JPH10316757A - Cationically photopolymerizable organosilicon compound and its production - Google Patents
Cationically photopolymerizable organosilicon compound and its productionInfo
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- JPH10316757A JPH10316757A JP14098497A JP14098497A JPH10316757A JP H10316757 A JPH10316757 A JP H10316757A JP 14098497 A JP14098497 A JP 14098497A JP 14098497 A JP14098497 A JP 14098497A JP H10316757 A JPH10316757 A JP H10316757A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光カチオン重合性
有機ケイ素化合物及びその製造方法に関し、詳しくは、
主鎖がシロキサン結合からなり、その両末端ケイ素原子
にアルコキシ基及びオキセタニル基を有する有機官能基
が結合した、光カチオン重合性有機ケイ素化合物及びそ
の製造方法に関する。本発明の有機ケイ素化合物は、光
カチオン重合用マクロモノマー、ポリマー型シランカッ
プリング剤等として有用である。The present invention relates to a cationic photopolymerizable organosilicon compound and a method for producing the same.
The present invention relates to a cationic photopolymerizable organosilicon compound having a siloxane bond in the main chain, and an organic functional group having an alkoxy group and an oxetanyl group bound to both terminal silicon atoms, and a method for producing the same. The organosilicon compound of the present invention is useful as a macromonomer for photocationic polymerization, a polymer-type silane coupling agent, and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】紫外線(UV)開始重合又は紫外線開始
硬化の分野においては、多官能アクリレート及び不飽和
ポリエステル等を用いた光開始ラジカル重合が広く検討
され、また工業的に利用されている。しかし、このラジ
カル重合は空気中等の酸素によって阻害されるため、モ
ノマーを速やかに且つ完全に重合させるためには不活性
雰囲気下で重合を行う必要がある。2. Description of the Related Art In the field of ultraviolet (UV) -initiated polymerization or ultraviolet-initiated curing, photoinitiated radical polymerization using polyfunctional acrylates and unsaturated polyesters has been widely studied and industrially used. However, since this radical polymerization is inhibited by oxygen in the air or the like, it is necessary to carry out the polymerization under an inert atmosphere in order to rapidly and completely polymerize the monomer.
【0003】これに対して光開始カチオン重合は、上記
光開始ラジカル重合とは異なり酸素による重合阻害を受
けないため、空気中においても完全に重合させることが
可能である。光開始カチオン重合に用いられる代表的な
モノマーとしては、エポキシド及びビニルエーテルが挙
げられる。特に、モノマーとしてエポキシドを用いた場
合には、耐熱性が良く、接着力に優れ、且つ耐薬品性の
良好な硬化物を得ることが可能である。[0003] On the other hand, photoinitiated cationic polymerization is not affected by polymerization inhibition by oxygen, unlike the photoinitiated radical polymerization, and can be completely polymerized even in air. Representative monomers used for photoinitiated cationic polymerization include epoxides and vinyl ethers. In particular, when an epoxide is used as a monomer, it is possible to obtain a cured product having good heat resistance, excellent adhesive strength, and good chemical resistance.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、エポキシド型
の光硬化性モノマーは、エポキシ基の光重合速度が比較
的遅いため、特に紙やプラスチック上にコーティングさ
れる場合のように速やかな光硬化性が要求される用途に
対しては、必ずしも好適とはいい難い。However, the epoxide type photocurable monomer has a relatively low photopolymerization rate of the epoxy group, and therefore has a rapid photocurable property particularly when coated on paper or plastic. However, it is not always preferable for applications requiring the above.
【0005】一方、通常オキセタニル基の光重合速度は
エポキシ基に比べて明らかに速いため、このオキセタニ
ル基をもつ化合物は光開始カチオン重合用のモノマーと
して有用である。特開平6−16804号公報にはオキ
セタニル基を有する種々のモノマーが開示されており、
その一例として下記式(IV)に示す化合物、即ちシリコ
ーンの両末端にオキセタニル基が導入された化合物が示
されている。On the other hand, since the photopolymerization rate of an oxetanyl group is usually much higher than that of an epoxy group, a compound having this oxetanyl group is useful as a monomer for photoinitiated cationic polymerization. JP-A-6-16804 discloses various monomers having an oxetanyl group,
As an example, a compound represented by the following formula (IV), that is, a compound having an oxetanyl group introduced at both ends of silicone is shown.
【0006】[0006]
【化4】 (但し、R2及びR3のそれぞれは例えば1〜4個の炭素
原子を有するアルキル基又はアリール基であり、R4は
水素原子、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基、フ
ッ素原子、1〜6個の炭素原子を有するフルオロアルキ
ル基、アリル基、アリール基、フリル基又はチエニル基
であり、nは0〜2,000の整数である。)Embedded image (However, each of R 2 and R 3 is, for example, an alkyl group or an aryl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a fluorine atom, A fluoroalkyl group, an allyl group, an aryl group, a furyl group or a thienyl group having 1 to 6 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 2,000.)
【0007】しかし、上記化合物からなる組成物の硬化
膜は一般に基材との密着性が低く、特に基材が金属等の
無機物質である場合には実用上十分な密着性を得ること
は困難である。これは、上記化合物はオキセタニル基以
外の官能基をもたないので、無機物質との結合能力に劣
るためと考えられる。また、上記公報においては両末端
ヒドロシリコーンを原料として上記化合物を製造してい
るが、この両末端ヒドロシリコーンは高価であるため材
料費が嵩む。更に、上記公報においてはオキセタニル基
を導入する際の反応触媒としてロジウム触媒を使用して
いるが、このロジウム触媒も高価なものである。However, a cured film of a composition comprising the above compound generally has low adhesion to a substrate, and it is difficult to obtain practically sufficient adhesion particularly when the substrate is an inorganic substance such as a metal. It is. This is presumably because the compound has no functional group other than the oxetanyl group, and thus has poor binding ability with an inorganic substance. Further, in the above-mentioned publication, the above-mentioned compound is produced using both ends of the hydrosilicone as a raw material. However, since the both ends of the hydrosilicone are expensive, the material cost increases. Furthermore, in the above publication, a rhodium catalyst is used as a reaction catalyst when introducing an oxetanyl group, but this rhodium catalyst is also expensive.
【0008】本発明の他の目的は、比較的安価な原料及
び触媒を用いて製造可能であり、且つ金属等の無機物質
に対する密着性に優れた新規な光カチオン重合性有機ケ
イ素化合物を提供することにある。本発明の更に他の目
的は、上記光カチオン重合性有機ケイ素化合物を製造す
る好適な方法を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a novel cationic photopolymerizable organosilicon compound which can be produced using relatively inexpensive raw materials and catalysts and has excellent adhesion to inorganic substances such as metals. It is in. Still another object of the present invention is to provide a suitable method for producing the above-mentioned cationic photopolymerizable organosilicon compound.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、新規な光
カチオン重合性化合物として、シリコーンの両末端にオ
キセタニル基が導入され且つこのシリコーンの両末端ケ
イ素原子がアルコキシ基をもつ化合物を合成した。そし
て、この化合物はオキセタニル基及びアルコキシ基によ
る速い光カチオン重合速度を有すること、及び、上記式
(IV)に示す化合物等に比べて基材との密着性等に優れ
た硬化膜を与えることを見出した。更に、この化合物を
比較的安価な原料及び触媒を用いて、しかも容易に製造
する方法を見出して、本発明を完成したのである。Means for Solving the Problems The present inventors have synthesized a novel photocationically polymerizable compound in which an oxetanyl group is introduced into both ends of silicone and the silicon atom at both ends of the silicone has an alkoxy group. did. This compound has a high photocationic polymerization rate due to oxetanyl groups and alkoxy groups, and provides a cured film having excellent adhesion to a substrate as compared with the compound represented by the above formula (IV). I found it. Furthermore, they have found a method for easily producing this compound using relatively inexpensive raw materials and catalysts, and have completed the present invention.
【0010】即ち、本発明における第1発明の光カチオ
ン重合性有機ケイ素化合物は、下記式(I) に示す構
造式で表されることを特徴とする。That is, the photocationically polymerizable organosilicon compound of the first invention in the present invention is characterized by being represented by the following structural formula (I).
【0011】[0011]
【化5】 (但し、R0はオキセタニル基をもつ有機官能基であ
り、R1、R2及びR3はいずれもアルキル基、シクロア
ルキル基又はアリール基であり、nは1〜10,000
の正数である。)Embedded image (However, R 0 is an organic functional group having an oxetanyl group, R 1 , R 2 and R 3 are all alkyl groups, cycloalkyl groups or aryl groups, and n is 1 to 10,000.
Is a positive number. )
【0012】上記式(I)で表される有機ケイ素化合物
は、シリコーンの両末端に光カチオン重合速度の大きい
オキセタニル基が導入され、且つこのシリコーンの両末
端ケイ素原子にアルコキシ基が結合した構造を有する。
この化合物は、光カチオン重合性を有する基に加えてア
ルコキシ基を有することにより、剥離用フィルムコーテ
ィング剤、耐汚染性塗膜剤等として有用である。例えば
光カチオン重合性塗料組成物として用いた場合、アルコ
キシ基をもたない点以外は同様の構造を有する有機ケイ
素化合物に比べて基材との密着性に優れた塗膜が得られ
る。また、硬化前及び/又は硬化後において上記アルコ
キシ基同士を縮合させることにより、硬化膜の硬度を向
上させることができる。更に、このアルコキシ基を利用
して化合物又はその硬化物に他の官能基を導入したり、
或いはアルコキシ基の加水分解により硬化膜に水酸基を
導入して親水性を付与することも可能である。The organosilicon compound represented by the above formula (I) has a structure in which an oxetanyl group having a high photocationic polymerization rate is introduced into both terminals of silicone and an alkoxy group is bonded to silicon atoms at both terminals of the silicone. Have.
Since this compound has an alkoxy group in addition to a group having photocationic polymerizability, it is useful as a film coating agent for release, a stain-resistant coating agent, and the like. For example, when used as a photocationically polymerizable coating composition, a coating film having excellent adhesion to a substrate can be obtained as compared with an organosilicon compound having the same structure except that it does not have an alkoxy group. Further, the hardness of the cured film can be improved by condensing the alkoxy groups before and / or after the curing. Furthermore, by utilizing this alkoxy group to introduce another functional group into the compound or its cured product,
Alternatively, it is also possible to impart a hydrophilic property by introducing a hydroxyl group into the cured film by hydrolysis of an alkoxy group.
【0013】そして、第2発明のように、R0は下記式
(II)に示す構造式で表される有機官能基であることが
好ましい。このような光カチオン重合性有機ケイ素化合
物は製造が容易であり、且つ上記用途に好適なためであ
る。As in the second invention, R 0 is preferably an organic functional group represented by the following structural formula (II). This is because such a photocationically polymerizable organosilicon compound is easy to produce and is suitable for the above applications.
【0014】[0014]
【化6】 (但し、R4は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基
であり、R5は炭素数2〜6のアルキレン基である。)Embedded image (However, R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 5 is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.)
【0015】本発明の第3発明は、第1発明又は第2発
明の有機ケイ素化合物を製造する方法であり、下記式(I
II) に示す構造式で表されるポリシロキサンとアルケ
ニル末端をもつオキセタン化合物とを付加反応させるこ
とを特徴とする。The third invention of the present invention is a method for producing the organosilicon compound of the first invention or the second invention, which comprises the following formula (I)
It is characterized in that the polysiloxane represented by the structural formula shown in II) is subjected to an addition reaction with an oxetane compound having an alkenyl terminal.
【0016】[0016]
【化7】 (但し、R1、R2及びR3はいずれもアルキル基、シク
ロアルキル基又はアリール基であり、nは1〜10,0
00の正数である。)Embedded image (However, R 1 , R 2 and R 3 are all alkyl groups, cycloalkyl groups or aryl groups, and n is 1 to 10,0
00 is a positive number. )
【0017】上記式(III)に示す化合物は、両末端ヒド
ロシリコーンに比べて安価に製造することが可能である
ため、原料費が低減されるという利点がある。また、こ
の化合物を原料とすることにより、これとオキセタン化
合物とのヒドロシリレーション反応の際にロジウム触媒
等に比べて安価な白金触媒を用いて、第1発明又は第2
発明の有機ケイ素化合物を得ることができる。The compound represented by the above formula (III) can be produced at lower cost than hydrosilicone at both ends, and thus has the advantage of reducing raw material costs. Further, by using this compound as a raw material, the first invention or the second invention can be carried out by using a platinum catalyst, which is less expensive than a rhodium catalyst or the like, in a hydrosilylation reaction between the compound and an oxetane compound.
The organosilicon compound of the invention can be obtained.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
尚、本明細書においては、オキセタニル基を有する化合
物を「オキセタン化合物」と表す。本発明の光カチオン
重合性有機ケイ素化合物は、上記式(I)におけるR1、
R2及びR3がそれぞれアルキル基、シクロアルキル基又
はアリール基である。この「アルキル基」としては、例
えばメチル基、エチル基、n−及びi−プロピル基、n
−、i−及びt−ブチル基等が挙げられる。また、「シ
クロアルキル基」の例としてはシクロヘキシル基等が、
「アリール基」の例としてはフェニル基等が挙げられ
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present specification, a compound having an oxetanyl group is referred to as an “oxetane compound”. Cationic photopolymerizable organic silicon compound of the invention, R 1 in the above-mentioned formula (I),
R 2 and R 3 are an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, respectively. Examples of the "alkyl group" include a methyl group, an ethyl group, an n- and i-propyl group,
-, I- and t-butyl groups. Examples of the “cycloalkyl group” include a cyclohexyl group,
Examples of the “aryl group” include a phenyl group.
【0019】上記式(I)に示す化合物一分子中には四
つのR1が含まれるが、これらは全て同じ基であっても
よいし二種以上の異なる基であってもよい。また、R2
とR3とは同じ基であってもよいし異なる基であっても
よい。更に、一分子中に含まれるn個のR2は全て同じ
基であっても二種以上の異なる基であってもよく、R3
についても同様である。One molecule of the compound represented by the formula (I) contains four R 1 s, which may be the same group or two or more different groups. Also, R 2
And R 3 may be the same group or different groups. Furthermore, may be an n-number of R 2 is also different for two or more be all the same radical groups contained in one molecule, R 3
The same applies to.
【0020】このうち、R1が炭素数1〜3のアルキル
基、即ち、−OR1がメトキシ基、エトキシ基、n−プ
ロポキシ基又はi−プロポキシ基であることが好まし
い。この場合には、両末端のケイ素原子に結合したアル
コキシ基の加水分解性が良好となるので、このアルコキ
シ基を、基材との密着性向上や湿気硬化による膜強度向
上のために有効に利用することができる。Among them, R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, that is, —OR 1 is preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group or an i-propoxy group. In this case, since the hydrolyzability of the alkoxy group bonded to the silicon atoms at both ends is improved, this alkoxy group is effectively used for improving the adhesion to the substrate and improving the film strength by moisture curing. can do.
【0021】また、R2及びR3はメチル基又はエチル基
であることが好ましく、R2及びR3が全てメチル基であ
ることが更に好ましい。この場合には、本発明の有機ケ
イ素化合物を安価な原料から製造可能であるとともに、
この有機ケイ素化合物により剥離性、表面潤滑性及び撥
水・撥油性等のいわゆる「シリコーンの特性」を付与し
やすいため好ましい。また、一分子中に存在する四つの
R1がそれぞれ同じ基である場合には、本発明の有機ケ
イ素化合物の合成が容易であるため好ましい。また、−
OR1がエトキシ基である場合には、本発明の有機ケイ
素化合物の毒性が低いという利点がある。Further, R 2 and R 3 are preferably a methyl group or an ethyl group, and more preferably all of R 2 and R 3 are a methyl group. In this case, the organosilicon compound of the present invention can be produced from inexpensive raw materials,
This organosilicon compound is preferable because it easily gives so-called “silicone properties” such as releasability, surface lubricity, and water / oil repellency. Further, it is preferred that the four R 1 s present in one molecule be the same group, because the synthesis of the organosilicon compound of the present invention is easy. Also,-
When OR 1 is an ethoxy group, there is an advantage that the organosilicon compound of the present invention has low toxicity.
【0022】上記式(I)におけるR0は、その一部に
少なくとも一つのオキセタニル環を有する有機官能基で
あれば特に限定されないが、上記式(II)に示す構造式
で表される基であることが好ましい。この式(II)にお
いて、R4は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基で
あり、R4がエチル基であることが特に好ましい。ま
た、R5は炭素数2〜6のアルキレン基であり、R5がプ
ロピレン基であることが特に好ましい。これは、このよ
うなオキセタン化合物の入手或いは合成が容易なためで
ある。R 0 in the above formula (I) is not particularly limited as long as it is an organic functional group having at least one oxetanyl ring in a part thereof, and is a group represented by the structural formula shown in the above formula (II). Preferably, there is. In the formula (II), R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and it is particularly preferable that R 4 is an ethyl group. R 5 is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and R 5 is particularly preferably a propylene group. This is because it is easy to obtain or synthesize such an oxetane compound.
【0023】また、上記式(I)におけるnは1〜1
0,000の正数である。nが10,000を超える
と、粘度が高すぎて取り扱いが困難となる等の問題を生
じる。この問題を防止する観点からは、nは1,000
以下であることが好ましく、200以下であることがよ
り好ましい。nの好ましい範囲はこの有機ケイ素化合物
の用途によっても異なり、例えば硬化物に高強度が要求
される用途ではnが1〜6であることが好ましく、硬化
物に高引張強度が要求される用途ではnが100〜20
0であることが好ましい。In the above formula (I), n is 1 to 1.
It is a positive number of 0000. If n exceeds 10,000, problems occur such that the viscosity is too high and handling becomes difficult. From the viewpoint of preventing this problem, n is 1,000
Or less, more preferably 200 or less. The preferred range of n varies depending on the use of the organosilicon compound. For example, n is preferably 1 to 6 in applications where high strength is required for the cured product, and in applications where high tensile strength is required for the cured product. n is 100 to 20
It is preferably 0.
【0024】本発明の光カチオン重合性有機ケイ素化合
物の製造方法は、上記式(III) に示す構造式で表され
るポリシロキサンとアルケニル末端をもつオキセタン化
合物とを付加反応させるものである。ここで、「アルケ
ニル末端をもつ」とは、オキセタン化合物がその末端に
ビニル基、アリル基、エチニル基、プロパギル基及びイ
ソプロペニル基等のうち少なくとも一つを有することを
いう。これらの中でも、原料の入手及び合成が容易であ
ること、及び、後のヒドロシリル化反応が容易に実施し
やすいこと等の理由から、アルケニル末端がアリル基で
あることが好ましい。また、反応時のゲル化等を防止す
るためには、このオキセタン化合物のもつアルケニル末
端の数は一つであることが好ましい。The method for producing the cationic photopolymerizable organosilicon compound of the present invention comprises an addition reaction of the polysiloxane represented by the structural formula (III) and an alkenyl-terminated oxetane compound. Here, “having an alkenyl terminal” means that the oxetane compound has at least one of a vinyl group, an allyl group, an ethynyl group, a propargyl group, an isopropenyl group, and the like at its terminal. Among these, it is preferable that the alkenyl terminal is an allyl group because the raw material can be easily obtained and synthesized, and the subsequent hydrosilylation reaction can be easily performed. In order to prevent gelation during the reaction, the oxetane compound preferably has one alkenyl terminal.
【0025】上記式(III) におけるR1、R2、R3及び
nの好ましい範囲並びにその理由は、式(I)の説明に
おいて上述したとおりである。The preferred ranges of R 1 , R 2 , R 3 and n in the above formula (III) and the reasons thereof are as described above in the description of the formula (I).
【0026】次いで、上記式(III) に示す化合物とオ
キセタン化合物とを「付加反応させる」方法について説
明する。これは、上記式(III) に示す化合物の両末端
にあるSi−H基とオキセタン化合物のアルケニル末端
とのヒドロシリル化反応であり、第8族金属触媒の存在
下等において進行する。Next, a method of "addition-reacting" the compound represented by the formula (III) with an oxetane compound will be described. This is a hydrosilylation reaction between Si-H groups at both ends of the compound represented by the above formula (III) and the alkenyl end of the oxetane compound, and proceeds in the presence of a Group VIII metal catalyst or the like.
【0027】この「第8族金属触媒」としては、コバル
ト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イ
リジウム及び白金等の第8族金属の単体、有機金属錯
体、金属塩及び金属酸化物等が挙げられる。これらの中
で、触媒活性の高さが適当であるとともに取り扱いが容
易であり、且つ比較的安価である等の理由から、白金の
金属単体、有機金属錯体、金属塩及び金属酸化物が好ま
しく、有機白金錯体を用いることが特に好ましい。この
触媒は、上記式(III) に示す化合物とオキセタン化合
物との合計量に対して10〜1,000重量ppm用い
ることが好ましい。ヒドロシリル化反応におけるその他
の反応条件については特に限定されないが、好ましい反
応温度は20〜80℃であり、好適な反応時間は2〜1
0時間である。Examples of the "group 8 metal catalyst" include simple substances of group 8 metals such as cobalt, nickel, ruthenium, rhodium, palladium, iridium and platinum, organometallic complexes, metal salts and metal oxides. . Among them, a platinum metal simple substance, an organometallic complex, a metal salt and a metal oxide are preferable, because the catalyst activity is appropriate and the handling is easy, and it is relatively inexpensive. It is particularly preferable to use an organic platinum complex. This catalyst is preferably used in an amount of 10 to 1,000 ppm by weight based on the total amount of the compound represented by the formula (III) and the oxetane compound. Other reaction conditions in the hydrosilylation reaction are not particularly limited, but a preferable reaction temperature is 20 to 80 ° C, and a preferable reaction time is 2 to 1
0 hours.
【0028】ここで、上記式(III) に示す化合物とは
異なりシリコーンの両末端ケイ素原子がアルキル基をも
つヒドロシリコーン(以下、「両末端アルキルヒドロシ
リコーン」という。)では、アルケニル末端をもつオキ
セタン化合物とのヒドロシリレーション反応において白
金触媒を用いると、オキセタニル基の開環等の副反応が
多く起こるため反応系のゲル化等が生じ、目的の有機ケ
イ素化合物を得ることができない。このため、両末端ア
ルキルヒドロシリコーンを原料とする光カチオン重合性
有機ケイ素化合物の製造においては、触媒として白金触
媒に比べて触媒活性の低いロジウム触媒等を用いる必要
があり、このロジウム触媒が白金触媒に比べて高価であ
るという問題を生じていた。更に、反応系内にロジウム
触媒を均一に存在させるためには溶媒を用いる必要があ
った。Here, unlike the compound represented by the above formula (III), in the hydrosilicone having an alkyl group at both terminal silicon atoms of the silicone (hereinafter referred to as "both terminal alkylhydrosilicone"), an oxetane having an alkenyl terminal is used. When a platinum catalyst is used in the hydrosilylation reaction with the compound, many side reactions such as ring opening of the oxetanyl group occur, so that the reaction system gels and the like, and the desired organosilicon compound cannot be obtained. Therefore, in the production of a photocationically polymerizable organosilicon compound using alkylhydrosilicone at both ends as a raw material, it is necessary to use a rhodium catalyst or the like having a lower catalytic activity than a platinum catalyst as a catalyst. However, there is a problem in that it is more expensive than the above. Further, in order for the rhodium catalyst to be uniformly present in the reaction system, it was necessary to use a solvent.
【0029】これに対して、上記式(III) に示す化合
物は、シリコーンの両末端ケイ素原子がアルコキシ基を
有する「両末端アルコキシヒドロシリコーン」であるの
で、反応時に白金触媒を用いてもオキセタニル基が開環
しにくい。従って、ロジウム触媒に比べて安価な白金触
媒を用いて目的の化合物、即ち本発明の有機ケイ素化合
物を得ることができる。また、ロジウム触媒とは異なり
白金触媒は、溶媒を用いなくても反応系に溶解させるか
或いは均一に分散させることができるため、実質的に無
溶剤で反応を行うことが可能である。On the other hand, since the compound represented by the above formula (III) is a “both-terminal alkoxyhydrosilicone” in which both silicon atoms at the both ends of the silicone have an alkoxy group, the oxetanyl group can be used even when a platinum catalyst is used during the reaction. Is difficult to open. Therefore, the target compound, that is, the organosilicon compound of the present invention, can be obtained using a platinum catalyst that is less expensive than a rhodium catalyst. Further, unlike the rhodium catalyst, the platinum catalyst can be dissolved or uniformly dispersed in the reaction system without using a solvent, so that the reaction can be performed substantially without a solvent.
【0030】更に、上記式(III)に示す化合物は、例
えば下記式(V)に示す化合物と下記式(VI)に示す化合
物との縮合反応により好適に製造することができる。下
記化合物はいずれも比較的安価であるため、上記式(II
I)に示す化合物は、両末端アルキルヒドロシリコーン
に比べて安価に製造することができる。この縮合反応
は、下記式(VI)に示す化合物が過剰(好ましくは大過
剰)となる条件下で行うことが好ましい。また、反応時
にはp−トルエンスルホン酸又は三フッ化酢酸等のエス
テル交換触媒を用いてもよいが、これらの触媒を使用せ
ずに中性雰囲気下で上記縮合反応を進行させることが好
ましい。Further, the compound represented by the formula (III) can be suitably produced, for example, by a condensation reaction of a compound represented by the following formula (V) with a compound represented by the following formula (VI). Since all of the following compounds are relatively inexpensive,
The compound shown in I) can be produced at a lower cost than the alkylhydrosilicone at both ends. This condensation reaction is preferably carried out under the condition that the compound represented by the following formula (VI) becomes excessive (preferably large excess). Further, at the time of the reaction, a transesterification catalyst such as p-toluenesulfonic acid or trifluoroacetic acid may be used. However, it is preferred that the condensation reaction be allowed to proceed in a neutral atmosphere without using these catalysts.
【0031】[0031]
【化8】 (但し、R2及びR3はそれぞれアルキル基、シクロアル
キル基又はアリール基であり、nは1〜10,000の
正数である。)Embedded image (However, R 2 and R 3 are an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, respectively, and n is a positive number of 1 to 10,000.)
【0032】[0032]
【化9】 (但し、R1はアルキル基、シクロアルキル基又はアリ
ール基である。)Embedded image (However, R 1 is an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group.)
【0033】[0033]
【実施例】以下、実施例及び比較例により、本発明を更
に具体的に説明する。The present invention will be described more specifically with reference to the following examples and comparative examples.
【0034】(1)光カチオン重合性有機ケイ素化合物
の合成 (合成例1)これは、本発明の光カチオン重合性有機ケ
イ素化合物の製造方法における原料として用いる、上記
式(III)に示す両末端アルコキシヒドロシリコーンを
合成する例である。下記式(1)に示す反応式により、
上記式(III)におけるR1がエチル基であり、R2及び
R3のいずれもがメチル基であり、nが約25である両
末端エトキシヒドロポリジメチルシロキサンを合成し
た。(1) Synthesis of a photocationically polymerizable organosilicon compound (Synthesis Example 1) This is a compound represented by the above formula (III) which is used as a raw material in the method for producing a photocationically polymerizable organosilicon compound of the present invention. This is an example of synthesizing an alkoxyhydrosilicone. According to the reaction formula shown in the following formula (1),
R 1 in the above formula (III) is an ethyl group, both R 2 and R 3 are methyl groups, and n-terminal ethoxyhydropolydimethylsiloxane in which n is about 25 was synthesized.
【0035】[0035]
【化10】 Embedded image
【0036】使用した原料は次のとおりである。 〔原料〕 (1) ポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール(チ
ッソ株式会社製、分子量約2,000、商品名「DMS
−S15」) (2) トリエトキシシラン(東亞合成株式会社製、商品
名「トリエス」)The raw materials used are as follows. [Raw materials] (1) Polydimethylsiloxane-α, ω-diol (manufactured by Chisso Corporation, molecular weight: about 2,000, trade name “DMS”
-S15 ") (2) Triethoxysilane (trade name" TRIS "manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
【0037】以下、反応操作を説明する。 攪拌機、温度計及び冷却機を備えた反応器に、ポリジ
メチルシロキサン−α,ω−ジオール157.0g(7
8.5mmol、水酸基として156.1mmol)を
仕込み、真空脱気した後に系内を窒素置換した。 反応装置を60℃に昇温してトリエトキシシラン14
8.9g(908mmol)を加え、系内を60℃に保
ちながら攪拌して反応を進行させた。 ガスクロマトグラフィーにより反応の進行を追跡し、
原料のトリエトキシシランと副生したエタノールとの組
成比が変化しなくなった時点で反応を終了した。 得られた反応液から、過剰のトリエトキシシラン及び
副生したエタノールを減圧下で除去した。更に、加熱真
空雰囲気下において揮発性不純物を除去して、目的物で
ある両末端エトキシヒドロポリジメチルシロキサン17
3.1gを得た。Hereinafter, the reaction operation will be described. In a reactor equipped with a stirrer, thermometer and cooler, 157.0 g of polydimethylsiloxane-α, ω-diol (7
8.5 mmol, 156.1 mmol as a hydroxyl group) were charged, and after degassing in vacuo, the inside of the system was replaced with nitrogen. The reactor was heated to 60 ° C and triethoxysilane 14 was added.
8.9 g (908 mmol) was added, and the reaction was allowed to proceed with stirring while maintaining the inside of the system at 60 ° C. Follow the progress of the reaction by gas chromatography,
The reaction was terminated when the composition ratio of the raw material triethoxysilane and the by-produced ethanol stopped changing. Excess triethoxysilane and by-produced ethanol were removed from the obtained reaction solution under reduced pressure. Further, volatile impurities are removed under a heated vacuum atmosphere, and ethoxyhydropolydimethylsiloxane at both ends, which is the target substance, is removed.
3.1 g were obtained.
【0038】(実施例1)下記式(2)に示す反応式に
より、合成例1で得た両末端エトキシヒドロポリジメチ
ルシロキサンに、アルケニル末端をもつオキセタン化合
物を付加させて、上記式(I)及び式(II)におけるR
1がエチル基であり、R2及びR3のいずれもがメチル基
であり、R4がエチル基であり、R5がプロピレン基であ
り、nが約25である、本発明の光カチオン重合性有機
ケイ素化合物を製造した。尚、「アルケニル末端をもつ
オキセタン化合物」としては、3−エチル−3−アリル
オキシメチルオキセタンを用いた。(Example 1) An oxetane compound having an alkenyl terminal was added to the ethoxyhydropolydimethylsiloxane at both ends obtained in Synthesis Example 1 according to the reaction formula shown in the following formula (2) to give the above-mentioned formula (I) And R in formula (II)
1 is an ethyl group, both R 2 and R 3 are methyl groups, R 4 is an ethyl group, R 5 is a propylene group, and n is about 25. A reactive organosilicon compound was produced. In addition, as the "oxetane compound having an alkenyl terminal", 3-ethyl-3-allyloxymethyloxetane was used.
【0039】[0039]
【化11】 Embedded image
【0040】以下、その反応操作を説明する。 攪拌機、温度計及び冷却器を備えた反応器に、3−エ
チル−3−アリルオキシメチルオキセタン50.4g
(322.6mmol)及び合成例1で得た両末端エト
キシヒドロポリジメチルシロキサン114.2g(5
1.9mmol、但し分子量2,200として)を仕込
んだ。 系内を70〜80℃に昇温した後、PtCl2(C6H
5CN)2の0.05Mベンゾニトリル溶液500μlを
加えた。その後、系内を70〜80℃に保ちながら反応
を進行させた。系内の温度上昇により反応の進行を確認
した。 反応終了後、加熱真空雰囲気下において過剰の3−エ
チル−3−アリルオキシメチルオキセタン及びベンゾニ
トリル等の揮発性物質を留去し、更に触媒残渣を除去し
て、無色透明の目的物、即ち本発明の光カチオン重合性
有機ケイ素化合物A−1を得た。Hereinafter, the reaction operation will be described. In a reactor equipped with a stirrer, a thermometer and a cooler, 50.4 g of 3-ethyl-3-allyloxymethyloxetane was added.
(322.6 mmol) and 114.2 g of ethoxyhydropolydimethylsiloxane at both ends obtained in Synthesis Example 1 (5
1.9 mmol, assuming a molecular weight of 2,200). After the temperature inside the system was raised to 70 to 80 ° C., PtCl 2 (C 6 H
500 μl of a 0.05 M benzonitrile solution of 5 CN) 2 was added. Thereafter, the reaction was allowed to proceed while maintaining the inside of the system at 70 to 80 ° C. The progress of the reaction was confirmed by the rise in temperature in the system. After completion of the reaction, excess volatile substances such as 3-ethyl-3-allyloxymethyloxetane and benzonitrile are distilled off under a heated vacuum atmosphere, and the catalyst residue is further removed. The photocationically polymerizable organosilicon compound A-1 of the invention was obtained.
【0041】この有機ケイ素化合物A−1の構造を下記
式(VII)に示す。また、この化合物A−1のIRチャ
ートを図1に、NMRチャートを図2に示す。尚、図1
のIRチャートにおける1260cm-1のピークはジメ
チルシロキサン鎖のSi−CH3結合に、また1000
〜1100cm-1のピークはジメチルシロキサン鎖のS
i−O−Si結合に帰属される。また、図2のNMRチ
ャートにおける0.3ppmのピークはジメチルシロキ
サン鎖のケイ素に結合したメチル基の水素原子に、1.
2ppm及び3.8ppmのピークは両末端ケイ素原子
に結合したエトキシ基の水素原子に、4.3ppm及び
4.4ppmのピークはオキセタン環における−CH2
−の水素原子に帰属される。The structure of the organosilicon compound A-1 is shown in the following formula (VII). FIG. 1 shows an IR chart and FIG. 2 shows an NMR chart of the compound A-1. FIG.
The peak of 1260 cm -1 in the IR chart of the Si-CH 3 bonds of dimethyl siloxane chain, also 1000
The peak at ~ 1100 cm -1 is the S value of the dimethylsiloxane chain.
It is attributed to the i-O-Si bond. Further, the peak at 0.3 ppm in the NMR chart of FIG. 2 corresponds to the hydrogen atom of the methyl group bonded to silicon of the dimethylsiloxane chain.
The peaks at 2 ppm and 3.8 ppm correspond to the hydrogen atoms of the ethoxy group bonded to both terminal silicon atoms, and the peaks at 4.3 ppm and 4.4 ppm correspond to -CH 2 in the oxetane ring.
-Attributed to a hydrogen atom.
【0042】[0042]
【化12】 Embedded image
【0043】(比較例1)下記の方法により、上記式
(I)におけるR1、R2、R3及びnは実施例1の有機
ケイ素化合物A−1と同じであるが、R0がオキセタニ
ル基ではなくエポキシ基をもつ有機官能基である有機ケ
イ素化合物B−1を製造した。即ち、3−エチル−3−
アリルオキシメチルオキセタンに代えてアリルグリシジ
ルエーテルを用いた他は実施例1と同様の方法により、
シリコーンの両末端にアルコキシ基及びエポキシ基を有
する、比較例1の有機ケイ素化合物B−1を得た。この
有機ケイ素化合物B−1の構造を下記式(VIII)に示
す。Comparative Example 1 According to the following method, R 1 , R 2 , R 3 and n in the above formula (I) are the same as those of the organosilicon compound A-1 of Example 1, but R 0 is oxetanyl. An organosilicon compound B-1 which is an organic functional group having an epoxy group instead of a group was prepared. That is, 3-ethyl-3-
Except for using allyl glycidyl ether instead of allyloxymethyl oxetane, in the same manner as in Example 1,
An organosilicon compound B-1 of Comparative Example 1 having an alkoxy group and an epoxy group at both ends of the silicone was obtained. The structure of this organosilicon compound B-1 is shown in the following formula (VIII).
【0044】[0044]
【化13】 Embedded image
【0045】(比較例2)実施例1と同様の操作によ
り、両末端にオキセタニル基を有するが、シリコーンの
両末端ケイ素がアルコキシ基ではなくアルキル基をもつ
有機ケイ素化合物を製造することを試みた。即ち、窒素
置換した反応器に、実施例1で用いた3−エチル−3−
アリルオキシメチルオキセタン6.3g(40.3mm
ol)と、シリコーンの両末端ケイ素原子がアルコキシ
基をもたない両末端ヒドロポリジメチルシロキサン(チ
ッソ株式会社製、商品名「DMS−H21」、分子量6
00)6.0g(10.0mmol)とを仕込んだ。系
内を系内を70℃に昇温した後、PtCl2(C6H5C
N)2の0.05Mベンゾニトリル溶液100μlを加
えた。その結果、しばらくすると系内の温度及び粘度が
急激に上昇した。最終的に系内はゲル状に固化し、この
固化物を分析したところオキセタンの開環重合が観測さ
れた。(Comparative Example 2) By the same operation as in Example 1, an attempt was made to produce an organosilicon compound having oxetanyl groups at both ends but silicon at both ends having an alkyl group instead of an alkoxy group. . That is, the 3-ethyl-3- used in Example 1 was placed in a reactor purged with nitrogen.
6.3 g of allyloxymethyl oxetane (40.3 mm
ol) and both ends of a silicone having no alkoxy group at both ends of the silicon atom having no alkoxy group (manufactured by Chisso Corporation, trade name "DMS-H21", molecular weight 6)
00) 6.0 g (10.0 mmol). After the temperature in the system was raised to 70 ° C., PtCl 2 (C 6 H 5 C
100 μl of a 0.05 M solution of N) 2 in benzonitrile was added. As a result, after a while, the temperature and viscosity in the system rapidly increased. Finally, the inside of the system was solidified in a gel state, and the solidified product was analyzed. As a result, ring-opening polymerization of oxetane was observed.
【0046】(2)光カチオン重合性有機ケイ素化合物
の評価 (2−1)光カチオン重合速度の比較 実施例1により得られたオキセタニル基及びアルコキシ
基をもつ有機ケイ素化合物A−1、及び、比較例1によ
り得られたエポキシ基及びアルコキシ基をもつ有機ケイ
素化合物B−1について、その不粘着化エネルギー
(T.F.E.)を測定した。測定には、コンベア型の
UV照射装置(アイグラフィックス株式会社製、機種名
「アイ紫外線硬化用電源装置」)を使用した。測定結果
を下記表1に示す。ここで、表1における単位「mJ/
cm2」は、平方センチメートル当たりの硬化に要する
最小エネルギーを表す。即ち、この値が小さいほど光硬
化性が高いことを意味する。(2) Evaluation of photocationically polymerizable organosilicon compound (2-1) Comparison of photocationic polymerization rate Organosilicon compound A-1 having an oxetanyl group and an alkoxy group obtained in Example 1, and comparison The tackifying energy (TFE) of the organosilicon compound B-1 having an epoxy group and an alkoxy group obtained in Example 1 was measured. For the measurement, a conveyor-type UV irradiation device (manufactured by i-Graphics Co., Ltd., model name "Power supply for ultraviolet curing of eye") was used. The measurement results are shown in Table 1 below. Here, the unit “mJ /
"cm < 2 >" represents the minimum energy required for curing per square centimeter. That is, the smaller the value, the higher the photocurability.
【0047】[0047]
【表1】 [Table 1]
【0048】表1から判るように、オキセタニル基をも
つ有機ケイ素化合物A−1は、エポキシ基をもつ有機ケ
イ素化合物B−1に比べて光硬化性が著しく高い。As can be seen from Table 1, the organosilicon compound A-1 having an oxetanyl group has significantly higher photocurability than the organosilicon compound B-1 having an epoxy group.
【0049】(2−2)密着性及び硬度の評価 オキセタニル基及びアルコキシ基をもつ有機ケイ素化合
物A−1、及び、オキセタニル基をもつがアルコキシ基
をもたない有機ケイ素化合物C−1について、基材との
密着性を評価した。尚、この有機ケイ素化合物C−1
は、PtCl2(C6H5CN)2に代えてロジウム触媒を
用いるとともに溶媒としてトルエンを使用し、その他の
点については比較例2の方法により製造したものであ
る。この有機ケイ素化合物C−1の構造を下記式(IX)
に示す。(2-2) Evaluation of Adhesion and Hardness For the organosilicon compound A-1 having an oxetanyl group and an alkoxy group, and the organosilicon compound C-1 having an oxetanyl group but having no alkoxy group, The adhesion to the material was evaluated. In addition, this organosilicon compound C-1
Was prepared by the method of Comparative Example 2 using a rhodium catalyst in place of PtCl 2 (C 6 H 5 CN) 2 and using toluene as a solvent. The structure of this organosilicon compound C-1 is represented by the following formula (IX)
Shown in
【0050】[0050]
【化14】 Embedded image
【0051】密着性の評価は以下の方法により行った。
即ち、下記表2に示す基材上に各化合物をバーコーター
により塗布し、以下の条件でUVを照射して硬化させ
た。この硬化膜について、JIS K 5400の「碁
盤目テープ法」により密着性を評価した。尚、評価は照
射による硬化直後の硬化膜、及び、硬化後50℃、湿度
90%の室内において5日間の湿気曝露を行った硬化膜
の双方について行った。 [UV照射条件] ランプ:80W/cm高圧水銀ランプ ランプ高さ:10cm コンベアスピード:10m/min 照射雰囲気:大気中 パス回数:5回 開始剤:ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサ
フルオロアンチモネート(2.5wt%使用)The adhesion was evaluated by the following method.
That is, each compound was applied on a base material shown in Table 2 below using a bar coater, and cured by irradiating UV under the following conditions. The cured film was evaluated for adhesion by the JIS K 5400 “cross-cut tape method”. The evaluation was performed on both the cured film immediately after curing by irradiation and the cured film exposed to moisture for 5 days in a room at 50 ° C. and 90% humidity after curing. [UV irradiation conditions] Lamp: 80 W / cm high-pressure mercury lamp Lamp height: 10 cm Conveyor speed: 10 m / min Irradiation atmosphere: in the atmosphere Pass number: 5 times Initiator: bis (dodecylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate (2. (Use 5wt%)
【0052】また、上記硬化直後及び湿気曝露後の硬化
膜について、JIS K 5400に準じて表面の鉛筆
硬度を測定した。これらの測定結果を下記表2に示す。The pencil hardness of the surface of the cured film immediately after curing and after exposure to moisture was measured according to JIS K5400. The results of these measurements are shown in Table 2 below.
【0053】[0053]
【表2】 [Table 2]
【0054】表2から判るように、本発明の有機ケイ素
化合物A−1は、硬化直後においても各種基材に対する
密着性が良好であり、特に鉄及びガラスに対する密着性
では比較例の有機ケイ素化合物C−1に比べて明らかに
優れている。これは、塗布後又は光カチオン重合時等
に、化合物A−1の有するアルコキシ基の少なくとも一
部が基材表面の水酸基と反応する等の理由によると考え
られる。また、湿気曝露による物性の変化をみると、ア
ルコキシ基をもつA−1は湿気曝露により密着性及び硬
度がいずれも向上しているが、アルコキシ基をもたない
C−1ではあまり変化していないことが判る。As can be seen from Table 2, the organosilicon compound A-1 of the present invention has good adhesion to various substrates immediately after curing. It is clearly superior to C-1. It is considered that this is because at least a part of the alkoxy group of the compound A-1 reacts with the hydroxyl group on the surface of the base material after coating or at the time of photocation polymerization. In addition, when looking at changes in physical properties due to moisture exposure, A-1 having an alkoxy group has improved both adhesion and hardness by moisture exposure, but C-1 having no alkoxy group has changed little. It turns out that there is no.
【0055】尚、本発明においては、前記具体的実施例
に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範
囲内で種々変更した実施例とすることができる。The present invention is not limited to the above-described specific embodiments, but may be variously modified within the scope of the present invention depending on the purpose and application.
【0056】[0056]
【発明の効果】本発明の光カチオン重合性有機ケイ素化
合物は、光カチオン重合速度の大きいオキセタニル基を
有するので、エポキシド型のモノマーに比べて光カチオ
ン重合性に優れる。また、オキセタニル基に加えてアル
コキシ基を有するので、硬化前及び/又は硬化後におい
て、上記アルコキシ基と基材又は基材表面の水酸基等と
を反応させて密着性を向上させたり、或いは上記アルコ
キシ基同士を縮合させて硬化膜の硬度を向上させたりす
ることができる。更に、このアルコキシ基を利用して化
合物又はその硬化物に他の官能基を導入したり、或いは
アルコキシ基の加水分解により硬化膜に水酸基を導入し
て親水性を付与することも可能である。更に、本発明の
有機ケイ素化合物は、本発明の製造方法により、安価な
原料及び触媒を用いて容易に製造可能である。The photocationically polymerizable organosilicon compound of the present invention has an oxetanyl group having a high photocationic polymerization rate, and is therefore superior in photocationic polymerizability to epoxide type monomers. In addition, since it has an alkoxy group in addition to the oxetanyl group, before and / or after curing, the alkoxy group reacts with a hydroxyl group or the like on the substrate or the substrate surface to improve adhesion, or The groups can be condensed to improve the hardness of the cured film. Furthermore, it is also possible to introduce another functional group into the compound or its cured product by utilizing this alkoxy group, or to introduce a hydroxyl group into the cured film by hydrolysis of the alkoxy group to impart hydrophilicity. Furthermore, the organosilicon compound of the present invention can be easily produced by the production method of the present invention using inexpensive raw materials and catalysts.
【図1】実施例1により製造された、本発明の光カチオ
ン重合性有機ケイ素化合物のIRチャートである。FIG. 1 is an IR chart of a photocationically polymerizable organosilicon compound of the present invention produced according to Example 1.
【図2】実施例1により製造された、本発明の光カチオ
ン重合性有機ケイ素化合物のNMRチャートである。FIG. 2 is an NMR chart of the photocationically polymerizable organosilicon compound of the present invention produced according to Example 1.
Claims (3)
ことを特徴とする光カチオン重合性有機ケイ素化合物。 【化1】 (但し、R0はオキセタニル基をもつ有機官能基であ
り、R1、R2及びR3はいずれもアルキル基、シクロア
ルキル基又はアリール基であり、nは1〜10,000
の正数である。)1. A photocationically polymerizable organosilicon compound represented by the following structural formula (I). Embedded image (However, R 0 is an organic functional group having an oxetanyl group, R 1 , R 2 and R 3 are all alkyl groups, cycloalkyl groups or aryl groups, and n is 1 to 10,000.
Is a positive number. )
れる有機官能基である、請求項1記載の光カチオン重合
性有機ケイ素化合物。 【化2】 (但し、R4は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基
であり、R5は炭素数2〜6のアルキレン基である。)2. The cationic photopolymerizable organosilicon compound according to claim 1, wherein R 0 is an organic functional group represented by the following structural formula (II). Embedded image (However, R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 5 is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.)
ポリシロキサンとアルケニル末端をもつオキセタン化合
物とを付加反応させることを特徴とする、請求項1又は
2記載の光カチオン重合性有機ケイ素化合物の製造方
法。 【化3】 (但し、R1、R2及びR3はいずれもアルキル基、シク
ロアルキル基又はアリール基であり、nは1〜10,0
00の正数である。)3. The cationic photopolymerizable organic compound according to claim 1, wherein an addition reaction is carried out between the polysiloxane represented by the following structural formula (III) and an oxetane compound having an alkenyl terminal. A method for producing a silicon compound. Embedded image (However, R 1 , R 2 and R 3 are all alkyl groups, cycloalkyl groups or aryl groups, and n is 1 to 10,0
00 is a positive number. )
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