JPH104076A - 枚葉型ウエハ洗浄装置 - Google Patents
枚葉型ウエハ洗浄装置Info
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- JPH104076A JPH104076A JP17596596A JP17596596A JPH104076A JP H104076 A JPH104076 A JP H104076A JP 17596596 A JP17596596 A JP 17596596A JP 17596596 A JP17596596 A JP 17596596A JP H104076 A JPH104076 A JP H104076A
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- cleaning liquid
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置の小型化が図れ機構が簡単でパーティク
ルの発生を少なくし、また経済的でパーティクルの洗浄
液内への持込みを防止し、さらには均一な洗浄を可能に
する。 【解決手段】 洗浄液Wを収容する洗浄内槽2と、洗浄
するウエハ鏡面8aを下方に向けたウエハ8の裏面8b
を吸着固定する洗浄内槽2上に設けたバキュームチャッ
ク9と、洗浄内槽2に洗浄液Wを供給し回転撹拌する吹
出口4a,4bを有する洗浄液供給管4とを具備した。
ルの発生を少なくし、また経済的でパーティクルの洗浄
液内への持込みを防止し、さらには均一な洗浄を可能に
する。 【解決手段】 洗浄液Wを収容する洗浄内槽2と、洗浄
するウエハ鏡面8aを下方に向けたウエハ8の裏面8b
を吸着固定する洗浄内槽2上に設けたバキュームチャッ
ク9と、洗浄内槽2に洗浄液Wを供給し回転撹拌する吹
出口4a,4bを有する洗浄液供給管4とを具備した。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハを一枚毎に
洗浄する枚葉型ウエハ洗浄装置に関する。より詳しく
は、例えば半導体ウエハ等のウエハを一枚毎に洗浄液で
洗浄する枚葉型ウエハ洗浄装置に関する。
洗浄する枚葉型ウエハ洗浄装置に関する。より詳しく
は、例えば半導体ウエハ等のウエハを一枚毎に洗浄液で
洗浄する枚葉型ウエハ洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造プロセスにおいて、ウエハの
表面(ウエハ鏡面)の汚れを除去するため、洗浄が行わ
れる。
表面(ウエハ鏡面)の汚れを除去するため、洗浄が行わ
れる。
【0003】上記ウエハの洗浄において、精密な洗浄を
行う時等には、ウエハを一枚毎に洗浄液で洗浄する枚葉
型ウエハ洗浄装置が使われ、その装置の殆どが、ウエハ
を機械的に支持し回転させるウエハ回転方式のものであ
る。ウエハ回転方式の洗浄装置は、アーム型の外形チャ
ックにウエハをチャックし、或いはそのチャックにバキ
ュームを併用しチャックし、そのチャックに継手,ベル
ト等の伝達機構および軸受機構を介して駆動モータの回
転を伝達しウエハを高速(1000〜3000rpm前
後)で回転させ、その状態でウエハに洗浄液を噴射させ
るスプレー洗浄、或いはスプレー洗浄にメガ洗浄(超音
波洗浄)を併用し、ウエハの洗浄を行っている。
行う時等には、ウエハを一枚毎に洗浄液で洗浄する枚葉
型ウエハ洗浄装置が使われ、その装置の殆どが、ウエハ
を機械的に支持し回転させるウエハ回転方式のものであ
る。ウエハ回転方式の洗浄装置は、アーム型の外形チャ
ックにウエハをチャックし、或いはそのチャックにバキ
ュームを併用しチャックし、そのチャックに継手,ベル
ト等の伝達機構および軸受機構を介して駆動モータの回
転を伝達しウエハを高速(1000〜3000rpm前
後)で回転させ、その状態でウエハに洗浄液を噴射させ
るスプレー洗浄、或いはスプレー洗浄にメガ洗浄(超音
波洗浄)を併用し、ウエハの洗浄を行っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記枚
葉型ウエハ洗浄装置は、モータを用い機械的伝達機構お
よび軸受機構を介してウエハを回転するため、これら機
械的駆動に伴うパーティクルの発生が問題となる。一
方、発生したパーティクルを排除するための排気装置も
必要となり、装置が全体的に大型化し、さらにウエハ回
転に伴う振動等も洗浄効果に悪影響を及ぼす。また、高
速で回転するためウエハがチャックから外れて、破損す
る事故もある。
葉型ウエハ洗浄装置は、モータを用い機械的伝達機構お
よび軸受機構を介してウエハを回転するため、これら機
械的駆動に伴うパーティクルの発生が問題となる。一
方、発生したパーティクルを排除するための排気装置も
必要となり、装置が全体的に大型化し、さらにウエハ回
転に伴う振動等も洗浄効果に悪影響を及ぼす。また、高
速で回転するためウエハがチャックから外れて、破損す
る事故もある。
【0005】また、上記枚葉式ウエハ洗浄装置は、発生
したパーティクルが洗浄液内に混入し易いため、一度使
用した洗浄液は排水する使い捨て方式となる。従って、
経済的に不利となる。また、スプレー方式において、洗
浄効率を向上させるためにメガ洗浄を併用されるが、噴
霧洗浄液に空気が混入し、メガ効率を低下させることに
なる。
したパーティクルが洗浄液内に混入し易いため、一度使
用した洗浄液は排水する使い捨て方式となる。従って、
経済的に不利となる。また、スプレー方式において、洗
浄効率を向上させるためにメガ洗浄を併用されるが、噴
霧洗浄液に空気が混入し、メガ効率を低下させることに
なる。
【0006】本発明は、上記従来技術の欠点に鑑みなさ
れたものであって、装置の小型化が図れ、機構が簡単で
パーティクルの発生も少なく、また経済的でパーティク
ルの洗浄液内への持込みが少なく、さらに均一な洗浄が
可能でパーティクルの除去率も向上できる枚葉式ウエハ
洗浄装置の提供を目的とする。
れたものであって、装置の小型化が図れ、機構が簡単で
パーティクルの発生も少なく、また経済的でパーティク
ルの洗浄液内への持込みが少なく、さらに均一な洗浄が
可能でパーティクルの除去率も向上できる枚葉式ウエハ
洗浄装置の提供を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、洗浄液を収容する上部開口の洗浄槽と、
洗浄するウエハ鏡面を下方に向けたウエハの裏面を吸着
固定する前記洗浄槽上に設けたバキュームチャックと、
洗浄槽に洗浄液を供給し回転撹拌する該洗浄槽に取り付
けた吹出口を有する洗浄液供給管とを具備したことを特
徴とする枚葉型ウエハ洗浄装置を提供する。
め、本発明は、洗浄液を収容する上部開口の洗浄槽と、
洗浄するウエハ鏡面を下方に向けたウエハの裏面を吸着
固定する前記洗浄槽上に設けたバキュームチャックと、
洗浄槽に洗浄液を供給し回転撹拌する該洗浄槽に取り付
けた吹出口を有する洗浄液供給管とを具備したことを特
徴とする枚葉型ウエハ洗浄装置を提供する。
【0008】
【発明の実施の形態】好ましい実施の形態では、前記洗
浄槽は、円筒形の容器からなる洗浄内槽と該洗浄内槽の
外周に設けられた洗浄内槽から溢れた洗浄液を収容する
上部開口が洗浄内槽の上部開口よりも高い位置にある外
槽とからなり、該外槽に取り付けた洗浄液排出管と洗浄
内槽に取り付けた洗浄液供給管とを洗浄液循環系路で接
続し、該洗浄液循環系路に洗浄液を循環させる循環ポン
プと濾過するフィルタを備えたことを特徴とする。
浄槽は、円筒形の容器からなる洗浄内槽と該洗浄内槽の
外周に設けられた洗浄内槽から溢れた洗浄液を収容する
上部開口が洗浄内槽の上部開口よりも高い位置にある外
槽とからなり、該外槽に取り付けた洗浄液排出管と洗浄
内槽に取り付けた洗浄液供給管とを洗浄液循環系路で接
続し、該洗浄液循環系路に洗浄液を循環させる循環ポン
プと濾過するフィルタを備えたことを特徴とする。
【0009】さらに、好ましい実施の形態では、前記バ
キュームチャックは、該バキュームチャックの外周にウ
エハの裏面へ窒素ガスを供給するガス吹出口を有するガ
ス導入ハウスを設けたことを特徴とする。
キュームチャックは、該バキュームチャックの外周にウ
エハの裏面へ窒素ガスを供給するガス吹出口を有するガ
ス導入ハウスを設けたことを特徴とする。
【0010】さらに、好ましい実施の形態では、前記吹
出口を有する洗浄液供給管は、捩じれた管からなり、該
捩じれた管を洗浄内槽の底部に取り付けたことを特徴と
する。
出口を有する洗浄液供給管は、捩じれた管からなり、該
捩じれた管を洗浄内槽の底部に取り付けたことを特徴と
する。
【0011】さらに、好ましい実施の形態では、前記吹
出口を有する捩じれた管からなる洗浄液供給管は、洗浄
内槽の底部に取り付けた2本の管からなり、該2本の洗
浄液供給管の吹出口の向きが180°に対向したことを
特徴とする。
出口を有する捩じれた管からなる洗浄液供給管は、洗浄
内槽の底部に取り付けた2本の管からなり、該2本の洗
浄液供給管の吹出口の向きが180°に対向したことを
特徴とする。
【0012】さらに、好ましい実施の形態では、前記吹
出口を有する洗浄液供給管は、洗浄内槽の側部に対し水
平方向斜めに取り付けたことを特徴とする。
出口を有する洗浄液供給管は、洗浄内槽の側部に対し水
平方向斜めに取り付けたことを特徴とする。
【0013】さらに、好ましい実施の形態では、前記吹
出口を有する洗浄液供給管は、洗浄内槽の側部に取り付
けた2本の管からなり、該2本の洗浄液供給管の吹出口
の向きが180°に対向したことを特徴とする。
出口を有する洗浄液供給管は、洗浄内槽の側部に取り付
けた2本の管からなり、該2本の洗浄液供給管の吹出口
の向きが180°に対向したことを特徴とする。
【0014】
【実施例】図1,2は、本発明に係る枚葉型ウエハ洗浄
装置の一実施例で、図1はその装置の断面概要図、図2
はその洗浄内槽の平面図である。
装置の一実施例で、図1はその装置の断面概要図、図2
はその洗浄内槽の平面図である。
【0015】洗浄槽1は、洗浄内槽2とその洗浄内槽2
の外周に設られた外槽3からなる。洗浄内槽2は円筒形
の容器からなり、その容器の底部2aは中心に向かって
なだらかに傾斜し深くなっている。その底部2aの円形
中心Oを中心とする左右対象の適当な位置にそれぞれ吹
出口4a,4bを有する洗浄液供給管4が取り付けら
れ、各洗浄液供給管4は、底部2aの中心Oを通る中心
軸H上に設けられた共通の洗浄液供給管5に連結してい
る。
の外周に設られた外槽3からなる。洗浄内槽2は円筒形
の容器からなり、その容器の底部2aは中心に向かって
なだらかに傾斜し深くなっている。その底部2aの円形
中心Oを中心とする左右対象の適当な位置にそれぞれ吹
出口4a,4bを有する洗浄液供給管4が取り付けら
れ、各洗浄液供給管4は、底部2aの中心Oを通る中心
軸H上に設けられた共通の洗浄液供給管5に連結してい
る。
【0016】前記各洗浄液吹出管4は、図2に示すよう
に例えば時計方向に捩じれた管からなり、その2つの吹
出口4a,4bの向きが180°に対向し、また中心O
を通る中心軸Hから外側に向かって傾斜する適当な角度
で設けられている。従って、洗浄液吹出管4から洗浄内
槽2に供給される洗浄液Wは、2つの吹出口4a,4b
から回転しながら渦を巻くような状態に吹き出され、ま
た吹き出された洗浄液Wは回転撹拌される。この捩じれ
た洗浄液吹出管4は、1本あるいは3本以上でもよい。
その理由は、洗浄液吹出管が1本あるいは3本以上で
も、洗浄液Wが回転しながら渦を巻くような状態に吹き
出され、回転撹拌することができるからである。
に例えば時計方向に捩じれた管からなり、その2つの吹
出口4a,4bの向きが180°に対向し、また中心O
を通る中心軸Hから外側に向かって傾斜する適当な角度
で設けられている。従って、洗浄液吹出管4から洗浄内
槽2に供給される洗浄液Wは、2つの吹出口4a,4b
から回転しながら渦を巻くような状態に吹き出され、ま
た吹き出された洗浄液Wは回転撹拌される。この捩じれ
た洗浄液吹出管4は、1本あるいは3本以上でもよい。
その理由は、洗浄液吹出管が1本あるいは3本以上で
も、洗浄液Wが回転しながら渦を巻くような状態に吹き
出され、回転撹拌することができるからである。
【0017】前記洗浄内槽2の上部外周には外槽3が設
けられ、外槽3はその上部開口3bが洗浄内槽2の上部
開口2bのよりも高い位置にあって洗浄内槽2から溢れ
た洗浄水Wを収容する。外槽3の底部3aには、洗浄液
を排出する排出口を有する洗浄液排出管6が取り付けら
れている。
けられ、外槽3はその上部開口3bが洗浄内槽2の上部
開口2bのよりも高い位置にあって洗浄内槽2から溢れ
た洗浄水Wを収容する。外槽3の底部3aには、洗浄液
を排出する排出口を有する洗浄液排出管6が取り付けら
れている。
【0018】その外槽3に取り付けられた排出口を有す
る洗浄液排出管6と前記洗浄内槽2に取り付けられた吹
出口4a,4bを有する各洗浄液供給管4の共通の洗浄
液供給管5の間は、管からなる洗浄液循環系路7で接続
され、その洗浄液循環系路7には洗浄液Wを循環させる
循環ポンプPと洗浄液Wを濾過するフィルタFが設けら
れている。従って、外槽3から洗浄液排出管6および循
環ポンプPを通してフィルタFに流れた汚染された洗浄
液WはフィルタFで濾過され、フィルタFで浄化された
パーティクルの無いフレッシュな洗浄液Wは、循環ポン
プPの動力により各洗浄液供給管4の吹出口4a,4b
から洗浄内槽2内に供給される。洗浄に寄与して洗浄内
槽2から溢れた洗浄液Wは、再び外槽5側へ流れ、この
ようにして洗浄液Wが循環する。
る洗浄液排出管6と前記洗浄内槽2に取り付けられた吹
出口4a,4bを有する各洗浄液供給管4の共通の洗浄
液供給管5の間は、管からなる洗浄液循環系路7で接続
され、その洗浄液循環系路7には洗浄液Wを循環させる
循環ポンプPと洗浄液Wを濾過するフィルタFが設けら
れている。従って、外槽3から洗浄液排出管6および循
環ポンプPを通してフィルタFに流れた汚染された洗浄
液WはフィルタFで濾過され、フィルタFで浄化された
パーティクルの無いフレッシュな洗浄液Wは、循環ポン
プPの動力により各洗浄液供給管4の吹出口4a,4b
から洗浄内槽2内に供給される。洗浄に寄与して洗浄内
槽2から溢れた洗浄液Wは、再び外槽5側へ流れ、この
ようにして洗浄液Wが循環する。
【0019】一方、洗浄内槽2の中心0を通る中心軸H
の上方には、ウエハ8を真空吸着で固定するバキューム
チャック9が配設され、そのバキュームチャック9のチ
ャック先端9aで、例えば半導体ウエハ等のウエハ8の
裏面8bを吸着固定する。また、前記バキュームチャッ
ク9の外周には、窒素ガスを吹き出すガス吹出口10a
を有するガス導入ハウス10が設けられ、そのガス導入
ハウス10の下部のガス吹出口10aから吸着固定され
たウエハ8の裏面8bに窒素ガスが吹き出される。
の上方には、ウエハ8を真空吸着で固定するバキューム
チャック9が配設され、そのバキュームチャック9のチ
ャック先端9aで、例えば半導体ウエハ等のウエハ8の
裏面8bを吸着固定する。また、前記バキュームチャッ
ク9の外周には、窒素ガスを吹き出すガス吹出口10a
を有するガス導入ハウス10が設けられ、そのガス導入
ハウス10の下部のガス吹出口10aから吸着固定され
たウエハ8の裏面8bに窒素ガスが吹き出される。
【0020】従って、ガス導入ハウス10のガス吹出口
10aから吹き出される窒素ガスによって、ウエハ8の
裏面8bへの洗浄液Wの回り込み(進出)が防止され、
ウエハ8の真空吸着が保持されるとともに、ウエハ8の
裏面8bから洗浄液Wへのパーティクルの持込みが防止
される。更に、バキューム内に洗浄液の流入を防ぐ役目
もする。ウエハ8の洗浄は、まずバキュームチャック9
のチャック先端9aにウエハ鏡面8aを下方に向けた状
態でウエハ8の裏面8bを吸着固定し、バキュームチャ
ック9で吸着固定したウエハ8の裏面8bに対しガス導
入ハウス10のガス吹出口10aから窒素ガスを吹き出
してウエハ8の裏面8bを洗浄液Wが触れない状態にす
る。一方、循環ポンプPを駆動させて洗浄内槽2の底部
2aに取り付けられた洗浄液供給管4の吹出口4a,4
bから洗浄内槽2内に洗浄液Wを回転させながら渦を巻
くように吹き出させ、また吹き出された洗浄内槽2内の
洗浄液Wを回転撹拌する。
10aから吹き出される窒素ガスによって、ウエハ8の
裏面8bへの洗浄液Wの回り込み(進出)が防止され、
ウエハ8の真空吸着が保持されるとともに、ウエハ8の
裏面8bから洗浄液Wへのパーティクルの持込みが防止
される。更に、バキューム内に洗浄液の流入を防ぐ役目
もする。ウエハ8の洗浄は、まずバキュームチャック9
のチャック先端9aにウエハ鏡面8aを下方に向けた状
態でウエハ8の裏面8bを吸着固定し、バキュームチャ
ック9で吸着固定したウエハ8の裏面8bに対しガス導
入ハウス10のガス吹出口10aから窒素ガスを吹き出
してウエハ8の裏面8bを洗浄液Wが触れない状態にす
る。一方、循環ポンプPを駆動させて洗浄内槽2の底部
2aに取り付けられた洗浄液供給管4の吹出口4a,4
bから洗浄内槽2内に洗浄液Wを回転させながら渦を巻
くように吹き出させ、また吹き出された洗浄内槽2内の
洗浄液Wを回転撹拌する。
【0021】次に、ウエハ8を吸着固定したバキューム
チャック9を降下させて、ウエハ8のウエハ鏡面8aを
洗浄液W内に浸漬し洗浄を行う。ウエハ8の洗浄は、目
的に応じた所定時間浸漬し洗浄する。洗浄に寄与した汚
れた洗浄液Wは、洗浄内槽2の上部開口2aから溢れ
る。その溢れた洗浄液Wは、洗浄内槽2の外周に設けら
れた外槽3に流れ、外槽3に流れた洗浄液Wは、さらに
外槽3の底部3aに取り付けられた排出口を有する洗浄
液排出管6を通って循環ポンプPに戻される。循環ポン
プPに戻された洗浄液Wは、フィルタFに送られ、その
フィルタFで濾過され浄化された洗浄液Wが再び洗浄内
槽2内へ送られる。洗浄内槽2で洗浄された前記ウエハ
8は、洗浄後にバキュームチャック9とともに引き上げ
られてチャック先端9aから外され、そのチャック先端
9aに新たに洗浄するウエハ8が吸着固定されて洗浄内
槽2内へ下ろされて洗浄が行われる。このようにして、
一枚毎に順次洗浄して行く。
チャック9を降下させて、ウエハ8のウエハ鏡面8aを
洗浄液W内に浸漬し洗浄を行う。ウエハ8の洗浄は、目
的に応じた所定時間浸漬し洗浄する。洗浄に寄与した汚
れた洗浄液Wは、洗浄内槽2の上部開口2aから溢れ
る。その溢れた洗浄液Wは、洗浄内槽2の外周に設けら
れた外槽3に流れ、外槽3に流れた洗浄液Wは、さらに
外槽3の底部3aに取り付けられた排出口を有する洗浄
液排出管6を通って循環ポンプPに戻される。循環ポン
プPに戻された洗浄液Wは、フィルタFに送られ、その
フィルタFで濾過され浄化された洗浄液Wが再び洗浄内
槽2内へ送られる。洗浄内槽2で洗浄された前記ウエハ
8は、洗浄後にバキュームチャック9とともに引き上げ
られてチャック先端9aから外され、そのチャック先端
9aに新たに洗浄するウエハ8が吸着固定されて洗浄内
槽2内へ下ろされて洗浄が行われる。このようにして、
一枚毎に順次洗浄して行く。
【0022】上記実施例によれば、バキュームチャック
9に吸着固定されたウエハ8が、洗浄内槽2の底部2a
に設けられた時計方向に捩じれた各洗浄液供給管4の吹
出口4a,4bから回転しながら渦を巻くように吹き出
された洗浄液Wで洗浄されるため、洗浄液Wの回転撹拌
作用によってウエハ8の鏡面8aが良好に洗浄されると
ともに洗浄液Wがウエハ8の鏡面8a全体に均一に触れ
て均一に洗浄される。また上記実施例によれば、洗浄液
W自体が回転し、従来のようにウエハ8をモータで回転
させるウエハ回転方式のような回転伝達機構,軸受機構
は不要となって機械的駆動に伴うパーティクルの発生が
なくなり、また発生するパーティクルの排除する排気装
置も不要となる。従って、装置の小型化が容易になり、
機構が簡単になる。しかも、機械的な駆動機構がないた
め、パーティクルの発生の少ない。
9に吸着固定されたウエハ8が、洗浄内槽2の底部2a
に設けられた時計方向に捩じれた各洗浄液供給管4の吹
出口4a,4bから回転しながら渦を巻くように吹き出
された洗浄液Wで洗浄されるため、洗浄液Wの回転撹拌
作用によってウエハ8の鏡面8aが良好に洗浄されると
ともに洗浄液Wがウエハ8の鏡面8a全体に均一に触れ
て均一に洗浄される。また上記実施例によれば、洗浄液
W自体が回転し、従来のようにウエハ8をモータで回転
させるウエハ回転方式のような回転伝達機構,軸受機構
は不要となって機械的駆動に伴うパーティクルの発生が
なくなり、また発生するパーティクルの排除する排気装
置も不要となる。従って、装置の小型化が容易になり、
機構が簡単になる。しかも、機械的な駆動機構がないた
め、パーティクルの発生の少ない。
【0023】また洗浄液Wは、循環ポンプPで循環さ
せ、フィルタFで濾過し、洗浄内槽2に常に浄化した洗
浄液Wを供給するため、使い捨て方式とは異なり、洗浄
液Wの無駄がない、従って非常に経済的である。
せ、フィルタFで濾過し、洗浄内槽2に常に浄化した洗
浄液Wを供給するため、使い捨て方式とは異なり、洗浄
液Wの無駄がない、従って非常に経済的である。
【0024】さらに、窒素ガス導入ハウス10のガス吹
出口10aから吹き出された窒素ガスを、吸着されたウ
エハ8の裏面8bに吹き出しなから洗浄を行うため、ウ
エハ8の裏面8bへの洗浄液Wの進入がなく、ウエハ8
の吸着に支障を来すこともない。従って、ウエハ8が確
実に吸着され、また洗浄液Wへのパーティクルの持込み
がない。
出口10aから吹き出された窒素ガスを、吸着されたウ
エハ8の裏面8bに吹き出しなから洗浄を行うため、ウ
エハ8の裏面8bへの洗浄液Wの進入がなく、ウエハ8
の吸着に支障を来すこともない。従って、ウエハ8が確
実に吸着され、また洗浄液Wへのパーティクルの持込み
がない。
【0025】図3,4は、本発明に係る枚葉型ウエハ洗
浄装置の他の実施例である。
浄装置の他の実施例である。
【0026】この枚葉型ウエハ洗浄装置は、洗浄液Wを
供給する吹出口11a,11bを有する各洗浄液供給管
11を洗浄内槽2の側部2cに取り付けた構成である。
供給する吹出口11a,11bを有する各洗浄液供給管
11を洗浄内槽2の側部2cに取り付けた構成である。
【0027】吹出口11a,11bを有する各洗浄液供
給管11は、洗浄内槽2の側部2cに対し幾分上方に傾
け、水平方向斜めに取り付けられている。各洗浄液供給
管11の吹出口11a,11bは、図4に示すように向
きが180°に対向し取り付けられている。前記実施例
と同様に外槽3に取り付けられた排出口を有する洗浄液
排出管6と洗浄内槽2に取り付けられた吹出口11a,
11bを有する各洗浄液供給管11との間は、洗浄液循
環系路7で接続され、その洗浄液循環系路7に設けられ
た循環ポンプPによって洗浄液Wが循環され、またフィ
ルタFで濾過されて浄化された洗浄液Wが洗浄内槽2に
供給される。
給管11は、洗浄内槽2の側部2cに対し幾分上方に傾
け、水平方向斜めに取り付けられている。各洗浄液供給
管11の吹出口11a,11bは、図4に示すように向
きが180°に対向し取り付けられている。前記実施例
と同様に外槽3に取り付けられた排出口を有する洗浄液
排出管6と洗浄内槽2に取り付けられた吹出口11a,
11bを有する各洗浄液供給管11との間は、洗浄液循
環系路7で接続され、その洗浄液循環系路7に設けられ
た循環ポンプPによって洗浄液Wが循環され、またフィ
ルタFで濾過されて浄化された洗浄液Wが洗浄内槽2に
供給される。
【0028】従って、各洗浄液供給管11の吹出口11
a,11bから洗浄液Wが吹き出され、洗浄液Wは円筒
型の側部2cに沿って回転しながら渦を巻くように回転
撹拌される。その洗浄液Wの回転撹拌によってバキュー
ムチャック9に吸着固定されたウエハ8のウエハ鏡面8
aが円滑良好に洗浄され、また均一に洗浄される。
a,11bから洗浄液Wが吹き出され、洗浄液Wは円筒
型の側部2cに沿って回転しながら渦を巻くように回転
撹拌される。その洗浄液Wの回転撹拌によってバキュー
ムチャック9に吸着固定されたウエハ8のウエハ鏡面8
aが円滑良好に洗浄され、また均一に洗浄される。
【0029】前記実施例と同様にバキュームチャック9
の外周には、先端にガス吹出口10aを有するガス導入
ハウス10が設けられ、ウエハ8の裏面8bへ窒素ガス
を供給するので、洗浄液Wのウエハ8の裏面8bへの回
り込みを防止し、確実に吸着固定できる。また洗浄液W
内へのパーティクルの持込みがない。
の外周には、先端にガス吹出口10aを有するガス導入
ハウス10が設けられ、ウエハ8の裏面8bへ窒素ガス
を供給するので、洗浄液Wのウエハ8の裏面8bへの回
り込みを防止し、確実に吸着固定できる。また洗浄液W
内へのパーティクルの持込みがない。
【0030】この実施例の場合も、洗浄液供給管11は
1本でも、3本以上の管でもよい。その理由は、1本で
も洗浄液Wを回転撹拌できるからである。
1本でも、3本以上の管でもよい。その理由は、1本で
も洗浄液Wを回転撹拌できるからである。
【0031】なお、上記両実施例は洗浄槽1が洗浄内槽
2と外槽3からなるが、一つの洗浄槽にし、その洗浄槽
の側部上部に洗浄液排出管6を取り付けて汚れた洗浄液
を排出する構成にすることもできる。また、洗浄効率を
よくするために、洗浄内槽2の底部2a内にメガ装置
(超音波洗浄装置)を備えるようにしてもよい。
2と外槽3からなるが、一つの洗浄槽にし、その洗浄槽
の側部上部に洗浄液排出管6を取り付けて汚れた洗浄液
を排出する構成にすることもできる。また、洗浄効率を
よくするために、洗浄内槽2の底部2a内にメガ装置
(超音波洗浄装置)を備えるようにしてもよい。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、洗
浄するウエハ鏡面を下方に向けてウエハの裏面を洗浄槽
上に設けたバキュームチャックで吸着固定し洗浄槽の底
部に取り付けた洗浄液供給管の吹出口から吹き出させて
洗浄液を回転撹拌された洗浄液でウエハ鏡面を洗浄す
る、即ち洗浄液自体を回転させて洗浄するため、従来の
ウエハ回転方式の如く回転伝達機構および軸受機構は不
要となって機械的駆動に伴うパーティクルの発生がなく
なり、また発生するパーティクルを排出するための排気
装置が不要となって装置の小型化が図れ、また機構が簡
単になる。
浄するウエハ鏡面を下方に向けてウエハの裏面を洗浄槽
上に設けたバキュームチャックで吸着固定し洗浄槽の底
部に取り付けた洗浄液供給管の吹出口から吹き出させて
洗浄液を回転撹拌された洗浄液でウエハ鏡面を洗浄す
る、即ち洗浄液自体を回転させて洗浄するため、従来の
ウエハ回転方式の如く回転伝達機構および軸受機構は不
要となって機械的駆動に伴うパーティクルの発生がなく
なり、また発生するパーティクルを排出するための排気
装置が不要となって装置の小型化が図れ、また機構が簡
単になる。
【0033】また、本発明によれば、洗浄液は循環ポン
プで循環させ、フィルタで濾過するため、洗浄液の使い
捨てがなくなり、経済的になる。加えて、洗浄の際に
は、吸着固定しているウエハの裏面に窒素ガスを吹き付
けて洗浄を行うため、ウエハの裏面への洗浄液の回り込
みがなく、ウエハの吸着固定が確実になり、また洗浄液
内へのパーティクルの持込みがない等の効果が発揮され
る。
プで循環させ、フィルタで濾過するため、洗浄液の使い
捨てがなくなり、経済的になる。加えて、洗浄の際に
は、吸着固定しているウエハの裏面に窒素ガスを吹き付
けて洗浄を行うため、ウエハの裏面への洗浄液の回り込
みがなく、ウエハの吸着固定が確実になり、また洗浄液
内へのパーティクルの持込みがない等の効果が発揮され
る。
【図1】 本発明に係る装置の一実施例の枚葉型ウエハ
洗浄装置の概要図である。
洗浄装置の概要図である。
【図2】 図1の装置の平面図である。
【図3】 本発明に係る装置の他の実施例の枚葉型ウエ
ハ洗浄装置の概要図である。
ハ洗浄装置の概要図である。
【図4】 図3の装置の平面図である。
1:洗浄槽、2:洗浄内槽、2a:底部、2b:上部開
口、2c:側部、3:外槽、3b:上部開口、4:洗浄
液供給管、4a,4b:吹出口、6:洗浄液排出管、
8:ウエハ、8a:ウエハ鏡面、8b:裏面、9:バキ
ュームチャック、10:ガス導入ハウス、10a:ガス
吹出口、11:洗浄液供給管、11a,11b:吹出
口、W:洗浄液。
口、2c:側部、3:外槽、3b:上部開口、4:洗浄
液供給管、4a,4b:吹出口、6:洗浄液排出管、
8:ウエハ、8a:ウエハ鏡面、8b:裏面、9:バキ
ュームチャック、10:ガス導入ハウス、10a:ガス
吹出口、11:洗浄液供給管、11a,11b:吹出
口、W:洗浄液。
Claims (7)
- 【請求項1】 洗浄液を収容する上部開口の洗浄槽と、 洗浄するウエハ鏡面を下方に向けたウエハの裏面を吸着
固定する前記洗浄槽上に設けたバキュームチャックと、 洗浄槽に洗浄液を供給し回転撹拌する該洗浄槽に取り付
けた吹出口を有する洗浄液供給管とを具備したことを特
徴とする枚葉型ウエハ洗浄装置。 - 【請求項2】 前記洗浄槽は、円筒形の容器からなる洗
浄内槽と該洗浄内槽の外周に設けられた洗浄内槽から溢
れた洗浄液を収容する上部開口が洗浄内槽の上部開口よ
りも高い位置にある外槽とからなり、 該外槽に取り付けた洗浄液排出管と前記洗浄内槽に取り
付けた洗浄液供給管とを洗浄液循環系路で接続し、 該洗浄液循環系路に洗浄液を循環させる循環ポンプと濾
過するフィルタを備えたことを特徴とする請求項1に記
載の枚葉型ウエハ洗浄装置。 - 【請求項3】 前記バキュームチャックは、該バキュー
ムチャックの外周にウエハの裏面へ窒素ガス等のクリー
ンガスを供給するガス吹出口を有するガス導入ハウスを
設けたことを特徴とする請求項1に記載の枚葉型ウエハ
洗浄装置。 - 【請求項4】 前記吹出口を有する洗浄液供給管は、捩
じれた管からなり、 該捩じれた管を洗浄内槽の底部に取り付けたことを特徴
とする請求項1に記載の枚葉型ウエハ洗浄装置。 - 【請求項5】 前記吹出口を有する捩じれた管からなる
洗浄液供給管は、洗浄内槽の底部に取り付けた2本の管
からなり、 該2本の洗浄液供給管の吹出口の向きが180°に対向
したことを特徴とする請求項4に記載の枚葉型ウエハ洗
浄装置。 - 【請求項6】 前記吹出口を有する洗浄液供給管は、洗
浄内槽の側部に対し水平方向斜めに取り付けたことを特
徴とする請求項1に記載の枚葉型ウエハ洗浄装置。 - 【請求項7】 前記吹出口を有する洗浄液供給管は、洗
浄内槽の側部に取り付けた2本の管からなり、 該2本の洗浄液供給管の吹出口の向きが180°に対向
したことを特徴とする請求項6に記載の枚葉型ウエハ洗
浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17596596A JPH104076A (ja) | 1996-06-15 | 1996-06-15 | 枚葉型ウエハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17596596A JPH104076A (ja) | 1996-06-15 | 1996-06-15 | 枚葉型ウエハ洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH104076A true JPH104076A (ja) | 1998-01-06 |
Family
ID=16005360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17596596A Pending JPH104076A (ja) | 1996-06-15 | 1996-06-15 | 枚葉型ウエハ洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH104076A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1085948A1 (en) * | 1998-03-13 | 2001-03-28 | Semitool, Inc. | Micro-environment reactor for processing a microelectronic workpiece |
US20150147883A1 (en) * | 2013-11-22 | 2015-05-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Post-CMP Cleaning and Apparatus for Performing the Same |
CN111326452A (zh) * | 2018-12-17 | 2020-06-23 | 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 | 晶圆清洁系统 |
CN115312426A (zh) * | 2022-07-28 | 2022-11-08 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 晶圆清洗装置及其清洗方法 |
-
1996
- 1996-06-15 JP JP17596596A patent/JPH104076A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1085948A1 (en) * | 1998-03-13 | 2001-03-28 | Semitool, Inc. | Micro-environment reactor for processing a microelectronic workpiece |
EP1085948A4 (en) * | 1998-03-13 | 2002-01-23 | Semitool Inc | REACTOR WITH MICRO ENVIRONMENT FOR PROCESSING A MICROELECTRONIC WORKPIECE |
US20150147883A1 (en) * | 2013-11-22 | 2015-05-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Post-CMP Cleaning and Apparatus for Performing the Same |
CN111326452A (zh) * | 2018-12-17 | 2020-06-23 | 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 | 晶圆清洁系统 |
CN111326452B (zh) * | 2018-12-17 | 2022-12-02 | 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 | 晶圆清洁系统 |
CN115312426A (zh) * | 2022-07-28 | 2022-11-08 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 晶圆清洗装置及其清洗方法 |
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