JPH1067027A - Release film - Google Patents

Release film

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Publication number
JPH1067027A
JPH1067027A JP8227085A JP22708596A JPH1067027A JP H1067027 A JPH1067027 A JP H1067027A JP 8227085 A JP8227085 A JP 8227085A JP 22708596 A JP22708596 A JP 22708596A JP H1067027 A JPH1067027 A JP H1067027A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tetrafluoroethylene
copper foil
release film
foil layer
copolymer
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8227085A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Ariga
広志 有賀
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
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Publication of JPH1067027A publication Critical patent/JPH1067027A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the releasability with an adhesive resin and to suppress the protrusion of the resin by specifying the tensile elongation at break of a tetrafluoroethylene copolymer film. SOLUTION: A tetrafluoroethylene type copolymer film is used as a release film. A tetrafluoroethylene type copolymer is a copolymer of tetrafluoroethylene and other copolymer component. The content ratio of a polymer unit based on tetrafluoroethylene in the tetrafluoroethylene type copolymer is set according to the kind of the other copolymer component but may be usually set to 30-70mol%, pref., 40-60mol%. The tensile elongation at break of the tetrafluoroethylene type copolymer film at 200 deg.C is 100% or more, pref., 200% or more. By this constitution, the protrusion of a resin is suppressed and the release film can be easily peeled.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、インタスティシャ
ルバイアホール(interstitial via hole、以下IVHと
いう)を含む多層プリント配線板を製造する際に用いる
離型フィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a release film used for manufacturing a multilayer printed wiring board including an interstitial via hole (hereinafter, referred to as IVH).

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、多層プリント配線板においては、
配線の利用スペースを広げ、高密度実装を可能とするI
VHの利用が広がっている。IVHとは多層プリント配
線板の2層以上の導体間を貫通するスルーホールで、多
層プリント配線板全体を貫通していない穴をいう。
2. Description of the Related Art In recent years, in multilayer printed wiring boards,
I that expands the space used for wiring and enables high-density mounting
The use of VH is expanding. IVH is a through hole that penetrates between two or more layers of conductors of a multilayer printed wiring board and does not penetrate the entire multilayer printed wiring board.

【0003】IVHには、配線板表面からそのスルーホ
ールの存在がわかるブラインドバイアホールと、完全に
多層配線板中に入ってしまい配線板表面からそのスルー
ホールの存在がわからないベリードバイアホールの2種
類がある。いずれの場合も配線板の穴開け後のスルーホ
ールのメッキ工程の後、接着プリプレグを用いて銅箔ま
たは他の配線板との積層が行われている。
[0003] There are two types of IVHs: blind via holes in which the presence of through holes can be seen from the surface of the wiring board, and buried via holes which completely enter the multilayer wiring board and cannot be seen from the surface of the wiring board. There are types. In each case, after the step of plating through holes after drilling holes in the wiring board, lamination with a copper foil or another wiring board is performed using an adhesive prepreg.

【0004】この積層は、一般的には配線板をプレス機
を用いて加熱加圧することにより行われており、その際
プレス機のステンレス製平面のプリプレグの樹脂による
汚染を防ぐため、そのステンレス製平面と積層の配線板
表面の間に離型フィルムを介して加熱加圧されている。
[0004] This lamination is generally performed by heating and pressing a wiring board using a press machine. At this time, in order to prevent contamination of the stainless steel flat prepreg of the press machine by resin, the stainless steel board is pressed. Heat and pressure are applied between the flat surface and the surface of the laminated wiring board via a release film.

【0005】従来、このブラインドバイアホールまたは
ベリードバイアホールを含む多層プリント配線板の積層
工程では、主としてポリメチルペンテン樹脂フィルム、
フッ化ビニル樹脂フィルムが離型フィルムとして使用さ
れていた。
Conventionally, in the step of laminating a multilayer printed wiring board including a blind via hole or a buried via hole, a polymethylpentene resin film,
A vinyl fluoride resin film has been used as a release film.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらのフィ
ルムはスルーホール内部を通して離型フィルムに接する
プリプレグの樹脂との離型性が悪く、また180〜22
0℃という高温での伸びに欠けたるため、スルーホール
メッキ工程の後、プリプレグを用いて銅箔または他の配
線板と積層プレスを行った際、スルーホール内部を満た
しながら流動している接着性樹脂がプリント配線パター
ンが形成されている表層に大きくはみ出して硬化する、
いわゆる樹脂のはみ出しが多かった。
However, these films have poor releasability from the resin of the prepreg which contacts the release film through the inside of the through-hole, and has a 180 to 22 degree.
Due to lack of elongation at a high temperature of 0 ° C., after the through-hole plating step, when prepreg is used for lamination pressing with copper foil or other wiring boards, the adhesive that flows while filling the inside of the through-hole The resin protrudes greatly to the surface layer where the printed wiring pattern is formed and cures,
There were many protrusions of the so-called resin.

【0007】このため、この積層工程によりはみ出した
樹脂を研磨除去する必要があり、この工程が煩雑である
うえ、この研磨工程において基板そのものが変形するこ
ともあった。
For this reason, it is necessary to polish and remove the resin protruding from the laminating step, and this step is complicated and the substrate itself may be deformed in the polishing step.

【0008】また、表面があらかじめプリント配線パタ
ーンが形成された配線板を最外層に用いた場合には、離
型フィルムは高温における伸びがないため、表層の凹凸
に追従せず、前述した樹脂のはみ出し、およびプリント
配線パターンへの傷つけという問題を抱えていた。
Further, when a wiring board having a printed wiring pattern formed on the surface in advance is used as the outermost layer, the release film does not stretch at high temperatures, so it does not follow the unevenness of the surface layer, and the above-mentioned resin There was a problem of protrusion and damage to the printed wiring pattern.

【0009】本発明は、従来の技術ではなし得なかっ
た、ブラインドバイアホールまたはベリードバイアホー
ル内部を満たしながら流動している接着性樹脂との離型
性に優れ、樹脂のはみ出しも抑制でき、かつプリント配
線パターンへの傷つけを防止できる多層プリント配線板
製造する際に用いる離型フィルムを提供する。
The present invention has excellent mold releasability with an adhesive resin flowing while filling the inside of a blind via hole or a buried via hole, which can not be achieved by conventional techniques, and can suppress the resin from protruding. Also provided is a release film used in producing a multilayer printed wiring board which can prevent damage to a printed wiring pattern.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、フィルムとし
てテトラフルオロエチレン系共重合体のフィルムを用
い、しかもそのフィルムの200℃における引張り破断
伸度を100%以上にすることにより、接着性樹脂との
離型性に優れ、樹脂のはみ出しも抑制でき、しかもプリ
ント配線パターンも傷つけないことを見い出し、本発明
を完成した。本発明は下記のフィルム、およびそれを用
いた多層プリント配線板の製造方法である。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, used a film of a tetrafluoroethylene-based copolymer as a film, and obtained the film at 200 ° C. By setting the tensile elongation at break to 100% or more, it has been found that the resin has excellent releasability from the adhesive resin, can suppress the protrusion of the resin, and does not damage the printed wiring pattern, thereby completing the present invention. The present invention is the following film and a method for producing a multilayer printed wiring board using the same.

【0011】200℃における引張り破断伸度が100
%以上であるテトラフルオロエチレン系共重合体からな
る、IVHを含む多層プリント配線板製造用の離型フィ
ルム。
The tensile elongation at break at 200 ° C. is 100
% Of a tetrafluoroethylene-based copolymer for the production of a multilayer printed wiring board containing IVH.

【0012】プリント配線板素材積層物を加熱加圧して
IVHを含む多層プリント配線板を製造する方法におい
て、素材積層物の少なくとも穴を有する表面を、200
℃における引張り破断伸度が100%以上であるテトラ
フルオロエチレン系共重合体のフィルムからなる離型フ
ィルムで覆って加熱加圧することを特徴とする多層プリ
ント配線板の製造方法。
In a method of manufacturing a multilayer printed wiring board containing IVH by heating and pressurizing a printed wiring board material laminate, at least the surface of the material laminate having holes is reduced to 200
A method for producing a multilayer printed wiring board, wherein the multilayer printed wiring board is covered with a release film made of a film of a tetrafluoroethylene copolymer having a tensile elongation at break of 100% or more and heated and pressed.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の離型フィルムには、テト
ラフルオロエチレン系共重合体のフィルムが用いられ
る。テトラフルオロエチレン系共重合体は、テトラフル
オロエチレンと他の共重合成分との共重合体である。他
の共重合成分としては、例えばエチレン、プロピレン等
のオレフィン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオ
ロ(アルキルビニルエーテル)等が挙げられる。テトラ
フルオロエチレン系共重合体は、これらの他の共重合成
分を1種または2種以上を組合せて使用できる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As the release film of the present invention, a film of a tetrafluoroethylene copolymer is used. The tetrafluoroethylene-based copolymer is a copolymer of tetrafluoroethylene and another copolymer component. Examples of other copolymer components include olefins such as ethylene and propylene, hexafluoropropylene, and perfluoro (alkyl vinyl ether). As the tetrafluoroethylene-based copolymer, these other copolymer components can be used alone or in combination of two or more.

【0014】テトラフルオロエチレン系共重合体の具体
例としては、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ
(アルキルビニルエーテル)系共重合体(以下、PFA
という)、テトラフルオロエチレン−エチレン系共重合
体(以下、ETFEという)、テトラフルオロエチレン
−ヘキサフルオロプロピレン系共重合体(以下、FEP
という)が好ましい。
Specific examples of the tetrafluoroethylene-based copolymer include a tetrafluoroethylene-perfluoro (alkyl vinyl ether) -based copolymer (hereinafter referred to as PFA).
), Tetrafluoroethylene-ethylene-based copolymer (hereinafter, referred to as ETFE), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene-based copolymer (hereinafter, FEP)
Is preferred.

【0015】ETFEとしては、200℃における引張
り破断伸度を改良するために、CF2 CF3 CF=CF
2 、HCF236 CH=CH2 、または、n−C4
9CH=CH2 等の第3成分を共重合した共重合体が
好ましく、特に第3成分としてn−C49 CH=CH
2 を共重合した共重合体が好ましい。第3成分、特にn
−C49 CH=CH2 、に基づく重合単位の含有量
は、0.2〜10モル%であることが好ましい。
As ETFE, CF 2 CF 3 CF = CF in order to improve the tensile elongation at break at 200 ° C.
2, HCF 2 C 3 F 6 CH = CH 2, or, n-C 4
A copolymer obtained by copolymerizing a third component such as F 9 CH = CH 2 is preferable, and particularly, n-C 4 F 9 CH = CH is used as the third component.
A copolymer obtained by copolymerizing 2 is preferred. Third component, especially n
The content of -C 4 F 9 CH = CH 2 , in based polymerized units is preferably 0.2 to 10 mol%.

【0016】テトラフルオロエチレン系共重合体におけ
るテトラフルオロエチレンに基づく重合単位の含有割合
は、他の共重合成分の種類にもよるが、通常30〜70
モル%にすればよく、好ましくは40〜60モル%であ
る。
The content of the polymerized units based on tetrafluoroethylene in the tetrafluoroethylene-based copolymer depends on the type of other copolymerization components, but is usually from 30 to 70.
Mol%, preferably 40 to 60 mol%.

【0017】上記テトラフルオロエチレン系共重合体の
フィルムの200℃における引張り破断伸度は100%
以上、好ましくは200%以上、である。フィルムの引
張り破断伸度の上限は特に制限ないが、600%以内で
あることが好ましく、特に500%以内であることが好
ましい。この引張り破断伸度は、ASTM(アメリカン
ソサイアティ フォー テスティングアンドマテリアル
ズ)のD638に準拠して測定される200℃における
引張り破断伸度である。
The tensile elongation at break of the film of the above tetrafluoroethylene copolymer at 200 ° C. is 100%.
Or more, preferably 200% or more. Although the upper limit of the tensile elongation at break of the film is not particularly limited, it is preferably within 600%, particularly preferably within 500%. The tensile elongation at break is a tensile elongation at break at 200 ° C. measured according to ASTM (American Society for Testing and Materials) D638.

【0018】また、本発明の離型フィルムは、接着性樹
脂との離型性の指標として水との接触角が、85°以上
であることが好ましく、特に90〜115°であること
が好ましい。
The release film of the present invention preferably has a contact angle with water of 85 ° or more as an index of releasability from the adhesive resin, particularly preferably 90 to 115 °. .

【0019】また、本発明の離型フィルムとしては、帯
電防止付与のため、帯電防止剤を0.1〜2%程度フィ
ルムに練り込んだフィルムも使用できる。さらに、本発
明の離型フィルムには、他の添加剤、例えば無機フィラ
ーを配合させてもよく、また、他の樹脂、例えばフィル
ムの柔軟性を向上させるために、フッ素ゴム、例えばテ
トラフルオロエチレン−プロピレン系共重合体、フッ化
ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン系共重合体等を
配合してもよい。
Further, as the release film of the present invention, a film in which an antistatic agent is kneaded into the film at about 0.1 to 2% for imparting antistatic properties can be used. Further, the release film of the present invention, other additives, for example, may be blended with an inorganic filler, and other resins, for example, to improve the flexibility of the film, fluorine rubber, for example, tetrafluoroethylene -A propylene-based copolymer, a vinylidene fluoride-hexafluoropropylene-based copolymer, or the like may be blended.

【0020】本発明の離型フィルムの厚みは20〜20
0μmが好適であり、特に25〜100μmが好まし
い。本発明の離型フィルムの表面の形状は平面状のもの
が好ましいが、表面平均粗さRa が0.5〜2μm程度
のエンボス加工を施し、ハンドリング性を上げたフィル
ムも使用できる。
The release film of the present invention has a thickness of 20 to 20.
0 μm is suitable, and particularly preferably 25 to 100 μm. Shape of the surface of the release film of the present invention is preferably from planar, embossed about average surface roughness R a is 0.5 to 2 [mu] m, can be used films raised handling properties.

【0021】本発明の離型フィルムは、通常のフィルム
成形方法、例えば、押出し成形、加圧成形、キャストフ
ィルム成形等の種々の成形方法により製造できる。離型
フィルムは、無延伸で使用できるが、1軸延伸、2軸延
伸を施してもよい。
The release film of the present invention can be produced by various film forming methods such as extrusion, pressure forming and cast film forming. The release film can be used without stretching, but may be subjected to uniaxial stretching or biaxial stretching.

【0022】本発明の離型フィルムは、ブラインドバイ
アホールまたはベリードバイアホールを含む多層プリン
ト配線板を製造する種々の製造方法に適用できる。多層
プリント配線板は、ブラインドバイアホールまたはベリ
ードバイアホールのいずれか一方を含んでいればよく、
それらの両方を含んでいてもよい。
The release film of the present invention can be applied to various manufacturing methods for manufacturing a multilayer printed wiring board including a blind via hole or a buried via hole. The multilayer printed wiring board only needs to include one of a blind via hole or a buried via hole,
Both of them may be included.

【0023】IVHを含む多層積層板を製造する際に
は、スルーホールメッキを施した部分積層板を逐次積み
上げるシーケンシャルラミネーション法等が用いられる
ことが多い。
When manufacturing a multilayer laminate containing IVH, a sequential lamination method or the like in which through-plated partial laminates are sequentially stacked is often used.

【0024】本発明において、プリント配線板素材とは
下記基板、銅箔、接着プリプレグ等を意味する。これら
を目的に応じて適宜重ねて積層し、その表面を上記離型
フィルムで覆って加熱加圧することにより多層プリント
配線板が得られる。離型フィルムは少なくともプリント
配線板素材の積層物の両面ともこの穴を有する場合は、
この両面を上記離型フィルムで覆う。また、一方の面が
穴を有していない場合は、穴を有していない面は上記本
発明の離型フィルムで覆ってもよく、他の離型フィルム
で覆ってもよい。
In the present invention, the printed wiring board material means the following substrate, copper foil, adhesive prepreg and the like. These are appropriately stacked and laminated according to the purpose, and the surface is covered with the release film and heated and pressed to obtain a multilayer printed wiring board. If the release film has at least this hole on both sides of the laminate of the printed wiring board material,
Both sides are covered with the release film. When one surface does not have a hole, the surface having no hole may be covered with the release film of the present invention, or may be covered with another release film.

【0025】これらの多層プリント配線板製造方法に用
いられる多層プリント配線板の基板は、セルロース系繊
維紙、ガラス繊維等の織布または不織布を基材として、
これに熱硬化性樹脂を含浸して硬化させたものである。
好適な基板材料としては、例えばガラス繊維−エポキシ
樹脂複合体、ガラス繊維−ポリイミド樹脂複合体、ガラ
ス繊維−マレイミド−トリアジン樹脂複合体材料が用い
られる。これらの基板同士または銅箔もしくはプリント
配線パターンが付された銅箔と基板を接着するために
は、基板に用いられている材料と同種の材料における樹
脂が半硬化状態になっているプリプレグが用いられる。
The substrate of the multilayer printed wiring board used in these multilayer printed wiring board manufacturing methods is made of a woven or non-woven fabric such as a cellulosic fiber paper or glass fiber as a base material.
This is impregnated with a thermosetting resin and cured.
Suitable substrate materials include, for example, glass fiber-epoxy resin composite, glass fiber-polyimide resin composite, and glass fiber-maleimide-triazine resin composite material. In order to adhere these substrates to each other or to a copper foil or a copper foil provided with a printed wiring pattern, a prepreg in which a resin of the same material as the material used for the substrate is in a semi-cured state is used. Can be

【0026】接着プリプレグは、基材に未硬化の熱硬化
性樹脂、必要に応じて硬化剤および溶剤を含浸させ、1
30〜200℃で3〜5分間乾燥することによって製造
できる。接着プリプレグの熱硬化性樹脂の半硬化状態が
好ましい。この状態は、ゲル化時間から管理することが
できるが、170℃におけるゲル化時間としては、ガラ
ス繊維−エポキシ樹脂複合体で100〜300秒、ガラ
ス繊維−ポリイミド樹脂複合体で200〜400秒であ
る。
The adhesive prepreg is prepared by impregnating a base material with an uncured thermosetting resin and, if necessary, a curing agent and a solvent.
It can be manufactured by drying at 30 to 200 ° C. for 3 to 5 minutes. The semi-cured state of the thermosetting resin of the adhesive prepreg is preferred. This state can be controlled from the gel time, but the gel time at 170 ° C. is 100 to 300 seconds for the glass fiber-epoxy resin composite, and 200 to 400 seconds for the glass fiber-polyimide resin composite. is there.

【0027】基板、銅箔、接着プリプレグ等を積層し
て、その積層体の両面に離型フィルムを配置し、加熱加
圧により多層プリント配線板を製造できる。加熱加圧す
る条件は、通常プレス熱板の温度が170〜240℃、
好ましくは180〜220℃、の範囲であり、圧力は5
〜50kg/cm2 、好ましくは20〜30kg/cm
2 、の範囲であり、加圧時間は30〜240分、好まし
くは40〜120分、の範囲であればよい。
A multilayer printed wiring board can be manufactured by laminating substrates, copper foils, adhesive prepregs and the like, disposing release films on both sides of the laminate, and applying heat and pressure. The conditions for heating and pressurizing are usually as follows:
Preferably, it is in the range of 180 to 220 ° C. and the pressure is 5
5050 kg / cm 2 , preferably 20-30 kg / cm
The pressurizing time may be in the range of 30 to 240 minutes, preferably 40 to 120 minutes.

【0028】加熱加圧する際に、離型フィルムとプレス
熱板との間には、何も挟まず両者が直接接する状態でプ
レスしてもよく、離型フィルムとプレス熱板との間にシ
リコーンゴム平板を挟んでプレスしてもよい。プレス熱
板の材質はステンレスが好ましい。
At the time of heating and pressurizing, pressing may be performed in a state in which both are directly in contact with each other without any intervening between the release film and the press hot plate. Pressing may be performed with a rubber plate interposed therebetween. The material of the press hot plate is preferably stainless steel.

【0029】[0029]

【実施例】つぎに、本発明を実施例によりさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されな
い。
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0030】[実施例1]基板材料として、ガラス繊維
−エポキシ樹脂複合体基板を用いて、IVHを有した5
層プリント配線板をつぎのようにして製造した。
[Example 1] A glass fiber-epoxy resin composite substrate was used as a substrate material.
A layer printed wiring board was manufactured as follows.

【0031】銅箔層2と銅箔層3および硬化したガラス
繊維−エポキシ樹脂複合絶縁体1からなる両面銅張り積
層板を、図1に示すように基準穴開けをした後、ドリル
で穴Aをあけ、その部分に銅、エチレンジアミンテトラ
酢酸およびホルムアルデヒドからなるメッキ液を導通さ
せて、スルーホールメッキ4を施した。
A double-sided copper-clad laminate composed of a copper foil layer 2, a copper foil layer 3, and a cured glass fiber-epoxy resin composite insulator 1 was drilled as shown in FIG. , And a plating solution comprising copper, ethylenediaminetetraacetic acid and formaldehyde was passed through the portion, and through-hole plating 4 was performed.

【0032】続いて、銅箔層2と銅箔層3にプリント配
線パターン形成をした後、銅箔層2、銅箔層3およびス
ルーホールメッキ4に対して黒化処理を行った。この黒
化処理は、銅箔の表面に酸化銅を生成させる処理であ
り、接着プリプレグとの接着性を上げうる。
Subsequently, after a printed wiring pattern was formed on the copper foil layer 2 and the copper foil layer 3, a blackening treatment was performed on the copper foil layer 2, the copper foil layer 3 and the through-hole plating 4. This blackening treatment is a treatment for generating copper oxide on the surface of the copper foil, and can increase the adhesiveness with the adhesive prepreg.

【0033】つぎに、図2に示すようにこの基板と銅箔
層8とを接着プリプレグ7を用いて第1回目の多層積層
を行い、銅箔層2の外側に離型フィルム5を置き、銅箔
層8の外側に離型フィルム6を置き、ブラインドバイア
ホールA’を作成した。加熱加圧における条件は190
℃、圧力30kg/cm2 、時間40分である。
Next, as shown in FIG. 2, this substrate and the copper foil layer 8 are subjected to the first multi-layer lamination using the adhesive prepreg 7, and the release film 5 is placed outside the copper foil layer 2. The release film 6 was placed outside the copper foil layer 8 to form a blind via hole A '. The conditions for heating and pressing are 190
° C, pressure 30 kg / cm 2 , time 40 minutes.

【0034】この際接着プリプレグ7の樹脂は流動し、
図3に示すようにスルホールメッキ4の穴をはい上がっ
てきたが、銅箔層2の高さよりわずか0.2μm程度の
高さで留まり、いわゆる樹脂のはみ出しはほとんどなか
った。そのため、はみ出し部分の研磨除去の工程は1回
で終了した。また、容易に離型フィルムを剥がすことが
できた。また、銅箔層2に傷が入ることはなかった。
At this time, the resin of the adhesive prepreg 7 flows,
As shown in FIG. 3, the hole of the through-hole plating 4 went up, but remained at a height of only about 0.2 μm from the height of the copper foil layer 2, and the so-called resin did not protrude substantially. Therefore, the step of polishing and removing the protruding portion was completed once. Further, the release film could be easily peeled off. Further, the copper foil layer 2 was not damaged.

【0035】このとき使用した離型フィルム5および離
型フィルム6は、ETFE(エチレンに基づく重合単位
/テトラフルオロエチレンに基づく重合単位/CH2
CH−C49 に基づく重合単位(モル比)が47/5
3/0.7)の50μm厚の離型フィルムであり、水接
触角95°、ASTM D638に準拠した200℃に
おける引張り破断伸度は260%であった。
The release film 5 and the release film 6 used at this time were ETFE (polymerized units based on ethylene / polymerized units based on tetrafluoroethylene / CH 2 =
Polymerized units based on CH-C 4 F 9 (molar ratio) 47/5
3 / 0.7), a release film having a thickness of 50 μm, a water contact angle of 95 °, and a tensile elongation at break at 200 ° C. in accordance with ASTM D638 of 260%.

【0036】続いて図4に示すように銅箔層2、銅箔層
3、銅箔層8を貫通するようにドリルで穴Bをあけ、そ
の部分にスルーホールメッキ9を施し異化処理した。
Subsequently, as shown in FIG. 4, a hole B was drilled so as to penetrate the copper foil layer 2, the copper foil layer 3, and the copper foil layer 8, and a through-hole plating 9 was applied to the portion to perform catabolic treatment.

【0037】つぎに、あらかじめ作成した両面銅張り板
の銅箔層11および銅箔層13にプリント配線パターン
形成を行い、その後ドリルで穴Cをあけ、その部分にス
ルーホールメッキ14を施した。続いて、銅箔層11、
銅箔層13およびスルーホールメッキ14に対して黒化
処理を行った。
Next, a printed wiring pattern was formed on the copper foil layer 11 and the copper foil layer 13 of the double-sided copper clad board prepared in advance, and thereafter a hole C was drilled, and a through-hole plating 14 was applied to the hole C. Subsequently, the copper foil layer 11,
The copper foil layer 13 and the through-hole plating 14 were blackened.

【0038】つぎに、図5に示すように銅箔層13と銅
箔層11および硬化したガラス繊維−エポキシ樹脂複合
絶縁体12からなる積層板と先に作成した銅箔層2、銅
箔層3、銅箔層8からなる3層基板とを接着プリプレグ
10を用いて第2回目の多層積層を行い、銅箔層13お
よび銅箔層2の外側に離型フィルム5および離型フィル
ム6を置き、加熱加圧して、ブラインドバイアホール
B’およびC’を作成した。加熱加圧条件は190℃、
圧力30kg/cm2 、時間40分である。
Next, as shown in FIG. 5, a laminate comprising the copper foil layer 13 and the copper foil layer 11 and the cured glass fiber-epoxy resin composite insulator 12 and the copper foil layer 2 and the copper foil layer 3. A second multi-layer lamination is performed by using an adhesive prepreg 10 with a three-layer substrate made of a copper foil layer 8, and a release film 5 and a release film 6 are formed outside the copper foil layer 13 and the copper foil layer 2. Then, heating and pressurizing were performed to form blind via holes B ′ and C ′. Heating and pressing conditions are 190 ° C,
The pressure is 30 kg / cm 2 and the time is 40 minutes.

【0039】この際、接着プリプレグ10の樹脂は流動
し、スルホールメッキ9および14の穴をはい上がって
きたが、図6に示すように銅箔層2の高さよりわずか
0.2μm程度の高さで留まり、銅箔層13の高さに対
しても0.2μm程度の高さで留まり、いわゆる樹脂の
はみ出しはほとんどなかった。そのため、はみ出し部分
の研磨除去の工程は1回で終了した。また、容易に離型
フィルム5および6を剥がすことができた。銅箔層2お
よび銅箔層13に傷が入ることはなかった。
At this time, the resin of the adhesive prepreg 10 flows and rises up through the holes of the through-hole platings 9 and 14, but as shown in FIG. And remained at a height of about 0.2 μm with respect to the height of the copper foil layer 13. Therefore, the step of polishing and removing the protruding portion was completed once. Moreover, the release films 5 and 6 could be easily peeled off. The copper foil layer 2 and the copper foil layer 13 were not damaged.

【0040】[実施例2]実施例1における離型フィル
ム5および6を25μmのFEP樹脂フィルム(東レ合
成製、商品名トヨフロンFEP)とした以外は実施例1
と同様にして2回の多層積層を行った。なお、この離型
フィルム5および6の200℃における引張り破断伸度
は150%、水接触角は110°であった。
Example 2 Example 1 was the same as Example 1, except that the release films 5 and 6 were 25 μm FEP resin films (Toyoflon FEP, trade name, manufactured by Toray Synthetic).
In the same manner as in the above, two multilayer laminations were performed. The release films 5 and 6 had a tensile elongation at break of 200% at 150 ° C. and a water contact angle of 110 °.

【0041】第1回目の多層積層では、接着プリプレグ
7の樹脂が銅箔層2の高さより1μmの高さまではみ出
した。そのため、このはみ出し部を研磨除去するため3
回の研磨工程をするだけでよかった。離型フィルムは容
易に剥がすことができた。銅箔層2に傷が入ることはな
かった。
In the first multi-layer lamination, the resin of the adhesive prepreg 7 protruded from the copper foil layer 2 to a height of 1 μm. Therefore, in order to remove the protruding portion by polishing,
It was only necessary to perform the polishing process twice. The release film could be easily peeled off. The copper foil layer 2 was not damaged.

【0042】第2回目の多層積層においても、接着プリ
プレグ10の樹脂が銅箔層2の高さより1μmの高さ、
銅箔層13の高さに対して1μm程度はみ出した。その
ため、このはみ出し部を研磨除去するため3回の研磨工
程をするだけでよかった。離型フィルムは容易に剥がす
ことができた。銅箔層2および銅箔層13に傷が入るこ
とはなかった。
Also in the second multilayer lamination, the resin of the adhesive prepreg 10 is 1 μm higher than the copper foil layer 2,
It protruded by about 1 μm with respect to the height of the copper foil layer 13. Therefore, it is sufficient to perform only three polishing steps in order to polish and remove the protruding portion. The release film could be easily peeled off. The copper foil layer 2 and the copper foil layer 13 were not damaged.

【0043】[比較例1]実施例1における離型フィル
ムを25μmのフッ化ビニル樹脂フィルム(デュポン社
製、商品名:テドラー)とした以外は実施例1と同様に
して2回の多層積層を行った。なお、この離型フィルム
の200℃における引張り破断伸度は80%、水接触角
は80°であった。
Comparative Example 1 Two layers were laminated in the same manner as in Example 1 except that the release film in Example 1 was a 25 μm vinyl fluoride resin film (manufactured by DuPont, trade name: Tedlar). went. The release film had a tensile elongation at break of 200% at 200 ° C. and a water contact angle of 80 °.

【0044】第1回目の多層積層では、接着プリプレグ
7の樹脂が銅箔層2の高さより4μmの高さまではみ出
した。このはみ出し部を研磨除去するため20回の研磨
工程を必要とした。また、フィルムを剥がすのにはフィ
ルムが変形するほどの力が必要であった。ただし、銅箔
層2に傷が入ることはなかった。
In the first multi-layer lamination, the resin of the adhesive prepreg 7 protruded from the height of the copper foil layer 2 by 4 μm. Twenty polishing steps were required to remove the protruding portion by polishing. Further, in order to peel off the film, a sufficient force to deform the film was required. However, the copper foil layer 2 was not damaged.

【0045】第2回目の多層積層においても、接着プリ
プレグ10の樹脂が銅箔層2の高さより4μmの高さ、
銅箔層13の高さに対して4μmはみ出した。そのた
め、このはみ出し部を研磨除去するため20回の研磨工
程を必要とした。また、離型フィルム5および6を剥が
すのには離型フィルムが変形するほどの力が必要であっ
た。ただし、銅箔層2および銅箔層13に傷が入ること
はなかった。
Also in the second multilayer lamination, the resin of the adhesive prepreg 10 is 4 μm higher than the copper foil layer 2,
4 μm protruded from the height of the copper foil layer 13. Therefore, 20 polishing steps were required to remove the protruding portion by polishing. Further, in order to peel off the release films 5 and 6, it was necessary to have enough force to deform the release films. However, the copper foil layer 2 and the copper foil layer 13 were not damaged.

【0046】[比較例2]離型フィルム5および6をE
TFE(エチレンに基づく重合単位/テトラフルオロエ
チレンに基づく重合単位/n−C49 CH=CH2
基づく重合単位(モル比)が47/53/0.1)の5
0μm厚のフィルムとした以外は、実施例1と同様にし
て2回の多層積層を行った。この離型フィルムの水接触
角は91°、200℃における引張り破断伸度は80%
であった。
[Comparative Example 2] The release films 5 and 6 were
5 of TFE (polymerized unit based on ethylene / polymerized unit based on tetrafluoroethylene / polymerized unit based on nC 4 F 9 CH = CH 2 (molar ratio) is 47/53 / 0.1)
Except for forming a film having a thickness of 0 μm, two multilayer laminations were performed in the same manner as in Example 1. The water contact angle of this release film is 91 °, and the tensile elongation at break at 200 ° C. is 80%.
Met.

【0047】第1回目の多層積層では、接着プリプレグ
7の樹脂が銅箔層2の高さより1μmの高さまではみ出
した。そのため、このはみ出し部を研磨除去するため3
回の研磨工程を必要とした。また、離型フィルムは容易
に剥がすことができたが、銅箔層2に微小ではあるが傷
が入った。
In the first multi-layer lamination, the resin of the adhesive prepreg 7 protruded from the height of the copper foil layer 2 by 1 μm. Therefore, in order to remove the protruding portion by polishing,
Polishing steps were required. The release film could be easily peeled off, but the copper foil layer 2 was slightly scratched.

【0048】第2回目の多層積層においても、接着プリ
プレグ10の樹脂が銅箔層2高さより1μmの高さ、銅
箔層13の高さに対して1μm程度はみ出した。そのた
め、このはみ出し部を研磨除去するため3回の研磨工程
を必要とした。また、離型フィルムは容易に剥がすこと
ができたが、銅箔層2および銅箔層13に微小ではある
が傷が入った。
Also in the second multi-layer lamination, the resin of the adhesive prepreg 10 protruded from the height of the copper foil layer 2 by 1 μm and protruded by about 1 μm from the height of the copper foil layer 13. Therefore, three polishing steps were required to remove the protruding portion by polishing. Further, the release film could be easily peeled off, but the copper foil layer 2 and the copper foil layer 13 were slightly scratched.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明の離型フィルムを用いて、ブライ
ンドバイアホールまたはベリードバイアホールを含む多
層プリント配線板を製造すると、接着樹脂のはみ出しが
抑えられ、かつ離型性が優れており、表面の回路パター
ンを傷つけないことから経済性および信頼性に優れた多
層プリント配線板の成形が可能になる。
When a multilayer printed wiring board including a blind via hole or a buried via hole is manufactured using the release film of the present invention, it is possible to suppress the protrusion of the adhesive resin and to have excellent release properties. Since the circuit pattern on the surface is not damaged, it is possible to form a multilayer printed wiring board excellent in economy and reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】銅箔層がガラス繊維−エポキシ樹脂複合絶縁体
の両面に積層した硬化した両面銅張り積層板の概略断面
図。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a cured double-sided copper-clad laminate in which a copper foil layer is laminated on both sides of a glass fiber-epoxy resin composite insulator.

【図2】図1の両面銅張り積層板に接着プリプレグと銅
箔層を積層し、両表面に離型フィルムを積層した状態を
示した概略断面図。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a state in which an adhesive prepreg and a copper foil layer are laminated on the double-sided copper-clad laminate of FIG. 1, and a release film is laminated on both surfaces.

【図3】図2の多層積層板を加圧成形して得られる多層
積層板の概略断面図。
FIG. 3 is a schematic sectional view of a multilayer laminate obtained by pressure-molding the multilayer laminate of FIG.

【図4】図3の多層積層板に穴を開けた状態を示した多
層積層板の概略断面図。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the multilayer laminate in which holes are formed in the multilayer laminate of FIG. 3;

【図5】図4の多層積層板に接着プリプレグと両面銅張
り積層板を積層し、両表面に離型フィルムを積層した状
態を示した概略断面図。
5 is a schematic cross-sectional view showing a state in which an adhesive prepreg and a double-sided copper-clad laminate are laminated on the multilayer laminate of FIG. 4, and release films are laminated on both surfaces.

【図6】図5の多層積層板を加圧成形して得られる多層
積層板の概略断面図。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a multilayer laminate obtained by pressure-molding the multilayer laminate of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:ガラス繊維−エポキシ樹脂複合絶縁体 2:銅箔層 3:銅箔層 4:スルーホールメッキ 5:離型フィルム 6:離型フィルム 7:接着プリプレグ 8:銅箔層 9:スルーホールメッキ 10:接着プリプレグ 11:銅箔層 12:ガラス繊維−エポキシ樹脂複合絶縁体 13:銅箔層 14:スルーホールメッキ A:穴 A’:硬化した接着プリプレグによって満たされたブラ
インドバイアホール B:穴 B’:硬化した接着プリプレグによって満たされたブラ
インドバイアホール C:穴 C’:硬化した接着プリプレグによって満たされたブラ
インドバイアホール
1: glass fiber-epoxy resin composite insulator 2: copper foil layer 3: copper foil layer 4: through hole plating 5: release film 6: release film 7: adhesive prepreg 8: copper foil layer 9: through hole plating 10 : Bonded prepreg 11: Copper foil layer 12: Glass fiber-epoxy resin composite insulator 13: Copper foil layer 14: Through-hole plating A: Hole A ': Blind via hole filled with cured adhesive prepreg B: Hole B' : Blind via hole filled with cured adhesive prepreg C: Hole C ': Blind via hole filled with cured adhesive prepreg

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08J 5/18 CEW C08J 5/18 CEW H05K 3/20 7511−4E H05K 3/20 A B29K 27:12 ──────────────────────────────────────────────────の Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical indication location C08J 5/18 CEW C08J 5/18 CEW H05K 3/20 7511-4E H05K 3/20 A B29K 27: 12

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】200℃における引張り破断伸度が100
%以上であるテトラフルオロエチレン系共重合体からな
る、インタスティシャルバイアホールを含む多層プリン
ト配線板製造用の離型フィルム。
1. A tensile elongation at break at 200 ° C. of 100
% Of a tetrafluoroethylene-based copolymer having an interstitial via hole.
【請求項2】テトラフルオロエチレン系共重合体が、テ
トラフルオロエチレン−エチレン系共重合体、テトラフ
ルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン系共重合
体、またはテトラフルオロエチレン−パーフルオロ(ア
ルキルビニルエーテル)系共重合体である請求項1の離
型フィルム。
2. The tetrafluoroethylene-based copolymer is a tetrafluoroethylene-ethylene-based copolymer, a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene-based copolymer, or a tetrafluoroethylene-perfluoro (alkyl vinyl ether) -based copolymer. The release film according to claim 1, which is united.
【請求項3】テトラフルオロエチレン系共重合体が、テ
トラフルオロエチレン、エチレンおよび(パーフルオロ
ブチル)エチレンの共重合体であり、(パーフルオロブ
チル)エチレンに基づく重合単位を0.2〜10モル%
含む請求項1の離型フィルム。
3. The tetrafluoroethylene-based copolymer is a copolymer of tetrafluoroethylene, ethylene and (perfluorobutyl) ethylene, wherein the polymerization unit based on (perfluorobutyl) ethylene is 0.2 to 10 mol. %
The release film according to claim 1, comprising:
【請求項4】プリント配線板素材積層物を加熱加圧して
インタスティシャルバイアホールを含む多層プリント配
線板を製造する方法において、素材積層物の少なくとも
穴を有する表面を、200℃における引張り破断伸度が
100%以上であるテトラフルオロエチレン系共重合体
のフィルムからなる離型フィルムで覆って加熱加圧する
ことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
4. A method for producing a multilayer printed wiring board including interstitial via holes by heating and pressurizing a printed wiring board material laminate, wherein at least a surface of the material laminate having holes is subjected to tensile breaking elongation at 200 ° C. A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising covering with a release film made of a film of a tetrafluoroethylene copolymer having a degree of 100% or more and heating and pressing.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004262951A (en) * 2003-01-17 2004-09-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Mold release sheet for producing substrate and method for producing substrate using the same
WO2011037034A1 (en) * 2009-09-24 2011-03-31 旭硝子株式会社 Mold release film, and method for manufacturing light emitting diode
JP2017205901A (en) * 2016-05-16 2017-11-24 三井化学東セロ株式会社 Release film for process suppressing poor appearance of molded product, application of the same, and method for manufacturing resin-sealed semiconductor using the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004262951A (en) * 2003-01-17 2004-09-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Mold release sheet for producing substrate and method for producing substrate using the same
WO2011037034A1 (en) * 2009-09-24 2011-03-31 旭硝子株式会社 Mold release film, and method for manufacturing light emitting diode
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