JPH10321874A - Semiconductor pressure sensor and manufacture thereof - Google Patents

Semiconductor pressure sensor and manufacture thereof

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JPH10321874A
JPH10321874A JP13020097A JP13020097A JPH10321874A JP H10321874 A JPH10321874 A JP H10321874A JP 13020097 A JP13020097 A JP 13020097A JP 13020097 A JP13020097 A JP 13020097A JP H10321874 A JPH10321874 A JP H10321874A
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JP
Japan
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circuit board
pressure
sensor
semiconductor
sensor element
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Application number
JP13020097A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazunori Sakai
一則 坂井
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Nippon Seiki Co Ltd
Original Assignee
Nippon Seiki Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor pressure sensor in which wire bonding for electrical connection between a circuit board and a sensor element is abolished and which enables miniaturization, and a method for manufacturing the same. SOLUTION: A sensor element 2 has a diaphragm 1, which is arranged on a glass stage 4 and adapted for detecting the pressure of a medium. A pressure lead-in hole 13 is formed on the surface of the glass stage 4 which faces the diaphragm 1. A circuit board 7 has a pressure lead-in portion 15 (throughhole) formed therein which faces the pressure lead-in hole 13, and a predetermined wiring pattern and a connection land 14 formed thereon. An electrode portion 12 is formed on the sensor element 2, so as to connect input and output of the sensor element 2 to the circuit board 7. The electrode portion 12 and the connection land 14 are connected to each other by soldering.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、気体,液体等の媒
体の圧力を検出する半導体式圧力センサに関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor pressure sensor for detecting the pressure of a medium such as a gas and a liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体式圧力センサは、図3に示
すようなものがある。この半導体式圧力センサは、シリ
コン単結晶の薄肉状の受圧起歪ダイアフラム1を形成す
るセンサ素子2と、ダイアフラム1に相当する箇所に圧
力導入孔3を形成し、かつセンサ素子2に熱膨張係数が
略等しいガラス台座4とを陽極接合法によって接合して
センサチップ5を得た後、前記媒体を導入する圧力導入
部6が形成された回路基板7上にセンサチップ5の圧力
導入孔3が回路基板7の圧力導入部6に対向するように
センサチップ5を配設し、回路基板7とセンサチップ5
とを接着剤により接合したり、また、ガラス台座4の底
面にメタライズ層を形成し、このメタライズ層と回路基
板7に形成する接続ランドとを半田を介し接合するもの
であった。
2. Description of the Related Art There is a conventional semiconductor pressure sensor as shown in FIG. In this semiconductor type pressure sensor, a sensor element 2 forming a thin pressure receiving and straining diaphragm 1 of silicon single crystal, a pressure introducing hole 3 formed at a position corresponding to the diaphragm 1, and a thermal expansion coefficient After the sensor chip 5 is obtained by joining the glass pedestal 4 and the glass pedestal 4 having substantially the same values by the anodic bonding method, the pressure introduction hole 3 of the sensor chip 5 is formed on the circuit board 7 on which the pressure introduction section 6 for introducing the medium is formed. The sensor chip 5 is disposed so as to face the pressure introducing portion 6 of the circuit board 7, and the circuit board 7 and the sensor chip 5
And an adhesive, or a metallized layer is formed on the bottom surface of the glass pedestal 4, and the metallized layer and a connection land formed on the circuit board 7 are bonded via solder.

【0003】そして、センサチップ5による圧力検出及
びセンサチップ5への電源供給を行うため、センサ素子
2の電極部8と回路基板7のランド部9とを金やアルミ
等の導電部材10によりワイヤボンディングして、セン
サチップ5と回路基板7とを電気的に接続することで半
導体式圧力センサが得られるものであった。
In order to detect the pressure by the sensor chip 5 and supply power to the sensor chip 5, an electrode 8 of the sensor element 2 and a land 9 of the circuit board 7 are connected to each other by a conductive member 10 such as gold or aluminum. A semiconductor pressure sensor is obtained by bonding and electrically connecting the sensor chip 5 and the circuit board 7.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】かかる構成の半導体式
圧力センサは、製造工程においてセンサ素子2の電極部
8と回路基板7のランド部9とを1箇所づつワイヤボン
ディングするため、大量生産を考慮した場合に生産性が
悪いばかりでなく、ワイヤボンディングの本数が増加す
ることに伴い、製造コストが高くなってしまうと言った
問題点を有している。
In the semiconductor pressure sensor having such a configuration, since the electrode portion 8 of the sensor element 2 and the land portion 9 of the circuit board 7 are wire-bonded one by one in a manufacturing process, mass production is considered. In this case, not only is the productivity low, but also the production cost is increased due to an increase in the number of wire bondings.

【0005】また、ボンディングツールを用いてワイヤ
ボンディングを行うため、電極部8とランド部9との間
隔をボンディングツールの幅以下に設定することができ
ず、小スペース化が求められるこの種の分野において、
小型化することができないと言った問題点があった。本
発明は、前記問題点に着目し、回路基板とセンサ素子と
の電気的接続のためのワイヤボンディングを廃止すると
ともに、小型化可能な半導体式圧力センサ及びその製造
方法を提供するものである。
Further, since wire bonding is performed using a bonding tool, the distance between the electrode portion 8 and the land portion 9 cannot be set to be smaller than the width of the bonding tool, and this type of field requires a small space. At
There was a problem that it could not be miniaturized. The present invention focuses on the above problems, and provides a semiconductor pressure sensor that can be miniaturized while eliminating wire bonding for electrical connection between a circuit board and a sensor element, and a method of manufacturing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、前述した問題
点を解決するため、気体,液体等の媒体の圧力を検出す
る半導体式圧力センサにおいて、ガラス台座と、前記ガ
ラス台座上に配設され、前記媒体の圧力を検出するため
のダイアフラムを形成するセンサ素子と、所定箇所に配
線パターン及び接続ランドが形成される回路基板と、前
記センサ素子の入出力を前記回路基板に接続するため、
前記センサ素子に形成される電極部とを備え、前記電極
部と前記接続ランドとを半田により接続してなるもので
ある。
According to the present invention, there is provided a semiconductor pressure sensor for detecting the pressure of a medium such as a gas or a liquid, the glass pedestal being disposed on the glass pedestal. A sensor element forming a diaphragm for detecting the pressure of the medium, a circuit board on which a wiring pattern and a connection land are formed at a predetermined location, and an input / output of the sensor element are connected to the circuit board.
An electrode portion formed on the sensor element, wherein the electrode portion and the connection land are connected by soldering.

【0007】また、気体,液体等の媒体の圧力を検出す
る半導体式圧力センサにおいて、ガラス台座と、前記ガ
ラス台座上に配設され、前記媒体の圧力を検出するダイ
アフラムを形成するセンサ素子と、前記ガラス台座の前
記ダイアフラムに対向する対向面に形成される圧力導入
孔と、前記圧力導入孔に対向する貫通孔を形成するとと
もに所定の配線パターン及び接続ランドが形成される回
路基板と、前記センサ素子の入出力を前記回路基板に接
続するため、前記センサ素子に形成される電極部と、か
ら構成され、前記電極部と前記接続ランドとを半田によ
り接続してなるものである。
In a semiconductor type pressure sensor for detecting the pressure of a medium such as gas or liquid, a glass pedestal, a sensor element disposed on the glass pedestal and forming a diaphragm for detecting the pressure of the medium, A pressure introducing hole formed on a surface of the glass pedestal facing the diaphragm, a circuit board forming a through hole facing the pressure introducing hole, and a predetermined wiring pattern and a connection land formed thereon, and the sensor An electrode part formed on the sensor element for connecting input and output of the element to the circuit board, wherein the electrode part and the connection land are connected by soldering.

【0008】また、前記半田による接続箇所周辺及び前
記回路基板と前記ガラス台座との接触箇所周辺に補強接
着部材を塗布してなるものである。
Further, a reinforcing adhesive member is applied around the connection portion by the solder and around the contact portion between the circuit board and the glass pedestal.

【0009】また、気体,液体等の媒体の圧力を検出す
る半導体式圧力センサの製造方法において、ガラス基板
の表面に所定形状の溝部を複数形成する溝部形成工程
と、前記溝部に、シリコンウエハのダイアフラムが連結
部を介し2つ以上対向するように前記シリコンウエハを
前記ガラス基板上に接合する接合工程と、前記シリコン
ウエハの前記連結部を切断する第1の切断工程と、前記
連結部の切断面から前記ダイアフラムに形成する歪ケー
ジに電気的に接続される電極部を形成する電極部形成工
程と、前記連結部の切断箇所から前記ガラス基板を切断
し、個々のセンサチップを得る第2の切断工程と、前記
ガラス基板の切断面に形成される前記溝部と回路基板に
形成される貫通孔が対向するように配設するとともに、
回路基板に形成される接続ランドと前記電極部とを半田
により接続する半田接合工程と、前記回路基板と前記電
極部との前記半田による接続箇所周辺及び前記回路基板
と前記センサチップとの接触箇所周辺に補強接着部材を
塗布する補強接着部材塗布工程と、を含むものである。
In a method of manufacturing a semiconductor pressure sensor for detecting a pressure of a medium such as a gas or a liquid, a groove forming step of forming a plurality of grooves having a predetermined shape on a surface of a glass substrate; A bonding step of bonding the silicon wafer on the glass substrate such that two or more diaphragms face each other via a connecting portion, a first cutting step of cutting the connecting portion of the silicon wafer, and a cutting of the connecting portion An electrode part forming step of forming an electrode part electrically connected to a strain cage formed on the diaphragm from a surface, and a second step of cutting the glass substrate from a cut portion of the connection part to obtain individual sensor chips. A cutting step, and the grooves formed in the cut surface of the glass substrate and the through holes formed in the circuit board are arranged so as to face each other,
A solder bonding step of connecting a connection land formed on a circuit board and the electrode portion by soldering, a portion around a connection portion between the circuit board and the electrode portion by the solder, and a contact portion between the circuit board and the sensor chip And a step of applying a reinforcing adhesive member to the periphery.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明は、気体,液体等の媒体の
圧力を検出する半導体式圧力センサに関し、ガラス台座
4と、ガラス台座4上に配設され、前記媒体の圧力を検
出するダイアフラム1を形成するセンサ素子2と、ガラ
ス台座4のダイアフラム1に対向する対向面に形成され
る圧力導入孔13と、圧力導入孔13に対向する圧力導
入部15(貫通孔)を形成するとともに所定の配線パタ
ーン及び接続ランド14が形成される回路基板7と、セ
ンサ素子2の入出力を回路基板7に接続するため、セン
サ素子2に形成される電極部12と、から構成され、電
極部12と接続ランド14とを半田により接続してなる
ものであり、回路基板7に実装される他の表面実装部品
と同様にリフロー半田等の手段により、回路基板7上に
ガラス台座4とセンサ素子2とにより構成されるセンサ
チップ5を電気的に配設することが可能となるため、従
来のワイヤボンディング方式の半導体式圧力センサに比
べ、生産性を向上させることができる構造を得ることが
できる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention relates to a semiconductor pressure sensor for detecting the pressure of a medium such as a gas or a liquid, and more particularly to a glass pedestal 4 and a diaphragm disposed on the glass pedestal 4 for detecting the pressure of the medium. 1, a pressure introducing hole 13 formed in a surface of the glass pedestal 4 facing the diaphragm 1, and a pressure introducing portion 15 (through hole) facing the pressure introducing hole 13. And an electrode portion 12 formed on the sensor element 2 for connecting the input / output of the sensor element 2 to the circuit board 7. And the connection land 14 are connected by soldering, and the glass pedestal 4 and the cell pedestal 4 are mounted on the circuit board 7 by means such as reflow soldering similarly to other surface mount components mounted on the circuit board 7. Since it is possible to electrically dispose the sensor chip 5 composed of the semiconductor element 2 and the semiconductor element 2, it is possible to obtain a structure capable of improving the productivity as compared with a conventional wire bonding type semiconductor pressure sensor. Can be.

【0011】また、ガラス台座4のみが回路基板7に配
設される従来の半導体式圧力センサを横載置型とした場
合に、本発明の半導体式圧力センサは、センサ素子2の
ブリッジ回路からステム11の外周部まで延長形成され
る電極部12とガラス台座4の外周部とが回路基板7に
配設される縦載置型であり、縦載置型にすることにより
回路基板7の実装面積を横載置型の従来の半導体式圧力
センサに比べ小さくすることができることから半導体式
圧力センサの小型化が可能になる。
When the conventional semiconductor type pressure sensor in which only the glass pedestal 4 is disposed on the circuit board 7 is of a horizontal mounting type, the semiconductor type pressure sensor of the present invention uses a bridge circuit of the sensor element 2 and a stem. The electrode portion 12 extending to the outer peripheral portion of the glass base 4 and the outer peripheral portion of the glass pedestal 4 are of a vertical mounting type arranged on the circuit board 7, and the mounting area of the circuit board 7 is reduced by using the vertical mounting type. The size of the semiconductor pressure sensor can be reduced because the size of the semiconductor pressure sensor can be reduced as compared with that of a conventional mounting type semiconductor pressure sensor.

【0012】また、本発明は、気体,液体等の媒体の圧
力を検出する半導体式圧力センサの製造方法に関し、ガ
ラス基板18の表面に所定形状の溝部19を複数形成す
る溝部形成工程と、溝部19に、シリコン基板(シリコ
ンウエハ)20のダイアフラム1が連結部21を介し2
つ以上対向するようにシリコン基板20をガラス基板1
8上に接合する接合工程と、シリコン基板20の各ダイ
アフラム1の連結部21を切断し、切り欠き部22を形
成する第1の切断工程と、連結部21の切断面(切り欠
き部22)から各ダイアフラム1に形成するブリッジ回
路(歪ケージ)にコンタクトホールを介し電気的に接続
される電極部12を形成する電極部形成工程と、切り欠
き部22(連結部21の切断箇所)からガラス基板18
を切断し、個々のセンサチップ5を形成する第2の切断
工程と、ガラス基板18の切断面に形成される溝部(圧
力導入孔13)19と回路基板7に形成される圧力導入
部15が対向し、かつ回路基板7に形成される接続ラン
ド14と電極部12とを半田により接続する半田接合工
程と、回路基板7と電極部12との前記半田による接続
箇所周辺及び回路基板7とセンサチップ5との接触箇所
周辺に補強用接着剤(補強接着部材)17を塗布する補
強接着部材塗布工程と、を含むものであり、回路基板7
に実装される他の表面実装部品と同様にリフロー半田等
の手段により、回路基板7上に配設することが可能とな
るため、従来のワイヤボンディング方式の半導体式圧力
センサに比べ、生産性を向上させることができる。しか
も、ガラス台座4の表面から裏面に貫通する圧力導入孔
3を備えた従来の半導体式圧力センサに比べ、ガラス基
板18の表面に溝部19を形成することで圧力導入孔1
3が得られることから、製造工程においてガラス台座4
の加工費を安価にすることができ、製造コストを低減さ
せることが可能となる。
The present invention also relates to a method of manufacturing a semiconductor type pressure sensor for detecting the pressure of a medium such as a gas or a liquid, a groove forming step of forming a plurality of grooves 19 of a predetermined shape on the surface of a glass substrate 18, and a groove forming step. 19, the diaphragm 1 of the silicon substrate (silicon wafer) 20 is
The silicon substrate 20 is placed on the glass substrate 1
8; a first cutting step of cutting the connecting portion 21 of each diaphragm 1 of the silicon substrate 20 to form a cutout portion 22; and a cut surface of the connecting portion 21 (cutout portion 22). Forming an electrode portion 12 that is electrically connected to a bridge circuit (strain cage) formed in each diaphragm 1 through a contact hole from a notch portion 22 (a cut portion of the connecting portion 21). Substrate 18
And a second cutting step of forming individual sensor chips 5, a groove (pressure introducing hole 13) 19 formed on the cut surface of the glass substrate 18, and a pressure introducing portion 15 formed on the circuit board 7. A solder bonding step of connecting the connection lands 14 and the electrode portions 12 which are opposed to each other and formed on the circuit board 7 by soldering, a portion where the circuit board 7 and the electrode portions 12 are connected by the solder, and a circuit board 7 and a sensor And a step of applying a reinforcing adhesive (reinforcing adhesive member) 17 around the contact portion with the chip 5.
As with other surface-mounted components mounted on a circuit board, it can be disposed on the circuit board 7 by means such as reflow soldering. Can be improved. In addition, as compared with the conventional semiconductor pressure sensor having the pressure introducing hole 3 penetrating from the front surface to the rear surface of the glass pedestal 4, the pressure introducing hole 1 is formed by forming the groove 19 on the surface of the glass substrate 18.
In the manufacturing process, the glass pedestal 4
Processing cost can be reduced, and the manufacturing cost can be reduced.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明を添付図面に記載した実施例に
基づき説明するが、従来例と同等もしくは相当箇所には
同一符号を付してその詳細な説明は省く。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described with reference to the embodiments shown in the accompanying drawings, but the same or corresponding parts as those in the conventional example will be denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0014】図1は本発明の半導体式圧力センサを示す
要部断面図、図2は本発明の半導体式圧力センサの製造
方法を示す図である。
FIG. 1 is a sectional view of a principal part showing a semiconductor pressure sensor of the present invention, and FIG. 2 is a view showing a method of manufacturing the semiconductor pressure sensor of the present invention.

【0015】図1において、センサ素子2は、シリコン
単結晶からなるステム11と一体に薄肉状のダイアフラ
ム1が形成され、このダイアフラム1の所定箇所には半
導体歪ゲージ(図示しない)が低抵抗からなる拡散層
(リード部)を介しブリッジ回路をなすように拡散によ
り形成される。また、ステム11と後で詳述する回路基
板7との対向面には、前記拡散層にコンタクトホール
(図示しない)を介し電気的に接続し、前記ブリッジ回
路の圧力信号(圧力に応じた電圧信号)及び前記ブリッ
ジ回路への電源信号を入出力するための銅や金等からな
る電極部12が蒸着もしくはスパッタリング法等の手段
により形成されている。
In FIG. 1, a thin diaphragm 1 is formed in a sensor element 2 integrally with a stem 11 made of a silicon single crystal, and a semiconductor strain gauge (not shown) is provided at a predetermined portion of the diaphragm 1 from a low resistance. It is formed by diffusion so as to form a bridge circuit via a diffusion layer (lead portion). The diffusion layer is electrically connected via a contact hole (not shown) to a surface of the stem 11 opposite to the circuit board 7 which will be described in detail later, and a pressure signal (voltage corresponding to pressure) of the bridge circuit is provided. And an electrode portion 12 made of copper, gold, or the like for inputting and outputting a power signal to and from the bridge circuit is formed by means such as vapor deposition or sputtering.

【0016】ガラス台座4は、センサ素子2のステム1
1と陽極接合されるもので、ガラス台座4には、ガラス
台座4とセンサ素子2との対向面の所定位置からガラス
台座4と回路基板7との当接面に達するダイアフラム1
に前記媒体の圧力を伝達するための10〜50μm程度
の深さ有する溝状の圧力導入孔13が形成されている。
前述したセンサ素子2とガラス台座4とでセンサチップ
5が構成される。
The glass pedestal 4 is a stem 1 of the sensor element 2.
The diaphragm 1 reaches the contact surface between the glass pedestal 4 and the circuit board 7 from a predetermined position on the opposing surface of the glass pedestal 4 and the sensor element 2.
Further, a groove-shaped pressure introducing hole 13 having a depth of about 10 to 50 μm for transmitting the pressure of the medium is formed.
The sensor element 2 and the glass pedestal 4 constitute a sensor chip 5.

【0017】回路基板7は、セラミック等の絶縁材料か
らなり、所定の配線パターン(図示しない)が形成さ
れ、センサチップ5から出力される圧力信号を増幅する
増幅器や外来ノイズを吸収するコンデンサ等の電子部品
(図示しない)がランド部(図示しない)に実装される
ものである。また、この回路基板7には、センサチップ
5の電極部12を電気的に接続するための接続ランド1
4と、回路基板7の表面から裏面に貫通し、センサチッ
プ5の圧力導入孔13に連通し、前記媒体の圧力をセン
サチップ5に導くための圧力導入部(貫通孔)15が形
成されている。
The circuit board 7 is made of an insulating material such as ceramic, has a predetermined wiring pattern (not shown), and includes an amplifier for amplifying a pressure signal output from the sensor chip 5, a capacitor for absorbing external noise, and the like. An electronic component (not shown) is mounted on a land (not shown). The circuit board 7 has connection lands 1 for electrically connecting the electrode portions 12 of the sensor chip 5.
4, a pressure introducing portion (through hole) 15 penetrating from the front surface to the rear surface of the circuit board 7, communicating with the pressure introducing hole 13 of the sensor chip 5, and guiding the pressure of the medium to the sensor chip 5. I have.

【0018】かかる構成のセンサチップ5を回路基板7
に配設する場合は、回路基板7の接続ランド14にクリ
ーム半田を塗布し、この接続ランド14上にセンサチッ
プ5の電極部12が対応し、かつガラス台座4の圧力導
入孔13と回路基板7の圧力導入部15とが対向するよ
うにセンサチップ5を回路基板7上に配設し、リフロー
半田することにより、両部材5,7が電気的に接続され
る。接続ランド14と電極部12との半田付けに関し、
両部材5,7間の接合強度を向上させることからも接続
ランド14と電極部12との間に半田フィレット16が
形成されるように半田塗布量を管理する。
The sensor chip 5 having such a configuration is mounted on the circuit board 7.
In this case, cream solder is applied to the connection lands 14 of the circuit board 7, the electrode portions 12 of the sensor chip 5 correspond to the connection lands 14, and the pressure introduction holes 13 of the glass pedestal 4 are connected to the circuit boards 7. The sensor chip 5 is disposed on the circuit board 7 so that the pressure introducing portion 15 of the sensor 7 faces the circuit board 7, and the members 5 and 7 are electrically connected by reflow soldering. Regarding the soldering of the connection land 14 and the electrode portion 12,
The solder application amount is controlled so that the solder fillet 16 is formed between the connection land 14 and the electrode portion 12 in order to improve the bonding strength between the two members 5 and 7.

【0019】そして、リフロー半田付け後、回路基板7
の圧力導入部15とガラス台座4の圧力導入孔13との
圧力伝達における気密性を確保、及び両部材5,7の接
合強度を向上させるために、前記半田付け箇所周辺及び
ガラス台座4と回路基板7との接触部周辺にシリコン系
の補強用接着剤(補強接着部材)17を所定量塗布する
ことにより半導体式圧力センサが得られる。
After the reflow soldering, the circuit board 7
In order to secure airtightness in pressure transmission between the pressure introducing portion 15 and the pressure introducing hole 13 of the glass pedestal 4 and to improve the bonding strength between the members 5 and 7, the circuit around the soldering location and the glass pedestal 4 A semiconductor-type pressure sensor is obtained by applying a predetermined amount of a silicon-based reinforcing adhesive (reinforcing adhesive member) 17 around a contact portion with the substrate 7.

【0020】次に、図2を用いてかかる半導体式圧力セ
ンサの製造方法を説明する。
Next, a method of manufacturing such a semiconductor pressure sensor will be described with reference to FIG.

【0021】先ず、パイレックス製等のガラス基板18
に深さ10〜50μm,長さ3〜4mm程度の前述した
圧力導入部13となる溝部19を形成するために、例え
ば、ガラス基板18の溝部19形成箇所を除く箇所にレ
ジスト膜を形成し、フッ酸混合液を用いるエッチング処
理やサンドブラスト法等により、ガラス基板8に溝部1
9を複数箇所に形成する「溝部形成工程,図2
(a)」。
First, a glass substrate 18 made of Pyrex or the like is used.
In order to form a groove 19 serving as the above-described pressure introducing portion 13 having a depth of about 10 to 50 μm and a length of about 3 to 4 mm, for example, a resist film is formed on a portion of the glass substrate 18 excluding the portion where the groove 19 is formed. The groove 1 is formed in the glass substrate 8 by an etching process using a hydrofluoric acid mixed solution, a sand blast method, or the like.
9 are formed at a plurality of locations.
(A). "

【0022】次に、半導体基板であるシリコン基板(シ
リコンウエハ)20を、ステム11を残してKOH等の
アルカリエッチング液によるウエットエッチング等の適
宜方法により、薄肉状のダイアフラム1を複数形成し、
その後、シリコン基板20を熱酸化炉に投入し表裏面に
熱酸化膜を形成する。尚、各ダイアフラム1間隔は、各
ダイアフラム1を連結する連結部21を挟んで各ダイア
フラム1の一端側が、前記溝部形成工程により形成され
る溝部19に対向する間隔とする。
Next, a plurality of thin diaphragms 1 are formed on the silicon substrate (silicon wafer) 20, which is a semiconductor substrate, by an appropriate method such as wet etching using an alkaline etching solution such as KOH while leaving the stem 11,
Thereafter, the silicon substrate 20 is put into a thermal oxidation furnace, and a thermal oxide film is formed on the front and back surfaces. The interval between the diaphragms 1 is set so that one end of each of the diaphragms 1 faces the groove 19 formed in the groove forming step with the connecting portion 21 connecting the diaphragms 1 interposed therebetween.

【0023】そして、ダイアフラム1内において、前記
歪ゲージの形成箇所に対応する表面の前記熱酸化膜を除
去し、ボロン等の半導体材料を用い、拡散によりダイア
フラム1内の所定位置に前記各歪ゲージを形成し、再
び、前記各歪ゲージの形成部分に熱酸化膜を形成する。
そして、前記各歪ゲージをブリッジ回路状にするため、
例えば、前記歪ゲージの両端から所定形状のパターンで
前記熱酸化膜を除去し、前記各歪ゲージよりも濃度が高
いボロン等の半導体材料を用い、拡散により各接続部を
形成してブリッジ回路を形成する。前記ブリッジ回路を
形成した後、シリコン基板20の表面の熱酸化膜上に窒
化シリコンからなるナイトライド膜を形成する。
In the diaphragm 1, the thermal oxide film on the surface corresponding to the location where the strain gauge is formed is removed, and the strain gauge is placed at a predetermined position in the diaphragm 1 by diffusion using a semiconductor material such as boron. Is formed, and a thermal oxide film is formed again on the portion where each of the strain gauges is formed.
And, in order to make each said strain gauge into a bridge circuit shape,
For example, the bridge circuit is formed by removing the thermal oxide film from both ends of the strain gauge in a pattern of a predetermined shape, using a semiconductor material such as boron having a higher concentration than the strain gauges, and forming each connection portion by diffusion. Form. After the bridge circuit is formed, a nitride film made of silicon nitride is formed on the thermal oxide film on the surface of the silicon substrate 20.

【0024】次に、前記各接合部の形成箇所に対応する
前記ナイトライド膜をプラズマエッチング法等により除
去し、このナイトライド膜を除去した部分の前記熱酸化
膜をフッ酸混合液等を用い除去することにより、前記ナ
イトライド膜から前記熱酸化膜を介し前記各接合部に達
する各コンタクトホールが形成されるセンサ素子2が連
設される「センサ素子形成工程」。尚、センサ素子形成
工程における前記ゲージ抵抗及び前記接合部,前記熱酸
化膜,前記ナイトライド膜,前記コンタクトホールは図
示しないものとする。
Next, the nitride film corresponding to the position where each of the junctions is formed is removed by a plasma etching method or the like, and the portion of the thermal oxide film from which the nitride film has been removed is formed using a hydrofluoric acid mixed solution or the like. A “sensor element forming step” in which the sensor element 2 in which each contact hole is formed from the nitride film through the thermal oxide film to reach each of the junctions by removal is formed. The gauge resistance and the joint, the thermal oxide film, the nitride film, and the contact hole in the sensor element forming step are not shown.

【0025】そして、ガラス基板18上にシリコン基板
20を配設する。この場合、各ダイアフラム1を連結す
る連結部21を挟んで各ダイアフラム1の一端側が、ガ
ラス基板18に形成される溝部19上に対向するように
配設し、両部材18,20を陽極接合する「接合工程,
図2(b)」。
Then, a silicon substrate 20 is provided on the glass substrate 18. In this case, one end of each of the diaphragms 1 is disposed so as to face the groove 19 formed in the glass substrate 18 with the connecting portion 21 connecting the respective diaphragms 1 interposed therebetween, and the two members 18 and 20 are anodically bonded. "The joining process,
FIG. 2 (b).

【0026】次に、シリコン基板20の各ダイアフラム
1間を接続する各連結部21の略中央部の上端部からガ
ラス基板18に達し、幅が0.2〜0.3mm程度の切
り欠き部(切り欠き部を形成することでセンサ素子2の
ステム11部分が形成される)22をダイサー等の手段
により形成し「第1の切断工程〜(c)」、その後、マ
スク版をシリコン基板20上に配設し、銅や金等からな
る導電部材を用いて蒸着やスパッタリング法等により、
各ダイアフラム1の前記接合部から前記コンタクトホー
ルを介し切り欠き部(切断面)21に達するような電極
部12を形成する「電極部形成工程,図2(d)」。
Next, a notch (about 0.2 to 0.3 mm) having a width of about 0.2 to 0.3 mm reaches the glass substrate 18 from the upper end substantially at the center of each connecting portion 21 connecting the diaphragms 1 of the silicon substrate 20. By forming a cutout portion, the stem 11 of the sensor element 2 is formed) 22 is formed by means such as a dicer or the like, and “first cutting step to (c)”. Is disposed, and using a conductive member made of copper, gold, or the like, by vapor deposition, sputtering, or the like,
An electrode part forming step of forming an electrode part 12 extending from the joint part of each diaphragm 1 to the cutout part (cut surface) 21 through the contact hole, as shown in FIG. 2D.

【0027】次に、切り欠き部21の幅よりも小さい幅
のブレードを有するダイサー等により、電極部12が形
成される切り欠き部21の底面となるガラス基板20の
上面からガラス基板20の底面に達するようにガラス基
板20を切断するとともに、各ダイアフラム1の両端部
もダイサー等の手段により同様に切断することにより、
前記媒体の圧力がガラス台座4の切断面からダイアフラ
ム1に達する圧力導入孔13が構成されるセンサチップ
5が得られる「第2の切断工程,図2(e)」。
Next, a dicer or the like having a blade having a width smaller than the width of the notch 21 is used to move the bottom of the glass substrate 20 from the upper surface of the glass substrate 20 serving as the bottom of the notch 21 where the electrode 12 is formed. The glass substrate 20 is cut so as to reach the upper limit, and both ends of each of the diaphragms 1 are similarly cut by means such as a dicer.
A sensor chip 5 having a pressure introduction hole 13 in which the pressure of the medium reaches the diaphragm 1 from the cut surface of the glass pedestal 4 is obtained (“second cutting step, FIG. 2E”).

【0028】そして、回路基板7に形成される接続ラン
ド14にクリーム半田等をスクリーン印刷等の手段によ
り塗布し、センサチップ5の電極部12が接続ランド1
4に対応し、かつ回路基板7に形成される圧力導入部1
5とセンサチップ5の圧力導入孔13とが対向するよう
に、画像処理技術を用いた自動実装機等によりセンサチ
ップ5を回路基板7上に配設し、その後、リフロー炉に
投入することで前記両部材5,7が電気的に接合される
「半田接合工程,図2(f)」。
Then, cream solder or the like is applied to the connection lands 14 formed on the circuit board 7 by means such as screen printing, and the electrode portions 12 of the sensor chip 5 are connected to the connection lands 1.
4 and a pressure introducing portion 1 formed on a circuit board 7
The sensor chip 5 is disposed on the circuit board 7 by an automatic mounting machine or the like using an image processing technique so that the pressure introduction hole 13 of the sensor chip 5 and the pressure introduction hole 13 of the sensor chip 5 are opposed to each other, and thereafter, the sensor chip 5 is put into a reflow furnace. The "solder joining step, FIG. 2 (f)" in which the two members 5, 7 are electrically joined.

【0029】両部材5,7の半田接合後、前記半田付箇
所及び回路基板7とセンサチップ5との接触面周辺を覆
うように補強用接着剤17を塗布することにより、半導
体式圧力センサが完成する「補強接着部材塗布工程,図
2(f)」。
After the two members 5 and 7 are joined by soldering, a reinforcing adhesive 17 is applied so as to cover the soldering location and the periphery of the contact surface between the circuit board 7 and the sensor chip 5, so that the semiconductor type pressure sensor can be used. The completed “reinforcement adhesive member application step, FIG. 2 (f)”.

【0030】以上、説明したように、かかる半導体式圧
力センサは、回路基板7に実装される他の表面実装部品
と同様にリフロー半田等の手段により、回路基板7上に
センサチップ5を電気的に配設することが可能となるた
め、従来のワイヤボンディング方式の半導体式圧力セン
サに比べ、生産性を向上させることができる構造を得る
ことができる。
As described above, such a semiconductor type pressure sensor electrically connects the sensor chip 5 on the circuit board 7 by means such as reflow soldering similarly to other surface mount components mounted on the circuit board 7. Therefore, it is possible to obtain a structure capable of improving productivity as compared with a conventional wire bonding type semiconductor pressure sensor.

【0031】また、ガラス台座4の表面から裏面に貫通
する圧力導入孔3を備えた従来の半導体式圧力センサに
比べ、ガラス基板18の表面に前述したような溝部19
を形成することで圧力導入孔13が得られることから、
製造工程においてガラス台座4の加工費を安価にするこ
とができ、製造コストを低減させることが可能となる。
Further, as compared with the conventional semiconductor type pressure sensor having the pressure introducing hole 3 penetrating from the front surface to the rear surface of the glass pedestal 4, the groove 19 as described above is formed on the surface of the glass substrate 18.
Since the pressure introduction hole 13 is obtained by forming
In the manufacturing process, the processing cost of the glass pedestal 4 can be reduced, and the manufacturing cost can be reduced.

【0032】また、ガラス台座4のみが回路基板7に配
設される従来の半導体式圧力センサを横載置型とした場
合に、本発明の半導体式圧力センサは、センサ素子2の
前記ブリッジ回路(歪ゲージ)から前記コンタクトホー
ルを介しステム11の外周部まで延長形成される電極部
12とガラス台座4の外周部とが回路基板7に配設され
る縦載置型であり、縦載置型にすることにより回路基板
7の実装面積を横載置型の従来の半導体式圧力センサに
比べ小さくすることができることから半導体式圧力セン
サの小型化が可能になる。
When the conventional semiconductor pressure sensor in which only the glass pedestal 4 is disposed on the circuit board 7 is of a horizontal mounting type, the semiconductor pressure sensor of the present invention has the bridge circuit ( The electrode portion 12 extending from the strain gauge to the outer peripheral portion of the stem 11 through the contact hole and the outer peripheral portion of the glass pedestal 4 are of a vertical mounting type provided on the circuit board 7, and are of a vertical mounting type. As a result, the mounting area of the circuit board 7 can be reduced as compared with a conventional semiconductor pressure sensor of a horizontal mounting type, so that the semiconductor pressure sensor can be downsized.

【0033】尚、本発明の半導体式圧力センサにおい
て、圧力導入孔13をガラス台座4のセンサ素子2に対
向する対向面に形成するようにしたが、請求項1に記載
の本発明にあっては、ガラス台座4の回路基板7との接
合面の所定位置から前記対向面の所定位置に連通するよ
うな圧力導入孔を形成するようにしても良い。
In the semiconductor pressure sensor according to the present invention, the pressure introducing hole 13 is formed on the surface of the glass pedestal 4 facing the sensor element 2. Alternatively, a pressure introduction hole may be formed so as to communicate from a predetermined position on the bonding surface of the glass pedestal 4 with the circuit board 7 to a predetermined position on the facing surface.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明は、気体,液体等の媒体の圧力を
検出する半導体式圧力センサにおいて、ガラス台座と、
前記ガラス台座上に配設され、前記媒体の圧力を検出す
るためのダイアフラムを形成するセンサ素子と、所定箇
所に配線パターン及び接続ランドが形成される回路基板
と、前記センサ素子の入出力を前記回路基板に接続する
ため、前記センサ素子に形成される電極部とを備え、前
記電極部と前記接続ランドとを半田により接続してなる
ものであり、また、気体,液体等の媒体の圧力を検出す
る半導体式圧力センサにおいて、ガラス台座と、前記ガ
ラス台座上に配設され、前記媒体の圧力を検出するダイ
アフラムを形成するセンサ素子と、前記ガラス台座の前
記ダイアフラムに対向する対向面に形成される圧力導入
孔と、前記圧力導入孔に対向する貫通孔を形成するとと
もに所定の配線パターン及び接続ランドが形成される回
路基板と、前記センサ素子の入出力を前記回路基板に接
続するため、前記センサ素子に形成される電極部と、か
ら構成され、前記電極部と前記接続ランドとを半田によ
り接続してなるものであることから、前記回路基板に実
装される他の表面実装部品と同様にリフロー半田等の手
段により、前記回路基板上に前記ガラス台座と前記セン
サ素子とにより構成されるセンサチップを電気的に配設
することが可能となるため、従来のワイヤボンディング
方式の半導体式圧力センサに比べ、生産性を向上させる
構造を得ることができる。
According to the present invention, there is provided a semiconductor pressure sensor for detecting the pressure of a medium such as a gas or a liquid.
A sensor element disposed on the glass pedestal and forming a diaphragm for detecting the pressure of the medium, a circuit board on which a wiring pattern and a connection land are formed at a predetermined location, and input and output of the sensor element An electrode portion formed on the sensor element for connection to a circuit board, wherein the electrode portion and the connection land are connected by soldering; In the semiconductor type pressure sensor for detecting, a glass pedestal, a sensor element disposed on the glass pedestal and forming a diaphragm for detecting the pressure of the medium, and formed on an opposing surface of the glass pedestal facing the diaphragm. A pressure-introducing hole, a circuit board in which a through-hole opposed to the pressure-introducing hole is formed, and a predetermined wiring pattern and a connection land are formed. In order to connect the input / output of the sensor element to the circuit board, an electrode section formed on the sensor element is formed, and the electrode section and the connection land are connected by soldering. It is possible to electrically dispose a sensor chip composed of the glass pedestal and the sensor element on the circuit board by means such as reflow soldering as in the case of other surface mount components mounted on the circuit board. Therefore, it is possible to obtain a structure that improves productivity as compared with a conventional wire bonding type semiconductor pressure sensor.

【0035】また、前記ガラス台座のみが前記回路基板
に配設される従来の半導体式圧力センサを横載置型とし
た場合に、本発明の半導体式圧力センサは、前記センサ
素子の外周部まで延長形成される前記電極部と、前記ガ
ラス台座の外周部とが前記回路基板に配設される縦載置
型であり、前記縦載置型にすることにより前記回路基板
の表面実装面積を前記横載置型の従来の半導体式圧力セ
ンサに比べ小さくすることができることから半導体式圧
力センサの小型化が可能になる。
When the conventional semiconductor pressure sensor in which only the glass pedestal is disposed on the circuit board is of a horizontal mounting type, the semiconductor pressure sensor of the present invention extends to the outer peripheral portion of the sensor element. The formed electrode portion and the outer peripheral portion of the glass pedestal are of a vertical mounting type disposed on the circuit board, and the vertical mounting type reduces the surface mounting area of the circuit board to the horizontal mounting type. Since the size of the semiconductor pressure sensor can be reduced as compared with the conventional semiconductor pressure sensor, the size of the semiconductor pressure sensor can be reduced.

【0036】また、本発明は、気体,液体等の媒体の圧
力を検出する半導体式圧力センサの製造方法において、
ガラス基板の表面に所定形状の溝部を複数形成する溝部
形成工程と、前記溝部に、シリコンウエハのダイアフラ
ムが連結部を介し2つ以上対向するように前記シリコン
ウエハを前記ガラス基板上に接合する接合工程と、前記
シリコンウエハの前記連結部を切断する第1の切断工程
と、前記連結部の切断面から前記ダイアフラムに形成す
る歪ケージに電気的に接続される電極部を形成する電極
部形成工程と、前記連結部の切断箇所から前記ガラス基
板を切断し、個々のセンサチップを得る第2の切断工程
と、前記ガラス基板の切断面に形成される前記溝部と回
路基板に形成される貫通孔が対向するように配設すると
ともに、回路基板に形成される接続ランドと前記電極部
とを半田により接続する半田接合工程と、前記回路基板
と前記電極部との前記半田による接続箇所周辺及び前記
回路基板と前記センサチップとの接触箇所周辺に補強接
着部材を塗布する補強接着部材塗布工程と、を含むもの
であり、前記回路基板に実装される他の表面実装部品と
同様にリフロー半田等の手段により、前記回路基板上に
前記ガラス台座と前記センサ素子とにより構成されるセ
ンサチップを配設することが可能となるため、従来のワ
イヤボンディング方式の半導体式圧力センサに比べ、生
産性を向上させることができる。しかも、前記ガラス台
座の表面から裏面に貫通する圧力導入孔を備えた従来の
半導体式圧力センサに比べ、前記ガラス基板の表面に前
記溝部を形成することで圧力導入孔が得られることか
ら、製造工程において前記ガラス台座の加工費を安価に
することができ、製造コストを低減させることが可能と
なる。
The present invention also relates to a method of manufacturing a semiconductor pressure sensor for detecting the pressure of a medium such as a gas or a liquid.
A groove forming step of forming a plurality of grooves of a predetermined shape on the surface of the glass substrate, and bonding the silicon wafer to the glass substrate so that two or more diaphragms of the silicon wafer face the grooves via a connecting portion. Step, a first cutting step of cutting the connection portion of the silicon wafer, and an electrode portion forming step of forming an electrode portion electrically connected to a strain cage formed in the diaphragm from a cut surface of the connection portion And a second cutting step of cutting the glass substrate from a cut portion of the connection portion to obtain individual sensor chips; and a groove formed in a cut surface of the glass substrate and a through hole formed in a circuit board. Are disposed so as to face each other, and a solder bonding step of connecting the connection land formed on the circuit board and the electrode section by soldering, and a step of connecting the circuit board and the electrode section to each other. A step of applying a reinforcing adhesive member around the connection point by the solder and around the contact point between the circuit board and the sensor chip, and other surface mounting to be mounted on the circuit board. Since a sensor chip composed of the glass pedestal and the sensor element can be disposed on the circuit board by means of reflow soldering or the like in the same manner as a component, a conventional semiconductor bonding pressure of a wire bonding method is used. The productivity can be improved as compared with the sensor. In addition, compared to a conventional semiconductor pressure sensor having a pressure introducing hole penetrating from the front surface to the rear surface of the glass pedestal, the pressure introducing hole can be obtained by forming the groove on the surface of the glass substrate. In the process, the processing cost of the glass pedestal can be reduced, and the manufacturing cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体式圧力センサを示す要部断面
図。
FIG. 1 is a sectional view of a main part showing a semiconductor type pressure sensor of the present invention.

【図2】同上半導体式圧力センサの製造方法を示す図。FIG. 2 is a view showing a method of manufacturing the semiconductor pressure sensor according to the first embodiment;

【図3】従来の半導体式圧力センサを示す要部断面図。FIG. 3 is a sectional view of a main part showing a conventional semiconductor pressure sensor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ダイアフラム 2 センサ素子 4 ガラス台座 5 センサチップ 7 回路基板 11 ステム 12 電極部 13 圧力導入孔 14 接続ランド 15 圧力導入部(貫通孔) 17 補強用接着剤(補強接着部材) 18 ガラス基板 19 溝部 20 シリコン基板(シリコンウエハ) 21 連結部 22 切り欠き部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Diaphragm 2 Sensor element 4 Glass pedestal 5 Sensor chip 7 Circuit board 11 Stem 12 Electrode part 13 Pressure introduction hole 14 Connection land 15 Pressure introduction part (through hole) 17 Reinforcement adhesive (reinforcement adhesive member) 18 Glass substrate 19 Groove part 20 Silicon substrate (silicon wafer) 21 Connecting part 22 Notch

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 気体,液体等の媒体の圧力を検出する半
導体式圧力センサにおいて、ガラス台座と、前記ガラス
台座上に配設され、前記媒体の圧力を検出するためのダ
イアフラムを形成するセンサ素子と、所定箇所に配線パ
ターン及び接続ランドが形成される回路基板と、前記セ
ンサ素子の入出力を前記回路基板に接続するため、前記
センサ素子に形成される電極部とを備え、前記電極部と
前記接続ランドとを半田により接続してなることを特徴
とする半導体式圧力センサ。
1. A semiconductor pressure sensor for detecting a pressure of a medium such as a gas or a liquid, wherein the sensor element includes a glass pedestal and a diaphragm disposed on the glass pedestal for detecting the pressure of the medium. A circuit board on which a wiring pattern and a connection land are formed at a predetermined location, and an electrode section formed on the sensor element for connecting input and output of the sensor element to the circuit board. A semiconductor pressure sensor, wherein the connection land is connected by soldering.
【請求項2】 気体,液体等の媒体の圧力を検出する半
導体式圧力センサにおいて、ガラス台座と、前記ガラス
台座上に配設され、前記媒体の圧力を検出するダイアフ
ラムを形成するセンサ素子と、前記ガラス台座の前記ダ
イアフラムに対向する対向面に形成される圧力導入孔
と、前記圧力導入孔に対向する貫通孔を形成するととも
に所定の配線パターン及び接続ランドが形成される回路
基板と、前記センサ素子の入出力を前記回路基板に接続
するため、前記センサ素子に形成される電極部と、から
構成され、前記電極部と前記接続ランドとを半田により
接続してなることを特徴とする半導体式圧力センサ。
2. A semiconductor pressure sensor for detecting a pressure of a medium such as a gas or a liquid, comprising: a glass pedestal; a sensor element disposed on the glass pedestal and forming a diaphragm for detecting a pressure of the medium; A pressure introducing hole formed on a surface of the glass pedestal facing the diaphragm, a circuit board forming a through hole facing the pressure introducing hole, and a predetermined wiring pattern and a connection land formed thereon, and the sensor And an electrode part formed on the sensor element for connecting input / output of the element to the circuit board. The semiconductor type wherein the electrode part and the connection land are connected by soldering. Pressure sensor.
【請求項3】 前記半田による接続箇所周辺及び前記回
路基板と前記ガラス台座との接触箇所周辺に補強接着部
材を塗布してなることを特徴とする請求項1もしくは請
求項2に記載に半導体式圧力センサ。
3. The semiconductor type according to claim 1, wherein a reinforcing adhesive member is applied around a connection portion by the solder and around a contact portion between the circuit board and the glass pedestal. Pressure sensor.
【請求項4】 気体,液体等の媒体の圧力を検出する半
導体式圧力センサの製造方法において、ガラス基板の表
面に所定形状の溝部を複数形成する溝部形成工程と、前
記溝部に、シリコンウエハのダイアフラムが連結部を介
し2つ以上対向するように前記シリコンウエハを前記ガ
ラス基板上に接合する接合工程と、前記シリコンウエハ
の前記連結部を切断する第1の切断工程と、前記連結部
の切断面から前記ダイアフラムに形成する歪ケージに電
気的に接続される電極部を形成する電極部形成工程と、
前記連結部の切断箇所から前記ガラス基板を切断し、個
々のセンサチップを得る第2の切断工程と、前記ガラス
基板の切断面に形成される前記溝部と回路基板に形成さ
れる貫通孔が対向するように配設するとともに、回路基
板に形成される接続ランドと前記電極部とを半田により
接続する半田接合工程と、前記回路基板と前記電極部と
の前記半田による接続箇所周辺及び前記回路基板と前記
センサチップとの接触箇所周辺に補強接着部材を塗布す
る補強接着部材塗布工程と、を含むことを特徴とする半
導体式圧力センサの製造方法。
4. A method of manufacturing a semiconductor pressure sensor for detecting a pressure of a medium such as a gas or a liquid, wherein a groove forming step of forming a plurality of grooves having a predetermined shape on a surface of a glass substrate; A bonding step of bonding the silicon wafer on the glass substrate such that two or more diaphragms face each other via a connecting portion, a first cutting step of cutting the connecting portion of the silicon wafer, and a cutting of the connecting portion An electrode portion forming step of forming an electrode portion electrically connected to a strain cage formed in the diaphragm from a surface,
A second cutting step of cutting the glass substrate from the cut portion of the connection portion to obtain individual sensor chips, wherein the groove formed in the cut surface of the glass substrate and the through hole formed in the circuit board face each other. And a soldering step of connecting the connection land formed on the circuit board and the electrode portion by soldering, and a step of connecting the circuit board and the electrode portion with each other by the solder and the circuit board. And a step of applying a reinforcing adhesive member around a contact point of the sensor chip and the sensor chip.
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