JPH10340843A

JPH10340843A - 照明装置および露光装置

Info

Publication number: JPH10340843A
Application number: JP9149700A
Authority: JP
Inventors: Tetsuya Oshino; 哲也押野
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1997-06-06
Filing date: 1997-06-06
Publication date: 1998-12-22

Abstract

(57)【要約】【課題】機械的強度が高く、しかもＸ線に対する透過
率が高いフィルターを備えた照明装置と、該照明装置を
照明光学系として用いた露光装置を提供すること【解決手段】光源１から出射されたＸ線３１を被照明
物体５に照射する照明装置であり、少なくとも、前記光
源１から出射されたＸ線３１を集光する集光光学系２
と、該集光光学系２の集光位置６に、或いは集光位置６
の近傍に配置されたフィルター３と、該フィルター３を
透過したＸ線３３を前記被照明物体５に照射する照射光
学系４と、を備えたことを特徴とする照明装置

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線光学系とフィ
ルタ−を有する照明装置と、該照明装置を照明光学系と
して備えた露光装置に関するものであり、露光装置とし
ては特に、Ｘ線光学系等のミラープロジェクション方式
により、フォトマスク（マスクまたはレチクル）上の回
路パターンを、投影結像光学系を介して基板（ウエハ
等）上に転写するのに好適な、Ｘ線投影露光装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造用の露光装置は、物体面とし
てのフォトマスク（以下、マスクと称する）面上に形成
された回路パターンを、結像光学系を介してウエハ等の
基板上に投影転写する。基板にはレジストが塗布されて
おり、露光することによりレジストが感光し、レジスト
パターンが得られる。

【０００３】従来のＸ線投影露光装置（一例）の構成
（一部）を概念的に図５に示す。露光装置は、Ｘ線源
１、該Ｘ線源１から出射されたＸ線３１をマスク５上に
照射する照明光学系（照明装置）４１、マスク５のステ
ージ８、マスク５からのＸ線３５を受けて、マスク５上
に形成されたパターンをウエハ１０上に投影結像する投
影結像光学系９、ウエハ１０のステージ１１により構成
される。

【０００４】Ｘ線は、従来の光学レンズでは回折させる
ことが困難であり、そのため、照明光学系４１及び結像
光学系９は、反射鏡を用いて構成される。また、波長１
３ｎｍの軟Ｘ線に対しては、モリブデンとシリコンの交
互多層膜が高い反射率を有するので、波長１３ｎｍの軟
Ｘ線の場合には、前記交互多層膜を反射鏡の反射面に設
けた多層膜反射鏡を用いることが多い。

【０００５】マスク５には、ウエハ１０上に描画（投
影）するパターンの等倍パタ−ンまたは拡大パターンが
形成されている。マスクも、やはり反射型とすることが
好ましく、例えば、前記多層膜の上にＸ線吸収物質を所
望パターンに配置したものを使用するとよい。このよう
にすれば、多層膜が露出した部分ではＸ線が反射され、
パターン状に配置された吸収物質の部分ではＸ線が反射
されない。

【０００６】Ｘ線源１から出射されたＸ線３１は、照明
光学系４１を通してマスク５上に照射される。そして、
マスク５で反射されたＸ線３５は、結像光学系９を通し
てウエハ１０上に照射される。このようにして、マスク
５上のパターンをウエハ１０上に結像するようになって
いる。

【０００７】ウエハ１０の表面にはレジストが塗布して
あり、レジストは照射されたＸ線により感光する。そし
て、レジストを現像することにより、前記マスクのパタ
−ンに応じたレジストパターンを得ることができる。Ｘ
線源１には、放射光光源またはレーザープラズマＸ線源
が用いられる。いずれの場合も、Ｘ線源１からは露光に
使用するＸ線（以後、露光Ｘ線という）とともに、露光
に使用しない紫外線や可視光等が出射される。

【０００８】紫外線や可視光等の長波長光の一部は、多
層膜反射鏡の表面で反射されてウエハに達し、レジスト
を感光させてレジストパターンの形状を劣化させるおそ
れがある。そのため、露光Ｘ線以外の光（特に、多層膜
反射鏡で反射される長波長の光）をフィルター等を用い
て除去する必要があった。

【０００９】従来のＸ線投影露光装置における照明光学
系として用いられている照明装置の一例を図６に示す。
照明装置は、フィルター４２と照射光学系４３により構
成され、光源１から出射されたＸ線３１をマスク５上の
所望領域に照射する。この際、マスク５上に到達するＸ
線の強度が高いと、露光装置のスループットが高くなる
ので好ましい。

【００１０】さらに、照明光学系（照明装置）は、露光
Ｘ線以外の長波長光（紫外線や可視光等）を除去するこ
とが好ましい。そのため、従来の照明光学系（照明装
置）には、光源１とマスク５との間にフィルター４２が
配置され、このフィルター４２により、紫外線や可視光
等の長波長光を除去していた。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】フィルターは、露光Ｘ
線に対する透過率が高いものが好ましい。ところが、Ｘ
線に対する物質の透過率は低いため、フィルターのフィ
ルタ−機能部分を厚さの薄い部材（メンブレン）により
構成する必要があった。しかしながら、高い透過率を得
るためにメンブレンの厚さをうすくすると、メンブレン
の機械的強度が低下して、破壊されやすくなるという問
題点があった。

【００１２】ここで、従来のフィルター（一例）の断面
を図７に示す。従来のフィルターはメンブレン４４の周
囲を補強材４５により保持することで、メンブレン４４
の機械的強度を補強していた。Ｘ線はメンブレン４４を
透過するが、補強材４５を透過しないので、フィルター
の透過率を高めるためには、照明に寄与する全てのＸ線
がメンブレン４４を透過するように、或いは補強材４５
が露光Ｘ線をけらないように、メンブレン４４の面積を
十分大きなものにする必要がある。

【００１３】しかし、メンブレンの面積を大きくする
と、補強材４５による補強効果が小さくなり、その結
果、メンブレンの機械的強度が低下するという問題点が
あった。また、メンブレンの機械的強度を増大させるた
めに、厚さを大きくするとＸ線の透過率が低下するとい
う問題点があった。さらに、メンブレンの機械的強度を
増大させるために、メンブレンの面積を小さくすると、
照明に寄与する全てのＸ線がメンブレン４４を透過する
ように、或いは補強材４５が露光Ｘ線をけらないように
することができなくなり、その結果、露光Ｘ線の透過率
（使用効率）が低下するという問題点があった。

【００１４】即ち、従来の照明装置に用いられるフィル
ターには、高い機械的強度とＸ線に対する高い透過率と
を同時に満たすことが困難であるという問題点があっ
た。また、レーザープラズマ光源（Ｘ線源）のように、
Ｘ線源が点光源である場合には、Ｘ線源の近傍にフィル
ターを配置すれば、面積が小さいメンブレンとその補強
材を備えたフィルターを用いても、補強材が露光Ｘ線を
けらないようにすることは容易である。

【００１５】しかし、レーザープラズマ光源の場合に
は、Ｘ線源から飛散粒子（デブリ）が発生するので、フ
ィルターをＸ線源の近傍に配置すると、Ｘ線を透過しに
くい飛散粒子がフィルターに付着しやすくなる。即ち、
レーザープラズマ光源（Ｘ線源）の近傍に、面積が小さ
いメンブレンとその補強材を備えたフィルターを配置す
ると、補強材が露光Ｘ線をけらないようにすることは容
易であるが、飛散粒子がメンブレンに付着することによ
り、メンブレンの透過率が低下するという問題点があっ
た。

【００１６】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
ものであり、機械的強度が高く、しかもＸ線に対する透
過率が高いフィルターを備えた照明装置と、該照明装置
を照明光学系として用いた露光装置を提供することを目
的としている。

【００１７】

【課題を解決するための手段】そのため、本発明は第一
に「光源から出射されたＸ線を被照明物体に照射する照
明装置であり、少なくとも、前記光源から出射されたＸ
線を集光する集光光学系と、該集光光学系の集光位置
に、或いは集光位置の近傍に配置されたフィルターと、
該フィルターを透過したＸ線を前記被照明物体に照射す
る照射光学系と、を備えたことを特徴とする照明装置
（請求項１）」を提供する。

【００１８】また、本発明は第二に「前記フィルターは
少なくとも、Ｘ線を透過しやすく、かつ紫外線及び可視
光を透過しにくいメンブレンを有することを特徴とする
請求項１記載の照明装置（請求項２）」を提供する。ま
た、本発明は第三に「前記メンブレンは少なくとも、ベ
リリウム、ケイ素、ホウ素または炭素により、或いはこ
れらの化合物により、構成されることを特徴とする請求
項２記載の照明装置（請求項３）」を提供する。

【００１９】また、本発明は第四に「前記集光光学系
は、１枚の回転楕円ミラーまたは回転放物ミラーを有す
ることを特徴とする請求項１〜３記載の照明装置（請求
項４）」を提供する。また、本発明は第五に「前記フィ
ルターに冷却機構を設けたことを特徴とする請求項１〜
４記載の照明装置（請求項５）」を提供する。

【００２０】また、本発明は第六に「請求項１〜５記載
の照明装置を具備したことを特徴とする露光装置（請求
項６）」を提供する。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明（請求項１〜５）にかかる
照明装置は、光源から出射されたＸ線を集光する集光光
学系の集光位置に、或いは集光位置の近傍にフィルタ−
を配置しているので、機械的強度が高く、しかもＸ線に
対する透過率が高いフィルターを用いることができる。

【００２２】例えば図１に示すように、フィルター３を
集光光学系２の集光位置６に、或いは集光位置の近傍に
配置すると、フィルター３に入射するＸ線３２の断面積
が小さくなる。そのため、フィルター機能部分（例えば
メンブレン）の大きさを、集光光学系２により集光され
るＸ線の集光サイズ（フィルター３に入射するＸ線３２
の断面積）程度にまで小さくすることが可能となる。

【００２３】従って、従来のフィルターに比べて面積の
小さなフィルター機能部分（例えばメンブレン）を用い
ても、フィルター機能部分の補強材によりＸ線がけられ
ることはない。この様に、本発明にかかる照明装置によ
れば、フィルター機能部分（例えばメンブレン）の面積
を小さくすることができるので、Ｘ線の透過率を高くす
べくその厚さをうすくしても、フィルター機能部分は十
分な強度を保つことができる。

【００２４】即ち、本発明（請求項１〜５）にかかる照
明装置によれば、機械的強度が高く、しかもＸ線に対す
る透過率が高いフィルターを用いることができる。本発
明にかかるフィルターとしては、Ｘ線を透過しやすく、
かつ紫外線及び可視光を透過しにくいフィルター機能部
分として、例えばメンブレンを有するものが使用できる
（請求項２）。

【００２５】また、前記メンブレンとしては、例えば、
ベリリウム、ケイ素、ホウ素または炭素を用いたもの
が、或いはこれらの化合物を用いたものが使用できる
（請求項３）。即ち、前記メンブレンとしては、露光Ｘ
線を透過しやすく、しかも露光Ｘ線よりも長波長の光
（紫外線や可視光等）を透過しにくい材料を用いたもの
が好ましい。

【００２６】例えば、波長１３ｎｍ付近のＸ線に対して
は、Ｘ線透過率が高いベリリウムまたは珪素等を用いた
ものが、或いは、これらの化合物を用いたものが好まし
い。また、波長７ｎｍ付近のＸ線に対しては、Ｘ線透過
率が高いホウ素等を用いたものが、或いは、その化合物
を用いたものが好ましい。さらに、波長５ｎｍ付近のＸ
線に対しては、Ｘ線透過率が高い炭素等を用いたもの
が、或いは、その化合物を用いたものが好ましい。

【００２７】本発明にかかる集光光学系は、１枚の回転
楕円ミラーまたは回転放物ミラーを有するものが好まし
い（請求項４）。即ち、Ｘ線の反射鏡による反射率は10
0 ％に満たないため、反射鏡の枚数はＸ線の損失を防ぐ
観点から、なるべく少くすることが好ましい。例えば、
レーザープラズマ光源のような点光源を用いる場合は、
集光光学系２を少なくとも１枚の回転楕円ミラーにより
構成すると、Ｘ線を微小な点に集光することができる。

【００２８】図２は、集光光学系をわずか１枚の回転楕
円ミラー２１により構成した例を示している。回転楕円
ミラー２１の二つの焦点位置のうち、一方の焦点位置に
光源を配置すると、もう一方の焦点位置にＸ線が集光す
る。この様に、レーザープラズマ光源のような点光源を
用いる場合は、集光光学系２をわずか１枚のミラーによ
り構成することができる。

【００２９】また、シンクロトロン放射光のような平行
光束のＸ線を出射する光源を用いる場合は、集光光学系
２を少なくとも１枚の回転放物ミラーにより構成する
と、Ｘ線を微小な点に集光することができる。図３は、
集光光学系をわずか１枚の回転放物ミラー２２により構
成した例を示している。回転放物ミラーの回転軸がＸ線
３１の光軸と平行になるように、回転放物ミラーを配置
することで、回転軸上にＸ線が集光する。

【００３０】この様に、シンクロトロン放射光のような
平行光束のＸ線を出射する光源を用いる場合も、集光光
学系22をわずか１枚のミラーにより構成することができ
る。また、本発明にかかるフィルターには、冷却機構を
設けることが好ましい（請求項５）。即ち、フィルター
に入射する光（Ｘ線や紫外線等）の強度が大きい場合
は、フィルターに、冷却機構を設けることが好ましい。
冷却機構を設けることにより、フィルターの温度上昇に
よる破損が起こりにくくなる。

【００３１】冷却機構としては、例えば、フィルター機
能部分の周辺（例えば補強材）を液体またはガス等の冷
媒により冷却する機構が使用できる。或いは、補強材を
熱伝導率の高い部材で構成することで、熱伝導により冷
却するようにしてもよい。本発明にかかるフィルター
は、フィルター機能部分の面積が小さいので、フィルタ
ー機能部分の熱容量も小さい。そのため、補強材を熱伝
導率の高い部材で構成することで、熱伝導によりフィル
ター機能部分が容易に冷却される。

【００３２】或いは、フィルターを集光位置から光軸方
向に少しずらすことで、フィルターに照射される光（Ｘ
線や紫外線等）の照射面積をわずかに増大させてもよ
い。このようにすれば、フィルター機能部分における単
位面積当たりの照射強度が小さくなるので、フィルター
機能部分の温度上昇を抑制することができる。図１は、
本発明にかかる照明装置（一例）の構成（一部）を示す
概念図であり、この照明装置は、Ｘ線源１から出射され
たＸ線３１を集光する集光光学系２、フィルター３、該
フィルター３を透過したＸ線３３をマスク５上に照射す
る照明光学系４を有する。

【００３３】集光光学系２は、Ｘ線源１からのＸ線３１
を集光点６に集光する。集光光学系２は、反射鏡により
構成することが好ましく、特に多層膜反射鏡や全反射鏡
により構成すると、Ｘ線反射率が高くなるので好まし
い。フィルター３は、露光Ｘ線を透過しやすく、しかも
紫外線等の露光Ｘ線よりも長波長の光を透過しにくい材
料を用いて、そのフィルタ−機能部分を構成すると、照
明装置を照明光学系として用いた露光装置の解像度が高
くなり、さらに該露光装置のスループットも高くなるの
で好ましい。

【００３４】フィルター３は、露光Ｘ線の透過率を高め
るために、そのフィルタ−機能部分を厚さの薄い部材
（メンブレン）により構成することが好ましく、またメ
ンブレン中をＸ線３２が透過する距離が小さくなるよう
に、フィルターを配置することが好ましい。さらに、フ
ィルター３は図１に示すように、集光光学系２の集光位
置６近傍に配置するのが好ましい。

【００３５】この様に配置することで、フィルター３に
入射するＸ線３２の断面積が小さくなり、その結果、従
来フィルターのメンブレンに比べて面積の小さなメンブ
レンを用いても、補強材によってＸ線がけられることは
ない。フィルターのメンブレンの大きさは、集光光学系
２により集光されるＸ線の集光サイズ程度にまで小さく
することが可能である。

【００３６】この様に、図１の照明装置は、メンブレン
の面積を小さくすることができる。そのため、Ｘ線の透
過率を高くすべくメンブレンの厚さをうすくしても、十
分な強度を保つことができる。図４は、本発明（請求項
６）にかかる露光装置（一例）の構成（一部）を示す概
念図である。

【００３７】この露光装置は、Ｘ線源１、該Ｘ線源１か
らのＸ線３１をマスク５上に照射する照明光学系（照明
装置）７、マスク５のステージ８、マスク５からのＸ線
３５を受けて、マスク５上に形成されたパターンをウエ
ハ１０上に投影結像する投影結像光学系９、ウエハ１０
のステージ１１を有する。そして、本露光装置の照明光
学系７には、機械的強度が高く、しかもＸ線に対する透
過率が高いフィルターを備えた本発明（請求項１〜５）
にかかる照明装置を使用している。

【００３８】本露光装置では、Ｘ線に対する透過率が高
いフィルターを備えた照明光学系７からマスク上に高強
度のＸ線が照射されるため、ウエハに達するＸ線の強度
も大きくなり、高いスループットで露光することができ
る。また、光源から出射された長波長の光（紫外線や可
視光等）は、照明光学系７においてフィルタ−により除
去されている。そのため、マスク上のパターンは高い転
写精度でウエハ上に転写されて、所望のレジストパター
ンが得られる。

【００３９】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものでは
ない。

【００４０】

【実施例１】図２は、本実施例にかかる照明装置（一
例）の構成（一部）を示す概念図である。この照明装置
は、Ｘ線源１からのＸ線３１を集光する集光光学系２
１、フィルター３、該フィルター３を透過したＸ線３３
をマスク５上に照射する照明光学系４を有する。

【００４１】本照明装置により、Ｘ線源１であるレーザ
ープラズマ光源から出射された波長１３ｎｍのＸ線をマ
スク５上に照射した。集光光学系２１は、回転楕円ミラ
ーにより構成し、ミラーの表面にはモリブデンと珪素か
らなる交互多層膜を形成した。こうすることで、光源１
からのＸ線３１を効率よく、集光点６に集光させること
ができた。そして、Ｘ線の集光サイズは直径約0.8 ｍｍ
であった。

【００４２】フィルター３は、厚さ0.1 μｍの珪素製メ
ンブレンと保持（補強）部材により構成した。メンブレ
ンの大きさは1mm 角とした。メンブレンは厚さがうすい
ものの、サイズが小さいので十分な機械的強度を有し
た。さらに、従来よりも薄い珪素のメンブレンを用いる
ことにより、波長１３ｎｍ付近のＸ線対して高い透過率
が得られた。また、長波長光（紫外線や可視光等）の透
過率は、無視できるほど十分小さな値であった。

【００４３】珪素のメンブレンは、シリコンウエハ表面
にホウ素をイオン注入でドープした後、裏面をウエット
エッチングすることにより作製した。フィルター３は図
２に示すように、集光光学系２１の集光位置６の近傍に
配置した。フィルターは、Ｘ線がけられないように配置
した。また、フィルターには水冷機構を設けて、保持
（補強）部材のうちメンブレンに近接する部分を水冷し
た。このようにすることで、フィルターの温度は一定に
保たれた。

【００４４】図４は、本実施例の照明装置を照明光学系
として具備した露光装置（一例）の構成（一部）を示す
概念図である。本露光装置は、Ｘ線源１、該Ｘ線源１か
ら発生するＸ線３１をマスク５上に照射する照明光学系
（照明装置）７、マスク５のステージ８、マスク５から
のＸ線３５を受けて、マスク５上に形成されたパターン
をウエハ１０上に投影結像する投影結像光学系９、ウエ
ハ１０のステージ１１を有する。

【００４５】投影結像光学系９は、輪帯状の視野を有す
る縮小光学系を用いた。本露光装置による露光を行った
結果、所望のレジストパターンを高いスループットで得
ることができた。スループットは、従来の露光装置の約
２倍であった。また、従来の露光装置の場合には、露光
中にフィルターが破損することがあったが、本実施例に
かかる露光装置は、露光中もフィルターが破損すること
はなかった。

【００４６】

【実施例２】図３は、本実施例にかかる照明装置（一
例）の構成（一部）を示す概念図である。本照明装置
は、Ｘ線源１からのＸ線３１を集光する集光光学系２
２、フィルター３、該フィルター３を透過したＸ線３２
をマスク５上に照射する照明光学系４を有する。

【００４７】本照明装置により、Ｘ線源１である放射光
光源から出射された波長4.5 ｎｍのＸ線をマスク５上に
照射した。集光光学系２２は、１枚の回転放物ミラーに
より構成し、ミラーの表面にはニッケルと炭素からなる
交互多層膜を形成した。こうすることで、光源１からの
Ｘ線３１を効率よく、集光点６に集光させることができ
た。そして、Ｘ線の集光サイズは、直径約１mmであっ
た。

【００４８】フィルターは、厚さ0.1 μｍの炭素製メン
ブレンと保持（補強）部材により構成した。メンブレン
の大きさは、1.2mm 角とした。メンブレンは厚さがうす
いものの、サイズが小さいので十分な機械的強度を有し
た。さらに、従来よりも薄い炭素のメンブレンを用いる
ことにより、波長4.5 ｎｍ付近のＸ線対して、高い透過
率が得られた。また、長波長光（紫外線や可視光等）の
透過率は、無視できるほど十分小さな値であった。

【００４９】図４は、本実施例の照明装置を照明光学系
として具備した露光装置（一例）の構成（一部）を示す
概念図である。本露光装置は、Ｘ線源１、該Ｘ線源１か
らのＸ線３１をマスク５上に照射する照明光学系（照明
装置）７、マスク５のステージ８、マスク５からのＸ線
３５を受けて、マスク５上に形成されたパターンをウエ
ハ１０上に投影結像する投影結像光学系９、ウエハ１０
のステージ１１を有する。

【００５０】投影結像光学系９は、輪帯状の視野を有す
る縮小光学系を用いた。本露光装置による露光を行った
結果、所望のレジストパターンを高いスループットで得
ることができた。スループットは、従来の露光装置の約
２倍であった。また、従来の露光装置の場合には、露光
中にフィルターが破損することがあったが、本実施例に
かかる露光装置は、露光中もフィルターが破損すること
はなかった。

【００５１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明（請求項１
〜５）によれば、機械的強度が高く、しかもＸ線に対す
る透過率が高いフィルターを備えた照明装置を提供する
ことができる。また、本発明（請求項６）の露光装置に
おいては、Ｘ線に対する透過率が高いフィルターを備え
た照明光学系からマスク上に高強度のＸ線が照射される
ため、ウエハに達するＸ線の強度が大きく、高いスルー
プットで露光を行うことができる。

【００５２】また、光源から出射された長波長の光（紫
外線や可視光等）は、照明光学系においてフィルタ−に
より除去されている。そのため、マスク上のパターンは
高い転写精度でウエハ上に転写されて、所望のレジスト
パターンが得られる。さらに、フィルタ−の機械的強度
が高いので、露光中にフィルターが破損することは、非
常に起こりにくい。

【図面の簡単な説明】

【図１】は、本発明にかかる照明装置（一例）の構成
（一部）を示す概略図である。

【図２】は実施例１の照明装置の構成（一部）を示す概
略図である。

【図３】は、実施例２の照明装置の構成（一部）を示す
概略図である。

【図４】は、本発明にかかる露光装置（一例）の構成
（一部）を示す概略図である。

【図５】は、従来の露光装置（一例）の構成（一部）を
示す概略図である。

【図６】は、従来の照明装置（一例）の構成（一部）を
示す概略図である。

【図７】は、従来のフィルターの断面を示す概略図であ
る。

【主要部分の符号の説明】

１．．．Ｘ線源２．．．集光光学系３．．．フィルター４．．．照明光学系５．．．マスク６．．．集光光学系の集光位置７．．．照明装置（露光装置の照明光学系）８．．．マスクステージ９．．．結像光学系１０．．．ウエハ１１．．．ウエハステージ２１．．．回転楕円ミラーで構成した集光光学系２２．．．回転放物ミラーで構成した集光光学系３１〜３６．．．Ｘ線４１．．．従来の照明装置（露光装置の照明光学系）４２．．．従来のフィルター４３．．．従来の照明装置の照射（照明）光学系４４．．．メンブレン４５．．．補強材以上

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源から出射されたＸ線を被照明物体に
照射する照明装置であり、少なくとも、前記光源から出射されたＸ線を集光する集
光光学系と、該集光光学系の集光位置に、或いは集光位
置の近傍に配置されたフィルターと、該フィルターを透
過したＸ線を前記被照明物体に照射する照射光学系と、
を備えたことを特徴とする照明装置。
【請求項２】前記フィルターは少なくとも、Ｘ線を透
過しやすく、かつ紫外線及び可視光を透過しにくいメン
ブレンを有することを特徴とする請求項１記載の照明装
置。
【請求項３】前記メンブレンは少なくとも、ベリリウ
ム、ケイ素、ホウ素または炭素により、或いはこれらの
化合物により、構成されることを特徴とする請求項２記
載の照明装置。
【請求項４】前記集光光学系は、１枚の回転楕円ミラ
ーまたは回転放物ミラーを有することを特徴とする請求
項１〜３記載の照明装置。
【請求項５】前記フィルターに冷却機構を設けたこと
を特徴とする請求項１〜４記載の照明装置。
【請求項６】請求項１〜５記載の照明装置を具備した
ことを特徴とする露光装置。