example 1.

【図2】実施例2で得られた含硫O−アクリレート化合
物の 1H−NMRチャート。
FIG. 2 is a 1 H-NMR chart of the sulfur-containing O-acrylate compound obtained in Example 2.

【図3】実施例3で得られた含硫O−アクリレート化合
物の 1H−NMRチャート。
FIG. 3 is a 1 H-NMR chart of the sulfur-containing O-acrylate compound obtained in Example 3.

【図4】実施例4で得られた含硫O−アクリレート化合
物の 1H−NMRチャート。
FIG. 4 is a 1 H-NMR chart of the sulfur-containing O-acrylate compound obtained in Example 4.

【図5】実施例5で得られた含硫O−アクリレート化合
物の 1H−NMRチャート。
FIG. 5 is a 1 H-NMR chart of the sulfur-containing O-acrylate compound obtained in Example 5.

【図6】実施例6で得られた含硫O−アクリレート化合
物の 1H−NMRチャート。
FIG. 6 is a 1 H-NMR chart of the sulfur-containing O-acrylate compound obtained in Example 6.

【図7】実施例7で得られた含硫O−アクリレート化合
物の 1H−NMRチャート。
FIG. 7 is a 1 H-NMR chart of the sulfur-containing O-acrylate compound obtained in Example 7.

【図8】実施例8で得られた含硫O−アクリレート化合
物の 1H−NMRチャート。
FIG. 8 is a 1 H-NMR chart of the sulfur-containing O-acrylate compound obtained in Example 8.

【図9】実施例9で得られた含硫O−アクリレート化合
物の 1H−NMRチャート。
FIG. 9 is a 1 H-NMR chart of the sulfur-containing O-acrylate compound obtained in Example 9.

【図10】実施例10で得られた含硫O−アクリレート
化合物の 1H−NMRチャート。
FIG. 10 is a 1 H-NMR chart of the sulfur-containing O-acrylate compound obtained in Example 10.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08F 20/38 C08F 20/38 290/04 290/04 G02B 1/04 G02B 1/04 (72)発明者 今井 雅夫 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 藤井 謙一 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI Technical display location C08F 20/38 C08F 20/38 290/04 290/04 G02B 1/04 G02B 1/04 (72) Inventor Masao Imai 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside of Mitsui Toatsu Chemicals Co., Ltd. (72) Inventor Kenichi Fujii 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Mitsui Toatsu Chemicals Co., Ltd.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記式(1)(化1)で表される含硫O
−(メタ)アクリレート化合物。 【化1】 〔式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、lは1〜
3の整数を示し、Bはメチン基、−C(=O)−基また
は−NHC(=O)−基を表し、Bがメチン基の場合
は、nは2であり、mは1又は2であり、Aは下記式
(化2)で表されるいずれかの基を表し、 【化2】 (上式中、mは1又は2を示し、各環は1個以上の炭素
数1又は2のアルキル基、アルキルチオ基またはアルコ
キシ基で置換されていてもよく、p、qは0又は1を表
す。但し、pが1の時、mは1である。) Bが−C(=O)−基の場合は、nは1であり、mは2
または3であり、Aは下記式(化3)で表されるいずれ
かの基を表し、 【化3】 (式中、r、sは1〜3の整数を表す) Bが−NHC(=O)−基の場合は、nは1であり、m
は2であり、Aは下記式(化4)で表されるいずれかの
基 【化4】 (式中、r、sは1〜3の整数を表す)を表す。〕
1. A sulfur-containing O represented by the following formula (1):
-(Meth) acrylate compounds. Embedded image [Wherein, R represents a hydrogen atom or a methyl group;
3 represents an integer, B represents a methine group, a —C (= O) — group or a —NHC (= O) — group, and when B is a methine group, n is 2 and m is 1 or 2 And A represents any group represented by the following formula (Formula 2); (In the above formula, m represents 1 or 2, and each ring may be substituted with one or more alkyl, alkylthio, or alkoxy groups having 1 or 2 carbon atoms, and p and q represent 0 or 1. However, when p is 1, m is 1.) When B is a —C (= O) — group, n is 1 and m is 2
Or 3, and A represents any group represented by the following formula (Formula 3); (Wherein, r and s represent an integer of 1 to 3) When B is a —NHC (= O) — group, n is 1;
Is 2, and A is any group represented by the following formula (Formula 4). (Wherein, r and s represent an integer of 1 to 3). ]
【請求項2】 下記式(2)(化5)で表されるチオー
ル化合物を、ジチオアセタール化 、チオエステル化ま
たはチオウレタン化した後、脱ハロゲン化水素化するこ
とを特徴とする請求項1記載の含硫O−(メタ)アクリ
レート化合物の製造方法。 【化5】 (式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、Rは水素
原子またはメチル基を表し、lは1〜3の整数を表す)
2. The method according to claim 1, wherein the thiol compound represented by the following formula (2) is converted to dithioacetal, thioester or thiourethane, and then dehydrohalogenated. A method for producing a sulfur-containing O- (meth) acrylate compound according to the above. Embedded image (In the formula, X represents a chlorine atom or a bromine atom, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and l represents an integer of 1 to 3.)
【請求項3】 下記式(化6)のいずれかで表される分
子内に少なくとも1つのアルデヒド基を有する化合物を
用いて、ジアセタール化することを特徴とする請求項2
記載の含硫O−(メタ)アクリレート化合物の製造方
法。 【化6】 (上式中、mは1又は2を示し、各環は1個以上の炭素
数1又は2のアルキル基またはアルコキシ基で置換され
ていてもよく、p、qは0又は1を表す。但し、pが1
の時、mは1である。)
3. A diacetalization using a compound having at least one aldehyde group in a molecule represented by any one of the following formulas (Formula 6).
The method for producing the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound according to the above. Embedded image (In the above formula, m represents 1 or 2, each ring may be substituted by one or more alkyl or alkoxy groups having 1 or 2 carbon atoms, and p and q represent 0 or 1. , P is 1
At the time, m is 1. )
【請求項4】 下記式(化7)のいずれかで表される分
子内に少なくとも2つのカルボキシル基を有する化合物
を用いて、チオエステル化することを特徴とする請求項
2記載の含硫O−(メタ)アクリレート化合物の製造方
法。 【化7】 (上式中、r、sはそれぞれ1〜3の整数を表す。)
4. The sulfur-containing O- according to claim 2, wherein the thioesterification is carried out using a compound having at least two carboxyl groups in a molecule represented by any of the following formulas (Formula 7). A method for producing a (meth) acrylate compound. Embedded image (In the above formula, r and s each represent an integer of 1 to 3.)
【請求項5】 下記式(化8)のいずれかで表される分
子内に2つのイソシアナート基を有する化合物を用い
て、チオウレタン化することを特徴とする請求項2記載
の含硫O−(メタ)アクリレート化合物の製造方法。 【化8】 (上式中、r、sはそれぞれ1〜3の整数を表す。)
5. The sulfur-containing O according to claim 2, wherein the thiourethane is formed by using a compound having two isocyanate groups in a molecule represented by any of the following formulas (Formula 8). -A method for producing a (meth) acrylate compound. Embedded image (In the above formula, r and s each represent an integer of 1 to 3.)
【請求項6】 請求項1記載の含硫O−(メタ)アクリ
レート化合物を含有する光学樹脂用組成物。
6. A composition for an optical resin, comprising the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound according to claim 1.
【請求項7】 含硫O−(メタ)アクリレート化合物と
共重合可能な単量体あるいはポリチオール化合物の少な
くとも1種を含有する請求項6記載の光学樹脂用組成
物。
7. The composition for an optical resin according to claim 6, comprising at least one of a monomer and a polythiol compound copolymerizable with the sulfur-containing O- (meth) acrylate compound.
【請求項8】 共重合可能な単量体が下記式(3)(化
9)で表される化合物を含有するものである請求項7記
載の光学樹脂用組成物。 【化9】 (式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、t、uは
0〜4の整数を表し、Eは−CH2 −、−C(CH3
2 −、−S−または−SO2 −を表す。)
8. The composition for an optical resin according to claim 7, wherein the copolymerizable monomer contains a compound represented by the following formula (3). Embedded image (Wherein, R represents a hydrogen atom or a methyl group, t and u each represent an integer of 0 to 4, and E represents —CH 2 —, —C (CH 3 )).
2 -, - S- or -SO 2 - represents a. )
【請求項9】 請求項6〜8のいずれかに記載の組成物
を重合して得られる光学用樹脂。
9. An optical resin obtained by polymerizing the composition according to claim 6. Description:
【請求項10】 請求項9記載の光学用樹脂からなるレ
ンズ。
10. A lens comprising the optical resin according to claim 9.
【請求項11】 下記式(2)(化10)で表されるチ
オール化合物。 【化10】 (式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、Rは水素
原子またはメチル基を表し、lは1〜3の整数を表す)
11. A thiol compound represented by the following formula (2): Embedded image (In the formula, X represents a chlorine atom or a bromine atom, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and l represents an integer of 1 to 3.)
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