JPH1040282A - アイソメトリック図作成編集装置およびその方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 様々な形状に対するアイソメトリック図を簡
単に作成できるような柔軟性の高い、またコンパクトで
しかもメモリ消費性能や速度性能に優れたアイソメトリ
ック図作成編集機能を２次元製図ＣＡＤシステム上に実
現する。 【解決手段】 ２次元変形手段２０３と、図形初期配置
手段２０４と、図形移動手段２０５とを備え、三面図で
与えた製品の指定の視線方向からのアイソメトリック図
を作成する。さらに、２次元変形パラメータに空間配置
パラメータを有し、指定の空間配置における指定の視線
方向からのアイソメトリック図を作成する。さらに、２
次元差分変形手段２０７を備え、アイソメトリック図に
描かれた製品の一部または全ての部品をアイソメトリッ
ク図上で３次元的に剛体移動する。さらに、処理パラメ
ータ格納手段２０６を備え、アイソメトリック図の視線
方向の変更に追随してアイソメトリック図を自動更新す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、コンピュータを
用いて設計を支援するＣＡＤシステム、特に機械製図図
面の作成および編集を行なう２次元製図ＣＡＤシステム
において、三面図で与えた製品の図面を用いて早くアイ
ソメトリック図やテクニカルイラストレーションを描く
手法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】機械の設計においては、設計対象製品の
加工作業方法や組立作業方法を製造現場に適切に指示す
るためにしばしばアイソメトリック図を作成して作業指
示書に添付する。また、製品マニュアルやパーツカタロ
グあるいはその他の技術文書においても、製品形状をわ
かりやすく紹介したり、可動部品の機構動作原理を説明
したりするために斜め方向から見た３次元的な表現によ
るテクニカルイラストレーションが利用される。これら
アイソメトリック図やテクニカルイラストレーションを
２次元製図ＣＡＤシステムで直接描こうとした場合、製
品の形状をしっかりと頭の中に思い浮かべながら射影幾
何学に基づいてどのような図形を描けばよいかを計算
し、それにしたがって線分や円弧あるいは楕円等の図形
要素を逐一描いていく必要があり、非常に時間を要す
る。また、多くの場合、製品形状は既に三面図として与
えられており、再度図形要素を逐一描くことは二度手間
であり入力ミスを招く結果となる。このため、既存の三
面図を活用してそこに描かれた図形を使ってアイソメト
リック図やテクニカルイラストレーションを作成するこ
とが考えられている。

【０００３】従来のそのようなアイソメトリック図作成
方法としては、例えば特開平３−１０５４７３号公報に
示されたような方法がある。この方法では、アイソメト
リック座標系を設定するアイソメトリック座標軸設定過
程、２次元平面図形をアイソメトリック座標系に変換表
示するアイソメトリック座標変換過程、座標変換された
図形に厚さを加えて立体図を作成表示するアイソメトリ
ック掃引体作成過程、２次元の三面図から一括で立体図
を作成表示するアイソメトリック三面図合成過程、座標
変換された図形を基に回転体立体図を創成表示するアイ
ソメトリック回転体作成過程、図形を視点を変えて表示
するアイソメトリック視点変更過程、アイソメトリック
図に寸法値を付加するアイソメトリック図寸法入力過
程、裏に隠れる図形を非表示にするアイソメトリック図
隠線処理過程とで構成されるアイソメトリック図作成過
程を具備させ、画面表示用の２次元図形要素のほかに非
表示の３次元図形情報を保持することを特徴としてい
る。

【０００４】図１２から１５は、上記のように構成され
た従来のアイソメトリック図作成方法におけるアイソメ
トリック図作成処理の過程を示した説明図である。アイ
ソメトリック座標変換過程は図１２の左側に示したよう
な２次元平面図形を同図中央下側に示したような図形に
変換しそれを表示する。アイソメトリック掃引体作成過
程はこのように座標変換された図形に厚さを加えて立体
を作成し、図１３に示したような表示を行なう。アイソ
メトリック視点変更過程はアイソメトリック座標系の視
点を変えて図１４に示したような表示を行なう。最終的
にアイソメトリック隠線処理過程によって図１５に示し
たような状態を得る。これら一連の処理過程のうち、ア
イソメトリック座標変換過程およびアイソメトリック掃
引体作成過程では、画面表示には現れない非表示の３次
元図形情報が作成され保持される。アイソメトリック視
点変更過程ではこれらの３次元図形情報に基づいて図形
の更新処理が行なわれる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来のア
イソメトリック図作成方法では、三面図のいずれかの面
図の図形の平行掃引または回転掃引によって、もしくは
三面図からの合成によって立体形状データを内部的に作
成し、それに基づいてアイソメトリック図の作成処理や
視線方向の変更処理を行なうため、以下に示すような種
々の問題点があった。

【０００６】まず第１に、アイソメトリック図の各図形
要素に対応して３次元形状データを生成して保持するた
め、大量のメモリ領域が必要であり、複雑な形状を有す
る製品のアイソメトリック図を作成しようとすれば、実
行時に多くのメモリを消費することとなる。

【０００７】さらに、一連の処理の多くが内部的に作成
保持している立体形状データと密接に連係しながら行な
われているため、平行掃引や回転掃引といった立体形状
定義手法や立体形状データのデータ構造自身に強く依存
することとなり、３次元図形処理で扱える製品形状が限
定されるといった制約事項を伴ってしまう。特に平行掃
引や回転掃引はいずれか一つの面図だけを用いる立体定
義手法であるため、複数の面図からなる三面図のごく一
部のデータを活用しているにすぎない。

【０００８】前記の制約を解消して、扱える製品形状の
範囲を広げるためには、多くの機能追加とデータ構造の
拡張が必要となるが、これはシステムの肥大化と処理構
造の複雑化を招く結果となる。あるいは、上記のような
方法ではなく、２次元ＣＡＤシステムに立体形状モデラ
を搭載してそれを使って作成した立体モデルを直接投影
してアイソメトリック図を得る方法や、幾何推論機構を
搭載して三面図から立体モデルを起こしてそれをアイソ
メトリック図に投影する方法なども考えられるが、この
方法ではさらなるシステムの肥大化と複雑化を招いてし
まう。

【０００９】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、第１の目的は、特定の立体定
義手法やデータ構造から生じる制約を受けることなく、
一般の機械製品に見られる様々な形状に対するアイソメ
トリック図を三面図の図形データを有効に活用して簡単
に作成できるような柔軟性の高いアイソメトリック図作
成編集機能を２次元製図ＣＡＤシステム上に実現しよう
とするものである。

【００１０】また、第２の目的は、立体形状モデラや幾
何推論機構など複雑な構成を有するモジュールを搭載す
ることなく、アイソメトリック図を作成するための一連
の処理を全て２次元図形処理のレベルで行なうことによ
り、２次元製図ＣＡＤシステム上にコンパクトでしかも
メモリ消費性能や速度性能に優れたアイソメトリック図
作成機能を実現しようとするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】

【００１２】本発明の第１の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置は、２次元製図ＣＡＤシステムにおい
て、三面図の各面図の視線方向パラメータと作成対象ア
イソメトリック図の視線方向パラメータとから三面図の
各図形をアイソメトリック図の図形へと変形する２次元
変形パラメータを算出し、これにもとづいて三面図の各
図形を変形する２次元変形手段と、変形後の図形をアイ
ソメトリック図に初期配置する図形初期配置手段と、元
の三面図の視線方向ベクトルをアイソメトリック図に投
影した２次元視線方向ベクトルに沿って上記初期配置後
の図形の指定の図形要素または図形要素群を平行移動ま
たはコピーする図形移動手段とを備え、三面図で与えた
製品の指定の視線方向からのアイソメトリック図を作成
するものである。

【００１３】本発明の第２の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置は、２次元製図ＣＡＤシステムにおい
て、三面図の各面図の視線方向パラメータと作成対象ア
イソメトリック図の視線方向パラメータと空間配置パラ
メータとから三面図の各図形をアイソメトリック図の図
形へと変形する２次元変形パラメータを算出し、これに
もとづいて三面図の各図形を変形する２次元変形手段
と、変形後の図形をアイソメトリック図上に初期配置す
る図形初期配置手段と、元の三面図の視線方向ベクトル
を上記空間配置パラメータに基づいて空間配置したベク
トルをアイソメトリック図に投影した２次元視線方向ベ
クトルに沿って上記初期配置後の図形の指定の図形要素
または図形要素群を平行移動またはコピーする図形移動
手段とを備え、三面図で与えた製品の指定の空間配置に
おける指定の視線方向からのアイソメトリック図を作成
するものである。

【００１４】本発明の第３の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置は、２次元製図ＣＡＤシステムにおい
て、三面図の各面図の視線方向パラメータと作成対象ア
イソメトリック図の視線方向パラメータと空間配置パラ
メータとから三面図の各図形をアイソメトリック図の図
形へと変形する２次元変形パラメータを算出し、これに
もとづいて三面図の各図形を変形する２次元変形手段
と、変形後の図形をアイソメトリック図上に初期配置す
る図形初期配置手段と、元の三面図の視線方向ベクトル
を上記空間配置パラメータに基づいて空間配置したベク
トルをアイソメトリック図に投影した２次元視線方向ベ
クトルに沿って上記初期配置後の図形の指定の図形要素
または図形要素群を平行移動またはコピーする図形移動
手段と、これら一連の処理における処理パラメータ群を
格納する処理パラメータ格納手段と、アイソメトリック
図に描かれた製品の一部または全ての部品の空間配置パ
ラメータを変更した場合に上記格納手段に格納された変
更前の処理パラメータ群と変更後の処理パラメータ群と
から現在のアイソメトリック図の図形を空間配置変更後
のアイソメトリック図の図形へと変形する２次元差分変
形パラメータを算出し、これにもとづいてアイソメトリ
ック図の図形を変形する２次元差分変形手段とを備え、
アイソメトリック図に描かれた製品の一部または全ての
部品をアイソメトリック図上で３次元的に剛体移動する
ものである。

【００１５】本発明の第４の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置は、２次元製図ＣＡＤシステムにおい
て、三面図の各面図の視線方向パラメータと作成対象ア
イソメトリック図の視線方向パラメータとから三面図の
各図形をアイソメトリック図の図形へと変形する２次元
変形パラメータを算出し、これにもとづいて三面図の各
図形を変形する２次元変形手段と、変形後の図形をアイ
ソメトリック図上に初期配置する図形初期配置手段と、
元の三面図の視線方向ベクトルをアイソメトリック図に
投影した２次元視線方向ベクトルに沿って上記初期配置
後の図形の指定の図形要素または図形要素群を平行移動
またはコピーする図形移動手段と、これら一連の処理に
おける処理パラメータ群を格納する処理パラメータ格納
手段と、アイソメトリック図の視線方向を変更した場合
に上記格納手段に格納された変更前の処理パラメータ群
と変更後の処理パラメータ群とから現在のアイソメトリ
ック図の図形を視線方向変更後のアイソメトリック図の
図形へと変形する２次元差分変形パラメータを算出し、
これにもとづいてアイソメトリック図の図形を変形する
２次元差分変形手段とを備え、アイソメトリック図の視
線方向の変更に追随してアイソメトリック図を自動更新
するものである。

【００１６】本発明の第５の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置は、上記２次元変形手段による変形後
の図形をアイソメトリック図上に初期配置する図形初期
配置手段において、三面図の図形を仮配置することによ
り予想できるアイソメトリック図作図領域と、各面図の
変形後の図形を包括する２次元領域が重ならないように
各面図の図形を自動的に初期位置へ配置するものであ
る。

【００１７】本発明の第６の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置は、上記三面図の視線方向ベクトルを
アイソメトリック図に投影した２次元視線方向ベクトル
に沿って上記初期配置後の図形の指定の図形要素または
図形要素群を平行移動またはコピーする図形移動手段に
おいて、他の面図または既にアイソメトリック図上に配
置されている図形との位置関係から、平行移動パラメー
タを算出するものである。

【００１８】本発明の第７の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置は、上記三面図の視線方向ベクトルを
アイソメトリック図に投影した２次元視線方向ベクトル
に沿って上記初期配置後の図形の指定の図形要素または
図形要素群を平行移動またはコピーする図形移動手段に
おいて、円筒または円錐台の側面の輪郭線を移動する場
合に、円筒または円錐台の端面に対応するアイソメトリ
ック図上の２つの楕円弧を座標の位置関係から検索し、
この２つの楕円弧に接する線分を作図することにより、
円筒または円錐台の側面の輪郭線を作成配置するもので
ある。

【００１９】本発明の第８の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置は、上記三面図の視線方向ベクトルを
アイソメトリック図に投影した２次元視線方向ベクトル
に沿って上記初期配置後の図形の指定の図形要素または
図形要素群を平行移動またはコピーする図形移動手段に
おいて、移動対象中の円筒または円錐台の端面がそれら
の直径を示す線分で表現されている図形をアイソメトリ
ック図に配置する場合に、移動対象の線分と円筒または
円錐台の中心軸と、元の三面図の視線方法パラメータと
作成対象アイソメトリック図の視線方向パラメータとか
ら上記線分を円筒または円錐台の端面をあらわす楕円弧
に変換してアイソメトリック図に配置するものである。

【００２０】本発明の第９の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置は、２次元ＣＡＤの線分調整機能を用
いて隠線を破線にするかまたは消去する手段と、ある線
分がどの線分を原因図形として線分調整したかを記憶す
る線分調整データ格納手段と、再描画時にアイソメトリ
ック図上の図形要素を上記線分調整データ格納手段より
取り出し再び線分調整を実行する手段とを備え、一度隠
線処理すると視線方向変更時の再描画時にも前回と同じ
隠線処理を自動的に行うものである。

【００２１】

【発明の実施の形態】

実施の形態１．以下、この発明の実施の形態１を図につ
いて説明する。この実施の形態１は三面図で与えられた
製品のユーザーが指定した視線方向からのアイソメトリ
ック図を作成する。

【００２２】図１は、この発明の第１の実施の形態によ
るアイソメトリック図作成方法の例を示した説明図であ
る。図１において、図形１０２および１０３は製品形状
が描かれた三面図１０１のいずれかの面図の図形であ
り、この例ではそれぞれ平面図および正面図の図形であ
る。これら図形は、各面図の視線方向パラメータと作成
対象アイソメトリック図の視線方向パラメータとによっ
て定まる２次元変形パラメータに基づき変形され、アイ
ソメトリック図１０４上に初期配置されてユーザーに提
示される。ユーザーは、対話操作を介して配置後の図形
を図形要素単位で適宜平行移動またはコピーする。この
時、平行移動またはコピーの方向は、元の三面図の視線
方向ベクトル（各面図の法線方向）をアイソメトリック
図１０４に投影した方向に拘束される。この方向は、各
面図のアイソメトリック図上での法線方向である。全て
の図形要素を移動した時点でアイソメトリック図の原形
が完成する。その後は、従来の図形編集機能を用いて最
終的なアイソメトリック図へと完成させる。

【００２３】図２は、この実施の形態によるアイソメト
リック図作成方法を実現するアイソメトリック図作成編
集装置のシステム構成を示すブロック図である。図２に
おいて、２０１は製品形状が描かれた三面図、２０２は
作成対象アイソメトリック図、２０３は２次元変形処理
部、２０４は図形初期配置処理部、２０５は図形移動処
理部であり、本アイソメトリック図作成編集装置は少な
くともこれら各部によって構成されている。なお、処理
パラメータ格納部２０６および２次元差分変形処理部２
０７は、この実施の形態１においては使用しない。

【００２４】２次元変形処理部２０３は、三面図２０１
の各面図の視線方向パラメータとユーザーが入力した作
成対象アイソメトリック図２０２の視線方向パラメータ
とから３面図の各図形をアイソメトリック図の図形へと
変形する２次元変形パラメータを算出し、同２次元変形
パラメータに基づいて三面図の各図形を変形する。算出
される２次元変形パラメータは、一般の２次元アフィン
変換と等価なものとなる。２次元変形処理部２０３は、
同時に各面図の視線方向ベクトルをアイソメトリック図
に投影した２次元視線方向ベクトルも併せて算出する。
図形初期配置処理部２０４は、２次元変形処理部２０３
が変形した各面図の図形をアイソメトリック図２０２上
に初期配置する。図形移動処理部２０５は、２次元変形
処理部２０３が算出した２次元視線方向ベクトルに沿っ
て、図形初期配置処理部２０４が配置した各面図の指定
の図形要素または図形要素群を平行移動またはコピーす
る。

【００２５】以上のような処理により、三面図で与えら
れた製品のユーザーが指定した視線方向からのアイソメ
トリック図を３次元図形処理によらずに２次元図形処理
のレベルで作成することができる。

【００２６】このように、本実施の形態によれば、三面
図で与えた製品の指定の視線方向からのアイソメトリッ
ク図を作成するための一連の図形処理を３次元図形処理
によらずに全て２次元図形処理のレベルで行なうことが
できるため、２次元製図ＣＡＤシステムに３次元形状モ
デラや幾何推論機構など複雑な構成を有するモジュール
を搭載することなく、既にシステムに備わっている２次
元幾何計算モジュール等を利用した簡単な構成でアイソ
メトリック図作成機能を実現することができ、メモリ消
費性能および速度性能を向上させる効果がある。

【００２７】実施の形態２．次に、この発明の第２の実
施の形態を図について説明する。ここで、この実施の形
態２は請求項２に記載した発明の一実施の形態であり、
三面図で与えられた製品の指定の空間配置における指定
の視線方向からのアイソメトリック図を作成する。

【００２８】図３は、この実施の形態２によるアイソメ
トリック図作成方法の例を示した説明図である。図３に
おいて、図形３０２および３０３は製品形状が描かれた
三面図３０１のいずれかの面図の図形であり、この例で
はそれぞれ平面図および正面図の図形である。これら図
形は、各面図の視線方向パラメータと作成対象アイソメ
トリック図３０４の視線方向パラメータとユーザーが指
定した空間配置パラメータとによって定まる２次元変形
パラメータに基づき変形され、アイソメトリック図３０
４上に初期配置されてユーザーに提示される。ユーザー
は、対話操作を介して配置後の図形を図形要素単位で平
行移動またはコピーする。この時、平行移動またはコピ
ーの方向は、元の三面図の視線方向ベクトルを上記空間
配置パラメータにしたがって空間配置したベクトルを、
さらにアイソメトリック図３０４に投影した２次元視線
方向ベクトルの方向に拘束される。全ての図形要素を移
動した時点でアイソメトリック図の原形が完成する。そ
の後は、従来の図形編集機能を用いて最終的なアイソメ
トリック図へと完成させる。

【００２９】この実施の形態によるアイソメトリック図
作成方法は、図２に示すアイソメトリック図作成編集装
置上で実行される。図２において、２０１は製品形状が
描かれた三面図、２０２は作成対象アイソメトリック
図、２０３は２次元変形処理部、２０４は図形初期配置
処理部、２０５は図形移動処理部であり、本アイソメト
リック図作成編集装置は少なくともこれら各部によって
構成されている。なお、処理パラメータ格納部２０６お
よび２次元差分変形処理部２０７は、この実施の形態２
においては使用しない。

【００３０】２次元変形処理部２０３は、三面図２０１
の各面図の視線方向パラメータとユーザーが入力した作
成対象アイソメトリック図２０２の視線方向パラメータ
および空間配置パラメータとから、三面図の各図形をア
イソメトリック図の図形へと変形する２次元変形パラメ
ータを算出し、同２次元変形パラメータに基づいて三面
図の各図形を変形する。算出される２次元変形パラメー
タは、一般の２次元アフィン変換と等価なものとなる。
２次元変形処理部２０３は、同時に各面図の視線方向ベ
クトルを上記空間配置パラメータにしたがって空間配置
したベクトルをさらにアイソメトリック図に投影した２
次元視線方向ベクトルも併せて算出する。図形初期配置
処理部２０４は、２次元変形処理部２０３が変形した各
面図の図形をアイソメトリック図２０２上に配置する。
図形移動処理部２０５は、２次元変形処理部２０３が算
出した２次元視線方向ベクトルに沿って、図形初期配置
処理部２０４が配置した各面図の図形の指定の図形要素
または図形要素群を平行移動またはコピーする。

【００３１】以上のような処理により、三面図で与えら
れた製品のユーザーが指定した空間配置におけるユーザ
ー指定の視線方向からのアイソメトリック図を作成する
方法を２次元図形処理のレベルで作成することができ
る。

【００３２】このように、本実施の形態によれば、三面
図で与えた製品の指定の空間配置における指定の視線方
向からのアイソメトリック図を作成するための一連の図
形処理を３次元図形処理によらずに全て２次元図形処理
のレベルで行なうことができるため、２次元製図ＣＡＤ
システムに３次元形状モデラや幾何推論機構など複雑な
構成を有するモジュールを搭載することなく、既にシス
テムに備わっている２次元幾何計算モジュール等を利用
した簡単な構成でアイソメトリック図作成機能を実現す
ることができ、メモリ消費性能および速度性能を向上さ
せる効果がある。

【００３３】実施の形態３．次に、この発明の第３の実
施の形態を図について説明する。この実施の形態は一旦
作成したアイソメトリック図に描かれた製品の指定の部
品または部品群をアイソメトリック図上で３次元的に剛
体移動するものである。

【００３４】この実施の形態によるアイソメトリック図
の作成は、図２に示すアイソメトリック図作成編集装置
上で実行できる。図２において、２０１は製品形状が描
かれた三面図、２０２は作成対象アイソメトリック図、
２０３は２次元変形処理部、２０４は図形初期配置処理
部、２０５は図形移動処理部、２０６は処理パラメータ
格納部、２０７は２次元差分変形処理部であり、本アイ
ソメトリック図作成編集装置はこれら各部によって構成
されている。

【００３５】２次元変形処理部２０３は、三面図２０１
の各面図の視線方向パラメータとユーザーが入力した作
成対象アイソメトリック図２０２の視線方向パラメータ
および空間配置パラメータから、三面図の各図形をアイ
ソメトリック図の図形へと変形する２次元変形パラメー
タを算出し、同２次元変形パラメータに基づいて三面図
の各図形を変形する。算出される２次元変形パラメータ
は、一般の２次元アフィン変換と等価なものとなる。２
次元変形処理部２０３は、同時に各面図の視線方向ベク
トルを上記空間配置パラメータにしたがって空間配置し
たベクトルをさらにアイソメトリック図に投影した２次
元視線方向ベクトルも併せて算出する。図形初期配置処
理部２０４は、２次元変形処理部２０３が変形した各面
図の図形をアイソメトリック図２０２上に初期配置す
る。図形移動処理部２０５は、２次元変形処理部２０３
が算出した２次元視線方向ベクトルに沿って、図形初期
配置処理部２０４が配置した各面図の図形の指定の図形
要素または図形要素群を平行移動またはコピーする。処
理パラメータ格納部２０６は、少なくとも、現在の製品
の各構成部品の空間配置パラメータ、図形初期配置処理
部２０４における初期配置パラメータ、図形移動処理部
２０５における平行移動パラメータを格納する。２次元
差分変形処理部２０７は、ユーザーが製品の一部または
全ての部品の空間配置パラメータを変更した場合に、処
理パラメータ格納部２０６に格納された空間配置変更前
の処理パラメータ群と変更後の空間配置パラメータとか
ら現在のアイソメトリック図の図形を空間配置変更後の
図形へと変形する２次元差分変形パラメータを算出し、
同２次元差分変形パラメータに基づいて移動対象部品を
構成している各図形要素を変形し、移動対象部品の剛体
移動後のアイソメトリック図を作成する。

【００３６】なお、空間配置パラメータは、初期図形に
ついても、変更図形についても２次元変形処理部２０３
へ入力される。

【００３７】図４は、本アイソメトリック図作成編集装
置によってアイソメトリック図に描かれた製品の指定の
部品または部品群をアイソメトリック図上で３次元的に
剛体移動する処理の例を示した説明図である。図４
（ａ）は、部品４０１および４０２の組み付け状態のア
イソメトリック図である。いま、部品４０１を新たな配
置位置に平行移動したとする。この時、２次元差分変形
処理部１０７は、処理パラメータ格納部２０６に格納さ
れた部品４０１に関する配置変更前の処理パラメータ群
と新たな配置位置に基づく処理パラメータ群とから部品
４０１をアイソメトリック図上で３次元的に移動するよ
うな２次元差分変形パラメータを算出する。この例にお
いては、行われた剛体移動が３次元の平行移動であるた
め、２次元差分変形パラメータはそれと等価な２次元の
平行移動となる。この２次元の平行移動を部品４０１の
各図形要素に適用すると図４（ｂ）のような結果を得
る。この時点では、例えば図形要素４０３のように、移
動によって新たに見えるようになった部分が依然として
不可視状態にあるが、周知の隠線処理機能等を使用して
これを適宜修正することにより図４（ｃ）に示すような
最終的な結果を得る。

【００３８】なお、回転成分を含むような一般の剛体移
動も同様の方法で処理される。この場合、２次元差分処
理部２０７が算出する２次元差分変形パラメータは、一
般の２次元アフィン変換と等価になる。

【００３９】以上のような処理により、アイソメトリッ
ク図に描かれた製品の指定の部品または部品群の剛体移
動を３次元図形処理を行うことなく２次元図形処理のレ
ベルでアイソメトリック図上で３次元的に行なうことが
できる。この方法により、ユーザーである設計者は、一
旦作成したアイソメトリック図を使って組立品の分解図
や機構部品の動作説明図などを容易に作成することがで
きる。

【００４０】このように、本実施の形態によれば、部品
の空間配置パラメータの変更前の処理パラメータ群と変
更後の処理パラメータ群とによって定まる２次元差分変
形パラメータに基づいてアイソメトリック図の図形を更
新する手段によって、アイソメトリック図に描かれた製
品の一部または全ての部品の空間配置を変更するための
図形処理を３次元図形処理によらずに全て２次元図形処
理のレベルで行なうことができるため、２次元製図ＣＡ
Ｄシステムに３次元形状モデラや幾何推論機構など複雑
な構成を有するモジュールを搭載することなく、既にシ
ステムに備わっている２次元幾何計算モジュール等を利
用した簡単な構成で組立品の分解図や機構説明図等のア
イソメトリック図を作成する機能を実現することがで
き、メモリ消費性能および速度性能を向上させる効果が
ある。

【００４１】実施の形態４．次に、この発明の第４の実
施の形態を図について説明する。この実施の形態はアイ
ソメトリック図の視線方向を変更した場合にアイソメト
リック図上の図形を追随的に更新する。

【００４２】この実施の形態によるアイソメトリック図
の作成は、図２に示すアイソメトリック図作成編集装置
上で実行される。図２において、２０１は製品形状が描
かれた三面図、２０２は作成対象アイソメトリック図、
２０３は２次元変形処理部、２０４は図形初期配置処理
部、２０５は図形移動処理部、２０６は処理パラメータ
格納部、２０７は２次元差分変形処理部であり、本アイ
ソメトリック図作成編集装置はこれら各部によって構成
されている。

【００４３】２次元変形処理部２０３は、三面図２０１
の各面図の視線方向パラメータと作成対象アイソメトリ
ック図２０２の視線方向パラメータとから、三面図の各
図形をアイソメトリック図の図形へと変形する２次元変
形パラメータを算出し、同２次元変形パラメータに基づ
いて三面図の各図形を変形する。算出される２次元変形
パラメータは、一般の２次元アフィン変換と等価なもの
となる。２次元変形処理部２０３は、同時に各面図の視
線方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した２次元
視線方向ベクトルも併せて算出する。図形初期配置処理
部２０４は、２次元変形処理部２０３が変形した各面図
の図形をアイソメトリック図２０２上に初期配置する。
図形移動処理部２０５は、２次元変形処理部２０３が算
出した２次元視線方向ベクトルに沿って、図形初期配置
処理部２０４が配置した各面図の図形の指定の図形要素
または図形要素群を平行移動またはコピーする。処理パ
ラメータ格納部２０６は、少なくとも、現在のアイソメ
トリック図の視線方向パラメータ、図形初期配置処理部
２０４における初期配置パラメータ、図形移動処理部２
０５における平行移動パラメータを格納する。２次元差
分変形処理部２０７は、ユーザーがアイソメトリック図
の視線方向パラメータを変更した場合に、処理パラメー
タ格納部２０６に格納された視線方向変更前の処理パラ
メータ群と変更後の処理パラメータ群とから現在のアイ
ソメトリック図の図形を視線方向変更後の図形へと変形
する２次元差分変形パラメータを算出し、同２次元差分
変形パラメータに基づいて各図形要素を変形する。

【００４４】図５は、本アイソメトリック図作成編集装
置によってアイソメトリック図の視線方向の変更に追随
してアイソメトリック図を更新する方法を説明するため
の説明図である。図５（ａ）は部品５０１の現在の視線
方向からのアイソメトリック図である。いま、ユーザー
がアイソメトリック図の視線方向を新たな方向に変更し
たとする。この時、２次元差分変形処理部１０７は、処
理パラメータ格納部１０６に格納された視線変更前の処
理パラメータ群と視線変更後の処理パラメータ群とから
現在のアイソメトリック図の図形を新たな視線方向から
のアイソメトリック図の図形へと変形する２次元差分変
形パラメータを算出する。算出される２次元差分変形パ
ラメータは、一般の２次元アフィン変換に等価なものと
なる。この２次元差分変形パラメータを各図形要素に関
して算出し、それを適用することにより図５（ｂ）のよ
うな結果を得る。この時点では、例えば図形要素５０２
にように、視線変更によって新たに見えるようになった
部分は依然として不可視状態にある。同様に、例えば図
形要素５０３のように、視線変更によって新たに隠れる
ようになった部分は依然として可視状態にある。これら
を周知の隠線処理機能等を使用して適宜修正することに
より、図５（ｃ）に示すような最終的な結果を得る。

【００４５】以上のような処理により、アイソメトリッ
ク図の視線方向の変更に伴う図形更新を２次元図形処理
のレベルで行なうことができる。本方法により、ユーザ
ーである設計者は、アイソメトリック図の最終利用目的
に最も適切な視線方向を試行錯誤的に決定することがで
きる。

【００４６】このように、本実施の形態によれば、アイ
ソメトリック図の視線方向パラメータの変更前の処理パ
ラメータ群と変更後の処理パラメータ群とによって定ま
る２次元差分変形パラメータに基づいてアイソメトリッ
ク図の図形を更新する手段によって、アイソメトリック
図の視線方向の変更に伴う図形更新処理を３次元図形処
理によらずに全て２次元図形処理のレベルで行なうこと
ができるため、２次元製図ＣＡＤシステムに３次元形状
モデラや幾何推論機構など複雑な構成を有するモジュー
ルを搭載することなく、既にシステムに備わっている２
次元幾何計算モジュール等を利用した簡単な構成で視線
方向を試行錯誤的に変えながらアイソメトリック図を作
成する機能を実現することができ、メモリ消費性能およ
び速度性能を向上させる効果がある。

【００４７】実施の形態５．次に、この発明の第５の実
施の形態を図について説明する。この実施の形態は三面
図で与えられた製品のユーザーが指定した視線方向から
のアイソメトリック図の初期位置に、各面図の図形を自
動的に配置する。

【００４８】この実施の形態によるアイソメトリック図
の作成は、図２に示すアイソメトリック図作成編集装置
上で実行される。図２において、２０１は製品形状が描
かれた三面図、２０２は作成対象アイソメトリック図、
２０３は２次元変形処理部、２０４は図形初期配置処理
部、２０５は図形移動処理部、２０６は処理パラメータ
格納部、２０７は２次元差分変形処理部であり、本アイ
ソメトリック図作成編集装置はこれら各部によって構成
されている。

【００４９】２次元変形処理部２０３は、三面図２０１
の各面図の視線方向パラメータと作成対象アイソメトリ
ック図２０２の視線方向パラメータとから三面図の各図
形をアイソメトリック図の図形へと変形する２次元変形
パラメータを算出し、同２次元変形パラメータに基づい
て三面図の各図形を変形する。算出される２次元変形パ
ラメータは、一般の２次元アフィン変換と等価なものと
なる。２次元変形処理部２０３は、同時に各面図の視線
方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した２次元視
線方向ベクトルも併せて算出する。図形初期配置処理部
２０４は、２次元変形処理部２０３が変形した各面図の
図形をアイソメトリック図２０２上に初期配置する。

【００５０】この初期配置を決定するには、以下の手順
で行う。三面図の図形を仮配置することにより予想でき
るアイソメトリック図作図領域と、各面図の変形後の図
形を包括する２次元領域が重ならないように各面図の図
形を自動的に初期位置へ配置する。 （１）対象の面図以外の面図の図形要素を検索し、対象
の面図の投影方向に図形が存在しうる領域を求める。 （２）（１）の対象の面図の投影方向の領域の境界に、
対象の面図の図形を２次元変形処理部２０３が変形した
図形を仮に配置する。 （３）（２）の仮に配置した図形を包含する２次元領域
を求める。 （４）（３）で求めた２次元領域に重ならないように対
象の面図の図形を２次元変形処理部２０３が変形した図
形を配置する。

【００５１】そして、図形移動処理部２０５は、２次元
変形処理部２０３が算出した２次元視線方向ベクトルに
沿って、図形初期配置処理部２０４が配置した各面図の
図形の指定の図形要素または図形要素群を平行移動また
はコピーする。

【００５２】図６は、本アイソメトリック図作成編集装
置によって三面図で与えられた製品のユーザーが指定し
た視線方向からのアイソメトリック図に、各面図の図形
を初期位置に自動的に配置する処理の例を示した説明図
である。図６（a）は、三面図２０１の各面図の図形を
２次元変形処理部２０３により変形した図形をそれぞれ
アイソメトリック図の原点に配置したところの図であ
る。この図で６０１は正面図、６０２は平面図、６０３
は側面図をそれぞれ２次元変形処理部２０３により変形
した図形である。今、正面図に対応する６０１を対象の
面図とする。図６（ｂ）は、上記手順（２）（３）
（４）を説明する図である。上記手順（１）により求め
られた対象の面図の図形が投影方向に存在しうる領域の
境界に、上記手順（２）により対象の面図の図形が配置
される（６０１、６０５）。上記手順（３）により、こ
れらの図形を包含する２次元領域６０４、６０６が求め
られる。上記手順（４）により２次元領域６０９が他の
仮に配置した図形の２次元領域に重ならないように求め
られた初期位置に対象の面図の図形を配置する（６０
８）。これら（１）から（４）の手順により１つの面図
の図形を初期位置に配置できた。図６（ｃ）は残りの面
図の図形を初期位置に配置（６０９、６１０）したとこ
ろを示す説明図である。

【００５３】以上のような処理により、三面図で与えら
れた製品の指定の視線方向からのアイソメトリック図を
作成する過程で、三面図の各図形を初期位置に自動配置
する処理を３次元図形処理によらず２次元図形処理のレ
ベルで実現することができる。

【００５４】このように、本実施の形態によれば、三面
図で与えた製品形状をユーザーが指定した視線方向から
のアイソメトリック図にする過程で、面図毎に互いに重
ならないような図形初期位置にシステムが自動的に配置
するため、ユーザーの入力操作が容易であり、かつ一連
の図形処理を全て２次元図形処理のレベルで行なうこと
ができるため、２次元製図ＣＡＤシステムに３次元形状
モデラや幾何推論機構など複雑な構成を有するモジュー
ルを搭載することなく、既にシステムに備わっている２
次元幾何計算モジュール等を利用した簡単な構成でアイ
ソメトリック図作成機能を実現することができ、メモリ
消費性能および速度性能を向上させる効果がある。

【００５５】実施の形態６．次に、この発明の第６の実
施の形態を図について説明する。この実施の形態は三面
図で与えられた製品の指定の視線方向からのアイソメト
リック図を少ないユーザー操作で作成するものである。

【００５６】この実施の形態によるアイソメトリック図
の作成は、図２に示すアイソメトリック図作成編集装置
上で実行される。図２において、２０１は製品形状が描
かれた三面図、２０２は作成対象アイソメトリック図、
２０３は２次元変形処理部、２０４は図形初期配置処理
部、２０５は図形移動処理部、２０６は処理パラメータ
格納部、２０７は２次元差分変形処理部であり、本アイ
ソメトリック図作成編集装置はこれら各部によって構成
されている。

【００５７】２次元変形処理部２０３は、三面図２０１
の各面図の視線方向パラメータと作成対象アイソメトリ
ック図２０２の視線方向パラメータとから三面図の各図
形をアイソメトリック図の図形へと変形する２次元変形
パラメータを算出し、同２次元変形パラメータに基づい
て三面図の各図形を変形する。算出される２次元変形パ
ラメータは、一般の２次元アフィン変換と等価なものと
なる。２次元変形処理部２０３は、同時に各面図の視線
方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した２次元視
線方向ベクトルも併せて算出する。図形初期配置処理部
２０４は、２次元変形処理部２０３が変形した各面図の
図形をアイソメトリック図２０２上に初期配置する。図
形移動処理部２０５は、２次元変形処理部２０３が算出
した２次元視線方向ベクトルに沿って、図形初期配置処
理部２０４が配置した各面図の図形の指定の図形要素ま
たは図形要素群を平行移動またはコピーする。この平行
移動またはコピーの移動量を以下の手順で求める。

【００５８】（１）指定した図形要素または図形要素群
を他の面図に投影したと考えたときの各面図での図形を
求める。 （２）各面図において（１）で求めた図形と同じ形状
が、指定図形要素の存在する面図の投影方向を各面図に
投影した方向に存在しないか検索する。 （３）存在した場合、指定した図形要素または図形要素
群を初期位置からの投影方向の移動量を求め、これを平
行移動またはコピーの移動量とする。このとき複数の候
補が存在した場合、移動量の小さいものから候補として
表示し、ユーザーがこれを選択する。

【００５９】図７は、三面図で与えられた製品の指定の
視線方向からのアイソメトリック図を少ないユーザー操
作で作成する処理の例を示した説明図である。図７
（ａ）は、図形初期位置配置処理部２０４により面図図
形が初期位置に配置された図である。図形７０１は、平
面図の図形群であり、これからアイソメトリック図で平
行移動またはコピーする対象である。図形７０２、７０
３は、正面図の図形である。図７（ｂ）は、指定面図の
指定図形要素群を平行移動またはコピーする方法の概念
図を示すものである。上記手順（１）で求めた図形と同
じ図形が、正面図上の線分７０２、７０３として検索さ
れる（上記手順（２））。上記手順（３）により指定面
図の投影方向の移動量が求められ、この場合７０２への
移動量がもっとも小さいのでこれを候補として図形要素
群を平行移動またはコピーした図形が７０４である。こ
こではユーザーが次候補を選択したとし、図形７０３に
対応する移動量が採られ、７０５が最終的な配置位置と
なっている。

【００６０】以上のような処理により、三面図で与えら
れた製品の指定の視線方向からのアイソメトリック図を
作成する過程で、三面図の各図形をアイソメトリック図
の所望の位置へ平行移動する処理を、少ないユーザー操
作でかつ２次元図形処理のレベルで実現することができ
る。

【００６１】このように、本実施の形態によれば、三面
図で与えた製品形状をユーザーが指定した視線方向から
のアイソメトリック図にする過程で、各面図毎に初期配
置された図形から所望のアイソメトリック図の位置に２
次元平行移動またはコピーするパラメータを他の面図の
図形との位置関係から自動算出するため、ユーザーの入
力操作が容易であり、かつ一連の図形処理を全て２次元
図形処理のレベルで行なうことができるため、２次元製
図ＣＡＤシステムに３次元形状モデラや幾何推論機構な
ど複雑な構成を有するモジュールを搭載することなく、
既にシステムに備わっている２次元幾何計算モジュール
等を利用した簡単な構成でアイソメトリック図作成機能
を実現することができ、メモリ消費性能および速度性能
を向上させる効果がある。

【００６２】実施の形態７．次に、この発明の第７の実
施の形態を図について説明する。この実施の形態は三面
図で与えられた製品の指定の視線方向からのアイソメト
リック図における輪郭線を少ないユーザー操作で作成す
る。

【００６３】この実施の形態によるアイソメトリック図
の作成は、図２に示すアイソメトリック図作成編集装置
上で実行される。図２において、２０１は製品形状が描
かれた三面図、２０２は作成対象アイソメトリック図、
２０３は２次元変形処理部、２０４は図形初期配置処理
部、２０５は図形移動処理部、２０６は処理パラメータ
格納部、２０７は２次元差分変形処理部であり、本アイ
ソメトリック図作成編集装置はこれら各部によって構成
されている。

【００６４】２次元変形処理部２０３は、三面図２０１
の各面図の視線方向パラメータと作成対象アイソメトリ
ック図２０２の視線方向パラメータとから三面図の各図
形をアイソメトリック図の図形へと変形する２次元変形
パラメータを算出し、同２次元変形パラメータに基づい
て三面図の各図形を変形する。算出される２次元変形パ
ラメータは、一般の２次元アフィン変換と等価なものと
なる。２次元変形処理部２０３は、同時に各面図の視線
方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した２次元視
線方向ベクトルも併せて算出する。図形初期配置処理部
２０４は、２次元変形処理部２０３が変形した各面図の
図形をアイソメトリック図２０２上に初期配置する。図
形移動処理部２０５は、２次元変形処理部２０３が算出
した２次元視線方向ベクトルに沿って、図形初期配置処
理部２０４が配置した各面図の図形の指定の図形要素ま
たは図形要素群を平行移動またはコピーする。ここで指
定した図形要素が円筒または円錐台の側面の輪郭線であ
る場合、他の図形要素と同じような面図の投影方向に移
動するだけでは適切な位置に配置できない。そこで以下
の手順によりこのような輪郭線を配置する。

【００６５】（１）指定した輪郭線の両端点をとおり面
図の２次元視線方向ベクトルに平行な直線に接する楕円
弧がないか、アイソメトリック図上を検索する。 （２）２本の延長線にそれぞれ接する２個の楕円弧を抽
出すると、その２個の楕円弧に接する線分を作図する。 （２）これを輪郭線候補として、ユーザーに提示して確
認し、所望の輪郭線であればこれを採用し、異なれば次
の候補を調べる。

【００６６】図８は、三面図で与えられた製品の指定の
視線方向からのアイソメトリック図における輪郭線を少
ない操作で作成する処理の例を示した説明図である。図
８（ａ）は、図形初期位置配置処理部２０４により面図
図形８０１、８０２が初期位置に配置された図である。
平面図の図形要素群８０２をアイソメトリック図上で平
行移動またはコピーした図形８０３、８０４が配置され
ている。ここで輪郭線８０５をアイソメトリック図上で
配置することを考える。上記手順（１）における輪郭線
の両端点をとおり面図の投影方向に平行な直線は、８０
６、８０７である。この場合、直線８０７と楕円弧８０
３が、また直線８０８と楕円弧８０４が接しているた
め、楕円弧８０３、８０４が検索される。図８（ｂ）
は、輪郭線を配置する概念図である。上記手順（１）に
より検索された２個の楕円弧８０３、８０４に接する線
分を輪郭線候補として表示している説明図である。

【００６７】以上のような処理により、三面図で与えら
れた製品の指定の視線方向からのアイソメトリック図を
作成する過程で、面図に表現された円筒または円錐台の
側面の輪郭線を少ないユーザー操作で作成する処理を２
次元図形処理のレベルで実現することができる。

【００６８】このように、本実施の形態によれば、三面
図で与えた製品形状をユーザーが指定した視線方向から
のアイソメトリック図にする過程で、初期配置された円
筒または円錐台の側面の輪郭図形を所望のアイソメトリ
ック図の図形に作図する処理を他の面図の図形との位置
関係から自動作図するため、ユーザーの入力操作が容易
であり、かつ一連の図形処理を全て２次元図形処理のレ
ベルで行なうことができるため、２次元製図ＣＡＤシス
テムに３次元形状モデラや幾何推論機構など複雑な構成
を有するモジュールを搭載することなく、既にシステム
に備わっている２次元幾何計算モジュール等を利用した
簡単な構成でアイソメトリック図作成機能を実現するこ
とができ、メモリ消費性能および速度性能を向上させる
効果がある。

【００６９】実施の形態８．次に、この発明の第８の実
施の形態を図について説明する。この実施の形態は三面
図で与えられた製品の指定の視線方向からのアイソメト
リック図における円筒または円錐台の端面の図形が直径
を示す線分で表現されている図形から、少ないユーザー
操作で実際の端面形状を示す図形を作成する。

【００７０】この実施の形態によるアイソメトリック図
の作成は、図２に示すアイソメトリック図作成編集装置
上で実行される。図２において、２０１は製品形状が描
かれた三面図、２０２は作成対象アイソメトリック図、
２０３は２次元変形処理部、２０４は図形初期配置処理
部、２０５は図形移動処理部、２０６は処理パラメータ
格納部、２０７は２次元差分変形処理部であり、本アイ
ソメトリック図作成編集装置はこれら各部によって構成
されている。

【００７１】２次元変形処理部２０３は、三面図２０１
の各面図の視線方向パラメータと作成対象アイソメトリ
ック図２０２の視線方向パラメータとから三面図の各図
形をアイソメトリック図の図形へと変形する２次元変形
パラメータを算出し、同２次元変形パラメータに基づい
て三面図の各図形を変形する。算出される２次元変形パ
ラメータは、一般の２次元アフィン変換と等価なものと
なる。２次元変形処理部２０３は、同時に各面図の視線
方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した２次元視
線方向ベクトルも併せて算出する。図形初期配置処理部
２０４は、２次元変形処理部２０３が変形した各面図の
図形をアイソメトリック図２０２上に初期配置する。図
形移動処理部２０５は、２次元変形処理部２０３が算出
した２次元視線方向ベクトルに沿って、図形初期配置処
理部２０４が配置した各面図の図形の指定の図形要素ま
たは図形要素群を平行移動またはコピーする。ここで指
定した図形要素が円筒または円錐台の端面であり、面図
には線分で表現されている場合、線分を平行移動または
コピーしたのでは所望のアイソメトリック図を得られな
い。そこで以下の手順により指定した図形要素が円筒ま
たは円錐台の端面であり、面図には線分で現されている
場合に楕円弧をアイソメトリック図上に配置する。

【００７２】（１）ユーザーが、円筒または円錐台の端
面にあたる線分と、アイソメトリック図上の端面の中心
軸にあたる線分を入力する。 （２）指定線分を通り指定面分に垂直な平面上に線分の
長さを直径とする円弧を、作成対象アイソメトリック図
の視線方向パラメータからアイソメトリック図への図形
へと変形する２次元変形パラメータを算出する。 （３）この２次元変形パラメータに基づき先の円弧を変
形する。これは円筒または円錐台の端面をあらわす楕円
弧になる。 （４）円筒または円錐台の端面にあたる線分の中点を通
り面図の投影方向に平行な直線と（１）の中心軸の交点
を求める。 （５）（３）で求めた楕円弧の中心点を（４）の交点に
一致するよう２次元の平行移動を行う。

【００７３】図９は、三面図で与えられた製品の指定の
視線方向からのアイソメトリック図における円筒または
円錐台の端面の図形が線分で表現される図形を少ない操
作で作成する処理の例を示した説明図である。図９
（ａ）は、図形初期位置配置処理部２０４により面図図
形９０１、９０２が初期位置に配置され、９０３がアイ
ソメトリック図上で平行移動またはコピーされた図であ
る。ここで線分９０２は、指定された円筒または円錐台
の端面を表現する線分であるとする。また、線分９０３
は、端面の中心軸としてユーザーより指定されているも
のとする。図９（ｂ）は、楕円弧を配置する概念を示す
説明図である。楕円弧９０４は、上記手順（３）により
求められた楕円弧である。直線９０５は上記手順（４）
における線分の中点を通り面図の投影方向に平行な直線
である。またこの直線９０５と上記手順（１）で入力さ
れた中心軸９０３の交点９０６に、楕円弧９０４の中心
点が一致するように配置した図形が所望の楕円弧９０７
である。

【００７４】以上のような処理により、三面図で与えら
れた製品の指定の視線方向からのアイソメトリック図を
作成する過程で、円筒または円錐台の端面の図形が線分
で表現される図形を少ない操作でアイソメトリック図に
する処理を２次元図形処理のレベルで実現することがで
きる。

【００７５】このように、本実施の形態によれば、三面
図で与えた製品形状をユーザーが指定した視線方向から
のアイソメトリック図にする過程で、初期配置された円
筒または円錐台の端面が線分で現されている場合に、ア
イソメトリック図の図形との位置関係から自動作図する
ため、ユーザーの入力操作が容易であり、かつ一連の図
形処理を全て２次元図形処理のレベルで行なうことがで
きるため、２次元製図ＣＡＤシステムに３次元形状モデ
ラや幾何推論機構など複雑な構成を有するモジュールを
搭載することなく、既にシステムに備わっている２次元
幾何計算モジュール等を利用した簡単な構成でアイソメ
トリック図作成機能を実現することができ、メモリ消費
性能および速度性能を向上させる効果がある。

【００７６】実施の形態９．次に、この発明の第９の実
施の形態を図について説明する。この実施の形態は三面
図で与えられた製品の指定の視線方向からのアイソメト
リック図を作成後、視線変更時にも少ないユーザー操作
で隠線処理済みの図形を更新するものである。

【００７７】図１０は、この実施の形態８を実現するア
イソメトリック図作成編集装置のシステム構成を示すブ
ロック図である。図１０において、２０１は製品形状が
描かれた三面図、２０２は作成対象アイソメトリック
図、２０３は２次元変形処理部、２０４は図形初期配置
処理部、２０５は図形移動処理部、２０６は処理パラメ
ータ格納部、２０７は２次元差分変形処理部、１００１
は周知の２次元ＣＡＤにおける隠線処理機能を有する線
分調整処理部、１００２は線分調整データ格納部であ
り、本アイソメトリック図作成編集装置はこれら各部に
よって構成されている。

【００７８】２次元変形処理部２０３は、三面図２０１
の各面図の視線方向パラメータと作成対象アイソメトリ
ック図２０２の視線方向パラメータとから三面図の各図
形をアイソメトリック図の図形へと変形する２次元変形
パラメータを算出し、同２次元変形パラメータに基づい
て三面図の各図形を変形する。算出される２次元変形パ
ラメータは、一般の２次元アフィン変換と等価なものと
なる。２次元変形処理部２０３は、同時に各面図の視線
方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した２次元視
線方向ベクトルも併せて算出する。図形初期配置処理部
２０４は、２次元変形処理部２０３が変形した各面図の
図形をアイソメトリック図２０２上に初期配置する。図
形移動処理部２０５は、２次元変形処理部２０３が算出
した２次元視線方向ベクトルに沿って、図形初期配置処
理部２０４が配置した各面図の図形の指定の図形要素ま
たは図形要素群を平行移動またはコピーする。線分調整
処理部１００１は、アイソメトリック図２０２上の図形
を互いに線分調整することにより隠線消去を行う。線分
調整データ格納部１００２は、ある図形要素をどの図形
要素を原因図形要素として線分調整したかを表すデータ
を記憶し保持する。また、微小な視線変更時には線分調
整データ格納部１００２に保持されている線分調整デー
タをもとに以前に行った同じ図形を線分調整することに
より、以前に行った線分調整は行わずに済む、もしくは
少しの変更で済ませることが可能になる。

【００７９】図１１は、三面図で与えられた製品の指定
の視線方向からのアイソメトリック図を作成後、視線変
更時にも少ないユーザー操作で隠線処理済みの図形を更
新する処理の例を示す説明図である。図１１（ａ）は、
図形移動処理部２０５によりアイソメトリック図に作成
された図形である。ここで線分１１０１は、線分１１０
２との交点で隠線部と可視部に別れる。ユーザーは線分
調整処理部により線分１１０１を線分１１０２で切断す
る指示を行う。この線分調整処理の結果を示す図が図１
１（ｂ）である。線分１１０１は１１０３と１１０４に
分割され、１１０３が可視になるように調整されてい
る。この操作を線分調整データ格納部１００２が保持す
る。図１１（ｃ）は、視線方向が微小量だけ変更された
時の処理の説明図である。視線変更前の線分１１０１に
対応する線分が、線分１１０２により自動的に線分調整
されて線分１１０３、１１０４に分割され、線分１１０
３が可視部、線分１１０４が隠線となる。

【００８０】以上のような処理により、三面図で与えら
れた製品の指定の視線方向からのアイソメトリック図を
作成後、視線変更時に少ないユーザー操作で隠線処理済
みの図形を更新する処理を２次元図形処理のレベルで実
現することができる。

【００８１】このように、本実施の形態によれば、三面
図で与えた製品形状をユーザーが指定した視線方向から
のアイソメトリック図にする過程で、隠線処理を２時元
の線分調整で行い、この情報を保持し視線変更時に再び
線分調整を行うことにより、ユーザーの入力操作が容易
であり、かつ一連の図形処理を全て２次元図形処理のレ
ベルで行なうことができるため、２次元製図ＣＡＤシス
テムに３次元形状モデラや幾何推論機構など複雑な構成
を有するモジュールを搭載することなく、既にシステム
に備わっている２次元幾何計算モジュール等を利用した
簡単な構成でアイソメトリック図作成機能を実現するこ
とができ、メモリ消費性能および速度性能を向上させる
効果がある。

【００８２】

【発明の効果】本発明の第１の構成によるアイソメトリ
ック図作成編集装置または第１のアイソメトリック図作
成編集方法によれば、三面図の各面図の視線方向パラメ
ータと作成対象アイソメトリック図の視線方向パラメー
タとによって定まる２次元変形パラメータに基づいて三
面図の各図形をアイソメトリック図の図形へと変形する
手段と、アイソメトリック図上の図形を元の三面図の視
線方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した方向に
沿って平行移動またはコピーする手段とにより、三面図
で与えた製品の指定の視線方向からのアイソメトリック
図を作成するための一連の図形処理を３次元図形処理に
よらずに全て２次元図形処理のレベルで行なうことがで
きるため、２次元製図ＣＡＤシステムに３次元形状モデ
ラや幾何推論機構など複雑な構成を有するモジュールを
搭載することなく、既にシステムに備わっている２次元
幾何計算モジュール等を利用した簡単な構成でアイソメ
トリック図作成機能を実現することができ、メモリ消費
性能および速度性能を向上させる効果がある。

【００８３】本発明の第２の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置または第２のアイソメトリック図作成
編集方法によれば、三面図の各面図の視線方向パラメー
タと作成対象アイソメトリック図の視線方向と別途指定
した部品の空間配置パラメータによって定まる２次元変
形パラメータに基づいて三面図の各図形をアイソメトリ
ック図の図形へと変形する手段と、アイソメトリック図
上の図形を元の三面図の視線方向ベクトルをアイソメト
リック図に投影した方向に沿って平行移動またはコピー
する手段とにより、三面図で与えた製品の指定の空間配
置における指定の視線方向からのアイソメトリック図を
作成するための一連の図形処理を３次元図形処理によら
ずに全て２次元図形処理のレベルで行なうことができる
ため、２次元製図ＣＡＤシステムに３次元形状モデラや
幾何推論機構など複雑な構成を有するモジュールを搭載
することなく、既にシステムに備わっている２次元幾何
計算モジュール等を利用した簡単な構成でアイソメトリ
ック図作成機能を実現することができ、メモリ消費性能
および速度性能を向上させる効果がある。

【００８４】本発明の第３の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置または第３のアイソメトリック図作成
編集方法によれば、部品の空間配置パラメータの変更前
の処理パラメータ群と変更後の処理パラメータ群とによ
って定まる２次元差分変形パラメータに基づいてアイソ
メトリック図の図形を更新する手段によって、アイソメ
トリック図に描かれた製品の一部または全ての部品の空
間配置を変更するための図形処理を３次元図形処理によ
らずに全て２次元図形処理のレベルで行なうことができ
るため、２次元製図ＣＡＤシステムに３次元形状モデラ
や幾何推論機構など複雑な構成を有するモジュールを搭
載することなく、既にシステムに備わっている２次元幾
何計算モジュール等を利用した簡単な構成で組立品の分
解図や機構説明図等のアイソメトリック図を作成する機
能を実現することができ、メモリ消費性能および速度性
能を向上させる効果がある。

【００８５】本発明の第４の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置または第４のアイソメトリック図作成
編集方法によれば、アイソメトリック図の視線方向パラ
メータの変更前の処理パラメータ群と変更後の処理パラ
メータ群とによって定まる２次元差分変形パラメータに
基づいてアイソメトリック図の図形を更新する手段によ
って、アイソメトリック図の視線方向の変更に伴う図形
更新処理を３次元図形処理によらずに全て２次元図形処
理のレベルで行なうことができるため、２次元製図ＣＡ
Ｄシステムに３次元形状モデラや幾何推論機構など複雑
な構成を有するモジュールを搭載することなく、既にシ
ステムに備わっている２次元幾何計算モジュール等を利
用した簡単な構成で視線方向を試行錯誤的に変えながら
アイソメトリック図を作成する機能を実現することがで
き、メモリ消費性能および速度性能を向上させる効果が
ある。

【００８６】本発明の第５の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置または第５のアイソメトリック図作成
編集方法によれば、三面図で与えた製品形状をユーザー
が指定した視線方向からのアイソメトリック図にする過
程で、面図毎に互いに重ならないような図形初期位置に
システムが自動的に配置するため、ユーザーの入力操作
が容易であり、かつ一連の図形処理を全て２次元図形処
理のレベルで行なうことができるため、２次元製図ＣＡ
Ｄシステムに３次元形状モデラや幾何推論機構など複雑
な構成を有するモジュールを搭載することなく、既にシ
ステムに備わっている２次元幾何計算モジュール等を利
用した簡単な構成でアイソメトリック図作成機能を実現
することができ、メモリ消費性能および速度性能を向上
させる効果がある。

【００８７】本発明の第６の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置または第６のアイソメトリック図作成
編集方法によれば、三面図で与えた製品形状をユーザー
が指定した視線方向からのアイソメトリック図にする過
程で、各面図毎に初期配置された図形から所望のアイソ
メトリック図の位置に２次元平行移動またはコピーする
パラメータを他の面図の図形との位置関係から自動算出
するため、ユーザーの入力操作が容易であり、かつ一連
の図形処理を全て２次元図形処理のレベルで行なうこと
ができるため、２次元製図ＣＡＤシステムに３次元形状
モデラや幾何推論機構など複雑な構成を有するモジュー
ルを搭載することなく、既にシステムに備わっている２
次元幾何計算モジュール等を利用した簡単な構成でアイ
ソメトリック図作成機能を実現することができ、メモリ
消費性能および速度性能を向上させる効果がある。

【００８８】本発明の第７の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置または第７のアイソメトリック図作成
編集方法によれば、三面図で与えた製品形状をユーザー
が指定した視線方向からのアイソメトリック図にする過
程で、初期配置された円筒または円錐台の側面の輪郭図
形を所望のアイソメトリック図の図形に作図する処理を
他の面図の図形との位置関係から自動作図するため、ユ
ーザーの入力操作が容易であり、かつ一連の図形処理を
全て２次元図形処理のレベルで行なうことができるた
め、２次元製図ＣＡＤシステムに３次元形状モデラや幾
何推論機構など複雑な構成を有するモジュールを搭載す
ることなく、既にシステムに備わっている２次元幾何計
算モジュール等を利用した簡単な構成でアイソメトリッ
ク図作成機能を実現することができ、メモリ消費性能お
よび速度性能を向上させる効果がある。

【００８９】本発明の第８の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置または第８のアイソメトリック図作成
編集方法によれば、三面図で与えた製品形状をユーザー
が指定した視線方向からのアイソメトリック図にする過
程で、初期配置された円筒または円錐台の端面が線分で
現されている場合に、アイソメトリック図の図形との位
置関係から自動作図するため、ユーザーの入力操作が容
易であり、かつ一連の図形処理を全て２次元図形処理の
レベルで行なうことができるため、２次元製図ＣＡＤシ
ステムに３次元形状モデラや幾何推論機構など複雑な構
成を有するモジュールを搭載することなく、既にシステ
ムに備わっている２次元幾何計算モジュール等を利用し
た簡単な構成でアイソメトリック図作成機能を実現する
ことができ、メモリ消費性能および速度性能を向上させ
る効果がある。

【００９０】本発明の第９の構成によるアイソメトリッ
ク図作成編集装置または第９のアイソメトリック図作成
編集方法によれば、三面図で与えた製品形状をユーザー
が指定した視線方向からのアイソメトリック図にする過
程で、隠線処理を２次元の線分調整で行い、この情報を
保持し視線変更時に再び線分調整を行うことにより、ユ
ーザーの入力操作が容易であり、かつ一連の図形処理を
全て２次元図形処理のレベルで行なうことができるた
め、２次元製図ＣＡＤシステムに３次元形状モデラや幾
何推論機構など複雑な構成を有するモジュールを搭載す
ることなく、既にシステムに備わっている２次元幾何計
算モジュール等を利用した簡単な構成でアイソメトリッ
ク図作成機能を実現することができ、メモリ消費性能お
よび速度性能を向上させる効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の実施の形態１によるアイソメトリ
ック図作成方法の例を示した説明図である。

【図２】 この発明の実施の形態１〜８におけるアイソ
メトリック図作成編集装置のシステム構成を示すブロッ
ク図である。

【図３】 この発明の実施の形態２によるアイソメトリ
ック図作成方法の例を示した説明図である。

【図４】 この発明の実施の形態３におけるアイソメト
リック図作成編集装置によってアイソメトリック図に描
かれた製品の一部または全ての部品をアイソメトリック
図上で３次元的に剛体移動する処理の例を示した説明図
である。

【図５】 この発明の実施の形態４におけるアイソメト
リック図作成編集装置によってアイソメトリック図の視
線方向の変更に伴ってアイソメトリック図の図形を更新
する処理の例を示した説明図である。

【図６】この発明の実施の形態５における図形初期配置
手段により、各面図のアイソメトリック図を互いに重な
らないように自動配置する処理の例を示した説明図であ
る。

【図７】この発明の実施の形態６における図形移動手段
により、初期配置された図形をアイソメトリック図の所
望の位置に平行移動またはコピーする処理の例を示した
説明図である。

【図８】この発明の実施の形態７における図形移動手段
により、初期配置されている円筒または円錐台の側面の
輪郭線を所望の位置に配置する処理の例を示した説明図
である。

【図９】この発明の実施の形態８における図形移動手段
により、初期配置されている円筒または円錐台の端面が
線分として現されている図形を所望の図形に作図する処
理の例を示した説明図である。

【図１０】この発明の実施の形態９におけるアイソメト
リック図作成編集装置のシステム構成を示すブロック図
である。

【図１１】この発明の実施の形態９における線分調整手
段により、視線方向の変更に対して既に隠線処理された
図形を更新する処理の例を示した説明図である。

【図１２】 従来のアイソメトリック図作成方法におけ
るアイソメトリック図作成処理の過程を示した説明図で
ある。

【図１３】 従来のアイソメトリック図作成方法におけ
るアイソメトリック図作成処理の過程を示した説明図で
ある。

【図１４】 従来のアイソメトリック図作成方法におけ
るアイソメトリック図作成処理の過程を示した説明図で
ある。

【図１５】 従来のアイソメトリック図作成方法におけ
るアイソメトリック図作成処理の過程を示した説明図で
ある。

【符号の説明】

２０１ 三面図データ、２０２ アイソメトリック図デ
ータ、２０３ ２次元変形処理部、２０４ 図形初期配
置処理部、 ２０５ 図形移動処理部、 ２０６ 処理
パラメータ格納部、２０７ ２次元差分変形処理部、
１００１ 線分調整処理部、 １００２ 線分調整デー
タ格納部。

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２次元製図ＣＡＤシステムにおいて、三
   面図の各面図の視線方向パラメータと作成対象アイソメ
   トリック図の視線方向パラメータとから三面図の各図形
   をアイソメトリック図の図形へと変形する２次元変形パ
   ラメータを算出し、これにもとづいて三面図の各図形を
   変形する２次元変形手段と、変形後の図形をアイソメト
   リック図に初期配置する図形初期配置手段と、元の三面
   図の視線方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した
   ２次元視線方向ベクトルに沿って上記初期配置後の図形
   の指定の図形要素または図形要素群を平行移動またはコ
   ピーする図形移動手段とを備え、三面図で与えた製品の
   指定の視線方向からのアイソメトリック図を作成するア
   イソメトリック図作成編集装置。
2. 【請求項２】 ２次元製図ＣＡＤシステムにおいて、三
   面図の各面図の視線方向パラメータと作成対象アイソメ
   トリック図の視線方向パラメータと空間配置パラメータ
   とから三面図の各図形をアイソメトリック図の図形へと
   変形する２次元変形パラメータを算出し、これにもとづ
   いて三面図の各図形を変形する２次元変形手段と、変形
   後の図形をアイソメトリック図上に初期配置する図形初
   期配置手段と、元の三面図の視線方向ベクトルを上記空
   間配置パラメータに基づいて空間配置したベクトルをア
   イソメトリック図に投影した２次元視線方向ベクトルに
   沿って上記初期配置後の図形の指定の図形要素または図
   形要素群を平行移動またはコピーする図形移動手段とを
   備え、三面図で与えた製品の指定の空間配置における指
   定の視線方向からのアイソメトリック図を作成するアイ
   ソメトリック図作成編集装置。
3. 【請求項３】 ２次元製図ＣＡＤシステムにおいて、三
   面図の各面図の視線方向パラメータと作成対象アイソメ
   トリック図の視線方向パラメータと空間配置パラメータ
   とから三面図の各図形をアイソメトリック図の図形へと
   変形する２次元変形パラメータを算出し、これにもとづ
   いて三面図の各図形を変形する２次元変形手段と、変形
   後の図形をアイソメトリック図上に初期配置する図形初
   期配置手段と、元の三面図の視線方向ベクトルを上記空
   間配置パラメータに基づいて空間配置したベクトルをア
   イソメトリック図に投影した２次元視線方向ベクトルに
   沿って上記初期配置後の図形の指定の図形要素または図
   形要素群を平行移動またはコピーする図形移動手段と、
   これら一連の処理における処理パラメータ群を格納する
   処理パラメータ格納手段と、アイソメトリック図に描か
   れた製品の一部または全ての部品の空間配置パラメータ
   を変更した場合に上記格納手段に格納された変更前の処
   理パラメータ群と変更後の処理パラメータ群とから現在
   のアイソメトリック図の図形を空間配置変更後のアイソ
   メトリック図の図形へと変形する２次元差分変形パラメ
   ータを算出し、これにもとづいてアイソメトリック図の
   図形を変形する２次元差分変形手段とを備え、アイソメ
   トリック図に描かれた製品の一部または全ての部品をア
   イソメトリック図上で３次元的に剛体移動するアイソメ
   トリック図作成編集装置。
4. 【請求項４】 ２次元製図ＣＡＤシステムにおいて、三
   面図の各面図の視線方向パラメータと作成対象アイソメ
   トリック図の視線方向パラメータとから三面図の各図形
   をアイソメトリック図の図形へと変形する２次元変形パ
   ラメータを算出し、これにもとづいて三面図の各図形を
   変形する２次元変形手段と、変形後の図形をアイソメト
   リック図上に初期配置する図形初期配置手段と、元の三
   面図の視線方向ベクトルをアイソメトリック図に投影し
   た２次元視線方向ベクトルに沿って上記初期配置後の図
   形の指定の図形要素または図形要素群を平行移動または
   コピーする図形移動手段と、これら一連の処理における
   処理パラメータ群を格納する処理パラメータ格納手段
   と、アイソメトリック図の視線方向を変更した場合に上
   記格納手段に格納された変更前の処理パラメータ群と変
   更後の処理パラメータ群とから現在のアイソメトリック
   図の図形を視線方向変更後のアイソメトリック図の図形
   へと変形する２次元差分変形パラメータを算出し、これ
   にもとづいてアイソメトリック図の図形を変形する２次
   元差分変形手段とを備え、アイソメトリック図の視線方
   向の変更に追随してアイソメトリック図を自動更新する
   アイソメトリック図作成編集装置。
5. 【請求項５】 上記２次元変形手段による変形後の図形
   をアイソメトリック図上に初期配置する図形初期配置手
   段において、三面図の図形を仮配置することにより予想
   できるアイソメトリック図作図領域と、各面図の変形後
   の図形を包括する２次元領域が重ならないように各面図
   の図形を自動的に初期位置へ配置することを特徴とする
   請求項１ないし４の何れかに記載のアイソメトリック図
   作成編集装置。
6. 【請求項６】 上記三面図の視線方向ベクトルをアイソ
   メトリック図に投影した２次元視線方向ベクトルに沿っ
   て上記初期配置後の図形の指定の図形要素または図形要
   素群を平行移動またはコピーする図形移動手段におい
   て、他の面図または既にアイソメトリック図上に配置さ
   れている図形との位置関係から、平行移動パラメータを
   算出することを特徴とする請求項１ないし４の何れかに
   記載のアイソメトリック図作成編集装置。
7. 【請求項７】 上記三面図の視線方向ベクトルをアイソ
   メトリック図に投影した２次元視線方向ベクトルに沿っ
   て上記初期配置後の図形の指定の図形要素または図形要
   素群を平行移動またはコピーする図形移動手段におい
   て、円筒または円錐台の側面の輪郭線を移動する場合
   に、円筒または円錐台の端面に対応するアイソメトリッ
   ク図上の２つの楕円弧を座標の位置関係から検索し、こ
   の２つの楕円弧に接する線分を作図することにより、円
   筒または円錐台の側面の輪郭線を作成配置することを特
   徴とする請求項１ないし４の何れかに記載のアイソメト
   リック図作成編集装置。
8. 【請求項８】 上記三面図の視線方向ベクトルをアイソ
   メトリック図に投影した２次元視線方向ベクトルに沿っ
   て上記初期配置後の図形の指定の図形要素または図形要
   素群を平行移動またはコピーする図形移動手段におい
   て、移動対象中の円筒または円錐台の端面がそれらの直
   径を示す線分で表現されている図形をアイソメトリック
   図に配置する場合に、移動対象の線分と円筒または円錐
   台の中心軸と、元の三面図の視線方法パラメータと作成
   対象アイソメトリック図の視線方向パラメータとから上
   記線分を円筒または円錐台の端面をあらわす楕円弧に変
   換してアイソメトリック図に配置することを特徴とする
   請求項１ないし４の何れかに記載のアイソメトリック図
   作成編集装置。
9. 【請求項９】 ２次元ＣＡＤの線分調整機能を用いて隠
   線を破線にするかまたは消去する手段と、ある線分がど
   の線分を原因図形として線分調整したかを記憶する線分
   調整データ格納手段と、再描画時にアイソメトリック図
   上の図形要素を上記線分調整データ格納手段より取り出
   し再び線分調整を実行する手段とを備え、一度隠線処理
   すると視線方向変更時の再描画時にも前回と同じ隠線処
   理を自動的に行うことを特徴とする請求項１ないし４の
   何れかに記載のアイソメトリック図作成編集装置。
10. 【請求項１０】 ２次元製図ＣＡＤシステムにおいて、
    ２次元変形手段により、三面図の各面図の視線方向パラ
    メータと作成対象アイソメトリック図の視線方向パラメ
    ータとから三面図の各図形をアイソメトリック図の図形
    へと変形する２次元変形パラメータを算出し、これにも
    とづいて三面図の各図形を変形する工程と、図形初期配
    置手段により、変形後の図形をアイソメトリック図に初
    期配置する工程と、図形移動手段により、元の三面図の
    視線方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した２次
    元視線方向ベクトルに沿って上記初期配置後の図形の指
    定の図形要素または図形要素群を平行移動またはコピー
    する工程とを有することにより、三面図で与えた製品の
    指定の視線方向からのアイソメトリック図を作成するア
    イソメトリック図作成編集方法。
11. 【請求項１１】 ２次元製図ＣＡＤシステムにおいて、
    ２次元変形手段により、三面図の各面図の視線方向パラ
    メータと作成対象アイソメトリック図の視線方向パラメ
    ータと空間配置パラメータとから三面図の各図形をアイ
    ソメトリック図の図形へと変形する２次元変形パラメー
    タを算出し、これにもとづいて三面図の各図形を変形す
    る工程と、図形初期配置手段により、変形後の図形をア
    イソメトリック図上に初期配置する工程と、図形移動手
    段により、元の三面図の視線方向ベクトルを上記空間配
    置パラメータに基づいて空間配置したベクトルをアイソ
    メトリック図に投影した２次元視線方向ベクトルに沿っ
    て上記初期配置後の図形の指定の図形要素または図形要
    素群を平行移動またはコピーする工程とを有することに
    より、三面図で与えた製品の指定の空間配置における指
    定の視線方向からのアイソメトリック図を作成するアイ
    ソメトリック図作成編集方法。
12. 【請求項１２】 ２次元製図ＣＡＤシステムにおいて、
    ２次元変形手段により、三面図の各面図の視線方向パラ
    メータと作成対象アイソメトリック図の視線方向パラメ
    ータと空間配置パラメータとから三面図の各図形をアイ
    ソメトリック図の図形へと変形する２次元変形パラメー
    タを算出し、これにもとづいて三面図の各図形を変形す
    る工程と、図形初期配置手段により、変形後の図形をア
    イソメトリック図上に初期配置する工程と、図形移動手
    段により、元の三面図の視線方向ベクトルを上記空間配
    置パラメータに基づいて空間配置したベクトルをアイソ
    メトリック図に投影した２次元視線方向ベクトルに沿っ
    て上記初期配置後の図形の指定の図形要素または図形要
    素群を平行移動またはコピーする工程と、処理パラメー
    タ格納手段により、これら一連の処理における処理パラ
    メータ群を格納する工程と、２次元差分変形手段によ
    り、アイソメトリック図に描かれた製品の一部または全
    ての部品の空間配置パラメータを変更した場合に上記格
    納工程で格納された変更前の処理パラメータ群と変更後
    の処理パラメータ群とから現在のアイソメトリック図の
    図形を空間配置変更後のアイソメトリック図の図形へと
    変形する２次元差分変形パラメータを算出し、これにも
    とづいてアイソメトリック図の図形を２次元差分変形す
    る工程とを有することにより、アイソメトリック図に描
    かれた製品の一部または全ての部品をアイソメトリック
    図上で３次元的に剛体移動するアイソメトリック図作成
    編集方法。
13. 【請求項１３】 ２次元製図ＣＡＤシステムにおいて、
    ２次元変形手段により、三面図の各面図の視線方向パラ
    メータと作成対象アイソメトリック図の視線方向パラメ
    ータとから三面図の各図形をアイソメトリック図の図形
    へと変形する２次元変形パラメータを算出し、これにも
    とづいて三面図の各図形を変形する工程と、図形初期配
    置手段により、変形後の図形をアイソメトリック図上に
    初期配置する工程と、図形移動手段により、元の三面図
    の視線方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した２
    次元視線方向ベクトルに沿って上記初期配置後の図形の
    指定の図形要素または図形要素群を平行移動またはコピ
    ーする工程と、処理パラメータ格納手段により、これら
    一連の処理における処理パラメータ群を格納する工程
    と、２次元差分変形手段により、アイソメトリック図の
    視線方向を変更した場合に上記格納工程で格納された変
    更前の処理パラメータ群と変更後の処理パラメータ群と
    から現在のアイソメトリック図の図形を視線方向変更後
    のアイソメトリック図の図形へと変形する２次元差分変
    形パラメータを算出し、これにもとづいてアイソメトリ
    ック図の図形を２次元差分変形する工程とを有すること
    により、アイソメトリック図の視線方向の変更に追随し
    てアイソメトリック図を自動更新するアイソメトリック
    図作成編集方法。
14. 【請求項１４】 上記図形初期配置手段により、上記２
    次元変形後の図形をアイソメトリック図上に初期配置す
    る工程において、三面図の各図形を仮配置することによ
    り予想できるアイソメトリック図作図領域と、各面図の
    変形後の図形を包括する２次元領域が重ならないように
    各面図の図形を自動的に初期位置へ配置することを特徴
    とする請求項１０ないし１３の何れかに記載のアイソメ
    トリック図作成編集方法。
15. 【請求項１５】 上記図形移動手段により、上記三面図
    の視線方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した２
    次元視線方向ベクトルに沿って上記初期配置後の図形の
    指定の図形要素または図形要素群を平行移動またはコピ
    ーする工程において、他の面図または既にアイソメトリ
    ック図上に配置されている図形との位置関係から、平行
    移動パラメータを算出することを特徴とする請求項１０
    ないし１３の何れかに記載のアイソメトリック図作成編
    集方法。
16. 【請求項１６】 上記図形移動手段により、上記三面図
    の視線方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した２
    次元視線方向ベクトルに沿って上記初期配置後の図形の
    指定の図形要素または図形要素群を平行移動またはコピ
    ーする工程において、円筒または円錐台の側面の輪郭線
    を移動する場合に、円筒または円錐台の端面に対応する
    アイソメトリック図上の２つの楕円弧を座標の位置関係
    から検索し、この２つの楕円弧に接する線分を作図する
    ことにより、円筒または円錐台の側面の輪郭線を作成配
    置することを特徴とする請求項１０ないし１３の何れか
    に記載のアイソメトリック図作成編集方法。
17. 【請求項１７】 上記図形移動手段により、上記三面図
    の視線方向ベクトルをアイソメトリック図に投影した２
    次元視線方向ベクトルに沿って上記初期配置後の図形の
    指定の図形要素または図形要素群を平行移動またはコピ
    ーする工程において、移動対象中の円筒または円錐台の
    端面がそれらの直径を示す線分で表現されている図形を
    アイソメトリック図に配置する場合に、移動対象の線分
    と円筒または円錐台の中心軸と、元の三面図の視線方向
    パラメータと作成対象アイソメトリック図の視線方向パ
    ラメータとから上記線分を円筒または円錐台の端面をあ
    らわす楕円弧に変換してアイソメトリック図に配置する
    ことを特徴とする請求項１０ないし１３の何れかに記載
    のアイソメトリック図作成編集方法。
18. 【請求項１８】 ２次元ＣＡＤの線分調整機能を用いて
    隠線を破線にするかまたは消去する工程と、線分調整デ
    ータ格納手段により、ある線分がどの線分を原因図形と
    して線分調整したかを記憶する線分調整データ格納工程
    と、再描画時にアイソメトリック図上の図形要素を上記
    線分調整データ格納工程より取り出し再び線分調整を実
    行する工程とを備え、一度隠線処理すると視線方向変更
    時の再描画時にも前回と同じ隠線処理を自動的に行うこ
    とを特徴とする請求項１０ないし１３の何れかに記載の
    アイソメトリック図作成編集方法。