JPH10329423A - Phase change type optical recording medium and its manufacture - Google Patents

Phase change type optical recording medium and its manufacture

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Publication number
JPH10329423A
JPH10329423A JP9144955A JP14495597A JPH10329423A JP H10329423 A JPH10329423 A JP H10329423A JP 9144955 A JP9144955 A JP 9144955A JP 14495597 A JP14495597 A JP 14495597A JP H10329423 A JPH10329423 A JP H10329423A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording
recording layer
mark
phase change
recording medium
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9144955A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Minoru Hayashi
稔 林
Kazuhiro Nishimura
和浩 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP9144955A priority Critical patent/JPH10329423A/en
Publication of JPH10329423A publication Critical patent/JPH10329423A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate a large decrease in recording characteristics even by repeating overwriting many times by reducing jitter at front and rear ends of a recording mark in the case of recording in a mark edge type in a phase change type optical recording medium. SOLUTION: A recording layer is constituted by a thin film containing composition including Ge, The, Sb, Au an N. The composition of the Ge, Te, Sb and Au in the film satisfies that x satisfies a formula (2), x satisfies a formula (3), xy satisfies a formula (4) and w satisfies a formula (5), simultaneously, where the Ge, Te, Sb and Au are represented by a formula (1). [(Gex Te(1-x) )y (Sbz Te(1-z) )(1-y) ](1-w) Auw ... (1), 0.45<=x<=0.55... (2), 0.35<=z<=0.45... (3), 0.1<=xy<=0.3... (4), 0<w<=0.1... (5).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術的分野】本発明は、書き換え可能な
大容量ファイルとして用いられる光記録媒体の一種てあ
って、結晶状態と非晶質状態との間の相変化を利用して
光記録を行う相変化型光記録媒体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a kind of optical recording medium used as a rewritable large-capacity file, and performs optical recording by utilizing a phase change between a crystalline state and an amorphous state. The present invention relates to a phase change type optical recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、膨大な量の情報を記録・再生・消
去する手段として、光記録媒体の研究開発が盛んに行わ
れている。特に、結晶状態と非晶質状態との2状態間で
可逆的に変化する材料を記録層として情報の記録・消去
を行う相変化型光記録媒体は、レーザ光のパワーを変化
させるだけで、古い情報を消去しながら同時に新しい情
報を記録すること(以下、「オーバーライト」と称す
る)ができるという利点を有していることから、特に有
望視されている。
2. Description of the Related Art In recent years, research and development of optical recording media have been actively conducted as means for recording, reproducing, and erasing a huge amount of information. In particular, a phase-change optical recording medium that performs recording and erasing of information by using a material that reversibly changes between two states, a crystalline state and an amorphous state, as a recording layer only requires changing the power of laser light. It is particularly promising because it has the advantage of being able to simultaneously record new information while erasing old information (hereinafter referred to as "overwriting").

【0003】相変化型光記録媒体の記録層材料として
は、例えば、特開昭62−53886号公報にGe−T
e−Sb合金が開示されている。また、特開昭61−2
58787号公報には、{(Sbx Te(1-x) y Ge
(1-y) (1-z) z (xは0.2〜0.7、yは0.4
〜0.8、zは0.01〜0.5、Mは、Al、Si、
Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Z
n、Y、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、
Cd、In、Sn、La、Ce、Pr、Nd、Sm、G
d、Tb、Dy、Hf、Ta、W、Au、Tl、Pb、
Biから選ばれる金属)が開示されている。
As a recording layer material of a phase change type optical recording medium, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho.
An e-Sb alloy is disclosed. Also, Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 58787 discloses {(Sb x Te (1-x) ) y Ge
(1-y)(1-z) M z (x is 0.2 to 0.7, y is 0.4
~ 0.8, z is 0.01 ~ 0.5, M is Al, Si,
Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Z
n, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ag,
Cd, In, Sn, La, Ce, Pr, Nd, Sm, G
d, Tb, Dy, Hf, Ta, W, Au, Tl, Pb,
(A metal selected from Bi).

【0004】一方、近年では、光ディスクの大容量化に
伴い、記録方式として、従来のマークポジション記録に
代えてマークエッジ記録を採用することにより、記録密
度を高くすることが行われている。
On the other hand, in recent years, with the increase in the capacity of optical disks, the recording density has been increased by adopting mark edge recording instead of conventional mark position recording as a recording method.

【0005】マークエッジ記録では、符号化規則により
記録情報から変換した符号列の例えば「1」の位置に記
録マークの両端を対応させることにより、符号列(情
報)を記録する。そのため、記録マークは、符号列の
「1」と「1」との間隔に応じた長さに形成される。こ
れに対して、マークポジション記録では、符号列の例え
ば「1」の位置に記録マークを形成する(記録マークは
同じ長さで、その中央に「1」を対応させる)ことによ
り、符号列(情報)を記録する。
In mark edge recording, a code string (information) is recorded by associating both ends of a recording mark with, for example, positions of "1" of a code string converted from recording information according to an encoding rule. Therefore, the recording mark is formed to have a length corresponding to the interval between the code strings “1” and “1”. On the other hand, in the mark position recording, a recording mark is formed at a position of, for example, “1” in the code string (the recording mark has the same length, and “1” is associated with the center of the recording mark). Information).

【0006】このように、マークエッジ記録は、マーク
ポジション記録よりも1つの記録マークに対応させる情
報量を多くすることができるため、原理的に記録密度を
高くすることができる。
As described above, mark edge recording can increase the amount of information corresponding to one recording mark as compared with mark position recording, so that the recording density can be increased in principle.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、記録マ
ークの両端を記録信号に対応させるマークエッジ記録で
は、記録マークの前端および後端の位置を厳密に制御す
る必要があるが、記録層の結晶化速度と記録の際の線速
度との関係が適切でないと、記録マークの両端位置をと
もに厳密に制御することは困難である。
As described above, in the mark edge recording in which both ends of the recording mark correspond to the recording signal, it is necessary to strictly control the positions of the front end and the rear end of the recording mark. If the relationship between the crystallization speed and the linear velocity at the time of recording is not appropriate, it is difficult to strictly control both end positions of the recording mark.

【0008】すなわち、記録層の記録マークが形成され
る部分は、高パワーのレーザ光照射による溶融後に急冷
されて非晶質化されるが、記録層の結晶化速度が記録の
際の線速度よりも過度に速い場合には、記録マーク前端
に相当する溶融部分が冷却時に再結晶化され易いため、
記録マークの前端位置が厳密に制御されない。逆に、記
録層の結晶化速度が記録の際の線速度よりも過度に遅い
場合には、記録マークの後の消去部分(前回の記録で記
録マークが形成されていた部分)が結晶化され難くなる
ため、記録マークの後端位置が厳密に制御されない。
That is, the portion of the recording layer where a recording mark is formed is rapidly cooled and melted by irradiation with a high-power laser beam to be amorphized, but the crystallization speed of the recording layer has a linear velocity at the time of recording. If it is too fast, the molten portion corresponding to the recording mark front end is likely to be recrystallized during cooling,
The front end position of the recording mark is not strictly controlled. Conversely, if the crystallization speed of the recording layer is excessively lower than the linear velocity at the time of recording, the erased portion after the recording mark (the portion where the recording mark was formed in the previous recording) is crystallized. Therefore, the rear end position of the recording mark is not strictly controlled.

【0009】そのため、記録層の結晶化速度と記録の際
の線速度との関係が適切でないと、記録マーク前端およ
び後端の両方について、ジッター(再生信号の時間方向
のゆらぎ)を同時に小さくすることができない。そし
て、前記公報に記載の記録層材料の結晶化速度は、一般
的な記録の際の線速度(例えば6m/s)との関係にお
いて適切なものではなかった。
Therefore, if the relationship between the crystallization speed of the recording layer and the linear velocity at the time of recording is not appropriate, the jitter (fluctuation in the time direction of the reproduced signal) in both the front end and the rear end of the recording mark is reduced at the same time. Can not do. The crystallization speed of the recording layer material described in the above publication was not appropriate in relation to the linear velocity (for example, 6 m / s) during general recording.

【0010】すなわち、従来の相変化型光記録媒体に
は、マークエッジ記録で記録した場合の記録特性という
点で改善の余地がある。また、相変化型光記録媒体の記
録層は、多数回のオーバーライトで非晶質化と結晶化が
繰り返されることによって、流動や組成の偏析等が生じ
て書き換え特性が劣化することが知られている。
That is, the conventional phase-change type optical recording medium has room for improvement in recording characteristics when recording is performed by mark edge recording. It is also known that the recording layer of a phase-change type optical recording medium repeatedly undergoes amorphization and crystallization by overwriting a number of times, thereby causing flow, compositional segregation, etc., thereby deteriorating the rewriting characteristics. ing.

【0011】ここで、マークポジション記録では、比較
的短い記録マークが「1」の位置に同じ長さで形成され
るが、マークエッジ記録では、「1」と「1」の間隔に
応じた長さの比較的長い記録マークが記録されるため、
マークエッジ記録はマークポジション記録の場合より
も、オーバーライトによって前回と異なる状態に変更さ
れる記録層の面積が多い。
Here, in mark position recording, a relatively short recording mark is formed at the position of "1" with the same length, but in mark edge recording, a length corresponding to the interval between "1" and "1" is formed. Because a relatively long recording mark is recorded,
In the mark edge recording, the area of the recording layer which is changed to a state different from the previous state due to overwriting is larger than in the case of the mark position recording.

【0012】そのため、マークエッジ記録はマークポジ
ション記録よりも、オーバーライトの繰り返しによって
記録層の流動や組成偏析が生じやすく、比較的少ない繰
り返し回数でジッター特性が劣化し始め、1万回程度の
オーバーライトでも書き換え特性の低下が認められるよ
うになるという問題がある。
[0012] Therefore, mark edge recording tends to cause flow and composition segregation of the recording layer due to repetition of overwriting compared to mark position recording, and the jitter characteristic starts to deteriorate with a relatively small number of repetitions, and about 10,000 times of overwriting occurs. There is a problem in that the rewriting characteristics can be reduced even in writing.

【0013】本発明は、このような従来技術の問題点に
着目してなされたものであり、相変化型光記録媒体にお
いて、マークエッジ記録で記録した場合の記録特性を改
善し(記録マーク前後端でのジッターを小さくし)、多
数回のオーバーライトによっても、記録特性が大きく低
下しないようにすることを課題とする。
The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and has improved recording characteristics in the case of recording by mark edge recording in a phase change type optical recording medium (before and after recording marks). It is an object of the present invention to reduce the jitter at the end) so that the recording characteristics are not significantly deteriorated even by overwriting many times.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に係る発明は、照射光の強度に応じて結晶
状態と非晶質状態との間の相変化が可逆的になされる記
録層を基板上に備えた相変化型光記録媒体において、前
記記録層は、Ge、Te、Sb、Au、およびNを含む
組成の薄膜で構成され、この薄膜中のGeとTeとSb
とAuとに関する組成は、GeとTeとSbとAuとを
下記の(1)式で示したときに、x,y,z,wが下記
の(2)〜(5)式を同時に満たすものであることを特
徴とする相変化型光記録媒体を提供する。 〔(Gex Te(1-x) y (Sbz Te(1-z) (1-y) (1-w) Auw ‥‥(1) 0.45≦x≦0.55‥‥(2) 0.35≦z≦0.45‥‥(3) 0.1≦xy≦0.3 ‥‥(4) 0<w≦0.1 ‥‥(5) ここで、Ge−Te−Sb合金は、化合物であるGeT
eとSb2 Te3 とから成立すると考えることができ、
化合物ライン(GeTe)−(Sb2 Te3 )上の化合
物((1)式でx=0.50且つz=0.40に相当す
る化合物)は結晶化速度が速いものとして知られてい
る。したがって、x,zは、化合物ライン(GeTe)
−(Sb2 Te3 )を中心とする帯状の組成領域を特定
する数値を示す。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 is characterized in that a phase change between a crystalline state and an amorphous state is reversibly performed according to the intensity of irradiation light. In a phase change optical recording medium having a recording layer on a substrate, the recording layer is composed of a thin film containing Ge, Te, Sb, Au, and N, and Ge, Te, and Sb in the thin film.
The composition concerning Au and Au is such that when Ge, Te, Sb and Au are represented by the following equation (1), x, y, z and w simultaneously satisfy the following equations (2) to (5). A phase-change optical recording medium is provided. [(Ge x Te (1-x )) y (Sb z Te (1-z)) (1-y) ] (1-w) Au w ‥‥ (1) 0.45 ≦ x ≦ 0.55 ‥ {(2) 0.35 ≦ z ≦ 0.45} (3) 0.1 ≦ xy ≦ 0.3 {(4) 0 <w ≦ 0.1} (5) where Ge−Te -Sb alloy is a compound GeT
e and Sb 2 Te 3 .
Compound line (GeTe) - (Sb 2 Te 3) on the compound ((1) compounds corresponding to x = 0.50 and z = 0.40 in formula) are known as the crystallization speed is fast. Therefore, x and z are the compound lines (GeTe)
Numerical values for specifying a band-shaped composition region centered on-(Sb 2 Te 3 ) are shown.

【0015】xが0.45未満となるか0.55を超え
ると、記録の際の線速度との関係において、記録層の結
晶化速度が遅すぎて、記録マーク後端の位置の厳密な制
御が困難となる。すなわち、xが前記(2)式を満たす
と、記録層の結晶化速度が記録の際の線速度(1〜12
m/s)に対して適切になって、記録マーク後端の位置
の厳密な制御が可能となる。xのより好ましい範囲は
0.48≦x≦0.52である。
When x is less than 0.45 or more than 0.55, the crystallization speed of the recording layer is too slow in relation to the linear velocity at the time of recording, and the position of the trailing edge of the recording mark is strictly determined. Control becomes difficult. That is, when x satisfies the above expression (2), the crystallization speed of the recording layer becomes the linear velocity (1 to 12) at the time of recording.
m / s), and the position of the trailing edge of the recording mark can be strictly controlled. A more preferable range of x is 0.48 ≦ x ≦ 0.52.

【0016】また、zが0.35未満となるか0.45
を超えると、記録の際の線速度との関係において、記録
層の結晶化速度が遅すぎて、記録マーク後端の位置の厳
密な制御が困難となる。すなわち、zが前記(3)式を
満たすと、記録層の結晶化速度が記録の際の線速度(1
〜12m/s)に対して適切になって、記録マーク後端
の位置の厳密な制御が可能となる。zのより好ましい範
囲は0.38≦z≦0.42である。
Also, if z is less than 0.35 or 0.45
When the value exceeds, the crystallization speed of the recording layer is too slow in relation to the linear velocity at the time of recording, and it becomes difficult to strictly control the position of the rear end of the recording mark. That is, when z satisfies the above equation (3), the crystallization speed of the recording layer becomes the linear velocity (1) at the time of recording.
1212 m / s), and strict control of the position of the rear end of the recording mark becomes possible. A more preferable range of z is 0.38 ≦ z ≦ 0.42.

【0017】また、GeのGe−Te−Sb中の原子数
比を示すxyが0.1未満であると結晶化されやすい記
録層となり、再生レベルに近い低パワーの光照射によっ
ても非晶質部分(記録マーク)の結晶化が生じるため、
再生および高温環境下でのデータ安定性が低下する。こ
のxyが0.3を超えると、記録層の融点が高くなり過
ぎて非晶質化され難い記録層となり、記録の際に非常に
高いパワーの光を照射する必要があり、実用的な半導体
レーザによる記録が困難となる。そのため、GeのGe
−Te−Sb中の原子数比を示すxyが前記(4)式を
満たすようにする。xyのより好ましい範囲は0.15
≦xy≦0.25である。
If xy, which indicates the atomic ratio of Ge to Ge-Te-Sb, is less than 0.1, the recording layer is likely to be crystallized, and becomes amorphous even when irradiated with low-power light close to the reproduction level. Because crystallization of the part (recording mark) occurs,
Data stability under reproduction and high temperature environment is reduced. If xy exceeds 0.3, the melting point of the recording layer becomes too high and the recording layer becomes difficult to be amorphized, and it is necessary to irradiate light with very high power during recording. Laser recording becomes difficult. Therefore, Ge of Ge
Xy indicating the ratio of the number of atoms in -Te-Sb is set to satisfy the above expression (4). A more preferred range of xy is 0.15
≤ xy ≤ 0.25.

【0018】一方、記録層をなす薄膜は、前記(5)式
を満たす範囲でAuを含有する組成であるが、このAu
の存在により、多数回のオーバーライトによる記録層の
流動や組成偏析の程度が低く抑えられる。しかしなが
ら、過剰にAuを添加すると結晶化速度が遅くなって消
去特性が低下するため、AuのGe−Te−Sbに対す
る原子数比を示すwを0.1以下とする。より好ましく
はwを0.05以下とする。
On the other hand, the thin film constituting the recording layer has a composition containing Au in a range satisfying the above formula (5).
, The flow of the recording layer and the degree of composition segregation due to multiple overwriting can be suppressed to a low level. However, if Au is added excessively, the crystallization speed becomes slow and the erasing characteristics are deteriorated. Therefore, the value of w indicating the atomic ratio of Au to Ge-Te-Sb is set to 0.1 or less. More preferably, w is 0.05 or less.

【0019】また、記録層は、GeとTeとSbとAu
に加えてNを含む組成の薄膜で構成されている。この窒
素の存在により記録層の結晶粒が微細化されるため、記
録マーク両端での結晶粒の成長を未然に防ぎ、特に、結
晶化速度が記録の際の線速度よりも過度に速い場合であ
っても、記録マークの前端位置の変動を低く抑えること
ができる。
The recording layer is made of Ge, Te, Sb, and Au.
And a thin film having a composition including N in addition to N. Since the crystal grains of the recording layer are refined by the presence of nitrogen, the growth of crystal grains at both ends of the recording mark is prevented beforehand, especially when the crystallization speed is excessively higher than the linear speed at the time of recording. Even if there is, the fluctuation of the front end position of the recording mark can be suppressed low.

【0020】請求項2に係る発明は、照射光の強度に応
じて結晶状態と非晶質状態との間の相変化が可逆的にな
される記録層を基板上に備えた相変化型光記録媒体の製
造方法において、下記の(1)式で示されるGeとTe
とSbとAuとを、x,y,z,wが下記の(2)〜
(5)式を同時に満たすようにターゲットから供給し、 〔(Gex Te(1-x) y (Sbz Te(1-z) (1-y) (1-w) Auw ‥‥(1) 0.45≦x≦0.55‥‥(2) 0.35≦z≦0.45‥‥(3) 0.1≦xy≦0.3 ‥‥(4) 0<w≦0.1 ‥‥(5) 窒素を分圧0.01〜0.05Paで含有する雰囲気中
でスパッタリングを行うことにより、Ge、Te、S
b、Au、およびNを含む組成の薄膜を記録層として形
成することを特徴とする相変化型光記録媒体の製造方法
を提供する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a phase-change optical recording apparatus having a recording layer on a substrate, wherein a recording layer in which a phase change between a crystalline state and an amorphous state is reversibly performed according to the intensity of irradiation light. In the method for manufacturing a medium, Ge and Te represented by the following formula (1) are used.
, Sb and Au, and x, y, z and w are the following (2) to
(5) supplied from the target so as to satisfy equation simultaneously, [(Ge x Te (1-x )) y (Sb z Te (1-z)) (1-y) ] (1-w) Au w ‥ {(1) 0.45 ≦ x ≦ 0.55} (2) 0.35 ≦ z ≦ 0.45 (3) 0.1 ≦ xy ≦ 0.3 (4) 0 <w ≦ 0.1 ‥‥ (5) Ge, Te, S by performing sputtering in an atmosphere containing nitrogen at a partial pressure of 0.01 to 0.05 Pa.
Provided is a method for manufacturing a phase-change optical recording medium, wherein a thin film having a composition containing b, Au, and N is formed as a recording layer.

【0021】スパッタリング雰囲気中の窒素分圧が0.
01Pa未満であると、窒素添加による結晶粒微細化の
効果が実質的に得られず、0.05Paを超えると、記
録層の光学特性(屈折率等)や結晶化速度等の記録・消
去に係わる基本的な特性に変化が生じる。
When the partial pressure of nitrogen in the sputtering atmosphere is 0.
If the pressure is less than 01 Pa, the effect of crystal grain refinement by adding nitrogen is not substantially obtained, and if the pressure exceeds 0.05 Pa, recording / erasing of the optical properties (refractive index, etc.) and crystallization speed of the recording layer may be difficult. Changes occur in the basic characteristics involved.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例により具体
的に説明する。 [実施例1]ポリカーボネート製であり、直径3.5イ
ンチ、厚さ0.6mmの円板状であり、溝間距離1.4
μmで溝幅0.7μmのレーザ案内溝を設けた基板1上
に、ZnS−SiO2 (SiO2 30モル%含有)のタ
ーゲットからRFスパッタリング法により、膜厚250
nmの第1の保護層2を形成した。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to examples. [Example 1] It was made of polycarbonate, had a disk shape of 3.5 inches in diameter and 0.6 mm in thickness, and had a distance between grooves of 1.4.
On a substrate 1 provided with a laser guide groove having a groove width of 0.7 μm and a target of ZnS—SiO 2 (containing 30 mol% of SiO 2 ), a film thickness of 250 μm was formed by RF sputtering.
The first protective layer 2 of nm was formed.

【0023】次に、前記(1)式で示され、GeTeS
bAu合金よりなるターゲット(組成が原子比でGe:
Te:Sb:Au=16.1:57.1:24.3:
2.5であるもの)から、アルゴンと窒素の混合ガスを
用いて、DCスパッタ法により膜厚25nmの記録層3
を形成した。このとき、スパッタリング雰囲気は、全圧
0.5Pa、窒素分圧0.015Paとした。得られた
記録層3の組成(x,y,z,w,xy)を下記の表1
に示す。この記録層3のx,z,xy,wはいずれも本
発明の範囲を満たしている。
Next, as shown in the above equation (1), GeTeS
A target made of a bAu alloy (composition is represented by Ge:
Te: Sb: Au = 16.1: 57.1: 24.3:
2.5), the recording layer 3 having a thickness of 25 nm was formed by a DC sputtering method using a mixed gas of argon and nitrogen.
Was formed. At this time, the sputtering atmosphere was set to a total pressure of 0.5 Pa and a nitrogen partial pressure of 0.015 Pa. The composition (x, y, z, w, xy) of the obtained recording layer 3 is shown in Table 1 below.
Shown in All of x, z, xy, and w of the recording layer 3 satisfy the scope of the present invention.

【0024】この記録層3の上に、ZnS−SiO
2 (SiO 230モル%含有)のターゲットからRFス
パッタリング法により膜厚12nmの第2の保護層4
を、さらにAlTiからなる反射層5をDCスパッタ法
により膜厚70nmで、順次形成した。その後、反射層
5の上にUV硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、
硬化させることにより保護コート層6を形成した。
On this recording layer 3, ZnS-SiO
A second protective layer 4 having a thickness of 12 nm from a target of 2 (containing 30 mol% of SiO 2 ) by RF sputtering.
And a reflective layer 5 made of AlTi having a thickness of 70 nm was sequentially formed by DC sputtering. Thereafter, a UV curable resin is applied on the reflective layer 5 by a spin coating method,
The protective coat layer 6 was formed by curing.

【0025】このようにして図1に示す層構成の相変化
型光ディスク(相変化型光記録媒体)を作製した。この
光ディスクを、レーザ波長642nm、NA=0.6の
記録装置にかけ、ディスク回転線速度6m/sで、8−
16変調方式で符号化された情報を記録した。記録密度
は0.41μm/bitとして、マークエッジ方式によ
り記録を行った。この記録方式では、最短マーク(及び
スペース)長は0.615μmとなり、次に短いマーク
(及びスペース)長は0.82μmとなる。すなわち、
0.205μm単位でマーク(及びスペース)長が変化
し、最長マーク(及びスペース)長は2.87μmとな
る。
Thus, a phase-change optical disk (phase-change optical recording medium) having the layer structure shown in FIG. 1 was produced. This optical disk was applied to a recording device having a laser wavelength of 642 nm and NA = 0.6, and a disk rotation linear velocity of 6 m / s was used.
Information encoded by 16 modulation methods was recorded. Recording was performed by a mark edge method with a recording density of 0.41 μm / bit. In this recording method, the shortest mark (and space) length is 0.615 μm, and the next short mark (and space) length is 0.82 μm. That is,
The mark (and space) length changes in units of 0.205 μm, and the longest mark (and space) length becomes 2.87 μm.

【0026】この光ディスクの1回〜10万回オーバー
ライト後のジッターを、記録マーク前端および後端につ
いて測定した。その結果を下記の表1に示す。 [実施例2]記録層3の形成の際に、異なる組成(原子
比でGe:Te:Sb:Au=16.6:57.1:2
4.6:1.7であるもの)のGeTeSbAu合金よ
りなるターゲットを用いた以外は、前記実施例1と同様
にして相変化型光ディスクを作製した。得られた記録層
3の組成(x,y,z,w,xy)を、下記の表1に示
す。この記録層3のx,z,xy,wは、いずれも本発
明の範囲を満たしている。
The jitter of the optical disk after overwriting once to 100,000 times was measured for the front end and the rear end of the recording mark. The results are shown in Table 1 below. Example 2 In forming the recording layer 3, different compositions (Ge: Te: Sb: Au = 16.6: 57.1: 2 in atomic ratio)
4.6: 1.7) except that a target made of a GeTeSbAu alloy was used in the same manner as in Example 1 to produce a phase change optical disk. The composition (x, y, z, w, xy) of the obtained recording layer 3 is shown in Table 1 below. All of x, z, xy, and w of the recording layer 3 satisfy the scope of the present invention.

【0027】この光ディスクに対して実施例1と同じ条
件でオーバーライトを行い、1回〜10万回オーバーラ
イト後のジッターを、記録マーク前端および後端につい
て測定した。その結果を下記の表1に示す。 [実施例3]記録層3の形成の際に、異なる組成(原子
比でGe:Te:Sb:Au=19.6:56.3:2
2.4:1.7であるもの)のGeTeSbAu合金よ
りなるターゲットを用いた以外は、前記実施例1と同様
にして相変化型光ディスクを作製した。得られた記録層
3の組成(x,y,z,w,xy)を、下記の表1に示
す。この記録層3のx,z,xy,wは、いずれも本発
明の範囲を満たしている。
This optical disk was overwritten under the same conditions as in Example 1, and the jitter after overwriting once to 100,000 times was measured for the front end and the rear end of the recording mark. The results are shown in Table 1 below. Example 3 In forming the recording layer 3, different compositions (Ge: Te: Sb: Au = 19.6: 56.3: 2 in atomic ratio)
2.4: 1.7) in the same manner as in Example 1 except that a target made of a GeTeSbAu alloy was used. The composition (x, y, z, w, xy) of the obtained recording layer 3 is shown in Table 1 below. All of x, z, xy, and w of the recording layer 3 satisfy the scope of the present invention.

【0028】この光ディスクに対して実施例1と同じ条
件でオーバーライトを行い、1回〜10万回オーバーラ
イト後のジッターを、記録マーク前端および後端につい
て測定した。その結果を下記の表1に示す。 [比較例1]記録層3の形成の際に、Auを含まない
(w=0である)GeTeSb合金(組成が原子比でG
e:Te:Sb=17.9:56.1:25.9である
もの)よりなるターゲットを用いた以外は、前記実施例
1と同様にして相変化型光ディスクを作製した。得られ
た記録層3のx,y,z,xyを下記の表1に示す。こ
の記録層3のx,z,xyは、いずれも本発明の範囲を
満たしている。
The optical disk was overwritten under the same conditions as in Example 1, and the jitter after overwriting once to 100,000 times was measured for the front end and the rear end of the recording mark. The results are shown in Table 1 below. [Comparative Example 1] A GeTeSb alloy containing no Au (w = 0) when forming the recording layer 3 (composition is represented by an atomic ratio of G
e: Te: Sb = 17.9: 56.1: 25.9), except that a target composed of (e: Te: Sb = 17.9: 56.1: 25.9) was used. Table 1 below shows x, y, z, and xy of the obtained recording layer 3. All of x, z, and xy of the recording layer 3 satisfy the scope of the present invention.

【0029】この光ディスクに対して実施例1と同じ条
件でオーバーライトを行い、1回〜10万回オーバーラ
イト後のジッターを、記録マーク前端および後端につい
て測定した。その結果を下記の表1に示す。 [比較例2]記録層3の形成の際に、異なる組成(原子
比でGe:Te:Sb:Au=14.7:58.1:2
3.7:3.5であるもの)のGeTeSbAu合金よ
りなるターゲットを用いたこと、および窒素を添加せ
ず、アルゴンガスのみでスパッタリングを行った以外
は、前記実施例1と同様にして相変化型光ディスクを作
製した。得られた記録層3の組成(x,y,z,w,x
y)を下記の表1に示す。この記録層3のx,z,x
y,wは、いずれも本発明の範囲を満たしている。
This optical disk was overwritten under the same conditions as in Example 1, and the jitter after overwriting once to 100,000 times was measured for the front end and the rear end of the recording mark. The results are shown in Table 1 below. [Comparative Example 2] When forming the recording layer 3, different compositions (Ge: Te: Sb: Au = 14.7: 58.1: 2 in atomic ratio)
3.7: 3.5), and a phase change was performed in the same manner as in Example 1 except that sputtering was performed using only a argon gas without adding nitrogen, and using a GeTeSbAu alloy target. A type optical disk was produced. The composition (x, y, z, w, x) of the obtained recording layer 3
y) is shown in Table 1 below. X, z, x of this recording layer 3
Both y and w satisfy the scope of the present invention.

【0030】この光ディスクに対して実施例1と同じ条
件でオーバーライトを行い、1回〜10万回オーバーラ
イト後のジッターを、記録マーク前端および後端につい
て測定した。その結果を下記の表1に示す。
The optical disk was overwritten under the same conditions as in Example 1, and the jitter after overwriting once to 100,000 times was measured for the front end and the rear end of the recording mark. The results are shown in Table 1 below.

【0031】[0031]

【表1】 [Table 1]

【0032】この表から分かるように、いずれの場合
も、記録マークの前端より後端のジッター値が高いが、
記録層にAuおよびNの両方を含む実施例1〜3では、
オーバーライトの回数が1万回以下の場合の後端のジッ
ター値は10%以下となり、10万回でも15%以下と
なって、良好な記録特性が得られた。
As can be seen from this table, in each case, the jitter value of the rear end of the recording mark is higher than that of the front end of the recording mark.
In Examples 1 to 3 including both Au and N in the recording layer,
When the number of overwrites is 10,000 or less, the jitter value at the rear end is 10% or less, and even at 100,000 times, the jitter value is 15% or less, and good recording characteristics were obtained.

【0033】これに対して、記録層にNは含むがAuは
含まない比較例1では、1万回以下の場合のジッター値
は実施例1〜3と同等であるが、10万回では後端のジ
ッター値が15%を超える値となっている。すなわち、
記録層にAuを含むことで、オーバーライトの繰り返し
による記録層の劣化を小さくすることができることが分
かる。
On the other hand, in Comparative Example 1 in which the recording layer contains N but does not contain Au, the jitter value at 10,000 times or less is equivalent to that of Examples 1 to 3, but the jitter value at 100,000 times is later. The end jitter value exceeds 15%. That is,
It can be seen that by including Au in the recording layer, deterioration of the recording layer due to repeated overwriting can be reduced.

【0034】また、記録層にAuを含むがNを含まない
比較例2では、初回のオーバーライトでのジッター値が
前端および後端ともに12%以上と非常に大きく、記録
層にNを含むことでジッター値を小さく抑えることがで
きることが分かる。
In Comparative Example 2 in which the recording layer contains Au but does not contain N, the jitter value in the first overwrite is very large at both the front end and the rear end of 12% or more, and the recording layer contains N. It can be seen that the jitter value can be suppressed to a small value.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の相変化
型光記録媒体および請求項2の方法で得られる相変化型
光記録媒体によれば、マークエッジ方式で記録した場合
の記録特性に優れるとともに、多数回のオーバーライト
の繰り返しによっても記録特性が大きく低下しないとい
う効果がある。
As described above, according to the phase change type optical recording medium of the first aspect and the phase change type optical recording medium obtained by the method of the second aspect, the recording characteristics when recording is performed by the mark edge method. In addition to the above, there is an effect that the recording characteristics are not significantly reduced even by repeating overwriting many times.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施形態で作製した相変化型光記録媒体の層構
成を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a layer configuration of a phase-change optical recording medium manufactured in an embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 第1の保護層 3 記録層 4 第2の保護層 5 反射層 6 保護コート層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 1st protective layer 3 recording layer 4 2nd protective layer 5 reflective layer 6 protective coat layer

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 照射光の強度に応じて結晶状態と非晶質
状態との間の相変化が可逆的になされる記録層を基板上
に備えた相変化型光記録媒体において、 前記記録層は、Ge、Te、Sb、Au、およびNを含
む組成の薄膜で構成され、 この薄膜中のGeとTeとSbとAuとに関する組成
は、GeとTeとSbとAuとを下記の(1)式で示し
たときに、x,y,z,wが下記の(2)〜(5)式を
同時に満たすものであることを特徴とする相変化型光記
録媒体。 〔(Gex Te(1-x) y (Sbz Te(1-z) (1-y) (1-w) Auw ‥‥(1) 0.45≦x≦0.55‥‥(2) 0.35≦z≦0.45‥‥(3) 0.1≦xy≦0.3 ‥‥(4) 0<w≦0.1 ‥‥(5)
1. A phase change type optical recording medium comprising a recording layer on a substrate, wherein a recording layer in which a phase change between a crystalline state and an amorphous state is reversibly performed according to the intensity of irradiation light is provided. Is composed of a thin film having a composition containing Ge, Te, Sb, Au, and N. The composition of Ge, Te, Sb, and Au in the thin film is such that Ge, Te, Sb, and Au are represented by the following (1) ), Wherein x, y, z, and w simultaneously satisfy the following expressions (2) to (5). [(Ge x Te (1-x )) y (Sb z Te (1-z)) (1-y) ] (1-w) Au w ‥‥ (1) 0.45 ≦ x ≦ 0.55 ‥ {(2) 0.35 ≦ z ≦ 0.45} (3) 0.1 ≦ xy ≦ 0.3 {(4) 0 <w ≦ 0.1} (5)
【請求項2】 照射光の強度に応じて結晶状態と非晶質
状態との間の相変化が可逆的になされる記録層を基板上
に備えた相変化型光記録媒体の製造方法において、 下記の(1)式で示されるGeとTeとSbとAuと
を、x,y,z,wが下記の(2)〜(5)式を同時に
満たすようにターゲットから供給し、 〔(Gex Te(1-x) y (Sbz Te(1-z) (1-y) (1-w) Auw ‥‥(1) 0.45≦x≦0.55‥‥(2) 0.35≦z≦0.45‥‥(3) 0.1≦xy≦0.3 ‥‥(4) 0<w≦0.1 ‥‥(5) 窒素を分圧0.01〜0.05Paで含有する雰囲気中
でスパッタリングを行うことにより、Ge、Te、S
b、Au、およびNを含む組成の薄膜を記録層として形
成することを特徴とする相変化型光記録媒体の製造方
法。
2. A method for manufacturing a phase-change optical recording medium comprising a recording layer on a substrate, wherein a recording layer in which a phase change between a crystalline state and an amorphous state is reversibly performed according to the intensity of irradiation light is provided. Ge, Te, Sb, and Au represented by the following equation (1) are supplied from the target such that x, y, z, and w simultaneously satisfy the following equations (2) to (5): [(Ge x Te (1-x)) y (Sb z Te (1-z)) (1-y) ] (1-w) Au w ‥‥ (1) 0.45 ≦ x ≦ 0.55 ‥‥ (2 0.35 ≦ z ≦ 0.45 (3) 0.1 ≦ xy ≦ 0.3 (4) 0 <w ≦ 0.1 (5) Nitrogen partial pressure 0.01 to 0 Ge, Te, S by performing sputtering in an atmosphere containing 0.05 Pa
A method for producing a phase-change optical recording medium, comprising forming a thin film having a composition containing b, Au, and N as a recording layer.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6707783B2 (en) * 2001-03-06 2004-03-16 Mitsubishi Chemical Corporation Optical recording medium and recording/erasing method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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