JPH1036640A - Photocurable resin composition and interlayer electric insulating material for multilayer printed circuit board - Google Patents

Photocurable resin composition and interlayer electric insulating material for multilayer printed circuit board

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JPH1036640A
JPH1036640A JP18929096A JP18929096A JPH1036640A JP H1036640 A JPH1036640 A JP H1036640A JP 18929096 A JP18929096 A JP 18929096A JP 18929096 A JP18929096 A JP 18929096A JP H1036640 A JPH1036640 A JP H1036640A
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JP
Japan
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acid
vinyl ester
rubber
ester resin
modified epoxy
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JP18929096A
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Seiichi Kitazawa
清一 北沢
Yasushi Kameyama
裕史 亀山
Norio Kobayashi
紀男 小林
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Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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    • H05K3/4676Single layer compositions

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a photocurable resin compsn. which is excellent in adhesion to copper plating for circuit formation, has an excellent flexibility, and is useful for an interlayer electric insulating material for printed circuit boards by compounding a specific acid-pendant rubber-modified epoxy vinyl ester resin, a diluent, and a photopolymn. initiator as the essential ingredients. SOLUTION: This compsn. contains an acid-pendant rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A), a diluent (B), and a photopolymn. initiator (C). as the essential ingredients. Resin A is obtd. by reacting a polyglycidyl ether of a compd. linked to a hydroxylated arom. compd. by a cycloaliph. hydrocarbon group as the linking group, a carboxylated rubbery polymer, and an ethylenically unsatd. monobasic acid and has a structure formed by reacting a polybasic acid anhydride with hydroxyl groups of a rubber-modified epoxy vinyl ester resin. The addition of a thermosetting ingredient (pref. an epoxy resin) to the compsn. improves the adhesion strength between conductor circuits.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光硬化性樹脂組成
物および多層プリント配線板用層間電気絶縁材料に関す
る。さらに詳しくは、特定の構造を有する酸ペンダント
型ゴム変性エポキシビニルエステル樹脂、希釈剤、光重
合開始剤および熱硬化成分を必須成分とする、銅メッキ
との密着性に優れ、かつ、可撓性や半田耐熱性、耐溶剤
性、電気特性などの諸特性のバランスの良い光硬化性樹
脂組成物および多層プリント配線板の製造に適した希ア
ルカリ溶液で現像可能な多層プリント配線板用層間電気
絶縁材料に関する。
The present invention relates to a photocurable resin composition and an interlayer electric insulating material for a multilayer printed wiring board. More specifically, an acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin having a specific structure, a diluent, a photopolymerization initiator, and a thermosetting component are essential components, and have excellent adhesion to copper plating and flexibility. Electrical insulation for multi-layer printed wiring boards that can be developed with a dilute alkaline solution suitable for the production of multi-layer printed wiring boards and a photo-curable resin composition with a good balance of various properties such as heat resistance, solvent resistance, and electrical properties About the material.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近のプリント配線板の進歩はめざまし
く、特に表面実装技術の向上によりプリント配線板の高
集積化は加速度的に進んでおり、さらに高密度、高信頼
性が要求されている。特に多層プリント配線板において
は、1層当たりの板厚を薄くしたり、また貫通孔のみを
持つ従来の多層プリント配線板から、板の表面や内部に
部分的なバイアを持つ多層プリント配線板へと展開して
きた。
2. Description of the Related Art Recently, printed wiring boards have made remarkable progress, and in particular, the integration of printed wiring boards has been increasing at an accelerating rate due to the improvement of surface mounting technology, and higher density and higher reliability have been required. In particular, in the case of multilayer printed wiring boards, the thickness of each layer can be reduced, or from a conventional multilayer printed wiring board having only through holes to a multilayer printed wiring board having partial vias on the surface or inside of the board. Has been deployed.

【0003】しかし、この多層プリント配線板において
は、スルホールが配線域を狭めたり、また、スルホール
の径を小さくするには限界があるため、スルホールプリ
ント配線板に現在要求されている高密度化には限度があ
った。
However, in this multilayer printed wiring board, since there is a limit to the through-hole narrowing the wiring area or reducing the diameter of the through-hole, the high density required for the through-hole printed wiring board is required. Had a limit.

【0004】そこで現在、多層プリント配線板の製造法
として、プリント配線板上に感光性樹脂を塗布、露光、
現像後、フォトビアホールを有する層間電気絶縁層を形
成し、次いで過マンガン酸カリにより絶縁層の表面を粗
化し、無電解銅メッキ、電解銅メッキを施し、ついで、
ドライフィルムをラミネートし、露光、現像、エッチン
グ、エッチングレジストを剥離し導体回路を形成し、こ
れらの工程を順次繰り返し積層していく、フォトレジス
ト法によるビルドアップ法が提案されている。
Therefore, at present, as a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, a photosensitive resin is applied onto a printed wiring board, exposed,
After development, an interlayer electric insulating layer having a photo via hole is formed, and then the surface of the insulating layer is roughened with potassium permanganate, and electroless copper plating and electrolytic copper plating are performed.
A build-up method using a photoresist method has been proposed in which a dry film is laminated, exposure, development, etching, and stripping of the etching resist are performed to form a conductor circuit, and these steps are sequentially and repeatedly laminated.

【0005】このフォトレジスト法は小径のバイアを自
由に形成でき高密度な多層プリント配線板が得られる点
で優れており、開発が進められている。このフォトレジ
スト法によるビルドアップ法での最大の課題の一つとし
て、回路と電気絶縁層との密着強度の向上が挙げられ
る。
The photoresist method is excellent in that a small-diameter via can be freely formed and a high-density multilayer printed wiring board can be obtained, and its development is in progress. One of the biggest problems in the build-up method by the photoresist method is to improve the adhesion strength between a circuit and an electric insulating layer.

【0006】現在、フォトレジスト法による多層プリン
ト配線板用層間電気絶縁材料として酸ペンダント型ノボ
ラックエポキシビニルエステル樹脂が検討されている。
At present, an acid pendant novolak epoxy vinyl ester resin is being studied as an interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board by a photoresist method.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の酸
ペンダント型ノボラックエポキシビニルエステル樹脂
は、銅メッキとの密着性が充分でなく、多層プリント配
線板用電気絶縁材料として使用した場合には、導体回路
間の充分な密着強度が得られないという課題を有する
他、可撓性も劣るため割れやすいといった課題を有して
いた。
However, the above-mentioned conventional acid pendant novolak epoxy vinyl ester resin has insufficient adhesion with copper plating, and when used as an electrical insulating material for a multilayer printed wiring board, In addition to the problem that a sufficient adhesion strength between the conductor circuits cannot be obtained, there is also a problem that the conductor circuit is inferior in flexibility and is easily broken.

【0008】本発明が解決しようとする課題は、回路を
形成する銅メッキの密着性に優れ、また、優れた可撓性
をも有する、光硬化性樹脂組成物および多層プリント配
線板の製造に適した希アルカリ溶液で現像可能な多層プ
リント配線板用層間電気絶縁材料を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a photocurable resin composition and a multilayer printed wiring board having excellent adhesion of copper plating for forming a circuit and also having excellent flexibility. An object of the present invention is to provide an interlayer electric insulating material for a multilayer printed wiring board which can be developed with a suitable diluted alkaline solution.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、多層プリ
ント配線板用層間電気絶縁材料の前述した問題点を鋭意
研究した結果、特定の酸ペンダント型ゴム変性エポキシ
ビニルエステル樹脂、希釈剤、光重合開始剤および熱硬
化成分を用いることにより、銅メッキとの密着性に優
れ、かつ、可撓性や半田耐熱性、耐溶剤性、電気特性な
どの諸特性のバランスの良い、多層プリント配線板の製
造に適した希アルカリ溶液で現像可能な多層プリント配
線板用層間電気絶縁材料が得られることを見い出し本発
明を完成するに至った。
The present inventors have conducted intensive studies on the above-mentioned problems of the interlayer electric insulating material for a multilayer printed wiring board, and have found that a specific acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin, a diluent, By using a photopolymerization initiator and a thermosetting component, multilayer printed wiring is excellent in adhesion to copper plating and well-balanced in various properties such as flexibility, solder heat resistance, solvent resistance, and electrical properties. The present inventors have found that an interlayer insulating material for a multilayer printed wiring board which can be developed with a dilute alkali solution suitable for manufacturing a board can be obtained, and have completed the present invention.

【0010】即ち、本発明は、(A)環状脂肪族炭化水
素基(a−1)を結接基としてヒドロキシル芳香族化合
物(a−2)と結合した化合物のポリグリシジルエーテ
ル(a)、カルボキシル基含有ゴム状重合体(b)およ
びエチレン性不飽和一塩基酸(c)を反応させて得られ
るゴム変性エポキシビニルエステル樹脂の水酸基に多塩
基酸無水物を反応させた構造を有する酸ペンダント型ゴ
ム変性エポキシビニルエステル樹脂、(B)希釈剤、お
よび、(C)光重合開始剤、を必須成分とすることを特
徴とする光硬化性樹脂組成物、及び、当該組成物に、更
に、熱硬化成分(D)を含有することを特徴とする多層
プリント配線板用層間電気絶縁材料に関する。
That is, the present invention relates to (A) polyglycidyl ether (a) of a compound in which a cyclic aliphatic hydrocarbon group (a-1) is bonded to a hydroxyl aromatic compound (a-2) as a bonding group, Acid pendant type having a structure in which hydroxyl groups of a rubber-modified epoxy vinyl ester resin obtained by reacting a group-containing rubbery polymer (b) and an ethylenically unsaturated monobasic acid (c) with polybasic anhydrides A photo-curable resin composition comprising a rubber-modified epoxy vinyl ester resin, (B) a diluent, and (C) a photopolymerization initiator as essential components; The present invention relates to an interlayer electric insulating material for a multilayer printed wiring board, comprising a curing component (D).

【0011】本発明で用いる酸ペンダント型ゴム変性エ
ポキシビニルエステル樹脂(A)は、環状脂肪族炭化水
素基(a−1)を結接基としてヒドロキシル芳香族化合
物(a−2)と結合した化合物のポリグリシジルエーテ
ル(a)と、カルボキシル基含有ゴム状重合体(b)お
よびエチレン性不飽和一塩基酸(c)とを反応させて得
られるゴム変性エポキシビニルエステル樹脂の水酸基に
多塩基酸無水物を反応させた構造を有するものであれば
よく、特に限定されるものではないが、その酸価が30
〜140mgKOH/gの範囲のものが好ましく、なか
でもアルカリ水溶液に対する溶解性が良好で現像性に優
れ、層間電気絶縁塗膜の特性にも優れる点で酸価が40
〜120mgKOH/gの範囲のものが特に好ましい。
The acid pendant rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A) used in the present invention is a compound in which a cyclic aliphatic hydrocarbon group (a-1) is bonded to a hydroxyl aromatic compound (a-2). Of the rubber-modified epoxy vinyl ester resin obtained by reacting the polyglycidyl ether (a) with the carboxyl group-containing rubbery polymer (b) and the ethylenically unsaturated monobasic acid (c) As long as it has a structure in which a product is reacted, it is not particularly limited.
It is preferably in the range of 140 to 140 mgKOH / g. Among them, the acid value is preferably 40 in terms of good solubility in an alkaline aqueous solution, excellent developability, and excellent characteristics of an interlayer electric insulating coating film.
Those having a range of 120120 mgKOH / g are particularly preferred.

【0012】上記酸価範囲の酸ペンダント型ゴム変性エ
ポキシビニルエステル樹脂(A)を得るには、上述した
通り、例えばゴム変性エポキシビニルエステル樹脂と多
塩基酸無水物とを反応して得られるが、それらの反応割
合は特に限定されず、通常、ゴム変性エポキシビニルエ
ステル樹脂中の水酸基1モルに対し、多塩基酸無水物中
の酸無水物基の数が0.3〜1.0モルとなる割合が挙
げられる。
In order to obtain an acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A) having the above-mentioned acid value range, for example, a rubber-modified epoxy vinyl ester resin is reacted with a polybasic anhydride as described above. The reaction ratio thereof is not particularly limited, and usually, the number of acid anhydride groups in the polybasic acid anhydride is 0.3 to 1.0 mol per 1 mol of hydroxyl groups in the rubber-modified epoxy vinyl ester resin. Ratio.

【0013】なかでも、アルカリ水溶液に対する溶解性
が良好で現像性に優れ、層間電気絶縁塗膜の特性にも優
れる点からゴム変性エポキシビニルエステル樹脂中の水
酸基1モルに対し、多塩基酸無水物中の酸無水物基の数
が0.4〜0.9モルとなる割合で両者を反応させるこ
とが好ましい。
Above all, polybasic acid anhydride is used per mole of hydroxyl group in the rubber-modified epoxy vinyl ester resin because of its good solubility in an aqueous alkali solution, excellent developability, and excellent properties of an interlayer electric insulating coating film. It is preferred that the two are reacted at such a ratio that the number of acid anhydride groups therein becomes 0.4 to 0.9 mol.

【0014】ここで、ゴム変性エポキシビニルエステル
樹脂とは、環状脂肪族炭化水素基(a−1)を結接基と
してヒドロキシル芳香族化合物(a−2)と結合した化
合物のポリグリシジルエーテル(a)と、カルボキシル
基含有ゴム状重合体(b)と、エチレン性不飽和一塩基
酸(c)とを反応させた構造を有するものであり、この
樹脂構造中には、ポリグリシジルエーテル(a)と、カ
ルボキシル基含有ゴム状重合体(b)およびエチレン性
不飽和一塩基酸(c)との反応によって生成するエステ
ル結合が存在しているものである。本発明においては、
これらのエステル結合の内、カルボキシル基含有ゴム状
重合体(b)に基づくエステル構造部位(ゴム状重合体
部分を含む)の含有率が、酸ペンダント型ゴム変性エポ
キシビニルエステル樹脂中、3〜60重量%となる範囲
で含有することが、銅メッキとの密着性や可撓性、耐熱
性、電気特性などに優れる樹脂が得られる点で好まし
い。
Here, the rubber-modified epoxy vinyl ester resin is a polyglycidyl ether (a) of a compound in which a cyclic aliphatic hydrocarbon group (a-1) is bonded to a hydroxyl aromatic compound (a-2). ), A carboxyl group-containing rubbery polymer (b), and an ethylenically unsaturated monobasic acid (c), and a polyglycidyl ether (a) in the resin structure. And a carboxyl group-containing rubbery polymer (b) and an ethylenically unsaturated monobasic acid (c). In the present invention,
Among these ester bonds, the content of the ester structure site (including the rubbery polymer portion) based on the carboxyl group-containing rubbery polymer (b) is 3 to 60 in the acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin. It is preferable that the content be in the range of weight% in that a resin excellent in adhesion to copper plating, flexibility, heat resistance, electrical characteristics, and the like can be obtained.

【0015】また、このゴム変性エポキシビニルエステ
ル樹脂を製造するにあたっては、ポリグリシジルエーテ
ル(a)、カルボキシル基含有ゴム状重合体(b)およ
びエチレン性不飽和一塩基酸(c)の各成分は同時に反
応させてもよいし、あるいは、ポリグリシジルエーテル
(a)とカルボキシル基含有ゴム状重合体(b)とを反
応させた後、エチレン性不飽和一塩基酸(c)を反応さ
せてもよい。
In producing the rubber-modified epoxy vinyl ester resin, the components of polyglycidyl ether (a), carboxyl group-containing rubbery polymer (b) and ethylenically unsaturated monobasic acid (c) are The reaction may be carried out simultaneously, or the polyglycidyl ether (a) may be reacted with the carboxyl group-containing rubbery polymer (b) followed by the reaction with the ethylenically unsaturated monobasic acid (c). .

【0016】この際、ポリグリシジルエーテル(a)、
カルボキシル基含有ゴム状重合体(b)およびエチレン
性不飽和一塩基酸(c)の反応比率は、特に制限される
ものではないが、ポリグリシジルエーテル(a)中のエ
ポキシ基1当量当たり、カルボキシル基含有ゴム状重合
体(b)とエチレン性不飽和一塩基酸(c)の総カルボ
キシル基が0.8〜1.1当量となる範囲であることが
好ましく、なかでも光硬化性および貯蔵安定性に優れる
樹脂が得られる点で0.9〜1.0モルとなる範囲が好
ましい。
At this time, polyglycidyl ether (a),
The reaction ratio of the carboxyl group-containing rubbery polymer (b) and the ethylenically unsaturated monobasic acid (c) is not particularly limited, but the carboxyl group per equivalent of epoxy group in the polyglycidyl ether (a) is not limited. It is preferable that the total carboxyl groups of the group-containing rubbery polymer (b) and the ethylenically unsaturated monobasic acid (c) be in the range of 0.8 to 1.1 equivalents, in particular, photocurability and storage stability. The range of 0.9 to 1.0 mol is preferable in that a resin having excellent properties is obtained.

【0017】本発明で用いるポリグリシジルエーテル
(a)としては、環状脂肪族炭化水素基(a−1)を結
接基としてヒドロキシル芳香族化合物(a−2)と結合
した化合物(a’)をグリシジルオキシ化して得られる
化合物を挙げる事ができる。
The polyglycidyl ether (a) used in the present invention is a compound (a ') in which a cyclic aliphatic hydrocarbon group (a-1) is bonded to a hydroxyl aromatic compound (a-2) as a bonding group. Compounds obtained by glycidyl oxylation can be mentioned.

【0018】前記化合物(a’)は、炭素−炭素二重結
合を分子中に2個以上有する環状脂肪族炭化水素(a−
1’)とヒドロキシル芳香族化合物(a−2)とを酸触
媒の存在下で付加重合して得られる。
The compound (a ′) is a cyclic aliphatic hydrocarbon having two or more carbon-carbon double bonds in the molecule (a-
It is obtained by addition polymerization of 1 ′) and a hydroxyl aromatic compound (a-2) in the presence of an acid catalyst.

【0019】環状脂肪族炭化水素(a−1’)として
は、ブタジエン、イソプレン、ピペリレンなどの鎖状共
役ジエン化合物;シクロペンタジエン、メチルシクロペ
ンタジエンなどの環状共役ジエン化合物およびこれらの
混合物からなる群より選ばれた化合物のディールス・ア
ルダー反応生成物、具体的には、4−ビニルシクロヘキ
セン、5−ビニルシクロヘキセン、4−イソプロペニル
−2−メチルシクロヘキセン、5−イソプロペニル−2
−メチルシクロヘキセン、6−メチル−4−ビニルシク
ロヘキセン、6−メチル−5−ビニルシクロヘキセン、
6−メチル−4−(1−プロペニル)シクロヘキセン、
6−メチル−5−(1−プロペニル)シクロヘキセン、
5−ビニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エ
ン、6−ビニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−
エン、3a,4,7,7a−テトラヒドロインデン、ジ
シクロペンタジエン、4−ビニル−トリシクロ[6,
2,1,02,7]ウンデカ−9−エン、5,5´−シク
ロヘキセン−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エ
ン、4−ビニル−テトラシクロ[6,2,1,13,6
2,7]ドデカ−9−エン、テトラシクロ[9,2,
1,02,10,04,9]テトラデカ−5、12−ジエン、
テトラシクロ[9、2、1、02,10、03,8]テトラデ
カ−5,12−ジエン、テトラシクロ[6、5、1、0
2,7、09,13 ]テトラデカ−4,10−ジエン、ペンタ
シクロ[6,5,1,13,6,02,7,09,13]−4,1
0−ジエン等、或いは、リモネン、2,4−カラジエン
などの不飽和テルペン炭化水素、および、シクロペンタ
ジエン、メチルシクロペンタジエンなどの環状共役ジエ
ン化合物等が挙げられ、これらは単独もしくは2種類以
上を混合して用いる事もできる。
Examples of the cyclic aliphatic hydrocarbon (a-1 ′) include a chain conjugated diene compound such as butadiene, isoprene and piperylene; a cyclic conjugated diene compound such as cyclopentadiene and methylcyclopentadiene and a mixture thereof. Diels-Alder reaction products of selected compounds, specifically 4-vinylcyclohexene, 5-vinylcyclohexene, 4-isopropenyl-2-methylcyclohexene, 5-isopropenyl-2
-Methylcyclohexene, 6-methyl-4-vinylcyclohexene, 6-methyl-5-vinylcyclohexene,
6-methyl-4- (1-propenyl) cyclohexene,
6-methyl-5- (1-propenyl) cyclohexene,
5-vinyl-bicyclo [2,2,1] hept-2-ene, 6-vinyl-bicyclo [2,2,1] hept-2-ene
Ene, 3a, 4,7,7a-tetrahydroindene, dicyclopentadiene, 4-vinyl-tricyclo [6,
2,1,0 2,7] undec-9-ene, 5,5-cyclohexene - bicyclo [2,2,1] hept-2-ene, 4-vinyl - tetracyclo [6,2,1,1 3 , 6 ,
0 2,7 ] dodec-9-ene, tetracyclo [9,2,
1,0 2,10, 0 4,9] tetradeca-5,12-diene,
Tetracyclo [9,2,1,0 2, 10, 0 3,8] tetradeca-5,12-diene, tetracyclo [6,5,1,0
2,7, 0 9,13] tetradeca-4,10-diene, pentacyclo [6,5,1,1 3,6, 0 2,7, 0 9,13] 4,1
0-dienes or the like; or unsaturated terpene hydrocarbons such as limonene or 2,4-caradiene; and cyclic conjugated diene compounds such as cyclopentadiene or methylcyclopentadiene. These may be used alone or in combination of two or more. It can also be used.

【0020】前記環状脂肪族炭化水素基(a−1)は、
これらの化合物の分子骨格内の二重結合に基づく二価の
炭化水素基であるが、中でも、シクロヘキサン環あるい
はシクロヘキセン環を有する3a,4,7,7a−テト
ラヒドロインデン、ジシクロペンタジエン、リモネンの
分子骨格内の二重結合に基づく二価の炭化水素基が半田
耐熱性に優れる事から好ましい。
The cyclic aliphatic hydrocarbon group (a-1) is
These compounds are divalent hydrocarbon groups based on double bonds in the molecular skeleton of these compounds. Among them, molecules of 3a, 4,7,7a-tetrahydroindene, dicyclopentadiene, and limonene having a cyclohexane ring or a cyclohexene ring A divalent hydrocarbon group based on a double bond in the skeleton is preferable because of excellent solder heat resistance.

【0021】前記ヒドロキシル芳香族化合物(a−2)
としては、水酸基が少なくとも1つ以上置換されたベン
ゼン環、ナフタレン環あるいはアントラセン環を示した
ものであり、具体的には、フェノール、o−クレゾー
ル、m−クレゾール、p−クレゾール、α−ナフトー
ル、β−ナフトール、1−アントラセノール、2−アン
トラセノール、9−アントラセノール、ビスフェノール
A、ビスフェノールFなどが挙げられる。
The hydroxyl aromatic compound (a-2)
Represents a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring in which at least one hydroxyl group is substituted, and specifically, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, α-naphthol, β-naphthol, 1-anthracenol, 2-anthracenol, 9-anthracenol, bisphenol A, bisphenol F and the like.

【0022】上記ポリグリシジルエーテル(a)は、環
状脂肪族炭化水素(a−1’)とヒドロキシル芳香族化
合物(a−2)とを酸触媒の存在下で付加重合して得ら
れる化合物(a’)を、グリシジルオキシ化することに
より得られるが、その方法は特に限定されず、化合物
(a’)に、エピクロルヒドリンあるいはエピブロモヒ
ドリン等のエピハロヒドリンをアルカリ存在下に反応さ
せる方法があげられる。
The polyglycidyl ether (a) is a compound (a) obtained by addition polymerization of a cyclic aliphatic hydrocarbon (a-1 ') and a hydroxyl aromatic compound (a-2) in the presence of an acid catalyst. ') Can be obtained by glycidyloxylation, but the method is not particularly limited, and examples include a method of reacting compound (a') with epihalohydrin such as epichlorohydrin or epibromohydrin in the presence of an alkali.

【0023】また、カルボキシル基含有ゴム状重合体
(b)としては、ポリブタジエン−アクリル酸共重合体
等のエチレン性不飽和一塩基酸と共役ジエン系ビニルモ
ノマーとの共重合体;ポリブタジエン−アクリロニトリ
ル−アクリル酸共重合体等のエチレン性不飽和一塩基酸
と共役ジエン系ビニルモノマーとその他のビニルモノマ
ーとの共重合体;下記構造式1又は構造式2に代表され
るマレイン化ポリブタジエン等のカルボン酸懸垂型共役
ジエン系ビニル重合体;或いは、直鎖状重合体の分子両
末端にカルボキシル基を有するゴム状重合体が挙げられ
る。
Examples of the carboxyl group-containing rubbery polymer (b) include: a copolymer of an ethylenically unsaturated monobasic acid such as a polybutadiene-acrylic acid copolymer and a conjugated diene vinyl monomer; polybutadiene-acrylonitrile- Copolymer of ethylenically unsaturated monobasic acid such as acrylic acid copolymer, conjugated diene-based vinyl monomer and other vinyl monomer; carboxylic acid such as maleated polybutadiene represented by the following structural formula 1 or 2 A pendant conjugated diene-based vinyl polymer; or a rubber-like polymer having a carboxyl group at both molecular terminals of a linear polymer.

【0024】構造式1Structural formula 1

【0025】[0025]

【化1】 Embedded image

【0026】(ここで、nおよびmは平均の繰り返し単
位数を示し、nは10〜100の整数、mは1〜5の整
数をそれぞれ示す。)
(Here, n and m represent the average number of repeating units, n represents an integer of 10 to 100, and m represents an integer of 1 to 5, respectively.)

【0027】構造式2Structural formula 2

【0028】[0028]

【化2】 Embedded image

【0029】(ここで、n、mおよびlは平均の繰り返
し単位数を示し、nは10〜80の整数、m50〜9
0、lは1〜5の整数をそれぞれ示す。) ここで、後者の直鎖状重合体の分子両末端にカルボキシ
ル基を有するゴム状重合体としては、例えば、下記構造
式3又は構造式4に代表されるブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体の分子両末端にカルボキシル基を有する
重合体等の共役ジエン系ビニルモノマーと他のビニルモ
ノマーとの共重合体であって分子両末端にカルボキシル
基を有する重合体等が挙げられる。
(Where, n, m and l indicate the average number of repeating units, n is an integer of 10 to 80, m50 to 9
0 and 1 each represent an integer of 1 to 5. Here, examples of the rubber-like polymer having carboxyl groups at both molecular terminals of the latter linear polymer include, for example, a butadiene-acrylonitrile copolymer represented by the following structural formula 3 or structural formula 4. Copolymers of a conjugated diene-based vinyl monomer such as a polymer having a carboxyl group at a terminal and another vinyl monomer, and a polymer having a carboxyl group at both molecular terminals are exemplified.

【0030】構造式3Structural formula 3

【0031】[0031]

【化3】 Embedded image

【0032】(ここで、nおよびmは平均の繰り返し単
位数を示し、1以上の整数である。)
(Here, n and m indicate the average number of repeating units, and are integers of 1 or more.)

【0033】構造式4Structural formula 4

【0034】[0034]

【化4】 Embedded image

【0035】(ここで、nおよびmは平均の繰り返し単
位数を示し、nは5〜50の整数、mは25〜90の整
数をそれぞれ表す。)
(Here, n and m represent the average number of repeating units, n represents an integer of 5 to 50, and m represents an integer of 25 to 90.)

【0036】また、上記カルボキシル基含有ゴム状重合
体(b)に用いられる共役ジエン系ビニルモノマーとし
ては既述の例示重合体で用いられるブタジエンのみでな
く、イソプレン、クロロプレンなどを用いてもよい。ま
た、共役ジエン系ビニルモノマーと共重合することがで
きるエチレン性不飽和一塩基酸としては、上記例示重合
体として挙げたものに限定されず、例えば(メタ)アク
リル酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマー、モ
ノメチルマレート、モノプロピルマレート、モノブチル
マレート、モノ(2−エチルヘキシル)マレート、ソル
ビン酸などが挙げられ、なかでも(メタ)アクリル酸が
好ましい。また、その他のビニルモノマーとしては、上
記例示化合物に限定されるものでなく、アクリロニトリ
ル、スチレン、ビニルトルエン等を用いることができ
る。
As the conjugated diene-based vinyl monomer used in the carboxyl group-containing rubbery polymer (b), not only butadiene used in the above-described exemplified polymers but also isoprene and chloroprene may be used. In addition, the ethylenically unsaturated monobasic acid that can be copolymerized with the conjugated diene-based vinyl monomer is not limited to those exemplified above as the polymer, and includes, for example, (meth) acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, Acrylic acid dimer, monomethylmalate, monopropylmalate, monobutylmalate, mono (2-ethylhexyl) malate, sorbic acid and the like can be mentioned, among which (meth) acrylic acid is preferable. Further, the other vinyl monomer is not limited to the above exemplified compounds, and acrylonitrile, styrene, vinyl toluene and the like can be used.

【0037】また、得られるカルボキシル基含有ゴム状
重合体(b)中のカルボキシル基の数は特に限定される
ものではないが、1分子カルボキシル基の数は分子中に
1〜5個、より好ましくは1.5〜3個の範囲にある事
が望ましい。
The number of carboxyl groups in the obtained carboxyl group-containing rubbery polymer (b) is not particularly limited, but the number of carboxyl groups per molecule is preferably 1 to 5, more preferably 1 molecule. Is preferably in the range of 1.5 to 3.

【0038】また、ゴム変性エポキシビニルエステル樹
脂の製造において、エポキシ樹脂との反応に使用される
エチレン性不飽和一塩基酸としては、例えば(メタ)ア
クリル酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマー、
モノメチルマレート、モノプロピルマレート、モノブチ
ルマレート、モノ(2−エチルヘキシル)マレート、ソ
ルビン酸などが挙げられ、なかでも(メタ)アクリル酸
が好ましい。
In the production of the rubber-modified epoxy vinyl ester resin, examples of the ethylenically unsaturated monobasic acid used for the reaction with the epoxy resin include (meth) acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid and acrylic acid dimer. ,
Monomethyl malate, monopropyl malate, monobutyl malate, mono (2-ethylhexyl) malate, sorbic acid and the like are mentioned, and among them, (meth) acrylic acid is preferable.

【0039】以上詳述した(a)〜(c)の各成分を反
応して得られるゴム変性エポキシビニルエステル樹脂と
しては、特にその構造が特定されるものではないが、種
々の構造のものが混在した状態で使用し得るものである
が、例えば、複数のカルボキシル基を有するカルボキシ
ル基含有ゴム状重合体(b)のカルボキシル基に、複数
のエポキシ基を持つポリグリシジルエーテル(a)が反
応したエポキシ樹脂のゴム状重合体エステルを形成し、
この反応物中の残存するエポキシ基にエチレン性不飽和
一塩基酸が反応した構造のものが挙げられる。更に具体
的には、例えば、カルボキシル基含有ゴム状重合体
(b)として、直鎖状重合体の分子両末端にカルボキシ
ル基を有するゴム状重合体を用い、かつ、ポリグリシジ
ルエーテル(a)としてビスフェノール型エポキシ樹脂
を用いる場合には、当該ゴム状重合体の両末端カルボキ
シル基にそれぞれビスフェノール型エポキシ樹脂が反応
してエステル構造を形成し、かつ、それぞれのビスフェ
ノール型エポキシ樹脂部分の中の未反応のまま存在する
エポキシ基に(メタ)アクリル酸が反応した構造のもの
が挙げられる。
The structure of the rubber-modified epoxy vinyl ester resin obtained by reacting each of the components (a) to (c) described above is not particularly limited, but those having various structures can be used. Although it can be used in a mixed state, for example, the polyglycidyl ether (a) having a plurality of epoxy groups has reacted with the carboxyl group of the carboxyl group-containing rubbery polymer (b) having a plurality of carboxyl groups. Forming a rubbery polymer ester of epoxy resin,
Examples include those having a structure in which an ethylenically unsaturated monobasic acid has reacted with the remaining epoxy group in this reaction product. More specifically, for example, as the carboxyl group-containing rubbery polymer (b), a rubbery polymer having carboxyl groups at both molecular terminals of a linear polymer is used, and as the polyglycidyl ether (a) When a bisphenol-type epoxy resin is used, the bisphenol-type epoxy resin reacts with the carboxyl groups at both terminals of the rubbery polymer to form an ester structure, and unreacted in each bisphenol-type epoxy resin portion. Examples include those having a structure in which (meth) acrylic acid has reacted with an epoxy group that is present as it is.

【0040】次に、ゴム変性エポキシビニルエステル樹
脂の水酸基に反応させて酸ペンダント構造部位を形成す
る多塩基酸無水物としては、特に限定されるものではな
いが、例えば無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタ
コン酸、ドデシル無水コハク酸、テトラヒドロ無水フタ
ル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3−メチルテトラヒ
ドロ無水フタル酸、4−メチルテトラヒドロ無水フタル
酸、3ーメチルヘキサヒドロ無水フタル酸、4−メチル
ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,4−ジメチルテトラヒ
ドロ無水フタル酸、4−(4−メチル−3−ペンテニ
ル)テトラヒドロ無水フタル酸、3−ブテニル−5,6
−ジメチルテトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンド
メチレン−テトラヒドロ無水フタル酸、7−メチル−
3,6−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、無
水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、テトラブロモ
無水フタル酸、無水クロレンド酸、無水トリメリット
酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸無水物、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物
などが挙げられるが、なかでも電食性に優れる点からテ
トラヒドロ無水フタル酸およびヘキサヒドロ無水フタル
酸が好ましい。
The polybasic acid anhydride which forms an acid pendant structure by reacting with a hydroxyl group of the rubber-modified epoxy vinyl ester resin is not particularly limited. For example, maleic anhydride, succinic anhydride, etc. , Itaconic anhydride, dodecyl succinic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, 4-methyltetrahydrophthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydro Phthalic anhydride, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 4- (4-methyl-3-pentenyl) tetrahydrophthalic anhydride, 3-butenyl-5,6
-Dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endomethylene-tetrahydrophthalic anhydride, 7-methyl-
3,6-endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, chlorendic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride, methylcyclohexene dicarboxylic acid Examples thereof include acid anhydrides, and among them, tetrahydrophthalic anhydride and hexahydrophthalic anhydride are preferred from the viewpoint of excellent electrolytic corrosion.

【0041】次に、本発明で用いる希釈剤(B)は、前
記酸ペンダント型ゴム変性エポキシビニルエステル樹脂
(A)に溶解し、静電塗装法やロールコーター法などの
各種塗装方法に適した粘度となるようにして塗布し、つ
いで乾燥を行い光重合性皮膜を形成するための必須の構
成要件であり、通常、有機溶剤および光重合性ビニルモ
ノマーが挙げられるが、その使用に際してはそれぞれ単
独で使用してもよいし、また、両者を併用してもよい。
Next, the diluent (B) used in the present invention is dissolved in the acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A) and is suitable for various coating methods such as an electrostatic coating method and a roll coater method. It is an essential component for forming a photopolymerizable film by applying the composition so as to have a viscosity, followed by drying, and usually includes an organic solvent and a photopolymerizable vinyl monomer. Or both may be used together.

【0042】ここで用いる有機溶剤としては、例えばト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;メタノール、
イソプロピルアルコールなどのアルコール類;酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどのエステル類;1,4−ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなどのエーテル類;メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;セ
ロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートな
どのグリコール誘導体;シクロヘキサノン、シクロヘキ
サノールなどの脂環式炭化水素および石油エーテル、石
油ナフサなどの石油系溶剤などが挙げられる。これらの
なかでも作業性に優れる点からグリコール誘導体と石油
系溶剤を併用することが好ましい。
Examples of the organic solvent used herein include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; methanol,
Alcohols such as isopropyl alcohol; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ethers such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; glycol derivatives such as cellosolve, butyl cellosolve and cellosolve acetate; Examples include alicyclic hydrocarbons such as cyclohexanone and cyclohexanol, and petroleum solvents such as petroleum ether and petroleum naphtha. Among these, it is preferable to use a glycol derivative and a petroleum-based solvent in combination from the viewpoint of excellent workability.

【0043】また、光重合性ビニルモノマーとしては、
例えば2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウ
リル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)ア
クリレート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリ
レート、イソホ゛ロニル(メタ)アクリレート、フェニ
ル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレー
ト、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレ
ートなどの(メタ)アクリル酸のエステル類;ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート類;メトキシエチル(メタ)アクリレート、
エトキシエチル(メタ)アクリレートなどのアルコキシ
アルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート類;エ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレートなどのアルキレンポリオールポリ
(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリエチレングリコール200ジ(メ
タ)アクリレート、ポリエトキシ化トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、ポリプロポキシ化トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ポリエ
トキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ポ
リプロポキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエトキシ化水添ビスフェノールAジ(メタ)ア
クリレート、ポリプロポキシ化水添ビスフェノールAジ
(メタ)アクリレート、ポリエトキシ化ジシクロペンタ
ニエルジ(メタ)アクリレート、ポリプロポキシ化ジシ
クロペンタニエルジ(メタ)アクリレートなどのポリオ
キシアルキレングリコールポリ(メタ)アクリレート
類;ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエス
テルジ(メタ)アクリレートなどのエステルタイプのポ
リ(メタ)アクリレート類;トリス〔(メタ)アクリロ
キシエチル〕イソシアヌレートなどのイソシアヌレート
型ポリ(メタ)アクリレート類;N,N−ジメチルアミ
ノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミ
ノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルア
ミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエ
チル(メタ)アクリレートなどのアミノアルキル(メ
タ)アクリレート類;(メタ)アクリルアミド、N−メ
チル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリ
ルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、
(メタ)アクリロイルモルホリンなどの(メタ)アクリ
ルアミド類;ビニルピロリドンなどが挙げられる。これ
らのなかでも層間電気絶縁塗膜の耐熱性に優れる点から
3官能以上のアクリレートが好ましい。
Further, as the photopolymerizable vinyl monomer,
For example, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isophoronyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol Esters of (meth) acrylic acid such as (meth) acrylate; hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate; methoxyethyl (meth) ) Acrylate,
Alkoxyalkylene glycol mono (meth) acrylates such as ethoxyethyl (meth) acrylate; ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di Alkylene polyol poly (meth) acrylates such as (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol Di (meta)
Acrylate, polyethylene glycol 200 di (meth) acrylate, polyethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, polypropoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, polyethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, polypropoxylated bisphenol A di (Meth) acrylate, polyethoxylated hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, polypropoxylated hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, polyethoxylated dicyclopentanieldi (meth) acrylate, polypropoxylated dicyclopentanieldi Polyoxyalkylene glycol poly (meth) acrylates such as (meth) acrylate; neopentyl glycol hydroxypivalate di (meth) acrylate Ester-type poly (meth) acrylates such as nitrate; isocyanurate-type poly (meth) acrylates such as tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate; N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; N Aminoalkyl (meth) acrylates such as N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate and t-butylaminoethyl (meth) acrylate; (meth) acrylamide, N-methyl ( (Meth) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide,
(Meth) acrylamides such as (meth) acryloylmorpholine; and vinylpyrrolidone. Among them, acrylates having three or more functional groups are preferable from the viewpoint of excellent heat resistance of the interlayer electric insulating coating film.

【0044】なお、上記希釈剤(B)の使用量は、特に
制限されるものではないが、前記酸ペンダント型エポキ
シビニルエステル樹脂100重量部に対して20〜30
0重量部、なかでも30〜250重量部となる割合が好
ましい。
The amount of the diluent (B) used is not particularly limited, but may be 20 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the acid pendant type epoxy vinyl ester resin.
The proportion is preferably 0 parts by weight, especially 30 to 250 parts by weight.

【0045】また、前記光重合性ビニルモノマーは光重
合性を促進したり、水溶性の光重合性ビニルモノマーは
アルカリ水溶液への溶解性を助ける役目もするが、前記
光重合性ビニルモノマーを少なくした方が、乾燥後タッ
クのない光重合性皮膜を形成することができ、該光重合
性皮膜とレジストパターンフィルムとを密着でき、レジ
ストパターンの解像度を向上させることができ、さらに
耐薬品性や電気特性なども向上するため、その使用量は
前記ゴム変性エポキシビニルエステル樹脂100重量部
に対して50重量部以下、なかでも2〜20重量部であ
ることが好ましい。
The photopolymerizable vinyl monomer promotes the photopolymerizability, and the water-soluble photopolymerizable vinyl monomer also has a function of assisting the solubility in an aqueous alkali solution. After drying, a tack-free photopolymerizable film can be formed after drying, the photopolymerizable film can be in close contact with the resist pattern film, the resolution of the resist pattern can be improved, and chemical resistance and In order to improve the electrical properties and the like, the amount of use is preferably 50 parts by weight or less, more preferably 2 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the rubber-modified epoxy vinyl ester resin.

【0046】次に、本発明で用いる光重合開始剤(C)
としては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル
メチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテ
ル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェ
ニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オン、ジエトキシアセトフェ
ノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−〔4
−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノープロ
パン−1−オンなどのアセトフェノン類;メチルアント
ラキノン、2−エチルアントラキノン、2−タシャリー
ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2
−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類;チオ
キサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−ク
ロロチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサント
ン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピ
ルチオキサントンなどのチオキサントン類;アセトフェ
ンノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールな
どのケタ−ル類;ベンゾフェノン、4,4−ビスメチル
アミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類およびア
ゾ化合物などが挙げられるが、なかでもアセトフェノン
類が好ましい。
Next, the photopolymerization initiator (C) used in the present invention
Examples thereof include benzoin and its alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether and benzyl methyl ketal; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy -2-methyl-1
-Phenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1- [4
Acetophenones such as-(methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one; methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone,
Anthraquinones such as amylanthraquinone; thioxanthones such as thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; acetophenone dimethyl ketal Benzophenones such as benzophenone and 4,4-bismethylaminobenzophenone; and azo compounds. Among them, acetophenones are preferable.

【0047】これらは単独または2種以上の混合物とし
て使用でき、さらにはトリエタノールアミン、メチルジ
エタノールアミンなどの第3級アミン;2−ジメチルア
ミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ルなどの安息香酸誘導体などの光開始助剤などと組み合
わせて使用することができる。その使用量は、前記酸ペ
ンダント型エポキシビニルエステル樹脂と希釈剤(B)
の総重量100重量部に対して0.5〜20重量部、好
ましくは2〜15重量部となる割合が好ましい。
These can be used alone or as a mixture of two or more kinds. Further, tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine; benzoic acids such as 2-dimethylaminoethylbenzoic acid and ethyl 4-dimethylaminobenzoate It can be used in combination with a photoinitiating auxiliary such as a derivative. The amount of the acid pendant epoxy vinyl ester resin and the diluent (B)
The proportion is preferably 0.5 to 20 parts by weight, more preferably 2 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total weight.

【0048】本発明の光硬化性樹脂組成物は、上記
(A)〜(C)を必須の成分とするものであるが、本発
明においては、これらの各成分に更に熱硬化成分(D)
を併用することにより、導体回路間の密着強度、可撓性
に優れた多層プリント配線板用層間電気絶縁材料を提供
することができる。
The photocurable resin composition of the present invention contains the above components (A) to (C) as essential components. In the present invention, these components are further added to a thermosetting component (D).
By using together, it is possible to provide an interlayer electric insulating material for a multilayer printed wiring board excellent in adhesion strength between conductor circuits and flexibility.

【0049】ここで用いる熱硬化成分(D)としては、
酸ペンダント型ゴム変性エポキシビニルエステル樹脂
(A)と熱硬化する官能基を分子中に有するものであれ
ばよく、特に特定されるものではないが、例えばエポキ
シ樹脂、メラミン化合物、尿素化合物、オキサゾリン化
合物、フェノール化合物などを挙げる事が出来る。エポ
キシ樹脂としては、具体的には、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック
型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、ビキレノール型
エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂などのグリ
シジルエーテル類;3,4−エポキシ−6−メチルシク
ロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6−メチルシク
ロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、1−エポキシエチル−3,4−エポキシ
シクロヘキサンなどの脂環式エポキシ樹脂;フタル酸ジ
グリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジ
ルエステル、ダイマー酸グリシジルエステルなどのグリ
シジルエステル類;テトラグリシジルジアミノジフェニ
ルメタン、トリグリシジルP−アミノフェノール、N,
N−ジグリシジルアニリンなどのグリシジルアミン類;
1,3−ジグリシジル−5,5−ジメチルヒダントイ
ン、トリグリシジルイソシアヌレートなどの複素環式エ
ポキシ樹脂などが挙げられる。なかでも、融点が50℃
以上のエポキシ樹脂が乾燥後タックのない光重合性皮膜
を形成することができ好ましい。
The thermosetting component (D) used here includes:
As long as it has a functional group capable of thermosetting with the acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A) in the molecule, it is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy resin, a melamine compound, a urea compound and an oxazoline compound. And phenol compounds. As the epoxy resin, specifically, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, brominated epoxy resin, biquilenol type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, etc. Glycidyl ethers; 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 1-epoxyethyl Alicyclic epoxy resins such as -3,4-epoxycyclohexane; glycidyl esters such as diglycidyl phthalate, diglycidyl tetrahydrophthalate and glycidyl dimer S; tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, triglycidyl P- aminophenol, N,
Glycidylamines such as N-diglycidylaniline;
Examples thereof include heterocyclic epoxy resins such as 1,3-diglycidyl-5,5-dimethylhydantoin and triglycidyl isocyanurate. Above all, melting point is 50 ℃
The above epoxy resin is preferable because it can form a tack-free photopolymerizable film after drying.

【0050】メラミン化合物としては、メラミン、メラ
ミンとホルマリンとの重縮合物であるメラミン樹脂が挙
げられる。尿素化合物としては、尿素、尿素とホルマリ
ンの重縮合物である尿素樹脂などが挙げられる。
Examples of the melamine compound include melamine and a melamine resin which is a polycondensate of melamine and formalin. Examples of the urea compound include urea and urea resins which are polycondensates of urea and formalin.

【0051】オキサゾリン化合物としては、2−オキサ
ゾリン、2ーメチル−2−オキサゾリン、2ーフェニル
ー2オキサゾリン、2、5ージメチルー2オキサゾリ
ン、5ーメチルー2ーフェニルー2オキサゾリン、2、
4ージフェニルオキサゾリン等が挙げれる。
Examples of the oxazoline compound include 2-oxazoline, 2-methyl-2-oxazoline, 2-phenyl-2-oxazoline, 2,5-dimethyl-2-oxazoline, 5-methyl-2-phenyl-2-oxazoline, 2,
4-diphenyloxazoline and the like.

【0052】フェノール化合物としては、例えば、フェ
ノール、クレゾール、キレノール、カテコール、レゾル
シン、ハイドロキノン、ピロガロール、レゾールなどが
挙げられる。
Examples of the phenol compound include phenol, cresol, chilenol, catechol, resorcin, hydroquinone, pyrogallol, resol and the like.

【0053】これらの熱硬化成分(D)の中でも特に酸
ペンダント型ゴム変性エポキシビニルエステル樹脂
(A)中のカルボキシル基との反応性に優れ、かつ、銅
メッキとの密着性も良好である点からエポキシ樹脂が好
ましい。
Among these thermosetting components (D), particularly, they have excellent reactivity with carboxyl groups in the acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A) and good adhesion with copper plating. And an epoxy resin is preferred.

【0054】上記熱硬化成分(D)の使用量の好適な範
囲は、通常、前記酸ペンダント型ゴム変性エポキシビニ
ルエステル樹脂(A)中のカルボキシル基1個当たり、
該熱硬化成分(D)の官能基基が0.2〜3.0当量と
なる割合である。なかでもプリント配線板にした際の半
田耐熱性や電気特性に優れる点から1.0〜2.0当量
となる割合が好ましい。
The preferred range of the amount of the thermosetting component (D) used is usually per carboxyl group in the acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A).
The ratio is such that the functional group of the thermosetting component (D) is 0.2 to 3.0 equivalents. Above all, a ratio of 1.0 to 2.0 equivalents is preferred from the viewpoint of excellent solder heat resistance and electrical characteristics when formed into a printed wiring board.

【0055】また、上記熱硬化成分(D)としてエポキ
シ樹脂を使用する場合は、前記酸ペンダント型ゴム変性
エポキシビニルエステル樹脂(A)中のカルボキシル基
との反応を促進するためにエポキシ樹脂の硬化促進剤を
用いることが好ましい。エポキシ樹脂の硬化促進剤とし
ては具体的には、2ーメチルイミダゾール、2ーエチル
ー3メチルイミダゾール、2ーウンデシルイミダゾー
ル、2ーフェニルイミダゾール、1ーシアノエチルー2
エチルイミダゾール、1ーシアノエチルー2ウンデシル
イミダゾール、等のイミダゾール化合物;メラミン、グ
アナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、エチ
ルジアミノトリアジン、2、4ージアミノトリアジン、
2、4ージアミノー6ートリルトリアジン、2、4ージ
アミノー6ーキシリルトリアジン等のトリアジン誘導
体;トリメチルアミン、トリエタノールアミン、N,N
ージメチルオクチルアミン、ピリジン、m−アミノフェ
ノール等の三級アミン類;ポリフェノール類などが挙げ
られる。これらの硬化促進剤は単独または併用して使用
する事が出来る。
When an epoxy resin is used as the thermosetting component (D), the epoxy resin is cured in order to accelerate the reaction with the carboxyl group in the acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A). Preferably, an accelerator is used. Specific examples of the curing accelerator for the epoxy resin include 2-methylimidazole, 2-ethyl-3-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-phenylimidazole, and 1-cyanoethyl-2.
Imidazole compounds such as ethylimidazole, 1-cyanoethyl-2undecylimidazole, etc .; melamine, guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, ethyldiaminotriazine, 2,4 diaminotriazine,
Triazine derivatives such as 2,4 diamino-6-tolyl triazine, 2,4 diamino-6-xylyl triazine; trimethylamine, triethanolamine, N, N
-Tertiary amines such as dimethyloctylamine, pyridine and m-aminophenol; polyphenols and the like. These curing accelerators can be used alone or in combination.

【0056】さらに、本発明では前記した酸ペンダント
型ゴム変性エポキシビニルエステル樹脂(A)、希釈剤
(B)、光重合開始剤(C)、および、熱硬化成分
(D)に、さらに必要に応じて各種の添加剤、例えばタ
ルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウ
ム、チタン酸バリウム、水酸化アルミニウム、酸化アル
ミニウム、シリカ、クレーなどの充填剤;アエロジルな
どのチキソトロピー付与剤;フタロシアニンブルー、フ
タロシアニングリーン、酸化チタンなどの着色剤;シリ
コーン、フッ素系のレベリング剤や消泡剤;ハイドロキ
ノン、ハイドロキノンモノメチルエーテルなどの重合禁
止剤などを層間電気絶縁材料の諸性能を高める目的で添
加することが出来る。
Further, in the present invention, the acid pendant rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A), diluent (B), photopolymerization initiator (C), and thermosetting component (D) are further required. Various additives, for example, fillers such as talc, barium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium titanate, aluminum hydroxide, aluminum oxide, silica and clay; thixotropy-imparting agents such as Aerosil; phthalocyanine blue, phthalocyanine green And a coloring agent such as titanium oxide; a silicone, a fluorine-based leveling agent or a defoaming agent; a polymerization inhibitor such as hydroquinone or hydroquinone monomethyl ether, and the like can be added for the purpose of enhancing various properties of the interlayer insulating material.

【0057】この様にして得られる本発明の多層プリン
ト配線板用層間電気絶縁材料は、プリント配線板上にス
クリーン印刷法や、静電塗装法、ロールコーター法、カ
ーテンコーター法などにより塗布し、乾燥して得た光重
合性皮膜に紫外線などの活性エネルギー線を照射後、希
アルカリ水溶液で未露光部分を除去することによりフォ
トビアホールパターンを形成、さらに熱によりポストキ
ュアーして層間電気絶縁層を形成し、次いで過マンガン
酸カリにより絶縁層の表面を粗化し、無電解銅メッキ、
電解銅メッキを施し、ついで、ドライフィルムをラミネ
ートし、露光、現像、エッチング、エッチングレジスト
を剥離し導体回路を形成し、これらの工程を順次繰り返
し積層していくことにより目的とする多層プリント配線
板とすることができる。
The thus obtained interlayer electric insulating material for a multilayer printed wiring board of the present invention is applied on a printed wiring board by a screen printing method, an electrostatic coating method, a roll coater method, a curtain coater method, or the like. After irradiating the dried photopolymerizable film with active energy rays such as ultraviolet rays, the unexposed portions are removed with a dilute aqueous alkali solution to form a photovia hole pattern, and further post-cured with heat to form an interlayer electric insulating layer. Formed, then roughen the surface of the insulating layer with potassium permanganate, electroless copper plating,
Applying electrolytic copper plating, laminating a dry film, exposing, developing, etching, and stripping the etching resist to form a conductor circuit, and repeating these steps in order to repeatedly laminate the desired multilayer printed wiring board It can be.

【0058】[0058]

【実施例】以下に、本発明を実施例および比較例によっ
て説明するが、これはあくまで一態様でしかなく、本発
明はこれらに限定されるものではない。また例中の部お
よび%はすべて重量基準である。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples, but this is only one mode and the present invention is not limited to these. All parts and percentages in the examples are on a weight basis.

【0059】実施例1 エポキシ当量が260、軟化点が62℃、平均官能基数
が2.3個のジシクロペンタジエン−フェノール重付加
型エポキシ樹脂「エピクロンHP−7200」〔大日本
インキ化学工業(株)製〕260部と分子量が350
0、結合アクリロニトリル27重量%、カルボキシル基
1.9個/分子のHYCAR CTBN1300X13
〔B. F. Goodrich Chemical社
製〕184部、アクリル酸65部(エポキシ基の数:総
カルボキシル基の数=1:1)とを反応させて得られた
ゴム変性エポキシビニルエステル樹脂509部と、テト
ラヒドロ無水フタル酸137部(水酸基の数:酸無水物
基の数=1:0.9)とを、ソルベッソ150の277
部中で反応させ、ゴム成分の含有量が28.5%、酸価
が78mgKOH/gの樹脂分を70%含有する樹脂溶
液(A−1)を得た。
Example 1 Dicyclopentadiene-phenol polyaddition type epoxy resin "Epiclon HP-7200" having an epoxy equivalent of 260, a softening point of 62 ° C. and an average number of functional groups of 2.3 [Dai Nippon Ink Chemical Industry Co., Ltd. 260 parts and a molecular weight of 350
0, HYCAR CTBN1300X13 having 27% by weight of bound acrylonitrile and 1.9 carboxyl groups / molecule
[B. F. Goodrich Chemical Co., Ltd.], 509 parts of a rubber-modified epoxy vinyl ester resin obtained by reacting 184 parts with 65 parts of acrylic acid (the number of epoxy groups: the total number of carboxyl groups = 1: 1), and tetrahydrophthalic anhydride 137 parts (the number of hydroxyl groups: the number of acid anhydride groups = 1: 0.9) was added to 277 of Solvesso 150
The resin solution (A-1) containing 70% of a resin component having a rubber component content of 28.5% and an acid value of 78 mgKOH / g was obtained.

【0060】この樹脂溶液(A−1)と共に、光重合開
始剤、有機溶剤および充填材とを下記の通り配合し、3
本ロールを用いて混練して、主剤を調製した。次いで、
エポキシ樹脂と有機溶剤および充填材を下記配合に従っ
て配合し、3本ロールを用いて混練りして、硬化剤を調
整した。
A photopolymerization initiator, an organic solvent and a filler were blended together with the resin solution (A-1) as follows.
The main ingredient was prepared by kneading using this roll. Then
An epoxy resin, an organic solvent and a filler were blended according to the following formulation, and kneaded using a three-roll mill to prepare a curing agent.

【0061】(配合) 主剤 樹脂溶液(A−1) 50部 2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン 5部 ブチルセロソルブ 15部 硫酸バリウム 30部 主剤合計 100部(Blending) Main agent Resin solution (A-1) 50 parts 2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenone 5 parts Butyl cellosolve 15 parts Barium sulfate 30 parts Main agent total 100 parts

【0062】 硬化剤 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 「エピクロンN−673」(大日本インキ化学工業(株)製) 15部 ブチルセロソルブ 5部 硫酸バリウム 10部 硬化剤合計 30部Curing agent Cresol novolac epoxy resin “Epiclon N-673” (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 15 parts Butyl cellosolve 5 parts Barium sulfate 10 parts Curing agent total 30 parts

【0063】次に、この主剤と硬化剤を混合した後、こ
の混合物を予め回路の形成された銅スルホールプリント
配線板上に30〜40μmの厚みになるようにスクリー
ン印刷法により全面に塗布し、80℃で20分間乾燥さ
せた後、フォトビアホールのパターンフィルムを塗布面
に密着させ、オーク製作所製メタルハライドランプ露光
装置を用いて60秒間露光し、次に液温30℃の1%炭
酸ナトリウム水溶液を用いて60秒間現像を行い、その
後熱風乾燥器を用い150℃で30分間加熱処理してフ
ォトビアホールパターンが形成されたプリント配線板を
得た。
Next, after mixing the main agent and the curing agent, the mixture is applied to the entire surface of a copper through-hole printed wiring board on which a circuit is formed in advance by a screen printing method so as to have a thickness of 30 to 40 μm. After drying at 80 ° C. for 20 minutes, the pattern film of the photo via hole was brought into close contact with the coated surface, and exposed for 60 seconds using a metal halide lamp exposure apparatus manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. And then subjected to a heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes using a hot air drier to obtain a printed wiring board on which a photo via hole pattern was formed.

【0064】次いで、フォトビアホールの形成されたプ
リント配線板をアルカリ性過マンガン酸カリ溶液で60
〜80℃で層間電気絶縁塗膜を表面粗化し、残留するア
ルカリを中和し、水洗後乾燥した。
Next, the printed wiring board in which the photo via hole was formed was washed with an alkaline potassium permanganate solution for 60 hours.
The surface of the interlayer insulating film was roughened at -80 ° C to neutralize the remaining alkali, washed with water and dried.

【0065】次に、表面を粗化された層間電気絶縁塗膜
を有するプリント配線板をコンディショナー処理、マイ
クロエッチング、酸洗、触媒化、アクセレレータ処理を
順次行い、無電解銅メッキを行い、0.3μm厚の薄い
銅メッキを表面を粗化された層間電気絶縁塗膜上に施し
た。
Next, the printed wiring board having the roughened interlayer electric insulating coating film is sequentially subjected to conditioner treatment, microetching, pickling, catalysis, and accelerator treatment, and electroless copper plating. A thin copper plating having a thickness of 3 μm was applied on the roughened interlayer electric insulating coating film.

【0066】次いで、無電解銅メッキを施したプリント
配線板を銅メッキ浴の入ったメッキ槽に置き陰極とし、
プリント配線板の両側に陽極を置いて電流を流し、18
μm厚の電解銅メッキを施し、水洗、乾燥を行い片面に
銅メッキを施した供試体(1−a)を得た。
Next, the printed wiring board having been subjected to electroless copper plating is placed in a plating tank containing a copper plating bath to serve as a cathode.
An anode is placed on both sides of the printed wiring board to allow current to flow, and
A test piece (1-a) having a thickness of μm, subjected to electrolytic copper plating, washed with water and dried to obtain a copper plating on one surface was obtained.

【0067】得られた供試体(1−a)をバフロールで
研磨整面し、ドライフィルムを熱ロールで圧着し、次い
で、IPC−TM−650のIPC−B−25のパター
ンフィルムを密着させ、紫外線を露光し、次に液温30
℃の1%炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像を行い、さ
らに塩化第二鉄を主成分としたエッチング液をスプレー
で吹き付け、レジストパターン以外不要の銅を溶解し
た。ついで、水酸化ナトリウムの水溶液を用いドライフ
ィルムの剥離を行い、次に水洗、乾燥し、IPC−TM
−650のIPC−B−25のパターンを有する供試体
(1ーb)を得た。
The specimen (1-a) thus obtained was polished and polished with a buff roll, the dry film was pressed with a hot roll, and then a pattern film of IPC-B-25 of IPC-TM-650 was brought into close contact therewith. Exposure to UV light, then 30
Development was carried out using a 1% aqueous solution of sodium carbonate at ℃, and an etching solution containing ferric chloride as a main component was sprayed thereon to dissolve unnecessary copper other than the resist pattern. Next, the dry film is peeled off using an aqueous solution of sodium hydroxide, and then washed with water and dried, and then subjected to IPC-TM.
A specimen (1-b) having a pattern of IPC-B-25 of -650 was obtained.

【0068】また別に、この主剤と硬化剤を混合した
後、この混合物を予めJIS K 5400に準じて表
面を280番の研磨紙で研磨された厚み0.8mmの鋼
板に30〜40μmの厚みになるようにスクリーン印刷
法により全面に塗布し、80℃で20分間乾燥させた
後、オーク製作所製メタルハライドランプ露光装置を用
いて60秒間露光し、その後熱風乾燥器を用い150℃
で30分間加熱処理して可とう性試験用の供試体(1−
c)を得た。
Separately, after mixing the main agent and the curing agent, the mixture is preliminarily polished to a thickness of 30 to 40 μm on a 0.8 mm-thick steel plate whose surface has been polished with No. 280 abrasive paper in accordance with JIS K5400. After being applied to the entire surface by a screen printing method and dried at 80 ° C. for 20 minutes, exposure was performed for 60 seconds using a metal halide lamp exposure device manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., and then 150 ° C. using a hot air drier.
Heat-treated for 30 minutes in a test specimen for the flexibility test (1-
c) was obtained.

【0069】次いで、以下に示す評価試験方法に従い、
銅箔の引きはがし強度および、はんだ耐熱性、耐トリク
レン性は供試体(1−a)を用い、絶縁抵抗は供試体
(1−b)を用い、また可とう性試験は供試体(1−
c)を用いて測定を行い、その結果を第1表に示す。
Next, according to the following evaluation test method,
The test piece (1-a) was used for the copper foil peeling strength, solder heat resistance and trichlene resistance, the test piece (1-b) was used for the insulation resistance, and the test piece (1-b) was used for the flexibility test.
The measurement was performed using c), and the results are shown in Table 1.

【0070】実施例2 エポキシ当量が280、軟化点が83℃、平均官能基数
が3.0個のジシクロペンタジエン−フェノール重付加
型エポキシ樹脂「エピクロンHP−7200H」〔大日
本インキ化学工業(株)製〕280部と分子量が350
0、結合アクリロニトリルが27重量%、カルボキシル
基1.9個/分子のブタジエンとアクリル酸およびアク
リロニトリルの共重合体である二ポールDN−601
〔日本ゼオン社製〕の55部、アクリル酸70部(エポ
キシ基の数:総カルボキシル基の数=1:1)とを反応
させて得られるゴム変性エポキシビニルエステル樹脂4
05部と、ヘキサヒドロ無水フタル酸77部(水酸基の
数:酸無水物基の数=1:0.5)とを、ブチルカルビ
トールアセテート206部中で反応させて、ゴム成分の
含有量が11.4%、酸価が58mgKOH/gの樹脂
分を70%含有する樹脂溶液(A−2)を得た。次い
で、下記のごとき配合にした以外は実施例1と同様にし
て、本発明の組成物を調製した後、更に実施例1と同様
にして供試体(2−a、2−b、2−c)を得た。
Example 2 Dicyclopentadiene-phenol polyaddition type epoxy resin "Epiclon HP-7200H" having an epoxy equivalent of 280, a softening point of 83.degree. C. and an average functional group of 3.0 [Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd. )] And 280 parts with a molecular weight of 350
0, dipole DN-601 which is a copolymer of acrylic acid and acrylonitrile with butadiene having 27% by weight of bound acrylonitrile and 1.9 carboxyl groups / molecule.
Rubber-modified epoxy vinyl ester resin 4 obtained by reacting 55 parts of [Nippon Zeon Co., Ltd.] with 70 parts of acrylic acid (the number of epoxy groups: the total number of carboxyl groups = 1: 1).
05 parts and 77 parts of hexahydrophthalic anhydride (the number of hydroxyl groups: the number of acid anhydride groups = 1: 0.5) are reacted in 206 parts of butyl carbitol acetate to give a rubber component content of 11 parts. A resin solution (A-2) containing 0.4% and 70% of a resin having an acid value of 58 mgKOH / g was obtained. Then, after preparing the composition of the present invention in the same manner as in Example 1 except that the following blending was carried out, the specimens (2-a, 2-b, 2-c) were further processed in the same manner as in Example 1. ) Got.

【0071】(配合) 主剤 樹脂溶液(A−2) 50部 2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン 5部 ソルベッソ150 10部 ペンタエリスリトールトリアクリレート 5部 硫酸バリウム 30部 主剤合計 100部(Blending) Main agent Resin solution (A-2) 50 parts 2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenone 5 parts Solvesso 150 10 parts Pentaerythritol triacrylate 5 parts Barium sulfate 30 parts Main agent total 100 parts

【0072】 硬化剤 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 「エピクロンN−680」(大日本インキ化学工業(株)製) 15部 ブチルセロソルブ 5部 硫酸バリウム 10部 硬化剤合計 30部 次いで、以下に示す評価試験方法に従って測定した結果
を第1表に示す。
Curing agent Cresol novolac type epoxy resin “Epiclon N-680” (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 15 parts Butyl cellosolve 5 parts Barium sulfate 10 parts Curing agent total 30 parts Next, according to the following evaluation test method Table 1 shows the measurement results.

【0073】比較例1 「エピクロンN−680」215部とアクリル酸68部
(エポキシ基の数:総カルボキシル基の数=1:0.9
5)とを反応させて得られるエポキシビニルエステル樹
脂283部と、無水コハク酸70部(水酸基の数:酸無
水物基の数=1:0.7)とを、ブチルカルビトールア
セテート151部中で反応させて、酸価が111mgK
OH/gの樹脂分を70%含有する樹脂溶液(A′−
3)を得た。
Comparative Example 1 215 parts of “Epiclone N-680” and 68 parts of acrylic acid (number of epoxy groups: total number of carboxyl groups = 1: 0.9)
5) and 283 parts of an epoxy vinyl ester resin obtained by reacting with 70 parts of succinic anhydride (number of hydroxyl groups: number of acid anhydride groups = 1: 0.7) in 151 parts of butyl carbitol acetate. The acid value is 111mgK
Resin solution containing 70% OH / g resin (A'-
3) was obtained.

【0074】次いで、下記のごとき配合にした以外は実
施例1と同様にして、本発明の組成物を調製した後、更
に実施例1と同様にして供試体(1’−a、1’−b、
1’−c)を得た。
Then, a composition of the present invention was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following composition was adopted, and then the test pieces (1′-a, 1′- b,
1′-c) was obtained.

【0075】(配合) 主剤 樹脂溶液(A′−3) 50部 2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン 5部 ブチルセロソルブ 15部 硫酸バリウム 30部 主剤合計 100部(Blending) Main agent Resin solution (A'-3) 50 parts 2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenone 5 parts Butyl cellosolve 15 parts Barium sulfate 30 parts Main agent total 100 parts

【0076】 硬化剤 「エピクロンN−673」 15部 ブチルセロソルブ 5部 硫酸バリウム 10部 硬化剤合計 30部 次いで、以下に示す評価試験方法に従って測定した結果
を第1表に示す。
Curing Agent “Epiclon N-673” 15 parts Butyl cellosolve 5 parts Barium sulfate 10 parts Curing agent total 30 parts Next, the results measured in accordance with the following evaluation test method are shown in Table 1.

【0077】[評価試験方法] 引きはがし強さ:片面に銅メッキを施した供試体を用
い、JIS C 6481に準じて、はがした銅箔の先
端をつかみ具でつかみ、引っ張り方向が銅箔面に垂直に
なる方向に引きはがし、この時の最低値を銅箔の引きは
がし強さとする。
[Evaluation Test Method] Peeling strength: Using a test piece having copper plating on one side, the tip of the peeled copper foil is gripped with a gripper in accordance with JIS C 6481, and the pulling direction is copper foil. Peeling in the direction perpendicular to the surface, the lowest value at this time is the peeling strength of the copper foil.

【0078】はんだ耐熱性:電解銅メッキを施したプリ
ント配線板を用い、JIS C 6481に準じて、銅
箔のある面を下に向け、全面がはんだに浸かるように浮
かべ、260℃のはんだ浴に10秒間浮かせ、取り出し
た後、銅箔面及び層間絶縁層面のふくれまたは剥がれ、
クラックなどの異常が発生の有無を観察した。
Solder heat resistance: Using a printed wiring board plated with electrolytic copper, according to JIS C 6481, with the copper foil facing down and floating so that the entire surface is immersed in the solder, and soldering at 260 ° C. Float or peel off the copper foil surface and interlayer insulating layer surface after taking out for 10 seconds,
The occurrence of abnormalities such as cracks was observed.

【0079】 ○:外観変化なし。 ×:外観変化(絶縁層面の白化やクラック;銅箔面の剥
離やふくれ)有り。 耐トリクロールエチレン性:片面に銅メッキを施した供
試体をJIS C 6481に準じて試験片を作成し、
沸騰したトリクロールエチレン中に5分間浸漬してから
取り出し、層間絶縁層面及び銅箔面の外観の変化を調べ
る。
:: No change in appearance. ×: Appearance change (whitening or cracking of insulating layer surface; peeling or blistering of copper foil surface). Trichlorethylene resistance: A test piece prepared by subjecting a copper-plated specimen to one side in accordance with JIS C 6481,
After being immersed in boiling trichlorethylene for 5 minutes, it is taken out and examined for changes in the appearance of the interlayer insulating layer surface and the copper foil surface.

【0080】 ○:外観変化なし。 ×:外観変化(絶縁層面の白化やクラック;銅箔面の剥
離やふくれ)有り。 絶縁抵抗:IPC規格のIPC−TM−650のIPC
−B−25のパターンを有する供試体を用い、IPC−
SM−840B 3.8.2 クラス3に準じて供試体
を調製し、100Vの直流電圧を加えて1分間保った
後、その電圧印加状態で絶縁抵抗を測定した。
:: No change in appearance. ×: Appearance change (whitening or cracking of insulating layer surface; peeling or blistering of copper foil surface). Insulation resistance: IPC of IPC-TM-650 of IPC standard
Using a specimen having a pattern of -B-25, IPC-
Specimens were prepared according to SM-840B 3.8.2 Class 3 and a DC voltage of 100 V was applied and maintained for 1 minute, and then the insulation resistance was measured with the voltage applied.

【0081】可とう性試験:JIS K 5400に準
じてエリクセン試験機を用いて、試験片の裏面から鋼球
を押し出して、試験片を変形させたときに塗膜の割れお
よび剥がれを生じるまでの押し出し距離を測定した。
Flexibility test: A steel ball was extruded from the back surface of a test piece using an Erichsen tester according to JIS K 5400, and when the test piece was deformed, the coating film was cracked and peeled off. The extrusion distance was measured.

【0082】[0082]

【表1】 [Table 1]

【0083】[0083]

【発明の効果】本発明によれば、銅メッキとの密着性に
優れ、かつ、可撓性や半田耐熱性、耐溶剤性、電気特性
などの諸特性のバランスの良い、希アルカリ溶液で現像
可能な多層プリント配線板の層間電気絶縁塗膜の形成が
できる。
According to the present invention, development with a dilute alkali solution having excellent adhesion to copper plating and a good balance of various properties such as flexibility, solder heat resistance, solvent resistance, and electrical properties. It is possible to form an interlayer electric insulating coating film of a possible multilayer printed wiring board.

【0084】なお、本発明の樹脂組成物は上記した特性
により多層プリント配線板の層間絶縁材料のみならず、
プリント配線板のソルダーレジストインキ用などとして
使用できる。
The resin composition of the present invention is not only used for the interlayer insulating material of a multilayer printed wiring board,
It can be used as solder resist ink for printed wiring boards.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)環状脂肪族炭化水素基(a−1)
を結接基としてヒドロキシル芳香族化合物(a−2)と
結合した化合物のポリグリシジルエーテル(a)、カル
ボキシル基含有ゴム状重合体(b)およびエチレン性不
飽和一塩基酸(c)を反応させて得られるゴム変性エポ
キシビニルエステル樹脂の水酸基に多塩基酸無水物を反
応させた構造を有する酸ペンダント型ゴム変性エポキシ
ビニルエステル樹脂、(B)希釈剤、および、(C)光
重合開始剤、を必須成分とすることを特徴とする光硬化
性樹脂組成物。
(A) a cyclic aliphatic hydrocarbon group (a-1)
Is reacted with a polyglycidyl ether (a), a carboxyl group-containing rubbery polymer (b) and an ethylenically unsaturated monobasic acid (c) of a compound bonded to a hydroxyl aromatic compound (a-2) as a bonding group. An acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin having a structure in which a hydroxyl group of a rubber-modified epoxy vinyl ester resin obtained by the reaction is reacted with a polybasic anhydride, (B) a diluent, and (C) a photopolymerization initiator, A photocurable resin composition comprising:
【請求項2】 酸ペンダント型ゴム変性エポキシビニル
エステル樹脂(A)が、30〜140mgKOH/gの
酸価を有するものである請求項1記載の組成物。
2. The composition according to claim 1, wherein the acid pendant rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A) has an acid value of 30 to 140 mg KOH / g.
【請求項3】 酸ペンダント型ゴム変性エポキシビニル
エステル樹脂(A)が、ゴム変性エポキシビニルエステ
ル樹脂の水酸基1モルに対して、多塩基酸無水物中の無
水酸基が0.3〜1.0モルとなる割合で用いて反応さ
せた構造を有するものである請求項2記載の組成物。
3. An acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A) has an acid anhydride group in a polybasic acid anhydride of 0.3 to 1.0 per mole of hydroxyl group of the rubber-modified epoxy vinyl ester resin. 3. The composition according to claim 2, wherein the composition has a structure reacted by using it in a molar ratio.
【請求項4】 酸ペンダント型ゴム変性エポキシビニル
エステル樹脂(A)が、カルボキシル基含有ゴム状重合
体(b)に基づくゴム状重合体エステル構造部位を、該
エポキシビニルエステル樹脂(A)中、3〜60重量%
の割合で含有するものである請求項1、2又は3記載の
組成物。
4. The acid pendant type rubber-modified epoxy vinyl ester resin (A) has a rubber-like polymer ester structure based on the carboxyl group-containing rubber-like polymer (b) in the epoxy vinyl ester resin (A). 3-60% by weight
The composition according to claim 1, 2 or 3, wherein the composition is contained at a ratio of:
【請求項5】 ゴム変性エポキシビニルエステル樹脂
が、ポリグリシジルエーテル(a)のエポキシ基1当量
当たり、カルボキシル基含有ゴム状重合体(b)中に存
在するカルボキシル基とエチレン性不飽和一塩基酸
(c)のカルボキシル基との合計が0.8〜1.1当量
となる割合で反応したものである請求項1〜4の何れか
1つに記載の組成物。
5. A rubber-modified epoxy vinyl ester resin comprising a carboxyl group present in a carboxyl group-containing rubbery polymer (b) and an ethylenically unsaturated monobasic acid per one equivalent of an epoxy group of a polyglycidyl ether (a). The composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the composition is reacted at a ratio of a total of 0.8 to 1.1 equivalents of the carboxyl group (c).
【請求項6】 カルボキシル基含有ゴム状重合体(b)
が、該重合体1分子あたり、カルボキシル基を1〜5個
有するものである請求項1〜5の何れか1つに記載の組
成物。
6. A carboxyl group-containing rubbery polymer (b)
The composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the composition has from 1 to 5 carboxyl groups per molecule of the polymer.
【請求項7】 請求項1〜6の何れか1つに記載の組成
物に、更に、熱硬化成分(D)を含有することを特徴と
する多層プリント配線板用層間電気絶縁材料。
7. An interlayer electric insulating material for a multilayer printed wiring board, further comprising a thermosetting component (D) in the composition according to any one of claims 1 to 6.
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