JPH08325339A - Interlaminar insulating material for multi-layer printed circuit board - Google Patents

Interlaminar insulating material for multi-layer printed circuit board

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JPH08325339A
JPH08325339A JP13380095A JP13380095A JPH08325339A JP H08325339 A JPH08325339 A JP H08325339A JP 13380095 A JP13380095 A JP 13380095A JP 13380095 A JP13380095 A JP 13380095A JP H08325339 A JPH08325339 A JP H08325339A
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JP
Japan
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rubber
acid
ester resin
vinyl ester
printed wiring
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JP13380095A
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Japanese (ja)
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Seiichi Kitazawa
清一 北沢
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Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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  • Epoxy Resins (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain an interlaminar insulating coating film having excellent adhesivity to a circuit-constituting copper plating and exhibiting excellent flame- retarding effect in a multi-layer printed circuit board manufactured by build-up method. CONSTITUTION: This electrically insulating material contains (A) an acid-pendant rubber-modified brominated epoxyvinyl ester resin having a structure obtained by reacting tetrahydromaleic anhydride with the hydroxyl group of a rubber- modified brominated epoxyvinyl ester resin produced by reacting acrylic acid with a brominated bisphenol A epoxy resin and a polymer having carboxyl groups at both molecular terminals and consisting of a straight-chain copolymer of a conjugated diene vinyl monomer and acrylonitrile, (B) a diluent, (C) a photopolymerization initiator and (D) a cresol novolak epoxy resin.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、自己難燃性を有する多
層プリント配線板用層間電気絶縁材料に関する。さらに
詳しくは、特定の構造を有する酸ペンダント型ゴム変性
ハロゲン化エポキシビニルエステル樹脂、希釈剤、光重
合開始剤および熱硬化成分を必須成分とする、銅メッキ
との密着性に優れ、かつ、可撓性や半田耐熱性、耐溶剤
性、電気特性、難燃性などの諸特性のバランスの良い、
多層プリント配線板の製造に適した希アルカリ溶液で現
像可能な自己難燃性の多層プリント配線板用層間電気絶
縁材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board having self-flame retardancy. More specifically, an acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin having a specific structure, a diluent, a photopolymerization initiator, and a thermosetting component are essential components, and they have excellent adhesion to copper plating and Good balance of various characteristics such as flexibility, solder heat resistance, solvent resistance, electrical characteristics, flame retardancy, etc.
The present invention relates to a self-flame retardant interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board, which is suitable for manufacturing a multilayer printed wiring board and can be developed with a dilute alkaline solution.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近のプリント配線板の進歩はめざまし
く、特に表面実装技術の向上によりプリント配線板の高
集積化は加速度的に進んでおり、さらに高密度、高信頼
性が要求されている。特に多層プリント配線板において
は、1層当たりの板厚を薄くしたり、また貫通孔のみを
持つ従来の多層プリント配線板から、板の表面や内部に
部分的なバイアを持つ多層プリント配線板へと展開して
きた。
2. Description of the Related Art Recent advances in printed wiring boards have been remarkable, and in particular, due to improvements in surface mounting technology, high integration of printed wiring boards is accelerating, and higher density and higher reliability are required. Especially in the case of multilayer printed wiring boards, the thickness of each layer is reduced, or the conventional multilayer printed wiring board with only through holes is changed to a multilayer printed wiring board with partial vias on the surface or inside of the board. Has been deployed.

【0003】しかし、この多層プリント配線板において
は、スルホールが配線域を狭めたり、また、スルホール
の径を小さくするには限界があるため、スルホールプリ
ント配線板に現在要求されている高密度化には限度があ
った。
However, in this multilayer printed wiring board, there is a limit in narrowing the wiring area of the through hole and reducing the diameter of the through hole, so that the through hole printed wiring board is required to have a high density at present. There was a limit.

【0004】そこで現在、多層プリント配線板の製造法
として、プリント配線板上に感光性樹脂を塗布、露光、
現像後、フォトビアホールを有する層間電気絶縁層を形
成し、次いで過マンガン酸カリにより絶縁層の表面を粗
化し、無電解銅メッキ、電解銅メッキを施し、ついで、
ドライフィルムをラミネートし、露光、現像、エッチン
グ、エッチングレジストを剥離し導体回路を形成し、こ
れらの工程を順次繰り返し積層していく、フォトレジス
ト法によるビルドアップ法が提案されている。
Therefore, at present, as a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, a photosensitive resin is applied on the printed wiring board, exposed,
After development, an interlayer electrical insulation layer having photo via holes is formed, then the surface of the insulation layer is roughened with potassium permanganate, electroless copper plating, electrolytic copper plating are performed, and then,
A build-up method using a photoresist method has been proposed in which a dry film is laminated, exposure, development, etching, and etching resist are peeled off to form a conductor circuit, and these steps are sequentially and repeatedly laminated.

【0005】このフォトレジスト法は小径のバイアを自
由に形成でき高密度な多層プリント配線板が得られる点
で優れており、開発が進められている。このフォトレジ
スト法によるビルドアップ法での最大の課題の一つとし
て、回路と電気絶縁層との密着強度の向上が挙げられ
る。
This photoresist method is excellent in that it can freely form a small-diameter via and obtain a high-density multilayer printed wiring board, and is under development. One of the biggest problems in the build-up method using the photoresist method is improvement of the adhesion strength between the circuit and the electric insulating layer.

【0006】現在、フォトレジスト法による多層プリン
ト配線板用層間電気絶縁材料として酸ペンダント型ノボ
ラックエポキシビニルエステル樹脂が検討されている。
Currently, an acid pendant type novolac epoxy vinyl ester resin is being investigated as an interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board by a photoresist method.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の酸
ペンダント型ノボラックエポキシビニルエステル樹脂
は、層間電気絶縁層と銅メッキとの密着強度は未だ充分
でなく、実用的な多層プリント配線積層板が得られず、
また、難燃性が要求される場合には添加系の難燃剤を使
用しなければならなという課題を有していた。
However, the above-mentioned conventional acid pendant type novolac epoxy vinyl ester resin does not yet have sufficient adhesion strength between the interlayer electric insulation layer and the copper plating, so that a practical multilayer printed wiring board laminate is obtained. Not obtained,
Further, when flame retardancy is required, there is a problem that an additive flame retardant must be used.

【0008】本発明が解決しようとする課題は、自己難
燃性を有し、回路を形成する銅メッキの密着性に優れ
る、多層プリント配線板の製造に適した希アルカリ溶液
で現像可能な多層プリント配線板用層間電気絶縁材料を
提供することにある。
The problem to be solved by the present invention is that it has a self-flame-retardant property and is excellent in the adhesiveness of copper plating for forming a circuit, and is suitable for the production of multilayer printed wiring boards. An object is to provide an interlayer electrical insulating material for a printed wiring board.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、多層プリ
ント配線板用層間電気絶縁材料の前述した問題点を鋭意
研究した結果、酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン化エポ
キシビニルエステル樹脂、希釈剤、光重合開始剤および
熱硬化成分を必須成分とする、銅メッキとの密着性に優
れ、かつ、可撓性や半田耐熱性、耐溶剤性、電気特性な
どの諸特性のバランスの良い、多層プリント配線板の製
造に適した希アルカリ溶液で現像可能な多層プリント配
線板用層間電気絶縁材料が得られることを見い出し本発
明を完成するに至った。
As a result of earnest studies on the above-mentioned problems of the interlayer electric insulating material for a multilayer printed wiring board, the present inventors have found that an acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin, a diluent, Multi-layer printing that uses a photopolymerization initiator and a thermosetting component as essential components, has excellent adhesion to copper plating, and has a good balance of various characteristics such as flexibility, solder heat resistance, solvent resistance, and electrical characteristics. It was found that an interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board, which can be developed with a dilute alkaline solution and is suitable for manufacturing a wiring board, can be obtained, and the present invention has been completed.

【0010】即ち、本発明は、(A)ゴム変性ハロゲン
化エポキシビニルエステル樹脂の水酸基に多塩基酸無水
物を反応させた構造を有する酸ペンダント型ゴム変性ハ
ロゲン化エポキシビニルエステル樹脂、(B)希釈剤、
(C)光重合開始剤、および、(D)熱硬化成分を必須
成分とすることを特徴とする多層プリント配線板用層間
電気絶縁材料に関する。
That is, the present invention provides (A) an acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin having a structure in which a hydroxyl group of the rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin is reacted with a polybasic acid anhydride, (B). Diluent,
(C) A photopolymerization initiator and (D) a thermosetting component as essential components, to an interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board.

【0011】本発明で用いる酸ペンダント型ゴム変性ハ
ロゲン化エポキシビニルエステル樹脂(A)は、ゴム変
性ハロゲン化エポキシビニルエステル樹脂の水酸基に多
塩基酸無水物を反応させた構造を有するものであり、そ
の酸価が30〜140mgKOH/gの範囲のものが好
ましい。なかでもアルカリ水溶液に対する溶解性が良好
で現像性に優れ、層間電気絶縁塗膜の特性にも優れる点
で酸価が40〜120mgKOH/gの範囲のものが特
に好ましい。
The acid-pendant rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A) used in the present invention has a structure in which a polybasic acid anhydride is reacted with the hydroxyl group of the rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin, Those having an acid value in the range of 30 to 140 mgKOH / g are preferable. Among them, those having an acid value in the range of 40 to 120 mgKOH / g are particularly preferable in terms of good solubility in an alkaline aqueous solution, excellent developability, and excellent properties of an interlayer electrically insulating coating film.

【0012】上記酸価範囲の酸ペンダント型ゴム変性ハ
ロゲン化エポキシビニルエステル樹脂(A)を得るに
は、上述した通り、例えばゴム変性ハロゲン化エポキシ
ビニルエステル樹脂と多塩基酸無水物とを反応して得ら
れるが、それらの反応割合は特に限定されず、通常、ゴ
ム変性ハロゲン化エポキシビニルエステル樹脂中の水酸
基1モルに対し、多塩基酸無水物中の酸無水物基の数が
0.3〜1.0モルとなる割合が挙げられる。
To obtain the acid-pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A) having the above acid value range, for example, a rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin is reacted with a polybasic acid anhydride as described above. However, the reaction ratio is not particularly limited, and usually, the number of acid anhydride groups in the polybasic acid anhydride is 0.3 with respect to 1 mol of the hydroxyl groups in the rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin. The ratio which becomes-1.0 mol is mentioned.

【0013】なかでも、酸価を40〜120mgKOH
/gの範囲に調整した場合、アルカリ水溶液に対する溶
解性が良好で現像性に優れ、層間電気絶縁塗膜の特性に
も優れる点からゴム変性ハロゲン化エポキシビニルエス
テル樹脂中の水酸基1モルに対し、多塩基酸無水物中の
酸無水物基の数が0.4〜0.9モルとなる割合で両者
を反応させることが好ましい。
Among them, the acid value is 40 to 120 mg KOH
When adjusted to the range of / g, the solubility in an alkaline aqueous solution is good, the developability is excellent, and the characteristics of the interlayer electric insulating coating film are also excellent, with respect to 1 mol of the hydroxyl group in the rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin, It is preferable to react both of them in a ratio such that the number of acid anhydride groups in the polybasic acid anhydride is 0.4 to 0.9 mol.

【0014】ここで、ゴム変性ハロゲン化エポキシビニ
ルエステル樹脂とは、特に構造が特定されるものではな
いが、ハロゲン化エポキシ樹脂、カルボキシル基含有ゴ
ム状重合体、およびエチレン性不飽和一塩基酸を反応さ
せた構造のものであり、この構造中には、エポキシ樹脂
とカルボキシル基含有ゴム状重合体及びエチレン性不飽
和一塩基酸との反応によって生成するエステル結合が存
在しているものである。本発明においては、これらのエ
ステル結合の内、カルボキシル基含有ゴム状重合体に基
づくエステル構造部位(ゴム状重合体部分を含む)の含
有率が、酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン化エポキシビ
ニルエステル樹脂(A)中、3〜60重量%となる範囲
で含有することが、可撓性や密着性、耐熱性、電気特性
などに優れる樹脂が得られる点で好ましい。
Here, the rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin is not particularly specified in its structure, but a halogenated epoxy resin, a carboxyl group-containing rubber polymer, and an ethylenically unsaturated monobasic acid are used. It has a reacted structure, and in this structure there is an ester bond formed by the reaction of the epoxy resin, the carboxyl group-containing rubbery polymer and the ethylenically unsaturated monobasic acid. In the present invention, among these ester bonds, the content of the ester structure portion (including the rubber-like polymer portion) based on the carboxyl group-containing rubber-like polymer is the acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin ( In A), the content of 3 to 60% by weight is preferable from the viewpoint that a resin excellent in flexibility, adhesion, heat resistance, electric characteristics and the like can be obtained.

【0015】また、このゴム変性ハロゲン化エポキシビ
ニルエステルを製造するにあたっては、ハロゲン化エポ
キシ樹脂、カルボキシル基含有ゴム状重合体およびエチ
レン性不飽和一塩基酸の各成分は同時に反応させてもよ
いし、また、ハロゲン化エポキシ樹脂とカルボキシル基
含有ゴム状重合体とを反応させた後、エチレン性不飽和
一塩基酸を反応させてもよい。
In producing the rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester, the halogenated epoxy resin, the carboxyl group-containing rubber-like polymer and the ethylenically unsaturated monobasic acid may be reacted simultaneously. Alternatively, the halogenated epoxy resin may be reacted with the carboxyl group-containing rubbery polymer, and then the ethylenically unsaturated monobasic acid may be reacted.

【0016】この際、ハロゲン化エポキシ樹脂と、カル
ボキシル基含有ゴム状重合体およびエチレン性不飽和一
塩基酸との反応比率は、特に制限されるものではない
が、ハロゲン化エポキシ樹脂のエポキシ基1当量当た
り、カルボキシル基含有ゴム状重合体とエチレン性不飽
和一塩基酸の総カルボキシル基が0.8〜1.1当量と
なる範囲であることがゴム状重合体エステル構造部位の
含有率を、酸ペンダント型エポキシビニルエステル樹脂
(A)中3〜60重量%に調製し易い点から好ましく、
なかでも光硬化性及び貯蔵安定性に優れる樹脂が得られ
る点で0.9〜1.0モルとなる範囲が好ましい。
At this time, the reaction ratio of the halogenated epoxy resin, the carboxyl group-containing rubbery polymer and the ethylenically unsaturated monobasic acid is not particularly limited, but the epoxy group 1 of the halogenated epoxy resin is not limited. The content ratio of the rubbery polymer ester structure moiety is that the total carboxyl groups of the carboxyl group-containing rubbery polymer and the ethylenically unsaturated monobasic acid are in the range of 0.8 to 1.1 equivalents per equivalent. The acid pendant type epoxy vinyl ester resin (A) is preferably 3 to 60% by weight in terms of easy preparation,
Among them, the range of 0.9 to 1.0 mol is preferable from the viewpoint of obtaining a resin having excellent photocurability and storage stability.

【0017】本発明で用いるハロゲン化エポキシ樹脂と
しては、特に構造が限定されるものではないが、例え
ば、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂、テ
トラクロロビスフェノールA型エポキシ樹脂、テトラブ
ロモビスフェノールF型エポキシ樹脂、テトラクロロビ
スフェノールF型エポキシ樹脂などのハロゲン化ビスフ
ェノール型エポキシ樹脂;ブロム化クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂などのハロゲン化ノボラック型エポキシ樹脂
などが挙げられる。これらのハロゲン化エポキシ樹脂の
ハロゲン含有率は特に制限されないが、通常、15〜6
0重量%であることが好ましい。また、これらのなかで
も融点が50℃以上のエポキシ樹脂が乾燥後タックのな
い光重合性皮膜を形成することができ好ましい。
Although the structure of the halogenated epoxy resin used in the present invention is not particularly limited, for example, tetrabromobisphenol A type epoxy resin, tetrachlorobisphenol A type epoxy resin, tetrabromobisphenol F type epoxy resin. Halogenated bisphenol type epoxy resins such as tetrachlorobisphenol F type epoxy resins; halogenated novolac type epoxy resins such as brominated cresol novolac type epoxy resins and brominated phenol novolac type epoxy resins. The halogen content of these halogenated epoxy resins is not particularly limited, but usually 15 to 6
It is preferably 0% by weight. Of these, an epoxy resin having a melting point of 50 ° C. or higher is preferable because it can form a tack-free photopolymerizable film after drying.

【0018】また、カルボキシル基含有ゴム状重合体と
しては、その構造は特に限定されるものではないが、例
えば、ポリブタジエン−アクリル酸共重合体等のエチレ
ン性不飽和一塩基酸と共役ジエン系ビニルモノマーとの
共重合体;ポリブタジエン−アクリロニトリル−アクリ
ル酸共重合体等のエチレン性不飽和一塩基酸と共役ジエ
ン系ビニルモノマーとその他のビニルモノマーとの共重
合体;下記構造式1又は構造式2に代表されるマレイン
化ポリブタジエン等のカルボン酸懸垂型共役ジエン系ビ
ニル重合体;以上の分子側鎖にカルボキシル基を懸垂す
るゴム状重合体、或いは、直鎖状重合体の分子両末端に
カルボキシル基を有するゴム状重合体が挙げられる。
The structure of the carboxyl group-containing rubbery polymer is not particularly limited, but for example, an ethylenically unsaturated monobasic acid such as a polybutadiene-acrylic acid copolymer and a conjugated diene vinyl are used. Copolymer with monomer; Copolymer of ethylenically unsaturated monobasic acid such as polybutadiene-acrylonitrile-acrylic acid copolymer, conjugated diene vinyl monomer and other vinyl monomer; structural formula 1 or structural formula 2 below. Carboxylic acid-suspended conjugated diene-based vinyl polymers such as maleated polybutadiene represented by ## STR3 ##; rubber-like polymers in which carboxyl groups are suspended on the above-mentioned molecular side chains, or carboxyl groups at both molecular ends of linear polymers A rubbery polymer having

【0019】構造式1Structural formula 1

【0020】[0020]

【化1】 (ここで、nおよびmは平均の繰り返し単位数を示し、
それぞれ1以上の整数である。)
Embedded image (Where n and m represent the average number of repeating units,
Each is an integer of 1 or more. )

【0021】構造式2 (ここで、n、mおよびlは平均の繰り返し単位数を示
し、それぞれ1以上の整数である。)
Structural formula 2 (where n, m and l represent the average number of repeating units, each being an integer of 1 or more.)

【0022】[0022]

【化2】 ここで、後者の直鎖状重合体の分子両末端にカルボキシ
ル基を有するゴム状重合体としては、例えば、下記構造
式3に代表されるポリブタジエンジカルボン酸等の分子
両末端にカルボキシル基を有するジエン系ビニル重合
体;下記構造式4に代表されるブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体の分子両末端にカルボキシル基を有する
重合体等の共役ジエン系ビニルモノマーとアクリロニト
リルとの共重合体であって分子両末端にカルボキシル基
を有する重合体;下記構造式5に代表されるポリブタジ
エングリコールと無水マレイン酸との共重合体等の共役
ジエン系ビニルモノマーと酸無水物とのハーフエステ
ル;下記構造式6に代表されるブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体の分子末端に水酸基を有する重合体と無
水マレイン酸とのハーフエステル等の共役ジエン系ビニ
ルモノマーとアクリロニトリルとの共重合体の分子末端
に水酸基を有する重合体と多塩基酸無水物とのハーフエ
ステル等が挙げられる。
Embedded image Examples of the latter rubber-like polymer having a carboxyl group at both terminals of the linear polymer include, for example, a diene having a carboxyl group at both terminals of a molecule such as polybutadiene dicarboxylic acid represented by the following structural formula 3. -Based vinyl polymer; a copolymer of a conjugated diene-based vinyl monomer such as a polymer having a carboxyl group at both ends of the molecule of a butadiene-acrylonitrile copolymer represented by the following structural formula 4 and acrylonitrile and both ends of the molecule A polymer having a carboxyl group in the following; a half ester of a conjugated diene vinyl monomer such as a copolymer of polybutadiene glycol represented by the following structural formula 5 with maleic anhydride and an acid anhydride; represented by the following structural formula 6 Of butadiene-acrylonitrile copolymer with a hydroxyl group-terminated polymer and maleic anhydride Half esters and the like of the polymer and a polybasic acid anhydride with a hydroxyl group at the molecular terminal of the copolymer of a conjugated diene-based vinyl monomer and acrylonitrile such as esters.

【0023】構造式3Structural formula 3

【0024】[0024]

【化3】 (ここで、nは平均の繰り返し単位数を示し、1以上の
整数である。)
Embedded image (Here, n represents the average number of repeating units and is an integer of 1 or more.)

【0025】構造式4Structural formula 4

【0026】[0026]

【化4】 (ここで、nおよびmは平均の繰り返し単位数を示し、
それぞれ1以上の整数である。)
[Chemical 4] (Where n and m represent the average number of repeating units,
Each is an integer of 1 or more. )

【0027】構造式5Structural formula 5

【0028】[0028]

【化5】 (ここで、nは平均の繰り返し単位数を示し、1以上の
整数である。)
Embedded image (Here, n represents the average number of repeating units and is an integer of 1 or more.)

【0029】構造式6Structural formula 6

【0030】[0030]

【化6】 (ここで、nおよびmは平均の繰り返し単位数を示し、
nは5〜50の整数、mは25〜90の整数をそれぞれ
示す。)
[Chemical 6] (Where n and m represent the average number of repeating units,
n is an integer of 5 to 50 and m is an integer of 25 to 90. )

【0031】また、上記カルボキシル基含有ゴム状重合
体に用いられる共役ジエン系ビニルモノマーとしては既
述の例示重合体で用いられるブタジエンのみでなく、ブ
タジエン、イソプレン、クロロプレンなどを用いてもよ
い。また、共役ジエン系ビニルモノマーと共重合するこ
とができる、エチレン性不飽和一塩基酸としては、上記
例示重合体として挙げたものに限定されず、例えば(メ
タ)アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイ
マー、モノメチルマレート、モノプロピルマレート、モ
ノブチルマレート、モノ(2−エチルヘキシル)マレー
ト、ソルビン酸などが挙げられ、なかでも(メタ)アク
リル酸が好ましい。また、その他のビニルモノマーとし
ては、上記例示化合物に限定されるものでなく、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、スチレン、ビ
ニルトルエン等を用いることができる。
The conjugated diene vinyl monomer used in the carboxyl group-containing rubbery polymer may be butadiene, isoprene, chloroprene or the like, in addition to butadiene used in the above-mentioned exemplified polymers. Further, the ethylenically unsaturated monobasic acid that can be copolymerized with the conjugated diene-based vinyl monomer is not limited to those listed as the above exemplified polymers, and examples thereof include (meth) acrylic acid, crotonic acid, and cinnamic acid. , Acrylic acid dimer, monomethylmalate, monopropylmalate, monobutylmalate, mono (2-ethylhexyl) malate, sorbic acid, etc., among which (meth) acrylic acid is preferred. Further, other vinyl monomers are not limited to the above exemplified compounds, and acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, styrene, vinyltoluene and the like can be used.

【0032】また、得られるゴム状重合体中のカルボキ
シル基の数は特に限定されるものではないが、1分子カ
ルボキシル基の数は分子中に1〜5個、より好ましくは
1.5〜3個の範囲にある事が望ましい。
The number of carboxyl groups in the obtained rubber-like polymer is not particularly limited, but the number of carboxyl groups per molecule is 1 to 5 per molecule, more preferably 1.5 to 3 per molecule. It is desirable to be within the range.

【0033】これらのかなでも特に、共役ジエン系ビニ
ルモノマーとアクリロニトリルとの共重合体の分子末端
にカルボキシル基を有する重合体、共役ジエン系ビニル
モノマーとアクリロニトリルとの共重合体の分子末端に
水酸基を有する重合体と多塩基酸無水物とのハーフエス
テルが本発明の効果が顕著なものとなり好ましい。
Among these, especially, a polymer having a carboxyl group at the molecular end of a copolymer of a conjugated diene vinyl monomer and acrylonitrile, and a hydroxyl group at a molecular end of a copolymer of a conjugated diene vinyl monomer and acrylonitrile. Half-esters of the polymers and polybasic acid anhydrides are preferable because the effects of the present invention are remarkable.

【0034】また、共役ジエン系ビニルモノマーとアク
リロニトリルとの共重合体であって分子末端に水酸基を
有する重合体と多塩基酸無水物とのハーフエステル等に
用いられる多塩基酸無水物としては、具体的には、無水
マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、ドデシル
無水コハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒド
ロ無水フタル酸、3−メチルテトラヒドロ無水フタル
酸、4−メチルテトラヒドロ無水フタル酸、3ーメチル
ヘキサヒドロ無水フタル酸、4−メチルヘキサヒドロ無
水フタル酸、3,4−ジメチルテトラヒドロ無水フタル
酸、4−(4−メチル−3−ペンテニル)テトラヒドロ
無水フタル酸、3−ブテニル−5,6−ジメチルテトラ
ヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドメチレン−テトラ
ヒドロ無水フタル酸、7−メチル−3,6−エンドメチ
レンテトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、テトラ
クロロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、無水
クロレンド酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット
酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、メチルシ
クロヘキセンジカルボン酸無水物などが挙げられる
As the polybasic acid anhydride used as a half ester of a polybasic acid anhydride and a polymer having a hydroxyl group at the molecular end, which is a copolymer of a conjugated diene vinyl monomer and acrylonitrile, Specifically, maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, dodecyl succinic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, 4-methyltetrahydrophthalic anhydride, 3- Methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 4- (4-methyl-3-pentenyl) tetrahydrophthalic anhydride, 3-butenyl-5,6- Dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endomethylene-tetrahydrophthalic anhydride 7-Methyl-3,6-endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, chlorendic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride , Methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride, etc.

【0035】また、得られるゴム状重合体中のカルボキ
シル基の数は特に限定されるものではないが、1分子カ
ルボキシル基の数は分子中に1〜5個、より好ましくは
1.5〜3個の範囲にある事が望ましい。
The number of carboxyl groups in the obtained rubber-like polymer is not particularly limited, but the number of carboxyl groups per molecule is 1 to 5 per molecule, more preferably 1.5 to 3. It is desirable to be within the range.

【0036】また、ゴム変性ハロゲン化エポキシビニル
エステル樹脂の製造において、ハロゲン化エポキシ樹脂
との反応に使用されるエチレン性不飽和一塩基酸として
は、例えば(メタ)アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、
アクリル酸ダイマー、モノメチルマレート、モノプロピ
ルマレート、モノブチルマレート、モノ(2−エチルヘ
キシル)マレート、ソルビン酸などが挙げられ、なかで
も(メタ)アクリル酸が好ましい。
The ethylenically unsaturated monobasic acid used in the reaction with the halogenated epoxy resin in the production of the rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin is, for example, (meth) acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid. ,
Acrylic acid dimers, monomethylmalate, monopropylmalate, monobutylmalate, mono (2-ethylhexyl) malate, sorbic acid and the like can be mentioned, with preference given to (meth) acrylic acid.

【0037】以上詳述した各成分を反応して得られるゴ
ム変性ハロゲン化エポキシビニルエステル樹脂は、特に
その構造が特定されるものではないが、種々の構造のも
のが混在した状態で使用し得るものであるが、例えば、
分子鎖中に複数のカルボキシル基を有するゴム状重合体
のカルボキシル基に複数のエポキシ基を持つエポキシ樹
脂が反応したエポキシ樹脂のゴム状重合体エステルを形
成し、この化合物中の残存するエポキシ基にエチレン性
不飽和一塩基酸が反応した構造のものが挙げられる。
The rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin obtained by reacting each of the components described in detail above is not particularly specified in its structure, but can be used in a mixed state of various structures. But, for example,
A rubbery polymer having multiple carboxyl groups in its molecular chain is reacted with an epoxy resin having multiple epoxy groups on the carboxyl groups to form a rubbery polymer ester of the epoxy resin, and the residual epoxy group in this compound is formed. The thing of the structure which ethylenically unsaturated monobasic acid reacted was mentioned.

【0038】更に具体的には、例えば、分子鎖中に複数
のカルボキシル基を有するゴム状重合体と、当該ゴム重
合体の分子の末端に存在するカルボキシル基にそれぞれ
ハロゲン化エポキシ樹脂が反応してエステル構造を形成
し、かつ、それぞれのハロゲン化エポキシ樹脂部分中の
未反応のまま存在するエポキシ基に(メタ)アクリル酸
が反応した構造のものが挙げられる。
More specifically, for example, a halogenated epoxy resin reacts with a rubber-like polymer having a plurality of carboxyl groups in its molecular chain and a carboxyl group present at the terminal of the molecule of the rubber polymer, respectively. Examples thereof include those having an ester structure and having (meth) acrylic acid reacted with the unreacted epoxy groups in each halogenated epoxy resin portion.

【0039】また、本発明で用いる前記多塩基酸無水物
としては、前記共役ジエン系ビニルモノマーとアクリロ
ニトリルとの共重合体であって分子末端に水酸基を有す
る重合体と多塩基酸無水物とのハーフエステルに用いら
れた多塩基酸無水物が挙げられる。具体的には、無水マ
レイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、ドデシル無
水コハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ
無水フタル酸、3−メチルテトラヒドロ無水フタル酸、
4−メチルテトラヒドロ無水フタル酸、3ーメチルヘキ
サヒドロ無水フタル酸、4−メチルヘキサヒドロ無水フ
タル酸、3,4−ジメチルテトラヒドロ無水フタル酸、
4−(4−メチル−3−ペンテニル)テトラヒドロ無水
フタル酸、3−ブテニル−5,6−ジメチルテトラヒド
ロ無水フタル酸、3,6−エンドメチレン−テトラヒド
ロ無水フタル酸、7−メチル−3,6−エンドメチレン
テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、テトラクロ
ロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、無水クロ
レンド酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、
ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、メチルシクロ
ヘキセンジカルボン酸無水物などが挙げられるが、なか
でも電食性に優れる点からテトラヒドロ無水フタル酸お
よびヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。
The polybasic acid anhydride used in the present invention is a copolymer of the conjugated diene vinyl monomer and acrylonitrile, which is a polymer having a hydroxyl group at the molecular end and a polybasic acid anhydride. The polybasic acid anhydride used for the half ester may be mentioned. Specifically, maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, dodecyl succinic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride,
4-methyltetrahydrophthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic anhydride,
4- (4-methyl-3-pentenyl) tetrahydrophthalic anhydride, 3-butenyl-5,6-dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endomethylene-tetrahydrophthalic anhydride, 7-methyl-3,6- Endomethylene tetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, chlorendic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride,
Examples thereof include benzophenone tetracarboxylic acid anhydride and methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride. Among them, tetrahydrophthalic anhydride and hexahydrophthalic anhydride are preferable from the viewpoint of excellent electrolytic corrosion property.

【0040】上記した酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン
化エポキシビニルエステル樹脂(A)は、そのハロゲン
含有率が10〜40重量%であることが好ましい。
The halogen content of the acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A) is preferably 10 to 40% by weight.

【0041】また、これらの酸ペンダント型ゴム変性ハ
ロゲン化エポキシビニルエステル樹脂(A)は、従来か
らアルカリ現像型ソルダーレジストインキに使用されて
いる酸ペンダント型エポキシビニルエステル樹脂、例え
ば、酸ペンダント型ノボラックエポキシビニルエステル
樹脂、酸ペンダント型ビスフェノールA型エポキシビニ
ルエステル樹脂、酸ペンダント型ビスフェノールF型エ
ポキシビニルエステル樹脂、酸ペンダント型ビスフェノ
ールS型エポキシビニルエステル樹脂、酸ペンダント型
ビキシノール型エポキシビニルエステル樹脂等を併用す
る事が好ましい。
These acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resins (A) are acid pendant type epoxy vinyl ester resins conventionally used in alkali developing type solder resist inks, for example, acid pendant type novolaks. Epoxy vinyl ester resin, acid pendant bisphenol A epoxy vinyl ester resin, acid pendant bisphenol F epoxy vinyl ester resin, acid pendant bisphenol S epoxy vinyl ester resin, acid pendant bixinol epoxy vinyl ester resin, etc. It is preferable to do.

【0042】本発明で用いる希釈剤(B)としては、前
記酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン化エポキシビニルエ
ステル樹脂(A)に溶解し、スクリーン印刷やロールコ
ーター法等の各種の塗装方法に適した粘度になるように
して塗布し、次いで乾燥を行い光重合性皮膜を形成する
ための必須の構成条件であり、通常、有機溶剤及び光重
合性ビニルモノマーが挙げられ、その使用に際しては、
それぞれ単独で使用しても良いし、また、両者を併用し
てもよい。
As the diluent (B) used in the present invention, a viscosity suitable for various coating methods such as screen printing and roll coater method is dissolved in the acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A). It is an essential constitutional condition for forming a photopolymerizable film by coating so as to be followed by drying, usually, an organic solvent and a photopolymerizable vinyl monomer, and in the use thereof,
Each may be used alone, or both may be used in combination.

【0043】ここで用いる有機溶剤としては、例えばト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;メタノール、
イソプロピルアルコールなどのアルコール類;酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどのエステル類;1,4−ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなどのエーテル類;メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;セ
ロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、セロソルブア
セテートなどのグリコール誘導体;シクロヘキサノン、
シクロヘキサノールなどの脂環式炭化水素及び石油エー
テル、石油ナフサなどの石油系溶剤などが挙げられる。
これらのなかでも作業性に優れる点からグリコール誘導
体と石油系溶剤を併用することが好ましい。
Examples of the organic solvent used here include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; methanol,
Alcohols such as isopropyl alcohol; Esters such as ethyl acetate and butyl acetate; Ethers such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran; Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Glycol derivatives such as cellosolve, butyl cellosolve acetate, and cellosolve acetate Cyclohexanone,
Examples thereof include alicyclic hydrocarbons such as cyclohexanol and petroleum solvents such as petroleum ether and petroleum naphtha.
Among these, it is preferable to use the glycol derivative in combination with the petroleum-based solvent from the viewpoint of excellent workability.

【0044】また、光重合性ビニルモノマーとしては、
例えば2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウ
リル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)ア
クリレート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリ
レート、イソホ゛ロニル(メタ)アクリレート、フェニ
ル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレー
ト、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレ
ートなどの(メタ)アクリル酸のエステル類;ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート類;メトキシエチル(メタ)アクリレート、
エトキシエチル(メタ)アクリレートなどのアルコキシ
アルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート類;エ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレートなどのアルキレンポリオールポリ
(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリエチレングリコール200ジ(メ
タ)アクリレート、ポリエトキシ化トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、ポリプロポキシ化トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ポリエ
トキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ポ
リプロポキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエトキシ化水添ビスフェノールAジ(メタ)ア
クリレート、ポリプロポキシ化水添ビスフェノールAジ
(メタ)アクリレート、ポリエトキシ化ジシクロペンタ
ニエルジ(メタ)アクリレート、ポリプロポキシ化ジシ
クロペンタニエルジ(メタ)アクリレートなどのポリオ
キシアルキレングリコールポリ(メタ)アクリレート
類;ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエス
テルジ(メタ)アクリレートなどのエステルタイプのポ
リ(メタ)アクリレート類;トリス〔(メタ)アクリロ
キシエチル〕イソシアヌレートなどのイソシアヌレート
型ポリ(メタ)アクリレート類;N,N−ジメチルアミ
ノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミ
ノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルア
ミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエ
チル(メタ)アクリレートなどのアミノアルキル(メ
タ)アクリレート類;(メタ)アクリルアミド、N−メ
チル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリ
ルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、
(メタ)アクリロイルモルホリンなどの(メタ)アクリ
ルアミド類;ビニルピロリドンなどが挙げられる。これ
らのなかでも絶縁塗膜の耐熱性に優れる点から3官能以
上のアクリレートが好ましい。
As the photopolymerizable vinyl monomer,
For example, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isoboronyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol. Esters of (meth) acrylic acid such as (meth) acrylate; hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate; methoxyethyl (meth ) Acrylate,
Alkoxyalkylene glycol mono (meth) acrylates such as ethoxyethyl (meth) acrylate; ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di Alkylene polyol poly (meth) acrylates such as (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol Di (meta)
Acrylate, polyethylene glycol 200 di (meth) acrylate, polyethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, polypropoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, polyethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, polypropoxylated bisphenol A di (Meth) acrylate, polyethoxylated hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, polypropoxylated hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, polyethoxylated dicyclopentanierdi (meth) acrylate, polypropoxylated dicyclopentanieldi Polyoxyalkylene glycol poly (meth) acrylates such as (meth) acrylate; hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester di (meth) acrylate Ester-type poly (meth) acrylates such as salts; isocyanurate-type poly (meth) acrylates such as tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate; N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N , N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate and other aminoalkyl (meth) acrylates; (meth) acrylamide, N-methyl ( (Meth) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide,
(Meth) acrylamides such as (meth) acryloylmorpholine; vinylpyrrolidone and the like. Among these, trifunctional or higher functional acrylates are preferable from the viewpoint of the heat resistance of the insulating coating film.

【0045】なお、上記希釈剤(B)の使用量は、前記
酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン化エポキシビニルエス
テル樹脂(A)100重量部に対して20〜300重量
部、好ましくは30〜250重量部となる割合が適当で
ある。
The amount of the diluent (B) used is 20 to 300 parts by weight, preferably 30 to 250 parts by weight, based on 100 parts by weight of the acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A). Is appropriate.

【0046】また、前記光重合性ビニルモノマーは光重
合性を促進したり、水溶性の光重合性ビニルモノマーは
アルカリ水溶液への溶解性を助ける役目もするが、前記
光重合性ビニルモノマーを少なくした方が、乾燥後タッ
クのない光重合性皮膜を形成することができ、該光重合
性皮膜とパターンフィルムとを密着でき、フォトビアホ
ールパターンの解像度を向上させることができ、さらに
耐薬品性や電気特性なども向上するため、その使用量は
前記酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン化エポキシビニル
エステル樹脂(A)100重量部に対して50重量部以
下、なかでも2〜20重量部であることが好ましい。
The photopolymerizable vinyl monomer also promotes photopolymerizability, and the water-soluble photopolymerizable vinyl monomer also plays a role of assisting solubility in an alkaline aqueous solution. It is possible to form a photopolymerizable film without tack after drying, it is possible to adhere the photopolymerizable film and the pattern film, it is possible to improve the resolution of the photovia hole pattern, further chemical resistance and In order to improve electric characteristics and the like, the amount of use is preferably 50 parts by weight or less, and more preferably 2 to 20 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A). .

【0047】次に、前記した光重合開始剤(C)として
は、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルメチル
ケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類;
アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルア
セトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェ
ニルプロパン−1−オン、ジエトキシアセトフェノン、
2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、
1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−〔4−
(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノープロパ
ン−1−オンなどのアセトフェノン類;メチルアントラ
キノン、2−エチルアントラキノン、2−タシャリーブ
チルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−
アミルアントラキノンなどのアントラキノン類;チオキ
サントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロ
ロチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、
2−メチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチ
オキサントンなどのチオキサントン類;アセトフェンノ
ンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどの
ケタ−ル類;ベンゾフェノン、4,4−ビスメチルアミ
ノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類及びアゾ化合
物などが挙げられるが、なかでもアセトフェノン類が好
ましい。
Examples of the photopolymerization initiator (C) include benzoin and its alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl methyl ketal;
Acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone,
2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone,
1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4-
Acetophenones such as (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one; methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tacharybutylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-
Anthraquinones such as amylanthraquinone; thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone,
Thioxanthones such as 2-methylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; Ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophenones such as benzophenone and 4,4-bismethylaminobenzophenone and azo compounds Among these, acetophenones are preferable.

【0048】これらは単独または2種以上の混合物とし
て使用でき、さらにはトリエタノールアミン、メチルジ
エタノールアミンなどの第3級アミン;2−ジメチルア
ミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ルなどの安息香酸誘導体などの光開始助剤などと組み合
わせて使用することができる。その使用量は、前記酸ペ
ンダント型ビスフェノール型エポキシビニルエステル樹
脂(A)と希釈剤(B)の総重量100重量部に対して
0.5〜20重量部、好ましくは2〜15重量部となる
割合が好ましい。
These can be used alone or as a mixture of two or more kinds, and further, tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine; benzoic acids such as 2-dimethylaminoethylbenzoic acid and ethyl 4-dimethylaminobenzoate. It can be used in combination with a photoinitiating auxiliary agent such as a derivative. The amount used is 0.5 to 20 parts by weight, preferably 2 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total weight of the acid pendant type bisphenol type epoxy vinyl ester resin (A) and the diluent (B). Ratios are preferred.

【0049】本発明は、上述した各成分に更に硬化系成
分として、熱硬化成分(D)を用いることにより、半田
耐熱性や電気特性に優れた多層プリント配線板用層間電
気絶縁材料とすることができる。
According to the present invention, a thermosetting component (D) is further used as a curing component for each of the above-mentioned components to provide an interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board having excellent solder heat resistance and electrical characteristics. You can

【0050】本発明で用いる熱硬化成分(D)として
は、酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン化エポキシビニル
エステル樹脂(A)と熱硬化する官能基を分子中に有す
るエポキシ樹脂、メラミン化合物、尿素化合物、オキサ
ゾリン化合物、フェノール化合物などを挙げる事が出来
る。エポキシ樹脂としては、具体的には、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、ブロム化エポキシ樹脂、ビ
キレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹
脂などのグリシジルエーテル類;3,4−エポキシ−6
−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6
−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート、1−エポキシエチル−3,
4−エポキシシクロヘキサンなどの脂環式エポキシ樹
脂;フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタ
ル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエス
テルなどのグリシジルエステル類;テトラグリシジルジ
アミノジフェニルメタン、トリグリシジルP−アミノフ
ェノール、N,N−ジグリシジルアニリンなどのグリシ
ジルアミン類;1,3−ジグリシジル−5,5−ジメチ
ルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレートなど
の複素環式エポキシ樹脂などが挙げられる。なかでも、
融点が50℃以上のエポキシ樹脂が乾燥後タックのない
光重合性皮膜を形成することができ好ましい。
As the thermosetting component (D) used in the present invention, an acid pendant type rubber modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A) and an epoxy resin having a thermosetting functional group in the molecule, a melamine compound, a urea compound, Examples thereof include oxazoline compounds and phenol compounds. Specific examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, brominated epoxy resin, biquinenol type epoxy resin, and biphenol type epoxy resin. Glycidyl ethers; 3,4-epoxy-6
-Methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6
-Methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 1-epoxyethyl-3,
Alicyclic epoxy resins such as 4-epoxycyclohexane; glycidyl esters such as phthalic acid diglycidyl ester, tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, dimer acid glycidyl ester; tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, triglycidyl P-aminophenol, N, N -Glycidyl amines such as diglycidyl aniline; and heterocyclic epoxy resins such as 1,3-diglycidyl-5,5-dimethylhydantoin and triglycidyl isocyanurate. Above all,
An epoxy resin having a melting point of 50 ° C. or higher is preferable because it can form a photopolymerizable film without tack after drying.

【0051】メラミン化合物としては、メラミン、メラ
ミンとホルマリンとの重縮合物であるメラミン樹脂が挙
げられる。尿素化合物としては、尿素、尿素とホルマリ
ンの重縮合物である尿素樹脂などが挙げられる。
Examples of the melamine compound include melamine and a melamine resin which is a polycondensation product of melamine and formalin. Examples of the urea compound include urea and a urea resin which is a polycondensation product of urea and formalin.

【0052】オキサゾリン化合物としては、2−オキサ
ゾリン、2ーメチル−2−オキサゾリン、2ーフェニル
ー2オキサゾリン、2、5ージメチルー2オキサゾリ
ン、5ーメチルー2ーフェニルー2オキサゾリン、2、
4ージフェニルオキサゾリン等が挙げれる。
Examples of the oxazoline compound include 2-oxazoline, 2-methyl-2-oxazoline, 2-phenyl-2-oxazoline, 2,5-dimethyl-2oxazoline, 5-methyl-2-phenyl-2oxazoline, 2,
4-diphenyloxazoline and the like can be mentioned.

【0053】フェノール化合物としては、例えば、フェ
ノール、クレゾール、キレノール、カテコール、レゾル
シン、ハイドロキノン、ピロガロール、レゾールなどが
挙げられる。
Examples of the phenol compound include phenol, cresol, chylenol, catechol, resorcin, hydroquinone, pyrogallol and resole.

【0054】上記熱硬化成分(D)の使用量の好適な範
囲は、通常、前記酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン化エ
ポキシビニルエステル樹脂(A)中のカルボキシル基1
個当たり、該熱硬化成分(D)の官能基基が0.2〜
3.0当量となる割合である。なかでもプリント配線板
にした際の半田耐熱性や電気特性に優れる点から1.0
〜1.5当量となる割合が好ましい。
The preferred range of the amount of the thermosetting component (D) used is usually 1 carboxyl group in the acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A).
The functional group group of the thermosetting component (D) is 0.2 to
The ratio is 3.0 equivalents. Above all, it is 1.0 because it has excellent solder heat resistance and electrical characteristics when used as a printed wiring board.
A ratio of up to 1.5 equivalents is preferable.

【0055】また、上記熱硬化成分(D)としてエポキ
シ樹脂を使用する場合は、前記酸ペンダント型ゴム変性
ハロゲン化エポキシビニルエステル樹脂(A)中のカル
ボキシル基との反応を促進するためにエポキシ樹脂の硬
化促進剤を用いることが好ましい。エポキシ樹脂の硬化
促進剤としては具体的には、2ーメチルイミダゾール、
2ーエチルー3メチルイミダゾール、2ーウンデシルイ
ミダゾール、2ーフェニルイミダゾール、1ーシアノエ
チルー2エチルイミダゾール、1ーシアノエチルー2ウ
ンデシルイミダゾール、等のイミダゾール化合物;メラ
ミン、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミ
ン、エチルジアミノトリアジン、2、4ージアミノトリ
アジン、2、4ージアミノー6ートリルトリアジン、
2、4ージアミノー6ーキシリルトリアジン等のトリア
ジン誘導体;トリメチルアミン、トリエタノールアミ
ン、N,Nージメチルオクチルアミン、ピリジン、m−
アミノフェノール等の三級アミン類;ポリフェノール類
などが挙げられる。これらの硬化促進剤は単独または併
用して使用する事が出来る。
When an epoxy resin is used as the thermosetting component (D), the epoxy resin is used to accelerate the reaction with the carboxyl group in the acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A). It is preferable to use the above curing accelerator. Specific examples of the curing accelerator for the epoxy resin include 2-methylimidazole,
2-ethyl-3-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2ethylimidazole, 1-cyanoethyl-2 undecylimidazole, and other imidazole compounds; melamine, guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, ethyldiaminotriazine, 2, 4-diaminotriazine, 2,4-diamino-6tolyltriazine,
Triazine derivatives such as 2,4-diamino-6-xylyltriazine; trimethylamine, triethanolamine, N, N-dimethyloctylamine, pyridine, m-
Tertiary amines such as aminophenol; polyphenols and the like can be mentioned. These curing accelerators can be used alone or in combination.

【0056】さらに、本発明では前記した酸ペンダント
型ゴム変性ハロゲン化エポキシビニルエステル樹脂
(A)、希釈剤(B)、光重合開始剤(C)、および、
熱硬化成分(D)に、さらに必要に応じて各種の添加
剤、例えばタルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭
酸マグネシウム、チタン酸バリウム、水酸化アルミニウ
ム、酸化アルミニウム、シリカ、クレーなどの充填剤;
アエロジルなどのチキソトロピー付与剤;フタロシアニ
ンブルー、フタロシアニングリーン、酸化チタンなどの
着色剤;シリコーン、フッ素系のレベリング剤や消泡
剤;ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテ
ルなどの重合禁止剤などを層間電気絶縁材料の諸性能を
高める目的で添加することが出来る。
Further, in the present invention, the above acid pendant type rubber modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A), diluent (B), photopolymerization initiator (C), and
In addition to the thermosetting component (D), if necessary, various additives such as talc, barium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium titanate, aluminum hydroxide, aluminum oxide, silica, clay, and other fillers;
Thixotropic agents such as Aerosil; colorants such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green and titanium oxide; silicone, fluorine-based leveling agents and defoamers; polymerization inhibitors such as hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether; It can be added for the purpose of enhancing the performance.

【0057】この様にして得られる本発明の多層プリン
ト配線板用層間電気絶縁材料は、プリント配線板上にス
クリーン印刷法や、静電塗装法、ロールコーター法、カ
ーテンコーター法などにより塗布し、乾燥して得た光重
合性皮膜に紫外線などの活性エネルギー線を照射後、希
アルカリ水溶液で未露光部分を除去することによりフォ
トビアホールパターンを形成、さらに熱によりポストキ
ュアーして層間電気絶縁層を形成し、次いで過マンガン
酸カリにより絶縁層の表面を粗化し、無電解銅メッキ、
電解銅メッキを施し、ついで、ドライフィルムをラミネ
ートし、露光、現像、エッチング、エッチングレジスト
を剥離し導体回路を形成し、これらの工程を順次繰り返
し積層していくことにより目的とする多層プリント配線
板とすることができる。
The thus obtained interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board of the present invention is applied onto a printed wiring board by a screen printing method, an electrostatic coating method, a roll coater method, a curtain coater method or the like, After irradiating the photopolymerizable film obtained by drying with active energy rays such as ultraviolet rays, a photo-via hole pattern is formed by removing the unexposed portion with a dilute alkaline aqueous solution, and further post-cured by heat to form an interlayer electrical insulation layer. Formed, then roughen the surface of the insulating layer with potassium permanganate, electroless copper plating,
Electrolytic copper plating is applied, then dry film is laminated, exposure, development, etching, etching resist is peeled off to form a conductor circuit, and these steps are sequentially and repeatedly laminated to form the intended multilayer printed wiring board. Can be

【0058】[0058]

【実施例】以下に、本発明を実施例及び比較例によって
説明するが、これはあくまで一態様でしかなく、本発明
はこれらに限定されるものではない。また例中の部及び
%はすべて重量基準である。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to Examples and Comparative Examples, but this is only one mode and the present invention is not limited thereto. All parts and% in the examples are on a weight basis.

【0059】実施例1 エポキシ当量が400のテトラブロモビスフェノールA
型エポキシ樹脂「エピクロン153」〔大日本インキ化
学工業(株)製、臭素含有率48重量%〕400部と、
分子量が3500、結合アクリロニトリルが27重量
%、カルボキシル基1.9個/分子のブタジエンとアク
リロニトリルの共重合体の分子両末端にカルボキシル基
を有するHYCAR CTBN 1300X13〔B.
F. Goodrich Chemical社製〕1
80部、アクリル酸65部(エポキシ基の数:総カルボ
キシル基の数=1:1)とを反応させて得られたゴム変
性臭素化エポキシビニルエステル樹脂の645部と、テ
トラヒドロ無水フタル酸153部(水酸基の数:酸無水
物基の数=1:0.9)とを、ブチルカルビトールアセ
テート342部中で反応させ、臭素含有率24重量%、
酸価が71mgKOH/gの樹脂分を70%含有する樹
脂溶液(A−1)を得た。
Example 1 Tetrabromobisphenol A having an epoxy equivalent of 400
Type epoxy resin "Epiclon 153" [Dainippon Ink and Chemicals, Inc., bromine content 48% by weight] 400 parts,
HYCAR CTBN 1300X13 [B.C.] having a carboxyl group at both ends of a copolymer of butadiene and acrylonitrile having a molecular weight of 3500, 27% by weight of bound acrylonitrile, and 1.9 carboxyl groups / molecule.
F. Made by Goodrich Chemical Company] 1
645 parts of a rubber-modified brominated epoxy vinyl ester resin obtained by reacting 80 parts and 65 parts of acrylic acid (the number of epoxy groups: the number of total carboxyl groups = 1: 1), and 153 parts of tetrahydrophthalic anhydride (Number of hydroxyl groups: number of acid anhydride groups = 1: 0.9) is reacted in 342 parts of butyl carbitol acetate to give a bromine content of 24% by weight,
A resin solution (A-1) containing 70% of a resin component having an acid value of 71 mgKOH / g was obtained.

【0060】この樹脂溶液(A−1)と共に、光重合開
始剤、有機溶剤および充填材とを下記の通り配合し、3
本ロールミルを用いて混練して、主剤を調製した。次い
で、エポキシ樹脂と有機溶剤及び充填材を下記配合に従
って配合し、3本ロールを用いて混練りして、硬化剤を
調整した。
A photopolymerization initiator, an organic solvent and a filler were blended together with the resin solution (A-1) as follows, and 3
The main ingredient was prepared by kneading using this roll mill. Then, an epoxy resin, an organic solvent and a filler were blended according to the following formulation, and kneaded using a three-roll to prepare a curing agent.

【0061】 (配合) 主剤 樹脂溶液(A−1) 50部 2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン 5部 ソルベッソ150 15部 硫酸バリウム 30部 ───────────────────────────────── 主剤合計 100部(Compounding) Main agent Resin solution (A-1) 50 parts 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone 5 parts Solvesso 150 15 parts Barium sulfate 30 parts ────────────── ─────────────────── Total base agent 100 parts

【0062】 硬化剤 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂「エピクロン N−673」(大日本インキ化学工業(株)製) 15部 ブチルセロソルブアセテート 5部 硫酸バリウム 10部 硬化剤合計 30部Curing agent Cresol novolac type epoxy resin "Epiclon N-673" (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 15 parts Butyl cellosolve acetate 5 parts Barium sulfate 10 parts Curing agent total 30 parts

【0063】次に、この主剤と硬化剤を混合した後、こ
の混合物を予め回路の形成された銅スルホールプリント
配線板上に30〜40μmの厚みになるようにスクリー
ン印刷法により全面に塗布し、80℃で20分間乾燥さ
せた後、フォトビアホールのパターンフィルムを塗布面
に密着させ、オーク製作所製メタルハライドランプ露光
装置を用いて60秒間露光し、次に液温30℃の1%炭
酸ナトリウム水溶液を用いて60秒間現像を行い、その
後熱風乾燥器を用い150℃で30分間加熱処理してフ
ォトビアホールパターンが形成されたプリント配線板を
得た。
Next, after mixing the base material and the curing agent, the mixture is applied to the entire surface of the copper through-hole printed wiring board on which a circuit is formed in advance by a screen printing method so as to have a thickness of 30 to 40 μm, After drying at 80 ° C for 20 minutes, the pattern film of the photo via hole was brought into close contact with the coated surface and exposed for 60 seconds using a metal halide lamp exposure device manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. Then, a 1% sodium carbonate aqueous solution at a liquid temperature of 30 ° C was used. Development was performed for 60 seconds, and then heat treatment was performed for 30 minutes at 150 ° C. using a hot air dryer to obtain a printed wiring board having a photovia hole pattern formed.

【0064】次いで、フォトビアホールの形成されたプ
リント配線板をアルカリ性過マンガン酸カリ溶液で60
〜80℃で層間電気絶縁塗膜を表面粗化し、残留するア
ルカリを中和し、水洗後乾燥した。
Next, the printed wiring board having the photo via holes formed therein is treated with an alkaline potassium permanganate solution to 60%.
The surface of the interlayer electric insulation coating was roughened at -80 ° C to neutralize residual alkali, washed with water and dried.

【0065】次に、表面を粗化された層間電気絶縁塗膜
を有するプリント配線板をコンディショナー処理、マイ
クロエッチング、酸洗、触媒化、アクセレレータ処理を
順次行い、無電解銅メッキを行い、0.3μm厚の薄い
銅メッキを表面を粗化された層間電気絶縁塗膜上に施し
た。
Next, the printed wiring board having the roughened inter-layer electrical insulating coating film on its surface was sequentially subjected to conditioner treatment, micro etching, pickling, catalysis and accelerator treatment, and electroless copper plating was performed to obtain a thickness of 0. A thin copper plating with a thickness of 3 μm was applied on the surface-roughened interlayer electrical insulation coating.

【0066】次いで、無電解銅メッキを施したプリント
配線板を銅メッキ浴の入ったメッキ槽に置き陰極とし、
プリント配線板の両側に陽極を置いて電流を流し、18
μm厚の電解銅メッキを施し、水洗、乾燥を行い片面に
銅メッキを施した供試体(1−a)を得た。
Next, the electroless copper-plated printed wiring board was placed in a plating bath containing a copper plating bath to serve as a cathode.
Place the anodes on both sides of the printed wiring board and apply an electric current.
An electrolytic copper plating having a thickness of μm was performed, followed by washing with water and drying to obtain a sample (1-a) having copper plating on one surface.

【0067】得られた供試体(1−a)をバフロールで
研磨整面し、ドライフィルムを熱ロールで圧着し、次い
で、IPC−TM−650のIPC−B−25のパター
ンフィルムを密着させ、紫外線を露光し、次に液温30
℃の1%炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像を行い、さ
らに塩化第二鉄を主成分としたエッチング液をスプレー
で吹き付け、レジストパターン以外不要の銅を溶解し
た。ついで、水酸化ナトリウムの水溶液を用いドライフ
ィルムの剥離を行い、次に水洗、乾燥し、IPC−TM
−650のIPC−B−25のパターンを有する供試体
(1ーb)を得た。
The obtained sample (1-a) was surface-polished with a buff roll, the dry film was pressure-bonded with a hot roll, and then a pattern film of IPC-B-25 of IPC-TM-650 was brought into close contact, UV light exposure, then liquid temperature 30
Development was performed using a 1% sodium carbonate aqueous solution at 0 ° C., and an etching solution containing ferric chloride as a main component was sprayed to dissolve unnecessary copper other than the resist pattern. Then, the dry film is peeled off using an aqueous solution of sodium hydroxide, then washed with water and dried to obtain IPC-TM.
A sample (1-b) having a pattern of -650 IPC-B-25 was obtained.

【0068】また別に、この主剤と硬化剤を混合した
後、この混合物を予めJIS K 5400に準じて表
面を280番の研磨紙で研磨された厚み0.8mmの鋼
板に30〜40μmの厚みになるようにスクリーン印刷
法により全面に塗布し、80℃で20分間乾燥させた
後、オーク製作所製メタルハライドランプ露光装置を用
いて60秒間露光し、その後熱風乾燥器を用い150℃
で30分間加熱処理して可とう性試験用の供試体(1−
c)を得た。
Separately, after mixing the main agent and the curing agent, the mixture was preliminarily in conformity with JIS K 5400 and the surface thereof was polished with No. 280 polishing paper to a 0.8 mm thick steel plate to a thickness of 30 to 40 μm. So that it is applied to the entire surface by the screen printing method and dried at 80 ° C. for 20 minutes, and then exposed for 60 seconds using a metal halide lamp exposure device manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., and then at 150 ° C. using a hot air dryer.
Specimens for flexibility test (1-
c) was obtained.

【0069】次いで、以下に示す評価試験方法に従い、
銅箔の引きはがし強度および、はんだ耐熱性、耐トリク
レン性は供試体(1−a)を用い、絶縁抵抗は供試体
(1−b)を用い、また可とう性試験は供試体(1−
c)を用いて測定を行い、その結果を第1表に示す。
Then, according to the following evaluation test method,
The peeling strength, solder heat resistance, and trichlene resistance of the copper foil were measured using the sample (1-a), the insulation resistance was measured using the sample (1-b), and the flexibility test was performed using the sample (1-a).
Measurement was carried out using c), and the results are shown in Table 1.

【0070】実施例2 エポキシ当量400の「エピクロン153」の711部
とビスフェノールAの89部とを反応させて得られたエ
ポキシ当量800の臭素化ビスフェノールA型エポキシ
樹脂の800部とHYCAR CTBN 1300X1
3の80部、アクリル酸65部(エポキシ基の数:総カ
ルボキシル基の数=1.0:1.0)とを、ブチルカル
ビトールアセテート514部中で反応させて得られるゴ
ム変性臭素化エポキシビニルエステル樹脂958部と、
テトラヒドロ無水フタル酸242部(水酸基の数:酸無
水物基の数=1:0.8)とを反応させて、臭素含有率
29重量%、酸価が37mgKOH/gの樹脂分を70
%含有する樹脂溶液(A−2)を得た。
Example 2 800 parts of a brominated bisphenol A type epoxy resin having an epoxy equivalent of 800 obtained by reacting 711 parts of "Epiclone 153" having an epoxy equivalent of 400 with 89 parts of bisphenol A and HYCAR CTBN 1300X1
Rubber-modified brominated epoxy obtained by reacting 80 parts of 3 and 65 parts of acrylic acid (the number of epoxy groups: the number of total carboxyl groups = 1.0: 1.0) in 514 parts of butyl carbitol acetate. 958 parts of vinyl ester resin,
Tetrahydrophthalic anhydride was reacted with 242 parts (the number of hydroxyl groups: the number of acid anhydride groups = 1: 0.8) to give 70 parts of a resin component having a bromine content of 29% by weight and an acid value of 37 mgKOH / g.
% To obtain a resin solution (A-2).

【0071】次いで、下記のごとき配合にした以外は実
施例1と同様にして、本発明の組成物を調製した後、更
に実施例1と同様にして供試体(2−a、2−b、2−
c)を得た。
Then, the composition of the present invention was prepared in the same manner as in Example 1 except that the components were mixed as described below, and then the sample (2-a, 2-b, 2-
c) was obtained.

【0072】 (配合) 主剤 樹脂溶液(A−2) 50部 2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン 5部 ソルベッソ150 15部 硫酸バリウム 30部 ───────────────────────────────── 主剤合計 100部(Compounding) Main agent Resin solution (A-2) 50 parts 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone 5 parts Solvesso 150 15 parts Barium sulfate 30 parts ─────────────── ─────────────────── Total base agent 100 parts

【0073】 硬化剤 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 「エピクロンN−680」(大日本インキ化 学工業(株)製) 15部 ブチルセロソルブアセテート 5部 硫酸バリウム 10部 ───────────────────────────────── 硬化剤合計 30部Curing agent Cresol novolac type epoxy resin "Epiclon N-680" (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 15 parts Butyl cellosolve acetate 5 parts Barium sulfate 10 parts ────────────── ───────────────────── Curing agent Total 30 parts

【0074】次いで、実施例1と同様にして、以下に示
す評価試験方法に従って測定した結果を第1表に示す。
Then, in the same manner as in Example 1, the results measured according to the following evaluation test methods are shown in Table 1.

【0075】実施例3 エポキシ当量280の臭素化フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂「エピクロンN−135」〔大日本インキ化
学工業(株)製、臭素含有率35重量%〕の280部
と、HYCAR CTBN 1300X13の90部、
アクリル酸の68部(エポキシ基の数:総カルボキシル
基の数=1:1)とをブチルカルビトールアセテート2
20部中で反応させて得られるゴム変性臭素化フェノー
ルノボラックエポキシビニルエステル樹脂438部と、
テトラヒドロ無水フタル酸の76部(水酸基の数:酸無
水物基の数=1.0:0.5)とを反応させて、臭素含
有率19重量%、酸価が55mgKOH/gの樹脂分を
70%含有する樹脂溶液(A−3)を得た。
Example 3 280 parts of brominated phenol novolac type epoxy resin "Epiclon N-135" (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., bromine content 35% by weight) having an epoxy equivalent of 280 and HYCAR CTBN 1300X13 90 copies,
68 parts of acrylic acid (number of epoxy groups: total number of carboxyl groups = 1: 1) and butyl carbitol acetate 2
Rubber-modified brominated phenol novolac epoxy vinyl ester resin 438 parts obtained by reacting in 20 parts,
By reacting with 76 parts of tetrahydrophthalic anhydride (the number of hydroxyl groups: the number of acid anhydride groups = 1.0: 0.5), a resin component having a bromine content of 19% by weight and an acid value of 55 mgKOH / g is obtained. A resin solution (A-3) containing 70% was obtained.

【0076】次いで、下記のごとき配合にした以外は実
施例1と同様にして、本発明の組成物を調製した後、更
に実施例1と同様にして供試体(3−a、3−b、3−
c)を得た。
Then, the composition of the present invention was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following components were mixed, and then the test pieces (3-a, 3-b, 3-
c) was obtained.

【0077】 (配合) 主剤 樹脂溶液(A−3) 50部 2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン 5部 ソルベッソ150 12部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 3部 硫酸バリウム 30部 ───────────────────────────────── 主剤合計 100部(Compounding) Main agent Resin solution (A-3) 50 parts 2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenone 5 parts Solvesso 150 12 parts Dipentaerythritol hexaacrylate 3 parts Barium sulfate 30 parts ─────── ────────────────────────── Total 100 parts of active ingredient

【0078】 硬化剤 「エピクロンN−680」 15部 ブチルセロソルブアセテート 5部 硫酸バリウム 10部 ───────────────────────────────── 硬化剤合計 30部 次いで、実施例1と同様にして、以下に示す評価試験方
法に従って測定した結果を第1表に示す。
Curing agent "Epiclone N-680" 15 parts Butyl cellosolve acetate 5 parts Barium sulfate 10 parts ────────────────────────────── ────Curing agent Total 30 parts Then, in the same manner as in Example 1, the results measured according to the following evaluation test methods are shown in Table 1.

【0079】比較例1 エポキシ当量215の「エピクロンN−680」の21
5部とアクリル酸の72部(エポキシ基の数:カルボキ
シル基の数=1.0:1.0)とをブチルカルビトール
アセテート162部中で反応させて得られるクレゾール
ノボラックエポキシビニルエステル樹脂287部と、テ
トラヒドロ無水フタル酸91部(水酸基の数:酸無水物
基の数=1.0:0.6)とを反応させて、酸価が89
mgKOH/gに樹脂分を70%含有する樹脂液(B−
1)を得た。
Comparative Example 1 21 of "Epiclone N-680" having an epoxy equivalent of 215
287 parts of cresol novolac epoxy vinyl ester resin obtained by reacting 5 parts with 72 parts of acrylic acid (the number of epoxy groups: the number of carboxyl groups = 1.0: 1.0) in 162 parts of butyl carbitol acetate And tetrahydrophthalic anhydride 91 parts (number of hydroxyl groups: number of acid anhydride groups = 1.0: 0.6) are reacted to give an acid value of 89.
Resin solution containing 70% resin content in mgKOH / g (B-
1) was obtained.

【0080】次いで、下記のごとき配合にした以外は実
施例1と同様にして、比較用の組成物を調製した後、更
に実施例1と同様にして供試体(1’−a、1’−b、
1’−c)を得た。
Then, a comparative composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following components were mixed, and then the test pieces (1'-a, 1'-) were prepared in the same manner as in Example 1. b,
1'-c) was obtained.

【0081】 (配合) 主剤 樹脂溶液(B−1) 50部 2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン 5部 ソルベッソ150 15部 硫酸バリウム 30部 ───────────────────────────────── 主剤合計 100部(Blending) Main agent Resin solution (B-1) 50 parts 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone 5 parts Solvesso 150 15 parts Barium sulfate 30 parts ─────────────── ─────────────────── Total base agent 100 parts

【0082】 硬化剤 「エピクロンN−680」 15部 ブチルセロソルブアセテート 5部 硫酸バリウム 10部 ───────────────────────────────── 硬化剤合計 30部 次いで、実施例1と同様にして、以下に示す評価試験方
法に従って測定した結果を第1表に示す。
Curing agent "Epiclone N-680" 15 parts Butyl cellosolve acetate 5 parts Barium sulfate 10 parts ─────────────────────────────── ────Curing agent Total 30 parts Then, in the same manner as in Example 1, the results measured according to the following evaluation test methods are shown in Table 1.

【0083】比較例2 「エピクロン153」400部とアクリル酸72部(エ
ポキシ基の数:カルボキシル基の数=1:1)とを反応
させて得られる臭素化エポキシビニルエステル樹脂47
2部と、テトラヒドロ無水フタル酸153部(水酸基の
数:酸無水物基の数=1.0:0.9)とを、ブチルカ
ルビトールアセテート268部中で反応させて、臭素含
有率31重量%、酸価が81mgKOH/gの樹脂分を
70%含有する樹脂溶液(B−2)を得た。
Comparative Example 2 Brominated epoxy vinyl ester resin 47 obtained by reacting 400 parts of "Epiclone 153" with 72 parts of acrylic acid (the number of epoxy groups: the number of carboxyl groups = 1: 1)
2 parts and 153 parts of tetrahydrophthalic anhydride (the number of hydroxyl groups: the number of acid anhydride groups = 1.0: 0.9) are reacted in 268 parts of butyl carbitol acetate to give a bromine content of 31% by weight. %, And a resin solution (B-2) containing 70% of a resin component having an acid value of 81 mgKOH / g was obtained.

【0084】次いで、下記のごとき配合にした以外は実
施例1と同様にして、比較用の組成物を調製した後、更
に実施例1と同様にして供試体(2’−a、2’−b、
2’−c)を得た。
Then, a comparative composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following components were used, and then the test pieces (2'-a, 2'-) were prepared in the same manner as in Example 1. b,
2'-c) was obtained.

【0085】 (配合) 主剤 樹脂溶液(B−2) 50部 2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン 5部 ソルベッソ150 15部 硫酸バリウム 30部 ───────────────────────────────── 主剤合計 100部(Compounding) Main agent Resin solution (B-2) 50 parts 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone 5 parts Solvesso 150 15 parts Barium sulfate 30 parts ─────────────── ─────────────────── Total base agent 100 parts

【0086】 硬化剤 「エピクロンN−680」 15部 ブチルセロソルブアセテート 5部 硫酸バリウム 10部 ───────────────────────────────── 硬化剤合計 30部 次いで、実施例1と同様にして、以下に示す評価試験方
法に従って測定した結果を第1表に示す。尚、難燃性は
UL規格に準拠して行なった。
Hardener "Epiclone N-680" 15 parts Butyl cellosolve acetate 5 parts Barium sulfate 10 parts ─────────────────────────────── ────Curing agent Total 30 parts Then, in the same manner as in Example 1, the results measured according to the following evaluation test methods are shown in Table 1. The flame retardancy was measured according to UL standards.

【0087】[評価試験方法] 引きはがし強さ:片面に銅メッキを施した供試体を用
い、JIS C 6481に準じて、はがした銅箔の先
端をつかみ具でつかみ、引っ張り方向が銅箔面に垂直に
なる方向に引きはがし、この時の最低値を銅箔の引きは
がし強さとする。
[Evaluation test method] Peeling strength: Using a test piece having one surface plated with copper, the tip of the peeled copper foil was gripped with a gripper according to JIS C 6481, and the pulling direction was copper foil. Peel in the direction perpendicular to the surface, and the minimum value at this time is the peel strength of the copper foil.

【0088】はんだ耐熱性:電解銅メッキを施したプリ
ント配線板を用い、JIS C 6481に準じて、銅
箔のある面を下に向け、全面がはんだに浸かるように浮
かべ、260℃のはんだ浴に10秒間浮かせ、取り出し
た後、銅箔面及び層間絶縁層面のふくれまたは剥がれ、
クラックなどの異常が発生の有無を観察した。
Solder heat resistance: A printed wiring board plated with electrolytic copper is used, and the copper foil is floated down so that the entire surface is immersed in the solder according to JIS C 6481. Boil or peel off the copper foil surface and interlayer insulation layer surface after floating for 10 seconds
The presence or absence of abnormalities such as cracks was observed.

【0089】耐トリクロールエチレン性:片面に銅メッ
キを施した供試体をJIS C 6481に準じて試験
片を作成し、沸騰したトリクロールエチレン中に5分間
浸漬してから取り出し、層間絶縁層面及び銅箔面の外観
の変化を調べる。
Trichlorethylene resistance: A test piece with copper plating on one side was prepared in accordance with JIS C 6481, immersed in boiling trichlorethylene for 5 minutes, and then taken out. Investigate changes in the appearance of the copper foil surface.

【0090】○:外観変化なし。 ×:外観変化(絶縁層面の白化やクラック;銅箔面の剥
離やふくれ)有り。 絶縁抵抗:IPC規格のIPC−TM−650のIPC
−B−25のパターンを有する供試体を用い、IPC−
SM−840B 3.8.2 クラス3に準じて供試体
を調製し、100Vの直流電圧を加えて1分間保った
後、その電圧印加状態で絶縁抵抗を測定した。
A: No change in appearance X: There is a change in appearance (whitening or cracks on the insulating layer surface; peeling or blistering on the copper foil surface). Insulation resistance: IPC of IPC standard IPC-TM-650
-Using a specimen having a pattern of B-25, IPC-
SM-840B 3.8.2 A test piece was prepared according to Class 3, a DC voltage of 100 V was applied and maintained for 1 minute, and then the insulation resistance was measured under the applied voltage.

【0091】可とう性試験:JIS K 5400に準
じてエリクセン試験機を用いて、試験片の裏面から鋼球
を押し出して、試験片を変形させたときに塗膜の割れお
よび剥がれを生じるまでの押し出し距離を測定した。
Flexibility test: In accordance with JIS K 5400, an Erichsen tester was used to extrude a steel ball from the back surface of the test piece, and when the test piece was deformed, cracking and peeling of the coating film occurred. The extrusion distance was measured.

【0092】[0092]

【表1】 [Table 1]

【0093】[0093]

【発明の効果】本発明が解決しようとする課題は、自己
難燃性を有し、回路を形成する銅メッキの密着性に優れ
る、多層プリント配線板の製造に適した希アルカリ溶液
で現像可能な多層プリント配線板用層間電気絶縁材料を
提供できる。
The problem to be solved by the present invention is that it has a self-flame retardant property and is excellent in the adhesiveness of copper plating for forming a circuit, and can be developed with a dilute alkaline solution suitable for the production of multilayer printed wiring boards. An interlayer electrical insulation material for a multilayer printed wiring board can be provided.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 163/10 C09D 163/10 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI Technical display area C09D 163/10 C09D 163/10

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)ゴム変性ハロゲン化エポキシビニ
ルエステル樹脂の水酸基に多塩基酸無水物を反応させた
構造を有する酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン化エポキ
シビニルエステル樹脂、(B)希釈剤、(C)光重合開
始剤、および、(D)熱硬化成分を必須成分とすること
を特徴とする多層プリント配線板用層間電気絶縁材料。
1. An acid pendant type rubber modified halogenated epoxy vinyl ester resin having a structure in which a hydroxyl group of the rubber modified halogenated epoxy vinyl ester resin is reacted with a polybasic acid anhydride, (B) a diluent, An interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board, which comprises C) a photopolymerization initiator and (D) a thermosetting component as essential components.
【請求項2】 ゴム変性ハロゲン化エポキシビニルエス
テル樹脂が、ハロゲン化エポキシ樹脂にカルボキシル基
含有ゴム状重合体とエチレン性不飽和一塩基酸とを反応
させた構造を有するものである請求項1記載の多層プリ
ント配線板用層間電気絶縁材料。
2. The rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin has a structure in which a halogenated epoxy resin is reacted with a carboxyl group-containing rubber-like polymer and an ethylenically unsaturated monobasic acid. Inter-layer electrical insulation material for multilayer printed wiring boards.
【請求項3】 カルボキシル基含有ゴム状重合体が、共
役ジエン系ビニルモノマーとアクリロニトリルとの直鎖
状の共重合体であって分子両末端にカルボキシル基を有
するものである請求項2記載の多層プリント配線板用層
間電気絶縁材料。
3. The multi-layer according to claim 2, wherein the carboxyl group-containing rubbery polymer is a linear copolymer of a conjugated diene vinyl monomer and acrylonitrile and has carboxyl groups at both ends of the molecule. Interlayer electrical insulation material for printed wiring boards.
【請求項4】 酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン化エポ
キシビニルエステル樹脂(A)が、カルボキシル基含有
ゴム状重合体に基づくゴム状重合体エステル構造部位
を、該エポキシビニルエステル樹脂(A)中、3〜60
重量%の割合で含有するものである請求項2、3または
4記載の多層プリント配線板用層間電気絶縁材料。
4. The acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A) has a rubber-like polymer ester structure site based on a carboxyl-group-containing rubber-like polymer, in the epoxy vinyl ester resin (A). ~ 60
The interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board according to claim 2, 3 or 4, which is contained in a weight percentage.
【請求項5】 ゴム変性ハロゲン化エポキシビニルエス
テル樹脂が、ハロゲン化エポキシ樹脂のエポキシ基1当
量当たり、カルボキシル基含有ゴム状重合体中に存在す
るカルボキシル基とエチレン性不飽和一塩基酸のカルボ
キシル基との合計が0.8〜1.1当量となる割合で反
応したものである請求項4記載の多層プリント配線板用
層間電気絶縁材料。
5. The rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin comprises a carboxyl group present in a carboxyl group-containing rubber-like polymer and a carboxyl group of an ethylenically unsaturated monobasic acid per equivalent of epoxy group of the halogenated epoxy resin. And a total of 0.8 to 1.1 equivalents are reacted, the interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board according to claim 4.
【請求項6】 酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン化エポ
キシビニルエステル樹脂(A)が、ゴム変性ハロゲン化
エポキシビニルエステル樹脂の水酸基1モルに対して、
多塩基酸無水物中の無水酸基が0.3〜1.0モルとな
る割合で用いて反応させた構造有するものである請求項
1〜5の何れか1つに記載の多層プリント配線板用層間
電気絶縁材料。
6. An acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A) is used, relative to 1 mol of a hydroxyl group of the rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin.
6. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the polybasic acid anhydride has a structure in which it is reacted with a non-hydroxyl group in a proportion of 0.3 to 1.0 mol. Interlayer electrical insulation material.
【請求項7】 酸ペンダント型ゴム変性ハロゲン化エポ
キシビニルエステル樹脂(A)が、30〜140mgK
OH/gの酸価を有するものである請求項6に記載の多
層プリント配線板用層間電気絶縁材料。
7. An acid pendant type rubber-modified halogenated epoxy vinyl ester resin (A) is 30 to 140 mgK.
The interlayer electrical insulating material for a multilayer printed wiring board according to claim 6, which has an acid value of OH / g.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002275241A (en) * 2001-03-19 2002-09-25 Hitachi Chem Co Ltd Insulating resin composition, use thereof and method for producing circuit board
JP2013041114A (en) * 2011-08-16 2013-02-28 Dic Corp Photosensitive resin composition
CN113721423A (en) * 2021-09-01 2021-11-30 大同共聚(西安)科技有限公司 Preparation method of flame-retardant insulating protective layer on wiring board

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