JPH1049855A - Magnetic recording medium and its manufacture - Google Patents

Magnetic recording medium and its manufacture

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JPH1049855A
JPH1049855A JP20831496A JP20831496A JPH1049855A JP H1049855 A JPH1049855 A JP H1049855A JP 20831496 A JP20831496 A JP 20831496A JP 20831496 A JP20831496 A JP 20831496A JP H1049855 A JPH1049855 A JP H1049855A
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hydrocarbon
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magnetic recording
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Kenichi Kurihara
研一 栗原
Masafumi Ata
誠文 阿多
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a magnetic recording medium, whose purity is increased, whose mechanical strength is enhanced and whose running property and durability are good, by method wherein a plasma polymerization film composed of spherical carbons to which hydrocarbon is added is formed on a magnetic layer of the magnetic recording medium. SOLUTION: Electrodes 10, 11 for plasma generation are arranged in parallel inside a reactor 1 so as to keep an interval of 30cm, and the electrode 10 on one side is connected to a plasma power supply 13 via an impedance matching device 12. In addition, a molybdenum port 14 for fullerene sublimation and a sample 15 are disposed between the electrodes 10, 11 with interval of 10cm. In addition, the molybdenum port 14 and the sample 15 are installed between the electrodes 10, 11 so as to be faced by keeping an interval of 10cm, and a DC power supply 16 is connected to the molybdenum port 14.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体及び
その製造方法に関し、特に保護層の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium and a method for manufacturing the same, and more particularly to an improvement in a protective layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】ダイヤモンド、グラファイトに次ぐ第3
の結晶炭素として、球状炭素化合物であるフラーレンの
存在が明らかにされ、マクロ量の合成法が確率されたの
は1990年になってからである。
2. Description of the Related Art The third after diamond and graphite
The existence of fullerene, a spherical carbon compound, was revealed as the crystalline carbon of, and it was only in 1990 that the synthesis of macro amounts was established.

【0003】フラーレンは炭素のみからなる一連の球状
炭素化合物(Higher Fullereness)
の総称であり、12個の5員環と12個またはそれ以上
の6員環を含んでいる。すなわち、60個、70個、7
6個あるいは84個等(炭素数は幾何学的に球状構造を
形成し得る数から選択される)の炭素原子が球状に結合
してクラスターを構成してなる球状炭素であって、それ
ぞれC60、C70、C76あるいはC84等のように表され
る。
[0003] Fullerenes are a series of spherical carbon compounds consisting only of carbon (Higher Fullerness).
And includes 12 5-membered rings and 12 or more 6-membered rings. That is, 60, 70, 7
A spherical carbon in which 6 or 84 carbon atoms (the number of carbon atoms is selected from the numbers capable of geometrically forming a spherical structure) are spherically bonded to form a cluster, each of which is C 60 , C 70 , C 76 or C 84 .

【0004】例えばC60は、正二十面体の頂点を全て切
り落として正五角形を出した“切頭二十面体”と呼ばれ
る多面体構造を有し、図15に図示するように、この多
面体の60個の頂点を全て炭素原子Cで置換したクラス
ターであり、公式サッカーボール様の分子構造を有す
る。また、C70は、図16に示すようないわばラグビー
ボール様の分子構造を示し、C76あるいはC84等も同様
な構造を有する。
For example, C 60 has a polyhedral structure called “truncated icosahedron” in which all vertices of a regular icosahedron are cut off to form a regular pentagon, and as shown in FIG. This is a cluster in which all vertices are substituted with carbon atoms C, and has a molecular structure similar to an official soccer ball. In addition, C 70 has a molecular structure similar to a rugby ball like that shown in FIG. 16, and C 76 or C 84 has a similar structure.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のフラ
ーレンは、その用途を巡って各方面で研究が進められて
おり、その用途の一つとして磁気記録媒体用の保護層の
原料が考えられている。
The fullerenes described above have been studied in various fields for their uses, and one of the uses is considered as a raw material for a protective layer for a magnetic recording medium. I have.

【0006】一般に、磁気記録媒体では磁性層側の表面
が磁気ヘッドに高速摺動されることから、その摺動に対
する耐久性を付与する目的で磁性層上に保護層が設けら
れる。
Generally, in a magnetic recording medium, the surface on the side of the magnetic layer slides at a high speed with the magnetic head. Therefore, a protective layer is provided on the magnetic layer for the purpose of imparting durability to the sliding.

【0007】この磁気記録媒体用の保護層としては、こ
れまで炭素原子がアモルファス状に分布しているものが
使用されている。このアモルファス状のカーボン保護層
は、グラファイトとダイヤモンドの中間的な性質を有す
る。
As the protective layer for the magnetic recording medium, a layer in which carbon atoms are distributed in an amorphous state has been used. This amorphous carbon protective layer has properties intermediate between graphite and diamond.

【0008】このようなカーボン保護層の成膜方法とし
ては、一般的にはスパッタリング法が用いられる。この
スパッタリング法では、グラファイト等のターゲットに
Ar等の不活性ガスのイオンを衝突させ、その衝突エネ
ルギーによって炭素原子を外部に放出させ、放出した炭
素原子を、磁性層表面に被着させることでカーボン膜を
成膜する。
As a method for forming such a carbon protective layer, a sputtering method is generally used. In this sputtering method, ions of an inert gas such as Ar collide with a target such as graphite, and carbon atoms are released to the outside by the collision energy, and the released carbon atoms are deposited on the surface of the magnetic layer. A film is formed.

【0009】このスパッタリング法では、原料が炭素原
子のみからなるため、成膜される保護層中に原料に由来
した不純物の混入がない。また、膜質も緻密であり、し
かも比較的簡単に成膜が行えるといった長所を有する。
しかし、成膜レートが非常に遅いといった欠点があり、
生産性の点で問題がある。
In this sputtering method, since the raw material consists only of carbon atoms, there is no contamination of the protective layer to be formed with impurities derived from the raw material. In addition, it has the advantages that the film quality is dense and the film can be formed relatively easily.
However, there is a drawback that the deposition rate is very slow,
There is a problem in productivity.

【0010】一方、成膜レートが速いことから最近注目
されている成膜方法としてCVD(Chemical
Vapor Deposition)法である。
On the other hand, CVD (Chemical) has recently been attracting attention because of its high deposition rate.
Vapor Deposition) method.

【0011】このCVD法では、生成させようとする固
体生成物元素を含む原料ガス(この場合には、炭素を生
成させるため例えばCH4ガスなどが用いられる)とキ
ャリアガスとの混合ガスを、熱あるいはプラズマ等によ
り反応させ、この反応によって生成された炭素原子を磁
性層表面に被着させ、カーボン保護層を成膜する。
In this CVD method, a mixed gas of a source gas containing a solid product element to be generated (in this case, for example, CH 4 gas or the like is used to generate carbon) and a carrier gas, A reaction is caused by heat or plasma, and carbon atoms generated by the reaction are adhered to the surface of the magnetic layer to form a carbon protective layer.

【0012】このCVD法は、スパッタリング法に比べ
て5〜10倍程度の成膜レートが得られ、生産性を上げ
るには有利である。しかし、このCVD法にもいくつか
の問題点がある。例えば、原料ガスの構成元素が炭素の
みではないため、炭素と分解し切れなかった水素等の他
元素が保護層中に残存する、また排ガス処理が困難であ
るといったことである。さらに、CVD法で成膜される
カーボン膜は、スパッタリング法で成膜されるカーボン
膜に比べて緻密性が低いため、磁性層の酸化を十分に防
止できない。また媒体の走行性を改善する目的で潤滑剤
を保持させた場合にはこの潤滑剤が表面から失われ易い
といった欠点もある。
The CVD method can obtain a film formation rate about 5 to 10 times that of the sputtering method, and is advantageous for increasing productivity. However, this CVD method also has some problems. For example, since the constituent element of the raw material gas is not only carbon, other elements such as hydrogen that have not been completely decomposed with carbon remain in the protective layer, and it is difficult to treat the exhaust gas. Further, since the carbon film formed by the CVD method has lower density than the carbon film formed by the sputtering method, the oxidation of the magnetic layer cannot be sufficiently prevented. Further, when a lubricant is held for the purpose of improving the running property of the medium, there is a disadvantage that the lubricant is easily lost from the surface.

【0013】この2種類の成膜方法が、現在、保護層の
成膜方法として主に用いられており、このようにそれぞ
れ一長一短を有している。
At present, these two types of film forming methods are mainly used as a method for forming a protective layer, and thus each has advantages and disadvantages.

【0014】そこで、これらの成膜方法での問題点を解
消するものとして、先に示したフラーレンの使用が有望
視されている。
Therefore, as a solution to the problems in these film forming methods, the use of the fullerene described above is considered promising.

【0015】まず、フラーレンは、炭素原子のみからな
ることから、成膜される保護層中に炭素以外の元素を混
入させることがほとんどない。
First, since fullerene is composed only of carbon atoms, elements other than carbon are hardly mixed into the formed protective layer.

【0016】また、フラーレンの球状分子同士の間には
ファンデルワールス力のみしか作用していないため、グ
ラファイト等と異なり500℃程度の比較的低温で昇華
させることができ、例えば抵抗加熱等の簡易な加熱方式
を採用することが可能になる。
Further, since only the van der Waals force acts between the spherical molecules of fullerene, it can be sublimated at a relatively low temperature of about 500 ° C. unlike graphite or the like. It is possible to adopt a simple heating method.

【0017】しかも、フラーレンは表面がπ電子で取り
囲まれていることから潤滑性を示すことが期待される。
Further, fullerene is expected to exhibit lubricity since its surface is surrounded by π electrons.

【0018】すなわち、固体潤滑剤として一般に知られ
ているグラファイトは6員環が平面に広がり、これがπ
電子の重なりで層をなしている。グラファイトは、この
表面に広がるπ電子によって潤滑性を示す。しかし、グ
ラファイトは、媒体の保護層として使用するには強度が
弱く、また媒体上に成膜するのが非常に困難である。こ
のため、保護層としては、前述したようにスパッタリン
グ法等によって成膜されたアモルファス状のカーボン膜
が使用される。
That is, graphite, which is generally known as a solid lubricant, has a six-membered ring spread in a plane, which is π
Layers are formed by overlapping electrons. Graphite exhibits lubricity by π electrons spreading on this surface. However, graphite has low strength to be used as a protective layer of a medium, and is very difficult to form on a medium. For this reason, an amorphous carbon film formed by a sputtering method or the like as described above is used as the protective layer.

【0019】一方、C60に代表されるフラーレンも、グ
ラファイトと同様に表面がπ電子で取り囲まれており、
これによって潤滑性を示すことが期待される。保護層が
潤滑性を有していると、磁気ヘッドや各種摺動部材との
摩擦係数が低められ、媒体の走行耐久性を改善する上で
有利になる。
On the other hand, fullerene typified by C 60 also has a surface surrounded by π electrons like graphite,
This is expected to show lubricity. When the protective layer has lubricity, the coefficient of friction with the magnetic head and various sliding members is reduced, which is advantageous in improving the running durability of the medium.

【0020】しかしながら、例えばフラーレンを単に蒸
着膜として形成した場合、フラーレンの分子同士の間は
ファンデルワールス力のみしか作用しない。このため、
たとえ潤滑性を有していても、剥離、膜の削れ等が起き
易く、保護層としては不十分である。
However, for example, when fullerene is simply formed as a vapor-deposited film, only van der Waals force acts between molecules of fullerene. For this reason,
Even if it has lubricity, peeling, film shaving and the like are likely to occur, and it is insufficient as a protective layer.

【0021】これに対して、フラーレンを不活性ガスプ
ラズマ中で昇華させることによってプラズマ重合を生じ
させることも考えられる。このようなフラーレンのプラ
ズマ重合膜は、フラーレン同士で付加結合を生じてお
り、優れた機械的特性を示す。しかし、フラーレンをプ
ラズマ重合させるとπ電子密度が低下し、例えばグラフ
ァイトと比較して潤滑性が劣る傾向がある。
On the other hand, it is conceivable to cause plasma polymerization by sublimating fullerene in an inert gas plasma. Such a plasma-polymerized fullerene film has an additional bond between fullerenes and exhibits excellent mechanical properties. However, plasma polymerization of fullerene lowers the π-electron density, and tends to be inferior in lubricity as compared with, for example, graphite.

【0022】このようにフラーレンは磁気記録媒体用の
保護層として有望であるが、機械的強度と潤滑性能を両
立させる技術は確立していないのが実情である。
As described above, fullerene is promising as a protective layer for a magnetic recording medium, but a technique for achieving both mechanical strength and lubrication performance has not been established.

【0023】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、純度が高く機械的強度に
優れるとともに潤滑性を有する保護層が速い成膜レート
で成膜され、良好な走行性、耐久性が得られるとともに
生産性に優れた磁気記録媒体及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
Accordingly, the present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and a protective layer having high purity, excellent mechanical strength, and lubricity is formed at a high film forming rate. It is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium having excellent running properties and durability and excellent productivity, and a method for manufacturing the same.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、フラーレンC
nを炭化水素系ガスプラズマ中で昇華させるか、あるい
はフラーレンCnのプラズマ重合膜に炭化水素ガスのプ
ラズマ処理を行うと、機械的強度に優れ、しかも潤滑
性,帯電防止性を有するプラズマ重合膜が得られるとの
知見を得るに至った。
The inventors of the present invention have made intensive studies to achieve the above object, and as a result, have found that fullerene C
or sublimed in hydrocarbon gas plasma n, or when the plasma treatment of a hydrocarbon gas into a plasma polymerization film of fullerene C n, excellent mechanical strength, yet lubricity, plasma polymerized film having antistatic properties Has been obtained.

【0025】本発明の磁気記録媒体は、このような知見
に基づいて完成されたものである。
The magnetic recording medium of the present invention has been completed based on such findings.

【0026】すなわち、本発明の磁気記録媒体は、非磁
性支持体上に、少なくとも磁性層及び保護層が形成され
てなり、上記保護層は、Cn(但し、nは幾何学的に球
状化合物を形成し得る整数である。)で表される球状炭
素類のプラズマ重合体よりなり、このプラズマ重合体を
構成する球状炭素類の少なくとも一部に、(Cabc
(但し、a,b,cはいずれも整数である。)で表され
る炭化水素が付加されていることを特徴とするものであ
る。
That is, the magnetic recording medium of the present invention has at least a magnetic layer and a protective layer formed on a nonmagnetic support, and the protective layer is formed of C n (where n is a geometrically spherical compound). is an integer which can form consists plasma polymer spherical carbons represented by.), at least a portion of the spherical carbons which constitute the plasma polymer, (C a H b) c
(However, a, b, and c are all integers.) A hydrocarbon is added.

【0027】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、非磁性支持体上に磁性層を形成した後、Cn(但
し、nは幾何学的に球状化合物を形成し得る整数であ
る。)で表される球状炭素類を昇華源とし、炭化水素ガ
ス存在下でプラズマ重合を行うことによって保護層を成
膜することを特徴とするものである。
In the method for producing a magnetic recording medium of the present invention, after forming a magnetic layer on a nonmagnetic support, C n (where n is an integer capable of forming a geometrically spherical compound). ) Is characterized by forming a protective layer by performing plasma polymerization in the presence of a hydrocarbon gas using spherical carbons represented by the formula (1).

【0028】さらに、非磁性支持体上に磁性層を形成し
た後、Cn(但し、nは幾何学的に球状化合物を形成し
得る整数である。)で表される球状炭素類を昇華源と
し、不活性ガス存在下でプラズマ重合を行うことによっ
てプラズマ重合膜を成膜し、このプラズマ重合膜に炭化
水素ガスのプラズマ処理を行うことで保護層を形成する
ことを特徴とするものである。
Further, after forming a magnetic layer on a non-magnetic support, a spherical carbon represented by C n (where n is an integer capable of forming a spherical compound geometrically) is converted into a sublimation source. A plasma polymerization film is formed by performing plasma polymerization in the presence of an inert gas, and a protective layer is formed by performing plasma treatment of a hydrocarbon gas on the plasma polymerization film. .

【0029】球状炭素類Cnのプラズマ重合体であっ
て、このプラズマ重合体を構成する球状炭素類Cnの少
なくとも一部に炭化水素が付加結合している保護層は、
球状炭素類Cn同士の付加結合及び付加した炭化水素に
よる橋架け構造によって優れた機械的強度を示す。ま
た、付加した炭化水素、特に長鎖を形成した炭化水素に
よって潤滑性や電気伝導性が付与され、保護層であると
同時に潤滑剤層や帯電防止層としても機能する。したが
って、このような保護層が形成された磁気記録媒体は、
良好な走行性、耐久性が得られる。
[0029] A plasma polymer spherical carbons C n, a protective layer at least partially on the hydrocarbon spherical carbons C n constituting the plasma polymer is added bond,
It exhibits excellent mechanical strength by bridging structure by additional bond and the added hydrocarbon spherical carbons C n together. In addition, the added hydrocarbon, particularly a hydrocarbon having a long chain, imparts lubricity and electric conductivity, and functions as a lubricant layer and an antistatic layer as well as a protective layer. Therefore, a magnetic recording medium on which such a protective layer is formed,
Good running performance and durability are obtained.

【0030】このような保護層は、球状炭素類Cnを昇
華源とし、炭化水素ガス存在下でプラズマ重合を行う
か、あるいは不活性ガス存在下でプラズマ重合を行うこ
とによって球状炭素類のプラズマ重合膜を成膜し、この
プラズマ重合膜に炭化水素ガスのプラズマ処理を行うこ
とで形成される。
Such a protective layer is formed by subjecting spherical carbons C n to a sublimation source and performing plasma polymerization in the presence of a hydrocarbon gas or by performing plasma polymerization in the presence of an inert gas. A polymer film is formed, and the plasma polymer film is formed by performing a plasma treatment with a hydrocarbon gas.

【0031】このとき、原料となる球状炭素類Cnは、
分子同士の間でファンデルワールス力しか作用していな
いことから、容易に昇華し、CVD法と同等以上の成膜
レートが得られる。また、CVD法のように保護層中に
炭素以外の元素が混入したり排ガス処理の問題が生じな
い。したがって、純度の高い保護層が効率よく形成さ
れ、高い生産性が得られる。
At this time, the spherical carbon C n as a raw material is
Since only the Van der Waals force acts between the molecules, it easily sublimates, and a film formation rate equal to or higher than that of the CVD method can be obtained. Further, unlike the CVD method, there is no problem that elements other than carbon are mixed in the protective layer and there is no problem of exhaust gas treatment. Therefore, a high-purity protective layer is efficiently formed, and high productivity is obtained.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0033】この実施の形態に係る磁気記録媒体は、非
磁性支持体上に、磁性層、保護層が順次形成されてな
り、特に上記保護層は、Cnで表される球状炭素類の重
合構造に炭化水素が付加した炭化水素付加フラーレン重
合膜として形成されている。
The magnetic recording medium according to this embodiment, on a nonmagnetic support, a magnetic layer, a protective layer is formed in sequence, particularly the protective layer, the polymerization of the spherical carbon compound represented by C n It is formed as a hydrocarbon-added fullerene polymer film in which hydrocarbon is added to the structure.

【0034】炭化水素付加フラーレン重合膜は、球状炭
素類Cnを炭化水素ガスプラズマ中で昇華させることに
よって成膜される。炭化水素ガスプラズマ中で球状炭素
類Cnを昇華させると、球状炭素類Cnと炭化水素が付
加反応を起こすとともに球状炭素類Cn同士が重合し、
球状炭素類Cnの重合構造に炭化水素が付加した構造の
重合膜が成膜される。
The hydrocarbon addition fullerene polymer film is deposited by sublimation of spherical carbons C n hydrocarbon gas plasma. When sublimation of spherical carbons Cn hydrocarbon gas plasma, and the polymerization is spherical carbons C n together with causing hydrocarbons addition reaction with spherical carbons C n,
Is polymerized structure hydrocarbon spherical carbons C n polymerized film having a structure added is deposited.

【0035】このとき、球状炭素類Cnと炭化水素の付
加反応では、球状炭素類Cnの二重結合が切れ、この箇
所に炭化水素が付加する。この付加反応で生成される付
加反応生成物は様々である。具体例として、C60とC2
6の付加反応及びC60とC22との付加反応について
説明する。
At this time, in the addition reaction between the spherical carbons C n and the hydrocarbon, the double bond of the spherical carbons C n is broken, and the hydrocarbon is added at this position. There are various addition reaction products generated by this addition reaction. As specific examples, C 60 and C 2
The addition reaction of H 6 and the addition reaction between C 60 and C 2 H 2 will be described.

【0036】まず、C26は飽和炭化水素であり、この
炭化水素とC60では、図1〜図4に示すような付加反応
生成物を生じる。このうち図1はC60に1分子のC26
が付加したものであり、図2〜図4はC60に2分子のC
26が付加したものである。2分子のC26が付加した
ものには、図2,図3に示すように2分子のC26がそ
れぞれ直接C60に付加する場合と、図4のようにC60
付加したC25の末端に別のC26が付加し、長鎖を形
成する場合がある。
First, C 2 H 6 is a saturated hydrocarbon, and this hydrocarbon and C 60 produce an addition reaction product as shown in FIGS. C 2 H 6 of these, FIG. 1 to C 60 1 molecule
Is intended but with the addition, C 2 molecule Figures 2-4 C 60
2 H 6 is added. The one C 2 H 6 in the two molecules were added, FIG. 2, the case where C 2 H 6 2 molecules as shown in FIG. 3 is added directly to C 60, respectively, added to the C 60 as shown in FIG. 4 In some cases, another C 2 H 6 is added to the end of the C 2 H 5 thus formed to form a long chain.

【0037】これらの反応で最も生じやすいのは、半経
験的分子軌道法による反応熱の計算結果によると、図4
に示すタイプの付加反応であることが明らかになってい
る。このように長鎖を形成した炭化水素は、一般的な炭
化水素系潤滑剤と同様な役割を果たし、膜表面の摩擦低
減に寄与する。
The most frequent occurrence of these reactions is shown in FIG.
It has been found that this is an addition reaction of the type shown in FIG. The hydrocarbon having a long chain thus plays a role similar to that of a general hydrocarbon-based lubricant, and contributes to a reduction in friction on the film surface.

【0038】この他、C60とC26の付加反応には、図
5に示すように、2つのC60の間にC22による橋架け
構造が形成されるものも確認されている。この橋架け構
造も比較的安定であり、C60の重合度向上に寄与し、膜
の強度を増加させる。
In addition, as shown in FIG. 5, in the addition reaction between C 60 and C 2 H 6 , it was confirmed that a bridge structure of C 2 H 2 was formed between two C 60s. I have. The crosslinked structure is also relatively stable, contributing to the degree of polymerization improvement of C 60, increasing the strength of the film.

【0039】次に、C22は不飽和炭化水素であり、こ
の炭化水素とC60では、図6〜図8に示すような付加反
応生成物や水素H2の脱離を伴って図9に示すような付
加反応生成物を生じる。これらの反応のうち最も生じや
すいのは、半経験的分子軌道法による反応熱の計算結果
によると、図6に示すタイプの付加反応であることが明
らかになっている。また、球状炭素類Cnに付加した炭
化水素の末端に、別の炭化水素が付加し、長鎖を形成す
る場合もある。このように付加した炭化水素は、一般的
な炭化水素系潤滑剤と同様な役割を果たし、膜表面の摩
擦低減に寄与する。
Next, C 2 H 2 is an unsaturated hydrocarbon, and this hydrocarbon and C 60 are accompanied by addition reaction products and desorption of hydrogen H 2 as shown in FIGS. An addition reaction product as shown in FIG. 9 results. According to the calculation results of the heat of reaction by the semi-empirical molecular orbital method, it is clear that the most likely of these reactions is the addition reaction of the type shown in FIG. Also, the ends of the hydrocarbon appended to spherical carbons C n, added another hydrocarbon, may form a long chain. The hydrocarbon thus added plays a role similar to that of a general hydrocarbon-based lubricant, and contributes to reduction of friction on the film surface.

【0040】この他、C60とC22の付加反応には、図
10に示すように、2つのC60の間にC2による橋架け
構造が形成されるものも確認されている。この橋架け構
造も比較的安定であり、C60の重合度向上に寄与し、膜
の強度を増加させる。
In addition, as shown in FIG. 10, in the addition reaction of C 60 and C 2 H 2 , it has been confirmed that a bridge structure of C 2 is formed between two C 60s . The crosslinked structure is also relatively stable, contributing to the degree of polymerization improvement of C 60, increasing the strength of the film.

【0041】一方、炭化水素ガスプラズマ中では、これ
らの付加反応が生じるとともに、フラーレンCnの複数
個が少なくとも1箇所において互いに付加する重合反応
が生じ、重合膜の基本骨格が形成される。
On the other hand, the hydrocarbon gas plasma, with these additional reactions occur, the polymerization reaction occurs to be added to each other at a plurality of the fullerene C n is at least one place, the basic skeleton of the polymer film is formed.

【0042】この基本骨格は(Cn+jx(但し、nは6
0,70,76,84等より選ばれる幾何学的に球状を
形成し得る整数であり、jは−10〜10の2の倍数、
xは整数である。)なる分子式で表される。ここで、j
の値は、Cn単体から炭素の欠落または付加の数を表し
ている。つまり、Cnから炭素の欠落または付加によ
り、C58、C56、・・・、あるいはC62等が得ら
れ、それらが重合するため、このCn重合構造は必ずし
もCnの整数倍が重合体の骨格となっているとは限らな
い。
The basic skeleton is (C n + j ) x (where n is 6
0, 70, 76, 84, etc., is an integer capable of forming a geometrically spherical shape, j is a multiple of −10 to 10;
x is an integer. ). Where j
Represents the number of carbons missing or added from Cn alone. That is, by lack or addition of carbon from C n, C58, C56, · · · or C62 or the like is obtained, because they polymerize, the Cn polymerized structure necessarily a skeleton of integral multiple polymer C n Not necessarily.

【0043】このようなCn重合構造は、種々の形態を
とることができ、C60の2量体の場合を例にすると、図
11に示すようなC120の構造の他、炭素の欠落によっ
て得られる、図12に示すようなC118の構造、あるい
は図13に示すようなC116の構造等が存在する。重合
度が進んだものは、これらの結合形態が混在しているも
のと考えられる。
[0043] Such C n polymeric structure may take a variety of forms, the following applies for the case of a dimer of C 60, another structure of the C 120, as shown in FIG. 11, the missing carbon the resulting structure like the C 116, as shown in structure or FIG. 13, the C 118, as shown in FIG. 12 is present. Those having a higher degree of polymerization are considered to have a mixture of these bond forms.

【0044】この保護層は、これらのCn重合構造のみ
によって形成されていてもよいが、この場合にはCn
合構造が共有結合により網目状に全体に広がっているも
のと推測される。また、Cn重合構造を部分的に有する
場合には、このCn重合構造がアモルファス状に分布
し、重合していない部分ではファン・デル・ワールス力
によって結合しあっているものと推測される。なお、こ
の保護層においては、上記Cn重合構造とともに、原料
であるC60等のCn単体分子が混在していても良い。ま
た、炭化水素は、このCn重合構造を構成している球状
炭素類の全てに付加していても良く、一部の球状炭素類
に付加していても構わない。
The protective layer may be formed only of these C n polymerized structures, but in this case, it is presumed that the C n polymerized structure is spread over the whole network by covalent bonds. Further, if it has a C n polymerized structure partially, the C n polymerized structure distributed in amorphous, the portion not polymerized is presumed that are bound together by van der Waals forces . Incidentally, in this protective layer, together with the C n polymerized structure, C n single molecules of C 60 or the like as a raw material may be mixed. Further, the hydrocarbon may be added to all of the spherical carbons constituting the C n polymerized structure, or may be added to some of the spherical carbons.

【0045】原料として使用する球状炭素類Cnの炭素
数nは、原料の入手の容易さ、膜の強度の点から60で
あるのが好適である。これ以外の球状炭素類によっても
重合膜を形成することは可能であるが、例えば炭素数n
が70、76、84等の高次の球状炭素類によって成膜
される重合膜は、C60によって成膜される重合膜に比べ
て機械的強度が劣る。また、C60以外の球状炭素類は、
生産収量が大幅に減少し不利である。なお、原料として
は、1種類の球状炭素類Cnを単独で用いても、複数種
の球状炭素類Cnを組み合わせて用いるようにしても構
わない。
The carbon number n of the spherical carbons C n used as the raw material is preferably 60 from the viewpoint of the availability of the raw material and the strength of the film. Although it is possible to form a polymer film with other spherical carbons, for example, the number of carbon atoms is n
There polymerized film deposited by high-order spherical carbon such as 70,76,84, the mechanical strength is inferior to the polymerization film formed by C 60. Spherical carbons other than C 60 are
The production yield is greatly reduced and disadvantageous. As the raw material, 1 be used types of spherical carbons C n alone may be used in combination of plural kinds of spherical carbons C n.

【0046】炭化水素ガスプラズマを発生させるための
炭化水素は、C26のような飽和炭化水素であってもC
22のような不飽和炭化水素であっても構わない。
The hydrocarbon for generating the hydrocarbon gas plasma may be a saturated hydrocarbon such as C 2 H 6 ,
It may be an unsaturated hydrocarbon such as 2 H 2 .

【0047】飽和炭化水素は、Cx2x+2(但し、xは
正数である。)で表され、先に例示したC26の他、C
4、C38等の常圧下で気体のものが扱い易い。常圧
下で液体状態の、比較的炭素数の大きい炭化水素の場合
には、反応器内を減圧条件とすることで使用可能とな
る。
The saturated hydrocarbon is represented by C x H 2x + 2 (where x is a positive number), and in addition to C 2 H 6 exemplified above,
It is easy to handle gaseous ones under normal pressure such as H 4 and C 3 H 8 . In the case of a hydrocarbon having a relatively large number of carbon atoms, which is in a liquid state at normal pressure, it can be used by reducing the pressure in the reactor.

【0048】一方、不飽和炭化水素としては、C24
のような2重結合を有するもの、あるいはC22等のよ
うに3重結合を有するもののいずれでも良い。但し、反
応性に着目すれば、C22等の3重結合を有するものを
使用することが望ましい。
On the other hand, as the unsaturated hydrocarbon, any of those having a double bond such as C 2 H 4 and those having a triple bond such as C 2 H 2 may be used. However, from the viewpoint of reactivity, it is desirable to use a compound having a triple bond such as C 2 H 2 .

【0049】これらの飽和炭化水素、不飽和炭化水素
も、それぞれの炭素数に応じて図1〜図5あるいは図6
〜図10に準じて付加反応生成物を生ずる。なお、炭化
水素は、1種類を単独で使用しても良く、複数種を組み
合わせて使用しても差し支えない。また、不活性ガス等
の他のガスと混合して使用しても構わない。
These saturated hydrocarbons and unsaturated hydrocarbons are also shown in FIG. 1 to FIG.
~ Addition reaction product is produced according to FIG. One type of hydrocarbon may be used alone, or a plurality of types may be used in combination. Further, it may be used by being mixed with another gas such as an inert gas.

【0050】炭化水素付加フラーレン重合膜は、このよ
うに球状炭素類Cnを炭化水素ガスプラズマ中で昇華さ
せることによって成膜されるが、この他、球状炭素類C
nを不活性ガスプラズマ中で昇華させてフラーレン重合
膜を成膜した後、このフラーレン重合膜に炭化水素ガス
のプラズマ処理を行うことによっても得られる。
The hydrocarbon-added fullerene polymer film is formed by sublimating the spherical carbons C n in a hydrocarbon gas plasma as described above.
After sublimating n in an inert gas plasma to form a fullerene polymer film, the fullerene polymer film is also subjected to plasma treatment with a hydrocarbon gas.

【0051】フラーレン重合膜に、炭化水素ガスのプラ
ズマ処理を施すと、フラーレン重合膜の最表面において
フラーレンの2重結合が切れ、この箇所に炭化水素が付
加し、炭化水素付加フラーレン重合膜が形成される。
When the fullerene polymer film is subjected to a plasma treatment with a hydrocarbon gas, the double bond of fullerene is broken at the outermost surface of the fullerene polymer film, and hydrocarbon is added to this portion to form a hydrocarbon-added fullerene polymer film. Is done.

【0052】なお、この場合、原料として使用する球状
炭素類Cn、フラーレン重合膜にガスプラズマ処理を施
すための炭化水素としては先に例示したものがいずれも
使用可能である。
In this case, any of the above-listed examples of the spherical carbon C n used as a raw material and the hydrocarbon for subjecting the fullerene polymerized film to gas plasma treatment can be used.

【0053】以上のように、本発明ではCnで表される
球状炭素類を昇華源としてプラズマ重合させるととも
に、炭化水素を付加させることで保護層を形成する。
As described above, in the present invention, the spherical carbon represented by C n is subjected to plasma polymerization as a sublimation source, and a protective layer is formed by adding a hydrocarbon.

【0054】ここで、球状炭素類Cnを昇華源に用いる
ことの最大の利点は、Cnの分子同士の間にはファンデ
ルワールス力のみしか作用していないことであり、グラ
ファイトあるいは黒鉛等と異なり500℃程度の比較的
低温で昇華させることが可能である。このため、短時間
に強固なプラズマ重合膜を形成することができる。
Here, the greatest advantage of using spherical carbons C n as a sublimation source is that only van der Waals forces act between molecules of C n , such as graphite or graphite. Unlike this, sublimation can be performed at a relatively low temperature of about 500 ° C. Therefore, a strong plasma polymerized film can be formed in a short time.

【0055】しかも、この球状炭素類Cnは容易に付加
反応を起こすため、このように炭化水素を付加させるこ
とで潤滑性や電気伝導性をもたせることができる。
[0055] Moreover, the order spherical carbons C n is causing easy addition reaction, it is possible to have a lubricating property and the electrical conductivity by an addition of such hydrocarbons.

【0056】これにより機械的特性、潤滑特性さらには
帯電防止性を兼ね備えた保護層が得られる。
Thus, a protective layer having mechanical properties, lubricating properties and antistatic properties can be obtained.

【0057】なお、球状炭素類Cnをプラズマ重合させ
るためのプラズマ発生の放電方式は、公知の直流放電、
低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電等の各種方式
が採用可能であり、また電極の種類及び放電発生方式と
しては、内部電極方式、外部電極方式、導波管方式、容
量結合型、誘導結合型、無電極発振型等から選択可能で
ある。
[0057] The discharge system of plasma generation for causing plasma polymerization spherical carbons C n, a known DC discharge,
Various methods such as low-frequency discharge, high-frequency discharge, microwave discharge, etc. can be adopted. Type, electrodeless oscillation type, and the like.

【0058】放電条件は直流放電ではガス圧力、電極間
距離、電圧の関係を示すパッシェンの法則が成立する範
囲、交流放電では放電可能範囲であれば重合に問題はな
い。ガス圧は好ましくは13パスカル(100mT)以
下である。
There is no problem in polymerization as long as the discharge condition is a range in which Paschen's law indicating the relationship between gas pressure, distance between electrodes, and voltage is satisfied in DC discharge, and a dischargeable range in AC discharge. The gas pressure is preferably below 13 Pascal (100 mT).

【0059】本発明の磁気記録媒体には以上のような保
護層が設けられるが、磁気記録媒体を構成するこの他の
材料、例えば非磁性支持体や磁性層の材料としては、通
常用いられているものがいずれも使用可能である。
The magnetic recording medium of the present invention is provided with the protective layer as described above. Other materials constituting the magnetic recording medium, such as a non-magnetic support and a material of the magnetic layer, are usually used. Any of them can be used.

【0060】例えば、非磁性支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレ
ート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、
セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート
ブチレート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート
類、ポリアミドイミド類に代表されるような高分子材料
や、アルミニウム合金、チタン合金等からなる金属板、
アルミナガラス、セラミックス等により形成される支持
体等が挙げられる。その形態も何ら限定されるものでは
なく、テープ状、シート状、ドラム状等いかなる形態で
あってもよい。
For example, non-magnetic supports include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene; cellulose triacetate;
Cellulose derivatives such as cellulose diacetate and cellulose triacetate butyrate, vinyl resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, polycarbonates, polymer materials represented by polyamideimides, aluminum alloys, titanium alloys and the like Metal plate,
Examples of the support include a support formed of alumina glass, ceramics, and the like. The form is not limited at all, and may be any form such as a tape form, a sheet form, and a drum form.

【0061】磁性層としては例えば金属磁性薄膜が設け
られる。この金属磁性薄膜は、メッキやスパッタリン
グ、真空蒸着等のPVD(物理的蒸着)の手法により連
続膜として形成することができ、例えばFe、Co、N
i、Co−Ni系合金、Co−Pt系合金、Co−Pt
−Ni系合金、Fe−Co系合金、Fe−Ni系合金、
Fe−Co−Ni系合金、Fe−Ni−B系合金、Fe
−Co−B系合金、Fe−Co−Ni−B系合金等から
なる金属磁性薄膜等が挙げられる。この場合、金属薄膜
の膜厚は50nm〜200nm程度であることが望まし
い。
As the magnetic layer, for example, a metal magnetic thin film is provided. This metal magnetic thin film can be formed as a continuous film by a PVD (physical vapor deposition) technique such as plating, sputtering, or vacuum vapor deposition. For example, Fe, Co, N
i, Co-Ni alloy, Co-Pt alloy, Co-Pt
-Ni-based alloy, Fe-Co-based alloy, Fe-Ni-based alloy,
Fe-Co-Ni alloy, Fe-Ni-B alloy, Fe
A metal magnetic thin film made of a -Co-B-based alloy, an Fe-Co-Ni-B-based alloy, or the like. In this case, the thickness of the metal thin film is desirably about 50 nm to 200 nm.

【0062】[0062]

【実施例】以下、本発明を適用した実施例について、具
体的な実験結果を基に詳細に説明する。なお、言うまで
もなく本発明はこの実施例により制限されるものではな
い。
EXAMPLES Hereinafter, examples to which the present invention is applied will be described in detail based on specific experimental results. Needless to say, the present invention is not limited by this embodiment.

【0063】プラズマ重合装置 本発明においては、保護層の成膜に際して各種プラズマ
重合装置が使用可能であるが、ここでは本実施例におい
て使用した平行平板電極式容量結合型のプラズマ重合装
置の構成について説明する。
Plasma Polymerization Apparatus In the present invention, various plasma polymerization apparatuses can be used for forming the protective layer. Here, the configuration of the parallel plate electrode type capacitively coupled plasma polymerization apparatus used in this embodiment is described. explain.

【0064】図14は、本実施例で用いた平行平板電極
式容量結合型のプラズマ重合装置を示すものである。
FIG. 14 shows a parallel plate electrode type capacitively coupled plasma polymerization apparatus used in this embodiment.

【0065】このプラズマ重合装置は、容量約20リッ
トルの反応器1を備え、この反応器1にはガス供給管
2,3が設けられている。また、反応器1の底部には、
油拡散ポンプ4はロータリーポンプ5,6、液体窒素ト
ラップ7,8等から構成される真空排気系に連結された
排気口9が設けられている。
This plasma polymerization apparatus includes a reactor 1 having a capacity of about 20 liters, and the reactor 1 is provided with gas supply pipes 2 and 3. Also, at the bottom of the reactor 1,
The oil diffusion pump 4 is provided with an exhaust port 9 connected to a vacuum exhaust system composed of rotary pumps 5 and 6, liquid nitrogen traps 7 and 8, and the like.

【0066】上記反応器1内には、プラズマ発生用電極
10,11が30cmの間隔を隔てて平行に配置され、
一方の電極10はインピーダンス整合器12を介してプ
ラズマ電源13に接続されている。また、上部の電極1
0からはガスがシャワー状にこれらの電極10,11間
に導入されるようになっている。
In the reactor 1, plasma generating electrodes 10, 11 are arranged in parallel with a spacing of 30 cm.
One electrode 10 is connected to a plasma power supply 13 via an impedance matching device 12. Also, the upper electrode 1
From 0, gas is introduced between these electrodes 10 and 11 in a shower-like manner.

【0067】さらに、上記電極10,11間には、フラ
ーレン昇華用のモリブデンボート14及び試料15が1
0cmの間隔を隔てて対向して設置されており、モリブ
デンボート14には直流電源16が接続されている。
Further, a molybdenum boat 14 for fullerene sublimation and a sample 15 are provided between the electrodes 10 and 11.
The molybdenum boat 14 is connected to a direct-current power supply 16 at a distance of 0 cm.

【0068】プラズマ電源13の出力は、交流13.5
MHzのラジオ波である。ここでは、この出力を10W
から100Wまで変化させ、13.5パスカルに設定し
た炭化水素系ガス(又は不活性ガス)一定流量系に発生
させ、このプラズマ中にモリブデンボート14にいれた
フラーレンを昇華させてプラズマ重合を行った。なお、
重合中の膜厚はセンサー17により連続的にモニターし
た。
The output of the plasma power supply 13 is 13.5 AC.
It is a radio wave of MHz. Here, this output is 10W
To 100 W, and a hydrocarbon-based gas (or an inert gas) set at 13.5 Pascal was generated in a constant flow rate system. In this plasma, fullerene in a molybdenum boat 14 was sublimated to perform plasma polymerization. . In addition,
The film thickness during the polymerization was continuously monitored by the sensor 17.

【0069】原料物質であるフラーレンは、He雰囲気
中、カーボングラファイト棒を電極として用いて直流ア
ーク放電を発生させ、その際に生成するススの中から得
た。すすの生成条件は、印加電圧が60V、放電電流が
200A、Heガス圧が100Torrである。
Fullerene as a raw material was obtained from soot produced by generating a DC arc discharge in a He atmosphere using a carbon graphite rod as an electrode. The conditions for producing soot are an applied voltage of 60 V, a discharge current of 200 A, and a He gas pressure of 100 Torr.

【0070】このようにして生成したススから、ベンゼ
ンまたはトルエン等の有機溶媒による抽出によってCn
の混合物が得られる。このCnの混合物を、ベンゼンま
たはトルエンを展開溶媒としてシリカゲルカラムにか
け、C60あるいはC70等を分離した。そして、各分
離抽出液を乾燥することでプラズマ重合の原料を得た。
From the soot thus formed, Cn was extracted by extraction with an organic solvent such as benzene or toluene.
Is obtained. The mixture of Cn was applied to a silica gel column using benzene or toluene as a developing solvent to separate C60 or C70. Then, each separated extract was dried to obtain a raw material for plasma polymerization.

【0071】実施例1 10μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに、
斜方蒸着法によりCo−Ni系合金を被着させ、膜厚1
00nmの強磁性金属薄膜を形成し、長さ20cm、幅
8mmに裁断した。
Example 1 A 10 μm thick polyethylene terephthalate film was
A Co—Ni-based alloy is deposited by oblique deposition,
A 00 nm ferromagnetic metal thin film was formed and cut into a length of 20 cm and a width of 8 mm.

【0072】次に、この金属磁性薄膜表面に、上述のプ
ラズマ重合装置によって炭化水素付加フラーレン重合膜
(保護層)を10nmの厚さで成膜し、サンプルテープ
を作製した。ここで昇華源にはC60フラーレン単独を用
い、C26ガスプラズマ下で重合を行った。なお、プラ
ズマ電源の出力は20Wである。
Next, on the surface of the metal magnetic thin film, a hydrocarbon-added fullerene polymer film (protective layer) was formed to a thickness of 10 nm by the above-mentioned plasma polymerization apparatus to prepare a sample tape. Here with C 60 fullerene alone sublimation source, polymerization was performed under C 2 H 6 gas plasma. The output of the plasma power supply is 20W.

【0073】実施例2〜実施例5 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、プ
ラズマ電源の出力を表1に示すように変えたこと以外は
実施例1と同様にしてサンプルテープを作製した。
Examples 2 to 5 Sample tapes were prepared in the same manner as in Example 1 except that the output of the plasma power supply was changed as shown in Table 1 when forming the hydrocarbon-added fullerene polymer film. .

【0074】実施例6〜実施例9 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、プ
ラズマガスとして表1に示す飽和炭化水素を用い、プラ
ズマ電源の出力を60Wとしたこと以外は実施例1と同
様にしてサンプルテープを作製した。
Examples 6 to 9 The same procedures as in Example 1 were carried out except that the saturated hydrocarbon shown in Table 1 was used as the plasma gas and the output of the plasma power supply was 60 W when forming the hydrocarbon-added fullerene polymer film. A sample tape was produced in the same manner.

【0075】実施例10 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、C
60とC70を5:5(モル比)なる割合で混合した混合物
(C60/C70フラーレン)を昇華源として用い、プラズ
マ電源の出力を60Wに変えたこと以外は実施例1と同
様にしてサンプルテープを作製した。
Example 10 When forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
The same procedure as in Example 1 was performed except that a mixture (C 60 / C 70 fullerene) obtained by mixing 60 and C 70 at a ratio of 5: 5 (molar ratio) was used as a sublimation source and the output of the plasma power supply was changed to 60 W. To prepare a sample tape.

【0076】実施例11 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、C
70フラーレン単独を昇華源として用い、プラズマ電源の
出力を60Wに変えたこと以外は実施例1と同様にして
サンプルテープを作製した。
Example 11 When forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
A sample tape was produced in the same manner as in Example 1 except that 70 fullerene alone was used as a sublimation source, and the output of the plasma power supply was changed to 60 W.

【0077】実施例12 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、C
60とC76を5:5(モル比)なる割合で混合した混合物
(C60/C76フラーレン)を昇華源として用い、プラズ
マ電源の出力を60Wに変えたこと以外は実施例1と同
様にしてサンプルテープを作製した。
Example 12 When forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
The same procedure as in Example 1 was carried out except that a mixture (C 60 / C 76 fullerene) obtained by mixing 60 and C 76 at a ratio of 5: 5 (molar ratio) was used as a sublimation source and the output of the plasma power supply was changed to 60 W. To prepare a sample tape.

【0078】実施例13 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、C
60とC84を5:5(モル比)なる割合で混合した混合物
(C60/C84フラーレン)を昇華源として用い、プラズ
マ電源の出力を60Wに変えたこと以外は実施例1と同
様にしてサンプルテープを作製した。
Example 13 When forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
A mixture was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixture (C 60 / C 84 fullerene) obtained by mixing 60 and C 84 at a ratio of 5: 5 (molar ratio) was used as a sublimation source, and the output of the plasma power supply was changed to 60 W. To prepare a sample tape.

【0079】実施例14 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、C
24をプラズマガスとして用いたこと以外は実施例1と
同様にしてサンプルテープを作製した。
Example 14 When forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
A sample tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that 2 H 4 was used as a plasma gas.

【0080】実施例15〜実施例17 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、プ
ラズマ電源の出力を表2に示すように変えたこと以外は
実施例14と同様にしてサンプルテープを作製した。
Examples 15 to 17 Sample tapes were prepared in the same manner as in Example 14 except that the output of the plasma power source was changed as shown in Table 2 when forming the hydrocarbon-added fullerene polymer film. .

【0081】実施例18 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、C
22をプラズマガスとして用いたこと以外は実施例1と
同様にしてサンプルテープを作製した。
Example 18 When forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
A sample tape was produced in the same manner as in Example 1 except that 2 H 2 was used as a plasma gas.

【0082】実施例19〜実施例21 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、プ
ラズマ電源の出力を表2に示すように変えたこと以外は
実施例18と同様にしてサンプルテープを作製した。
Examples 19 to 21 Sample tapes were prepared in the same manner as in Example 18 except that the output of the plasma power supply was changed as shown in Table 2 when forming the hydrocarbon-added fullerene polymer film. .

【0083】実施例22 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、C
36をプラズマガスとして用い、プラズマ電源の出力を
60Wに変えたこと以外は実施例1と同様にしてサンプ
ルテープを作製した。
Example 22 When forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
A sample tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that 3 H 6 was used as a plasma gas and the output of the plasma power supply was changed to 60 W.

【0084】実施例23 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、C
60とC70を5:5(モル比)なる割合で混合した混合物
(C60/C70フラーレン)を昇華源として用い、プラズ
マ電源の出力を60Wに変えたこと以外は実施例14と
同様にしてサンプルテープを作製した。
Example 23 When forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
Same as Example 14 except that a mixture (C 60 / C 70 fullerene) obtained by mixing 60 and C 70 at a ratio of 5: 5 (molar ratio) was used as a sublimation source and the output of the plasma power supply was changed to 60 W. To prepare a sample tape.

【0085】実施例24 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、C
70フラーレン単独を昇華源として用い、プラズマ電源の
出力を60Wに変えたこと以外は実施例14と同様にし
てサンプルテープを作製した。
Example 24 When forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
A sample tape was prepared in the same manner as in Example 14, except that 70 fullerene alone was used as a sublimation source, and the output of the plasma power supply was changed to 60 W.

【0086】実施例25 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、C
60とC76を5:5(モル比)なる割合で混合した混合物
(C60/C76フラーレン)を昇華源として用い、プラズ
マ電源の出力を60Wに変えたこと以外は実施例14と
同様にしてサンプルテープを作製した。
Example 25 When forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
Example 14 was carried out in the same manner as in Example 14 except that a mixture (C 60 / C 76 fullerene) obtained by mixing 60 and C 76 at a ratio of 5: 5 (molar ratio) was used as a sublimation source, and the output of the plasma power supply was changed to 60 W. To prepare a sample tape.

【0087】実施例26 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜するに際して、C
60とC84を5:5(モル比)なる割合で混合した混合物
(C60/C84フラーレン)を昇華源として用い、プラズ
マ電源の出力を60Wに変えたこと以外は実施例14と
同様にしてサンプルテープを作製した。
Example 26 When forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
The same procedure as in Example 14 was carried out except that a mixture (C 60 / C 84 fullerene) obtained by mixing 60 and C 84 at a ratio of 5: 5 (molar ratio) was used as a sublimation source and the output of the plasma power supply was changed to 60 W. To prepare a sample tape.

【0088】実施例27 炭化水素付加フラーレン重合膜を次のようにして成膜し
たこと以外は、実施例1と同様にしてサンプルテープを
作製した。
Example 27 A sample tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that a hydrocarbon-added fullerene polymer film was formed as follows.

【0089】昇華源としてC60フラーレン単独を用い、
Arガスプラズマ下、出力60Wでフラーレンのプラズ
マ重合膜を成膜した。続いてこのプラズマ重合膜に、C
26ガスによるプラズマ処理を60Wの出力で施し、プ
ラズマ重合膜に炭化水素を付加させることによって保護
層を形成した。
Using C 60 fullerene alone as a sublimation source,
A fullerene plasma polymerized film was formed at an output of 60 W under Ar gas plasma. Subsequently, C was added to this plasma polymerized film.
A plasma treatment with 2 H 6 gas was performed at an output of 60 W, and a hydrocarbon was added to the plasma polymerized film to form a protective layer.

【0090】実施例28 フラーレン重合膜を成膜するに際して、プラズマガスと
してHeガスを用いたこと以外は実施例27と同様にし
てサンプルテープを作製した。
Example 28 A sample tape was produced in the same manner as in Example 27 except that He gas was used as a plasma gas when forming a fullerene polymer film.

【0091】実施例29 フラーレン重合膜に、C22ガスによるプラズマ処理を
60Wの出力で行うことで炭化水素を付加したこと以外
は実施例27と同様にしてサンプルテープを作製した。
Example 29 A sample tape was prepared in the same manner as in Example 27, except that hydrocarbon was added to the fullerene polymer film by performing plasma treatment with C 2 H 2 gas at an output of 60 W.

【0092】実施例30 フラーレン重合膜を成膜するに際して、プラズマガスと
してHeガスを用いること以外は実施例29と同様にし
てサンプルテープを作製した。
Example 30 A sample tape was prepared in the same manner as in Example 29 except that a He gas was used as a plasma gas when forming a fullerene polymer film.

【0093】比較例1 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜する代わりに、C
60フラーレン単独を昇華源として10-3パスカルの真空
下で蒸着を行うことで、保護層を成膜したこと以外は実
施例1と同様にしてサンプルテープを作製した。
Comparative Example 1 Instead of forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
A sample tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that a protective layer was formed by performing vapor deposition under vacuum of 10 −3 Pascal using 60 fullerene alone as a sublimation source.

【0094】比較例2 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜する代わりに、昇
華源としてC60フラーレン単独を用い、Arガスプラズ
マ下、出力60Wでフラーレンのプラズマ重合膜を成膜
すること以外は実施例1と同様にしてサンプルテープを
作製した。
[0094] Instead of forming the Comparative Example 2 hydrocarbon addition fullerene polymer film, using a C 60 fullerene alone as sublimation source, under Ar gas plasma, except for forming a plasma polymerized film of fullerene in output 60W embodiment A sample tape was produced in the same manner as in Example 1.

【0095】比較例3 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜する代わりに、ス
パッタリング法によってカーボン保護層を成膜した。
Comparative Example 3 A carbon protective layer was formed by a sputtering method instead of forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film.

【0096】比較例4 炭化水素付加フラーレン重合膜を成膜する代わりに、C
VD法によってカーボン保護層を成膜した。
Comparative Example 4 Instead of forming a hydrocarbon-added fullerene polymer film, C
A carbon protective layer was formed by the VD method.

【0097】[0097]

【表1】 [Table 1]

【0098】[0098]

【表2】 [Table 2]

【0099】[0099]

【表3】 [Table 3]

【0100】以上のようにして作製したサンプルテープ
について、摩擦係数、スチル特性及びひっかき強度の測
定を行った。その結果を表4〜表7に示す。なお、これ
らの測定方法は下記の通りである。
With respect to the sample tape manufactured as described above, the friction coefficient, the still characteristics, and the scratching strength were measured. The results are shown in Tables 4 to 7. In addition, these measuring methods are as follows.

【0101】摩擦係数:サンプルテープのステンレスガ
イドピンに対する摩擦係数であり、シャトル走行を20
0回行ったときの200回目の摩擦係数を示す。この数
値が小さい程、摩擦が低く、走行性が良いことを表す。
Coefficient of friction: The coefficient of friction of the sample tape against the stainless steel guide pin.
It shows the coefficient of friction at the 200th time when it is performed 0 times. The smaller the value, the lower the friction and the better the running performance.

【0102】スチル特性:8mmビデオデッキを耐久性
試験用に改造したものを使用した。この耐久性試験用の
ビデオデッキは、回転ドラムと記録再生システムを有
し、サンプルテープの同一部分のみの出力変化がモニタ
されるようになっている。このデッキによって、出力が
再生1回目の半分の値になるまでの時間(分)を測定し
た。この数値が大きい程、耐久性が良いことを示す。な
お、測定は最長120分とした。
Still characteristics: An 8 mm video deck modified for a durability test was used. The video deck for durability test has a rotating drum and a recording / reproducing system, and the output change of only the same portion of the sample tape is monitored. Using this deck, the time (minutes) required for the output to reach half the value of the first reproduction was measured. The larger the value, the better the durability. The measurement was performed for a maximum of 120 minutes.

【0103】ひっかき強度:それぞれサンプルテープに
成膜したのと同じ条件で、ガラス板上に保護層を成膜し
た。そして、この保護層をピンセットで擦り、そのとき
の保護層の傷の様子を目視で観察した。◎は傷がほとん
ど認められない場合、○はわずかに傷が認められるがほ
とんど問題がない場合、△は多少傷が認められる場合、
×は傷が多く見受けられ、耐久性の点で問題になる場合
を示す。
Scratch strength: A protective layer was formed on a glass plate under the same conditions as those for forming a film on the sample tape. Then, the protective layer was rubbed with tweezers, and the state of the scratch on the protective layer at that time was visually observed. ◎: When scars are scarcely recognized, ○: Slight scratches are recognized but almost no problem, △: When scratches are slightly recognized,
X shows the case where many scratches are seen and becomes a problem in terms of durability.

【0104】[0104]

【表4】 [Table 4]

【0105】[0105]

【表5】 [Table 5]

【0106】[0106]

【表6】 [Table 6]

【0107】[0107]

【表7】 [Table 7]

【0108】まず、炭化水素ガスプラズマ下でのプラズ
マ重合によって炭化水素付加フラー重合膜を形成した実
施例1〜実施例26のサンプルテープは、フラーレンの
蒸着膜を保護層として形成した比較例1のサンプルテー
プや、プラズマ重合膜を形成しているが、この重合膜に
炭化水素を付加させていない比較例2のサンプルテープ
に比べて、強度の高い保護層が形成されており、耐久性
に優れている。また、摩擦係数も低い値になっている。
これは、フラーレンの蒸着膜では、フラーレン分子同士
の間でファンデルワールス力しか作用しないのに対し
て、フラーレンのプラズマ重合膜の場合ではフラーレン
分子同士で付加重合が起こっており、強固な膜を形成す
るからである。また、重合膜に付加させた炭化水素によ
って潤滑性が付与されるからである。
First, the sample tapes of Examples 1 to 26 in which a hydrocarbon-added fuller polymerized film was formed by plasma polymerization under a hydrocarbon gas plasma were used in Comparative Example 1 in which a deposited film of fullerene was formed as a protective layer. Compared with the sample tape of Comparative Example 2 in which a sample tape or a plasma polymerized film is formed but no hydrocarbon is added to the polymerized film, a protective layer having higher strength is formed, and the durability is excellent. ing. Also, the coefficient of friction is low.
This is because in a fullerene vapor deposited film, only van der Waals force acts between fullerene molecules, whereas in the case of a fullerene plasma polymerized film, addition polymerization occurs between fullerene molecules and a strong film is formed. It is because it forms. Further, the lubricating property is imparted by the hydrocarbon added to the polymer film.

【0109】そして、これら実施例1〜実施例26で形
成した炭化水素付加フラーレン重合膜は、比較例3で形
成したスパッタカーボン膜あるいは比較例4で形成した
CVDカーボン膜と比較しても同等の強度、耐久性を有
している。
The hydrocarbon-added fullerene polymer film formed in each of Examples 1 to 26 is equivalent to the sputtered carbon film formed in Comparative Example 3 or the CVD carbon film formed in Comparative Example 4. It has strength and durability.

【0110】ここで、スパッタリング法は成膜レートが
低く、またCVD法は膜の純度が低いことと排ガス処理
の問題がある。一方、フラーレンのプラズマ重合ではC
VD法と同等の成膜レートが得られ、短時間に純度の高
い重合膜を成膜することができ、しかも成膜された薄膜
は強度、耐久性に優れている。つまり、フラーレンのプ
ラズマ重合膜は、保護層としての特性と生産性のいずれ
の点においてもスパッタ膜やCVD膜に比べて優位であ
ると言える。
Here, the sputtering method has a low film forming rate, and the CVD method has a problem of low film purity and an exhaust gas treatment. On the other hand, in plasma polymerization of fullerene, C
A film formation rate equivalent to that of the VD method can be obtained, a high-purity polymer film can be formed in a short time, and the formed thin film has excellent strength and durability. In other words, it can be said that the fullerene plasma polymerized film is superior to the sputtered film and the CVD film in both the characteristics as a protective layer and the productivity.

【0111】なお、さらに詳細に実験データを見ると、
プラズマ重合膜に飽和炭化水素を付加させたもののうち
では、特に飽和炭化水素の炭素数が2以上のものは、摩
擦係数が大きく低減している。また、プラズマ重合膜に
不飽和炭化水素を付加させたもののうちでは、特に3重
結合を有するC22を付加させたもの(実施例18〜実
施例21)で、摩擦係数が大きく低減している。
In addition, looking at the experimental data in more detail,
Among those obtained by adding a saturated hydrocarbon to the plasma polymerized film, those having a saturated hydrocarbon having 2 or more carbon atoms have a significantly reduced friction coefficient. Further, among the plasma polymerized films obtained by adding unsaturated hydrocarbons, those obtained by adding C 2 H 2 having a triple bond (Examples 18 to 21) greatly reduced the friction coefficient. ing.

【0112】また、実施例3〜実施例9あるいは実施例
16,実施例17,実施例20,実施例21のように、
高いプラズマパワーで形成された重合膜は、より優れた
強度、耐久性が得られているのがわかる。
Further, as in the third to ninth embodiments, the sixteenth, the seventeenth, the twentieth and the twenty-first embodiments,
It can be seen that the polymer film formed with high plasma power has more excellent strength and durability.

【0113】実施例10〜実施例13、実施例23〜実
施例26では、昇華源としてC60にC70、C76あるいは
84等の高次フラーレンを混合したもの、あるいはこれ
らの高次フラーレンを単独で使用している。これらのプ
ラズマ重合膜も、比較例1のフラーレン蒸着膜や比較例
2のフラーレン重合膜に比べれば強度は高いものの、C
60を単独で使用して成膜されたプラズマ重合膜に比べれ
ると、スチル特性あるいはひっかき強度が劣っている。
これは、実験によって確認されているがC60に比べてC
70、C76あるいはC84等の高次フラーレンではフラーレ
ン分子同士の重合が起こり難いからである。また、C70
等の高次フラーレンは、生産収量が非常に少ないため、
工業的観点からも不利となる。したがって、特性及び工
業的観点から昇華源としてはC60を使用するのが望まし
い。
[0113] Examples 10 to 13, Example 23 to Example 26, as a mixture of higher fullerenes such as C 70, C 76 or C 84 to C 60 as a sublimation source, or these higher fullerenes Is used alone. These plasma polymerized films also have higher strength than the fullerene vapor-deposited film of Comparative Example 1 and the fullerene polymerized film of Comparative Example 2.
Compared to a plasma polymerized film formed using 60 alone, still characteristics or scratch strength are inferior.
This has been confirmed experimentally in comparison with C 60 C
70, the higher fullerenes such as C 76 or C 84 because hardly occurs polymerization of fullerene molecules together. In addition, C 70
Higher fullerenes have very low production yields.
It is disadvantageous from an industrial point of view. Therefore, it is desirable to use C 60 as sublimation source from properties and industrial point of view.

【0114】一方、実施例27〜実施例30の場合で
は、一旦、不活性ガスプラズマ下でフラーレン重合膜を
成膜した後に、このフラーレン重合膜に対して炭化水素
ガスのプラズマ処理を施している。これらのサンプルテ
ープも、炭化水素ガスプラズマ下でプラズマ重合を行っ
た系と同等の特性が得られている。
On the other hand, in the case of Examples 27 to 30, the fullerene polymerized film was once formed under the inert gas plasma, and then the fullerene polymerized film was subjected to the plasma treatment with the hydrocarbon gas. . These sample tapes also have properties equivalent to those obtained by plasma polymerization under hydrocarbon gas plasma.

【0115】このことから、フラーレン重合膜に炭化水
素を付加させる方法としては、フラーレンの重合に際し
て予め炭化水素ガスを反応器中に導入しても良く、一旦
成膜されたフラーレン重合膜に炭化水素ガスのプラズマ
処理を施す方法であってもよいことがわかる。
Therefore, as a method of adding a hydrocarbon to the fullerene polymerized film, a hydrocarbon gas may be introduced into the reactor in advance when polymerizing the fullerene, and the hydrocarbon is added to the once formed fullerene polymerized film. It is understood that a method of performing plasma treatment of gas may be used.

【0116】[0116]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明においては、磁気記録媒体の磁性層上に、炭化水素が
付加した球状炭素類のプラズマ重合膜が形成されている
ので、CVDと同等以上の成膜レートで機械的強度、潤
滑性能、帯電防止性に優れた保護層が形成できる。ま
た、このプラズマ重合では、CVD法と異なり、保護層
中に原料由来の不純物が混入したり、排ガス処理の問題
が生じることがない。
As is clear from the above description, in the present invention, since a plasma-polymerized film of spherical carbons to which hydrocarbons are added is formed on the magnetic layer of the magnetic recording medium, the CVD method is used. A protective layer having excellent mechanical strength, lubricating performance, and antistatic property can be formed at a film forming rate equal to or higher than that. In addition, unlike the CVD method, the plasma polymerization does not cause impurities derived from raw materials to be mixed into the protective layer, and does not cause a problem of exhaust gas treatment.

【0117】したがって、このような保護層が形成され
た磁気記録媒体は、良好な走行性、耐久性を得ることが
でき、また、高い生産性が得られ、工業的にも非常に有
利である。
Therefore, the magnetic recording medium on which such a protective layer is formed can obtain good running properties and durability, and can obtain high productivity, which is very advantageous industrially. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】C60とC26の付加反応による付加反応生成物
の一例を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of an addition reaction product by an addition reaction between C 60 and C 2 H 6 .

【図2】C60とC26の付加反応による付加反応生成物
の他の例を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing another example of an addition reaction product by an addition reaction between C 60 and C 2 H 6 .

【図3】C60とC26の付加反応による付加反応生成物
のさらに他の例を示す模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing still another example of the addition reaction product obtained by the addition reaction between C 60 and C 2 H 6 .

【図4】C60とC26の付加反応による付加反応生成物
のさらに他の例を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing still another example of an addition reaction product obtained by addition reaction between C 60 and C 2 H 6 .

【図5】2分子のC60の間に形成されたC22による橋
架け構造を示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a bridge structure of C 2 H 2 formed between two molecules of C 60 .

【図6】C60とC22の付加反応による付加反応生成物
の一例を示す模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing an example of an addition reaction product by an addition reaction between C 60 and C 2 H 2 .

【図7】C60とC22の付加反応による付加反応生成物
の他の例を示す模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram showing another example of an addition reaction product obtained by the addition reaction between C 60 and C 2 H 2 .

【図8】C60とC22の付加反応による付加反応生成物
のさらに他の例を示す模式図である。
FIG. 8 is a schematic diagram showing still another example of the addition reaction product obtained by the addition reaction between C 60 and C 2 H 2 .

【図9】C60とC22の付加反応による付加反応生成物
のさらに他の例を示す模式図である。
FIG. 9 is a schematic diagram showing still another example of the addition reaction product obtained by the addition reaction between C 60 and C 2 H 2 .

【図10】2分子のC60の間に形成されたC2による橋
架け構造を示す模式図である。
FIG. 10 is a schematic view showing a bridge structure by C 2 formed between two molecules of C 60 .

【図11】C120の構造を示す模式図である。11 is a schematic diagram showing the structure of C 120.

【図12】C118の構造を示す模式図である。12 is a schematic diagram showing the structure of C 118.

【図13】C116の構造を示す模式図である。13 is a schematic diagram showing the structure of C 116.

【図14】プラズマ重合装置の1構成例を示す概略断面
図である。
FIG. 14 is a schematic sectional view showing one configuration example of a plasma polymerization apparatus.

【図15】C60フラーレンの構造を示す模式図である。15 is a schematic diagram showing the structure of a C 60 fullerene.

【図16】C70フラーレンの構造を示す模式図である。16 is a schematic diagram showing the structure of a C 70 fullerene.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11B 5/72 G11B 5/72 // C10N 40:18 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Agency reference number FI Technical display location G11B 5/72 G11B 5/72 // C10N 40:18

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性支持体上に、少なくとも磁性層及
び保護層が形成されてなる磁気記録媒体において、 上記保護層は、Cn(但し、nは幾何学的に球状化合物
を形成し得る整数である。)で表される球状炭素類のプ
ラズマ重合体よりなり、このプラズマ重合体を構成する
球状炭素類の少なくとも一部に、(Cabc(但し、
a,b,cはいずれも整数である。)で表される炭化水
素が付加されていることを特徴とする磁気記録媒体。
1. A magnetic recording medium comprising at least a magnetic layer and a protective layer formed on a nonmagnetic support, wherein the protective layer is formed of C n (where n is a geometrically spherical compound). Which is an integer.), And at least a part of the spherical carbons constituting the plasma polymer has (C a H b ) c (provided that:
a, b, and c are all integers. A magnetic recording medium comprising a hydrocarbon represented by the formula (1):
【請求項2】 上記プラズマ重合体は、球状炭素類同士
で少なくとも1ヶ所の付加結合が形成されることによっ
て複数の球状炭素類が重合した構造を有することを特徴
とする請求項1記載の磁気記録媒体。
2. The magnetic material according to claim 1, wherein the plasma polymer has a structure in which a plurality of spherical carbons are polymerized by forming at least one additional bond between the spherical carbons. recoding media.
【請求項3】 上記プラズマ重合体は、球状炭素類がア
モルファス状に分布している構造を有することを特徴と
する請求項1記載の磁気記録媒体。
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the plasma polymer has a structure in which spherical carbons are distributed in an amorphous state.
【請求項4】 非磁性支持体上に磁性層を形成した後、
n(但し、nは幾何学的に球状化合物を形成し得る整
数である。)で表される球状炭素類を昇華源とし、炭化
水素ガス存在下でプラズマ重合を行うことによって保護
層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
4. After forming a magnetic layer on a non-magnetic support,
A protective layer is formed by performing plasma polymerization in the presence of a hydrocarbon gas using a spherical carbon represented by C n (where n is an integer capable of forming a spherical compound geometrically). A method for manufacturing a magnetic recording medium.
【請求項5】 プラズマ重合を行うに際して、2種類以
上の球状炭素類を昇華源に用いることを特徴とする請求
項4記載の磁気記録媒体の製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein two or more types of spherical carbons are used as a sublimation source when performing the plasma polymerization.
【請求項6】 プラズマ重合を、2種類以上の炭化水素
ガスよりなる混合ガス存在下で行うことを特徴とする請
求項4記載の磁気記録媒体の製造方法。
6. The method for producing a magnetic recording medium according to claim 4, wherein the plasma polymerization is performed in the presence of a mixed gas comprising two or more hydrocarbon gases.
【請求項7】 プラズマ重合で用いる炭化水素ガスは、
飽和炭化水素であることを特徴とする請求項4記載の磁
気記録媒体の製造方法。
7. The hydrocarbon gas used in the plasma polymerization,
The method for producing a magnetic recording medium according to claim 4, wherein the magnetic recording medium is a saturated hydrocarbon.
【請求項8】 プラズマ重合で用いる炭化水素ガスは、
不飽和炭化水素であることを特徴とする請求項4記載の
磁気記録媒体の製造方法。
8. The hydrocarbon gas used in the plasma polymerization,
5. The method for producing a magnetic recording medium according to claim 4, wherein the method is an unsaturated hydrocarbon.
【請求項9】 非磁性支持体上に磁性層を形成した後、
Cn(但し、nは幾何学的に球状化合物を形成し得る整
数である。)で表される球状炭素類を昇華源とし、不活
性ガス存在下でプラズマ重合を行うことによってプラズ
マ重合膜を成膜し、このプラズマ重合膜に炭化水素ガス
のプラズマ処理を行うことで保護層を形成することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。
9. After forming a magnetic layer on a nonmagnetic support,
A plasma polymerized film is formed by performing plasma polymerization in the presence of an inert gas using spherical carbons represented by Cn (where n is an integer capable of geometrically forming a spherical compound). A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising forming a film and performing a plasma treatment of a hydrocarbon gas on the plasma polymerized film to form a protective layer.
【請求項10】 プラズマ処理を行うに際して、2種類
以上の球状炭素類を昇華源に用いることを特徴とする請
求項9記載の磁気記録媒体の製造方法。
10. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 9, wherein two or more types of spherical carbons are used as a sublimation source when performing the plasma treatment.
【請求項11】 プラズマ処理で用いる炭化水素ガス
は、2種類以上の炭化水素ガスよりなる混合ガスである
ことを特徴とする請求項9記載の磁気記録媒体の製造方
法。
11. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 9, wherein the hydrocarbon gas used in the plasma processing is a mixed gas of two or more hydrocarbon gases.
【請求項12】 プラズマ処理で用いる炭化水素ガス
は、飽和炭化水素であることを特徴とする請求項9記載
の磁気記録媒体の製造方法。
12. The method according to claim 9, wherein the hydrocarbon gas used in the plasma processing is a saturated hydrocarbon.
【請求項13】 プラズマ処理で用いる炭化水素ガス
は、不飽和炭化水素であることを特徴とする請求項9記
載の磁気記録媒体の製造方法。
13. The method according to claim 9, wherein the hydrocarbon gas used in the plasma processing is an unsaturated hydrocarbon.
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