JPH1040591A - Method for polishing backside of stamper for optical disc - Google Patents

Method for polishing backside of stamper for optical disc

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JPH1040591A
JPH1040591A JP19048496A JP19048496A JPH1040591A JP H1040591 A JPH1040591 A JP H1040591A JP 19048496 A JP19048496 A JP 19048496A JP 19048496 A JP19048496 A JP 19048496A JP H1040591 A JPH1040591 A JP H1040591A
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JP
Japan
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stamper
polishing
pressure
film
sensitive adhesive
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JP19048496A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuko Fujii
靖子 藤井
Yasuhisa Fujii
藤井  靖久
Makoto Kataoka
片岡  真
Kentaro Hirai
健太郎 平井
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Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for polishing the backside of a stamper without any environmental pollution which does not contaminate the surface of stamper and reduces the working time. SOLUTION: In the method of polishing the backside of a stamper by adhering in direct an adhesive film to the surface to form projection and recess for pit and/or groove of the stamper for optical disc, an adhesive film is formed of a base material film and an adhesive agent layer formed on one surface thereof, the adhesive agent layer contains a cross-lining agent of 0.1 to 30 pts.wt. having two or more cross-linking reactive group in one molecule based on the adhesive agent polymer of 100 pts.wt. having the function group which can react with the cross-linking agent, an adhesive force for the SUS304-BA plate is 10 to 180g/25mm, average thickness of the adhesive film is 20 to 300μm and fluctuation of thickness is within ±5μm of the average thickness.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク用スタ
ンパの裏面研磨方法に関する。詳しくは、光を用いて情
報の記録、再生等を行う光ディスク、光及び磁気を用い
て情報の記録、再生、消去等を行う光磁気ディスク(以
下、これらを総称して光ディスクという)を製造する際
に行われるスタンパの裏面研磨方法に関する。さらに詳
しくは、光ディスク用スタンパの製造工程において、そ
の裏面(ピット用及び/又はグルーブ用凹凸を形成した
反対側の面)を研磨する際に、光ディスク用スタンパ
(以下、これらをスタンパと称する)のピット用凹凸及
び/又はグルーブ用凹凸形成面(以下、信号用凹凸形成
面、または、スタンパ表面と称する)に粘着フィルムを
直接貼付してその反対面(以下、裏面という)を研磨す
る方法に関する。
The present invention relates to a method for polishing the back surface of a stamper for an optical disk. Specifically, an optical disk for recording and reproducing information using light, and a magneto-optical disk for recording, reproducing, and erasing information using light and magnetism (hereinafter, collectively referred to as an optical disk) are manufactured. The present invention relates to a method of polishing a back surface of a stamper performed at that time. More specifically, in the manufacturing process of the optical disk stamper, when polishing the back surface (the surface opposite to the surface on which the pits and / or groove irregularities are formed) of the optical disk stamper (hereinafter, these are referred to as stampers). The present invention relates to a method of directly attaching an adhesive film to a pit unevenness and / or groove unevenness forming surface (hereinafter, referred to as a signal unevenness forming surface or a stamper surface) and polishing the opposite surface (hereinafter, referred to as a back surface).

【0002】[0002]

【従来の技術】光、または、光及び磁気を用いて情報の
記録、再生、消去等を行う光ディスクは、スタンパを成
形用の金型として射出成形法、圧縮成形法、射出圧縮成
形法、感光性樹脂法(2P法)等の方法により、片面に
ピットやグルーブ等を形成した光ディスク基板を製造
し、この表面に、金属反射層、保護層等を形成したもの
である。追記型や書換え型の光(磁気)ディスク(CD
−R、MO、等)の場合には、基板と金属反射層、保護
層等との間に、有機色素や磁性体、合金、金属酸化物等
の無機材料からなる記憶膜が形成される。一般に、ピッ
トとは音声、映像、情報等を再生するための信号、並び
に、アドレス情報やディスクの特性を示すための情報を
記録する穴のことをいい、グルーブとは、追記型や書換
え型の光(磁気)ディスクの場合に用いられる信号記録
の為の案内溝等のことをいう。
2. Description of the Related Art An optical disk on which information is recorded, reproduced, and erased by using light or light and magnetism is used as an injection molding method, a compression molding method, an injection compression molding method, a photosensitive molding method using a stamper as a molding die. An optical disk substrate having pits and grooves formed on one side is manufactured by a method such as a reactive resin method (2P method), and a metal reflective layer, a protective layer, and the like are formed on this surface. Write-once or rewritable optical (magnetic) disks (CD
In the case of (-R, MO, etc.), a storage film made of an inorganic material such as an organic dye, a magnetic material, an alloy, or a metal oxide is formed between the substrate and the metal reflective layer, the protective layer, or the like. In general, pits refer to holes for recording signals for reproducing audio, video, information, etc., as well as address information and information for indicating the characteristics of a disc, and grooves refer to write-once and rewritable types. A guide groove for signal recording used in the case of an optical (magnetic) disk.

【0003】通常、スタンパ製造プロセスでは、まず記
録原盤が準備される。この原盤としては高い表面精度が
得られるガラス材が用いられる。次に、研磨された原盤
上に感光材料であるフォトレジスト膜が塗布される。こ
の感光膜をレーザービームによって露光し、必要な情報
をカッティングする。カッティングが終了すると、現像
を行いガラス原盤上に信号用凹凸が形成される。次に、
前記信号用凹凸形成面を導体化処理した後、電鋳によっ
て金属(通常Niが使用される)原盤として、ガラス原
盤から情報が写し取られる。金属原盤をガラス原盤から
剥がし、その裏面を研磨した後、内外径を加工し、所定
の寸法にカットしたものがスタンパとなる。一般に、再
生専用型の場合、情報は、ピット用の凹凸として、追記
型や書換え型の場合にはピットおよびグルーブ用の凹凸
として写し取られる。
Usually, in a stamper manufacturing process, first, a recording master is prepared. As the master, a glass material with high surface accuracy is used. Next, a photoresist film as a photosensitive material is applied on the polished master. The photosensitive film is exposed by a laser beam to cut necessary information. When the cutting is completed, development is performed and signal irregularities are formed on the glass master. next,
After the signal concavo-convex formation surface is converted into a conductor, information is copied from a glass master as a metal (usually Ni) master by electroforming. The metal master is peeled off from the glass master, the back surface thereof is polished, the inner and outer diameters are processed, and the stamper is cut to a predetermined size. In general, in the case of the read-only type, information is copied as pits and projections, and in the case of the write-once type and rewritable type, information is copied as pits and grooves.

【0004】この様にして製造されたスタンパを用い
て、例えば、射出成形、射出圧縮成形等により、光ディ
スク基板を製造する場合、前述のスタンパ製造工程にお
いて、裏面を十分に研磨されたスタンパが金型に取り付
けられる。射出(圧縮)成形時には、約400〜600
kg/cm2の樹脂圧力が加わるのでスタンパ裏面の表
面粗さやスタンパ厚みの不均一性等がスタンパ表面に現
れ、転写される樹脂基板の特性に大きな影響を与えるか
らである。スタンパ製造工程において、スタンパの裏面
を研磨する際には信号用凹凸形成面を保護する必要があ
る。
When an optical disk substrate is manufactured by using the stamper manufactured as described above, for example, by injection molding, injection compression molding, or the like, in the stamper manufacturing process described above, the stamper whose back surface is sufficiently polished is made of gold. Attached to the mold. At the time of injection (compression) molding, about 400 to 600
This is because the resin pressure of kg / cm 2 is applied, so that the surface roughness of the back surface of the stamper and the unevenness of the thickness of the stamper appear on the stamper surface and greatly affect the characteristics of the resin substrate to be transferred. In the stamper manufacturing process, when polishing the back surface of the stamper, it is necessary to protect the signal uneven surface.

【0005】信号用凹凸形成面を保護しながらスタンパ
を製造する方法として、例えば、特開昭60−2169
15号公報には、被研磨物である金属スタンパの外径よ
り大きい、膜厚均一な剥離補助シートを円盤状金属プレ
ートの中心部に配置し、前記円盤状金属プレート面に前
記剥離補助シートを被覆するように両面粘着シートを貼
付け、信号面を保護コートした金属スタンパをその信号
面側を両面粘着シートに対応させて前記両面粘着シート
上に固着した後、ポリシング法又はラッピング法により
前記金属スタンパの裏面研磨を行う金属スタンパ裏面研
磨方法が開示されている。
As a method of manufacturing a stamper while protecting a signal uneven surface, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-2169 discloses a method.
Japanese Patent Application Publication No. 15-205, disclose a release assisting sheet having a thickness greater than the outer diameter of a metal stamper to be polished and having a uniform thickness at the center of a disk-shaped metal plate. After attaching a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet so as to cover and fixing a metal stamper having a signal-coated protective surface on the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet with its signal side corresponding to the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet, the metal stamper is polished or wrapped. A metal stamper rear surface polishing method for polishing the rear surface of the metal stamper is disclosed.

【0006】また、特開昭63−247932号公報に
は、電鋳工程を経たスタンパの表面に保護膜を設け、こ
の保護膜を有する面を基板に向けてスタンパと基板とを
接着する工程を備えたスタンパの製造において、上記ス
タンパは最終的に目的とする外径より直径にして10m
m以上大きく加工したものを用い、かつ上記スタンパの
外径を大きくした部分に上記保護膜の欠如した部分を設
け、この欠如部分を上記基板との接着に用いるようにし
たことを特徴とするスタンパの製造方法が開示されてい
る。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-247932 discloses a process in which a protective film is provided on the surface of a stamper which has been subjected to an electroforming process, and the surface having the protective film faces the substrate to bond the stamper to the substrate. In the manufacture of the provided stamper, the stamper is 10 m in diameter from the final outer diameter.
m, wherein the stamper is provided with a portion lacking the protective film at a portion where the outer diameter of the stamper is increased, and the missing portion is used for bonding to the substrate. Is disclosed.

【0007】従来、これらのように、スタンパの信号用
凹凸形成面を何らかの保護層で保護することが行われて
いた。これらの保護層は、高分子の溶液をスピンコート
法等で塗布乾燥することにより形成されたものである。
前記保護層用の高分子溶液には有機溶剤が入っており、
大掛かりな局所排気設備を設けなくてはならない。しか
し、通常、スタンパの清浄度を保つために高分子保護層
がクリーンルーム内で形成されることを考慮すると、ク
リーンルーム内に大規模の局所排気設備を設けることは
実用的でない。また、上記高分子保護層は、有機溶剤で
洗浄しても完全に除去することが困難であり、微量残存
することが多いためスタンパを汚染する原因となる。
Heretofore, as described above, it has been practiced to protect the signal concavo-convex forming surface of the stamper with some kind of protective layer. These protective layers are formed by applying and drying a polymer solution by a spin coating method or the like.
The polymer solution for the protective layer contains an organic solvent,
Large-scale local exhaust facilities must be provided. However, it is not practical to provide a large-scale local exhaust system in a clean room, considering that a polymer protective layer is usually formed in a clean room to maintain the cleanliness of the stamper. Further, the polymer protective layer is difficult to completely remove even if washed with an organic solvent, and often remains in a trace amount, which causes contamination of the stamper.

【0008】前記保護層に要求される特性としては、ス
タンパ裏面の表面荒さやスタンパ厚みの均一性を得る為
の保護層自体の厚みの均一性、信号用凹凸形成面に欠陥
を残さない為のコンタミを含まないクリーン度、除去の
し易さが必要である。しかしながら、前記保護層に要求
される特性を満足させるには、高度な管理が必要であ
る。すなわち、高分子溶液をフィルターで濾過するこ
と、高分子溶液の粘度を所定の範囲に維持すること等が
必要である。さらに、高分子保護層を十分に乾燥する必
要があるが、溶液の塗布、乾燥、硬化には長時間を要
し、作業性の点でも満足し得る方法ではない。又、保護
層成形時に膜収縮がある場合には、スタンパ自身の反り
が問題となる。
The characteristics required for the protective layer include the uniformity of the thickness of the protective layer itself for obtaining the surface roughness of the back surface of the stamper and the uniformity of the thickness of the stamper, and the absence of defects on the surface on which the signal unevenness is formed. Cleanliness free from contamination and easy removal are required. However, in order to satisfy the characteristics required for the protective layer, advanced management is required. That is, it is necessary to filter the polymer solution with a filter, maintain the viscosity of the polymer solution in a predetermined range, and the like. Further, it is necessary to sufficiently dry the polymer protective layer, but it takes a long time to apply, dry, and cure the solution, and this is not a method that can satisfy workability. If the film shrinks during the formation of the protective layer, warping of the stamper itself becomes a problem.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題に鑑み、スタンパ表面への汚染がなく、作業時間の
短縮が可能で、しかも有機溶剤による環境汚染がない、
スタンパ裏面の研磨方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, it is an object of the present invention to eliminate contamination on the surface of a stamper, shorten the operation time, and eliminate environmental pollution by an organic solvent.
An object of the present invention is to provide a method of polishing the back surface of a stamper.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、光ディスク用スタンパの製造工程において裏面
を研磨する際に、該スタンパの信号用凹凸形成面に特定
の粘着フィルムをその粘着剤層を介して直接貼付して保
護することにより、上記目的が達成し得ることを見出
し、本発明に到った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that when polishing the back surface in the process of manufacturing a stamper for an optical disk, a specific pressure-sensitive adhesive film is applied to the signal uneven surface of the stamper. The present inventors have found that the above object can be achieved by directly attaching and protecting through a layer, and have reached the present invention.

【0011】すなわち、本発明は、光ディスク用スタン
パのピット用凹凸及び/又はグルーブ用凹凸形成面に粘
着フィルムを直接貼付して該スタンパの裏面を研磨する
方法であって、該粘着フィルムが、基材フィルム及びそ
の片表面に形成された粘着剤層からなり、該粘着剤層
が、架橋剤と反応し得る官能基を有する粘着剤ポリマー
100重量部に対し、1分子中に2個以上の架橋反応性
官能基を有する架橋剤0.1〜30重量部を含み、SU
S304−BA板に対する粘着力が10〜180g/2
5mmであり、且つ、該粘着フィルムの平均厚みが20
〜300μm、厚みバラツキが平均厚みの±5μm以内
であることを特徴とする光ディスク用スタンパの裏面研
磨方法である。
That is, the present invention relates to a method for polishing an optical disc stamper by directly attaching an adhesive film to a pit and / or groove uneven surface of the optical disk stamper and polishing the back surface of the stamper. Material film and a pressure-sensitive adhesive layer formed on one surface thereof, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has two or more crosslinks in one molecule per 100 parts by weight of a pressure-sensitive adhesive polymer having a functional group capable of reacting with a crosslinker. SU containing 0.1 to 30 parts by weight of a crosslinking agent having a reactive functional group
Adhesive strength to S304-BA plate is 10 to 180 g / 2
5 mm, and the average thickness of the adhesive film is 20
A method for polishing the back surface of a stamper for an optical disc, wherein the thickness variation is within ± 5 μm of the average thickness.

【0012】本発明の特徴は、光ディスク用スタンパの
製造工程において、その裏面を研磨する際に、スタンパ
の信号用凹凸形成面に直接、特定の粘着フィルムを貼付
することにある。本発明に用いる粘着フィルムは、その
粘着剤層が特定量の架橋剤を含むので、剥離した後に粘
着剤に起因する汚染が残存しない。また、粘着力が特定
の範囲に限定されているため、スタンパの裏面研磨中に
は強固に粘着し、剥離する際には剥離応力によりスタン
パが変形することがない。さらに、本発明によれば、ス
タンパの信号用凹凸形成面に高分子の溶液をスピンコー
トする等して保護層を形成する必要がない。そのため、
保護層形成のための溶液塗布、乾燥作業等を省略するこ
とができ、作業時間が大幅に短縮できる。塗布された高
分子の溶液を乾燥する際に有機溶剤ガスの発生がないの
で、環境を汚染する恐れもない。従って、本発明によれ
ば、光ディスク用スタンパの裏面研磨工程の作業性の向
上、環境汚染防止等を図ることが可能となる。
A feature of the present invention resides in that a specific adhesive film is directly adhered to the signal irregularity forming surface of the stamper when polishing the back surface in the manufacturing process of the optical disk stamper. In the pressure-sensitive adhesive film used in the present invention, since the pressure-sensitive adhesive layer contains a specific amount of a cross-linking agent, no contamination due to the pressure-sensitive adhesive remains after peeling. In addition, since the adhesive strength is limited to a specific range, the stamper firmly adheres during polishing of the back surface of the stamper, and the stamper is not deformed by peeling stress when peeling. Further, according to the present invention, there is no need to form a protective layer by spin coating a polymer solution on the signal uneven surface of the stamper. for that reason,
A solution application, a drying operation and the like for forming the protective layer can be omitted, and the operation time can be greatly reduced. Since no organic solvent gas is generated when the applied polymer solution is dried, there is no risk of polluting the environment. Therefore, according to the present invention, it is possible to improve the workability of the back surface polishing step of the optical disk stamper, prevent environmental pollution, and the like.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明における光ディスク用スタンパとは、コン
パクトディスク(CD)、ビデオディスク(LD)等の
如き、光を用いて情報の再生を行うことができる再生専
用型光ディスクの製造に用いられるスタンパだけでな
く、光、または、光及び磁気を用いて情報の記録、再
生、消去等を行うことができる追記型や書換え型光ディ
スク、光磁気ディスク等の製造に用いられるスタンパを
も包含する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. The optical disk stamper according to the present invention is not limited to a stamper used for manufacturing a read-only optical disk capable of reproducing information using light, such as a compact disk (CD) and a video disk (LD). It also includes a stamper used for manufacturing a write-once or rewritable optical disk, a magneto-optical disk, or the like, which can record, reproduce, and erase information using light or light and magnetism.

【0014】本発明は、スタンパを製造する際の裏面研
磨工程において、基材フィルムの片表面に粘着剤層が形
成され、さらに必要に応じて該粘着剤層の表面に剥離フ
ィルムが配設された(貼付する際には剥離フィルムを剥
離する)特定の粘着フィルムを、その粘着剤層表面を介
してスタンパの信号用凹凸形成面に貼付けて裏面研磨を
行うスタンパの裏面研磨方法である。
According to the present invention, in the backside polishing step in manufacturing a stamper, an adhesive layer is formed on one surface of a base film and, if necessary, a release film is provided on the surface of the adhesive layer. This is a stamper backside polishing method in which a specific pressure-sensitive adhesive film (peeling off a release film when pasting) is adhered to the signal uneven surface of the stamper via the surface of the pressure-sensitive adhesive layer to polish the rear surface.

【0015】先ず、光ディスク用スタンパの裏面研磨に
ついて説明する。一連の工程により表面に信号用凹凸を
有する裏面研磨加工まえのスタンパを製造する。粘着フ
ィルムの粘着剤層表面から剥離フィルムを剥離し、粘着
剤層表面を露出させその粘着剤層を介して、裏面研磨加
工前のスタンパの凹凸形成面に貼着する。次いで、研磨
治具盤に真空装置等を用いて粘着フィルムの基材フィル
ム層を介してスタンパを固定し、スタンパの裏面を研磨
する。研磨終了後、粘着フィルムを剥離する。剥離後、
必要に応じて信号用凹凸形成面を水洗、プラズマ洗浄等
の洗浄処理を行ってもよい。又、粘着フィルムを剥離し
ないで一定期間保管する場合もある。
First, the polishing of the back surface of the stamper for an optical disk will be described. Through a series of steps, a stamper before the back surface polishing process having signal irregularities on the surface is manufactured. The release film is peeled off from the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive film, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is exposed, and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is adhered to the uneven surface of the stamper before polishing the back surface through the pressure-sensitive adhesive layer. Next, the stamper is fixed to the polishing jig board through the base film layer of the adhesive film using a vacuum device or the like, and the back surface of the stamper is polished. After the polishing, the adhesive film is peeled off. After peeling
If necessary, the signal concavo-convex formation surface may be subjected to a washing treatment such as water washing or plasma washing. Further, the adhesive film may be stored for a certain period without being peeled off.

【0016】研磨終了後、粘着フィルムを貼着したまま
旋盤等により内外径の加工を施してもよい。内外径の加
工工程は裏面研磨前に行われることもあり、この場合、
内外径加工時から粘着フィルムを貼付しておき、該加工
終了後粘着フィルムを貼付したまま、引続き裏面研磨を
行ってもよい。本発明においては、裏面研磨方法には特
に制限はなく公知の研磨方法で差支えない。
After the polishing, the inner and outer diameters may be processed with a lathe or the like with the adhesive film adhered. The process of processing the inner and outer diameters may be performed before polishing the back surface, in which case,
An adhesive film may be adhered from the time of processing the inner and outer diameters, and after the processing, the back surface may be continuously polished with the adhesive film adhered. In the present invention, the backside polishing method is not particularly limited, and a known polishing method may be used.

【0017】次に、本発明に用いる粘着フィルムについ
て説明する。本発明で用いる粘着フィルムは、基材フィ
ルム又は剥離フィルムの片表面に、粘着剤ポリマー、架
橋剤、さらに必要に応じて他の添加剤を含む溶液または
エマルジョン液(以下、これらを総称して粘着剤塗布液
という)を塗布、乾燥して粘着剤層を形成することによ
り製造される。
Next, the pressure-sensitive adhesive film used in the present invention will be described. The pressure-sensitive adhesive film used in the present invention is a solution or emulsion containing a pressure-sensitive adhesive polymer, a cross-linking agent, and, if necessary, other additives on one surface of a base film or a release film. It is manufactured by applying and drying an adhesive coating liquid) to form an adhesive layer.

【0018】基材フィルムに粘着剤層を形成する場合
は、環境に起因する汚染等から保護するために粘着剤層
の表面に剥離フィルムを貼着することが好ましい。ま
た、剥離フィルムの片表面に粘着剤層を形成する場合
は、粘着剤層を基材フィルムへ転写する方法がとられ
る。基材フィルム及び剥離フィルムのいずれの片表面に
粘着剤塗布液を塗布するかは、基材フィルム及び剥離フ
ィルムの耐熱性、光ディスク用スタンパの信号用凹凸形
成面への汚染性を考慮して決める。例えば、剥離フィル
ムの耐熱性が基材フィルムのそれより優れている場合
は、剥離フィルムの表面に粘着剤層を設けた後、基材フ
ィルムへ転写する。耐熱性が同等または基材フィルムが
優れている場合は、基材フィルムの表面に粘着剤層を設
け、該粘着剤層表面に剥離フィルムを貼着する。
When a pressure-sensitive adhesive layer is formed on a substrate film, it is preferable to attach a release film to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer in order to protect the film from contamination due to the environment. In the case where an adhesive layer is formed on one surface of the release film, a method of transferring the adhesive layer to a base film is employed. Which surface of the base film or release film is to be coated with the adhesive coating liquid is determined in consideration of the heat resistance of the base film and release film, and the contamination of the optical disc stamper with the signal irregularity formed surface. . For example, when the heat resistance of the release film is superior to that of the base film, an adhesive layer is provided on the surface of the release film and then transferred to the base film. When the heat resistance is the same or the base film is excellent, an adhesive layer is provided on the surface of the base film, and a release film is attached to the surface of the adhesive layer.

【0019】本発明に用いる粘着フィルムは、剥離フィ
ルムを剥離したときに露出する粘着剤層の表面を介して
スタンパの信号用凹凸形成面に貼着されることを考慮
し、粘着剤層による情報記録面の汚染防止を図るために
は、耐熱性の良好な剥離フィルムを使用し、その表面に
粘着剤塗布液を塗布、乾燥して粘着剤層を形成する方法
が好ましい。
In consideration of the fact that the pressure-sensitive adhesive film used in the present invention is adhered to the signal uneven surface of the stamper via the surface of the pressure-sensitive adhesive layer exposed when the release film is peeled off, information from the pressure-sensitive adhesive layer is taken into consideration. In order to prevent the recording surface from being contaminated, it is preferable to use a release film having good heat resistance, apply a pressure-sensitive adhesive coating solution to the surface, and dry the surface to form a pressure-sensitive adhesive layer.

【0020】本発明で用いる粘着フィルムの基材フィル
ムとして、合成樹脂、天然ゴム、合成ゴム等から製造さ
れたフィルムが挙げられる。具体的に例示するならば、
ポリオレフィン、ポリエステル、エチレン−酢酸ビニル
共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリブタ
ジエン、軟質塩化ビニル樹脂、ポリアミド、アイオノマ
ー等の樹脂、およびそれらの共重合体エラストマー、お
よびジエン系、ニトリル系、シリコーン系、アクリル系
等の合成ゴム等のフィルムが挙げられる。基材フィルム
は単層体であっても、また、積層体であってもよい。
Examples of the base film of the pressure-sensitive adhesive film used in the present invention include films manufactured from synthetic resin, natural rubber, synthetic rubber, and the like. To give a concrete example,
Polyolefin, polyester, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, polybutadiene, soft vinyl chloride resin, polyamide, ionomer, and other resins, and their copolymer elastomers, and diene, nitrile, and silicone And films of synthetic rubber such as acryl based. The base film may be a single layer or a laminate.

【0021】基材フィルムの厚みは、後述する粘着剤層
の厚みとの合計、即ち粘着フィルムの厚みが20〜30
0μmとなる様に選択することが好ましい。より好まし
い粘着フィルムの厚みは25〜200μmである。粘着
フィルムの厚みは、スタンパ裏面研磨工程におけるスタ
ンパの破損防止、スタンパの信号用凹凸形成面への貼着
作業性及び剥離作業性、粘着フィルムの製造コスト、等
に影響する。厚みが薄くなると作業性、スタンパ信号面
を保護する能力が低下する傾向があり、厚くなると粘着
フィルムの製造コストが増大する傾向がある。
The thickness of the base film is the sum of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer described later, that is, the thickness of the pressure-sensitive adhesive film is 20 to 30.
It is preferable to select the thickness to be 0 μm. A more preferred thickness of the pressure-sensitive adhesive film is 25 to 200 μm. The thickness of the pressure-sensitive adhesive film affects prevention of breakage of the stamper in the stamper back surface polishing step, workability of attaching and detaching the stamper to the signal unevenness forming surface, production cost of the pressure-sensitive adhesive film, and the like. When the thickness is reduced, the workability and the ability to protect the signal surface of the stamper tend to decrease, and when the thickness is increased, the production cost of the adhesive film tends to increase.

【0022】基材フィルムは、厚みバラツキが後述する
粘着フィルムの厚みバラツキに影響を与えない程度に管
理して製造されたものが好ましい。基材フィルムと粘着
剤層との接着力を向上させるため、基材フィルムの粘着
剤層を設ける面にはコロナ放電処理または化学処理等を
施すことが好ましい。また、基材フィルムと粘着剤層の
間に下塗り剤を用いてもよい。
The base film is preferably manufactured by controlling the thickness variation so as not to affect the thickness variation of the pressure-sensitive adhesive film described later. In order to improve the adhesive strength between the substrate film and the pressure-sensitive adhesive layer, it is preferable to subject the surface of the substrate film on which the pressure-sensitive adhesive layer is provided to a corona discharge treatment or a chemical treatment. An undercoat may be used between the base film and the pressure-sensitive adhesive layer.

【0023】粘着フィルムから剥離フィルムを剥離する
際、スタンパから粘着フィルムを剥離する際等に生じる
静電気により、作業性が低下したり、スタンパの信号用
凹凸形成面に外部からの汚染物が付着し易くなることを
考慮すれば、基材フィルムの粘着剤層と反対側の面には
静電気防止処理を施すことが好ましい。静電気防止処理
方法としては、界面活性剤等の静電気防止剤を塗布する
方法、コロナ放電処理を施す方法等が挙げられる。
When peeling the release film from the adhesive film, the workability is reduced due to static electricity generated when the adhesive film is peeled from the stamper, and external contaminants adhere to the signal uneven surface of the stamper. In consideration of the fact that it becomes easier, it is preferable to perform an antistatic treatment on the surface of the base film opposite to the pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the antistatic treatment method include a method of applying an antistatic agent such as a surfactant, a method of performing corona discharge treatment, and the like.

【0024】裏面研磨方法や裏面研磨加工装置に応じ
て、基材フィルムの粘着剤層(スタンパ信号用凹凸面保
護用)の反対側の面に研磨治具盤等に固定するための、
粘着剤層を設けてもよい。この場合、裏面研磨加工装置
に真空吸着装置等の固定装置を設ける必要がない。但
し、該固定用粘着剤層を設ける場合、粘着フィルム全体
の厚みバラツキが、後述する、好ましい範囲内に入るよ
うに設けることが好ましい。また、該固定用粘着剤層と
研磨治具盤の接着力は、研磨加工終了後にスタンパを変
形させずに剥離できる様に調整することが好ましい。例
えば、治具盤側に易剥離処理を施す等である。
According to the back surface polishing method and the back surface polishing apparatus, the base film is fixed to a polishing jig board or the like on the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive layer (for protecting the uneven surface for the stamper signal).
An adhesive layer may be provided. In this case, there is no need to provide a fixing device such as a vacuum suction device in the backside polishing apparatus. However, when the fixing pressure-sensitive adhesive layer is provided, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer is provided so that the thickness variation of the entire pressure-sensitive adhesive film falls within a preferable range described later. Further, it is preferable to adjust the adhesive strength between the fixing pressure-sensitive adhesive layer and the polishing jig board so that the stamper can be peeled off after the polishing process without deforming the stamper. For example, an easy peeling process is performed on the jig board side.

【0025】本発明に用いる粘着フィルムの剥離フィル
ムとしては、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ
ート等の合成樹脂フィルムが挙げられる。必要に応じて
その表面にシリコーン処理等が施されたものが好まし
い。剥離フィルムの厚みは、通常10〜150μmであ
る。好ましくは30〜100μmである。
Examples of the release film of the adhesive film used in the present invention include synthetic resin films such as polypropylene and polyethylene terephthalate. Preferably, the surface thereof is subjected to a silicone treatment or the like as necessary. The thickness of the release film is usually from 10 to 150 μm. Preferably it is 30 to 100 μm.

【0026】本発明に用いる粘着フィルムの粘着剤層
は、基材フィルムまたは剥離フィルムの片表面に、粘着
剤塗布液を塗布、乾燥することにより形成される。粘着
剤塗布液は、その基本成分である粘着剤ポリマー、及
び、凝集力を上げたり粘着力を調整するための1分子中
に2個以上の架橋反応性官能基を有する架橋剤を含む溶
液またはエマルジョン液である。粘着特性を調整するた
めにロジン系、テルペン樹脂系等のタッキファイヤーを
適宜添加してもよい。また、粘着剤ポリマーがエマルジ
ョン液である場合はジエチレングリコールモノアルキル
エーテル等の造膜助剤を添加してもよい。
The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive film used in the present invention is formed by applying a pressure-sensitive adhesive coating solution to one surface of a base film or a release film and drying. The pressure-sensitive adhesive coating solution is a solution containing a pressure-sensitive adhesive polymer which is a basic component thereof, and a cross-linking agent having two or more cross-linking reactive functional groups in one molecule for increasing cohesive force or adjusting adhesive force. It is an emulsion liquid. A tackifier such as a rosin-based resin or a terpene-based resin may be appropriately added to adjust the adhesive properties. When the pressure-sensitive adhesive polymer is an emulsion, a film-forming auxiliary such as diethylene glycol monoalkyl ether may be added.

【0027】本発明に用いる粘着フィルムの粘着剤層を
構成する粘着剤ポリマーとしては、架橋剤と架橋反応し
得る官能基を有する各種合成ゴム系ポリマー等が挙げら
れる。これらの内、粘着物性の制御、再現性等を考慮す
ると、アクリル酸アルキルエステル系ポリマー、メタク
リル酸アルキルエステル系ポリマー、ブタジエン系ポリ
マー、イソプレン系ポリマー、スチレン−ブタジエン系
ポリマー等が挙げられる。これらの内、アクリル酸アル
キルエステル系ポリマー、メタクリル酸アルキルエステ
ル系ポリマーが好ましい。粘着剤ポリマーを含む液体
(以下、粘着剤主剤)は溶液、エマルジョン液等の何れ
でもよい。
Examples of the pressure-sensitive adhesive polymer constituting the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive film used in the present invention include various synthetic rubber polymers having a functional group capable of undergoing a crosslinking reaction with a crosslinking agent. Among these, in consideration of control of adhesive properties, reproducibility, etc., alkyl acrylate polymers, alkyl methacrylate polymers, butadiene polymers, isoprene polymers, styrene-butadiene polymers and the like can be mentioned. Of these, alkyl acrylate polymers and alkyl methacrylate polymers are preferred. The liquid containing the pressure-sensitive adhesive polymer (hereinafter, pressure-sensitive adhesive main agent) may be any of a solution, an emulsion liquid, and the like.

【0028】粘着剤ポリマーがアクリル酸アルキルエス
テル系ポリマー、またはメタクリル酸アルキルエステル
系ポリマーである場合、粘着剤ポリマーを構成する主モ
ノマーとして、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸−2−エチ
ルヘキシル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル等のア
クリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエス
テル等が挙げられる。これらは単独で使用してもよい
し、また、2種以上を混合して使用してもよい。主モノ
マーの使用量は粘着剤ポリマーの原料となる全モノマー
の総量中に、通常、60〜99重量%の範囲で含まれて
いることが好ましい。
When the adhesive polymer is an alkyl acrylate polymer or an alkyl methacrylate polymer, the main monomers constituting the adhesive polymer are methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate. And alkyl acrylates such as butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate and 2-ethylhexyl methacrylate, and alkyl methacrylates. These may be used alone or as a mixture of two or more. It is preferable that the amount of the main monomer used is usually in the range of 60 to 99% by weight in the total amount of all the monomers used as the raw material of the pressure-sensitive adhesive polymer.

【0029】上記主モノマーと共重合させる、架橋剤と
反応し得る官能基を有するコモノマーとして、アクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、メサコン酸、シトラコ
ン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキル
エステル、メサコン酸モノアルキルエステル、シトラコ
ン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエス
テル、マレイン酸モノアルキルエステル、アクリル酸−
2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシ
エチル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ターシャ
ル−ブチルアミノエチルアクリレート、ターシャル−ブ
チルアミノエチルメタクリレート等が挙げられる。これ
らの一種を上記主モノマーと共重合させてもよいし、ま
た2種以上を共重合させてもよい。上記の架橋剤と反応
しうる官能基を有するコモノマーの使用量は、粘着剤ポ
リマーの原料となる全モノマーの総量中に、通常、1〜
40重量%の範囲で含まれていることが好ましい。
Examples of the comonomer having a functional group capable of reacting with a crosslinking agent, which is copolymerized with the above main monomer, include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, mesaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, maleic acid and monoalkyl itaconate. , Monoalkyl mesaconate, monoalkyl citraconic, monoalkyl fumarate, monoalkyl maleate, acrylic acid-
2-hydroxyethyl, 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylamide, methacrylamide, tert-butylaminoethyl acrylate, tert-butylaminoethyl methacrylate, and the like. One of these may be copolymerized with the above main monomer, or two or more thereof may be copolymerized. The amount of the comonomer having a functional group capable of reacting with the cross-linking agent is usually 1 to 10
Preferably, it is contained in the range of 40% by weight.

【0030】本発明においては、上記粘着剤ポリマーを
構成する主モノマー及び架橋剤と反応し得る官能基を有
するコモノマーのほかに界面活性剤としての性質を有す
る特定のコモノマー(以下、重合性界面活性剤と称す
る)を共重合してもよい。重合性界面活性剤は、主モノ
マー及びコモノマーと共重合する性質を有すると共に乳
化重合する場合には乳化剤としての作用を有する。重合
性界面活性剤を用いて乳化重合した粘着剤ポリマーを用
いた場合には、通常、界面活性剤によるスタンパの信号
用凹凸形成面に対する汚染が生じない。また、粘着剤層
に起因する僅かな汚染が生じた場合においても、信号用
凹凸形成面を水洗することにより容易に除去することが
可能となる。この様な重合性界面活性剤の例としては、
例えば、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルの
ベンゼン環に重合性の1−プロペニル基を導入したもの
〔第一工業製薬(株)製;アクアロンRN−10、同R
N−20、同RN−30、同RN−50等〕、ポリオキ
シエチレンノニルフェニルエーテルの硫酸エステルのア
ンモニウム塩のベンゼン環に重合性の1−プロペニル基
を導入したもの〔第一工業製薬(株)製;アクアロンH
S−10、同HS−20等〕、及び分子内に重合性2結
合を持つ、スルホコハク酸ジエステル系のもの〔花王
(株)製;ラテムルS−120A、同S−180A等〕
等が挙げられる。
In the present invention, in addition to the main monomer constituting the pressure-sensitive adhesive polymer and the comonomer having a functional group capable of reacting with the crosslinking agent, a specific comonomer having properties as a surfactant (hereinafter referred to as polymerizable surfactant) ) May be copolymerized. The polymerizable surfactant has a property of copolymerizing with the main monomer and the comonomer, and has an action as an emulsifier when emulsion polymerization is performed. When a pressure-sensitive adhesive polymer emulsion-polymerized with a polymerizable surfactant is used, the surfactant usually does not cause contamination of the signal concavo-convex forming surface of the stamper. Further, even when slight contamination caused by the pressure-sensitive adhesive layer occurs, the signal irregularity-formed surface can be easily removed by washing with water. Examples of such a polymerizable surfactant include:
For example, polyoxyethylene nonylphenyl ether having a polymerizable 1-propenyl group introduced into the benzene ring [manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .; Aqualon RN-10, R
N-20, RN-30, RN-50, etc.], and a polymerizable 1-propenyl group introduced into the benzene ring of an ammonium salt of a sulfate of polyoxyethylene nonylphenyl ether [Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Aquaron H
S-10, HS-20 etc.] and a sulfosuccinic acid diester having a polymerizable 2 bond in the molecule [manufactured by Kao Corporation; Latemul S-120A, S-180A etc.]
And the like.

【0031】主モノマー、架橋剤と反応し得る官能基を
有するコモノマー、重合性界面活性剤の他に、さらに必
要に応じてアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシ
ジル、イソシアネートエチルアクリレート、イソシアネ
ートエチルメタクリレート、2−(1−アジリジニル)
エチルアクリレート、2−(1−アジリジニル)エチル
メタクリレート等の自己架橋性の官能基を有するモノマ
ー、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン等の重合
性2重結合を有するモノマー、ジビニルベンゼン、アク
リル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、アクリル酸アリ
ル、メタクリル酸アリル等の多官能性のモノマー等を共
重合してもよい。
In addition to the main monomer, a comonomer having a functional group capable of reacting with a crosslinking agent, and a polymerizable surfactant, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, isocyanate ethyl acrylate, isocyanate ethyl methacrylate, (1-aziridinyl)
Monomers having a self-crosslinkable functional group such as ethyl acrylate and 2- (1-aziridinyl) ethyl methacrylate; monomers having a polymerizable double bond such as vinyl acetate, acrylonitrile, and styrene; divinylbenzene, vinyl acrylate, and methacrylic acid Polyfunctional monomers such as vinyl, allyl acrylate and allyl methacrylate may be copolymerized.

【0032】粘着剤ポリマーを重合する方法としては、
溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法等既知の様々な方
法が採用できるが、得られる粘着剤ポリマーの分子量及
びそれに伴う粘着剤の凝集力への影響を考慮することが
好ましい。これらの重合方法の内、高分子量のポリマー
が得られること、塗布、乾燥工程における環境汚染、塗
布性等を勘案すると乳化重合法が好ましい。
As a method for polymerizing the pressure-sensitive adhesive polymer,
Various known methods such as a solution polymerization method, a suspension polymerization method, and an emulsion polymerization method can be employed, but it is preferable to consider the molecular weight of the obtained pressure-sensitive adhesive polymer and the accompanying effect on the cohesive strength of the pressure-sensitive adhesive. Among these polymerization methods, the emulsion polymerization method is preferable in consideration of obtaining a high molecular weight polymer, environmental pollution in coating and drying steps, coating properties, and the like.

【0033】粘着剤ポリマーの重合反応機構としては、
ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等が挙げら
れるが、粘着剤の製造コスト、モノマーの官能基の影響
等を考慮すればラジカル重合によって重合することが好
ましい。ラジカル重合反応によって重合する際、ラジカ
ル重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド、アセ
チルパーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、オ
クタノイルパーオキサイド、ジ−ターシャル−ブチルパ
ーオキサイド、ジ−ターシャル−アミルパーオキサイド
等の有機過酸化物、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウ
ム、過硫酸ナトリウム等の無機過酸化物、2,2’−ア
ゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−2−
メチルブチロニトリル、4,4’−アゾビス−4−シア
ノバレリックアシッド等のアゾ化合物等が挙げられる。
As the polymerization reaction mechanism of the pressure-sensitive adhesive polymer,
Radical polymerization, anionic polymerization, cationic polymerization and the like can be mentioned, but polymerization is preferably performed by radical polymerization in consideration of the production cost of the pressure-sensitive adhesive, the influence of the functional group of the monomer, and the like. When polymerizing by a radical polymerization reaction, organic radicals such as benzoyl peroxide, acetyl peroxide, isobutyryl peroxide, octanoyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, di-tert-amyl peroxide are used as radical polymerization initiators. Inorganic peroxides such as peroxide, ammonium persulfate, potassium persulfate and sodium persulfate, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis-2-
Examples include azo compounds such as methylbutyronitrile and 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid.

【0034】本発明に用いる架橋剤は、架橋反応性の官
能基を1分子中に2個以上有する化合物であり、粘着剤
ポリマーが有する官能基と架橋反応させて、粘着力およ
び凝集力を調整するために用いる。架橋剤としては、ソ
ルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロール
ポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグ
リシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエー
テル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ネオペン
チルグリコールジグリシジルエーテル、レソルシンジグ
リシジルエーテル等のエポキシ系化合物、テトラメチレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、トリメチロールプロパンのトルエンジイソシアネー
ト3付加物、ポリイソシアネート等のイソシアネート系
化合物、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジ
ニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−
β−アジリジニルプロピオネート、N,N’−ジフェニ
ルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキシ
アミド)、N,N’−ヘキサメチレン−1,6−ビス
(1−アジリジンカルボキシアミド)、N,N’−トル
エン−2,4−ビス(1−アジリジンカルボキシアミ
ド)、トリメチロールプロパン−トリ−β−(2−メチ
ルアジリジン)プロピオネート等のアジリジン系化合
物、及びヘキサメトキシメチロールメラミン等のメラミ
ン系化合物等が挙げられる。
The cross-linking agent used in the present invention is a compound having two or more cross-linking reactive functional groups in one molecule. The cross-linking reaction is carried out with the functional group of the pressure-sensitive adhesive polymer to adjust the cohesion and cohesion. Used to Examples of the crosslinking agent include epoxy compounds such as sorbitol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and resorcin diglycidyl ether. , Tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate triadduct of trimethylolpropane, isocyanate compounds such as polyisocyanate, trimethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate, tetramethylolmethane-tri-
β-aziridinyl propionate, N, N′-diphenylmethane-4,4′-bis (1-aziridinecarboxamide), N, N′-hexamethylene-1,6-bis (1-aziridinecarboxamide) , N, N'-toluene-2,4-bis (1-aziridinecarboxamide), aziridine compounds such as trimethylolpropane-tri-β- (2-methylaziridine) propionate, and melamines such as hexamethoxymethylolmelamine And the like.

【0035】これらは単独で使用してもよいし、2種以
上を併用してもよい。上記架橋剤の中で、エポキシ系架
橋剤は架橋反応の速度が遅く、反応が十分に進行しない
場合には粘着剤層の凝集力が低くなり、スタンパ表面の
状態、研磨方法等によっては粘着剤層に起因する汚染が
生じることがある。したがって、適宜、アミン等の触媒
を添加するか、もしくは触媒作用のあるアミン系官能基
をもつモノマーを粘着剤ポリマーに共重合するか、架橋
剤を使用する際にアミンとしての性質を有するアジリジ
ン系架橋剤を併用することが好ましい。
These may be used alone or in combination of two or more. Among the above cross-linking agents, the epoxy-based cross-linking agent has a low speed of the cross-linking reaction, and when the reaction does not proceed sufficiently, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer decreases, and depending on the state of the stamper surface, the polishing method, etc. Contamination due to layers may occur. Therefore, as appropriate, a catalyst such as an amine is added, or a monomer having an amine functional group having a catalytic action is copolymerized with an adhesive polymer, or an aziridine-based compound having an amine property when a crosslinking agent is used. It is preferable to use a crosslinking agent together.

【0036】架橋剤の添加量は、通常、架橋剤中の官能
基数が粘着剤ポリマー中の官能基数よりも多くならない
程度の範囲で添加する。しかし、架橋反応で新たに官能
基が生じる場合や、架橋反応が遅い場合など、必要に応
じて過剰に添加してもよい。架橋剤の添加量は、粘着剤
ポリマー100重量部に対し0.1〜30重量部である
ことが好ましい。
The amount of the cross-linking agent to be added is usually within such a range that the number of functional groups in the cross-linking agent does not become larger than the number of functional groups in the pressure-sensitive adhesive polymer. However, when a new functional group is generated by the crosslinking reaction or when the crosslinking reaction is slow, an excessive amount may be added as necessary. The amount of the crosslinking agent added is preferably 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer.

【0037】粘着フィルムの粘着力は、スタンパの裏面
研磨中の信号用凹凸形成面に対する保護性、スタンパか
らの剥離作業性、剥離応力によるスタンパの変形等に影
響する。かかる観点から、粘着フィルムの粘着力は、通
常、SUS304−BA板に対する粘着力に換算すると
10〜180g/25mmが好ましい。より好ましくは
10〜100g/25mmであり、さらに好ましくは1
0〜50g/25mmである。粘着力が高すぎると、変
形なしに剥離することが困難となり剥離作業時間が長く
なり、また、粘着フィルムの剥離時にスタンパが変形
し、低すぎると、研磨中に研磨剤等がスタンパと粘着剤
層の間に侵入し、信号用凹凸に影響を与える等、保護が
不充分となる。
The adhesive strength of the adhesive film affects the protection of the signal uneven surface during polishing of the back surface of the stamper, the workability of peeling from the stamper, the deformation of the stamper due to the peeling stress, and the like. From this viewpoint, the adhesive strength of the adhesive film is usually preferably from 10 to 180 g / 25 mm in terms of the adhesive strength to the SUS304-BA plate. It is more preferably 10 to 100 g / 25 mm, and still more preferably 1 to 100 g / 25 mm.
0 to 50 g / 25 mm. If the adhesive strength is too high, it is difficult to peel without deformation, and the peeling operation time is prolonged, and the stamper is deformed when the adhesive film is peeled off. Insufficiency of protection, such as intrusion between layers, affecting signal irregularities.

【0038】基材フィルム又は剥離フィルムの片表面に
粘着剤塗布液を塗布する方法としては、従来公知の塗布
方法、例えば、ロールコーター法、リバースロールコー
ター法、グラビアロール法、バーコート法、コンマコー
ター法、ダイコーター法等が採用できる。塗布された粘
着剤の乾燥条件には特に制限はないが、一般的には、8
0〜200℃の温度範囲において10秒〜10分間乾燥
することが好ましい。さらに好ましくは80〜170℃
において15秒〜5分間乾燥する。粘着剤層の厚みは、
スタンパの表面形状、裏面研磨時の保護性、スタンパか
ら剥離する際の粘着力等を考慮して適宣決められる。通
常、2〜15μm程度が好ましい。より好ましくは2〜
10μmである。
As a method for applying a pressure-sensitive adhesive coating solution to one surface of a substrate film or a release film, a conventionally known coating method, for example, a roll coater method, a reverse roll coater method, a gravure roll method, a bar coat method, a comma coater A coater method, a die coater method, or the like can be employed. The drying condition of the applied pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, but generally, 8
It is preferable to dry in a temperature range of 0 to 200 ° C. for 10 seconds to 10 minutes. More preferably 80 to 170 ° C
For 15 seconds to 5 minutes. The thickness of the adhesive layer is
It is appropriately determined in consideration of the surface shape of the stamper, the protective property at the time of polishing the back surface, the adhesive strength at the time of peeling from the stamper, and the like. Usually, about 2 to 15 μm is preferable. More preferably 2-
10 μm.

【0039】本発明で使用する粘着フィルムを製造する
際、粘着剤塗布液の乾燥が終了した後に、架橋剤と粘着
剤ポリマーとの架橋反応を十分に促進させるために、粘
着フィルムを40〜80℃において5〜300時間程度
加熱しても良い。粘着フィルムの厚みバラツキは、裏面
研磨後のスタンパの厚みバラツキに影響を与える。従っ
て、粘着フィルムの厚みバラツキは、厚みの平均値に対
して、±5μm以内であることが好ましい。さらに好ま
しくは±3μm以内である。
In the production of the pressure-sensitive adhesive film used in the present invention, after the drying of the pressure-sensitive adhesive coating solution is completed, the pressure-sensitive adhesive film is subjected to 40 to 80 in order to sufficiently promote the cross-linking reaction between the cross-linking agent and the pressure-sensitive adhesive polymer. It may be heated at a temperature of about 5 to 300 hours. The thickness variation of the adhesive film affects the thickness variation of the stamper after the back surface polishing. Therefore, the thickness variation of the pressure-sensitive adhesive film is preferably within ± 5 μm with respect to the average value of the thickness. More preferably, it is within ± 3 μm.

【0040】本発明で使用する粘着フィルムの製造方法
は、上記の通りであるが、スタンパの信号用凹凸面の汚
染防止の観点から、基材フィルム、剥離フィルム、粘着
剤主剤等全ての原料資材の製造環境、粘着剤塗布液の調
製、保存、塗布及び乾燥環境は、米国連邦規格209b
に規定されるクラス1,000以下のクリーン度に維持
されていることが好ましい。又、本発明の光ディスクの
製造方法は、同様に信号用凹凸面の汚染の観点からクラ
ス1,000以下のクリーン度に維持されていることが
好ましい。
The method for producing the pressure-sensitive adhesive film used in the present invention is as described above. However, from the viewpoint of preventing contamination of the signal irregularity surface of the stamper, all raw materials such as a base film, a release film, and a pressure-sensitive adhesive base material are used. Production environment, preparation, storage, application and drying environment of the adhesive coating solution is the US Federal Standard 209b
It is preferable to maintain the cleanliness of class 1,000 or less specified in the above. Also, in the method of manufacturing an optical disk of the present invention, it is preferable that the degree of cleanness be kept at a class of 1,000 or less similarly from the viewpoint of contamination of the signal uneven surface.

【0041】[0041]

【実施例】以下、実施例を示して本発明についてさらに
詳細に説明する。本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。尚、実施例または比較例で得られた粘着フ
ィルムの粘着力および厚みバラツキ、得られたスタンパ
の厚みバラツキおよび、表面汚染は下記の方法で評価し
た。
The present invention will be described below in further detail with reference to examples. The present invention is not limited to these examples. The adhesive strength and thickness variation of the pressure-sensitive adhesive films obtained in Examples and Comparative Examples, the thickness variation of the obtained stamper, and surface contamination were evaluated by the following methods.

【0042】(1)粘着力の測定(g/25mm) 下記に規定した条件以外は、全てJIS Z−0237
に準じて測定する。23℃の雰囲気下において、実施例
または比較例で得られた粘着フィルムをその粘着剤層を
介して、5×20cmのSUS304−BA板(JIS
G−4305規定)の表面に貼着し、1時間放置す
る。試料の一端を挟持し、剥離角度180度、剥離速度
300mm/min.でSUS304−BA板の表面か
ら試料を剥離する際の応力を測定し、g/25mmの粘
着力に換算する。
(1) Measurement of adhesive strength (g / 25 mm) Except for the conditions specified below, all were JIS Z-0237.
Measure according to Under an atmosphere of 23 ° C., a 5 × 20 cm SUS304-BA plate (JIS
G-4305) and left for 1 hour. One end of the sample was sandwiched, and a peeling angle of 180 ° and a peeling speed of 300 mm / min. Is used to measure the stress when the sample is peeled off from the surface of the SUS304-BA plate, and is converted to an adhesive force of g / 25 mm.

【0043】(2)粘着フィルムの厚みバラツキの測定
(μm) 実施例または比較例で得られた粘着フィルムから10c
m四方の大きさのサンプルを無作為に採取する。剥離フ
ィルムを剥がした状態で、粘着フィルムの厚み(基材フ
ィルムと粘着剤層の合計)を縦横1cm毎に計100点
測定し、平均値を求める。最大値または最小値と平均値
の差をとり、絶対値の大きい方の値(A)を厚みバラツ
キとし、±A(μm)で表す。
(2) Measurement of thickness variation of adhesive film (μm) 10c from the adhesive film obtained in Examples or Comparative Examples
A sample of m square size is taken at random. With the release film peeled off, the thickness of the pressure-sensitive adhesive film (total of the base film and the pressure-sensitive adhesive layer) is measured at a total of 100 points every 1 cm in length and width, and the average value is determined. The difference between the maximum value or the minimum value and the average value is taken, and the value (A) having the larger absolute value is regarded as the thickness variation, and is represented by ± A (μm).

【0044】(3)裏面研磨後のスタンパの厚みバラツ
キの測定(μm) 実施例または比較例で得られた、裏面研磨終了後のスタ
ンパの信号用凹凸が形成された部分の厚みを等間隔で無
作為に50点測定し、平均値を求める。最大値または最
小値と平均値の差をとり、絶対値の大きい方の値(B)
を厚みバラツキとし、±B(μm)で表す。
(3) Measurement of Variation in Thickness of Stamper after Backside Polishing (μm) The thickness of the portion of the stamper after the backside polishing, on which signal irregularities were formed, obtained at the same time in Examples or Comparative Examples was measured. Measure 50 points at random and calculate the average value. The difference between the maximum value or the minimum value and the average value, and the value with the larger absolute value (B)
Is thickness variation and is represented by ± B (μm).

【0045】(4)裏面研磨後のスタンパの信号用凹凸
形成面の汚染観察 実施例または比較例で得られた、裏面研磨終了後のスタ
ンパの信号用凹凸形成面を顕微鏡(800倍)で観察
し、汚染の状況を評価する。
(4) Observation of contamination on the signal uneven surface of the stamper after back-surface polishing The signal uneven surface of the stamper after back-surface polishing obtained in Example or Comparative Example was observed with a microscope (× 800). And assess the status of contamination.

【0046】実施例1 重合反応機において、脱イオン水150重量部、重合開
始剤として4,4’−アゾビス−4−シアノバレリック
アシッド〔大塚化学(株)製、商品名:ACVA〕を
0.5重量部、アクリル酸ブチル73.25重量部、メ
タクリル酸メチル14重量部、メタクリル酸−2−ヒド
ロキシエチル9重量部、メタクリル酸2重量部、アクリ
ルアミド1重量部、重合性界面活性剤としてポリオキシ
エチレンノニルフェニルエ−テル(エチレンオキサイド
の付加モル数の平均値:約20)の硫酸エステルのアン
モニウム塩のベンゼン環に重合性の1−プロペニル基を
導入したもの〔第一工業製薬(株)製:アクアロンHS
−20〕0.75重量部を用い、攪拌下で70℃におい
て9時間乳化重合を実施し、アクリル樹脂系水エマルジ
ョンを得た。これを14重量%アンモニア水で中和し、
固形分約40重量%の粘着剤ポリマーエマルジョン(粘
着剤主剤)を得た。得られた粘着剤主剤エマルジョン1
00重量部(粘着剤ポリマー濃度約40重量%)を採取
し、さらに14重量%アンモニア水を加えてpH9.3
に調整した。次いで、アジリジン系架橋剤〔日本触媒化
学工業(株)製、ケミタイトPZ−33〕4重量部、お
よびジエチレングリコールモノブチルエーテル5重量部
を添加して粘着剤塗布液を得た。
Example 1 In a polymerization reactor, 150 parts by weight of deionized water and 4,4′-azobis-4-cyanovaleric acid (trade name: ACVA, manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) as a polymerization initiator were used in an amount of 0. 0.5 parts by weight, 73.25 parts by weight of butyl acrylate, 14 parts by weight of methyl methacrylate, 9 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, 2 parts by weight of methacrylic acid, 1 part by weight of acrylamide, and poly as a polymerizable surfactant Oxyethylene nonylphenyl ether (average of the number of moles of ethylene oxide added: about 20) in which a polymerizable 1-propenyl group is introduced into the benzene ring of an ammonium salt of a sulfate [Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Made: Aqualon HS
-20], emulsion polymerization was carried out at 70 ° C. for 9 hours with stirring using 0.75 parts by weight to obtain an acrylic resin-based water emulsion. This is neutralized with 14% by weight ammonia water,
An adhesive polymer emulsion having a solid content of about 40% by weight (adhesive base) was obtained. The obtained adhesive base emulsion 1
00 parts by weight (adhesive polymer concentration: about 40% by weight) was collected, and 14% by weight aqueous ammonia was added thereto to adjust the pH to 9.3.
Was adjusted. Next, 4 parts by weight of an aziridine-based cross-linking agent (manufactured by Nippon Shokubai Chemical Co., Ltd., Chemitite PZ-33) and 5 parts by weight of diethylene glycol monobutyl ether were added to obtain an adhesive coating solution.

【0047】この粘着剤塗布液をロールコーターを用い
てポリプロピレンフィルム(剥離フィルム、厚み:50
μm)に塗布し、120℃で1分間乾燥し厚さ3μmの
粘着剤層を設けた。次いで、コロナ放電処理を施した厚
さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(基
材フィルム)の該処理面を貼り合わせ押圧して、粘着剤
層を転写させた。転写後、60℃において48時間加熱
した後、室温まで冷却することにより粘着フィルムを製
造した。得られた粘着フィルムのSUS−304BA板
に対する粘着力は30g/25mm、厚みバラツキは±
2μmであった。
The pressure-sensitive adhesive coating solution was applied to a polypropylene film (release film, thickness: 50) using a roll coater.
μm) and dried at 120 ° C. for 1 minute to form a 3 μm thick pressure-sensitive adhesive layer. Next, the treated surface of a polyethylene terephthalate film (base film) having a thickness of 38 μm subjected to corona discharge treatment was bonded and pressed to transfer the pressure-sensitive adhesive layer. After the transfer, the film was heated at 60 ° C. for 48 hours, and then cooled to room temperature to produce an adhesive film. The adhesive strength of the obtained adhesive film to the SUS-304BA plate was 30 g / 25 mm, and the thickness variation was ±
It was 2 μm.

【0048】得られた粘着フィルムから剥離フィルムを
剥離して、その粘着剤層を介して、厚さ約0.3mmの
追記型のコンパクトディスク(CD−R)用スタンパ
(研磨加工前)の信号用凹凸形成面に貼着した後、スタ
ンパの裏面研磨を行った。裏面研磨終了後、該粘着フィ
ルムを剥離した。粘着フィルムの貼付け、及び剥離に要
した時間は合計で1分間程度の短時間であり、特別な大
型装置を必要とすることはなかった。得られたスタンパ
について、研磨状況を評価したところ、何れも局所的な
凹みはなく、スタンパの厚みバラツキは±2μm以内と
良好であった。又、スタンパの信号用凹凸形成面を顕微
鏡(800倍)で観察したところ、汚染物は発見されな
かった。結果を〔表1〕に示す。
The release film was peeled from the obtained adhesive film, and a signal of a write-once compact disc (CD-R) stamper (before polishing) having a thickness of about 0.3 mm was passed through the adhesive layer. After sticking to the surface for forming unevenness for use, the back surface of the stamper was polished. After finishing the back surface polishing, the adhesive film was peeled off. The time required for attaching and detaching the pressure-sensitive adhesive film was a short time of about 1 minute in total, and did not require a special large-sized device. When the polishing conditions of the obtained stampers were evaluated, there were no local depressions, and the thickness variation of the stampers was as good as ± 2 μm or less. Further, when the signal concavo-convex formation surface of the stamper was observed with a microscope (× 800), no contaminants were found. The results are shown in [Table 1].

【0049】実施例2 実施例1の粘着フィルムの製造において、粘着剤層の厚
みを2μmとした以外は実施例1と同様の方法で粘着フ
ィルムを製造した。得られた粘着フィルムのSUS−3
04BA板に対する粘着力は15g/25mm、厚みバ
ラツキは±2μmであった。得られた粘着フィルムを用
いて、実施例1と同様の方法で再生専用コンパクトディ
スク(CD)用スタンパ(研磨加工前)の裏面研磨を行
った。粘着フィルムの貼付け、及び剥離に要した時間は
合計で1分程度の短時間であり、特別な大型装置を必要
とすることはなかった。得られたスタンパについて、研
磨状況を評価したところ、何れも局所的な凹みはなく、
スタンパの厚みバラツキは±2μm以内と良好であっ
た。又、スタンパの信号用凹凸形成面を顕微鏡(800
倍)で観察したところ、汚染物は発見されなかった。結
果を〔表1〕に示す。
Example 2 An adhesive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the adhesive layer was changed to 2 μm. SUS-3 of the obtained adhesive film
The adhesive strength to the 04BA plate was 15 g / 25 mm, and the thickness variation was ± 2 μm. Using the obtained adhesive film, the back surface of a stamper for read-only compact disc (CD) (before polishing) was polished in the same manner as in Example 1. The time required for attaching and detaching the adhesive film was a short time of about 1 minute in total, and did not require a special large-sized device. About the obtained stamper, when the polishing situation was evaluated, there was no local dent,
The thickness variation of the stamper was as good as ± 2 μm or less. Also, the surface of the stamper where the signal unevenness is formed is microscope (800).
X), no contaminants were found. The results are shown in [Table 1].

【0050】実施例3 実施例1の粘着フィルムの製造において、アジリジン系
架橋剤〔日本触媒化学工業(株)製、ケミタイトPZ−
33〕の添加量を3重量部とした以外は実施例1と同様
の方法で粘着フィルムを製造した。得られた粘着フィル
ムのSUS−304BA板に対する粘着力は45g/2
5mm、厚みバラツキは±2μmであった。得られた粘
着フィルムを用いて、実施例1と同様の方法で再生専用
コンパクトディスク(CD)用スタンパ(研磨加工前)
の裏面研磨を行った。粘着フィルムの貼付け、及び剥離
に要した時間は合計で1分程度の短時間であり、特別な
大型装置を必要とすることはなかった。得られたスタン
パについて、研磨状況を評価したところ、何れも局所的
な凹みはなく、スタンパの厚みバラツキは±2μm以内
と良好であった。又、スタンパの信号用凹凸形成面を顕
微鏡(800倍)で観察したところ、汚染物は発見され
なかった。結果を〔表1〕に示す。
Example 3 In the production of the pressure-sensitive adhesive film of Example 1, an aziridine-based crosslinking agent [Nippon Shokubai Kagaku Kogyo KK, Chemitite PZ-
No. 33] was prepared in the same manner as in Example 1 except that the addition amount was 3 parts by weight. The adhesive strength of the obtained adhesive film to the SUS-304BA plate is 45 g / 2.
5 mm, and the thickness variation was ± 2 μm. Using the obtained adhesive film, a stamper for read-only compact disc (CD) (before polishing) in the same manner as in Example 1.
Was polished. The time required for attaching and detaching the adhesive film was a short time of about 1 minute in total, and did not require a special large-sized device. When the polishing conditions of the obtained stampers were evaluated, there were no local depressions, and the thickness variation of the stampers was as good as ± 2 μm or less. Further, when the signal concavo-convex formation surface of the stamper was observed with a microscope (× 800), no contaminants were found. The results are shown in [Table 1].

【0051】実施例4 実施例1の粘着フィルムの製造において、アジリジン系
架橋剤〔日本触媒化学工業(株)製、ケミタイトPZ−
33〕の添加量を3重量部、粘着剤層の厚みを5μm、
ポリエチレンテレフタレートフィルム(基材フィルム)
の厚みを50μmとした以外は実施例1と同様の方法で
粘着フィルムを製造した。得られた粘着フィルムのSU
S−304BA板に対する粘着力は80g/25mm、
厚みバラツキは±3μmであった。得られた粘着フィル
ムを用いて、実施例1と同様の方法で再生専用コンパク
トディスク(CD)用スタンパ(研磨加工前)の裏面研
磨を行った。粘着フィルムの貼付けに要する時間は実施
例1と同程度であったが、スタンパを変形させずに剥離
するのにやや時間を要した。それでも、貼付け、及び剥
離に要した時間は合計で5分程度であった。また、特別
な大型装置を必要とすることはなかった。得られたスタ
ンパについて、研磨状況を評価したところ、何れも局所
的な凹みはなく、スタンパの厚みバラツキは±2μm以
内と良好であった。又、スタンパの信号用凹凸形成面を
顕微鏡(800倍)で観察したところ、汚染物は発見さ
れなかった。結果を〔表1〕に示す。
Example 4 In the production of the pressure-sensitive adhesive film of Example 1, an aziridine-based crosslinking agent [Nippon Shokubai Kagaku Kogyo KK, Chemitite PZ-
33] was added in an amount of 3 parts by weight, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was 5 μm,
Polyethylene terephthalate film (base film)
A pressure-sensitive adhesive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the adhesive film was changed to 50 μm. SU of the obtained adhesive film
The adhesive strength to the S-304BA plate is 80 g / 25 mm,
The thickness variation was ± 3 μm. Using the obtained adhesive film, the back surface of a stamper for read-only compact disc (CD) (before polishing) was polished in the same manner as in Example 1. The time required for sticking the pressure-sensitive adhesive film was about the same as that of Example 1, but it took some time to peel off without deforming the stamper. Nevertheless, the time required for sticking and peeling was about 5 minutes in total. Also, no special large-scale equipment was required. When the polishing conditions of the obtained stampers were evaluated, there were no local depressions, and the thickness variation of the stampers was as good as ± 2 μm or less. Further, when the signal concavo-convex formation surface of the stamper was observed with a microscope (× 800), no contaminants were found. The results are shown in [Table 1].

【0052】実施例5 実施例1の粘着フィルムの製造において、アジリジン系
架橋剤〔日本触媒化学工業(株)製、ケミタイトPZ−
33〕の添加量を3重量部、粘着剤層の厚みを10μ
m、ポリエチレンテレフタレートフィルム(基材フィル
ム)の厚みを50μmとした以外は実施例1と同様の方
法で粘着フィルムを製造した。得られた粘着フィルムの
SUS−304BA板に対する粘着力は160g/25
mm、厚みバラツキは±3μmであった。得られた粘着
フィルムを用いて、実施例1と同様の方法で再生専用コ
ンパクトディスク(CD)用スタンパ(研磨加工前)の
裏面研磨を行った。粘着フィルムの貼付けに要する時間
は実施例1と同程度であったが、スタンパを変形させず
に剥離するのにやや時間を要した。それでも、貼付け、
及び剥離に要した時間は合計で12分程度であった。ま
た、特別な大型装置を必要とすることはなかった。得ら
れたスタンパについて、研磨状況を評価したところ、何
れも局所的な凹みはなく、スタンパの厚みバラツキは±
2μm以内と良好であった。又、スタンパの信号用凹凸
形成面を顕微鏡(800倍)で観察したところ、汚染物
は発見されなかった。結果を〔表1〕に示す。
Example 5 In the production of the pressure-sensitive adhesive film of Example 1, an aziridine-based crosslinking agent [Chemiteite PZ-, manufactured by Nippon Shokubai Chemical Co., Ltd.] was used.
33] was added at 3 parts by weight, and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was 10 μm.
m, and a pressure-sensitive adhesive film was produced in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the polyethylene terephthalate film (base film) was 50 μm. The adhesive strength of the obtained adhesive film to the SUS-304BA plate is 160 g / 25.
mm and thickness variation was ± 3 μm. Using the obtained adhesive film, the back surface of a stamper for read-only compact disc (CD) (before polishing) was polished in the same manner as in Example 1. The time required for sticking the pressure-sensitive adhesive film was about the same as that of Example 1, but it took some time to peel off without deforming the stamper. Still, paste,
And the time required for peeling was about 12 minutes in total. Also, no special large-scale equipment was required. When the polishing state of the obtained stamper was evaluated, none of the stampers had any local dents, and the thickness variation of the stamper was ±
It was good within 2 μm. Further, when the signal concavo-convex formation surface of the stamper was observed with a microscope (× 800), no contaminants were found. The results are shown in [Table 1].

【0053】比較例1 実施例1の粘着フィルムの製造において、アジリジン系
架橋剤〔日本触媒化学工業(株)製、ケミタイトPZ−
33〕の添加量を2重量部、粘着剤層の厚みを10μ
m、ポリエチレンテレフタレートフィルム(基材フィル
ム)の厚みを50μmとした以外は実施例1と同様の方
法で粘着フィルムを製造した。得られた粘着フィルムの
SUS−304BA板に対する粘着力は200g/25
mm、厚みバラツキは±3μmであった。得られた粘着
フィルムを用いて、実施例1と同様の方法で再生専用コ
ンパクトディスク(CD)用スタンパ(研磨加工前)の
裏面研磨を行った。粘着フィルムの貼付けに特に問題は
なったが、剥離時にスタンパが変形してしまった。結果
を〔表1〕に示す。
Comparative Example 1 In the production of the pressure-sensitive adhesive film of Example 1, an aziridine-based crosslinking agent [Nippon Shokubai Kagaku Kogyo KK, Chemitite PZ-
33] was added at 2 parts by weight, and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was 10 μm.
m, and a pressure-sensitive adhesive film was produced in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the polyethylene terephthalate film (base film) was 50 μm. The adhesive strength of the obtained adhesive film to the SUS-304BA plate was 200 g / 25.
mm and thickness variation was ± 3 μm. Using the obtained adhesive film, the back surface of a stamper for read-only compact disc (CD) (before polishing) was polished in the same manner as in Example 1. Although there was a particular problem in sticking the adhesive film, the stamper was deformed at the time of peeling. The results are shown in [Table 1].

【0054】比較例2 実施例1の粘着フィルムの製造において、アクリル酸ブ
チルの使用量を66.25重量部、メタクリル酸メチル
の使用量を21重量部、アジリジン系架橋剤〔日本触媒
化学工業(株)製、ケミタイトPZ−33〕の添加量を
5重量部、粘着層の厚みを2μm、ポリエチレンテレフ
タレートフィルム(基材フィルム)の厚みを50μmと
した以外は実施例1と同様の方法で粘着フィルムを製造
した。得られた粘着フィルムのSUS−304BA板に
対する粘着力は8g/25mm、厚みバラツキは±2μ
mであった。得られた粘着フィルムを用いて、実施例1
と同様の方法で再生専用コンパクトディスク(CD)用
スタンパ(研磨加工前)の裏面研磨を行った。粘着フィ
ルムの貼付け、及び剥離に要した時間は合計で1分程度
と短時間でよく、特別な大型装置を必要とすることはな
かった。得られたスタンパについて、研磨状況を評価し
たところ、何れも局所的な凹みはなく、スタンパの厚み
バラツキは±2μm以内と良好であった。しかし、スタ
ンパの信号用凹凸形成面を顕微鏡(800倍)で観察し
たところ、スタンパの周辺部に研磨剤の浸入による汚染
が若干観察された。結果を〔表1〕に示す。
Comparative Example 2 In the production of the pressure-sensitive adhesive film of Example 1, the amount of butyl acrylate used was 66.25 parts by weight, the amount of methyl methacrylate used was 21 parts by weight, and an aziridine-based crosslinking agent [Nippon Shokubai Chemical Co., Ltd. Co., Ltd., the amount of Chemitite PZ-33] was 5 parts by weight, the thickness of the adhesive layer was 2 μm, and the thickness of the polyethylene terephthalate film (base film) was 50 μm. Was manufactured. The adhesive strength of the obtained adhesive film to the SUS-304BA plate is 8 g / 25 mm, and the thickness variation is ± 2 μm.
m. Example 1 was prepared using the obtained adhesive film.
The back surface of the stamper for a read-only compact disk (CD) (before polishing) was polished in the same manner as described above. The time required for attaching and detaching the adhesive film was as short as about 1 minute in total, and no special large-sized device was required. When the polishing conditions of the obtained stampers were evaluated, there were no local depressions, and the thickness variation of the stampers was as good as ± 2 μm or less. However, when the signal concavo-convex formation surface of the stamper was observed with a microscope (magnification: 800), some contamination due to infiltration of the abrasive was observed around the stamper. The results are shown in [Table 1].

【0055】比較例3 実施例1の粘着フィルムの製造において、粘着剤層の厚
みを13μmとし、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムの厚みを90μmとし、且つ、粘着剤層およびポリエ
チレンテレフタレ−トフィルム(基材フィルム)の厚み
バラツキを大きくした以外は実施例1と同様の方法で粘
着フィルムを製造した。得られた粘着フィルムのSUS
−304BA板に対する粘着力は110g/25mm、
厚みバラツキは±7μmであった。得られた粘着フィル
ムを用いて、実施例1と同様の方法で再生専用コンパク
トディスク(CD)用スタンパ(研磨加工前)の裏面研
磨を行った。粘着フィルムの貼付けに要する時間は実施
例1と同程度であったが、スタンパを変形させずに剥離
するのにやや時間を要した。それでも、貼付け、及び剥
離に要した時間は合計で10分程度であった。また、特
別な大型装置を必要とすることはなかった。
Comparative Example 3 In the production of the pressure-sensitive adhesive film of Example 1, the pressure-sensitive adhesive layer had a thickness of 13 μm, the polyethylene terephthalate film had a thickness of 90 μm, and the pressure-sensitive adhesive layer and the polyethylene terephthalate film (base film). A pressure-sensitive adhesive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness variation of Example 1 was increased. SUS of the obtained adhesive film
-Adhesion to the 304BA plate is 110 g / 25 mm,
The thickness variation was ± 7 μm. Using the obtained adhesive film, the back surface of a stamper for read-only compact disc (CD) (before polishing) was polished in the same manner as in Example 1. The time required for sticking the pressure-sensitive adhesive film was about the same as that of Example 1, but it took some time to peel off without deforming the stamper. Nevertheless, the time required for sticking and peeling was about 10 minutes in total. Also, no special large-scale equipment was required.

【0056】得られたスタンパについて、研磨状況を評
価したところ、何れも局所的な凹みはなかったが、スタ
ンパの厚みバラツキは±6μmとなり、射出(圧縮)成
形に使用する場合に支障が生じるレベルであった。又、
スタンパの信号用凹凸形成面を顕微鏡(800倍)で観
察したところ、汚染物は発見されなかった。結果を〔表
1〕に示す。
When the obtained stamper was evaluated for polishing conditions, no local dent was found. However, the thickness variation of the stamper was ± 6 μm, which was a level that would cause problems when used in injection (compression) molding. Met. or,
Observation of the signal irregularity forming surface of the stamper with a microscope (× 800) revealed no contaminants. The results are shown in [Table 1].

【0057】比較例4 市販の高分子保護膜用液〔商品名、ファインケミカルジ
ャパン(株)製、商品名:クリーンコート・S〕を厚さ
約0.3mmの追記型のコンパクトディスク(CD−
R)用スタンパ(研磨加工前)の信号用凹凸形成面に、
乾燥後の厚みが約30μmとなるようにスピンコートし
て約1時間乾燥した後、スタンパの裏面研磨を行った。
この際、溶剤排気のための局所排気設備、及びクリーン
度管理が厳重に行なわれた大掛かりなスピンコート装置
が必要であった。
Comparative Example 4 A commercially available liquid for polymer protective film (trade name, manufactured by Fine Chemical Japan Co., Ltd., trade name: Clean Coat S) was added to a write-once compact disc (CD-CD) having a thickness of about 0.3 mm.
R) stamper (before polishing) on the signal uneven surface
After spin-coating to a thickness of about 30 μm after drying and drying for about 1 hour, the back surface of the stamper was polished.
In this case, a local exhaust system for exhausting the solvent and a large-scale spin coater with strictly controlled cleanliness were required.

【0058】研磨終了後、保護膜を剥離除去したが、剥
離の際に、保護膜の一部が信号用凹凸形成面に残存した
ため、溶剤洗浄を行う必要があった。溶剤洗浄に1時間
程度要した。得られたスタンパについて研磨状況を評価
したところ、何れも局所的な凹みはなく、スタンパの厚
みバラツキは±2μm以内と良好であった。又、スタン
パの信号用凹凸形成面を顕微鏡(800倍)で観察した
ところ、3μm程度の異物が数個発見され、さらに洗浄
する必要が生じた。結果を〔表1〕に示す。
After the polishing was completed, the protective film was peeled off and removed. However, at the time of peeling, a part of the protective film remained on the signal irregularity forming surface, so that it was necessary to perform solvent cleaning. It took about one hour to wash the solvent. When the polishing status of the obtained stamper was evaluated, no local dent was found, and the thickness variation of the stamper was as good as ± 2 μm or less. In addition, when the signal irregularity-formed surface of the stamper was observed with a microscope (magnification: 800), several foreign substances having a size of about 3 μm were found, and further cleaning was required. The results are shown in [Table 1].

【0059】[0059]

【表1】 [Table 1]

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明に使用する粘着フィルムは、その
粘着力が特定の範囲に限定されているため適度の粘着力
を有し、スタンパの裏面研磨中には信号用凹凸形成面を
保護し得る程度に強固に粘着し、剥離する際には剥離応
力によりスタンパが変形することがない。また、特定量
の架橋剤を含むので、剥離した後、信号用凹凸形成面に
粘着剤に起因する汚染が残存しない。さらに、本発明に
よれば、スタンパの信号用凹凸形成面に高分子の溶液を
スピンコートする等して保護層を形成する必要がない。
そのため、保護層形成のための溶液塗布、乾燥作業等を
省略することができ、作業時間が大幅に短縮できる。塗
布された高分子の溶液を乾燥する際に有機溶剤ガスの発
生がないので、環境を汚染する恐れもない。従って、本
発明によれば、光ディスク用スタンパの裏面研磨工程の
作業性の向上、環境汚染防止等を図ることが可能とな
る。
The pressure-sensitive adhesive film used in the present invention has a moderate pressure-sensitive adhesive strength because the pressure-sensitive adhesive force is limited to a specific range, and protects the signal uneven surface during polishing of the back surface of the stamper. The stamper adheres firmly to the extent that it can be obtained, and does not deform the stamper due to peeling stress when peeling. In addition, since a specific amount of the cross-linking agent is contained, contamination due to the adhesive does not remain on the signal unevenness-formed surface after peeling. Further, according to the present invention, there is no need to form a protective layer by spin coating a polymer solution on the signal uneven surface of the stamper.
Therefore, a solution application, a drying operation, and the like for forming the protective layer can be omitted, and the operation time can be greatly reduced. Since no organic solvent gas is generated when the applied polymer solution is dried, there is no risk of polluting the environment. Therefore, according to the present invention, it is possible to improve the workability of the back surface polishing step of the optical disk stamper, prevent environmental pollution, and the like.

フロントページの続き (72)発明者 平井 健太郎 愛知県名古屋市南区丹後通2丁目1番地 三井東圧化学株式会社内Continuation of front page (72) Inventor Kentaro Hirai 2-1-1 Tango-dori, Minami-ku, Nagoya-shi, Aichi Mitsui Toatsu Chemicals Co., Ltd.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光ディスク用スタンパのピット用凹凸及
び/又はグルーブ用凹凸形成面に粘着フィルムを直接貼
付して該スタンパの裏面を研磨する方法であって、該粘
着フィルムが、基材フィルム及びその片表面に形成され
た粘着剤層からなり、該粘着剤層が、架橋剤と反応し得
る官能基を有する粘着剤ポリマー100重量部に対し、
1分子中に2個以上の架橋反応性官能基を有する架橋剤
0.1〜30重量部を含み、SUS304−BA板に対
する粘着力が10〜180g/25mmであり、且つ、
該粘着フィルムの平均厚みが20〜300μm、厚みバ
ラツキが平均厚みの±5μm以内であることを特徴とす
る光ディスク用スタンパの裏面研磨方法。
1. A method of directly affixing an adhesive film to a pit unevenness and / or groove unevenness forming surface of an optical disk stamper and polishing the back surface of the stamper, wherein the adhesive film comprises a base film and Consisting of an adhesive layer formed on one surface, the adhesive layer is based on 100 parts by weight of an adhesive polymer having a functional group capable of reacting with a crosslinking agent.
It contains 0.1 to 30 parts by weight of a cross-linking agent having two or more cross-linking reactive functional groups in one molecule, has an adhesive strength to a SUS304-BA plate of 10 to 180 g / 25 mm, and
A method for polishing the back surface of a stamper for an optical disc, wherein the adhesive film has an average thickness of 20 to 300 μm and a thickness variation is within ± 5 μm of the average thickness.
【請求項2】 粘着力が10〜100g/25mmであ
ることを特徴とする請求項1記載の光ディスク用スタン
パの裏面研磨方法。
2. The method for polishing a back surface of an optical disk stamper according to claim 1, wherein the adhesive force is 10 to 100 g / 25 mm.
【請求項3】 粘着力が10〜50g/25mmである
ことを特徴とする請求項1記載の光ディスク用スタンパ
の裏面研磨方法。
3. The method for polishing the back surface of an optical disk stamper according to claim 1, wherein the adhesive force is 10 to 50 g / 25 mm.
【請求項4】 粘着剤層の厚みが2〜15μmであるこ
とを特徴とする請求項1記載の光ディスク用スタンパの
裏面研磨方法。
4. The method according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 2 to 15 μm.
【請求項5】 粘着フィルムの厚みバラツキが、平均厚
みの±3μm以内であることを特徴とする請求項1記載
の光ディスク用スタンパの裏面研磨方法。
5. The method for polishing the back surface of an optical disk stamper according to claim 1, wherein the thickness variation of the adhesive film is within ± 3 μm of the average thickness.
【請求項6】 粘着剤ポリマーが、a)アクリル酸アル
キルエステルおよびメタクリル酸アルキルエステルなる
郡から選ばれた少なくとも1種の主モノマー60〜99
重量%、b)水酸基、カルボキシル基及びアミノ基から
選ばれた少なくとも一種の架橋剤と反応し得る官能基を
有するコモノマー1〜40重量%を含むモノマー混合物
を共重合して得られたものであることを特徴とする請求
項1〜5記載の光ディスク用スタンパの裏面研磨方法。
6. The pressure-sensitive adhesive polymer wherein a) at least one main monomer selected from the group consisting of a) alkyl acrylates and alkyl methacrylates.
% By weight, b) obtained by copolymerizing a monomer mixture containing 1 to 40% by weight of a comonomer having a functional group capable of reacting with at least one crosslinking agent selected from a hydroxyl group, a carboxyl group and an amino group. 6. The method for polishing the back surface of a stamper for an optical disk according to claim 1, wherein:
【請求項7】 架橋剤が、エポキシ系架橋剤、アジリジ
ン系架橋剤、イソシアネート系架橋剤よりなる郡から選
ばれた少なくとも1種の架橋剤であることを特徴とする
請求項1〜5記載の光ディスク用スタンパの裏面研磨方
法。
7. The cross-linking agent according to claim 1, wherein the cross-linking agent is at least one cross-linking agent selected from the group consisting of an epoxy-based cross-linking agent, an aziridine-based cross-linking agent, and an isocyanate-based cross-linking agent. Polishing method for back surface of stamper for optical disc.
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