JPH1031912A - Solderable electroconductive paste - Google Patents

Solderable electroconductive paste

Info

Publication number
JPH1031912A
JPH1031912A JP8187447A JP18744796A JPH1031912A JP H1031912 A JPH1031912 A JP H1031912A JP 8187447 A JP8187447 A JP 8187447A JP 18744796 A JP18744796 A JP 18744796A JP H1031912 A JPH1031912 A JP H1031912A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
paste
conductive paste
solder
copper alloy
alloy powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP8187447A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Ogura
康志 小倉
Jiro Sato
次郎 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP8187447A priority Critical patent/JPH1031912A/en
Publication of JPH1031912A publication Critical patent/JPH1031912A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H05K1/095Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks for polymer thick films, i.e. having a permanent organic polymeric binder
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/321Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by conductive adhesives
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solderable conductive paste which maintains such fundamental traits as oxidation resistance, anti-migration property, bonding strength, printing performance, and anti-sedimenting property, wherein particularly the solderability is enhanced to the same degree as a copper foil. SOLUTION: A copper alloy powder expressed by Agx Cuy is used, having a region whose silver concentration of the facial part of each particle is higher than the mean silver concentration of particles, where such condition should be met that 0.001<=x<=0.4, 0.6<=y<=0.999, and x+y=1 by atomic ratio. From this powder a conductive paste is formed, which contains 100 parts by wt. copper alloy powder having mean particle size between 5-35μm, one or more sorts of resin binder, a solvent, and 0.001-10 parts by wt. higher aliphatic acid and/or higher aliphatic ester to be added as a solderability improving agent. A coating film is formed with this conductive paste.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプリント配線材料や
電子部品などに利用される導電性ペーストにおいて、紙
フェノール樹脂基板、ガラスエポキシ樹脂基板、紙エポ
キシ樹脂基板、アルミナ基板、ガラス基板や金属基板な
どの回路基板上や、チップ抵抗器電極用、セラミックコ
ンデンサー外部電極用、タンタルコンデンサー内外部電
極用、アルミ電解コンデンサーきょう体固着用、ハイブ
リッドIC用、スルーホールへの足付部品接続用、IT
Oガラス電極用などに、スクリーン印刷法、ディッピン
グ法、転写法やディスペンサーなどで塗布、硬化するこ
とにより、良好な導電性とはんだ付け性を有する塗膜を
提供できる直接はんだ付けが可能な導電性ペーストとそ
の導電性塗膜に関するものである。さらに詳しくは、塗
膜表面の耐酸化性や耐マイグレーション性に優れ、印刷
性や基材との接着強度、導電性粉末の耐沈降特性を維持
するとともに、良好な導電性と、銅箔並みの優れたはん
だぬれ性と高い耐はんだ喰われ性を併せ持つはんだ付け
可能な導電性ペーストと、このペーストを塗布または印
刷後、硬化してなる導電性塗膜に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive paste used for a printed wiring material or an electronic component, such as a paper phenol resin substrate, a glass epoxy resin substrate, a paper epoxy resin substrate, an alumina substrate, a glass substrate or a metal substrate. For circuit board, chip resistor electrode, ceramic capacitor external electrode, tantalum capacitor external electrode, aluminum electrolytic capacitor case fixing, hybrid IC, foot connecting parts to through hole, IT
Conductivity that enables direct soldering that can provide a coating film with good conductivity and solderability by applying and curing by screen printing, dipping, transfer, dispenser, etc. for O-glass electrodes etc. The present invention relates to a paste and a conductive coating film thereof. More specifically, it has excellent oxidation resistance and migration resistance on the surface of the coating film, maintains printability, adhesion strength to the substrate, and sedimentation resistance of the conductive powder. The present invention relates to a solderable conductive paste having both excellent solder wettability and high solder erosion resistance, and a conductive coating film formed by applying or printing this paste and then curing.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に導電性ペーストは、その応用面の
広さやプロセスの簡略化などによるコストメリットの点
から、工業的な利用範囲が広がっている。なかでもフェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂やメラミン樹脂などの有機樹
脂バインダーと、銀、銅、カーボンなどの導電性粉末と
溶剤などから構成される導電性ペーストは、材料が安価
であること、適応範囲が広いこと、低温硬化のため他の
基材あるいは部品への悪影響の少ないこと、また、メッ
キを使わずに回路形成や電極の形成が可能なため、プロ
セスが簡素化できることや、有害な廃液を生じないた
め、環境問題を低減できるなどの点から、注目度の高い
材料となっている。
2. Description of the Related Art Generally, conductive pastes have been widely used in industrial applications from the viewpoint of cost advantages due to their wide application area and simplification of processes. Among them, phenolic resin, organic resin binder such as epoxy resin and melamine resin, and conductive paste composed of silver, copper, carbon and other conductive powder and solvent, etc., the material is inexpensive, wide application range It has low adverse effects on other base materials or components due to low-temperature curing.Since circuit formation and electrode formation can be performed without using plating, the process can be simplified and no harmful waste liquid is generated. Therefore, it is a material with a high degree of attention because it can reduce environmental problems.

【0003】有機樹脂バインダーを用いるはんだ付け可
能な導電性ペーストには、導電性粉末として、銀、銅、
銀メッキ銅粉末を用いるのが公知であり、これらと溶剤
及び各種添加剤などの組み合わせによって、はんだ付け
が可能なペーストとなるように工夫してある。
[0003] Solderable conductive pastes using organic resin binders include silver, copper,
It is known to use silver-plated copper powder, and a combination of these with a solvent and various additives has been devised so as to form a paste that can be soldered.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】これら公知の導電性ペ
ーストとして用いられているものには、それぞれ以下の
ような欠点がある。まず、銀粉末を用いたペーストは、
良好な導電性は得られるものの、本質的に銀のはんだ中
への拡散速度が大きいため、はんだ喰われを起こしやす
く、充分なはんだフィレットが形成される前に、はんだ
のディウェッティングが起きてしまい、満足する接着強
度や電気的接続が得られない問題がある。さらに、銀ペ
ーストを用いた導体回路の場合、銀マイグレーションに
よる短絡のため、機器が故障してしまうという深刻な問
題がある。また、銅粉末を用いたペーストは、材料とし
て安価であるが、塗膜を加熱硬化した際、酸化活性の大
きな粉体を使用しているため、空気中あるいは樹脂バイ
ンダー中の酸素により、銅粉末表面に酸化被膜が形成さ
れ、導電性の低下とともにはんだぬれ性が損なわれやす
い。また、酸化防止剤や金属キレート剤を銅粉末に用い
たペーストに添加する試み(たとえば特開昭61−31
454号公報、特開平3−77202号公報、特開昭6
0−4562号公報)も行われているが、この場合、塗
膜化された後に、時間の経過とともに粉体表面が酸化さ
れてしまい、導電性及びはんだぬれ性が低下するうえ
に、基材との接着強度の低下やシェルフライフが短くな
るといった障害も発生する。また、銀を銅粉末表面にメ
ッキした粉末を使用したペーストが公知であるが、粉体
の製造コストが高価な上に、少量の銀が表面に存在して
いるだけとはいえ、やはりマイグレーションの問題があ
り、全ての特性をバランス良く満足するものに至ってい
ない。
Each of the known conductive pastes has the following drawbacks. First, paste using silver powder,
Although good conductivity is obtained, the diffusion rate of silver into the solder is inherently high, so that solder is easily eroded and solder dewetting occurs before a sufficient solder fillet is formed. As a result, there is a problem that satisfactory adhesive strength and electrical connection cannot be obtained. Further, in the case of a conductor circuit using silver paste, there is a serious problem that a device is broken due to a short circuit due to silver migration. In addition, the paste using copper powder is inexpensive as a material, but when the coating is heated and cured, a powder having a high oxidizing activity is used. An oxide film is formed on the surface, and the wettability of the solder is easily impaired as the conductivity decreases. Attempts to add an antioxidant or a metal chelating agent to a paste used for copper powder (for example, see JP-A-61-31)
454, JP-A-3-77202, JP-A-6
However, in this case, the powder surface is oxidized with the lapse of time after being formed into a coating film, and the conductivity and the solder wettability are reduced. In addition, obstacles such as a decrease in adhesive strength with the resin and a reduction in shelf life also occur. A paste using a powder obtained by plating silver on the surface of a copper powder is known. However, the production cost of the powder is high, and even though only a small amount of silver is present on the surface, the migration of the powder is still high. There is a problem, and all the characteristics have not yet been satisfied in a well-balanced manner.

【0005】これらの問題を解決するための手段とし
て、本出願人によって、一般式AgxCuy (ただし、
0.001≦x≦0.4、0.6≦y≦0.999、x
+y=1(原子比))で表され、粒子表面の銀濃度が平
均の銀濃度よりも高く、且つ粒子表面に向かって銀濃度
が増加する領域を有することを特徴とする銅合金粉末を
用いたペースト(例えば特開平4−345701号公
報、特開平6−023582号公報)があり、上記の銀
や銅の欠点を補う技術として開示されている。これらの
技術によると、粉体自体が高い耐酸化性と耐マイグレー
ション特性を有するために、欠点を補う添加剤を極力省
くことができ、従来の銀や銅粉末を用いた導電性ペース
トと比較して、特性的にバランスの良いものになってい
る。
[0005] As a means for solving these problems, the present applicant has proposed a general formula of Ag x Cu y (where
0.001 ≦ x ≦ 0.4, 0.6 ≦ y ≦ 0.999, x
+ Y = 1 (atomic ratio)), using a copper alloy powder characterized by having a region where the silver concentration on the particle surface is higher than the average silver concentration and has a region where the silver concentration increases toward the particle surface. Pastes (for example, JP-A-4-345701 and JP-A-6-023582), which are disclosed as techniques for compensating the above-mentioned disadvantages of silver and copper. According to these technologies, the powder itself has high oxidation resistance and migration resistance, so additives that compensate for the defects can be omitted as much as possible, and compared to conventional conductive pastes using silver or copper powder. The characteristics are well-balanced.

【0006】ところで、これら既存のはんだ付け可能な
導電性ペーストでは、プリント基板上の銅箔や、部品電
極などの錫メッキ、あるいははんだメッキ並みのはんだ
ぬれ性や耐はんだ喰われ性は得られていないのが現状で
ある。既述したように、導電性ペーストは工業的に幅広
く利用されているが、一般に、電子電器産業における工
業的なはんだ付けは、主として錫やはんだ等の金属でメ
ッキされた部品電極面やスルーホール、プリント基板上
の銅箔などに直接はんだ付けすることを目的として行わ
れている。この際に、はんだ付けの信頼性を確保するた
めに、例えば錫−鉛系共晶はんだによるフローソルダリ
ングの場合、235〜260℃、数秒〜10数秒という
はんだ付け過程を経ることが望ましく、高温はんだや特
殊なはんだを使用する場合には、さらに厳しいはんだ付
け条件が適用されるのが現状である。この場合、既存の
はんだ付け可能な導電性ペーストでは、はんだ喰われに
よる塗膜表面のはんだのディウェッティングが起こり易
く、これによりフィレット形成不足となり、はんだ面の
接着強度の低下が生じ、さらには電気的接続がとれない
といった問題も発生する。したがって、はんだぬれ性や
はんだ喰われ性に関して、上記の銅箔や金属メッキ並み
の特性を有するはんだ付け可能な導電性ペーストの出現
が切望されている。
By the way, these existing solderable conductive pastes have the same solder wettability and solder erosion resistance as tin plating or solder plating on copper foil on printed circuit boards and component electrodes. There is no present. As described above, conductive paste is widely used industrially.In general, industrial soldering in the electronic / electrical equipment industry mainly involves component electrode surfaces or through-holes plated with metal such as tin or solder. It is performed for the purpose of directly soldering to a copper foil or the like on a printed circuit board. At this time, in order to ensure the reliability of the soldering, for example, in the case of flow soldering using a tin-lead eutectic solder, it is preferable to go through a soldering process of 235 to 260 ° C. for several seconds to several tens of seconds. In the case of using solder or special solder, more stringent soldering conditions are applied at present. In this case, with the existing solderable conductive paste, solder dewetting of the coating surface due to solder erosion is likely to occur, thereby resulting in insufficient fillet formation, lowering of the adhesive strength of the solder surface, and There is also a problem that electrical connection cannot be established. Therefore, with respect to solder wettability and solder erosion, the emergence of a solderable conductive paste having characteristics similar to those of the above-mentioned copper foil and metal plating has been desired.

【0007】本発明の目的は、まさにこの点にあり、か
かる課題を解決するものとして、はんだ付け可能な導電
性ペーストにおいて、耐酸化性、耐マイグレーション
性、接着強度、印刷性、耐沈降特性といった性能を維持
し、特にはんだぬれ性や耐はんだ喰われ性を銅箔並みに
高めたはんだ付け可能な導電性ペーストを提供すること
にある。
[0007] The object of the present invention is exactly at this point, and as a solution to this problem, a solderable conductive paste such as oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, printability, and sedimentation resistance. It is an object of the present invention to provide a solderable conductive paste which maintains its performance, and in particular, improves the solder wettability and the resistance to solder erosion to the level of a copper foil.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる問
題点を鑑み、鋭意検討した結果、一般式Agx Cu
y(ただし、0.001≦x≦0.4、0.6≦y≦
0.999、x+y=1(原子比))で表され、且つ粒
子表面の銀濃度が粒子の平均銀濃度よりも高い領域を有
する銅合金粉末において、該銅合金粉末の平均粒子径が
5〜35μmであることを特徴とする銅合金粉末100
重量部と、少なくとも一種類以上の樹脂バインダー及び
溶剤を含む導電性ペーストにおいて、はんだ付け性改良
剤として高級脂肪酸及び/または高級脂肪酸エステル
0.001〜10重量部を含有することを特徴とするは
んだ付け可能な導電性ペーストを用いることによって上
記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに
至った。
Means for Solving the Problems In view of such problems, the present inventors have made intensive studies and found that the general formula Ag x Cu
y (However, 0.001 ≦ x ≦ 0.4, 0.6 ≦ y ≦
0.999, x + y = 1 (atomic ratio)), and the average particle diameter of the copper alloy powder is 5 to 5 in the copper alloy powder having a region where the silver concentration on the particle surface is higher than the average silver concentration of the particles. Copper alloy powder 100 having a size of 35 μm
1 part by weight of a conductive paste containing at least one kind of resin binder and a solvent, wherein the solder contains 0.001 to 10 parts by weight of a higher fatty acid and / or a higher fatty acid ester as a solderability improver. It has been found that the above problem can be solved by using a conductive paste that can be attached, and the present invention has been completed.

【0009】すなわち、本発明は以下の通りである。 (1) 一般式Agx Cuy (ただし、0.001≦x
≦0.4、0.6≦y≦0.999、x+y=1(原子
比))で表され、且つ粒子表面の銀濃度が粒子の平均銀
濃度よりも高い領域を有する銅合金粉末100重量部
と、少なくとも一種類以上の樹脂バインダー及び溶剤を
含む導電性ペーストにおいて、はんだ付け性改良剤とし
て高級脂肪酸または高級脂肪酸エステル0.001〜1
0重量部を含有することを特徴とするはんだ付け可能な
導電性ペースト。 (2) 一般式Agx Cuy (ただし、0.001≦x
≦0.4、0.6≦y≦0.999、x+y=1(原子
比))で表され、且つ粒子表面の銀濃度が粒子の平均銀
濃度よりも高い領域を有する銅合金粉末100重量部
と、少なくとも一種類以上の樹脂バインダー及び溶剤を
含む導電性ペーストにおいて、はんだ付け性改良剤とし
て高級脂肪酸と高級脂肪酸エステル0.001〜10重
量部を含有することを特徴とするはんだ付け可能な導電
性ペースト。 (3) 一般式Agx Cuy (ただし、0.001≦x
≦0.4、0.6≦y≦0.999、x+y=1(原子
比))で表され、且つ粒子表面の銀濃度が粒子の平均銀
濃度よりも高い領域を有する銅合金粉末100重量部
と、少なくとも一種類以上の樹脂バインダー及び溶剤を
含む導電性ペーストにおいて、はんだ付け性改良剤とし
て高級脂肪酸エステル0.001〜10重量部を含有す
ることを特徴とするはんだ付け可能な導電性ペースト。 (4) 銅合金粉末の平均粒子径が5〜35μmである
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のはん
だ付け可能な導電性ペースト。 (5) 請求項1〜4の導電性ペーストを基材上に塗布
または印刷後、硬化してなるはんだ付け可能な導電性塗
膜。
That is, the present invention is as follows. (1) General formula Ag x Cu y (where 0.001 ≦ x
≦ 0.4, 0.6 ≦ y ≦ 0.999, x + y = 1 (atomic ratio)), and 100 weight parts of a copper alloy powder having a region where the silver concentration on the particle surface is higher than the average silver concentration of the particles. Part and a conductive paste containing at least one or more resin binders and a solvent, in which a higher fatty acid or a higher fatty acid ester is used as a solderability improver.
A solderable conductive paste containing 0 parts by weight. (2) General formula Ag x Cu y (where 0.001 ≦ x
≦ 0.4, 0.6 ≦ y ≦ 0.999, x + y = 1 (atomic ratio)), and 100 weight parts of a copper alloy powder having a region where the silver concentration on the particle surface is higher than the average silver concentration of the particles. And a conductive paste containing at least one or more types of resin binders and solvents, wherein 0.001 to 10 parts by weight of a higher fatty acid and a higher fatty acid ester are contained as a solderability improver. Conductive paste. (3) General formula Ag x Cu y (where 0.001 ≦ x
≦ 0.4, 0.6 ≦ y ≦ 0.999, x + y = 1 (atomic ratio)), and 100 weight parts of a copper alloy powder having a region where the silver concentration on the particle surface is higher than the average silver concentration of the particles. And a conductive paste containing at least one or more resin binders and a solvent, wherein the solderable conductive paste contains 0.001 to 10 parts by weight of a higher fatty acid ester as a solderability improver. . (4) The solderable conductive paste according to any one of claims 1 to 3, wherein the copper alloy powder has an average particle size of 5 to 35 µm. (5) A solderable conductive coating film obtained by applying or printing the conductive paste according to any one of claims 1 to 4 on a base material and then curing.

【0010】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明に用いる銅合金粉末は、既に本出願人によって開示
されている特開平6−260015号公報記載のガスア
トマイズ法にて作成するのが好ましく、さらに窒素、ヘ
リウム、アルゴンなどの不活性ガスアトマイズ法にて作
製するのが好ましい。この際、ガスに含まれる酸素は、
2%以下が好ましく、さらには0.1%以下が好まし
い。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The copper alloy powder used in the present invention is preferably prepared by a gas atomizing method described in JP-A-6-260015, which has already been disclosed by the present applicant. It is preferable to make it. At this time, the oxygen contained in the gas is
It is preferably at most 2%, more preferably at most 0.1%.

【0011】また、本発明で用いる銅合金粉末の銀量x
は、0.001未満では充分な耐酸化性、はんだ付け性
が得られず、0.4を越える場合には、耐マイグレーシ
ョン性、耐はんだ喰われ性が得られず、はんだ面での接
着強度が低下するうえに粉体のコストが高くなる。好ま
しい銀量xの範囲としては0.005≦x≦0.3であ
り、さらに好ましくは0.02≦x0.25である。本
発明で用いる銅合金粉末は、粉体表面の銀濃度が平均の
銀濃度より高く、表面の銀濃度が平均の銀濃度の1.4
倍以上であり、さらに好ましくは2.1倍以上である。
この銅合金粉末の表面及び表面近傍の銀濃度としては、
英国VG社製X線光電子分光分析装置ESCALAB2
00−X型を用いて、表面からの深さ50Å程度の表面
銀濃度として求めた。なお、この際の銀濃度は、Ag3
5/2 (AlのKα線)とCu3p(MgのKα線)の
ピークを比較して求めたものである。また、平均銀濃度
としては、試料を濃硝酸中で溶解したものを、高周波誘
導結合型プラズマ発光分析計(セイコー電子工業(株)
製JY38P−P2型)を使用して測定した。
Further, the silver content x of the copper alloy powder used in the present invention
If less than 0.001, sufficient oxidation resistance and solderability cannot be obtained, and if more than 0.4, migration resistance and solder erosion resistance cannot be obtained, and the adhesive strength on the solder surface And the cost of the powder increases. The preferred range of the amount x of silver is 0.005 ≦ x ≦ 0.3, and more preferably 0.02 ≦ x0.25. In the copper alloy powder used in the present invention, the silver concentration on the powder surface is higher than the average silver concentration, and the silver concentration on the surface is 1.4 of the average silver concentration.
It is at least 2.1 times, more preferably at least 2.1 times.
As the silver concentration on the surface and near the surface of the copper alloy powder,
X-ray photoelectron spectroscopy analyzer ESCALAB2 manufactured by UK VG
Using a 00-X type, the surface silver concentration at a depth of about 50 ° from the surface was determined. The silver concentration at this time was Ag3
This is obtained by comparing peaks of d 5/2 (Kα line of Al) and Cu3p (Kα line of Mg). The average silver concentration was determined by dissolving a sample in concentrated nitric acid and using a high-frequency inductively coupled plasma emission spectrometer (Seiko Electronics Co., Ltd.)
JY38P-P2).

【0012】本発明に用いる銅合金粉末は、平均粒子径
として5〜35μmの範囲にあることが必須である。5
μm未満では、はんだ付けの際に、硬化塗膜表面の該銅
合金粒子が、はんだ合金層に溶融してはんだ相に喰われ
てしまい、ディウェッティング状態になる時間が極端に
短くなる。このため銅箔などの金属箔並みの耐はんだ喰
われ性を付与するためには、できるだけ平均粒子径の大
きいものを導電性粉末として使用することが望ましい
が、導電性ペーストとして使用する際に、35μm以上
では、硬化膜表面の粒子がはんだ相に喰われる時間は長
くなるものの、スクリーン印刷特性が極端に悪化するう
えに、ペースト中の該銅合金粒子の沈降、分離が激しく
なり、得られる塗膜の有機/無機成分の組成変化が起こ
る。これにより、はんだぬれ性が著しく変動するため、
導電性ペースト用途としての実用性に乏しくなる。好ま
しい平均粒子径の範囲としては、7〜25μmであり、
さらに好ましくは9〜20μmである。この際の銅合金
粉末の平均粒子径は、Sympatec GmbH製の
レーザー回折型粒度分布測定装置(Heros(12L
A)&Rodos(12SR))を用いて求めた全粒子
体積の、50体積%換算のメジアン径を平均粒子径とし
ている。
It is essential that the average particle diameter of the copper alloy powder used in the present invention is in the range of 5 to 35 μm. 5
If it is less than μm, during soldering, the copper alloy particles on the surface of the cured coating film will melt into the solder alloy layer and be eaten by the solder phase, and the time for dewetting will be extremely short. For this reason, in order to impart solder erosion resistance comparable to that of metal foil such as copper foil, it is desirable to use as large an average particle diameter as conductive powder as possible, but when using as a conductive paste, If it is 35 μm or more, although the time during which the particles on the surface of the cured film are eaten by the solder phase is prolonged, the screen printing characteristics are extremely deteriorated, and the copper alloy particles in the paste are severely settled and separated. The composition of the organic / inorganic component of the film changes. As a result, the solder wettability fluctuates significantly,
Poor practicality as a conductive paste application. A preferable range of the average particle diameter is 7 to 25 μm,
More preferably, it is 9 to 20 μm. At this time, the average particle diameter of the copper alloy powder was measured using a laser diffraction type particle size distribution analyzer (Heros (12L) manufactured by Sympatec GmbH.
A) The median diameter in terms of 50% by volume of the total particle volume determined using & Rodos (12SR)) is defined as the average particle diameter.

【0013】本発明に用いる銅合金粉末の形状として
は、球状、多面体状、鱗片状、フレーク状及びこれらの
混合物として用いることができる。不定形の粒子を用い
た場合、硬化塗膜表面に樹脂バインダーが偏在するた
め、はんだぬれ性が悪化し、好ましくない。好ましい粒
子形状としては、球状、多面体状、鱗片状、フレーク状
であり、さらに好ましくは、球状、多面体状である。い
ずれの形状にしても、機械的に粉体を加工する公知の方
法を用いることが可能である。
The shape of the copper alloy powder used in the present invention can be spherical, polyhedral, scaly, flake, or a mixture thereof. When irregular shaped particles are used, the resin binder is unevenly distributed on the surface of the cured coating film, so that the solder wettability deteriorates, which is not preferable. Preferred particle shapes are spherical, polyhedral, scaly, and flake-like, and more preferably spherical and polyhedral. Regardless of the shape, a known method of mechanically processing powder can be used.

【0014】また、本発明に用いる銅合金粉末は、必要
であれば溶融時に、Al、Zn、Sn、Pb、Si、M
n、Bi、Mo、Cr、Ir、Nb、Sb、B、P、M
g、Li、C、Na、Ba、Ti、In、Au、Pd、
Pt、Rh、Ru、Zr、Hf、Y、Laなどの金属、
半金属及びそれらの化合物を添加しても構わないし、本
発明で用いる銅合金粉末と同時に、Al、Zn、Sn、
Pb、Si、Mn、Bi、Mo、Cr、Ir、Nb、S
b、B、P、Mg、Li、C、Na、Ba、Ti、I
n、Au、Pd、Pt、Rh、Ru、Zr、Hf、Y、
Laなどの金属、半金属及びそれらの化合物からなる粉
末を混合しても構わない。
Further, the copper alloy powder used in the present invention may be made of Al, Zn, Sn, Pb, Si, M
n, Bi, Mo, Cr, Ir, Nb, Sb, B, P, M
g, Li, C, Na, Ba, Ti, In, Au, Pd,
Metals such as Pt, Rh, Ru, Zr, Hf, Y, La,
It is permissible to add metalloids and their compounds, and simultaneously with the copper alloy powder used in the present invention, Al, Zn, Sn,
Pb, Si, Mn, Bi, Mo, Cr, Ir, Nb, S
b, B, P, Mg, Li, C, Na, Ba, Ti, I
n, Au, Pd, Pt, Rh, Ru, Zr, Hf, Y,
Powders composed of metals such as La, metalloids and compounds thereof may be mixed.

【0015】本発明に用いる樹脂バインダーとしては、
加熱硬化性の樹脂として公知のものが使用可能である。
例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、ユリア樹脂、キシレン樹脂、アルキッド樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、
フラン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられ、好ましくは
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、キシレ
ン樹脂であり、さらに好ましくは、フェノール樹脂、メ
ラミン樹脂である。フェノール樹脂としては、フェノー
ル、クレゾール、キシレノール、ビスフェノールA、p
−アルキルフェノールや各種変性フェノールなどにホル
ムアルデヒド、フルフラールなどを付加、縮合させた一
般に公知のものが使用可能であり、特にレゾール型のフ
ェノール樹脂が好ましい。また、メラミン樹脂として
は、アルキルエーテル化メラミン樹脂が好ましい。以上
の樹脂バインダーのうち、一種または二種以上の組み合
わせが可能であり、該導電性ペーストの適用基材に合わ
せて組み合わせは適宜可能である。樹脂バインダー量と
しては、1〜30重量部が好ましい。1未満の場合に
は、基材との接着性が著しく悪化するうえに、塗膜の酸
化劣化による導電性の劣化や、印刷性が不十分となる。
30を越える場合には、銅合金粉末同士の接点の不足の
ために導電性が低下し、さらに塗膜表面に銅合金粉末が
露出しにくくなるため、はんだぬれ性が悪化し、実用性
に乏しくなる。樹脂バインダー量として、好ましい範囲
としては3〜18重量部であり、さらに5〜13重量部
が好適である。
The resin binder used in the present invention includes:
Known heat-curable resins can be used.
For example, phenolic resin, epoxy resin, melamine resin, urea resin, xylene resin, alkyd resin, unsaturated polyester resin, acrylic resin, polyimide resin,
Furan resins, urethane resins and the like are mentioned, preferably phenol resins, epoxy resins, melamine resins and xylene resins, more preferably phenol resins and melamine resins. Phenol resins include phenol, cresol, xylenol, bisphenol A, p
-A generally known product obtained by adding and condensing formaldehyde, furfural or the like to an alkylphenol or various modified phenols can be used, and a resol type phenol resin is particularly preferable. As the melamine resin, an alkyl etherified melamine resin is preferable. Among the above resin binders, one kind or a combination of two or more kinds is possible, and the combination can be appropriately made according to a base material to which the conductive paste is applied. The amount of the resin binder is preferably 1 to 30 parts by weight. If it is less than 1, the adhesiveness to the substrate is significantly deteriorated, and the conductivity of the coating film due to oxidative deterioration and the printability are insufficient.
If it exceeds 30, the conductivity is reduced due to insufficient contact between the copper alloy powders, and the copper alloy powder is hardly exposed on the surface of the coating film, so that the solder wettability deteriorates and the practicality is poor. Become. The preferred range of the amount of the resin binder is 3 to 18 parts by weight, and more preferably 5 to 13 parts by weight.

【0016】また、本発明に使用する樹脂バインダーに
関して、場合によっては上記の熱硬化性の樹脂とともに
熱可塑性の樹脂を適応することも好適である。この際、
樹脂バインダーの組み合わせにより、印刷性や密着性な
どの特性を向上させることができる。本発明のはんだ付
け可能な導電性ペーストの硬化方法としては、ボックス
式熱風炉、連続式熱風炉、マッフル式加熱炉、近赤外線
炉、遠赤外線炉などの公知の方法が可能である。この際
の雰囲気として、酸素濃度が少ないかあるいは存在しな
い雰囲気、不活性ガス雰囲気、還元性雰囲気が望ましい
が、空気中でも構わない。また、好適な硬化温度として
は100〜210℃、さらに好ましくは130〜180
℃である。好適な硬化時間としては、温度にも依存する
が1〜300分の範囲にあることが望ましい。
Further, as for the resin binder used in the present invention, it is preferable to use a thermoplastic resin together with the above-mentioned thermosetting resin in some cases. On this occasion,
By combining the resin binder, characteristics such as printability and adhesion can be improved. As a method of curing the solderable conductive paste of the present invention, a known method such as a box-type hot blast stove, a continuous hot blast stove, a muffle-type heating furnace, a near-infrared furnace, and a far-infrared furnace can be used. The atmosphere at this time is preferably an atmosphere having a low or no oxygen concentration, an inert gas atmosphere, or a reducing atmosphere, but may be air. Further, a preferable curing temperature is 100 to 210 ° C, more preferably 130 to 180 ° C.
° C. A suitable curing time depends on the temperature, but is preferably in the range of 1 to 300 minutes.

【0017】また、本発明におけるはんだ付け可能導電
性ペーストに、有機溶剤を使用することが可能である。
溶剤としては、公知であり一般的に用いられているもの
ならば何でも良い。たとえばエチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
n−ヘキシルエーテル、エチレングリコールモノアリル
エーテル、エチレングリコールドデシルエーテル、エチ
レングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリ
コールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコール
モノフェニルエーテル、エチレングリコールイソアミル
エーテル、エチレングリコールベンジルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリ
コールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ
ブチルエーテル及びそのアセテート、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジ
エチレングリコールドデシルエーテル、ジエチレングリ
コールモノヘキシルエーテル及びそのアセテート、ジエ
チレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチ
レングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリ
コールドデシルエーテル、トリエチレングリコールモノ
n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチル
エーテルトリプロピレングリコールモノメチルエーテル
及びそのアセテート、α−テルピネオール、β−テルピ
ネオール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−
ブタノール、、イソブタノール、sec−ブタノール、
tert−ブタノール、2−エチルブタノール、n−ア
ミルアルコール、イソアミルアルコール、sec−アミ
ルアルコール、tert−アミルアルコール、メチルア
ミルアルコール、3−ペンタノール、n−ヘキサノー
ル、3,5,5−トリメチルヘキサノール、n−ヘプタ
ノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、n−オ
クタノール、2−オクタノール、ノナノール、n−デカ
ノール、ウンデカノール、n−ドデカノール、シクロヘ
キサノール、2−メチルシクロヘキサノール、ベンジル
アルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフル
フリルアルコールなどのアルコール類、トルエン、キシ
レンなどの芳香族類、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノンなど
のケトン類、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピ
ル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢
酸メトキシブチル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジ
ル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピ
オン酸イソアミルなどのエステル類、ジメチルアセトア
ミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
γ−ラクトンなどが挙げられる。これらの溶剤のうち、
単独または二種以上の組み合わせが可能であり、使用す
る樹脂バインダーやペーストの適応基材に合わせて組み
合わせは適宜可能である。また、使用するペーストの粘
度、チクソトロピー性に合わせて、溶剤量は適当に含有
させることができる。一般に導電性ペーストでは、極性
の高い溶剤と低い溶剤を組み合わせて、ペーストのチク
ソトロピー性をコントロールしたり、印刷、塗布時のペ
ーストのレベリング性を調節することが知られている。
本発明におけるはんだ付け可能な導電性ペーストについ
ても、これらの組み合わせは可能である。例えば、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルと3,5,5−
トリメチルヘキサノールの組み合わせや、ジエチレング
リコールモノエチルエーテルとシクロヘキサノールなど
の組み合わせが挙げられる。
In the present invention, an organic solvent can be used for the solderable conductive paste.
As the solvent, any known and commonly used solvent may be used. For example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol mono n-hexyl ether, ethylene glycol monoallyl ether, ethylene glycol dodecyl ether, ethylene glycol monoisobutyl ether, ethylene glycol monoisopropyl Ether, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol isoamyl ether, ethylene glycol benzyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether and its acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol Monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol isobutyl ether, diethylene glycol dodecyl ether, diethylene glycol monohexyl ether and its acetate, diethylene glycol methyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether,
Dipropylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol dodecyl ether, triethylene glycol mono n-butyl ether, triethylene glycol dimethyl ether tripropylene glycol monomethyl ether and its acetate, α-terpineol, β-terpineol, n- Propanol, isopropanol, n-
Butanol, isobutanol, sec-butanol,
tert-butanol, 2-ethylbutanol, n-amyl alcohol, isoamyl alcohol, sec-amyl alcohol, tert-amyl alcohol, methyl amyl alcohol, 3-pentanol, n-hexanol, 3,5,5-trimethylhexanol, n -Heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, n-octanol, 2-octanol, nonanol, n-decanol, undecanol, n-dodecanol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, benzyl alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl Alcohols such as alcohols, aromatics such as toluene and xylene, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, cyclohexanone, and acetate acetate Esters such as ethyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, isoamyl acetate, methoxybutyl acetate, cyclohexyl acetate, benzyl acetate, ethyl propionate, butyl propionate, isoamyl propionate, dimethylacetamide, dimethylformamide, N -Methylpyrrolidone,
γ-lactone and the like. Of these solvents,
A single resin or a combination of two or more resins can be used, and the combination can be appropriately determined in accordance with the resin binder or paste to be used. Further, the amount of the solvent can be appropriately contained in accordance with the viscosity and thixotropic property of the paste used. In general, in a conductive paste, it is known that a solvent having a high polarity and a solvent having a low polarity are combined to control the thixotropy of the paste and to adjust the leveling property of the paste during printing and application.
These combinations are also possible for the solderable conductive paste in the present invention. For example, dipropylene glycol monomethyl ether and 3,5,5-
Examples include a combination of trimethylhexanol and a combination of diethylene glycol monoethyl ether and cyclohexanol.

【0018】本発明における導電性ペーストにおいて、
はんだ付け性改良剤として高級脂肪酸及び/または高級
脂肪酸エステル0.001〜10重量部を含有すること
が必須である。ここで用いる高級脂肪酸及び/または高
級脂肪酸エステルは、炭素数6〜30程度の飽和脂肪酸
及び不飽和脂肪酸、あるいは飽和脂肪酸エステル及び不
飽和脂肪酸エステルであり、一般に公知であるものなら
いずれも利用可能である。高級脂肪酸としては、たとえ
ばカプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン
酸、イソペラルゴン酸、カプリン酸、カプロレイン酸、
ウンデカン酸、2−ウンデセン酸、10−ウンデセン
酸、10−ウンデシン酸、ラウリン酸、リンデル酸、ト
リデカン酸、2−トリデセン酸、ミリスチン酸、ミリス
トレイン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、イソパル
ミチン酸、パルミトレイン酸、ヒラゴン酸、ヒドノカー
ピン酸、マーガリン酸、ω−ヘプタデセン酸、ステアリ
ン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステ
アリン酸、エライジン酸、ペトロセリン酸、モロクチン
酸、エレオステアリン酸、タリリン酸、バクセン酸、リ
ミノレイン酸、ベルノリン酸、ステルクリン酸、ノナデ
カン酸、エイコサン酸、エイコセン酸、ガドレン酸、ア
ラキドン酸、ヘンエイコサン酸、ドコサン酸、エルシン
酸、ブラシジン酸、セトレン酸、クルパノドン酸、トリ
コサン酸、22−トリコセン酸、リグノセリン酸、セラ
コレン酸、ニシン酸、ペンタコサン酸、セロチン酸、モ
ンタン酸、メリシン酸などが挙げられる。また、高級脂
肪酸エステルとしては、たとえばカプロン酸メチル、カ
プロン酸エチル、カプロン酸ブチル、カプロン酸イソブ
チル、カプロン酸イソプロピル、カプロン酸アミル、カ
プロン酸イソアミル、カプロン酸ビニル、エナント酸メ
チル、エナント酸エチル、カプリル酸メチル、カプリル
酸エチル、カプリル酸ブチル、カプリル酸イソブチル、
カプリル酸イソプロピル、カプリル酸アミル、カプリル
酸イソアミル、カプリル酸ビニル、ペラルゴン酸メチ
ル、ペラルゴン酸エチル、カプリン酸メチル、カプリン
酸エチル、カプリン酸ブチル、カプリン酸イソブチル、
カプリン酸イソプロピル、カプリン酸アミル、カプリン
酸イソアミル、カプリン酸ビニル、カプロレイン酸メチ
ル、カプロレイン酸エチル、ウンデカン酸メチル、ウン
デカン酸エチル、10−ウンデセン酸メチル、10−ウ
ンデセン酸エチル、ラウリン酸メチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸イソブチル、ラウリ
ン酸イソプロピル、ラウリン酸アミル、ラウリン酸イソ
アミル、ラウリン酸ビニル、ラウリン酸ベンジル、トリ
デカン酸メチル、トリデカン酸エチル、ミリスチン酸メ
チル、ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリ
スチン酸イソブチル、ミリスチン酸イソプロピル、ミリ
スチン酸ビニル、ミリストレイン酸メチル、ミリストレ
イン酸エチル、ペンタデカン酸メチル、ペンタデカン酸
エチル、パルミチン酸メチル、パルミチン酸エチル、パ
ルミチン酸ブチル、パルミチン酸イソブチル、パルミチ
ン酸イソプロピル、パルミチン酸ビニル、イソパルミチ
ン酸メチル、イソパルミチン酸エチル、パルミトレイン
酸エチル、マーガリン酸メチル、マーガリン酸エチル、
ステアリン酸メチル、ステアリン酸エチル、ステアリン
酸ブチル、ステアリン酸ビニル、ステアリン酸フェニ
ル、ステアリン酸ドデシル、ステアリン酸グリシジル、
ステアリン酸ヒドロキシプロピル、オレイン酸エチル、
オレイン酸ブチル、オレイン酸オレイル、リノール酸メ
チル、リノール酸エチル、リノール酸イソプロピル、リ
ノレン酸メチル、イソステアリン酸エチル、エライジン
酸メチル、ノナデカン酸メチル、ノナデカン酸エチル、
エイコサン酸メチル、エイコサン酸エチル、エイコセン
酸エチル、アラキドン酸メチル、アラキドン酸エチル、
ヘンエイコサン酸エチル、ドコサン酸メチル、エルシン
酸メチル、エルシン酸エチル、リグノセリン酸メチル、
リグノセリン酸エチル、メリシン酸メチルなどが挙げら
れる。
In the conductive paste according to the present invention,
It is essential to contain 0.001 to 10 parts by weight of higher fatty acid and / or higher fatty acid ester as a solderability improver. The higher fatty acid and / or higher fatty acid ester used here is a saturated fatty acid and unsaturated fatty acid having about 6 to 30 carbon atoms, or a saturated fatty acid ester and unsaturated fatty acid ester, and any commonly known fatty acid can be used. is there. As higher fatty acids, for example, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, isoperargonic acid, capric acid, caproleic acid,
Undecanoic acid, 2-undecenoic acid, 10-undecenoic acid, 10-undecenoic acid, lauric acid, lindelic acid, tridecanoic acid, 2-tridecenoic acid, myristic acid, myristoleic acid, pentadecanoic acid, palmitic acid, isopalmitic acid, palmitolein Acids, hiragonic acid, hydnocarpinic acid, margaric acid, ω-heptadecenoic acid, stearic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, isostearic acid, elaidic acid, petroselinic acid, moloctic acid, eleostearic acid, talilic acid, vaccenic acid , Riminoleic acid, vernolic acid, sterculinic acid, nonadecanoic acid, eicosanoic acid, eicosenoic acid, gadrenic acid, arachidonic acid, heneicosanoic acid, docosanoic acid, erucic acid, brassic acid, setrenic acid, clupanodonic acid, tricosanoic acid, 22-to Archwire acid, lignoceric acid, Serakoren acid, herring acid, pentacosanoic acid, cerotic acid, montanic acid and melissic acid. Examples of the higher fatty acid ester include methyl caproate, ethyl caproate, butyl caproate, isobutyl caproate, isopropyl caproate, amyl caproate, isoamyl caproate, vinyl caproate, methyl enanthate, ethyl enanthate, and capryl. Methyl acrylate, ethyl caprylate, butyl caprylate, isobutyl caprylate,
Isopropyl caprylate, amyl caprylate, isoamyl caprylate, vinyl caprylate, methyl pelargonate, ethyl pelargonate, methyl caprate, ethyl caprate, butyl caprate, isobutyl caprate,
Isopropyl caprate, Amyl caprate, Isoamyl caprate, Vinyl caprate, Methyl caproleate, Ethyl caproleate, Methyl undecanoate, Ethyl undecanoate, Methyl 10-undecenoate, Ethyl 10-Undecenoate, Methyl laurate, Lauric acid Ethyl, butyl laurate, isobutyl laurate, isopropyl laurate, amyl laurate, isoamyl laurate, vinyl laurate, benzyl laurate, methyl tridecanoate, ethyl tridecanoate, methyl myristate, ethyl myristate, butyl myristate, Isobutyl myristate, isopropyl myristate, vinyl myristate, methyl myristoleate, ethyl myristoleate, methyl pentadecanoate, ethyl pentadecanoate, palmitic Methyl, ethyl palmitate, butyl palmitate, isobutyl palmitate, isopropyl palmitate, vinyl palmitate, methyl isopalmitate, ethyl isopalmitate, ethyl palmitoleic acid, methyl margarine acid, ethyl margarine acid,
Methyl stearate, ethyl stearate, butyl stearate, vinyl stearate, phenyl stearate, dodecyl stearate, glycidyl stearate,
Hydroxypropyl stearate, ethyl oleate,
Butyl oleate, oleyl oleate, methyl linoleate, ethyl linoleate, isopropyl linoleate, methyl linolenate, ethyl isostearate, methyl elaidate, methyl nonadecanoate, ethyl nonadecanoate,
Methyl eicosanoate, ethyl eicosanoate, ethyl eicosenoate, methyl arachidonic acid, ethyl arachidonic acid,
Ethyl heneicosanoate, methyl docosanoate, methyl erucinate, ethyl erucinate, methyl lignocerate,
Ethyl lignocerate, methyl melysinate and the like.

【0019】これらの高級脂肪酸及び/または高級脂肪
酸エステルは、単独もしくは二種以上で用いることがで
きる。また、ここでいう高級脂肪酸は、はんだ付け性の
改良効果の他に、ペーストのチクソトロピー性付与剤と
しても機能を発揮する。そのため、これらの高級脂肪酸
及び/または高級脂肪酸エステルの種類やそれぞれの添
加量は、銅合金粉末の平均粒子径や、バインダーとして
用いる樹脂や溶剤、あるいはペーストが適応される基材
の種類や構成の如何により、適宜組み合わせや調整が可
能である。例を挙げれば、例えば銅合金粉末の平均粒子
径を大きくすることで、耐はんだ喰われ性を劇的に向上
させることはできる。しかしながらその反面、ペースト
中の該合金粉末の沈降性が大幅に増し、これによりペー
スト中の該銅合金粉末と有機バインダーなどの分離が短
時間で起こり、印刷や塗布時に支障が生じる他に、ペー
ストの組成変化を惹起し、これによりはんだぬれ性が大
幅に変動するなどの困難が生じる。しかしながら、本発
明の場合では、含有せしめるはんだ付け性改良剤とし
て、高級脂肪酸を高級脂肪酸エステルよりも多く含有さ
せるか、高級脂肪酸のみを含有させることで、ペースト
のチクソトロピー性を増加させ、粒子の沈降を抑えるこ
とが可能となり、はんだぬれ性と耐はんだ喰われ性が向
上した導電性ペーストとして実用性を維持できる。ま
た、高級脂肪酸エステルを高級脂肪酸よりも多く含有さ
せるか、高級脂肪酸エステルのみを含有させることでは
んだぬれ性及び耐はんだ喰われ性が向上するほかにペ−
ストの流動性が高まるために印刷性が向上し、さらにペ
ースト硬化膜の接着強度が向上する。さらに例を挙げれ
ば、部品外部電極の形成用途として、はんだ付け可能な
ペーストを用いる場合、適度なチクソトロピー性とレベ
リング性をペーストに付与させる必要があり、本発明に
おけるはんだ付け性改良剤である高級脂肪酸と高級脂肪
酸エステルの配合比を調節(1:9〜5:5(重量
比))することによって、優れたはんだぬれ性と高い耐
はんだ喰われ性を有し、且つ安定した電極形状及び寸法
精度を有する電極の形成がはじめて可能となる。このよ
うに、ペースト中に含有する高級脂肪酸及び/または高
級脂肪酸エステルの配合を制御することにより、はんだ
付け性に優れた実用性の高いペーストとして提供できる
ものとなる。
These higher fatty acids and / or higher fatty acid esters can be used alone or in combination of two or more. In addition, the higher fatty acid referred to herein exhibits a function as a thixotropic agent for the paste, in addition to the effect of improving the solderability. Therefore, the type and amount of each of these higher fatty acids and / or higher fatty acid esters are determined according to the average particle diameter of the copper alloy powder, the type of resin or solvent used as a binder, or the type or configuration of the substrate to which the paste is applied. Any combination and adjustment can be made as appropriate. For example, by increasing the average particle diameter of the copper alloy powder, for example, the resistance to solder erosion can be dramatically improved. However, on the other hand, the sedimentation of the alloy powder in the paste is greatly increased, whereby separation of the copper alloy powder and the organic binder in the paste occurs in a short time, and in addition to causing troubles in printing and coating, the paste This causes a change in solder wettability. However, in the case of the present invention, as a solderability improver to be contained, the higher fatty acid is contained more than the higher fatty acid ester or only the higher fatty acid is contained, so that the thixotropy of the paste is increased and the sedimentation of the particles is increased. Can be suppressed, and practicality can be maintained as a conductive paste having improved solder wettability and solder erosion resistance. In addition, by containing a higher fatty acid ester in a higher amount than a higher fatty acid or by containing only a higher fatty acid ester, the solder wettability and the resistance to solder erosion can be improved.
Since the fluidity of the strike is increased, the printability is improved, and the adhesive strength of the cured paste film is further improved. As another example, when a solderable paste is used as a component external electrode forming application, it is necessary to impart an appropriate thixotropy and leveling property to the paste. By adjusting the blending ratio of fatty acid and higher fatty acid ester (1: 9 to 5: 5 (weight ratio)), it has excellent solder wettability and high solder erosion resistance, and has stable electrode shape and dimensions. It is only possible to form electrodes with accuracy. As described above, by controlling the blending of the higher fatty acid and / or higher fatty acid ester contained in the paste, a paste having excellent solderability and high practicality can be provided.

【0020】これらのはんだ付け性改良剤の含有量とし
ては、0.001〜10重量部の範囲で有効である。
0.001未満の場合、はんだ付け性、すなわちはんだ
ぬれ性の効果が発現しなくなり、10より多くなるとペ
ースト中の銅合金粉末の絶対量が少なくなり、導電性の
劣化を招くうえに、基材との接着強度が低くなる。好適
な含有量としては、0.03〜7重量部であり、より好
ましくは0.09〜3重量部である。また、本発明のは
んだ付け可能な導電性ペーストに、必要に応じてカップ
リング剤や金属キレート剤などを添加することも可能で
ある。好適なカップリング剤としては、ビニルトリエト
キシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシメチルジエトキシシラン、N
−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、メチ
ルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、
フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシ
ラン、イソブチルトリメトキシシランなどのシランカッ
プリング剤や、イソプロピルトリイソステアロイルチタ
ネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノ
エチル)チタネート、イソプロピルトリス(ジオクチル
パイロホスフェート)チタネート、テトライソプロピル
チタネート、テトラブチルチタネート、イソプロピルト
リオクタノイルチタネート、イソプロピルトリドデシル
ベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリ(ジ
オクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルジメ
タクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルト
リクミルフェニルチタネート、イソプロピルイソステア
ロイルジアクリルチタネートなどのチタン系カップリン
グ剤が挙げられる。また、好適な金属キレート剤として
は、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタ
ノールアミンなどのアルカノールアミン、エチレンジア
ミン、トリエチレンジアミン、o−アミノフェノール、
トルエンテトラミン、8−ヒドロキシキノリンなどのア
ミン化合物やアセチルアセトン及びその誘導体などが挙
げられる。これらの添加剤は、単独もしくは二種以上で
用いることができる。特にチタン系のカップリング剤を
用いることで、ペースト中の銅合金粉末の分散性が高ま
り、硬化膜表面の金属粒子を均一に露出させることがで
き、はんだ付け性の向上に効果がある。添加量として
は、塗膜の導電性、はんだ付け性、接着強度が損なわれ
ない程度が好ましく、0.001〜3重量部が適当であ
る。
The content of these solderability improving agents is effective in the range of 0.001 to 10 parts by weight.
If it is less than 0.001, the effect of solderability, that is, the effect of solder wettability will not be exhibited, and if it is more than 10, the absolute amount of the copper alloy powder in the paste will be small, and the conductivity will be deteriorated. And the adhesive strength with the adhesive becomes low. A preferable content is 0.03 to 7 parts by weight, more preferably 0.09 to 3 parts by weight. In addition, a coupling agent, a metal chelating agent, and the like can be added to the solderable conductive paste of the present invention as needed. Suitable coupling agents include vinyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyldiethoxysilane, N
-Β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane,
Silane coupling agents such as phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, isopropyltriisostearoyl titanate, isopropyltri (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, isopropyltris (dioctylpyrophosphate) titanate, Tetraisopropyl titanate, tetrabutyl titanate, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl tri (dioctyl phosphate) titanate, isopropyl dimethacryl isostearyl titanate, isopropyl tricumyl phenyl titanate, isopropyl isostearyl diacryl titanate, etc. Titanium-based coupling agents Suitable metal chelating agents include ethanolamine, diethanolamine, alkanolamines such as triethanolamine, ethylenediamine, triethylenediamine, o-aminophenol,
Examples include amine compounds such as toluenetetramine and 8-hydroxyquinoline, and acetylacetone and its derivatives. These additives can be used alone or in combination of two or more. In particular, by using a titanium-based coupling agent, the dispersibility of the copper alloy powder in the paste is increased, and the metal particles on the surface of the cured film can be uniformly exposed, which is effective in improving the solderability. The amount added is preferably such that the conductivity, solderability and adhesive strength of the coating film are not impaired, and 0.001 to 3 parts by weight is appropriate.

【0021】本発明のはんだ付け可能な導電性ペースト
を塗布あるいは印刷して用いる基材は、基板としてガラ
スエポキシ樹脂基板、紙フェノール樹脂基板、紙エポキ
シ樹脂基板、ポリイミド樹脂基板、ポリエステル樹脂基
板、BTレジン樹脂基板、ポリフェニレンサルファイド
樹脂基板、ポリフェニレンエーテル樹脂基板、ポリエー
テルケトン樹脂基板、ポリエーテルイミド樹脂基板など
のリジッド基板やフレキシブル基板、アルミナ基板や窒
化アルミ基板などのセラミックス系基板、アルミ、ステ
ンレスなどの金属基板など、一般に公知の基板であれ
ば、いずれを用いることも可能である。また、その他の
基材として、チップ抵抗器電極、セラミックコンデンサ
ー外部電極、タンタルコンデンサー内外部電極、アルミ
電解コンデンサーきょう体、ハイブリッドIC用、スル
ーホールへの足付部品、ITOガラス電極などに本発明
のペーストを印刷、塗布して用いることができる。これ
らの基材に印刷、塗布された塗膜は、はんだ付けせずに
硬化塗膜単独で良好な導電性と機械的強度を付与するも
のとして活用できる。さらに、この塗膜上にはんだ付け
を施すことにより、より良好な導電性と機械的強度を有
するものとして有効に活用することができる。なお、本
発明における導電性塗膜とは、硬化させた塗膜が1×1
-3Ω・cm以下の体積抵抗率を示すことを意味する。
The substrate to which the solderable conductive paste of the present invention is applied or printed is a glass epoxy resin substrate, a paper phenol resin substrate, a paper epoxy resin substrate, a polyimide resin substrate, a polyester resin substrate, or a BT substrate. Rigid substrates and flexible substrates such as resin resin substrates, polyphenylene sulfide resin substrates, polyphenylene ether resin substrates, polyether ketone resin substrates, and polyetherimide resin substrates, ceramic substrates such as alumina substrates and aluminum nitride substrates, and aluminum and stainless steel substrates Any generally known substrate such as a metal substrate can be used. In addition, as other base materials, chip resistor electrodes, ceramic capacitor external electrodes, tantalum capacitor internal and external electrodes, aluminum electrolytic capacitor housings, hybrid ICs, foot parts for through holes, ITO glass electrodes, etc. The paste can be printed and applied. The coating film printed and applied to these substrates can be used as a cured coating film alone that imparts good conductivity and mechanical strength without soldering. Further, by applying soldering on this coating film, it can be effectively utilized as having better conductivity and mechanical strength. In addition, the conductive coating film in the present invention means that the cured coating film is 1 × 1
It means that it exhibits a volume resistivity of 0 −3 Ω · cm or less.

【0022】本発明のはんだ付け可能な導電性ペースト
は上記の基材に、スクリーン印刷法、凹版印刷法、バー
コート法、ディッピング法、転写法、ハケ塗り法、ディ
スペンサー法、スプレー法などにより、印刷、塗布する
ことができる。この際、各印刷、塗布法によっては、ペ
ーストの粘度を適当に調整することが望ましい。本発明
のはんだ付け可能な導電性ペーストに、はんだ付けを行
う方法としては、フラットディップ法、ウェーブソルダ
リング法、フローソルダリング法、二段ウェーブソルダ
リング法、多段フローソルダリング法、カスケード法な
どの浸漬はんだ付け法や、コテはんだ付け法、リフロー
法、VPS法、超音波はんだ付け法、レーザーはんだ付
け法などが挙げられる。これらの中で、特にフローソル
ダリング法やリフロー法が、作業性やプロセスコスト面
から好適である。
The solderable conductive paste of the present invention is applied to the above-mentioned base material by a screen printing method, an intaglio printing method, a bar coating method, a dipping method, a transfer method, a brush coating method, a dispenser method, a spray method or the like. Can be printed and applied. At this time, it is desirable to appropriately adjust the viscosity of the paste depending on each printing and coating method. The method for soldering the solderable conductive paste of the present invention includes a flat dip method, a wave soldering method, a flow soldering method, a two-stage wave soldering method, a multi-stage flow soldering method, a cascade method, and the like. Immersion soldering method, iron soldering method, reflow method, VPS method, ultrasonic soldering method, laser soldering method and the like. Among these, the flow soldering method and the reflow method are particularly preferable in terms of workability and process cost.

【0023】本発明におけるはんだ付けに使用するはん
だ材料としては、代表的なSb−Pb系の共晶はんだを
はじめとして、これにAgやSb、Cu、Bi、In、
Ge、Si、Alなどの元素を添加したものや、Sn−
Ag系、Sn−Au系、Sn−Sb系、Pb−Ag系、
Pb−In系、In−Al系、In−Ge系などの一般
的に公知であるはんだ材料が利用可能である。これらの
はんだ材料の形態としては、棒状はんだ、塊状はんだ、
はんだクリーム、糸はんだとして使用可能であり、各形
態によって、はんだ付け方法を上記の方法と適宜組み合
わせてはんだ付けを行うことが可能である。
Examples of the solder material used in the soldering of the present invention include typical Sb-Pb eutectic solders and Ag, Sb, Cu, Bi, In,
One containing elements such as Ge, Si, and Al, or Sn-
Ag-based, Sn-Au-based, Sn-Sb-based, Pb-Ag-based,
Generally known solder materials such as Pb-In, In-Al, and In-Ge can be used. The forms of these solder materials include bar solder, block solder,
It can be used as a solder cream or a thread solder, and it is possible to perform soldering by appropriately combining a soldering method with the above method depending on each mode.

【0024】また、本発明のはんだ付け可能な導電性ペ
ーストに、はんだ付け処理を施す場合に、一般的に用い
られているフラックスを用いることも差し支えない。好
適なフラックスとして、非活性ロジン系フラックス、弱
活性ロジン活性フラックス、活性ロジン系フラックス、
有機酸系フラックス、無機酸系フラックスとして市販さ
れているフラックスが使用可能であり、これらをペース
ト硬化塗膜上にスプレーしたり、浸漬させることによ
り、はんだ付け面にフラックスを塗布することが可能で
ある。さらに必要に応じて、フラックス塗布した硬化塗
膜をボックス式熱風炉や連続熱風炉、遠赤外線炉などを
用いてプレヒート処理を行うことも可能である。これら
のフラックス処理された硬化塗膜は、上述のはんだ付け
方法及びはんだ材料ではんだ付けが可能である。
When the solderable conductive paste of the present invention is subjected to a soldering process, a flux generally used may be used. Suitable fluxes include inactive rosin-based flux, weakly active rosin-based flux, active rosin-based flux,
Commercially available fluxes such as organic acid-based fluxes and inorganic acid-based fluxes can be used, and these can be applied to the soldering surface by spraying or dipping them on the cured paste film. is there. Furthermore, if necessary, the flux-cured cured coating film can be subjected to a preheating treatment using a box-type hot-air stove, a continuous hot-air stove, a far-infrared furnace, or the like. These flux-treated cured coating films can be soldered by the above-mentioned soldering method and solder material.

【0025】次に本発明のはんだ付け可能な導電性ペー
ストの製造方法について説明するが、特に以下に記載し
た製造方法に限定されるものではない。 1.銅合金粉末製造工程 本発明に用いる銅合金粉末は、アトマイズ法により作製
される。ガスアトマイズ法、水アトマイズ法が望ましい
が、特に、窒素やヘリウムなどを含む不活性ガスアトマ
イズ法が好ましい。この際、ガスに含まれる酸素は、2
%以下が好ましく、さらには0.1%以下が好ましい。
Next, a method for producing the solderable conductive paste of the present invention will be described, but it is not particularly limited to the following production method. 1. Copper alloy powder production process The copper alloy powder used in the present invention is produced by an atomizing method. A gas atomization method and a water atomization method are desirable, and particularly, an inert gas atomization method containing nitrogen, helium, or the like is preferable. At this time, the oxygen contained in the gas is 2
% Or less, more preferably 0.1% or less.

【0026】例えば、銅、銀の混合物または合金を、窒
素ガスなどの不活性ガス中で、高周波誘導加熱装置など
を用いて黒鉛るつぼ中で融解する。融解後、るつぼ先端
より金属融液を不活性ガス雰囲気の噴霧槽内に導入した
後、るつぼ先端付近に設けられた複数個のガス噴出孔か
ら、圧縮された不活性ガスを断熱膨張させて発生した高
速気流を、まさにるつぼから噴霧槽内に落下し始めた金
属融液に向かって噴出し、アトマイズすることにより銅
合金粉末を作製することが可能である。この際に用いる
膨張前のヘリウムガスの圧力は10kg/cm2 以上が
好ましく、20kg/cm2 以上がさらに好ましい。
For example, a mixture or alloy of copper and silver is melted in an inert gas such as nitrogen gas in a graphite crucible using a high-frequency induction heating device or the like. After melting, the molten metal is introduced from the crucible tip into the spray tank with an inert gas atmosphere, and then compressed inert gas is adiabatically expanded from the multiple gas ejection holes provided near the crucible tip. It is possible to produce a copper alloy powder by injecting the high-speed air flow from the crucible just toward the metal melt that has begun to fall into the spray tank and atomizing it. The pressure of the helium gas before expansion used at this time is preferably 10 kg / cm 2 or more, more preferably 20 kg / cm 2 or more.

【0027】また、得られた銅合金粉末の平均粒子径が
好適な範囲に収まるように、場合によって、し分機や気
流式の分級装置を用いて、分級することも差し支えない
し、ボールミルやスタンプミル、ジェットミル、ウェッ
トミル、ハンマーミルなどを用いて粉体を粉砕したり、
形状を変更することも可能である。 2.表面処理工程 はんだ付け性改良剤としての高級脂肪酸及び/または高
級脂肪酸エステルは、混練工程の前に銅合金粉末に表面
処理したり、混練行程で樹脂バインダーなどと同時に添
加することが可能である。
[0027] If necessary, the copper alloy powder may be classified using a classifier or an airflow classifier so that the average particle size of the obtained copper alloy powder falls within a suitable range. , Crush the powder using a jet mill, wet mill, hammer mill, etc.,
It is also possible to change the shape. 2. Surface Treatment Step The higher fatty acid and / or higher fatty acid ester as a solderability improver can be surface-treated on the copper alloy powder before the kneading step, or can be added simultaneously with the resin binder or the like in the kneading step.

【0028】混練行程の前に、これらの高級脂肪酸及び
/または高級脂肪酸エステルを銅合金粉末に表面処理す
ることが可能であるが、必ずしも必須ではない。また、
表面処理に溶剤を使用することは、これらのはんだ付け
性改良剤を均一に銅合金粉末に被覆させる意味で有効な
手段となるが、必ずしも必須ではない。この場合、処理
後に溶剤を留去したり、ろ過することが望ましい。ま
た、溶剤を使用しない場合は、混合機などを用いてはん
だ付け性改良剤の混合、分散を行うことができる。この
際の混合機としては、特に限定されるものではなく、リ
ボンミキサー、V型ミキサー、ロータリーミキサー、ヘ
ンシェルミキサー、フラッシュミキサー、ナウタミキサ
ー、タンブラーなどが挙げられる。また、回転ボールミ
ル、振動ボールミル、遊星ボールミルなどを用いて、粉
体表面にはんだ付け性改良剤を分散、被覆する方法も有
効である。本発明におけるはんだ付け性改良剤は、市販
されている態様として、液状、固形状、パウダー状、造
粒状、フレーク状、結晶状など性状を有するが、表面処
理の均質性を高める意味で、粒度の細かい形態を有する
ものや液状のものが望ましく、また、前もってこれらの
添加剤を乳鉢等で微粉砕しておくのも有効な策である。 3.ペースト混練工程 銅合金粉末、樹脂バインダー、はんだ付け性改良剤、溶
剤およびカップリング剤などの添加剤を、例えばプラネ
タリーミキサー、バンバリーミキサー、ヘンシェルミキ
サー、ヘリカルローター、三本ロール、バッチ式ニーダ
ーなどで混練し、本発明の導電性ペーストを作成するこ
とが可能である。この際、均質な導電性ペーストを得る
ために、例えば三本ロールにて混練した後に、プラネタ
リーミキサーにて再混練するといった二段階以上の混練
過程を経ることも可能である。
Prior to the kneading step, it is possible, but not essential, to surface-treat these higher fatty acids and / or higher fatty acid esters on the copper alloy powder. Also,
The use of a solvent for the surface treatment is an effective means for uniformly coating these solderability improvers on the copper alloy powder, but is not always essential. In this case, it is desirable to distill off the solvent or filter after the treatment. When no solvent is used, the mixing and dispersing of the solderability improver can be performed using a mixer or the like. The mixer at this time is not particularly limited, and examples thereof include a ribbon mixer, a V-type mixer, a rotary mixer, a Henschel mixer, a flash mixer, a Nauta mixer, and a tumbler. Further, a method of dispersing and coating a solderability improving agent on the powder surface using a rotary ball mill, a vibration ball mill, a planetary ball mill, or the like is also effective. Solderability improver in the present invention, as a commercially available embodiment, liquid, solid, powder, granulated, flake, crystalline and other properties, in the sense of increasing the homogeneity of the surface treatment, It is desirable to use a liquid having a fine particle form or a liquid. It is also effective to pulverize these additives in advance in a mortar or the like. 3. Paste kneading process Additives such as copper alloy powder, resin binder, solderability improver, solvent and coupling agent, for example, by planetary mixer, Banbury mixer, Henschel mixer, helical rotor, three roll, batch type kneader etc. It is possible to prepare the conductive paste of the present invention by kneading. In this case, in order to obtain a homogeneous conductive paste, it is possible to go through a kneading process of two or more steps, for example, kneading with a three-roll mill and then re-kneading with a planetary mixer.

【0029】混練条件は、混練機にも依存するが、比較
的大きなシェアをかけながら、ペーストを混練、分散す
る条件が望ましく、混練時に真空引きを行うことも有効
な手段である。混練温度としては、室温または樹脂バイ
ンダーの硬化が促進しない温度で行うのが望ましい。場
合によっては、水冷式のジャケットを混練機に設けて冷
却しながら混練することも可能である。
The kneading conditions depend on the kneader, but it is desirable to knead and disperse the paste while applying a relatively large share. It is also an effective means to perform vacuuming during kneading. The kneading temperature is preferably room temperature or a temperature at which the curing of the resin binder is not accelerated. In some cases, it is also possible to provide a water-cooled jacket in the kneading machine and perform kneading while cooling.

【0030】以上、例示した方法により、本発明のはん
だ付け可能な導電性ペーストを作製することができる。
次に、実施例及び比較例に基づいて本発明を詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるもの
ではない。
The solderable conductive paste of the present invention can be manufactured by the above-described method.
Next, the present invention will be described in detail based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to only these Examples.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】実施例に先立ち、本発明のはんだ
付け可能な導電性ペーストの評価方法について説明す
る。 (1)はんだぬれ性 はんだぬれ性を定量的に評価するために、はんだボール
のぬれ広がり性を測定した。まず、はんだ付け可能な導
電性ペーストを、銅箔の積層されていない紙エポキシ基
板(松下電工(株)製、CEM−3)上に、2cm□の
ベタ状にスクリーン印刷し、150℃、30分、バッチ
式の熱風乾燥炉にて加熱硬化した。次に、この硬化塗膜
上に、弱活性ロジン系フラックス(日本アルファメタル
ズ製:RM−615)を約2cc滴下し、さらにその上
にSn−Pb共晶はんだボール(ニホンハンダ(株)
製、Sn/Pb=63/37、Φ=2mm)を置き、ピ
ーク温度260℃、滞留時間4分の赤外線炉にてリフロ
ーし、はんだ付けを行った。はんだ付け後のはんだの広
がり径を測定し、下記に示す計算式にて広がり率(%)
を求め、はんだぬれ性を評価した。なお、評価の基準と
して、175%以上の広がりを示すものをはんだぬれ性
に優れているものとした。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Prior to the examples, a method for evaluating a solderable conductive paste of the present invention will be described. (1) Solder wettability In order to quantitatively evaluate the solder wettability, the solder ball wettability was measured. First, a solderable conductive paste is screen-printed on a paper epoxy substrate (CEM-3, manufactured by Matsushita Electric Works, Ltd.) on which no copper foil is laminated, in a 2 cm square solid form at 150 ° C., 30 ° C. And heat-cured in a batch-type hot-air drying furnace. Next, about 2 cc of a weakly active rosin-based flux (manufactured by Nippon Alpha Metals: RM-615) was dropped onto the cured coating film, and Sn-Pb eutectic solder balls (Nihon Handa Co., Ltd.) were further dropped thereon.
(Sn / Pb = 63/37, Φ = 2 mm), reflowed in an infrared furnace with a peak temperature of 260 ° C. and a residence time of 4 minutes, and soldered. Measure the spread diameter of the solder after soldering, and use the following formula to calculate the spread rate (%)
And solder wettability was evaluated. As a criterion for evaluation, a material having a spread of 175% or more was regarded as having excellent solder wettability.

【0032】 ただし、d1は、はんだ付け前のはんだボールの直径
(mm) d2は、はんだ付け後のはんだの広がり径(mm) なお、参考例として同条件のはんだ付け条件にて行った
プリント基板銅箔上におけるはんだボールの拡がり試験
結果を表1に示した。 (2)耐はんだ喰われ性 耐はんだ喰われ性を定量的に評価するために、次のよう
な方法を用いた。まず、はんだ付け可能な導電性ペース
トを、銅箔の積層されていないガラスエポキシ基板(松
下電工(株)製、FR−4)上に、2mm□の大きさ
で、100個の碁盤目状の硬化塗膜をスクリーン印刷に
より形成し、150℃、30分、バッチ式の熱風乾燥炉
にて加熱硬化した。次に、この硬化塗膜を、弱活性ロジ
ン系フラックス(山栄化学(株)製:JS−64MS
C)に浸漬、塗布し、バッチ式熱風乾燥炉にて、150
℃、1分のプレヒートを行った。これを、Sn−Pb共
晶はんだ浴(260℃)中に10秒間ディッピングして
はんだ付けを行い、はんだ付け面のディウェッティング
状態を下記の基準で調べることにより、耐はんだ喰われ
性の評価とした。
[0032] However, d1 is the diameter of the solder ball before soldering (mm) d2 is the spread diameter of the solder after soldering (mm) As a reference example, on a printed circuit board copper foil performed under the same conditions of soldering Table 1 shows the results of the solder ball spreading test. (2) Solder erosion resistance To quantitatively evaluate the solder erosion resistance, the following method was used. First, a solderable conductive paste was placed on a glass epoxy board (FR-4, manufactured by Matsushita Electric Works, Ltd., FR-4) on which no copper foil was laminated. A cured coating film was formed by screen printing, and was cured by heating in a batch-type hot-air drying furnace at 150 ° C. for 30 minutes. Next, this cured coating film was coated with a weakly active rosin-based flux (JS-64MS, manufactured by Yamaei Chemical Co., Ltd.).
C), dipped and applied in a batch hot air drying oven
Preheating was performed at 1 ° C. for 1 minute. This was dipped in a Sn-Pb eutectic solder bath (260 ° C.) for 10 seconds to perform soldering, and the dewetting state of the soldering surface was examined according to the following criteria to evaluate the resistance to solder erosion. And

【0033】 評価基準; ○:1個もディウェッティングを起こさず △:1〜10個ディウェッテイングを起こしている ×:11〜100個ディウェッティングを起こしている (3)導電性 導電性の評価として、はんだの被覆されていない、加熱
硬化されたはんだ付け可能な導電性ペーストの塗膜の体
積固有抵抗率を、デジタルマルチメーター(横川電機
(株)製7561型)を用いて4端子法により測定し
た。体積固有抵抗率の計算式を以下に示す。
Evaluation criteria: : 1: No dewetting occurred in any one Δ: Dewetting occurred in 10 to 10 ×: Dewetting occurred in 11 to 100 (3) Conductivity Conductivity As an evaluation of, the volume specific resistivity of a coating film of a solderable conductive paste which was not cured with a solder and was heat-cured was measured using a digital multimeter (model 7561 manufactured by Yokogawa Electric Corporation) with four terminals. It was measured by the method. The formula for calculating the volume resistivity is shown below.

【0034】 体積固有抵抗率(Ω・cm)=(R×t×W)/L ただし、R:電極間の抵抗値(Ω)、t:塗膜の厚み
(cm)、W:塗膜の幅(cm)、L:電極間の長さ
(cm)である。 (4)耐酸化性 ペーストの耐酸化性を定量的に評価するために、次のよ
うな方法を用いた。まず、耐はんだ喰われ性の評価に用
いたのと同様にして、はんだ付け可能な導電性ペースト
を、銅箔の積層されていないガラスエポキシ基板(松下
電工(株)製、FR−4)上に、2mm□の大きさで、
100個の碁盤目状の硬化塗膜をスクリーン印刷により
形成し、150℃、30分、バッチ式の熱風乾燥炉にて
加熱硬化した。次に、この基板を、さらにバッチ式の熱
風乾燥炉を用いて、210℃、15分、大気中にて硬化
塗膜を暴露せしめてから室温に取り出し、ついで弱活性
ロジン系フラックス(山栄化学(株)製:JS−64M
SC)に浸漬、塗布し、バッチ式熱風乾燥炉にて、15
0℃、1分のプレヒートを行った。これを、Sn−Pb
共晶はんだ浴(230℃)中に10秒間ディッピングし
てはんだ付けを行い、はんだ付け面のはんだぬれの状態
を下記の基準で調べることにより、耐酸化性の評価とし
た。
Volume resistivity (Ω · cm) = (R × t × W) / L where R: resistance between electrodes (Ω), t: thickness of coating film (cm), W: coating film thickness Width (cm), L: length (cm) between electrodes. (4) Oxidation resistance In order to quantitatively evaluate the oxidation resistance of the paste, the following method was used. First, a solderable conductive paste was applied to a glass epoxy substrate (FR-4, manufactured by Matsushita Electric Works, Ltd.) on which no copper foil was laminated in the same manner as used for the evaluation of the resistance to solder erosion. In the size of 2mm □,
100 cross-cut cured coating films were formed by screen printing and heat-cured at 150 ° C. for 30 minutes in a batch-type hot-air drying furnace. Next, the substrate was further exposed to the cured coating film in the air at 210 ° C. for 15 minutes using a batch-type hot-air drying oven and then taken out to room temperature, and then weakly active rosin-based flux (Yamaei Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd .: JS-64M
SC), and dipped in a batch hot air drying oven.
Preheating was performed at 0 ° C. for 1 minute. This is called Sn-Pb
Oxidation resistance was evaluated by dipping in a eutectic solder bath (230 ° C.) for 10 seconds and soldering, and examining the state of solder wetting on the soldered surface according to the following criteria.

【0035】 評価基準; ○:1個もはんだぬれ不良なし △:1〜10個はんだぬれ不良を起こしている ×:11〜100個はんだぬれ不良を起こしている (5)耐マイグレーション性 耐マイグレーション性の試験として、次のような方法を
用いた。まず、銅箔の積層されていないガラスエポキシ
基板(松下電工(株)製、FR−4)上に、1mmのギ
ャップで印刷、硬化した2個のはんだ付け可能な導電性
ペーストの塗膜電極間に50Vの直流電圧を印加し、つ
いで塗膜のギャップ間に約0.2ccの純水を滴下し、
この間の漏れ電流が400μAを越えて短絡するまでの
時間(秒)を計測した。なお、評価の基準として、この
時間が150秒を越すものを耐マイグレーション性に優
れていることとした。 (6)接着強度 接着強度の評価としては、次のような方法を用いた。ま
ず、はんだ付け可能な導電性ペーストを、銅箔の積層さ
れていない紙フェノール基板(松下電工(株)製、FR
−1)上に、2mm□の大きさで、10個の電極をスク
リーン印刷、硬化により形成し、これらの電極にSn−
Pb共晶はんだをプリコートし、ついで0.8mmΦの
はんだメッキワイヤーをコテはんだ付けした。これを2
0mm/秒の速度で引っ張り試験を行い、破断時の強度
を10個の平均値として求めた。この際の強度の基準と
して、4Kgf以上を優れているものとした。 (7)耐沈降性 耐沈降性の評価として、はんだ付け可能な導電性ペース
ト約10ccをメスシリンダーに注入して、25℃の室
温に静置し始めてからペーストの分離が起こるまでの時
間を、以下の基準で評価した。
Evaluation criteria: : 1: No solder wetting failure of any one Δ: 10 to 10 solder wetting failures X: 11 to 100 solder wetting failures (5) Migration resistance Migration resistance As a test, the following method was used. First, on a glass epoxy substrate (FR-4, manufactured by Matsushita Electric Works, Ltd.) on which no copper foil is laminated, printed and cured with a gap of 1 mm, between two coated solderable conductive paste coated electrodes. A DC voltage of 50 V is applied to the film, and then about 0.2 cc of pure water is dropped between gaps of the coating film.
During this time, the time (sec) until the leakage current exceeded 400 μA and short-circuited was measured. In addition, as a criterion for evaluation, a sample having this time exceeding 150 seconds was determined to have excellent migration resistance. (6) Adhesive strength The following method was used to evaluate the adhesive strength. First, a conductive paste that can be soldered is applied to a paper phenol board (available from Matsushita Electric Works, FR
-1) On the top, 10 electrodes having a size of 2 mm square are formed by screen printing and curing, and Sn-
A Pb eutectic solder was pre-coated, and then a 0.8 mmφ solder plating wire was soldered by iron. This is 2
A tensile test was performed at a speed of 0 mm / sec, and the strength at break was determined as an average value of 10 pieces. As a standard of strength at this time, 4 kgf or more was regarded as excellent. (7) Sedimentation resistance As an evaluation of sedimentation resistance, about 10 cc of a solderable conductive paste was poured into a measuring cylinder, and the time from the start of standing at a room temperature of 25 ° C. to the separation of the paste was defined as Evaluation was made according to the following criteria.

【0036】 [0036]

【0037】[0037]

【実施例1】銅粒子(純度99重量%以上)37.1k
gと銀粒子(純度99重量%以上)1.9kgを黒鉛る
つぼに入れ、高周波誘導加熱装置により1600℃に融
解、加熱した。雰囲気は、99体積%以上の窒素中で行
った。次に、この融解金属をるつぼの先端より、ヘリウ
ムガス雰囲気の噴霧槽内に導入した後、るつぼ先端付近
に設けられたガスノズルから、ヘリウムガス(純度99
体積%以上、圧力35kg/cm2 G)を噴出してアト
マイズを行い、銅合金粉末を作製した。得られた粉末
は、平均粒子径8.0μmの球状粉末であった。また、
粉体の表面と平均の銀濃度比は4.6であった。
Example 1 Copper particles (purity 99% by weight or more) 37.1k
g and 1.9 kg of silver particles (purity: 99% by weight or more) were placed in a graphite crucible, and were melted and heated to 1600 ° C. by a high-frequency induction heating device. The atmosphere was performed in nitrogen of 99% by volume or more. Next, after introducing the molten metal from the tip of the crucible into a spray tank in a helium gas atmosphere, a helium gas (purity 99) was introduced from a gas nozzle provided near the tip of the crucible.
Atomization was performed by ejecting a pressure of 35 kg / cm 2 G) by volume% or more to produce a copper alloy powder. The obtained powder was a spherical powder having an average particle size of 8.0 μm. Also,
The average silver concentration ratio between the powder surface and the powder was 4.6.

【0038】得られた銅合金粉末100gに対し、ステ
アリン酸0.5gを、前もってボールミルで表面処理を
行い、次いでレゾール型のフェノール樹脂8.1gとイ
ソプロピルトリイソステアロイルチタネート0.07
g、トリエタノールアミン0.47g、溶剤としてブチ
ルカルビトール3.2gを加え、三本ロールにて混練し
ペーストを作製した。得られたペーストのはんだぬれ
性、耐はんだ喰われ性、導電性、耐酸化性、耐マイグレ
ーション性、接着強度、耐沈降性の結果を表1に示す。
To 100 g of the obtained copper alloy powder, 0.5 g of stearic acid was previously subjected to a surface treatment with a ball mill, and then 8.1 g of a resol type phenol resin and 0.07 g of isopropyl triisostearoyl titanate.
g, triethanolamine 0.47 g, and butyl carbitol 3.2 g as a solvent were added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Table 1 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0039】[0039]

【実施例2】実施例1で作製した銅合金粉末100gに
対し、レゾール型のフェノール樹脂8.1g、ステアリ
ン酸0.35g、イソプロピルトリイソステアロイルチ
タネート0.07g、トリエタノールアミン0.47
g、溶剤としてブチルカルビトール3.2gを加え、三
本ロールにて混練しペーストを作製した。得られたペー
ストのはんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電性、耐酸
化性、耐マイグレーション性、接着強度、耐沈降性の結
果を表1に示す。
Example 2 For 100 g of the copper alloy powder produced in Example 1, 8.1 g of resole type phenol resin, 0.35 g of stearic acid, 0.07 g of isopropyl triisostearoyl titanate and 0.47 g of triethanolamine
g, and 3.2 g of butyl carbitol as a solvent were added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Table 1 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0040】[0040]

【実施例3】銅粒子(純度99重量%以上)28.2k
gと銀粒子(純度99重量%以上)5.6kgを黒鉛る
つぼに入れ、高周波誘導加熱装置により1700℃に融
解、加熱した。雰囲気は、99体積%以上の窒素中で行
った。次に、この融解金属をるつぼの先端より、窒素ガ
ス雰囲気の噴霧槽内に導入した後、るつぼ先端付近に設
けられたガスノズルから、窒素ガス(純度99体積%以
上、圧力35kg/cm2G)を噴出してアトマイズを
行い、銅合金粉末を作製した。得られた粉末は、平均粒
子径19.3μmの球状粉末であった。また、粉体の表
面と平均の銀濃度比は2.7であった。
Example 3 Copper particles (purity 99% by weight or more) 28.2k
g and 5.6 kg of silver particles (purity: 99% by weight or more) were placed in a graphite crucible, melted and heated to 1700 ° C. by a high-frequency induction heating device. The atmosphere was performed in nitrogen of 99% by volume or more. Next, after introducing the molten metal from the tip of the crucible into a spray tank in a nitrogen gas atmosphere, nitrogen gas (purity of 99% by volume or more, pressure of 35 kg / cm 2 G) is supplied from a gas nozzle provided near the tip of the crucible. Was spouted and atomized to produce a copper alloy powder. The obtained powder was a spherical powder having an average particle diameter of 19.3 μm. The average silver concentration ratio between the powder surface and the surface was 2.7.

【0041】得られた銅合金粉末100gに対し、レゾ
ール型のフェノール樹脂7.6g、n−ブチルエーテル
化メラミン樹脂0.3g、ラウリン酸1.7g、ステア
リン酸メチル0.4g、トリエタノールアミン0.08
g、溶剤としてブチルセロソルブ1.0g、ジプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル2.4gを加え、三本
ロールにて混練を行い、ペーストを作製した。得られた
ペーストのはんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電性、
耐酸化性、耐マイグレーション性、接着強度、耐沈降性
の結果を表1に示す。
With respect to 100 g of the obtained copper alloy powder, 7.6 g of resol type phenol resin, 0.3 g of n-butyl etherified melamine resin, 1.7 g of lauric acid, 0.4 g of methyl stearate, and 0.3 g of triethanolamine were used. 08
g, butyl cellosolve (1.0 g) and dipropylene glycol monomethyl ether (2.4 g) were added as a solvent and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Solder wettability, solder erosion resistance, conductivity of the obtained paste,
Table 1 shows the results of oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance.

【0042】[0042]

【実施例4】実施例3で作製した銅合金粉末100gに
対し、レゾール型のフェノール樹脂7.8g、n−ブチ
ルエーテル化メラミン樹脂0.4g、ステアリン酸0.
05g、トリエタノールアミン0.08g、溶剤として
ブチルカルビトール2.4gを加え、三本ロールにて混
練を行い、ペーストを作製した。得られたペーストのは
んだぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電性、耐酸化性、耐
マイグレーション性、接着強度、耐沈降性の結果を表1
に示す。
EXAMPLE 4 7.8 g of resol type phenol resin, 0.4 g of n-butyl etherified melamine resin and 0.4 g of stearic acid were added to 100 g of the copper alloy powder produced in Example 3.
05 g, triethanolamine 0.08 g, and butyl carbitol 2.4 g as a solvent were added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Table 1 shows the results of solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.
Shown in

【0043】[0043]

【実施例5】実施例3で作成した銅合金粉末を、日清エ
ンジニアリング(株)製の気流式分級機TC−15Nを
用いて8μm以下の粉末をできるだけ除去し、平均粒子
径33.9μmの銅合金粉末を得た。得られた銅合金粉
末100gに対し、レゾール型のフェノール樹脂8.5
g、クレゾールノボラック型のフェノール樹脂0.9
g、パルミチン酸9.1g、イソプロピルトリイソステ
アロイルチタネート0.05g、溶剤としてエチレング
リコールモノフェニルエーテル4.1gを加え、三本ロ
ールにて混練を行い、ペーストを作製した。得られたペ
ーストのはんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電性、耐
酸化性、耐マイグレーション性、接着強度、耐沈降性の
結果を表1に示す。
Example 5 The copper alloy powder prepared in Example 3 was removed as much as possible with a particle size of 8 μm or less using a gas flow classifier TC-15N manufactured by Nisshin Engineering Co., Ltd. to obtain an average particle size of 33.9 μm. A copper alloy powder was obtained. To 100 g of the obtained copper alloy powder, a resole type phenol resin 8.5 was used.
g, Cresol novolak type phenolic resin 0.9
g, 9.1 g of palmitic acid, 0.05 g of isopropyl triisostearoyl titanate, and 4.1 g of ethylene glycol monophenyl ether as a solvent were kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Table 1 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0044】[0044]

【実施例6】実施例1で作成した銅合金粉末を、日清エ
ンジニアリング(株)製の気流式分級機TC−15Nを
用いて10μm以上の粉末をできるだけ除去し、平均粒
子径5.4μmの銅合金粉末を得た。得られた銅合金粉
末100gに対し、オレイン酸0.1g、ミリスチン酸
エチル1.8gを前もって表面処理し、次いでレゾール
型のフェノール樹脂6.8g、イソプロピルトリイソス
テアロイルチタネート0.05g、溶剤としてエチレン
グリコールモノフェニルエーテル4.1gを加え、三本
ロールにて混練を行い、ペーストを作製した。得られた
ペーストのはんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電性、
耐酸化性、耐マイグレーション性、接着強度、耐沈降性
の結果を表1に示す。
Example 6 The copper alloy powder prepared in Example 1 was removed as much as possible with a particle size of 10 μm or more using a gas flow classifier TC-15N manufactured by Nisshin Engineering Co., Ltd. to obtain an average particle size of 5.4 μm. A copper alloy powder was obtained. To 100 g of the obtained copper alloy powder, 0.1 g of oleic acid and 1.8 g of ethyl myristate were previously subjected to a surface treatment, then 6.8 g of a resol-type phenol resin, 0.05 g of isopropyl triisostearoyl titanate, and ethylene as a solvent were used. 4.1 g of glycol monophenyl ether was added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Solder wettability, solder erosion resistance, conductivity of the obtained paste,
Table 1 shows the results of oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance.

【0045】[0045]

【実施例7】実施例1で作製した銅合金粉末100gに
対し、レゾール型のフェノール樹脂8.6g、ステアリ
ン酸メチル0.50g、トリエタノールアミン0.36
g、溶剤としてジプロピレングリコールモノエチルエー
テル2.9gを加え、三本ロールにて混練しペーストを
作製した。得られたペーストのはんだぬれ性、耐はんだ
喰われ性、導電性、耐酸化性、耐マイグレーション性、
接着強度、耐沈降性の結果を表1に示す。
EXAMPLE 7 8.6 g of a resol-type phenol resin, 0.50 g of methyl stearate, and 0.36 of triethanolamine were added to 100 g of the copper alloy powder produced in Example 1.
g, and 2.9 g of dipropylene glycol monoethyl ether as a solvent were added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance of the obtained paste,
Table 1 shows the results of the adhesive strength and the sedimentation resistance.

【0046】[0046]

【比較例1】実施例1で作成した銅合金粉末を、日清エ
ンジニアリング(株)製の気流式分級機TC−15Nを
用いて7μm以上の粉末をできるだけ除去し、平均粒子
径3.9μmの銅合金粉末を得た。得られた銅合金粉末
100gに対し、ミリスチン酸メチル1.9gを前もっ
て表面処理し、次いでレゾール型のフェノール樹脂7.
3g、トリエタノールアミン0.07g、イソプロピル
トリイソステアロイルチタネート0.05g、溶剤とし
てブチルカルビトールアセテート3.9gを加え、三本
ロールにて混練を行い、ペーストを作製した。得られた
ペーストのはんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電性、
耐酸化性、耐マイグレーション性、接着強度、耐沈降性
の結果を表1に示す。
Comparative Example 1 The copper alloy powder prepared in Example 1 was removed as much as possible with a powder having a mean particle size of 3.9 μm using a gas flow classifier TC-15N manufactured by Nisshin Engineering Co., Ltd. A copper alloy powder was obtained. To 100 g of the obtained copper alloy powder, 1.9 g of methyl myristate was previously subjected to a surface treatment, and then a resol-type phenol resin was added.
3 g, 0.07 g of triethanolamine, 0.05 g of isopropyl triisostearoyl titanate, and 3.9 g of butyl carbitol acetate as a solvent were added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Solder wettability, solder erosion resistance, conductivity of the obtained paste,
Table 1 shows the results of oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance.

【0047】[0047]

【比較例2】実施例3で作成した銅合金粉末を、日清エ
ンジニアリング(株)製の気流式分級機TC−15Nを
用いて15μm以下の粉末をできるだけ除去し、平均粒
子径45.3μmの銅合金粉末を得た。得られた銅合金
粉末100gに対し、レゾール型のフェノール樹脂7.
9g、ステアリン酸8.6g、リノール酸メチル1.1
g、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート0.
03g、溶剤としてエチルセロソルブ3.6gを加え、
三本ロールにて混練を行い、ペーストを作製した。得ら
れたペーストのはんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電
性、耐酸化性、耐マイグレーション性、接着強度、耐沈
降性の結果を表1に示す。
Comparative Example 2 The copper alloy powder prepared in Example 3 was removed as much as possible with a mean particle size of 45.3 μm using a gas flow classifier TC-15N manufactured by Nisshin Engineering Co., Ltd. A copper alloy powder was obtained. 6. With respect to 100 g of the obtained copper alloy powder, resol type phenol resin 7.
9 g, stearic acid 8.6 g, methyl linoleate 1.1
g, isopropyl triisostearoyl titanate.
03 g, 3.6 g of ethyl cellosolve as a solvent were added,
The mixture was kneaded with three rolls to produce a paste. Table 1 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0048】[0048]

【比較例3】銅粒子(純度99重量%以上)12.6k
gと銀粒子(純度99重量%以上)24.0kgを黒鉛
るつぼに入れ、高周波誘導加熱装置により1750℃に
融解、加熱した。雰囲気は、99体積%以上の窒素中で
行った。次に、この融解金属をるつぼの先端より、窒素
ガス雰囲気の噴霧槽内に導入した後、るつぼ先端付近に
設けられたガスノズルから、窒素ガス(純度99体積%
以上、圧力35kg/cm2 G)を噴出してアトマイズ
を行い、銅合金粉末を作製した。得られた粉末は、平均
粒子径16.8μmの球状粉末であった。また、粉体の
表面と平均の銀濃度比は1.2であった。
Comparative Example 3 Copper particles (purity 99% by weight or more) 12.6k
g and 24.0 kg of silver particles (purity of 99% by weight or more) were placed in a graphite crucible, melted and heated to 1750 ° C. by a high-frequency induction heating device. The atmosphere was performed in nitrogen of 99% by volume or more. Next, after introducing the molten metal from the tip of the crucible into a spray tank in a nitrogen gas atmosphere, nitrogen gas (purity 99% by volume) was introduced from a gas nozzle provided near the tip of the crucible.
As described above, atomization was performed by ejecting a pressure of 35 kg / cm 2 G) to produce a copper alloy powder. The obtained powder was a spherical powder having an average particle diameter of 16.8 μm. The average silver concentration ratio between the powder surface and the powder was 1.2.

【0049】得られた銅合金粉末100gに対し、ラウ
リン酸1.5g、ミリスチン酸メチル0.6gを前もっ
て表面処理し、次いでレゾール型のフェノール樹脂7.
8gとn−ブチルエーテル化メラミン樹脂0.2g、イ
ソプロピルトリイソステアロイルチタネート0.07
g、トリエタノールアミン0.47g、溶剤としてブチ
ルセロソルブ3.2gを加え、三本ロールにて混練しペ
ーストを作製した。得られたペーストのはんだぬれ性、
耐はんだ喰われ性、導電性、耐酸化性、耐マイグレーシ
ョン性、接着強度、耐沈降性の結果を表1に示す。
To 100 g of the obtained copper alloy powder, 1.5 g of lauric acid and 0.6 g of methyl myristate were subjected to a surface treatment in advance, and then a resol type phenol resin was used.
8 g, n-butyl etherified melamine resin 0.2 g, isopropyl triisostearoyl titanate 0.07
g, triethanolamine 0.47 g, and butyl cellosolve 3.2 g as a solvent were added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Solder wettability of the obtained paste,
Table 1 shows the results of solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance.

【0050】[0050]

【比較例4】実施例1で作成した銅合金粉末100gに
対し、レゾール型のフェノール樹脂7.1g、クレゾー
ルノボラック型のフェノール樹脂0.3g、イソプロピ
ルトリイソステアロイルチタネート0.08g、溶剤と
してジプロピレングリコールモノメチルエーテル3.7
gを加え、三本ロールにて混練を行い、ペーストを作製
した。得られたペーストのはんだぬれ性、耐はんだ喰わ
れ性、導電性、耐酸化性、耐マイグレーション性、接着
強度、耐沈降性の結果を表1に示す。
Comparative Example 4 To 100 g of the copper alloy powder prepared in Example 1, 7.1 g of resol type phenol resin, 0.3 g of cresol novolac type phenol resin, 0.08 g of isopropyl triisostearoyl titanate, and dipropylene as a solvent Glycol monomethyl ether 3.7
g was added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Table 1 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0051】[0051]

【比較例5】実施例3で作成した銅合金粉末100gに
対し、レゾール型のフェノール樹脂8.2g、トリエタ
ノールアミン0.06g、溶剤としてベンジルアルコー
ル3.8gを加え、三本ロールにて混練を行い、ペース
トを作製した。得られたペーストのはんだぬれ性、耐は
んだ喰われ性、導電性、耐酸化性、耐マイグレーション
性、接着強度、耐沈降性の結果を表1に示す。
Comparative Example 5 To 100 g of the copper alloy powder prepared in Example 3, 8.2 g of a resol type phenol resin, 0.06 g of triethanolamine, and 3.8 g of benzyl alcohol as a solvent were added and kneaded with a three-roll mill. Was performed to produce a paste. Table 1 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0052】[0052]

【比較例6】実施例3で作成した銅合金粉末100gに
対し、レゾール型のフェノール樹脂7.8g、ステアリ
ン酸12.6g、トリエタノールアミン0.04g、溶
剤としてジプロピレングリコールモノメチルエーテル
3.8gを加え、三本ロールにて混練を行い、ペースト
を作製した。得られたペーストのはんだぬれ性、耐はん
だ喰われ性、導電性、耐酸化性、耐マイグレーション
性、接着強度、耐沈降性の結果を表1に示す。
Comparative Example 6 For 100 g of the copper alloy powder prepared in Example 3, 7.8 g of a resol-type phenol resin, 12.6 g of stearic acid, 0.04 g of triethanolamine, and 3.8 g of dipropylene glycol monomethyl ether as a solvent. Was added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Table 1 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0053】[0053]

【比較例7】市販の銅粉末(純度99重量%以上、平均
粒子径10μm)100gに対し、レゾール型のフェノ
ール樹脂7.9gとイソブチルエーテル化メラミン樹脂
0.15g、イソプロピルトリイソステアロイルチタネ
ート0.07g、トリエタノールアミン0.12g、溶
剤としてブチルカルビトールアセテート3.9gを加
え、三本ロールにて混練を行い、ペーストを作製した。
得られたペーストのはんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、
導電性、耐酸化性、耐マイグレーション性、接着強度、
耐沈降性の結果を表2に示す。
Comparative Example 7 7.9 g of a resol-type phenol resin, 0.15 g of an isobutyl etherified melamine resin, and 0.1 g of isopropyl triisostearoyl titanate were added to 100 g of commercially available copper powder (purity: 99% by weight or more, average particle diameter: 10 μm). 07 g, 0.12 g of triethanolamine, and 3.9 g of butyl carbitol acetate as a solvent were added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste.
Solder wettability, solder erosion resistance of the obtained paste,
Conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength,
Table 2 shows the results of the sedimentation resistance.

【0054】[0054]

【比較例8】比較例7で用いた市販の銅粉末100gに
対し、ステアリン酸1.5gを前もって表面処理し、次
いでレゾール型のフェノール樹脂8.1g、トリエタノ
ールアミン0.09g、溶剤としてジプロピレングリコ
ールモノエチルエーテル3.7gを加え、三本ロールに
て混練を行い、ペーストを作製した。得られたペースト
のはんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電性、耐酸化
性、耐マイグレーション性、接着強度、耐沈降性の結果
を表2に示す。
Comparative Example 8 To 100 g of the commercially available copper powder used in Comparative Example 7, 1.5 g of stearic acid was previously subjected to a surface treatment, then 8.1 g of a resol-type phenol resin, 0.09 g of triethanolamine, and disolvent as a solvent. 3.7 g of propylene glycol monoethyl ether was added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Table 2 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0055】[0055]

【比較例9】比較例7で使用した市販の銅粉末を日清エ
ンジニアリング(株)製の気流式分級機TC−15Nを
用いて8μm以上の粉末をできるだけ除去し、平均粒子
径5.1μmの銅粉末を得た。得られた銅粉末100g
に対し、ドコサン酸0.05g、リノール酸メチル2.
5gを前もって表面処理し、次いでレゾール型のフェノ
ール樹脂5.7g、エチルエーテル化メラミン樹脂3.
0g、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン0.1
g、溶剤としてカルビトール3.2gを加え、三本ロー
ルにて混練を行い、ペーストを作製した。得られたペー
ストのはんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電性、耐酸
化性、耐マイグレーション性、接着強度、耐沈降性の結
果を表2に示す。
Comparative Example 9 The commercially available copper powder used in Comparative Example 7 was removed as much as possible with a powder having a mean particle diameter of 5.1 μm using a gas flow classifier TC-15N manufactured by Nisshin Engineering Co., Ltd. A copper powder was obtained. 100 g of the obtained copper powder
With respect to 0.05 g of docosanoic acid and methyl linoleate.
5 g was previously surface-treated, and then 5.7 g of a resol-type phenolic resin and ethyl etherified melamine resin.
0 g, γ-aminopropyltriethoxysilane 0.1
g and 3.2 g of carbitol as a solvent were added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Table 2 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0056】[0056]

【比較例10】市販の銀粉末(純度99重量%以上、平
均粒子径1μm)100gに対し、レゾール型のフェノ
ール樹脂8.7g、イソプロピルトリイソステアロイル
チタネート0.12g、溶剤としてブチルカルビトール
アセテート3.5gを加え、三本ロールにて混練を行
い、ペーストを作製した。得られたペーストのはんだぬ
れ性、耐はんだ喰われ性、導電性、耐酸化性、耐マイグ
レーション性、接着強度、耐沈降性の結果を表2に示
す。
Comparative Example 10 For 100 g of commercially available silver powder (purity: 99% by weight or more, average particle diameter: 1 μm), 8.7 g of a resol-type phenol resin, 0.12 g of isopropyl triisostearoyl titanate, and butyl carbitol acetate 3 as a solvent Then, the paste was kneaded with three rolls to prepare a paste. Table 2 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0057】[0057]

【比較例11】比較例10で用いた市販の銀粉末100
gに対し、パルミチン酸エチル3.0gを前もって表面
処理し、次いでレゾール型のフェノール樹脂8.1g、
溶剤として酢酸ブチル3.4gを加え、三本ロールにて
混練を行い、ペーストを作製した。得られたペーストの
はんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電性、耐酸化性、
耐マイグレーション性、接着強度、耐沈降性の結果を表
2に示す。
Comparative Example 11 Commercially available silver powder 100 used in Comparative Example 10
g, 3.0 g of ethyl palmitate was subjected to a surface treatment in advance, and then 8.1 g of a resol type phenol resin,
3.4 g of butyl acetate was added as a solvent and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance of the obtained paste,
Table 2 shows the results of migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance.

【0058】[0058]

【比較例12】市販の5重量%銀メッキ銅粉末(平均粒
子径6.2μm)100gに対し、レゾール型のフェノ
ール樹脂7.8g、イソプロピルトリ(Nーアミノエチ
ルーアミノエチル)チタネート0.08g、溶剤として
エチルセロソルブ3.6gを加え、三本ロールにて混練
を行い、ペーストを作製した。得られたペーストのはん
だぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電性、耐酸化性、耐マ
イグレーション性、接着強度、耐沈降性の結果を表2に
示す。
Comparative Example 12 7.8 g of resol type phenol resin and 0.08 g of isopropyl tri (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate were added to 100 g of commercially available 5 wt% silver-plated copper powder (average particle size: 6.2 μm). Then, 3.6 g of ethyl cellosolve was added as a solvent, and the mixture was kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Table 2 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0059】[0059]

【比較例13】比較例12で用いた市販の銀メッキ銅粉
末100gに対し、ステアリン酸0.05gとステアリ
ン酸メチル1.95gと、レゾール型のフェノール樹脂
8.0g、溶剤としてブチルセロソルブ3.8gを加
え、三本ロールにて混練を行い、ペーストを作製した。
得られたペーストのはんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、
導電性、耐酸化性、耐マイグレーション性、接着強度、
耐沈降性の結果を表2に示す。
Comparative Example 13 For 100 g of the commercially available silver-plated copper powder used in Comparative Example 12, 0.05 g of stearic acid, 1.95 g of methyl stearate, 8.0 g of a resole type phenol resin, and 3.8 g of butyl cellosolve as a solvent. Was added and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste.
Solder wettability, solder erosion resistance of the obtained paste,
Conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength,
Table 2 shows the results of the sedimentation resistance.

【0060】[0060]

【比較例14】比較例12で使用した市販の銀メッキ銅
粉末を、日清エンジニアリング(株)製の気流式分級機
TC−15Nを用いて5μm以下の粉末をできるだけ除
去し、平均粒子径11.1μmの銀メッキ銅粉末を得
た。得られた銀メッキ銅粉末100gに対し、ステアリ
ン酸2.5g、エイコサン酸メチル0.2gを前もって
表面処理し、次いでレゾール型のフェノール樹脂8.1
g、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン0.1g、
溶剤としてブチルセロソルブ4.0gを加え、三本ロー
ルにて混練を行い、ペーストを作製した。得られたペー
ストのはんだぬれ性、耐はんだ喰われ性、導電性、耐酸
化性、耐マイグレーション性、接着強度、耐沈降性の結
果を表2に示す。
Comparative Example 14 The commercially available silver-plated copper powder used in Comparative Example 12 was removed as much as possible with a particle size of 5 μm or less using a gas flow classifier TC-15N manufactured by Nisshin Engineering Co., Ltd. .1 μm of silver-plated copper powder was obtained. To 100 g of the obtained silver-plated copper powder, 2.5 g of stearic acid and 0.2 g of methyl eicosanoate were previously subjected to a surface treatment, and then a resole-type phenol resin 8.1.
g, γ-aminopropyltriethoxysilane 0.1 g,
4.0 g of butyl cellosolve was added as a solvent, and the mixture was kneaded with a three-roll mill to prepare a paste. Table 2 shows the results of the solder wettability, solder erosion resistance, conductivity, oxidation resistance, migration resistance, adhesive strength, and sedimentation resistance of the obtained paste.

【0061】[0061]

【表1】 [Table 1]

【0062】[0062]

【表2】 [Table 2]

【0063】[0063]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のはんだ付
け可能な導電性ペーストは、従来の技術における致命的
な問題点であったはんだ付け性を銅箔並みとなるように
改善、向上でき、且つはんだ付け可能な導電性ペースト
としての基本特性、すなわち優れた耐酸化性や耐マイグ
レーション性、接着性や耐沈降特性を併せ持つものであ
り、産業上大いに有用である。
As described above, the solderable conductive paste of the present invention can improve and improve the solderability, which has been a fatal problem in the prior art, to be comparable to that of copper foil. In addition, it has basic characteristics as a solderable conductive paste, that is, excellent oxidation resistance, migration resistance, adhesion and sedimentation resistance, and is very useful in industry.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式Agx Cuy (ただし、0.00
1≦x≦0.4、0.6≦y≦0.999、x+y=1
(原子比))で表され、且つ粒子表面の銀濃度が粒子の
平均銀濃度よりも高い領域を有する銅合金粉末100重
量部と、少なくとも一種類以上の樹脂バインダー及び溶
剤を含む導電性ペーストにおいて、はんだ付け性改良剤
として高級脂肪酸または高級脂肪酸エステル0.001
〜10重量部を含有することを特徴とするはんだ付け可
能な導電性ペースト。
[Claim 1] The general formula Ag x Cu y (where 0.00
1 ≦ x ≦ 0.4, 0.6 ≦ y ≦ 0.999, x + y = 1
(Atomic ratio)), and 100 parts by weight of a copper alloy powder having a region where the silver concentration on the particle surface is higher than the average silver concentration of the particle, and a conductive paste containing at least one or more resin binders and solvents. Higher fatty acids or higher fatty acid esters as solderability improvers 0.001
A solderable conductive paste containing from 10 to 10 parts by weight.
【請求項2】 一般式Agx Cuy (ただし、0.00
1≦x≦0.4、0.6≦y≦0.999、x+y=1
(原子比))で表され、且つ粒子表面の銀濃度が粒子の
平均銀濃度よりも高い領域を有する銅合金粉末100重
量部と、少なくとも一種類以上の樹脂バインダー及び溶
剤を含む導電性ペーストにおいて、はんだ付け性改良剤
として高級脂肪酸と高級脂肪酸エステル0.001〜1
0重量部を含有することを特徴とするはんだ付け可能な
導電性ペースト。
2. A compound of the general formula Ag x Cu y (where 0.00
1 ≦ x ≦ 0.4, 0.6 ≦ y ≦ 0.999, x + y = 1
(Atomic ratio)), and 100 parts by weight of a copper alloy powder having a region where the silver concentration on the particle surface is higher than the average silver concentration of the particle, and a conductive paste containing at least one or more resin binders and solvents. Higher fatty acids and higher fatty acid esters as solderability improvers 0.001 to 1
A solderable conductive paste containing 0 parts by weight.
【請求項3】 一般式Agx Cuy (ただし、0.00
1≦x≦0.4、0.6≦y≦0.999、x+y=1
(原子比))で表され、且つ粒子表面の銀濃度が粒子の
平均銀濃度よりも高い領域を有する銅合金粉末100重
量部と、少なくとも一種類以上の樹脂バインダー及び溶
剤を含む導電性ペーストにおいて、はんだ付け性改良剤
として高級脂肪酸エステル0.001〜10重量部を含
有することを特徴とするはんだ付け可能な導電性ペース
ト。
3. A compound of the general formula Ag x Cu y (where 0.00
1 ≦ x ≦ 0.4, 0.6 ≦ y ≦ 0.999, x + y = 1
(Atomic ratio)), and 100 parts by weight of a copper alloy powder having a region where the silver concentration on the particle surface is higher than the average silver concentration of the particle, and a conductive paste containing at least one or more resin binders and solvents. A solderable conductive paste, comprising 0.001 to 10 parts by weight of a higher fatty acid ester as a solderability improver.
【請求項4】 銅合金粉末の平均粒子径が5〜35μm
であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記
載のはんだ付け可能な導電性ペースト。
4. The copper alloy powder has an average particle size of 5 to 35 μm.
The solderable conductive paste according to claim 1, wherein:
【請求項5】 請求項1〜4の導電性ペーストを基材上
に塗布または印刷後、硬化してなるはんだ付け可能な導
電性塗膜。
5. A solderable conductive coating film obtained by applying or printing the conductive paste according to claim 1 on a base material and then curing.
JP8187447A 1996-07-17 1996-07-17 Solderable electroconductive paste Withdrawn JPH1031912A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8187447A JPH1031912A (en) 1996-07-17 1996-07-17 Solderable electroconductive paste

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8187447A JPH1031912A (en) 1996-07-17 1996-07-17 Solderable electroconductive paste

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1031912A true JPH1031912A (en) 1998-02-03

Family

ID=16206240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8187447A Withdrawn JPH1031912A (en) 1996-07-17 1996-07-17 Solderable electroconductive paste

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1031912A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2376200A (en) * 2001-06-07 2002-12-11 Alpha Fry Ltd Soldering flux vehicle additive
US6936115B2 (en) 2001-06-07 2005-08-30 Fry's Metals, Inc. Soldering flux vehicle additive and fine pitch printing method
US7267713B2 (en) 2003-04-28 2007-09-11 Murata Manufacturing Co., Ltd. Conductive paste and glass circuit structure
CN100407340C (en) * 2002-05-17 2008-07-30 日立化成工业株式会社 Conductive paste
JP2011109065A (en) * 2009-10-22 2011-06-02 Tdk Corp Electronic component and method of manufacturing the electronic component
JP2013218830A (en) * 2012-04-05 2013-10-24 Ulvac Japan Ltd Conductive metal paste
JP2014011006A (en) * 2012-06-29 2014-01-20 Arakawa Chem Ind Co Ltd Conductive paste
JP2017105911A (en) * 2015-12-09 2017-06-15 ナミックス株式会社 Resin composition, conducive copper paste, cured article, semiconductor device
WO2017170593A1 (en) * 2016-03-28 2017-10-05 東洋製罐グループホールディングス株式会社 Dispersion liquid, method for producing same, and copper compound particles
JP2021059659A (en) * 2019-10-07 2021-04-15 日油株式会社 Conductive composition

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2376200A (en) * 2001-06-07 2002-12-11 Alpha Fry Ltd Soldering flux vehicle additive
GB2376200B (en) * 2001-06-07 2005-03-02 Alpha Fry Ltd Soldering flux vehicle additive
US6936115B2 (en) 2001-06-07 2005-08-30 Fry's Metals, Inc. Soldering flux vehicle additive and fine pitch printing method
CN100407340C (en) * 2002-05-17 2008-07-30 日立化成工业株式会社 Conductive paste
US7718090B2 (en) 2002-05-17 2010-05-18 Hitachi Chemical Co., Ltd. Conductive paste
US7267713B2 (en) 2003-04-28 2007-09-11 Murata Manufacturing Co., Ltd. Conductive paste and glass circuit structure
JP2011109065A (en) * 2009-10-22 2011-06-02 Tdk Corp Electronic component and method of manufacturing the electronic component
JP2013218830A (en) * 2012-04-05 2013-10-24 Ulvac Japan Ltd Conductive metal paste
JP2014011006A (en) * 2012-06-29 2014-01-20 Arakawa Chem Ind Co Ltd Conductive paste
JP2017105911A (en) * 2015-12-09 2017-06-15 ナミックス株式会社 Resin composition, conducive copper paste, cured article, semiconductor device
WO2017170593A1 (en) * 2016-03-28 2017-10-05 東洋製罐グループホールディングス株式会社 Dispersion liquid, method for producing same, and copper compound particles
US11324222B2 (en) 2016-03-28 2022-05-10 Toyo Seikan Group Holdings, Ltd. Dispersion liquid, method for producing the same, and copper compound particles
JP2021059659A (en) * 2019-10-07 2021-04-15 日油株式会社 Conductive composition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6879035B2 (en) Conductive composition, method of manufacturing conductors, and method of forming wiring for electronic components
JPH10312712A (en) Solderable conductive paste
JP2788510B2 (en) Copper paste composition
CN110193684B (en) Flux and solder paste
JP6885188B2 (en) Method for manufacturing conductive composition and terminal electrode
JP7170464B2 (en) Method for cleaning silver-coated metal powder, method for producing silver-coated metal powder, silver-coated copper powder, silver-coated copper alloy powder, method for producing conductive paste and conductive film, electronic component, and electric device
JPH1031912A (en) Solderable electroconductive paste
JP2514516B2 (en) Solderable conductive paste
US3762965A (en) Solder compositions of improved active solder vehicles
JPH0216172A (en) Solderable conductive paint
JPH01192781A (en) Thick film copper conductor composition
JPH07109723B2 (en) High temperature firing composition and paste
WO2020040138A1 (en) Electroconductive paste
EP3419028B1 (en) Conductive paste
JP3222950B2 (en) Strong solderable conductive paste
WO2006038376A1 (en) Solder composition and solder layer forming method using the same
JPH07109724B2 (en) Copper-based conductive paste that can be soldered
JPS62230869A (en) Electrically conductive coating compound to be soldered
JPH04308605A (en) Copper conductive paste
JP2021090999A (en) Flux, solder paste and soldered product manufacturing method
JP4089368B2 (en) Conductive paste
JPH0623582A (en) Conductive paste with which reflow soldering is possible
JP2910804B2 (en) Solder paste
JPH0619075B2 (en) Conductive paint that can be soldered
JPH1129802A (en) Alloy powder, its production, conductive paste using the alloy powder, and electronic equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20031007