JPH08127657A - Production of cured diphenylsiloxane and cured product - Google Patents

Production of cured diphenylsiloxane and cured product

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JPH08127657A
JPH08127657A JP6267395A JP26739594A JPH08127657A JP H08127657 A JPH08127657 A JP H08127657A JP 6267395 A JP6267395 A JP 6267395A JP 26739594 A JP26739594 A JP 26739594A JP H08127657 A JPH08127657 A JP H08127657A
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JP
Japan
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group
diphenylsiloxane
groups
reaction
cured product
Prior art date
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Pending
Application number
JP6267395A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Robaato Haakunesu Buraian
ブライアン・ロバート・ハークネス
Kasumi Takeuchi
香須美 竹内
Tetsuyuki Michino
哲行 道野
Mamoru Tachikawa
守 立川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DuPont Toray Specialty Materials KK
Original Assignee
Dow Corning Asia Ltd
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Publication date
Application filed by Dow Corning Asia Ltd filed Critical Dow Corning Asia Ltd
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Abstract

PURPOSE: To obtain a diphenylsiloxane cured product useful as a siloxane-based material having improved processability while keeping the thermal stability, rigidity, electrical characteristics, etc., of the base resin by curing a diphenylsiloxane oligomer having both terminals terminated with specific functional groups. CONSTITUTION: A diphenylsiloxane oligomer of the formula [at least one of R<1> to R<3> and at least one of R<6> to R<8> are each H or a 2-10C (un)saturated hydrocarbon group (excluding phenyl and alkyl-substituted phenyl) and the remaining R<1> to R<3> and R<6> to R<8> groups are each methyl, phenyl, etc.; R<4> , R<5> , R<9> and R<10> are each an organic group; R<4> and R<5> or R<9> and R<10> are not phenyl at the same time; (m) is 1-50; (k) and (n) are each 0-3] is cured in the presence of a catalyst for curing, in the presence of a polymerization initiator or a polymerization catalyst or in the absence of a curing catalyst and polymerization initiator under heating or irradiation with light. Concretely, a hexaphenyltrisiloxane having both terminals terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl groups is heated at 300 deg.C for 2min to effect the curing of the siloxane by polymerization reaction.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はジフェニルシロキサンを
主成分とする硬化物、およびその製造方法に関する。本
発明における硬化性合成樹脂組成物は、例えば50℃か
ら500℃の間の温度での加熱、あるいは、300℃以
下の温度での紫外線照射により高い耐熱性、高い透明
性、一定値以上の臨界表面張力を有する硬化物を形成す
ることができる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cured product containing diphenylsiloxane as a main component and a method for producing the same. The curable synthetic resin composition of the present invention has high heat resistance, high transparency, and a critical value of a certain value or more when heated at a temperature between 50 ° C. and 500 ° C. or irradiated with ultraviolet rays at a temperature of 300 ° C. or lower. A cured product having surface tension can be formed.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリジフェニルシロキサンは優れた熱安
定性を有する白色の結晶性のポリマーであり、室温での
曲げ弾性率は4.4GPa という高い値を有する。ジフェ
ニルシロキサンホモポリマーはまた低い吸湿特性、高い
絶縁性、低い誘電率等、優れた電気特性を有するポリマ
ーである。
2. Description of the Related Art Polydiphenylsiloxane is a white crystalline polymer having excellent thermal stability and has a high flexural modulus of 4.4 GPa at room temperature. Diphenyl siloxane homopolymer is also a polymer having excellent electrical properties such as low hygroscopicity, high insulation and low dielectric constant.

【0003】しかしながら、ジフェニルシロキサンホモ
ポリマーは重合度が約50を超えるものでは溶解性が極
端に低下し、高温に加熱したジフェニルエーテル、ター
フェニル、ジクロロベンゼンのような溶媒中に少量溶け
るのみであり、溶液からのキャステイングによる成型は
事実上不可能である。
However, when the degree of polymerization of diphenylsiloxane homopolymer exceeds about 50, the solubility thereof is extremely lowered, and only a small amount is dissolved in a solvent such as diphenyl ether, terphenyl or dichlorobenzene heated to a high temperature. Casting from solution is virtually impossible.

【0004】このポリマーは260℃以下の温度では、
結晶性が高く、脆いため成型性に欠ける。260℃付近
で結晶相から中間相に移行するが該中間相も流動性に乏
しく500℃付近にある融点以上の温度では流動性を示
すが同時にまたポリマーの熱分解も開始するため、事実
上、成型加工が可能な温度領域は存在しない。以上に述
べたように、ポリジフェニルシロキサンホモポリマーは
加工性において極端に実用性の乏しい材料である。
At temperatures below 260 ° C. this polymer is
Since it has high crystallinity and is brittle, it lacks moldability. At about 260 ° C, the crystalline phase transitions to the intermediate phase, but the intermediate phase also has poor fluidity and exhibits fluidity at a temperature above the melting point at about 500 ° C, but at the same time, thermal decomposition of the polymer also starts, There is no temperature range in which molding can be performed. As described above, the polydiphenylsiloxane homopolymer is a material having extremely poor workability in terms of processability.

【0005】ポリジフェニルシロキサンホモポリマーは
高弾性率を有する材料であるが、強度は極端に低く、構
造材料としては不適当である。また、高い結晶性のため
白濁しており、光透過性に乏しい。以上のように、ジフ
ェニルシロキサンホモポリマーは、加工性、機械物性、
光特性のいずれにおいても、実用性の乏しい材料であ
る。
Polydiphenylsiloxane homopolymer is a material having a high elastic modulus, but its strength is extremely low and it is unsuitable as a structural material. In addition, it is cloudy due to its high crystallinity, and has poor light transmittance. As described above, the diphenylsiloxane homopolymer has good processability, mechanical properties,
It is a material with poor practicability in any of its optical characteristics.

【0006】より一般的なシロキサン系材料としては、
ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサ
ン、ジメチルシロキサン−ジフェニルシロキサンコポリ
マー、ジメチルシロキサン−メチルフェニルシロキサン
コポリマー等があるが、本質的に低いガラス転移温度を
もつこれらのポリマーは、常温あるいは高温で柔らか
く、ゴム挙動を呈する。また、ケイ素に結合したメチル
基はケイ基に結合したフェニル基より熱安定性が低く、
故に、高温での使用に問題がある。これらのシロキサン
のもうひとつの欠点は揮発性の副生物の生成であり、原
料製造中あるいは硬化反応中に生じる3量体、4量体等
の環状オリゴマーが揮発性を有し、接点での絶縁を起こ
す等、特に、高温での電気材料用途には問題がある。
As a more general siloxane material,
There are polydimethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, dimethylsiloxane-diphenylsiloxane copolymer, dimethylsiloxane-methylphenylsiloxane copolymer, etc., but these polymers having an essentially low glass transition temperature are soft at room temperature or high temperature and have a rubber behavior. Present. Also, the methyl group bonded to silicon has lower thermal stability than the phenyl group bonded to the silicic group,
Therefore, there is a problem in use at high temperature. Another drawback of these siloxanes is the formation of volatile by-products, and cyclic oligomers such as trimers, tetramers, etc., which are produced during the production of raw materials or during the curing reaction, have volatility, resulting in insulation at contacts. In particular, there is a problem in electric material applications at high temperatures.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ポリジフェニルシロキ
サンは熱安定性、ならびに電気特性等に優れた性質を持
つポリマーである。しかし、上述のごとく、このポリジ
フェニルシロキサンのホモポリマーは溶解性および融解
特性そして中間相状態での流れ性で代表される加工性が
非常に悪く、また、高い結晶性に起因する脆性および低
い光透過性等に問題がある。ゆえに、本ポリマーの長
所、すなわち、熱安定性、剛性、電気特性等、を保持し
つつ、加工性を付与することにより工業的に有用な材料
を提供することが本発明の課題である。
Polydiphenylsiloxane is a polymer having excellent properties such as thermal stability and electrical properties. However, as described above, the homopolymer of this polydiphenylsiloxane has very poor processability represented by solubility and melting characteristics and flowability in the mesophase state, and also has brittleness and low light due to high crystallinity. There is a problem with transparency. Therefore, it is an object of the present invention to provide an industrially useful material by imparting processability while maintaining the advantages of the present polymer, that is, thermal stability, rigidity, electrical characteristics, and the like.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ポリジフ
ェニルシロキサンのオリゴマーならびにホモポリマーに
関する研究を行ない本発明の基礎となる以下の事実を見
いだした。即ち、該ポリマーの重合度nが約50以下の
場合、ポリマーの重合度とその融点とのあいだには図1
に示される関係が成り立ち、従って重合度nを適度に選
ぶことによりそのポリマーの融点を常温から500℃の
間で選ぶことが可能となった。融点以上の温度では、重
合度nが約50以下の場合、これらのポリマーはよい流
動性を示すことも見いだしている。上述のようにジフェ
ニルシロキサンは非常に高い耐熱性を有するため、50
0℃付近の温度での加工に十分耐える。
The present inventors have conducted research on oligomers and homopolymers of polydiphenylsiloxane and found the following facts which are the basis of the present invention. That is, when the degree of polymerization n of the polymer is about 50 or less, the relationship between the degree of polymerization of the polymer and its melting point is shown in FIG.
Therefore, the melting point of the polymer can be selected from room temperature to 500 ° C. by appropriately selecting the degree of polymerization n. It has also been found that at temperatures above the melting point, these polymers exhibit good flowability when the degree of polymerization n is below about 50. As mentioned above, diphenylsiloxane has very high heat resistance,
Sufficiently withstands processing at temperatures near 0 ° C.

【0009】また、重合度nは本ポリマーの有機溶媒中
への溶解度とも一定の相関を有し、末端基の影響は無視
できないものの、nが3から6程度のポリマーは常温で
ほとんどの有機溶媒に可溶であり、nが7前後から11
位のオリゴマーは常温においてテトラヒドロフラン、ク
ロロホルム、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒に可溶
であり、多少の加熱によりベンゼン、トルエン等の芳香
族有機化合物にも溶解する。重合度が12から18程度
になると、熱トルエン、熱キシレンあるいは温テトラヒ
ドロフラン、温クロロフォルム、温N−メチルピロリド
ンのような溶媒を必要とする。これ以上の重合度を有す
る該ポリマーは一般の有機溶媒にはほとんど不溶となる
が重合度50程度までは極性の高沸点有機溶媒、たとえ
ばフェニルエーテル、オルトーターフェニル、N,N−
ジメチルホルムアミド等に150℃以上の高温で溶解可
能である。
Further, the degree of polymerization n has a certain correlation with the solubility of the present polymer in an organic solvent, and although the influence of the terminal group cannot be ignored, a polymer having n of about 3 to 6 can be used in most organic solvents at room temperature. Soluble in n, from about 7 to 11
The oligomer at the position is soluble in a polar solvent such as tetrahydrofuran, chloroform, dimethylsulfoxide or the like at room temperature, and is also dissolved in an aromatic organic compound such as benzene or toluene by some heating. When the degree of polymerization is about 12 to 18, a solvent such as hot toluene, hot xylene or hot tetrahydrofuran, hot chloroform, hot N-methylpyrrolidone is required. The polymer having a degree of polymerization higher than this is almost insoluble in a general organic solvent, but up to a degree of polymerization of about 50, a polar high boiling point organic solvent such as phenyl ether, orthotorphenyl, N, N-.
It can be dissolved in dimethylformamide, etc. at a high temperature of 150 ° C or higher.

【0010】本発明者らはまた、重合度が約50以下の
ポリジフェニルシロキサン(以後この種のポリジフェニ
ルシロキサンをジフェニルシロキサンオリゴマーと呼
ぶ)の両末端に反応性の官能基を導入する合成技術を開
発し(日本特許出願番号 特願平6−52009および
同6−52010)、両末端に反応性官能基を有するこ
れらのジフェニルシロキサンオリゴマーも基本的には上
記のジフェニルシロキサンと同様の融解及び溶解挙動を
示すことを確認した。
The present inventors have also proposed a synthetic technique in which a reactive functional group is introduced into both ends of a polydiphenylsiloxane having a degree of polymerization of about 50 or less (hereinafter, this type of polydiphenylsiloxane is referred to as a diphenylsiloxane oligomer). Developed (Japanese Patent Application No. 6-52009 and 6-52010), these diphenylsiloxane oligomers having reactive functional groups at both ends are basically similar in melting and dissolution behavior to the above diphenylsiloxane. Was confirmed.

【0011】前記両末端に反応性官能基を有するジフェ
ニルシロキサンオリゴマーは次のようにして製造でき
る。即ちジフェニルシロキサンの環状三量体(ヘキサフ
ェニルシクロトリシロキサン)をR111213Si(O
1415Si)s - Li+ (式中R11,R12,R13
14,R15の内の少なくとも1つの置換基は水素原子又
は炭素原子数2〜10の飽和もしくは不飽和の炭化水素
基(但しフェニル基及び炭素原子数7〜10のアルキル
置換フェニル基を除く)を表わし、残りはメチル基、フ
ェニル基又は炭素原子数7〜10のアルキル置換フェニ
ル基であり、R11,R12,R13の内2つが共同して環状
の炭化水素を形成していてもよく、0≦s≦3である)
で示されるリチウムシラノレートを開始剤とする開環反
応により重合し、このようにして生じた新たなリチウム
シラノレートをR161718Si(OR1920Si)t
X(式中R16,R17,R18,R19,R20はR11〜R15
同じように定義され、0≦t≦3であり、Xは塩素、臭
素、ヨウ素から選ばれるハロゲン基、又はアセトキシ
基、プロピオキシ基に代表されるアシロキシ基を表わ
す。)で示されるケイ素化合物で末端停止反応を行な
う。
The diphenylsiloxane oligomer having reactive functional groups at both ends can be produced as follows. That is, a cyclic trimer of diphenylsiloxane (hexaphenylcyclotrisiloxane) is converted into R 11 R 12 R 13 Si (O
R 14 R 15 Si) s O - Li + ( wherein R 11, R 12, R 13 ,
At least one substituent of R 14 and R 15 is a hydrogen atom or a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms (excluding phenyl group and alkyl-substituted phenyl group having 7 to 10 carbon atoms). And the remainder is a methyl group, a phenyl group or an alkyl-substituted phenyl group having 7 to 10 carbon atoms, and two of R 11 , R 12 and R 13 jointly form a cyclic hydrocarbon. Also, 0 ≦ s ≦ 3)
Is polymerized by a ring-opening reaction using lithium silanolate as an initiator, and new lithium silanolate thus produced is converted into R 16 R 17 R 18 Si (OR 19 R 20 Si) t
X (wherein R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , and R 20 are defined in the same manner as R 11 to R 15 and 0 ≦ t ≦ 3, and X is a halogen selected from chlorine, bromine, and iodine. Group, or an acyloxy group represented by an acetoxy group and a propoxy group.

【0012】本発明者らはさらに、上記の融解及び溶解
挙動の調査を、酸素、窒素、イオウ等のヘテロ原子を一
部に有するより多様な官能基を有するポリジフェニルシ
ロキサンにまで拡張し、ジフェニルシロキサンオリゴマ
ーの優れた加工性と上記官能基の反応性に関する研究を
行ない、ジフェニルシロキサンを主成分とする硬化物を
与える組成物に関する発明を完成した。
The present inventors have further extended the above-mentioned investigation of melting and dissolution behavior to polydiphenylsiloxane having more diverse functional groups partially having hetero atoms such as oxygen, nitrogen, and sulfur to obtain diphenyl By researching the excellent processability of the siloxane oligomer and the reactivity of the above functional groups, the invention relating to a composition which gives a cured product containing diphenylsiloxane as a main component was completed.

【0013】前記両末端に酸素、窒素、イオウ等のヘテ
ロ原子を一部に有する反応性官能基を有するジフェニル
シロキサンオリゴマーは次のようにして製造できる。即
ち、第一の方法としてはヒドロシリル化反応により、官
能性オレフィンあるいは官能性アセチレンを、両末端の
一部にSiH基を有するジフェニルシロキサンオリゴマ
ーに導入するものであり、具体的には官能性オレフィン
あるいは官能性アセチレンとしてはアリルグリシジルエ
ーテル、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、
アリルアミン、N−メチルアリルアミン、N−トリメチ
ルシリルアリルアミン、塩化アリル、塩化イソブテニ
ル、プロパルギルメタクリレート、プロパルギルアクリ
レート等を挙げることができる。両末端の一部にSiH
基を有するジフェニルシロキサンオリゴマーとしては、
1,1,3,3,5,5−ヘキサフェニルトリシロキサ
ン、1,1,3,3,5,5,7,7,9,9−デカフ
ェニルペンタシロキサン、1,3,3,5,5,7,
7,9−オクタフェニルペンタシロキサン等によって代
表されるフェニル基およびSi−H基からのみなるジフ
ェニルシロキサンオリゴマー、1,1,9,9−テトラ
メチル−3,3,5,5,7,7−ヘキサフェニルペン
タシロキサン、1,1,13,13−テトラメチル−
3,3,5,5,7,7,9,9,11,11−デカフ
ェニルヘプタシロキサン等によって代表されるジメチル
ハイドロジェンシロキシ基とフェニル基を置換基として
持つジフェニルシロキサンオリゴマー、1,9−ジエチ
ル−1,3,3,5,5,7,7,9−オクタフェニル
ペンタシロキサンの如くSiH、フェニル基以外の官能
基を有するジフェニルシロキサンオリゴマーを例示する
ことができる。本方法のヒドロシリル化反応を行なうに
は上記の原料に、白金化合物、ロジウム化合物、ニッケ
ル化合物等に代表されるヒドロシリル化反応触媒を添加
し、これを行なうことができる。
The diphenylsiloxane oligomer having a reactive functional group partially having a hetero atom such as oxygen, nitrogen and sulfur at both ends can be produced as follows. That is, the first method is to introduce a functional olefin or a functional acetylene into a diphenylsiloxane oligomer having a SiH group at a part of both ends by hydrosilylation reaction. As functional acetylene, allyl glycidyl ether, allyl methacrylate, allyl acrylate,
Examples include allylamine, N-methylallylamine, N-trimethylsilylallylamine, allyl chloride, isobutenyl chloride, propargyl methacrylate, propargyl acrylate and the like. SiH on a part of both ends
As the diphenylsiloxane oligomer having a group,
1,1,3,3,5,5-hexaphenyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-decaphenylpentasiloxane, 1,3,3,5,5 5, 7,
Diphenylsiloxane oligomers consisting only of phenyl groups and Si-H groups, represented by 7,9-octaphenylpentasiloxane, 1,1,9,9-tetramethyl-3,3,5,5,7,7- Hexaphenylpentasiloxane, 1,1,13,13-tetramethyl-
3,3,5,5,7,7,9,9,11,11-decaphenylheptasiloxane, a diphenylsiloxane oligomer having a phenyl group as a substituent and a dimethylhydrogensiloxy group, 1,9- Diphenylsiloxane oligomers having functional groups other than SiH and phenyl groups such as diethyl-1,3,3,5,5,7,7,9-octaphenylpentasiloxane can be exemplified. In order to carry out the hydrosilylation reaction of the present method, a hydrosilylation reaction catalyst represented by a platinum compound, a rhodium compound, a nickel compound and the like can be added to the above raw materials and this can be carried out.

【0014】第二の方法としては両末端シラノール官能
性ジフェニルシロキサンオリゴマーに特定の環状ケイ素
化合物を作用させる方法をあげることができ、この場合
該ジフェニルシロキサンオリゴマーとしては、1,1,
3,3,5,5−ヘキサフェニルトリシロキサン−1,
5−ジオール、1,1,3,3,5,5,7,7,9,
9−デカフェニルペンタシロキサン−1,9−ジオール
等のオリゴマーを例示でき、前記環状ケイ素化合物とし
ては1,2,2,4−テトラメチル−1−アザ−2−シ
ラシクロペンタン、1−フェニル−2,2,3−トリメ
チル−1−アザ−2−シラシクロブタンに代表されるア
ミノアルキル基を導入しうるもの、1−イソプロペニル
−2,2−ジメチル−1−アザ−2−シラシクロペンタ
ンに代表されるアミド修飾アルキル基を導入しうるも
の、2,2−ジメチル−1−オキサ−2−シラシクロペ
ンタン、2,2−ジメチル−1−チア−2−シラシクロ
ペンタン、2,2,4−トリメチル−5−オキソ−1−
オキサ−2−シラシクロペンタン等、それぞれヒドロキ
シアルキル基、メルカプトアルキル基、カルボキシアル
キル基を導入することができるものを挙げることができ
る。この方法では前記ジフェニルシロキサンオリゴマー
と上記の環状ケイ素化合物を接触させること、あるいは
少量の酸または塩基触媒の存在下に接触させることによ
り反応性官能基を有するジフェニルシロキサンオリゴマ
ーを製造することができる。
As a second method, there can be mentioned a method in which a specific cyclic silicon compound is allowed to act on a silanol functional diphenylsiloxane oligomer having both terminals. In this case, the diphenylsiloxane oligomer is 1,1,1.
3,3,5,5-hexaphenyltrisiloxane-1,
5-diol, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,
An oligomer such as 9-decaphenylpentasiloxane-1,9-diol can be exemplified, and the cyclic silicon compound is 1,2,2,4-tetramethyl-1-aza-2-silacyclopentane, 1-phenyl- Into 1-isopropenyl-2,2-dimethyl-1-aza-2-silacyclopentane, which can introduce an aminoalkyl group represented by 2,2,3-trimethyl-1-aza-2-silacyclobutane, Representative ones capable of introducing an amide-modified alkyl group, 2,2-dimethyl-1-oxa-2-silacyclopentane, 2,2-dimethyl-1-thia-2-silacyclopentane, 2,2,4 -Trimethyl-5-oxo-1-
Examples thereof include oxa-2-silacyclopentane and the like, into which a hydroxyalkyl group, a mercaptoalkyl group and a carboxyalkyl group can be introduced, respectively. In this method, a diphenylsiloxane oligomer having a reactive functional group can be produced by bringing the diphenylsiloxane oligomer into contact with the above cyclic silicon compound or in the presence of a small amount of an acid or base catalyst.

【0015】第三の方法は第二の方法と同様に両末端シ
ラノール官能性ジフェニルシロキサンオリゴマーに反応
性官能基を有するシラン化合物を作用させるもので該シ
ラン化合物は置換基として前記反応性官能基、例えば3
−アミノプロピル基、3−(メタクリロキシ)プロピル
基、3−(グリシドキシ)プロピル基等の官能基性アル
キル基の他にクロロ、アセトキシ基、メトキシ基の如き
の反応性置換基を有するものである。具体的には3−
(メタクリロキシ)プロピルジメチルクロロシラン、3
−(グリシドキシ)プロピルジメチルメトキシシラン等
を挙げることができる。
In the third method, a silane compound having a reactive functional group is allowed to act on a silanol functional diphenylsiloxane oligomer having terminals at both ends, as in the second method. Eg 3
In addition to functional alkyl groups such as aminopropyl group, 3- (methacryloxy) propyl group and 3- (glycidoxy) propyl group, it has reactive substituents such as chloro, acetoxy group and methoxy group. Specifically 3-
(Methacryloxy) propyldimethylchlorosilane, 3
Examples thereof include- (glycidoxy) propyldimethylmethoxysilane.

【0016】第四の方法は既存の反応性官能基を有する
ジフェニルシロキサンオリゴマーの反応によって新たな
反応性官能基を有するオリゴマーを製造する方法であ
り、クロロプロピル基を有するジフェニルシロキサンオ
リゴマーとアルキルアミンの反応による3−(N−アル
キルアミノ)プロピル基を有するオリゴマーの製造、ア
ミノプロピル基を有するジフェニルシロキサンオリゴマ
ーと塩化アシルとの反応によるアミドグループを有する
オリゴマーの製造、N−メチルアミノプロピル基を有す
るジフェニルシロキサンオリゴマーとアクリレート化合
物とのマイケル付加反応によるエステルグループを有す
るオリゴマーの製造方法を例示することができる。
The fourth method is a method of producing an oligomer having a new reactive functional group by reacting an existing diphenylsiloxane oligomer having a reactive functional group, which comprises a diphenylsiloxane oligomer having a chloropropyl group and an alkylamine. Production of oligomer having 3- (N-alkylamino) propyl group by reaction, production of oligomer having amide group by reaction of diphenylsiloxane oligomer having aminopropyl group and acyl chloride, diphenyl having N-methylaminopropyl group A method for producing an oligomer having an ester group by a Michael addition reaction between a siloxane oligomer and an acrylate compound can be exemplified.

【0017】本発明は下記式(1)で示されるジフェニ
ルシロキサンオリゴマーを、下記(i),(ii)及び
(iii )から選ばれる条件下で加熱又は光照射により硬
化反応を生じさせる、ジフェニルシロキサン硬化物の製
造方法である。
The present invention is a diphenylsiloxane which causes a curing reaction of a diphenylsiloxane oligomer represented by the following formula (1) by heating or light irradiation under conditions selected from the following (i), (ii) and (iii). It is a method for producing a cured product.

【0018】[0018]

【化2】 Embedded image

【0019】(式中、R1 ,R2 ,R3 の内の少なくと
も1つの置換基及びR6 ,R7 ,R8の内の少なくとも
1つの置換基は、水素原子又は炭素原子数2〜10の飽
和もしくは不飽和の炭化水素基で窒素、酸素、硫黄及び
ケイ素から選ばれるヘテロ原子を含んでいてもよいもの
であり(但し、フェニル基及びアルキル置換フェニル基
を除く)、また、R1 ,R2 及びR3 の内2つが共同し
て環状の炭化水素を形成していてもよく、R6 ,R7
びR8 についてもR1 ,R2 ,R3 と同様であり、
1 ,R2 ,R3 ,R6 ,R7 ,R8 の内の残りの基
は、もしあれば、メチル基、フェニル基又は炭素原子数
7〜10のアルキル置換フェニル基であり;R4とR5
は有機基であり、同時にフェニル基になることはなく、
9 とR10は有機基であり、同時にフェニル基になるこ
とはなく;1≦m≦50であり;kとnは独立に、0≦
k≦3,0≦n≦3である) (i)硬化用触媒の存在下、(ii)重合用開始剤または
重合触媒の存在下、(iii )硬化用触媒及び重合用開始
剤の不存在下。
(In the formula, at least one substituent of R 1 , R 2 and R 3 and at least one substituent of R 6 , R 7 and R 8 is a hydrogen atom or a carbon atom of 2 to 2). 10 saturated or unsaturated hydrocarbon groups which may contain a hetero atom selected from nitrogen, oxygen, sulfur and silicon (excluding phenyl group and alkyl-substituted phenyl group), and R 1 , R 2 and R 3 may together form a cyclic hydrocarbon, and R 6 , R 7 and R 8 are the same as R 1 , R 2 and R 3 ,
The remaining groups of R 1 , R 2 , R 3 , R 6 , R 7 , and R 8 , if any, are methyl groups, phenyl groups, or alkyl-substituted phenyl groups having 7 to 10 carbon atoms; 4 and R 5
Is an organic group and does not become a phenyl group at the same time,
R 9 and R 10 are organic groups and cannot be phenyl groups at the same time; 1 ≦ m ≦ 50; k and n are independently 0 ≦
k ≦ 3, 0 ≦ n ≦ 3) (i) In the presence of a curing catalyst, (ii) In the presence of a polymerization initiator or a polymerization catalyst, (iii) In the absence of a curing catalyst and a polymerization initiator. under.

【0020】本発明製造方法における硬化反応が重合反
応である場合はジフェニルシロキサンオリゴマーの置換
基の種類により大別して三通りの反応で硬化可能であ
る。まず第一に、式(1)で示されるジフェニルシロキ
サンオリゴマーにおいてR1 ,R2 ,R3 の内少なくと
も1つが重合反応性の不飽和基を有する有機基であり、
かつR6 ,R7 ,R8 の内の少なくとも1つが重合反応
性の不飽和基を有するものでありうる。この場合、R1
〜R3 及びR6 〜R8 の残りの基は、もしあれば、メチ
ル基、フェニル基又は炭素原子数7〜10のアルキル置
換フェニル基、例えばトリル基、キシリル基、エチルフ
ェニル基でありうる。
When the curing reaction in the production method of the present invention is a polymerization reaction, the diphenylsiloxane oligomer can be roughly divided into three types of curing depending on the type of the substituent. First, in the diphenylsiloxane oligomer represented by the formula (1), at least one of R 1 , R 2 , and R 3 is an organic group having a polymerization-reactive unsaturated group,
And at least one of R 6 , R 7 and R 8 may have a polymerizable reactive unsaturated group. In this case, R 1
The remaining groups to R 3 and R 6 to R 8, if any, methyl group, phenyl group or an alkyl-substituted phenyl group having 7 to 10 carbon atoms, for example tolyl group, xylyl group, can be a ethylphenyl .

【0021】前記重合反応性の不飽和基の例としては、
ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル
基、クロチル基、ヘキセニル基、オクテニル基等の炭素
数2以上のアルケニル基、エチニル基、プロピニル基、
プロパルギル基、ブチニル基、フェニルエチニル基に代
表されるアルキニル基、4−ビニルフェニル基、3−ビ
ニルフェニル基、4−ビニルベンジル基、3−ビニルベ
ンジル基、β−(4−ビニルフェニル)エチル基に代表
されるスチレン系置換基、アクリロイル、メタクリロイ
ル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ジアクリルア
ミド、ジメタクリルアミド等を挙げることができる。
Examples of the polymerization-reactive unsaturated group include:
Vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, crotyl group, hexenyl group, alkenyl group and other alkenyl groups having 2 or more carbon atoms, ethynyl group, propynyl group,
Propargyl group, butynyl group, alkynyl group represented by phenylethynyl group, 4-vinylphenyl group, 3-vinylphenyl group, 4-vinylbenzyl group, 3-vinylbenzyl group, β- (4-vinylphenyl) ethyl group Examples thereof include styrene-based substituents, acryloyl, methacryloyl, acrylamide, methacrylamide, diacrylamide, dimethacrylamide, and the like.

【0022】前記重合による化合物(1)の硬化は空気
中、不活性雰囲気中のいずれでも行なうことができ、つ
ぎの3つの方法から選ばれる方法を用いることができ
る。即ち、第一の方法は300℃以下の温度での紫外線
照射することである。第二の方法は重合開始剤を添加
し、20℃〜500℃の温度で重合することである。第
三の方法は重合開始剤を加えず、100℃〜500℃の
温度で加熱することである。第一の方法においては光重
合開始剤を添加するのが望ましく、該開始剤としてはベ
ンゾフェノン系およびベンゾイン系の化合物を例示する
ことができ、添加量は0.1から10重量%が適当であ
る。熱反応であるばあい、150℃から500℃の温度
域がより適当であり、重合開始剤あるいは重合触媒を用
いる場合、50〜500℃の温度域が最適である。重合
開始剤としてはアゾビスイソブチロニトリルに代表され
るアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシド、2,4−ジク
ロロベンゾイルパーオキシド、ジクミルパーオキシド等
の過酸化物を例示することができ、添加量は0.1から
5重量%が適当である。
The compound (1) can be cured by the polymerization in air or in an inert atmosphere, and a method selected from the following three methods can be used. That is, the first method is to irradiate ultraviolet rays at a temperature of 300 ° C. or lower. The second method is to add a polymerization initiator and polymerize at a temperature of 20 ° C to 500 ° C. The third method is to heat at a temperature of 100 ° C to 500 ° C without adding a polymerization initiator. In the first method, it is desirable to add a photopolymerization initiator, and examples of the initiator include benzophenone-based compounds and benzoin-based compounds, and the addition amount is appropriately 0.1 to 10% by weight. . In the case of a thermal reaction, a temperature range of 150 ° C to 500 ° C is more suitable, and when a polymerization initiator or a polymerization catalyst is used, a temperature range of 50 to 500 ° C is optimum. Examples of the polymerization initiator include azo compounds represented by azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, and peroxides such as dicumyl peroxide. 0.1 to 5% by weight is suitable.

【0023】第二に、式(1)で示されるジフェニルシ
ロキサンオリゴマーにおいてR1 ,R2 ,R3 の内少な
くとも2つの置換基が互につながってトリメチレン基あ
るいは置換トリメチレン基を形成し、従ってシラシクロ
ブタン構造を形成するものであり、R6 ,R7 ,R8
ついてもR1 ,R2 ,R3 と同様でありうる。この場
合、R1 〜R3 及びR6 〜R8 の内残りの基は、もしあ
れば、メチル基、フェニル基又は炭素原子数7〜10の
アルキル置換フェニル基、例えばトリル基、キシリル
基、エチルフェニル基でありうる。
Secondly, in the diphenylsiloxane oligomer represented by the formula (1), at least two substituents of R 1 , R 2 and R 3 are connected to each other to form a trimethylene group or a substituted trimethylene group, and thus sila. It forms a cyclobutane structure, and R 6 , R 7 and R 8 may be the same as R 1 , R 2 and R 3 . In this case, the remaining groups of R 1 to R 3 and R 6 to R 8 are methyl group, phenyl group or alkyl-substituted phenyl group having 7 to 10 carbon atoms, if any, such as tolyl group, xylyl group, It can be an ethylphenyl group.

【0024】このシラシクロブタン構造の官能基を有す
るものの架橋反応又は鎖延長反応には白金化合物および
ロジウム化合物から選ばれる触媒を用いることができ
る。添加量は0.1ppm から100ppm が適当である。
最適な反応温度および反応時間は相関があるが、短時間
に硬化物を得るには80℃以上300℃以下の温度で1
分から2時間の範囲で加熱するのが望ましい。
A catalyst selected from platinum compounds and rhodium compounds can be used in the crosslinking reaction or chain extension reaction of those having a functional group of silacyclobutane structure. The proper addition amount is 0.1 ppm to 100 ppm.
The optimum reaction temperature and reaction time are correlated, but in order to obtain a cured product in a short time, 1 at a temperature of 80 ° C or higher and 300 ° C or lower.
It is desirable to heat in the range from minutes to 2 hours.

【0025】第三に、式(1)で示されるジフェニルシ
ロキサンオリゴマーにおいて、R1,R2 ,R3 の内少
なくとも1つがエポキシ基を含むアルキル基、アルケニ
ル基又はアリール基であり、R6 ,R7 ,R8 の内少な
くとも1つがエポキシ基を含むアルキル基、アルケニル
基又はアリール基でありうる。この場合、R1 〜R3
びR6 〜R8 の内残りの基は、もしあれば、メチル基、
フェニル基又は炭素原子数7〜10のアルキル置換フェ
ニル基、例えばトリル基、キシリル基、エチルフェニル
基でありうる。
Thirdly, in the diphenylsiloxane oligomer represented by the formula (1), at least one of R 1 , R 2 and R 3 is an epoxy group-containing alkyl group, alkenyl group or aryl group, and R 6 , At least one of R 7 and R 8 may be an alkyl group containing an epoxy group, an alkenyl group, or an aryl group. In this case, the remaining groups among R 1 to R 3 and R 6 to R 8 are methyl groups, if any,
It may be a phenyl group or an alkyl-substituted phenyl group having 7 to 10 carbon atoms, such as a tolyl group, a xylyl group, an ethylphenyl group.

【0026】このエポキシ基を含むオリゴマーの重合に
はベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ト
リエチレンジアミン、ジアザシクロウンデセン等の3級
アミン、フッ化ホウ素のアミンコンプレックス、あるい
はHAs 6 のジフェニルヨードニウム塩を触媒として
用いることができる。添加量は1〜10重量%で、50
〜200℃の間の温度で0.1〜10時間加熱し硬化す
るのが望ましい。
For the polymerization of the epoxy group-containing oligomer, tertiary amines such as benzyldimethylamine, triethanolamine, triethylenediamine and diazacycloundecene, an amine complex of boron fluoride, or diphenyliodonium of HA s F 6 is used. Salts can be used as catalysts. Addition amount is 1 to 10% by weight, 50
It is desirable to heat and cure at a temperature between ˜200 ° C. for 0.1 to 10 hours.

【0027】本発明の製造方法における硬化反応が酸化
反応に基づくシロキサン形成反応である場合、式(1)
で示されるジフェニルシロキサンオリゴマーにおいて、
1,R2 ,R3 の内少なくとも1つが、水素原子、直
鎖状もしくは分岐状の飽和炭化水素基、アルケニル基、
アルキル基、アラルキル基及びR1 ,R2 ,R3 の内2
つの置換基が互に結合してトリメチレン基、テトラメチ
レン基、ペンタメチレン基から選ばれたるシラシクロ構
造を形成するものから選ばれる1種であり、R 6
7 ,R8 もR1 〜R3 と同様に定義されるものであり
うる。これらの基が上記酸化反応に関与しうる。この場
合R1 〜R3 ,R6 〜R8 の内残りの基は、もしあれ
ば、メチル基、フェニル基又は炭素原子数7〜10のア
ルキル置換フェニル基、例えばトリル基、キシリル基、
エチルフェニル基でありうる。
The curing reaction in the production method of the present invention is an oxidation.
In the case of a reaction-based siloxane formation reaction, the formula (1)
In the diphenyl siloxane oligomer represented by
R1, R2, R3At least one of them is a hydrogen atom,
Chain or branched saturated hydrocarbon group, alkenyl group,
Alkyl group, aralkyl group and R1, R2, R3Of 2
Two substituents are bonded to each other to form a trimethylene group, tetramethyl group.
Silacyclo structure selected from len group and pentamethylene group
R is a kind selected from those that form a structure. 6,
R7, R8Also R1~ R3Is defined in the same way as
sell. These groups may participate in the above oxidation reaction. This place
R1~ R3, R6~ R8If the rest of the groups are
For example, a methyl group, a phenyl group or an alkyl group having 7 to 10 carbon atoms.
Alkyl substituted phenyl group such as tolyl group, xylyl group,
It can be an ethylphenyl group.

【0028】前記酸化反応に基づくシロキサン形成反応
に関与しうる官能基の例としては、水素原子、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、
n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基に代
表される飽和のn−アルキル基;イソプロピル基、se
c−ブチル基、2−メチルプロピル基、t−ブチル基、
イソペンチル基、sec−ヘキシル基、2−エチルヘキ
シル基に代表される飽和の分岐アルキル基;ビニル基、
アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、クロチル
基、ヘキセニル基、オクテニル基等のアルケニル基、あ
るいはエチニル基、プロピニル基、プロパルギル基、ブ
チニル基、フェニルエチニル基に代表されるアルキニル
基、あるいはベンジル基、フェネチル基等のアラルキル
基、また、R1 ,R2 ,R3 のうち、またR6 ,R7
8 のうち、ふたつの置換基がトリメチレン基、テトラ
メチレン基、ペンタメチレン基のように互いにつながっ
てシラシクロ構造を形成するものが挙げられる。
Examples of the functional group capable of participating in the siloxane-forming reaction based on the above-mentioned oxidation reaction include a hydrogen atom, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group,
Saturated n-alkyl group represented by n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group; isopropyl group, se
c-butyl group, 2-methylpropyl group, t-butyl group,
A saturated branched alkyl group represented by isopentyl group, sec-hexyl group and 2-ethylhexyl group; vinyl group,
Allyl group, propenyl group, isopropenyl group, crotyl group, hexenyl group, alkenyl group such as octenyl group, or ethynyl group, propynyl group, propargyl group, butynyl group, alkynyl group represented by phenylethynyl group, or benzyl group, An aralkyl group such as a phenethyl group, and among R 1 , R 2 and R 3 , R 6 , R 7 and
Examples of R 8 include those in which two substituents are connected to each other to form a silacyclo structure, such as a trimethylene group, a tetramethylene group, and a pentamethylene group.

【0029】本発明において酸化反応によりシロキサン
結合を形成する官能基(易酸化性官能基)の選択及び架
橋反応条件(すなわち酸化反応条件)で重要なことは易
酸化性官能基が架橋反応条件下において、ケイ素に結合
したフェニル基と比較して容易に酸化されることであ
る。一般によく知られていることであるが、シリコーン
でケイ素に結合している炭化水素基の耐酸化安定性の順
序はフェニル基>>メチル基>ビニル基>他のアルキル
基であり(p.530,L.H.Brown,Trea
tise on coatings,vol.1,Pa
rt III ″Film−Forming Compos
itions″,Ed.R.R.Myers and
J.S.Long,Published by Mar
cel Dekker,Inc.,New York,
1972)置換基が上記の容易に酸化される官能基であ
る場合、該重合体分子を空気中、250℃以上の温度で
1秒から5時間加熱することによりケイ素−フェニル結
合を損なうことなく該官能基を酸化し、該共重合体の硬
化を図ることができる。最適な反応温度および反応時間
は相関があるが、短時間に硬化物を得るには300℃以
上450℃以下の温度で1分から2時間の範囲で加熱す
るのが望ましい。
In the present invention, what is important in the selection of the functional group that forms a siloxane bond by the oxidation reaction (easily oxidizable functional group) and the crosslinking reaction condition (that is, the oxidation reaction condition) is that the easily oxidizable functional group is under the crosslinking reaction condition. In, it is easily oxidized as compared with a phenyl group bonded to silicon. As is generally well known, the order of oxidation resistance stability of a hydrocarbon group bonded to silicon by silicone is phenyl group >> methyl group> vinyl group> other alkyl group (p.530). , L. H. Brown, Trea
Tise on coatings, vol. 1, Pa
rt III "Film-Forming Compos
editions ", Ed.RR Myers and
J. S. Long, Published by Mar
cel Dekker, Inc. , New York,
1972) When the substituent is a functional group which is easily oxidized as described above, the polymer molecule is heated in air at a temperature of 250 ° C. or higher for 1 second to 5 hours so that the silicon-phenyl bond is not damaged. The functional group can be oxidized to cure the copolymer. The optimum reaction temperature and reaction time are correlated, but it is desirable to heat at a temperature of 300 ° C. or higher and 450 ° C. or lower for 1 minute to 2 hours in order to obtain a cured product in a short time.

【0030】本発明製造方法における硬化反応は架橋剤
又は鎖延長剤を介する付加反応又は縮合反応であっても
よい。
The curing reaction in the production method of the present invention may be an addition reaction or a condensation reaction via a crosslinking agent or a chain extender.

【0031】本発明製造方法における硬化反応が一般式
(1)で示される重合体分子間の架橋を形成する付加反
応である場合、置換基の種類により大別して3通りの反
応により硬化可能である。第一は、R1 ,R2 ,R3
うちの少なくとも一つ、また、R6 ,R7 ,R8の内の
少なくとも1つがアルケニルあるいはアルキニル性の不
飽和炭化水素基であり、該重合体分子に、一分子中にケ
イ素に直接結合した水素原子(Si−H)を2個以上有
する化合物(架橋剤又は鎖延長剤)と付加反応の触媒を
加えることができる。前記R1 〜R3 及びR6 〜R8
残りの基はメチル基、フェニル基又は炭素原子数7〜1
0のアルキル置換フェニル基でありうる。一般式(1)
で表される重合体でR1 ,R2 ,R3 の少なくとも一つ
またR6 ,R7 ,R8 の内の少なくとも1つがアルケニ
ル基、あるいはアルキニル基であるものの例としては、
1,1,9,9−テトラアリル−1,9−ジメチル−
3,3,5,5,7,7−ヘキサフェニルペンタシロキ
サン、1,9−ジビニル−1,1,9,9−テトラメチ
ル−3,3,5,5,7,7−ヘキサフェニルペンタシ
ロキサン、1,5−ジビニル−1,1,3,3,5,5
−ヘキサフェニルトリシロキサン、1,9−ジ(ビニル
フェニル)−1,1,9,9−テトラメチル−3,3,
5,5,7,7−ヘキサフェニルペンタシロキサン等を
挙げることができる。架橋剤又は鎖延長剤としては1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,
7−テトラメチルシクロテトラシロキサンに代表される
メチルハイドロジェンシロキサン化合物のほかにジフェ
ニルシロキサンオリゴマーとして1,1,3,3,5,
5−ヘキサフェニルトリシロキサン、1,9−ジメチル
−3,3,5,5,7,7−ヘキサフェニルペンタシロ
キサンなどを挙げることができる。ここで上記鎖長剤は
前記式(1)の化合物であってもよい。
When the curing reaction in the production method of the present invention is an addition reaction for forming crosslinks between the polymer molecules represented by the general formula (1), the curing can be roughly divided into three types according to the kind of the substituent. . First, at least one of R 1 , R 2 and R 3 and at least one of R 6 , R 7 and R 8 is an alkenyl or alkynyl unsaturated hydrocarbon group, and A compound (crosslinking agent or chain extender) having two or more hydrogen atoms (Si-H) directly bonded to silicon in one molecule and a catalyst for addition reaction can be added to the united molecule. The remaining groups of R 1 to R 3 and R 6 to R 8 are a methyl group, a phenyl group or a carbon number of 7 to 1
It can be 0 alkyl-substituted phenyl groups. General formula (1)
Examples of the polymer represented by the following are those in which at least one of R 1 , R 2 and R 3 and at least one of R 6 , R 7 and R 8 is an alkenyl group or an alkynyl group:
1,1,9,9-tetraallyl-1,9-dimethyl-
3,3,5,5,7,7-hexaphenylpentasiloxane, 1,9-divinyl-1,1,9,9-tetramethyl-3,3,5,5,7,7-hexaphenylpentasiloxane , 1,5-divinyl-1,1,3,3,5,5
-Hexaphenyltrisiloxane, 1,9-di (vinylphenyl) -1,1,9,9-tetramethyl-3,3,3
Examples include 5,5,7,7-hexaphenylpentasiloxane. As a cross-linking agent or chain extender, 1,
1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5
In addition to methyl hydrogen siloxane compounds represented by 7-tetramethylcyclotetrasiloxane, diphenyl siloxane oligomers 1, 1, 3, 3, 5,
Examples thereof include 5-hexaphenyltrisiloxane and 1,9-dimethyl-3,3,5,5,7,7-hexaphenylpentasiloxane. Here, the chain extender may be the compound of the above formula (1).

【0032】組成物中のSiH基と(アルケニルおよび
/あるいはアルキニル性の)不飽和基のモル比は0.5
と2.0の間の値ならば何でもよい。硬化反応雰囲気は
空気でもあるいは不活性雰囲気でもよく、反応は白金化
合物およびロジウム化合物に代表されるヒドロシリル化
反応触媒の存在下でおこなう。触媒の量は0.1ppmか
ら100ppm の間の値が適当である。この触媒の存在
下、50℃から350℃に加熱することにより硬化物を
得る。最適な反応温度および反応時間は相関があるが、
短時間に硬化物を得るには100℃以上300℃以下の
温度で1分から2時間の範囲で加熱するのが望ましい。
The molar ratio of SiH groups to alkenyl and / or alkynyl unsaturated groups in the composition is 0.5.
Any value between and 2.0 can be used. The curing reaction atmosphere may be air or an inert atmosphere, and the reaction is carried out in the presence of a hydrosilylation reaction catalyst represented by platinum compounds and rhodium compounds. A suitable amount of catalyst is between 0.1 ppm and 100 ppm. A cured product is obtained by heating from 50 ° C. to 350 ° C. in the presence of this catalyst. The optimum reaction temperature and reaction time are correlated,
In order to obtain a cured product in a short time, it is desirable to heat at a temperature of 100 ° C. or higher and 300 ° C. or lower for 1 minute to 2 hours.

【0033】第二は、上記一般式(1)で表される重合
体分子間の架橋を形成する反応が付加反応であり、
1 ,R2 ,R3 のうちの少なくとも一つ、また、
6 ,R7 ,R8 の内の少なくとも1つが水素原子であ
る場合で、該重合体分子に、一分子中に少なくとも2個
のアルケニル及び/又はアルキニル性の不飽和基を有す
る化合物を架橋剤もしくは鎖延長剤として加えることが
できる。前記R1 〜R3 及びR 6 〜R8 の残りの基はメ
チル基、フェニル基又は炭素原子数7〜10のアルキル
置換フェニル基でありうる。一般式(1)で表される重
合体分子のR1 2 3Siで表されるシリル基として
はジメチルシリル基、メチルシリル基、トリハイドロジ
ェンシリル基、フェニルシリル基、メチルエチルシリル
基、ジエチルシリル基、エチルシリル基、プロピルシリ
ル基などを挙げることができる。架橋剤又は鎖延長剤と
して用いる化合物としては1,5−ペンタジエン、1,
6−ヘキサジエン、ジビニルベンゼンに代表される不飽
和炭化水素化合物および1,3−ジビニル−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5−トリ
ビニル−1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサン
に代表されるビニル基置換シロキサン化合物のほかに一
般式(1)で示される重合体分子でR1 ,R2 ,R3
なかの少なくとも1つ、また、R6 ,R7 ,R8 の内の
少なくとも1つがアルケニル基、あるいはアルキニル基
であるもの、たとえば1,1,9,9−テトラアリル−
1,9ジメチルヘキサフェニルペンタシロキサンを挙げ
ることができる。
Secondly, the polymerization represented by the above general formula (1)
The reaction that forms cross-links between body molecules is an addition reaction,
R1, R2, R3At least one of the
R6, R7, R8At least one of is a hydrogen atom
In this case, at least 2 in each molecule of the polymer
Having an alkenyl and / or alkynyl unsaturated group of
Can be added as a crosslinker or chain extender.
it can. The R1~ R3And R 6~ R8The rest of the groups are
Cyl group, phenyl group or alkyl having 7 to 10 carbon atoms
It can be a substituted phenyl group. Weight represented by general formula (1)
R of combined molecule1R2R3As a silyl group represented by Si
Is dimethylsilyl group, methylsilyl group, trihydrogen
Phenylsilyl group, phenylsilyl group, methylethylsilyl
Group, diethylsilyl group, ethylsilyl group, propylsilyl group
And the like. With cross-linking agent or chain extender
1,5-pentadiene, 1,
Tiredness represented by 6-hexadiene and divinylbenzene
Japanese hydrocarbon compounds and 1,3-divinyl-1,1,
3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5-tri
Vinyl-1,3,5-trimethylcyclotrisiloxane
In addition to vinyl group-substituted siloxane compounds represented by
In the polymer molecule represented by the general formula (1), R is1, R2, R3of
At least one of the6, R7, R8Within
At least one is alkenyl group or alkynyl group
Is, for example, 1,1,9,9-tetraallyl-
Include 1,9 dimethyl hexaphenyl pentasiloxane
Can be

【0034】この組成物中のSiH基と、アルケニルお
よび/あるいはアルキニル性の不飽和基のモル比は0.
5と2.0の間の値ならば何でもよい。硬化反応雰囲気
は空気でもあるいは不活性雰囲気でもよく、反応は白金
化合物およびロジウム化合物に代表されるヒドロシリル
化反応触媒の存在下1秒から5時間の加熱でおこなう。
触媒の量は0.1ppm から100ppm の間の値が適当で
ある。重合体分子、架橋剤、触媒の混合物を50℃から
350℃に加熱することにより硬化物を得る。最適な反
応温度および反応時間は相関があるが、短時間に硬化物
を得るには100℃以上300℃以下の温度で1分から
2時間の範囲で加熱するのが望ましい。
The molar ratio of SiH groups to alkenyl and / or alkynyl unsaturated groups in this composition is 0.
Any value between 5 and 2.0 is acceptable. The curing reaction atmosphere may be air or an inert atmosphere, and the reaction is carried out by heating for 1 second to 5 hours in the presence of a hydrosilylation reaction catalyst represented by a platinum compound and a rhodium compound.
A suitable amount of catalyst is between 0.1 ppm and 100 ppm. A cured product is obtained by heating a mixture of polymer molecules, a cross-linking agent, and a catalyst at 50 ° C to 350 ° C. The optimum reaction temperature and reaction time are correlated, but it is desirable to heat at a temperature of 100 ° C. or higher and 300 ° C. or lower for 1 minute to 2 hours in order to obtain a cured product in a short time.

【0035】本発明に用いるヒドロシリル化触媒として
は白金化合物では塩化白金酸、白金(0)ビニルシロキ
サン錯体、活性炭担持白金を、ロジウム化合物ではトリ
ストリフェニルホスフィンロジウム(I)クロリド、
(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)クロリ
ドの二量体等を挙げることができるが、一般にヒドロシ
リル化反応において触媒活性のある白金あるいはロジウ
ム化合物であればなんでもよい。
As the hydrosilylation catalyst used in the present invention, chloroplatinic acid, platinum (0) vinyl siloxane complex and platinum supported on activated carbon are used for platinum compounds, and tristriphenylphosphine rhodium (I) chloride is used for rhodium compounds.
Examples thereof include a dimer of (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) chloride, but generally any platinum or rhodium compound having catalytic activity in the hydrosilylation reaction may be used.

【0036】第三は、前記式(1)においてR1
2 ,R3 の内の少なくとも1つがエポキシ基を有する
有機基、アミノ基を有する有機基、置換アミノ基を有す
る有機基、カルボキシル基を有する有機基、ヒドロキシ
ル基を有する有機基、メルカプト基を有する有機基、イ
ソシアナート基を有する有機基及びビニル基を有する有
機基から選ばれる一種であり、前記架橋剤又は鎖延長剤
が上記基と反応性をするエポキシ基、アミノ基、置換ア
ミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、メルカプト
基、イソシアネート基及びビニル基から選ばれる官能基
を1分子中に少なくとも2個有するものであってもよ
い。
Thirdly, in the above formula (1), R 1 ,
At least one of R 2 and R 3 is an organic group having an epoxy group, an organic group having an amino group, an organic group having a substituted amino group, an organic group having a carboxyl group, an organic group having a hydroxyl group, and a mercapto group. Having an organic group, is a kind selected from an organic group having an isocyanate group and an organic group having a vinyl group, the crosslinking agent or chain extender is an epoxy group reactive with the group, an amino group, a substituted amino group, It may have at least two functional groups selected from a carboxyl group, a hydroxyl group, a mercapto group, an isocyanate group and a vinyl group in one molecule.

【0037】末端にエポキシ基を有するジフェニルシロ
キサンオリゴマーは、エチレンジアミン、ジエチレント
リアミン、トリエチレンテトラミンによって代表される
1分子中に少なくとも2個のアミノ基を有する硬化剤と
混合して100〜250℃の温度で10分〜20時間加
熱することにより硬化させることができる。この場合の
ジフェニルシロキサンオリゴマーと硬化剤の比は硬化物
が得られれば格別限定されるものではないが、架橋剤が
有する官能基の個数にもよるが、通常はそれぞれの官能
基のモル比を基準にして0.5:1〜1:0.5、より
好ましくは0.8:1〜1:0.8が適当である。
The diphenylsiloxane oligomer having an epoxy group at the terminal is mixed with a curing agent having at least two amino groups in one molecule, which is represented by ethylenediamine, diethylenetriamine and triethylenetetramine, and is mixed at a temperature of 100 to 250 ° C. It can be cured by heating for 10 minutes to 20 hours. The ratio of the diphenylsiloxane oligomer to the curing agent in this case is not particularly limited as long as a cured product is obtained, but it usually depends on the molar ratio of each functional group, although it depends on the number of functional groups contained in the crosslinking agent. 0.5: 1 to 1: 0.5, more preferably 0.8: 1 to 1: 0.8 is suitable as a standard.

【0038】ジフェニルシロキサンオリゴマーの末端官
能基がアミノプロピルの様なアミノ基、あるいはN−メ
チルアミノプロピル基に代表される置換アミノ基の場合
には、ポリグリシジルアミンタイプ等の複数のエポキシ
基を有する架橋剤、あるいはヘキサメチレンジイソシア
ネート、ジイソシアン酸トルイレン等の複数のイソシア
ネート基を有する架橋剤とともに100〜250℃の温
度で10分〜20時間加熱することにより付加反応を起
こし、これによって硬化物を得ることができる。この場
合のジフェニルシロキサンオリゴマーと硬化剤の比は硬
化物が得られれば格別限定されるものではないが、架橋
剤が有する官能基の個数にもよるが、通常はそれぞれの
官能基のモル比を基準にして0.5:1〜1:0.5、
より好ましくは0.8:1〜1:0.8が適当である。
同じく、アミノ基を末端基として持つジフェニルシロキ
サンオリゴマーを用い、フタル酸クロリド等の複数のク
ロロカルボニル基を有する架橋剤、あるいはピロメッリ
ト酸無水物に代表される複数のカルボン酸無水物官能基
を有する架橋剤とともに50〜300℃の温度で10分
〜20時間加熱することにより縮合反応を起こし、これ
によって硬化物を得ることができる。この場合のジフェ
ニルシロキサンオリゴマーと硬化剤の量比は硬化物が得
られれば格別限定されるものではないが、架橋剤が有す
る官能基の個数にもよるが、通常はそれぞれの官能基の
モル比を基準にして0.5:1〜1:0.5、より好ま
しくは0.8:1〜1:0.8が適当である。
When the terminal functional group of the diphenylsiloxane oligomer is an amino group such as aminopropyl or a substituted amino group represented by N-methylaminopropyl group, it has a plurality of epoxy groups such as polyglycidylamine type. A cross-linking agent or a cross-linking agent having a plurality of isocyanate groups such as hexamethylene diisocyanate and toluylene diisocyanate is heated at a temperature of 100 to 250 ° C. for 10 minutes to 20 hours to cause an addition reaction, thereby obtaining a cured product. You can The ratio of the diphenylsiloxane oligomer to the curing agent in this case is not particularly limited as long as a cured product is obtained, but it usually depends on the molar ratio of each functional group, although it depends on the number of functional groups contained in the crosslinking agent. 0.5: 1 to 1: 0.5 based on
More preferably, 0.8: 1 to 1: 0.8 is suitable.
Similarly, by using a diphenylsiloxane oligomer having an amino group as a terminal group, a cross-linking agent having a plurality of chlorocarbonyl groups such as phthalic acid chloride, or a cross-linker having a plurality of carboxylic acid anhydride functional groups represented by pyromellitic acid anhydride. A heating reaction with the agent at a temperature of 50 to 300 ° C. for 10 minutes to 20 hours causes a condensation reaction, whereby a cured product can be obtained. The amount ratio of the diphenylsiloxane oligomer to the curing agent in this case is not particularly limited as long as a cured product is obtained, but it usually depends on the number of functional groups in the crosslinking agent, but usually the molar ratio of each functional group is 0.5: 1 to 1: 0.5, and more preferably 0.8: 1 to 1: 0.8 is suitable.

【0039】ジフェニルシロキサンオリゴマーの末端官
能基がカルボキシル基(たとえば−CH2 CH2 CH2
COOH)の場合には、エチレンジアミン、ジエチレン
トリアミン、トリエチレンテトラミンによって代表され
る、1分子中に少なくとも2個のアミノ基を有する架橋
剤、あるいはエチレングルコール、ペンタエリスリトー
ルに代表される複数のヒドロキシ基を有する架橋剤とと
もに100〜300℃の温度で10分〜20時間加熱す
ることにより縮合反応を起こし、これによって硬化物を
得ることができる。この場合のジフェニルシロキサンオ
リゴマーと硬化剤の量比は硬化物が得られれば格別限定
されるものではないが、架橋剤が有する官能基の個数に
もよるが、通常はそれぞれの官能基のモル比を基準にし
て0.5:1〜1:0.5、より好ましくは0.8:1
〜1:0.8が適当である。
The terminal functional group of the diphenylsiloxane oligomer is a carboxyl group (for example, --CH 2 CH 2 CH 2
In the case of COOH), a cross-linking agent having at least two amino groups in one molecule, represented by ethylenediamine, diethylenetriamine and triethylenetetramine, or a plurality of hydroxy groups represented by ethylene glycol and pentaerythritol is used. A condensation reaction is caused by heating at a temperature of 100 to 300 ° C. for 10 minutes to 20 hours together with the cross-linking agent, and thereby a cured product can be obtained. The amount ratio of the diphenylsiloxane oligomer to the curing agent in this case is not particularly limited as long as a cured product is obtained, but it usually depends on the number of functional groups in the crosslinking agent, but usually the molar ratio of each functional group is Based on 0.5: 1 to 1: 0.5, more preferably 0.8: 1
Approximately 1: 0.8 is suitable.

【0040】ジフェニルシロキサンオリゴマーの末端官
能基がヒドロキシプロピルの様なヒドロキシ基の場合に
は、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジイソシアン酸
トルイレン等の複数のイソシアネート基を有する架橋剤
とともに100〜250℃の温度で10分〜20時間加
熱することにより付加反応を起こし、これによって硬化
物を得ることができる。この場合のジフェニルシロキサ
ンオリゴマーと硬化剤の量比はそれぞれの官能基のモル
比が1:1前後が適当である。同じく、ヒドロキシ基を
末端基としてもつジフェニルシロキサンオリゴマーを用
い、フタル酸クロリド等の複数のクロロカルボニル基を
有する架橋剤、あるいはテレフタル酸、アジピン酸、ピ
ロメリット酸に代表される複数のカルボキシル基を有す
る架橋剤とともに50〜250℃の温度で10分〜20
時間加熱することにより縮合反応を起こし、これによっ
て硬化物を得ることができる。この場合のジフェニルシ
ロキサンオリゴマーと硬化剤の量比は硬化物が得られれ
ば格別限定されるものではないが、架橋剤が有する官能
基の個数にもよるが、通常はそれぞれの官能基のモル比
を基準にして0.5:1〜1:0.5、より好ましくは
0.8:1〜1:0.8が適当である。
When the terminal functional group of the diphenylsiloxane oligomer is a hydroxy group such as hydroxypropyl, it is mixed with a crosslinking agent having a plurality of isocyanate groups such as hexamethylene diisocyanate and toluylene diisocyanate at a temperature of 100 to 250 ° C. for 10 minutes. By heating for about 20 hours, an addition reaction occurs, whereby a cured product can be obtained. In this case, it is appropriate that the molar ratio of the diphenylsiloxane oligomer and the curing agent is such that the molar ratio of each functional group is about 1: 1. Similarly, using a diphenylsiloxane oligomer having a hydroxy group as an end group, it has a cross-linking agent having a plurality of chlorocarbonyl groups such as phthalic acid chloride, or a plurality of carboxyl groups represented by terephthalic acid, adipic acid, and pyromellitic acid. 10 minutes to 20 at a temperature of 50 to 250 ° C. with a crosslinking agent
A heating reaction causes a condensation reaction, whereby a cured product can be obtained. The amount ratio of the diphenylsiloxane oligomer to the curing agent in this case is not particularly limited as long as a cured product is obtained, but it usually depends on the number of functional groups in the crosslinking agent, but usually the molar ratio of each functional group is 0.5: 1 to 1: 0.5, and more preferably 0.8: 1 to 1: 0.8 is suitable.

【0041】ジフェニルシロキサンオリゴマーの末端官
能基がメルカプトプロピルの様なメルカプト基の場合に
は、1,6−ヘキサジエン、ジビニルベンゼン、1,
3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメ
チルシクロテトラシロキサンに代表される、複数のアル
ケニル基を有する架橋剤の存在下で紫外線照射を行なう
ことにより付加反応を起こし、これによって硬化物を得
ることができる。この場合のジフェニルシロキサンオリ
ゴマーと硬化剤の量比は硬化物が得られれば格別限定さ
れるものではないが、架橋剤が有する官能基の個数にも
よるが、通常はそれぞれの官能基のモル比を基準にして
0.5:1〜1:0.5、より好ましくは0.8:1〜
1:0.8が適当である。
When the terminal functional group of the diphenylsiloxane oligomer is a mercapto group such as mercaptopropyl, 1,6-hexadiene, divinylbenzene, 1,
Addition reaction is caused by ultraviolet irradiation in the presence of a crosslinking agent having a plurality of alkenyl groups, represented by 3,5,7-tetravinyl-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane. As a result, a cured product can be obtained. The amount ratio of the diphenylsiloxane oligomer to the curing agent in this case is not particularly limited as long as a cured product is obtained, but it usually depends on the number of functional groups in the crosslinking agent, but usually the molar ratio of each functional group is Based on 0.5: 1 to 1: 0.5, more preferably 0.8: 1 to
1: 0.8 is suitable.

【0042】ジフェニルシロキサンオリゴマーの末端官
能基がイソシアナートプロピルの様なイソシアネート基
の場合には、エチレンジアミン、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレンテトラミンによって代表される複数の
アミノ基を有する架橋剤とともに50〜200℃の温度
で10分〜20時間加熱することにより付加反応を起こ
し、これによって硬化物を得ることができる。この場合
のジフェニルシロキサンオリゴマーと硬化剤の量比は硬
化物が得られれば格別限定されるものではないが、架橋
剤が有する官能基の個数にもよるが、通常はそれぞれの
官能基のモル比を基準にして0.5:1〜1:0.5、
より好ましくは0.8:1〜1:0.8が適当である。
When the terminal functional group of the diphenylsiloxane oligomer is an isocyanate group such as isocyanatopropyl, a temperature of 50 to 200 ° C. is used together with a crosslinking agent having a plurality of amino groups represented by ethylenediamine, diethylenetriamine and triethylenetetramine. Heating for 10 minutes to 20 hours causes an addition reaction, whereby a cured product can be obtained. The amount ratio of the diphenylsiloxane oligomer to the curing agent in this case is not particularly limited as long as a cured product is obtained, but it usually depends on the number of functional groups in the crosslinking agent, but usually the molar ratio of each functional group is 0.5: 1 to 1: 0.5 based on
More preferably, 0.8: 1 to 1: 0.8 is suitable.

【0043】ジフェニルシロキサンオリゴマーの末端官
能基がビニル基、アリル基の様なアルケニル基の場合に
は、トリメチロールプロパントリス−(β−チオプロピ
オネート)に代表される複数のメルカプト基を有する架
橋剤の存在下で紫外線照射を行なうことにより付加反応
を起こし、これによって硬化物を得ることができる。こ
の場合のジフェニルシロキサンオリゴマーと硬化剤の量
比は硬化物が得られれば格別限定されるものではない
が、架橋剤が有する官能基の個数にもよるが、通常はそ
れぞれの官能基のモル比を基準にして0.5:1〜1:
0.5、より好ましくは0.8:1〜1:0.8が適当
である。
When the terminal functional group of the diphenylsiloxane oligomer is an alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group, a crosslink having a plurality of mercapto groups represented by trimethylolpropane tris- (β-thiopropionate). UV irradiation in the presence of an agent causes an addition reaction, whereby a cured product can be obtained. The amount ratio of the diphenylsiloxane oligomer to the curing agent in this case is not particularly limited as long as a cured product is obtained, but it usually depends on the number of functional groups in the crosslinking agent, but usually the molar ratio of each functional group is 0.5: 1 to 1: based on
0.5, more preferably 0.8: 1 to 1: 0.8 is suitable.

【0044】上記の一般式(1)で示される重合体分子
のR4 とR5 は有機基であり、同時にフェニル基になる
ことはなく、一方または両方がR1 ,R2 ,R3 の内の
少なくとも1つと同様な有機基でエポキシ基、アミノ
基、置換アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、
メルカプト基、イソシアナート基のいずれかを含んでい
るものでもよい。R9 とR10は有機基であり、同時にフ
ェニル基になることはなく、一方または両方がR6 ,R
7 ,R8 の内の少なくとも1つと同様な有機基でエポキ
シ基、アミノ基、置換アミノ基、カルボキシル基、ヒド
ロキシル基、メルカプト基、イソシアナート基のいずれ
かを含んでいるものでもよい。
In the polymer molecule represented by the above general formula (1), R 4 and R 5 are organic groups and do not become phenyl groups at the same time. One or both of them are R 1 , R 2 and R 3 . An organic group similar to at least one of epoxy group, amino group, substituted amino group, carboxyl group, hydroxyl group,
It may contain either a mercapto group or an isocyanate group. R 9 and R 10 are organic groups and do not become phenyl groups at the same time, and one or both of them is R 6 , R
An organic group similar to at least one of 7 and R 8 and containing any of an epoxy group, an amino group, a substituted amino group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a mercapto group and an isocyanate group may be used.

【0045】一般にジメチルシロキサンを主成分とする
樹脂は一般のポリマー、ガラス等の基材表面と比べ臨界
表面張力が低く、ポリマーとの相溶性、ポリマー製品、
ガラス等の表面への塗装性や接着性が悪いという欠点が
ある。本発明の硬化物の臨界表面張力はエチレングリコ
ール、ジメチルスルフォキシド、2−エトキシエタノー
ル、ジメチルホルムアミド等の有機液体の硬化物表面と
の接触角の測定値を用いて計算することができる。本発
明硬化物の臨界表面張力を決定する主な要素はジフェニ
ルシロキサンのホモポリマーの臨界表面張力(約27mN
/m)と、架橋性官能基の重合または縮合物部分の寄与
であるが、後者がシラシクロブタン開環重合物の様な非
極性成分である場合はジフェニルシロキサンホモポリマ
ーよりやや低く、一方アクリルあるいはメタクリル基の
重合物あるいはエポキシ基とアミノ基の縮合物に代表さ
れる極性成分よりなる場合にはジフェニルシロキサンホ
モポリマーよりやや高い臨界表面張力を有する。本発明
硬化物の臨界表面張力は26mN/m以上であることが好
ましい。
Generally, a resin containing dimethylsiloxane as a main component has a lower critical surface tension than that of a surface of a base material such as a general polymer or glass, compatibility with the polymer, a polymer product,
It has the drawback of poor paintability and adhesion to the surface of glass or the like. The critical surface tension of the cured product of the present invention can be calculated using the measured value of the contact angle of the organic liquid such as ethylene glycol, dimethyl sulfoxide, 2-ethoxyethanol, and dimethylformamide with the surface of the cured product. The main factor that determines the critical surface tension of the cured product of the present invention is the critical surface tension of a homopolymer of diphenylsiloxane (about 27 mN
/ M) and the contribution of the polymerization or condensate portion of the crosslinkable functional group, but when the latter is a non-polar component such as a silacyclobutane ring-opening polymer, it is slightly lower than diphenylsiloxane homopolymer, while acrylic or When it is composed of a polar component represented by a polymer of a methacrylic group or a condensate of an epoxy group and an amino group, it has a slightly higher critical surface tension than a diphenylsiloxane homopolymer. The cured product of the present invention preferably has a critical surface tension of 26 mN / m or more.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明により、両末端を特定の官能基で
停止したジフェニルシロキサンオリゴマー間の架橋反応
によりジフェニルシロキサンを主成分とする硬化物の製
造が可能となった。従来知られていたジフェニルシロキ
サンホモポリマーと異なり、本発明で用いられるジフェ
ニルシロキサンオリゴマーは広範な有機溶媒に溶解し、
また、それ自身500℃以下の温度で融解性を示すた
め、キャステイング等の溶液を用いた加工、インジェク
ション、プレス加工等の通常ポリマーの加工に使われる
方法による成型が可能となり、該成型加工につづく、両
末端官能基の関与する架橋反応によってジフェニルシロ
キサン硬化物の製造が可能となった。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, a cured product containing diphenylsiloxane as a main component can be produced by a crosslinking reaction between diphenylsiloxane oligomers whose both ends are terminated with specific functional groups. Unlike the conventionally known diphenylsiloxane homopolymer, the diphenylsiloxane oligomer used in the present invention is soluble in a wide range of organic solvents,
In addition, since it exhibits meltability at a temperature of 500 ° C. or less, it becomes possible to perform molding by a method used for processing a polymer such as casting, a solution using a solution, injection, press working, etc. By the cross-linking reaction involving both terminal functional groups, it is possible to produce a cured product of diphenylsiloxane.

【0047】[0047]

【実施例】以下に実施例および参考例を挙げて本発明を
詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。なお、以下に示す例中の生成物の特性化の記述
における1H−NMR,13C{1H}−NMR,29
Si{1H}−NMRはそれぞれプロトン核磁気共鳴ス
ペクトル、炭素13核磁気共鳴スペクトル(プロトンデ
カップル)、およびケイ素29核磁気共鳴スペクトル
(プロトンデカップル)を表わす。CDCl3 は重クロ
ロホルムを表し、プロトン核磁気共鳴スペクトルデータ
の表示のうち( )の中に示されたs,d,t,m,d
d,tt,brはそれぞれ、シングレット、ダブレッ
ト、トリプレット、マルチプレット、ダブレットのダブ
レット、トリプレットのトリプレット、ブロード(幅が
ひろい)を表わし、1H,2H,3H等はそれぞれプロ
トン1個、2個、3個相当分のスペクトル強度を意味す
る。Jはスピン−スピンカップリング定数(単位ヘル
ツ)を示す。1H−NMRスペクトルのケミカルシフト
は全て、CDCl3 溶媒中の残存CHCl3 の共鳴位置
を7.24ppm とした場合の値である。13C−NMR
スペクトルではCDCl3 の炭素のケミカルシフトを7
7.0ppm とした場合の値である。29Si−NMRス
ペクトルのケミカルシフトは、外部標準のテトラメチル
シラン(CDCl3 溶液)のケイ素のケミカルシフトを
0ppm とした値である。GLCはガスクロマトグラフ
を、GC−MSはガスクロマトグラフ−質量分析を、G
PCはゲルパーミエーションクロマトグラフを表わす。
The present invention is described in detail below with reference to examples and reference examples, but the present invention is not limited to these. 1H-NMR, 13C {1H} -NMR, 29 in the description of product characterization in the examples shown below.
Si {1H} -NMR represents a proton nuclear magnetic resonance spectrum, a carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum (proton decouple), and a silicon 29 nuclear magnetic resonance spectrum (proton decouple), respectively. CDCl 3 represents deuterated chloroform, and s, d, t, m, d shown in () in the proton nuclear magnetic resonance spectrum data display.
d, tt, and br represent singlet, doublet, triplet, multiplet, doublet doublet, triplet triplet, and broad (wide width), and 1H, 2H, 3H, etc. are 1, 2, 3 and 3, respectively. It means the spectrum intensity corresponding to the individual pieces. J indicates a spin-spin coupling constant (unit: Hertz). All the chemical shifts in the 1H-NMR spectrum are values when the resonance position of residual CHCl 3 in the CDCl 3 solvent is 7.24 ppm. 13C-NMR
In the spectrum, the carbon chemical shift of CDCl 3 is 7
It is a value when it is 7.0 ppm. The chemical shift of 29 Si-NMR spectrum is a value in which the chemical shift of silicon of tetramethylsilane (CDCl 3 solution) as an external standard is 0 ppm. GLC is for gas chromatography, GC-MS is for gas chromatography-mass spectrometry,
PC stands for gel permeation chromatograph.

【0048】(参考例1) (開始末端リチウム(n−
ブチルジメチルシラノレート)の合成) 窒素置換した反応容器に20部のテトラヒドロフラン、
15.8部のヘキサメチルシクロトリシロキサンを加え
次に44部の1.72モル/Lのn−ブチルリチウムの
ヘキサン溶液を添加しこれを5分間攪拌しリチウムn−
ブチルジメチルシラノレートを調製した。
Reference Example 1 (Starting terminal lithium (n-
Synthesis of butyldimethylsilanolate) 20 parts of tetrahydrofuran in a reaction vessel purged with nitrogen,
15.8 parts of hexamethylcyclotrisiloxane were added, and then 44 parts of 1.72 mol / L hexane solution of n-butyllithium was added, and this was stirred for 5 minutes and lithium n-
Butyl dimethyl silanolate was prepared.

【0049】(参考例2) (開始末端リチウム(n−
ブチルメチルビニルシラノレート)の合成) 三口フラスコに滴下ロート、および水冷コンデンサーを
つけたものにマグネチック攪拌子、20部のテトラヒド
ロフラン、18部のトリメチルトリビニルシクロトリシ
ロキサンを加え次に47部の1.72モル/Lのn−ブ
チルリチウムのヘキサン溶液を添加しこれを30分攪拌
しリチウム(n−ブチルビニルメチルシラノレート)を
調製した。
Reference Example 2 (Starting terminal lithium (n-
Synthesis of butylmethylvinylsilanolate)) A three-necked flask equipped with a dropping funnel and a water-cooled condenser was added with a magnetic stirrer, 20 parts of tetrahydrofuran, 18 parts of trimethyltrivinylcyclotrisiloxane, and then 47 parts of 1 A hexane solution of n-butyllithium (0.72 mol / L) was added and stirred for 30 minutes to prepare lithium (n-butylvinylmethylsilanolate).

【0050】(参考例3) (開始末端リチウム(n−
ブチルジエチルシラノレート)の合成) 三口フラスコに滴下ロート、および水冷コンデンサーを
つけたものにマグネチック攪拌子、20部のテトラヒド
ロフラン、22部のヘキサエチルシクロトリシロキサン
を加え次に45部の1.72モル/Lのn−ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液を添加しこれを30分攪拌しリチウ
ム(n−ブチルジエチルシラノレート)を調製した。
Reference Example 3 (Initial terminal lithium (n-
Synthesis of butyldiethylsilanolate) A three-necked flask equipped with a dropping funnel and a water-cooled condenser was added with a magnetic stirrer, 20 parts of tetrahydrofuran, 22 parts of hexaethylcyclotrisiloxane, and then 45 parts of 1.72. A mol / L n-butyllithium hexane solution was added and stirred for 30 minutes to prepare lithium (n-butyldiethylsilanolate).

【0051】(参考例4) (片末端ブチルジメチルシ
リル基他末端ジメチルシリル基停止オリゴ(ジフェニル
シロキサン)の合成) 12部のヘキサフェニルトリシロキサンとジフェニルエ
ーテル12部をアルゴン下160℃に熱し、これにシラ
ノレートとジフェニルシロキサン基との比が1対17に
なるように参考例1で調製したリチウムシラノレートを
加え40分間反応した。これに3当量のジメチルクロロ
シランを加え10分間熱した。反応溶液を室温に冷却し
たのち200部のメタノールを加え、生じた沈殿を20
0部のアセトンで洗ったのち乾燥し8.9部のブチルジ
メチルシリル基ジメチルシリル基停止オリゴ(ジフェニ
ルシロキサン)の白色固体を得た。 分析結果:GPC分析(ポリスチレン換算) 数平均分
子量3600、分散度(重量平均分子量/数平均分子
量)=1.14、赤外吸収スペクトル:Si−H212
7cm-1,1H−NMR(ppm ):−0.1〜+1.4,
4.9,6.8〜7.7。
(Reference Example 4) (Synthesis of oligo (diphenylsiloxane) terminated with butyldimethylsilyl group at one end and dimethylsilyl group at the other end) 12 parts of hexaphenyltrisiloxane and 12 parts of diphenylether were heated to 160 ° C. under argon, and The lithium silanolate prepared in Reference Example 1 was added so that the ratio of silanolate to diphenylsiloxane group was 1:17, and the mixture was reacted for 40 minutes. To this, 3 equivalents of dimethylchlorosilane was added and heated for 10 minutes. After the reaction solution was cooled to room temperature, 200 parts of methanol was added and the resulting precipitate was added to 20
It was washed with 0 part of acetone and dried to obtain 8.9 parts of a butyldimethylsilyl group-dimethylsilyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) white solid. Analysis result: GPC analysis (polystyrene conversion) Number average molecular weight 3600, dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) = 1.14, infrared absorption spectrum: Si-H212
7 cm -1 , 1H-NMR (ppm): -0.1 to +1.4,
4.9, 6.8-7.7.

【0052】(参考例5) (片末端ブチルビニルメチ
ルシリル基他末端ジメチルビニルシリル基停止オリゴ
(ジフェニルシロキサン)の合成 15部のヘキサフェニルトリシロキサンとジフェニルエ
ーテル15部をアルゴン下160℃に熱し、これにシラ
ノレートとジフェニルシロキサン基との比が1対14に
なるように参考例2で調製したリチウムシラノレートを
加え35分間反応した。これに3当量のジメチルビニル
クロロシランを加え10分間熱した。反応溶液を室温に
冷却したのち、200部のメタノールを加え白色沈殿を
得た。この沈殿を200部のアセトンで洗ったのち乾燥
し12部のブチルビニルメチルシリル基ジメチルビニル
シリル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)の白色固
体を得た。 分析結果:GPC分析(ポリスチレン換算) 数平均分
子量3200。分散度(重量平均分子量/数平均分子
量)=1.26。1H−NMR(ppm ):−0.02〜
+1.4,5.5〜6.0,6.7〜7.5。
(Reference Example 5) (Synthesis of oligo (diphenylsiloxane) terminated with butylvinylmethylsilyl group at one end and dimethylvinylsilyl group at the other end) 15 parts of hexaphenyltrisiloxane and 15 parts of diphenylether were heated to 160 ° C. under argon, The lithium silanolate prepared in Reference Example 2 was added thereto and the mixture was reacted for 35 minutes so that the ratio of silanolate to diphenylsiloxane group was 1:14. To this was added 3 equivalents of dimethylvinylchlorosilane and heated for 10 minutes. After cooling to room temperature, 200 parts of methanol was added to obtain a white precipitate, which was washed with 200 parts of acetone and dried to obtain 12 parts of butylvinylmethylsilyl group dimethylvinylsilyl group-stopped oligo (diphenylsiloxane). As a result, GPC analysis (polishing) was performed. Ren equivalent) number average molecular weight 3200. polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) = 1.26.1H-NMR (ppm): - 0.02~
+1.4, 5.5-6.0, 6.7-7.5.

【0053】(参考例6) (片末端ブチルビニルメチ
ルシリル基他末端ジメチルビニルシリル基停止オリゴ
(ジフェニルシロキサン)の合成) 参考例5と同様の手法で参考例5の例より分子量の小さ
いオリゴマーを合成した。即ち、12部のヘキサフェニ
ルトリシロキサンとオルトキシレン12部をアルゴン下
加熱還流し、これにシラノレートとジフェニルシロキサ
ン基との比が1対7になるように参考例2で調製したリ
チウムシラノレートを加え90分間反応した。これに2
部のジメチルビニルクロロシランを加え反応を終了し
た。反応溶液を室温に冷却したのち、200部のメタノ
ールを加え白色沈殿を得た。この沈殿を200部のアセ
トンで洗ったのち乾燥し6.3部のブチルビニルメチル
シリル基ジメチルビニルシリル基停止オリゴ(ジフェニ
ルシロキサン)の白色固体を得た。 分析結果:GPC分析(ポリスチレン換算) 数平均分
子量1900。分散度(重量平均分子量/数平均分子
量)=1.14。
Reference Example 6 (Synthesis of Oligo (diphenylsiloxane) Terminated with Butylvinylmethylsilyl Group at One End and Dimethylvinylsilyl Group at Other End) An oligomer having a smaller molecular weight than that of Reference Example 5 was prepared in the same manner as in Reference Example 5. Synthesized. That is, 12 parts of hexaphenyltrisiloxane and 12 parts of orthoxylene were heated to reflux under argon, and the lithium silanolate prepared in Reference Example 2 was added thereto so that the ratio of silanolate to diphenylsiloxane group was 1: 7. Reacted for 90 minutes. 2 to this
Part of dimethylvinylchlorosilane was added to complete the reaction. After cooling the reaction solution to room temperature, 200 parts of methanol was added to obtain a white precipitate. The precipitate was washed with 200 parts of acetone and dried to obtain 6.3 parts of a butylvinylmethylsilyl group-dimethylvinylsilyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) white solid. Analysis result: GPC analysis (polystyrene conversion) Number average molecular weight 1900. Dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) = 1.14.

【0054】(参考例7) (片末端ブチルビニルメチ
ルシリル基−他末端(4−ビニルフェニル)ジメチルシ
リル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)の合成) 10部のヘキサフェニルトリシロキサンとオルトキシレ
ン11部をアルゴン下加熱還流し、これにシラノレート
とジフェニルシロキサン基との比が1対7になるように
参考例2で調製したリチウムシラノレートを加え90分
間反応した。反応液を60度に下げた後、4−ビニルフ
ェニルジメチルクロロシラン2.5部を加え60分間熱
した。反応溶液を室温に冷却したのち、200部のメタ
ノールを加え、生じた沈殿を200部のアセトンで洗っ
た。この沈殿を乾燥し5部のブチルビニルメチルシリル
基(4−ビニルフェニル)ジメチルシリル基停止オリゴ
(ジフェニルシロキサン)の白色固体を得た。 分析結果:GPC分析(ポリスチレン換算) 数平均分
子量1700。分散度(重量平均分子量/数平均分子
量)=1.11。シラノール基由来の赤外吸収は認めら
れず、シリル化が完全に行なわれたことがわかった。
(Reference Example 7) (Synthesis of butylvinylmethylsilyl group at one end- (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group at the other end) (Synthesis of oligo (diphenylsiloxane) terminated with 10 parts of hexaphenyltrisiloxane and 11 parts of orthoxylene) The mixture was heated under reflux under argon, and the lithium silanolate prepared in Reference Example 2 was added thereto so that the ratio of silanolate to diphenylsiloxane group was 1: 7, and the mixture was reacted for 90 minutes. After the reaction liquid was lowered to 60 degrees, 2.5 parts of 4-vinylphenyldimethylchlorosilane was added and heated for 60 minutes. After cooling the reaction solution to room temperature, 200 parts of methanol was added and the resulting precipitate was washed with 200 parts of acetone. This precipitate was dried to obtain 5 parts of a white solid of butylvinylmethylsilyl group (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane). Analysis result: GPC analysis (polystyrene conversion) Number average molecular weight 1700. Dispersion degree (weight average molecular weight / number average molecular weight) = 1.11. Infrared absorption due to silanol groups was not observed, indicating that the silylation was completed.

【0055】(参考例8) (片末端ブチルジエチルシ
リル基他末端トリエチルシリル基停止オリゴ(ジフェニ
ルシロキサン)の合成) 15部のヘキサフェニルトリシロキサンとジフェニルエ
ーテル19部をアルゴン下160℃に熱し、これにシラ
ノレートとジフェニルシロキサン基との比が1対14に
なるように参考例3で調製したリチウムシラノレートを
加え35分間反応した。これにトリエチルクロロシラン
2部を加え10分間熱した。反応溶液を室温に冷却した
のち、200部のメタノールを加え白色沈殿を得た。こ
の沈殿を200部のアセトンで洗ったのち乾燥し11.
7部のブチルジエチルシリル基トリエチルシリル基停止
オリゴ(ジフェニルシロキサン)の白色固体を得た。 分析結果:GPC分析(ポリスチレン換算) 数平均分
子量3000。分散度(重量平均分子量/数平均分子
量)=1.27。シラノール基由来の赤外吸収は認めら
れず、シリル化が完全に行なわれたことがわかった。
(Reference Example 8) (Synthesis of oligo (diphenylsiloxane) terminated with butyldiethylsilyl group at one end and triethylsilyl group at the other end) 15 parts of hexaphenyltrisiloxane and 19 parts of diphenylether were heated to 160 ° C. under argon, and The lithium silanolate prepared in Reference Example 3 was added so that the ratio of silanolate to diphenylsiloxane group was 1:14, and the reaction was carried out for 35 minutes. To this, 2 parts of triethylchlorosilane was added and heated for 10 minutes. After cooling the reaction solution to room temperature, 200 parts of methanol was added to obtain a white precipitate. This precipitate was washed with 200 parts of acetone and then dried 11.
A white solid of 7 parts of butyldiethylsilyl group-triethylsilyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) was obtained. Analysis result: GPC analysis (polystyrene conversion) Number average molecular weight 3000. Dispersion degree (weight average molecular weight / number average molecular weight) = 1.27. Infrared absorption due to silanol groups was not observed, indicating that the silylation was completed.

【0056】(参考例9) (片末端ブチルジエチルシ
リル基−他末端トリプロピルシリル基停止オリゴ(ジフ
ェニルシロキサン)の合成) 15部のヘキサフェニルトリシロキサンとジフェニルエ
ーテル19部をアルゴン下160℃に熱し、これにシラ
ノレートとジフェニルシロキサン基との比が1対18に
なるように参考例3で調製したリチウムシラノレートを
加え35分間反応した。これにトリプロピルクロロシラ
ン2部を加え10分間熱した。反応溶液を室温に冷却し
たのち、200部のメタノールを加え白色沈殿を得た。
この沈殿を200部のアセトンで洗ったのち乾燥し1
2.9部のブチルジエチルシリル基トリプロピルシリル
基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)の白色固体を得
た。 分析結果:GPC分析(ポリスチレン換算) 数平均分
子量3000。分散度(重量平均分子量/数平均分子
量)=1.25。シラノール基由来の赤外吸収は認めら
れず、シリル化が完全に行なわれたことがわかった。
Reference Example 9 (Synthesis of oligo (diphenylsiloxane) terminated with butyldiethylsilyl group at one end and tripropylsilyl group at the other end) 15 parts of hexaphenyltrisiloxane and 19 parts of diphenylether were heated to 160 ° C. under argon, The lithium silanolate prepared in Reference Example 3 was added to this so that the ratio of silanolate to diphenylsiloxane group was 1:18, and the reaction was carried out for 35 minutes. To this, 2 parts of tripropylchlorosilane was added and heated for 10 minutes. After cooling the reaction solution to room temperature, 200 parts of methanol was added to obtain a white precipitate.
The precipitate was washed with 200 parts of acetone and then dried.
A white solid of 2.9 parts of butyldiethylsilyl group-tripropylsilyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) was obtained. Analysis result: GPC analysis (polystyrene conversion) Number average molecular weight 3000. Dispersion degree (weight average molecular weight / number average molecular weight) = 1.25. Infrared absorption due to silanol groups was not observed, indicating that the silylation was completed.

【0057】(参考例10) (両末端ビニルジメチル
シリル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)の合成) ヘキサフェニルトリシロキサン−1,5−ジオール20
部を100部のトルエンにとかしたものにビニルジメチ
ルクロロシラン10部とトリエチルアミン10部をくわ
え、この混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を
攪拌した150部の水にゆっくり添加し、白色沈殿を得
た。これに100部の水を加えたのち、有機層を分離し
これを数回水洗したのち無水硫酸ソーダで脱水した。濾
過したのち有機溶媒を溜去し24.4部の無色の油状物
を得た。このオイル状の生成物はゆっくりと結晶を生じ
た。 分析結果:赤外スペクトル:ビニル基に起因する140
8cm-1ピークが認められた。 1H−NMRスペクトル:0ppm (メチル基)、5.5
−5.6ppm (ビニル基)、7.1−7.5(フェニル
基)。
Reference Example 10 (Synthesis of oligo (diphenylsiloxane) terminated with vinyldimethylsilyl groups at both ends) Hexaphenyltrisiloxane-1,5-diol 20
10 parts of vinyldimethylchlorosilane and 10 parts of triethylamine were added to 100 parts of toluene, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was slowly added to 150 parts of stirred water to obtain a white precipitate. After adding 100 parts of water thereto, the organic layer was separated, washed with water several times, and then dehydrated with anhydrous sodium sulfate. After filtration, the organic solvent was distilled off to obtain 24.4 parts of a colorless oily substance. The oily product slowly crystallized. Analysis result: Infrared spectrum: 140 due to vinyl group
An 8 cm -1 peak was observed. 1H-NMR spectrum: 0 ppm (methyl group), 5.5
-5.6 ppm (vinyl group), 7.1-7.5 (phenyl group).

【0058】(参考例11) (両末端(4−ビニルフ
ェニル)ジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロ
キサンの合成) ヘキサフェニルトリシロキサン−1,5−ジオール20
部を45部のテトラヒドロフランにとかしたものに27
部のn−ブチルリチウム(1.9モル/リットル)のヘ
キサン溶液を加えヘキサフェニルトリシロキサン−1,
5−ジオールのジリチウム塩を得た。これに4−ビニル
フェニルジメチルクロロシラン(15部)を常温で加え
たのち、65℃で1.5時間加熱還流した。このあとト
リメチルクロロシランとトリエチルアミン(それぞれ1
部ずつ)を添加し未反応のシラノール基をキャップし
た。反応混合物を200部の冷水にそそぎ、有機物を3
00部のトルエンで抽出した。トルエン抽出液をよく水
洗したのち、溶媒を除去し26部のオイル状の両末端
(4−ビニルフェニル)ジメチルシリル基停止ヘキサフ
ェニルトリシロキサン得た。 分析結果:赤外スペクトル:残存シラノールは認められ
なかった。 1H−NMRスペクトル:0.1ppm (メチル基)、
5.2,5.7,6.7ppm (ビニル基)、7.1−
7.5(フェニル基)。
(Reference Example 11) (Synthesis of hexaphenyltrisiloxane terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group at both ends) Hexaphenyltrisiloxane-1,5-diol 20
27 parts by dissolving in 45 parts of tetrahydrofuran
Part of n-butyllithium (1.9 mol / liter) in hexane was added to add hexaphenyltrisiloxane-1,
A dilithium salt of 5-diol was obtained. 4-Vinylphenyldimethylchlorosilane (15 parts) was added thereto at room temperature, and the mixture was heated under reflux at 65 ° C. for 1.5 hours. After this, trimethylchlorosilane and triethylamine (1 each
(Each part) was added to cap unreacted silanol groups. Pour the reaction mixture into 200 parts cold water and add 3 organics.
It was extracted with 00 parts of toluene. After the toluene extract was thoroughly washed with water, the solvent was removed to obtain 26 parts of oil-like hexaphenyltrisiloxane terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group at both ends. Analysis result: Infrared spectrum: No residual silanol was observed. 1H-NMR spectrum: 0.1 ppm (methyl group),
5.2, 5.7, 6.7ppm (vinyl group), 7.1-
7.5 (phenyl group).

【0059】(参考例12) (両末端ジメチルシリル
基停止ヘキサフェニルトリシロキサンの合成) ヘキサフェニルトリシロキサン−1,5−ジオール5部
を20部のトルエンにとかしたものに1,1,3,3−
テトラメチルジシラザン1.1部とジメチルクロロシラ
ン0.8部をくわえ、この混合物を常温で1時間攪拌し
た。反応混合物を150部の水にゆっくり添加し、白色
沈殿を得た。これに100部の水を加えたのち、有機層
を分離しこれを数回水洗したのち無水硫酸ソーダで脱水
した。濾過したのち有機溶媒を溜去し6部の無色の油状
物を得た。 分析結果:赤外スペクトル:Si−H基に起因するピー
クが2131cm-1に認められた。 1H−NMRスペクトル:0ppm (ダブレット、メチル
基)、4.7ppm (ヘプテット、Si−H基)、7.1
−7.5(フェニル基)。
Reference Example 12 (Synthesis of hexaphenyltrisiloxane terminated with dimethylsilyl groups at both ends) Hexaphenyltrisiloxane-1,5-diol 5 parts by weight dissolved in 20 parts of toluene 1,1,3,3 3-
Tetramethyldisilazane (1.1 parts) and dimethylchlorosilane (0.8 parts) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was slowly added to 150 parts of water to obtain a white precipitate. After adding 100 parts of water thereto, the organic layer was separated, washed with water several times, and then dehydrated with anhydrous sodium sulfate. After filtration, the organic solvent was distilled off to obtain 6 parts of a colorless oily substance. Analysis result: Infrared spectrum: A peak attributable to the Si-H group was observed at 2131 cm -1 . 1H-NMR spectrum: 0 ppm (doublet, methyl group), 4.7 ppm (heptet, Si-H group), 7.1
-7.5 (phenyl group).

【0060】(参考例13) (両末端ジアリルメチル
シリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサンの合成) ヘキサフェニルトリシロキサン−1,5−ジオール3部
を9部のテトラヒドロフランにとかしたものに3部の1
5% n−ブチルリチウムのヘキサン溶液を加えヘキサ
フェニルトリシロキサン−1,5−ジオールのジリチウ
ム塩を得た。常温でこれに1.6部のジアリルメチルク
ロロシランを加えたのち、65℃で2時間加熱攪拌し
た。反応混合物を室温まで冷却後生成したリチウム塩を
濾過除去し、濾液に100部のエーテルを添加した後有
機層を3回水洗した。エーテル層をロータリーエバポレ
ーターで除去し、2.9部の両末端ジアリルメチルシリ
ル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)を得た。 分析結果:NMR:1H−NMR(CDCl3 ):−
0.06(s,6H),1.45(m,8H),4.7
4(m,8H),5.57(m,4H),7.19−
7.55(m,30H)。29Si{1H}−NMR
(CDCl3 ):3.72,−46.44,−46.7
6。
(Reference Example 13) (Synthesis of hexaphenyltrisiloxane terminated with diallylmethylsilyl groups at both ends) Hexaphenyltrisiloxane-1,5-diol 3 parts were dissolved in 9 parts of tetrahydrofuran to add 3 parts of 1 part.
A 5% n-butyllithium hexane solution was added to obtain a dilithium salt of hexaphenyltrisiloxane-1,5-diol. After 1.6 parts of diallylmethylchlorosilane was added thereto at room temperature, the mixture was heated and stirred at 65 ° C. for 2 hours. After cooling the reaction mixture to room temperature, the produced lithium salt was removed by filtration, 100 parts of ether was added to the filtrate, and the organic layer was washed with water three times. The ether layer was removed by a rotary evaporator to obtain 2.9 parts of oligo (diphenylsiloxane) terminated with diallylmethylsilyl groups at both ends. Analysis: NMR: 1H-NMR (CDCl 3): -
0.06 (s, 6H), 1.45 (m, 8H), 4.7
4 (m, 8H), 5.57 (m, 4H), 7.19-
7.55 (m, 30H). 29Si {1H} -NMR
(CDCl 3): 3.72, -46.44 , -46.7
6.

【0061】(参考例14) (両末端メチル(シクロ
トリメチレン)シリル基停止ヘキサフェニルトリシロキ
サンの合成) ヘキサフェニルトリシロキサン−1,5−ジオール8.
5部を30部のテトラヒドロフランにとかしたものに1
2部のn−ブチルリチウムの15%ヘキサン溶液を加え
ヘキサフェニルトリシロキサン−1,5−ジオールのジ
リチウム塩を得た。常温でこれに4.5部の1−クロロ
−1−メチルシラシクロブタンを加えたのち、65℃で
2時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後生成
したリチウム塩を濾過除去し、溶媒を減圧除去したのち
残さを70部のヘキサンで3回抽出した。ヘキサンをロ
ータリーエバポレーターで除去し、8.6部の両末端メ
チル(シクロトリメチレン)シリル基停止ヘキサフェニ
ルトリシロキサンを得た。 分析結果:NMR:1H−NMR(CDCl3 ):0.
15(s,6H),1.1(m,8H),1.58
(m,2H),2.20(m,2H),7.2−7.7
(m,30H)。13C{1H}−NMR(CDC
3 ,ppm ):0.75,13.5,20.5,12
7.9−135.5。29Si{1H}−NMR(CD
Cl3 ,ppm ):−46.2,−46.0,7.3。
(Reference Example 14) (Synthesis of hexaphenyltrisiloxane terminated with methyl (cyclotrimethylene) silyl groups at both ends) Hexaphenyltrisiloxane-1,5-diol 8.
1 part by dissolving 5 parts in 30 parts tetrahydrofuran
Two parts of a 15% hexane solution of n-butyllithium was added to obtain a dilithium salt of hexaphenyltrisiloxane-1,5-diol. After adding 4.5 parts of 1-chloro-1-methylsilacyclobutane to this at room temperature, the mixture was heated with stirring at 65 ° C. for 2 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, the produced lithium salt was removed by filtration, the solvent was removed under reduced pressure, and the residue was extracted 3 times with 70 parts of hexane. Hexane was removed by a rotary evaporator to obtain 8.6 parts of hexaphenyltrisiloxane terminated with methyl (cyclotrimethylene) silyl groups at both ends. Analysis: NMR: 1H-NMR (CDCl 3): 0.
15 (s, 6H), 1.1 (m, 8H), 1.58
(M, 2H), 2.20 (m, 2H), 7.2-7.7
(M, 30H). 13C {1H} -NMR (CDC
l 3 , ppm): 0.75, 13.5, 20.5, 12
7.9-135.5.29 Si {1H} -NMR (CD
Cl 3, ppm): - 46.2 , -46.0,7.3.

【0062】(参考例15) (ヘキサフェニルトリシ
ロキサン−1,5−ジオールの合成) エルレンマイヤーフラスコに400グラムのテトラヒド
ロフランと55グラムのヘキサフェニルシクロトリシロ
キサンを加え、溶かした。これに3グラムのヘキシルア
ミンおよび水40グラムを仕込み、室温でこれを30分
攪拌した。薄層クロマトグラフでジオールへの変換を確
認した後、反応液を500グラムの水に注ぎ、これを希
塩酸で中和した。有機物を600グラムのトルエンで抽
出し、これを数回水洗した後、無水硫酸ナトリウムで脱
水し、濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで15
0ミリリットルに濃縮したのち、ヘキサンを加えヘキサ
フェニルトリシロキサン−1,5−ジオールの結晶を9
3%収率で得た。 ヘキサフェニルトリシロキサン−1,5−ジオールの分
析:融点110−111C。赤外吸収3244cm-1
(Reference Example 15) (Synthesis of hexaphenyltrisiloxane-1,5-diol) 400 g of tetrahydrofuran and 55 g of hexaphenylcyclotrisiloxane were added to an Erlenmeyer flask and dissolved. This was charged with 3 g of hexylamine and 40 g of water, and this was stirred at room temperature for 30 minutes. After confirming the conversion to diol by thin layer chromatography, the reaction solution was poured into 500 g of water and neutralized with dilute hydrochloric acid. The organic matter was extracted with 600 g of toluene, washed with water several times, dried over anhydrous sodium sulfate, filtered, and the filtrate was removed by a rotary evaporator 15
After concentrating to 0 ml, hexane was added to give 9 crystals of hexaphenyltrisiloxane-1,5-diol.
Obtained in 3% yield. Analysis of hexaphenyltrisiloxane-1,5-diol: melting point 110-111C. Infrared absorption 3244 cm -1 .

【0063】(参考例16) (両末端ジメチルシリル
基停止ヘキサフェニルトリシロキサンの合成) 参考例15で得られたヘキサフェニルトリシロキサン−
1,5−ジオール5部を20グラムのトルエンにとかし
たものに1,1,3,3−テトラメチルジシラザン1.
1グラムとジメチルクロロシラン0.8グラムをくわ
え、この混合物を常温で1時間攪拌した。反応混合物を
150グラムの水にゆっくり添加し、白色沈殿を得た。
これに100グラムの水を加えたのち、有機層を分離し
これを数回水洗したのち無水硫酸ソーダで脱水した。濾
過したのち有機溶媒を溜去し6グラムの無色の油状物を
得た。 分析結果:赤外スペクトル:Si−H基に起因するピー
クが2131cm-1に認められた。 1H−NMRスペクトル:0ppm (ダブレット、メチル
基)、4.7ppm (ヘプテット、Si−H基)、7.1
−7.5(フェニル基)。
(Reference Example 16) (Synthesis of hexaphenyltrisiloxane terminated with dimethylsilyl groups at both ends) Hexaphenyltrisiloxane obtained in Reference Example 15
1 part of 1,1,3,3-tetramethyldisilazane was prepared by dissolving 5 parts of 1,5-diol in 20 g of toluene.
1 g and 0.8 g of dimethylchlorosilane were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was slowly added to 150 grams of water to give a white precipitate.
After adding 100 g of water thereto, the organic layer was separated, washed with water several times, and then dehydrated with anhydrous sodium sulfate. After filtration, the organic solvent was distilled off to obtain 6 g of a colorless oily substance. Analysis result: Infrared spectrum: A peak attributable to the Si-H group was observed at 2131 cm -1 . 1H-NMR spectrum: 0 ppm (doublet, methyl group), 4.7 ppm (heptet, Si-H group), 7.1
-7.5 (phenyl group).

【0064】(参考例17) (両末端N−メチルアミ
ノイソブチル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)の
合成) 参考例15で得られたヘキサフェニルトリシロキサン−
1,5−ジオール6.1グラムを30グラムのトルエン
にとかしたものに1,2,2,4−テトラメチル−1−
アザ−2−シラシクロブタン4.3グラムをくわえ、こ
の混合物を40℃で0.5時間攪拌した。反応混合物か
ら揮発分を真空溜去し、残さをトルエン50グラムで抽
出した。トルエン抽出液を分離しこれを数回水洗したの
ち無水硫酸ソーダで脱水した。濾過したのち有機溶媒を
溜去し6.7グラムの無色の油状の両末端N−メチルア
ミノイソブチル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)
を得た。 分析結果:1H−NMRスペクトル:−0.07(s,
12H),0.2(dd,2H),0.50(dd,2
H),0.70(d,6H),0.8−1.1(br,
2H),1.6(m,2H),2.0−2.2(m,4
H),2.2(s,6H),7.1−7.6(m,30
H)。13C{1H}−NMR:0.8,1.0,2
0.6,23.9,28.5,36.2,61.2,1
27.2,129.4,129.6,134.0,13
4.3,134.6,135.2。29Si{1H}−
NMR:−47.1,−46.7,10.2。
(Reference Example 17) (Synthesis of oligo (diphenylsiloxane) terminated with N-methylaminoisobutyl groups at both ends) Hexaphenyltrisiloxane obtained in Reference Example 15
1,2,2,4-tetramethyl-1- was added to 6.1 grams of 1,5-diol dissolved in 30 grams of toluene.
4.3 g of aza-2-silacyclobutane was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 0.5 hours. Volatiles were removed from the reaction mixture in vacuo and the residue was extracted with 50 grams of toluene. The toluene extract was separated, washed with water several times, and then dehydrated with anhydrous sodium sulfate. After filtration, the organic solvent was distilled off, and 6.7 g of colorless oily N-methylaminoisobutyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) was obtained as a colorless oil.
I got Analysis result: 1H-NMR spectrum: -0.07 (s,
12H), 0.2 (dd, 2H), 0.50 (dd, 2)
H), 0.70 (d, 6H), 0.8-1.1 (br,
2H), 1.6 (m, 2H), 2.0-2.2 (m, 4)
H), 2.2 (s, 6H), 7.1-7.6 (m, 30
H). 13C {1H} -NMR: 0.8, 1.0, 2
0.6, 23.9, 28.5, 36.2, 61.2, 1
27.2, 129.4, 129.6, 134.0, 13
4.3, 134.6, 135.2.29 Si {1H}-
NMR: -47.1, -46.7, 10.2.

【0065】(参考例18) (両末端3−(メタクリ
ロイロキシ)プロピルジメチルシリル基停止ヘキサフェ
ニルトリシロキサンの合成) 参考例15で得られたヘキサフェニルトリシロキサン−
1,5−ジオール12.2グラム、トリエチルアミン
4.4グラムを45ミリリットルのトルエンにとかした
ものに8.8グラムの3−(メタクリロイロキシ)プロ
ピルジメチルクロロシランを常温で加えたのち、40℃
で18時間攪拌した。反応混合物を250グラムの水に
注ぎ、有機物を50グラムのトルエンで2回抽出した。
トルエン抽出液をはじめに希塩酸で洗い、つづいてよく
水洗したのち、硫酸ソーダで脱水し、濾過した後溶媒を
除去し18.4グラムの両末端3−(メタクリロイロキ
シ)プロピルジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリ
シロキサンを得た。 分析結果:1H−NMRスペクトル:−0.08(s,
12H),0.35(t,4H),1.3−1.5
(m,4H),1.9(s,6H),3.9(t,4
H),5.5(d,2H),6.0(d,2H),7.
1−7.6(m,30H)。13C{1H}−NMRス
ペクトル:−0.3,13.7,18.1,22.1,
66.8,124.9,127.4,129.6,12
9.8,134.1,134.3,134.6,13
5.1,136.3,137.1。29Si{1H}−
NMRスペクトル:−46.8,−46.4,10.
3。
(Reference Example 18) (Synthesis of 3- (methacryloyloxy) propyldimethylsilyl group-terminated hexaphenyltrisiloxane at both ends) Hexaphenyltrisiloxane obtained in Reference Example 15
After 8.8 grams of 3- (methacryloyloxy) propyldimethylchlorosilane was added at room temperature to a mixture of 12.2 grams of 1,5-diol and 4.4 grams of triethylamine in 45 milliliters of toluene at 40 ° C.
It was stirred for 18 hours. The reaction mixture was poured into 250 grams of water and the organics were extracted twice with 50 grams of toluene.
The toluene extract was first washed with dilute hydrochloric acid, then thoroughly washed with water, dehydrated with sodium sulfate, filtered, and then the solvent was removed to obtain 18.4 g of 3- (methacryloyloxy) propyldimethylsilyl group-terminated hexaphenyl. Trisiloxane was obtained. Analysis result: 1H-NMR spectrum: -0.08 (s,
12H), 0.35 (t, 4H), 1.3-1.5
(M, 4H), 1.9 (s, 6H), 3.9 (t, 4)
H), 5.5 (d, 2H), 6.0 (d, 2H), 7.
1-7.6 (m, 30H). 13C {1H} -NMR spectrum: -0.3, 13.7, 18.1, 22.1,
66.8, 124.9, 127.4, 129.6, 12
9.8, 134.1, 134.3, 134.6, 13
5.1, 136.3, 137.1.29Si {1H}-
NMR spectrum: -46.8, -46.4, 10.
3.

【0066】(参考例19) (両末端3−(グリシド
キシ)プロピルジメチルシリル基停止ヘキサフェニルト
リシロキサンの合成) 参考例16で得られた1,1,9,9−テトラメチル−
3,3,5,5,7,7−ヘキサフェニルペンタシロキ
サン7.3グラム、0.86重量%の白金を含む0価の
白金−ビニルシロキサン錯体1マイクロリットルを35
グラムトルエンに溶かし、これに2.8グラムのアリル
グリシジルエーテルを加え、100℃で18時間攪拌し
た。反応混合物から溶媒と揮発性有機成分を溜去し8.
7グラムの両末端3−(グリシドキシ)プロピルジメチ
ルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサンを得た。 分析結果:1H−NMRスペクトル:0.08(s,1
2H),0.43(t,4H),1.4(tt,4
H),2.6(dd,2H),2.8(dd,2H),
3.1(m,2H),3.2−3.35(m,6H),
3.6(dd,2H),7.1−7.6(m,30
H)。13C{1H}−NMRスペクトル:−0.4,
13.6,22.8,43.9,50.4,50.4,
70.9,73.7,127.2,129.4,12
9.6,133.9,134.2,124.6,13
5.1。
(Reference Example 19) (Synthesis of 3- (glycidoxy) propyldimethylsilyl group-terminated hexaphenyltrisiloxane at both ends) 1,1,9,9-tetramethyl-obtained in Reference Example 16
35 g of 3,0,3,5,5,7,7-hexaphenylpentasiloxane, 7.3 g, and a 0-valent platinum-vinylsiloxane complex containing 0.86% by weight of platinum were used.
It was dissolved in gram toluene, 2.8 g of allyl glycidyl ether was added thereto, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 18 hours. 7. The solvent and volatile organic components were distilled off from the reaction mixture.
7 g of 3- (glycidoxy) propyldimethylsilyl group-terminated hexaphenyltrisiloxane at both ends was obtained. Analysis result: 1H-NMR spectrum: 0.08 (s, 1
2H), 0.43 (t, 4H), 1.4 (tt, 4
H), 2.6 (dd, 2H), 2.8 (dd, 2H),
3.1 (m, 2H), 3.2-3.35 (m, 6H),
3.6 (dd, 2H), 7.1-7.6 (m, 30
H). 13C {1H} -NMR spectrum: -0.4,
13.6, 22.8, 43.9, 50.4, 50.4,
70.9, 73.7, 127.2, 129.4, 12
9.6, 133.9, 134.2, 124.6, 13
5.1.

【0067】(参考例20) (両末端3−アミノプロ
ピルジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサ
ンの合成) 参考例16で得られた1,1,9,9−テトラメチル−
3,3,5,5,7,7−ヘキサフェニルペンタシロキ
サン7.3グラム、0.86重量%の白金を含む0価の
白金−ビニルシロキサン錯体4マイクロリットルを35
ミリリットルのトルエンに溶かし、これに5.2グラム
のN−トリメチルシリルアリルアミンを加え、100℃
で65時間攪拌した。反応後3.2グラムのメタノール
を加え攪拌したのち溶媒と揮発性有機成分を溜去し8.
3グラムの両末端3−アミノプロピルジメチルシリル基
停止ヘキサフェニルトリシロキサンを得た。 分析結果:1H−NMRスペクトル:−0.06(s,
12H),0.40(t,4H),1.0(br,2
H),1.15(tt,4H),2.45(t,4
H),7.2−7.7(m,30H)。29Si{1
H}−NMR:10.56,−46.6,−47.1。
Reference Example 20 (Synthesis of 3-Aminopropyldimethylsilyl Group Terminated Hexaphenyltrisiloxane at Both Terminals) 1,1,9,9-tetramethyl-obtained in Reference Example 16
35 g of 3,0,3,5,5,7,7-hexaphenylpentasiloxane, 7.3 g, 4 liters of 0-valent platinum-vinylsiloxane complex containing 0.86% by weight of platinum.
Dissolve in milliliters of toluene, add 5.2 grams of N-trimethylsilylallylamine to this, and add 100 ° C.
It was stirred for 65 hours. After the reaction, 3.2 g of methanol was added and stirred, and then the solvent and volatile organic components were distilled off.
3 grams of hexaphenyltrisiloxane terminated with 3-aminopropyldimethylsilyl groups at both ends was obtained. Analysis result: 1H-NMR spectrum: -0.06 (s,
12H), 0.40 (t, 4H), 1.0 (br, 2
H), 1.15 (tt, 4H), 2.45 (t, 4)
H), 7.2-7.7 (m, 30H). 29Si {1
H} -NMR: 10.56, -46.6, -47.1.

【0068】(参考例21)参考例17で得られた両末
端N−メチルアミノイソブチル基停止オリゴ(ジフェニ
ルシロキサン)0.45グラムを1グラムのトルエンに
溶かし、これをペンタエリスリトールテトラ(アクリレ
ート)0.26グラムを0.5グラムのトルエンに溶解
したものに加え一晩放置し、アクリロイル基へのアミノ
基のマイケル付加物を調製した。GPC分析によると両
末端N−メチルアミノイソブチル基停止オリゴ(ジフェ
ニルシロキサン)(Mw=454,Mn=446:ポリ
スチレン換算)がマイケル付加反応によって架橋し、M
w=1400,Mn=1010のポリマーを形成してい
た。
Reference Example 21 0.45 g of oligo (diphenylsiloxane) terminated with N-methylaminoisobutyl groups at both ends obtained in Reference Example 17 was dissolved in 1 g of toluene, and pentaerythritol tetra (acrylate) 0 was added. 0.26 g was added to a solution dissolved in 0.5 g of toluene, and the mixture was allowed to stand overnight to prepare a Michael adduct of amino group to acryloyl group. According to GPC analysis, N-methylaminoisobutyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) at both ends (Mw = 454, Mn = 446: polystyrene conversion) was crosslinked by a Michael addition reaction, and M
A polymer having w = 1400 and Mn = 1010 was formed.

【0069】(実施例1) (片末端ブチルジメチルシ
リル基他末端ジメチルシリル基停止オリゴ(ジフェニル
シロキサンの硬化物) 参考例4で得られた片末端ブチルジメチルシリル基他末
端ジメチルシリル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン
10部を90部の熱トルエンにとかしたものをスライド
グラスの上にキャストし、これを空気中30分放置して
溶媒を蒸発させた。このスライドグラスを400℃のオ
ーブンで45分間加熱硬化させると透明な脆いコーテイ
ング膜を生成した。
(Example 1) (One end butyldimethylsilyl group and other terminal dimethylsilyl group terminated oligo (cured product of diphenylsiloxane)) One terminal butyldimethylsilyl group and other terminal dimethylsilyl group terminated oligo obtained in Reference Example 4 ( 10 parts of diphenylsiloxane dissolved in 90 parts of hot toluene was cast on a slide glass and left in air for 30 minutes to evaporate the solvent.The slide glass was heated in an oven at 400 ° C for 45 minutes. Upon curing, it produced a transparent, brittle coating film.

【0070】(実施例2) (片末端ブチルビニルメチ
ルシリル基他末端ジメチルビニルシリル基停止オリゴ
(ジフェニルシロキサン)の硬化物) 参考例5で得られた片末端ブチルビニルメチルシリル基
他末端ジメチルビニルシリル基停止オリゴ(ジフェニル
シロキサン)10部を90部のトルエンにとかしたもの
をスライドグラスの上にキャストし、これを室温で放置
して溶媒を蒸発させた。このスライドグラスを400℃
のオーブンで60分間加熱硬化させた。冷却後の透明な
硬化コーテイング膜の評価によると鉛筆硬度4Hであっ
た。同様にシリコンウエハーおよびアルミニウム板の上
でコーテイング膜を調製した。鉛筆硬度は同じく4Hで
あった。
(Example 2) (Cured product of oligo (diphenylsiloxane) terminated with butylvinylmethylsilyl group at one terminal and dimethylvinylsilyl group at the other terminal) Butylvinylmethylsilyl group at one terminal and dimethylvinyl terminal at the other terminal obtained in Reference Example 5 10 parts of silyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) dissolved in 90 parts of toluene was cast on a slide glass, which was left at room temperature to evaporate the solvent. This slide glass is 400 ℃
In an oven for 60 minutes. The evaluation of the transparent cured coating film after cooling showed a pencil hardness of 4H. Similarly, a coating film was prepared on a silicon wafer and an aluminum plate. The pencil hardness was also 4H.

【0071】(実施例3) (片末端ブチルビニルメチ
ルシリル基他末端ジメチルビニルシリル基停止オリゴ
(ジフェニルシロキサン)の硬化物) 参考例6で得られた片末端ブチルビニルメチルシリル基
他末端ジメチルビニルシリル基停止オリゴ(ジフェニル
シロキサン)10部を90部のトルエンにとかしたもの
をスライドグラスの上にキャストし、これを空気中30
分放置して溶媒を蒸発させた。このスライドグラスを空
気中400℃のオーブンで1時間加熱硬化させた。冷却
後の透明な硬化コーテイング膜の鉛筆硬度は4Hであっ
た。
(Example 3) (Cured product of oligo (diphenylsiloxane) terminated with butylvinylmethylsilyl group at one end and dimethylvinylsilyl group at the other end) Butylvinylmethylsilyl group at the other end and dimethylvinyl end at the other end obtained in Reference Example 6 Thirty parts of silyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) dissolved in 90 parts of toluene was cast on a slide glass, which was then placed in air for 30 minutes.
The solvent was evaporated by standing for a minute. This slide glass was heat-cured in an air oven at 400 ° C. for 1 hour. The pencil hardness of the transparent cured coating film after cooling was 4H.

【0072】(実施例4) (片末端ブチルビニルメチ
ルシリル基−他末端(4−ビニルフェニル)ジメチルシ
リル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)の硬化物) 参考例7で得られた片末端ブチルビニルメチルシリル基
−他末端(4−ビニルフェニル)ジメチルシリル基停止
オリゴ(ジフェニルシロキサン)10部を90部のトル
エンにとかしたものをスライドグラスの上にキャスト
し、これを空気中30分放置して溶媒を蒸発させた。こ
のスライドグラスを空気中350℃のオーブンで10分
間加熱硬化させた。冷却後の透明な硬化コーテイング膜
の評価によると鉛筆硬度3Hであった。
(Example 4) (Butyl vinylmethylsilyl group at one end-cured product of oligo (diphenylsiloxane) terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group at the other end) Butylvinylmethyl at one end obtained in Reference Example 7 Silyl group-other terminal (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) 10 parts dissolved in 90 parts toluene was cast on a slide glass and left in the air for 30 minutes to prepare a solvent. Was evaporated. The slide glass was heat-cured in an oven at 350 ° C. for 10 minutes in the air. An evaluation of the transparent cured coating film after cooling showed a pencil hardness of 3H.

【0073】(実施例5) (片末端ブチルジエチルシ
リル基他末端トリエチルシリル基停止オリゴ(ジフェニ
ルシロキサン)の硬化物) 参考例8で得られた片末端ブチルジエチルシリル基他末
端トリエチルシリル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサ
ン)10部を90部のトルエンにとかしたものをスライ
ドグラスの上にキャストし、これを空気中に放置して溶
媒を蒸発させた。このスライドグラスを350℃のオー
ブンで15分間加熱後400℃で45分間加熱硬化させ
た。冷却後の透明な硬化コーテイング膜の鉛筆硬度は3
Hであった。同様にシリコンウエハー上で調製したコー
テイング膜も鉛筆硬度3Hを示した。
(Example 5) (Cured product of oligo (diphenylsiloxane) terminating with butyldiethylsilyl group at one end and triethylsilyl group at the other end) Oligo with terminating butyldiethylsilyl group at the other end and triethylsilyl group at the other end obtained in Reference Example 8 A solution prepared by dissolving 10 parts of (diphenylsiloxane) in 90 parts of toluene was cast on a slide glass and left in the air to evaporate the solvent. The slide glass was heated in an oven at 350 ° C. for 15 minutes and then heat-cured at 400 ° C. for 45 minutes. The pencil hardness of the transparent cured coating film after cooling is 3
It was H. Similarly, the coating film prepared on the silicon wafer also showed a pencil hardness of 3H.

【0074】(実施例6) (片末端ブチルジエチルシ
リル基−他末端トリプロピルシリル基停止オリゴ(ジフ
ェニルシロキサン)の硬化物) 参考例9で得られた片末端ブチルジエチルシリル基−他
末端トリプロピルシリル基停止オリゴ(ジフェニルシロ
キサン)10部を90部の熱トルエンにとかしたものを
スライドグラスの上にキャストし、これを空気中に放置
して溶媒を蒸発させた。このスライドグラスを空気中4
00℃のオーブンで1時間加熱硬化させた。冷却後の透
明な硬化コーテイング膜の鉛筆硬度は3Hであった。
Example 6 (Butyldiethylsilyl group at one terminal-tripropylsilyl group at the other terminal cured product of oligo (diphenylsiloxane) terminated) The butyldiethylsilyl group at one terminal-tripropyl at the other terminal obtained in Reference Example 9 10 parts of silyl group-stopped oligo (diphenylsiloxane) dissolved in 90 parts of hot toluene was cast on a slide glass, and this was left in the air to evaporate the solvent. This slide glass in the air 4
It was heat-cured in an oven at 00 ° C. for 1 hour. The pencil hardness of the transparent cured coating film after cooling was 3H.

【0075】(実施例7) (両末端ビニルジメチルシ
リル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)の硬化物) 参考例10で得られた両末端ビニルジメチルシリル基停
止オリゴ(ジフェニルシロキサン)10部を90部のト
ルエンにとかしたものをスライドグラスの上にキャスト
し、これを空気中30分放置して溶媒を蒸発させた。こ
のスライドグラスを空気中400℃のオーブンで45分
間加熱硬化させた。冷却後の透明な硬化コーテイング膜
の鉛筆硬度は8Hであった。
Example 7 (Cured product of oligo (diphenylsiloxane) terminated with vinyldimethylsilyl groups at both ends) 10 parts of oligo (diphenylsiloxane) terminated with vinyldimethylsilyl groups at both ends obtained in Reference Example 10 What was dissolved in toluene was cast on a slide glass, which was left in the air for 30 minutes to evaporate the solvent. This slide glass was heated and cured in an oven at 400 ° C. for 45 minutes in the air. The pencil hardness of the transparent cured coating film after cooling was 8H.

【0076】(実施例8) (両末端(4−ビニルフェ
ニル)ジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキ
サンの硬化物) 参考例11で得られた両末端(4−ビニルフェニル)ジ
メチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサン10
部を90部のトルエンにとかしたものをスライドグラス
の上にキャストし、これを空気中30分放置して溶媒を
蒸発させた。このスライドグラスを空気中でオーブンで
加熱硬化させた。300℃では2分間で鉛筆硬度3Hの
コーテイングが生成した。同様に260℃では3分間で
3Hの、220℃では35分間で2Hの鉛筆硬度のコー
テイングが生成した。
Example 8 (Cured product of hexaphenyltrisiloxane terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group at both ends) Hexaphenyl terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group obtained in Reference Example 11 Trisiloxane 10
Parts dissolved in 90 parts of toluene were cast on a slide glass and left in the air for 30 minutes to evaporate the solvent. The slide glass was cured by heating in an oven in air. A coating having a pencil hardness of 3H was formed in 2 minutes at 300 ° C. Similarly, a coating with a pencil hardness of 3H at 260 ° C in 3 minutes and 2H at 220 ° C in 35 minutes was produced.

【0077】(実施例9) (両末端(4−ビニルフェ
ニル)ジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキ
サンの硬化物) 参考例11で得られた両末端(4−ビニルフェニル)ジ
メチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサンを試
験管に入れ、窒素雰囲気下300℃で10分間加熱硬化
させた。冷却後の透明な硬化物は鉛筆硬度3H、ショア
D硬度80を示した。
Example 9 (Cured product of hexaphenyltrisiloxane terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group at both ends) Hexaphenyl terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group obtained in Reference Example 11 Trisiloxane was placed in a test tube and heat-cured at 300 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere. The transparent cured product after cooling showed a pencil hardness of 3H and a Shore D hardness of 80.

【0078】(実施例10) (両末端(4−ビニルフ
ェニル)ジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロ
キサンの硬化物) 参考例11で得られた両末端(4−ビニルフェニル)ジ
メチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサン10
部を90部のトルエンにとかしたものをスライドグラス
の上にキャストし、これを空気中30分放置して溶媒を
蒸発させた。このスライドグラスを窒素気流中300℃
で10分間加熱硬化させた。冷却後の透明な硬化コーテ
イング膜の評価によると鉛筆硬度3Hであった。シリコ
ンウエハー上でも同様の結果であった。
Example 10 (Cured product of hexaphenyltrisiloxane terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl groups at both ends) Hexaphenyl terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl groups obtained in Reference Example 11 Trisiloxane 10
Parts dissolved in 90 parts of toluene were cast on a slide glass and left in the air for 30 minutes to evaporate the solvent. This slide glass in a nitrogen stream at 300 ℃
It was heat-cured for 10 minutes. An evaluation of the transparent cured coating film after cooling showed a pencil hardness of 3H. Similar results were obtained on a silicon wafer.

【0079】(実施例11) (両末端(4−ビニルフ
ェニル)ジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロ
キサンの硬化物) 参考例11で得られた両末端(4−ビニルフェニル)ジ
メチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサン10
部を90部のトルエンにとかしたものに両末端(4−ビ
ニルフェニル)ジメチルシリル基停止ヘキサフェニルト
リシロキサンに対して0.85重量%のベンゾイルパー
オキシドを加えとかした。この溶液をスライドグラスの
上にキャストし、これを空気中30分放置して溶媒を蒸
発させた。このスライドグラスを窒素下110℃のオー
ブンで6分間加熱硬化させた。冷却後の透明な硬化コー
テイング膜の評価によると鉛筆硬度は3Hであった。ベ
ンゾイルパーオキシドのかわりに2,4−ジクロロベン
ゾイルパーオキシド、ジキュミルパーオキシド、また
は、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,
5−トリメチルシクロヘキサンを用い、150℃、5分
間の加熱で同様のコーテイングを得た。
Example 11 (Cured product of hexaphenyltrisiloxane terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group at both ends) Hexaphenyl terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group obtained in Reference Example 11 Trisiloxane 10
To 90 parts of toluene was added 0.85% by weight of benzoyl peroxide based on hexaphenyltrisiloxane terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl group at both ends. This solution was cast on a slide glass and left in the air for 30 minutes to evaporate the solvent. The slide glass was heat-cured for 6 minutes in an oven at 110 ° C. under nitrogen. Evaluation of the transparent cured coating film after cooling gave a pencil hardness of 3H. 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, or 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3 instead of benzoyl peroxide
The same coating was obtained by heating with 5-trimethylcyclohexane for 5 minutes at 150 ° C.

【0080】(実施例12) (両末端(4−ビニルフ
ェニル)ジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロ
キサンの硬化物) 参考例11で得られた両末端(4−ビニルフェニル)ジ
メチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサン10
部を90部のトルエンにとかしたものに両末端(4−ビ
ニルフェニル)ジメチルシリル基停止ヘキサフェニルト
リシロキサンに対して0.35重量%のベンゾイルパー
オキシド加え、この溶液をスライドグラスの上にキャス
トし、これを空気中30分放置して溶媒を蒸発させた。
このスライドグラスを窒素雰囲気下130℃のオーブン
で6分間加熱硬化させた。冷却後の透明な硬化コーテイ
ング膜の評価によると鉛筆硬度3Hであった。
(Example 12) (Cured product of hexaphenyltrisiloxane terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl groups at both ends) Hexaphenyl terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl groups at both ends obtained in Reference Example 11 Trisiloxane 10
To 90 parts of toluene was added 0.35% by weight of benzoyl peroxide to hexaphenyltrisiloxane terminated with (4-vinylphenyl) dimethylsilyl groups at both ends, and this solution was cast on a slide glass. It was then left in the air for 30 minutes to evaporate the solvent.
The slide glass was heat-cured for 6 minutes in an oven at 130 ° C. under a nitrogen atmosphere. An evaluation of the transparent cured coating film after cooling showed a pencil hardness of 3H.

【0081】(実施例13) (両末端ジメチルシリル
基停止ヘキサフェニルトリシロキサンの硬化物) 参考例12で得られた両末端ジメチルシリル基停止ヘキ
サフェニルトリシロキサン7.2部と参考例13で得ら
れた両末端ジアリルメチルシリル基停止ヘキサフェニル
トリシロキサン4.4部とを8部のトルエンにとかした
ものにシロキサンに対し0価の白金のビニルシロキサン
錯体(白金として10ppm )とCH3 Si(OC(CH
3 )2C≡CH)3 (100ppm )を加えた。この溶液
をスライドグラスの上にキャストし、これを空気中1時
間放置して溶媒を蒸発させた。このスライドグラスを1
50℃のオーブンで20分間加熱硬化させた。冷却後の
透明な硬化コーテイング膜の鉛筆硬度は2Hであった。
(Example 13) (Cured product of hexaphenyltrisiloxane terminated with dimethylsilyl groups at both ends) 7.2 parts of hexaphenyltrisiloxane terminated with dimethylsilyl groups at both ends obtained in Reference Example 12 and obtained in Reference Example 13 A mixture of 4.4 parts of hexaphenyltrisiloxane terminated with diallylmethylsilyl groups at both ends and 8 parts of toluene was added to a vinylsiloxane complex of 0-valent platinum with respect to siloxane (10 ppm as platinum) and CH 3 Si (OC). (CH
3 ) 2C≡CH) 3 (100 ppm) was added. This solution was cast on a slide glass and left in the air for 1 hour to evaporate the solvent. This slide glass 1
It was heat-cured in an oven at 50 ° C. for 20 minutes. The pencil hardness of the transparent cured coating film after cooling was 2H.

【0082】(実施例14) (両末端ジアリルメチル
シリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサンの硬化物) 参考例13で得られた両末端ジアリルメチルシリル基停
止ヘキサフェニルトリシロキサン6部とPhSi(OM
2 SiH)3 3部を10部のトルエンにとかしたもの
にシロキサンに対し0価の白金のビニルシロキサン錯体
(白金として10ppm )とCH3 Si(OC(CH3
2 C≡CH)3 (100ppm )を加えた。この溶液をス
ライドグラスの上にキャストし、これを空気中1時間放
置して溶媒を蒸発させた。このスライドグラスを150
℃のオーブンで20分間加熱硬化させた。冷却後の透明
な硬化コーテイング膜の評価によると鉛筆硬度はFであ
った。
Example 14 (Cured product of hexaphenyltrisiloxane terminated with diallylmethylsilyl groups at both ends) 6 parts of hexaphenyltrisiloxane terminated with diallylmethylsilyl groups at both ends obtained in Reference Example 13 and PhSi (OM)
3 parts of e 2 SiH) 3 dissolved in 10 parts of toluene, and a vinylsiloxane complex of 0-valent platinum with siloxane (10 ppm as platinum) and CH 3 Si (OC (CH 3 ).
2 C≡CH) 3 (100 ppm) was added. This solution was cast on a slide glass and left in the air for 1 hour to evaporate the solvent. 150 this slide glass
It was heat-cured in an oven at 0 ° C. for 20 minutes. The pencil hardness was F according to the evaluation of the transparent cured coating film after cooling.

【0083】(実施例15) (両末端ジアリルメチル
シリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサンの硬化物) 参考例13で得られた両末端ジアリルメチルシリル基停
止ヘキサフェニルトリシロキサン10部を90部のヘキ
サンにとかしたものをスライドグラスの上にキャスト
し、これを空気中30分放置して溶媒を蒸発させた。こ
のスライドグラスを空気中250℃で5分間加熱硬化さ
せた。冷却後の透明な硬化コーテイング膜の評価による
と鉛筆硬度2Hであった。同様に10分間加熱硬化した
ものの鉛筆硬度は3Hであった。
Example 15 (Cured product of hexaphenyltrisiloxane terminated with diallylmethylsilyl groups at both ends) 10 parts of hexaphenyltrisiloxane terminated with diallylmethylsilyl groups at both ends obtained in Reference Example 13 was added to 90 parts of hexane. The melted product was cast on a slide glass and left in the air for 30 minutes to evaporate the solvent. The slide glass was heat-cured in air at 250 ° C. for 5 minutes. An evaluation of the transparent cured coating film after cooling revealed a pencil hardness of 2H. Similarly, the pencil hardness of what was cured by heating for 10 minutes was 3H.

【0084】(実施例16) (両末端メチル(シクロ
トリメチレン)シリル基停止ヘキサフェニルトリシロキ
サンの硬化物) 参考例14で得られた両末端メチル(シクロトリメチレ
ン)シリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサン10部
を90部のトルエンにとかしたものをスライドグラスの
上にキャストし、これを空気中30分放置して溶媒を蒸
発させた。このスライドグラスを窒素気流中150℃で
1時間加熱硬化させた。冷却後の透明な硬化コーテイン
グ膜の評価によると鉛筆硬度Hであった。同様に空気中
240℃では60分間の加熱で、260℃では30分間
の加熱で、300℃では15分間の加熱で鉛筆硬度Hの
コーテイングが得られた。
(Example 16) (Cured product of hexaphenyltrisiloxane terminated with methyl (cyclotrimethylene) silyl groups at both terminals) Hexaphenyltrisiloxane terminated with methyl (cyclotrimethylene) silyl groups at both terminals obtained in Reference Example 14 A solution prepared by dissolving 10 parts of toluene in 90 parts of toluene was cast on a slide glass and left standing in the air for 30 minutes to evaporate the solvent. This slide glass was heated and cured at 150 ° C. for 1 hour in a nitrogen stream. The pencil hardness was H according to the evaluation of the transparent cured coating film after cooling. Similarly, a coating of pencil hardness H was obtained by heating in air at 240 ° C. for 60 minutes, at 260 ° C. for 30 minutes, and at 300 ° C. for 15 minutes.

【0085】(実施例17) (両末端メチル(シクロ
トリメチレン)シリル基停止ヘキサフェニルトリシロキ
サンの硬化物) 参考例14で得られた両末端メチル(シクロトリメチレ
ン)シリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサン10部
を90部のトルエンにとかしたものに、シロキサンに対
し10ppm になるように0価の白金のビニルシロキサン
錯体を加えた。この溶液をスライドグラスの上にキャス
トし、これを空気中30分放置して溶媒を蒸発させた。
このスライドグラスを空気中150℃で1分間加熱硬化
させた。冷却後の透明な硬化コーテイング膜の評価によ
ると鉛筆硬度Hであった。同様に110℃では70分間
の加熱で鉛筆硬度1Hのコーテイングを生成した。
(Example 17) (Cured product of hexaphenyltrisiloxane terminated with methyl (cyclotrimethylene) silyl groups at both terminals) Hexaphenyltrisiloxane terminated with methyl (cyclotrimethylene) silyl groups at both terminals obtained in Reference Example 14 A vinylsiloxane complex of 0-valent platinum was added to 10 parts of toluene dissolved in 90 parts of toluene so that the content of siloxane was 10 ppm. This solution was cast on a slide glass and left in the air for 30 minutes to evaporate the solvent.
The slide glass was heat-cured in air at 150 ° C. for 1 minute. The pencil hardness was H according to the evaluation of the transparent cured coating film after cooling. Similarly, heating at 110 ° C. for 70 minutes produced a coating having a pencil hardness of 1H.

【0086】(実施例18) (両末端ビニルジメチル
シリル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)の硬化
物) 参考例10で得られた両末端ビニルジメチルシリル基停
止オリゴ(ジフェニルシロキサン)3.8部とPhSi
(OMe2 SiH)3 2.8部を3.7部のトルエンに
とかしたものと6.3部の上記両末端ビニルジメチルシ
リル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)およびこの
両末端ビニルジメチルシリル基停止オリゴ(ジフェニル
シロキサン)に対して20ppm の白金(0価白金のビニ
ルシロキサン錯体)および微量(200ppm )のCH3
Si(OC(CH3 2 C≡CH)3 を3.6部のトル
エンに溶かしたものを1:1の割合で混ぜ、これをスラ
イドグラスの上にキャストし、空気中1時間放置して溶
媒を蒸発させた。このスライドグラスを空気中150℃
のオーブンで10分間加熱硬化させたところ透明な硬化
コーテイング膜(鉛筆硬度H)を得た。
(Example 18) (Cured product of oligo (diphenylsiloxane) terminated with vinyldimethylsilyl groups at both ends) 3.8 parts of oligo (diphenylsiloxane) terminated with vinyldimethylsilyl groups at both ends obtained in Reference Example 10 and PhSi
(OMe 2 SiH) 3 2.8 parts dissolved in 3.7 parts toluene, 6.3 parts of the above both-terminal vinyldimethylsilyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) and this both-terminal vinyldimethylsilyl group-terminated oligo 20ppm of platinum (vinyl siloxane complex of 0-valent platinum) and a small amount (200ppm) of CH 3 with respect to (diphenylsiloxane)
Si (OC (CH 3 ) 2 C≡CH) 3 dissolved in 3.6 parts of toluene was mixed at a ratio of 1: 1 and cast on a slide glass and left in the air for 1 hour. The solvent was evaporated. This slide glass in air at 150 ℃
When heat-cured for 10 minutes in the oven, a transparent cured coating film (pencil hardness H) was obtained.

【0087】(実施例19) (両末端3−(メタクリ
ロイロキシ)プロピルジメチルシリル基停止ヘキサフェ
ニルトリシロキサンの硬化) 参考例18で得られた両末端3−(メタクリロイロキ
シ)プロピルジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリ
シロキサンのトルエン溶液(50%)に該シロキサンに
対して1重量%のダロキュアー1173を加えこれをガ
ラス板上にスピンコートした。このガラス板を窒素雰囲
気下で高圧水銀ランプで10分間照射し硬化膜をえた。
該硬化膜は鉛筆硬度2Hを示し、臨界表面張力は30mN
/mであった。
(Example 19) (Curing of 3- (methacryloyloxy) propyldimethylsilyl group-terminated hexaphenyltrisiloxane at both ends) 3- (methacryloyloxy) propyldimethylsilyl group at both ends obtained in Reference Example 18 To a solution of stopped hexaphenyltrisiloxane in toluene (50%) was added 1% by weight of Darocurure 1173, based on the siloxane, which was spin coated onto a glass plate. This glass plate was irradiated with a high pressure mercury lamp for 10 minutes in a nitrogen atmosphere to obtain a cured film.
The cured film has a pencil hardness of 2H and a critical surface tension of 30 mN.
Was / m.

【0088】(実施例20) (両末端3−(メタクリ
ロイロキシ)プロピルジメチルシリル基停止ヘキサフェ
ニルトリシロキサンの硬化) 参考例18で得られた両末端3−(メタクリロイロキ
シ)プロピルジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリ
シロキサン1グラムを2グラムのトルエンに溶かしたも
のに該シロキサンに対して1重量%の過酸化ベンゾイル
を加え、この溶液をガラス板の上にキャストした。常温
で空気中に30分間放置しトルエンを蒸発させた後、窒
素雰囲気下150℃で10分間加熱し、該シロキサンを
硬化させた。膜の鉛筆硬度は2Hであり、臨界表面張力
は30mN/mであった。
(Example 20) (Curing of 3- (methacryloyloxy) propyldimethylsilyl group-terminated hexaphenyltrisiloxane at both ends) 3- (methacryloyloxy) propyldimethylsilyl group at both ends obtained in Reference Example 18 To a solution of 1 gram of stopped hexaphenyltrisiloxane in 2 grams of toluene was added 1% by weight of benzoyl peroxide based on the siloxane and the solution was cast onto a glass plate. After leaving it in the air at room temperature for 30 minutes to evaporate toluene, it was heated at 150 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere to cure the siloxane. The pencil hardness of the film was 2H and the critical surface tension was 30 mN / m.

【0089】(実施例21) (両末端3−(グリシド
キシ)プロピルジメチルシリル基停止ヘキサフェニルト
リシロキサンの硬化) 参考例19で得られた両末端3−(グリシドキシ)プロ
ピルジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサ
ン6.3グラムとトリエチレンテトラアミン0.33グ
ラムとを混合しこれをテフロン製の容器にいれ、これを
150℃で18時間加熱し硬化物を得た。硬化物のショ
アーA硬度は66であった。臨界表面張力は31mN/m
であった。
(Example 21) (Curing of hexaphenyltrisiloxane terminated with 3- (glycidoxy) propyldimethylsilyl group at both ends) Hexaphenyltri terminated with 3- (glycidoxy) propyldimethylsilyl group at both ends obtained in Reference Example 19 6.3 g of siloxane and 0.33 g of triethylene tetraamine were mixed and placed in a Teflon container, which was heated at 150 ° C. for 18 hours to obtain a cured product. The Shore A hardness of the cured product was 66. Critical surface tension is 31mN / m
Met.

【0090】(実施例22) (両末端3−アミノプロ
ピルジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサ
ンの硬化) 参考例20で得られた両末端3−アミノプロピルジメチ
ルシリル基停止ヘキサフェニルトリシロキサン0.5グ
ラムとを参考例5で得られた両末端3−(グリシドキ
シ)プロピルジメチルシリル基停止ヘキサフェニルトリ
シロキサン1.13グラムとを1.7グラムのトルエン
に溶解しこれをガラス板にキャストした。常温で30分
間放置しトルエンを蒸発させ、続いて150℃で3時間
加熱硬化した。硬化膜の鉛筆硬度はFであり、臨界表面
張力は31mN/mであった。
(Example 22) (Curing of hexaphenyltrisiloxane terminated with 3-aminopropyldimethylsilyl groups at both ends) 0.5-hexaphenyltrisiloxane terminated with 3-aminopropyldimethylsilyl groups at both ends obtained in Reference Example 20 Gram and 1.3-gram of hexaphenyltrisiloxane terminated with 3- (glycidoxy) propyldimethylsilyl groups at both ends obtained in Reference Example 5 were dissolved in 1.7 gram of toluene and cast on a glass plate. It was left at room temperature for 30 minutes to evaporate toluene, and then heat-cured at 150 ° C. for 3 hours. The cured film had a pencil hardness of F and a critical surface tension of 31 mN / m.

【0091】(実施例23) (両末端N−メチルアミ
ノイソブチル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)の
硬化) 参考例21で得られた両末端N−メチルアミノイソブチ
ル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)とテトラキス
(アクリロイロキシ)ペンタエリスリトールの付加物の
トルエン溶液に、溶質に対して1重量%の紫外線硬化用
開始剤ダロキュアー1173を添加しこれを空気中30
分間放置しトルエンを除去した。これを窒素雰囲気下高
圧水銀ランプに10分間露光し硬化した。膜の硬度は3
Hであり、臨界表面張力は32mN/mであった。
(Example 23) (Curing of N-methylaminoisobutyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) at both ends) N-methylaminoisobutyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) at both ends obtained in Reference Example 21 and tetrakis ( To a toluene solution of an adduct of acryloyloxy) pentaerythritol, 1% by weight of an ultraviolet curing initiator Darocur 1173 with respect to a solute was added, and this was added in air 30
Toluene was removed by standing for a minute. This was exposed to a high pressure mercury lamp for 10 minutes in a nitrogen atmosphere and cured. The hardness of the film is 3
H and the critical surface tension was 32 mN / m.

【0092】(実施例24) (両末端N−メチルアミ
ノイソブチル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)の
硬化) 参考例21で得られた両末端N−メチルアミノイソブチ
ル基停止オリゴ(ジフェニルシロキサン)とテトラキス
(アクリロイロキシ)ペンタエリスリトールの付加物の
トルエン溶液に、溶質に対して1重量%の過酸化ベンゾ
イルを添加し、これを空気中30分間放置しトルエンを
除去した。これを窒素雰囲気下で120℃、10分間加
熱硬化した。膜の硬度は3Hであり、臨界表面張力は3
2mN/mであった。
(Example 24) (Curing of N-methylaminoisobutyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) at both terminals) N-methylaminoisobutyl group-terminated oligo (diphenylsiloxane) at both terminals obtained in Reference Example 21 and tetrakis ( To a toluene solution of an adduct of acryloyloxy) pentaerythritol, 1% by weight of benzoyl peroxide with respect to the solute was added, and this was left in the air for 30 minutes to remove toluene. This was heat-cured at 120 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere. The hardness of the film is 3H and the critical surface tension is 3
It was 2 mN / m.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ジフェニルシロキサンオリゴマーの相変化温度
の分子量依存性を示すグラフ。
FIG. 1 is a graph showing the molecular weight dependence of the phase change temperature of a diphenylsiloxane oligomer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 立川 守 神奈川県伊勢原市東大竹2丁目20番地11 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Mamoru Tachikawa 2-20 Higashiootake 11 Isehara City Kanagawa Prefecture 11

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記式(1)で示されるジフェニルシロ
キサンオリゴマーを、下記(i),(ii)及び(iii )
から選ばれる条件下で加熱又は光照射により硬化反応を
生じさせる、ジフェニルシロキサン硬化物の製造方法。 【化1】 (式中、R1 ,R2 ,R3 の内の少なくとも1つの置換
基及びR6 ,R7 ,R8の内の少なくとも1つの置換基
は、水素原子又は炭素原子数2〜10の飽和もしくは不
飽和の炭化水素基で窒素、酸素、硫黄及びケイ素から選
ばれるヘテロ原子を含んでいてもよものであり(但し、
フェニル基及びアルキル置換フェニル基を除く)、ま
た、R1 ,R2 及びR3 の内2つが共同して環状の炭化
水素を形成していてもよく、R6 ,R7 及びR8 につい
てもR1 ,R2 ,R3 と同様であり、R1 ,R2
3 ,R6 ,R7 ,R8 の内の残りの基は、もしあれ
ば、メチル基、フェニル基又は炭素原子数7〜10のア
ルキル置換フェニル基であり;R4 とR5 は有機基であ
り、同時にフェニル基になることはなく、R9 とR10
有機基であり、同時にフェニル基になることはなく;1
≦m≦50であり;kとnは独立に、0≦k≦3,0≦
n≦3である) (i)硬化用触媒の存在下、(ii)重合用開始剤または
重合触媒の存在下、(iii )硬化用触媒及び重合用開始
剤の不存在下。
1. A diphenylsiloxane oligomer represented by the following formula (1) is converted into the following (i), (ii) and (iii)
A method for producing a cured product of diphenylsiloxane, which comprises causing a curing reaction by heating or light irradiation under a condition selected from the following. Embedded image (In the formula, at least one substituent of R 1 , R 2 , and R 3 and at least one substituent of R 6 , R 7 , and R 8 is a hydrogen atom or a saturated group having 2 to 10 carbon atoms. Alternatively, it may be an unsaturated hydrocarbon group containing a hetero atom selected from nitrogen, oxygen, sulfur and silicon (provided that
(Excluding a phenyl group and an alkyl-substituted phenyl group), and two of R 1 , R 2 and R 3 may jointly form a cyclic hydrocarbon, and R 6 , R 7 and R 8 R 1 , R 2 , and R 3 are the same as R 1 , R 2 ,
The remaining groups of R 3 , R 6 , R 7 and R 8 are methyl group, phenyl group or alkyl-substituted phenyl group having 7 to 10 carbon atoms, if any; R 4 and R 5 are organic. R 9 and R 10 are organic groups and cannot be phenyl groups at the same time; 1
≦ m ≦ 50; k and n are independently 0 ≦ k ≦ 3, 0 ≦
n ≦ 3) (i) in the presence of a curing catalyst, (ii) in the presence of a polymerization initiator or a polymerization catalyst, and (iii) in the absence of a curing catalyst and a polymerization initiator.
【請求項2】 前記硬化反応が重合反応であり、式
(1)で示されるジフェニルシロキサンオリゴマーにお
いて、R1 ,R2 ,R3 のうち少なくとも1つが重合反
応性の不飽和基を有するものでありかつR6 ,R7 ,R
8 のうち少なくとも1つが重合反応性の不飽和基を有す
るものであり、R1 ,R2 ,R3 ,R6 ,R7 ,R8
内の残りの基は、もしあれば、メチル基、フェニル基又
は炭素原子数7〜10のアルキル置換フェニル基であ
り、次のa,b,及びcから選ばれるひとつの方法をと
る請求項1記載のジフェニルシロキサン硬化物の製造方
法。 a:300℃以下の温度での紫外線照射 b:重合開始剤不存在下、100℃以上500℃以下の
温度での加熱 c:重合開始剤存在下、50℃以上500℃以下の温度
での加熱
2. The curing reaction is a polymerization reaction, and in the diphenylsiloxane oligomer represented by the formula (1), at least one of R 1 , R 2 and R 3 has a polymerization-reactive unsaturated group. Yes and R 6 , R 7 , R
At least one of 8 has a polymerizable reactive unsaturated group, and the remaining groups among R 1 , R 2 , R 3 , R 6 , R 7 and R 8 are methyl groups, if any. A phenyl group or an alkyl-substituted phenyl group having 7 to 10 carbon atoms, and the method for producing a diphenylsiloxane cured product according to claim 1, wherein one method selected from the following a, b, and c is adopted. a: UV irradiation at a temperature of 300 ° C or lower b: Heating at a temperature of 100 ° C to 500 ° C in the absence of a polymerization initiator c: Heating at a temperature of 50 ° C to 500 ° C in the presence of a polymerization initiator
【請求項3】 前記硬化反応が重合反応であり、式
(1)で示されるジフェニルシロキサンオリゴマーにお
いてR1 ,R2 ,R3 のうち少なくとも2つの置換基が
互いにつながってトリメチレン基あるいは置換トリメチ
レン基を形成し、よってシラシクロブタン構造を形成す
るものであり、R6 ,R7 ,R8 についてもR1
2 ,R3 と同様であり、R1 ,R2 ,R3 ,R6 ,R
7 ,R8 の内の残りの基は、もしあれば、メチル基、フ
ェニル基又は炭素原子数7〜10のアルキル置換フェニ
ル基であるものを白金化合物、金属白金又はロジウム化
合物から選ばれた硬化用触媒の存在下100℃以上で加
熱することにより開環重合させるものである請求項1記
載のジフェニルシロキサン硬化物の製造方法。
3. The curing reaction is a polymerization reaction, and in the diphenylsiloxane oligomer represented by the formula (1), at least two substituents of R 1 , R 2 and R 3 are connected to each other to form a trimethylene group or a substituted trimethylene group. To form a silacyclobutane structure, and R 6 , R 7 and R 8 are also R 1 ,
Similar to R 2 and R 3 , R 1 , R 2 , R 3 , R 6 and R
The remaining group of 7 , R 8 is a methyl group, a phenyl group, or an alkyl-substituted phenyl group having 7 to 10 carbon atoms, if any, which is selected from platinum compounds, metallic platinum or rhodium compounds. The method for producing a diphenylsiloxane cured product according to claim 1, wherein the ring-opening polymerization is performed by heating at 100 ° C. or higher in the presence of a catalyst for use.
【請求項4】 前記硬化反応が重合反応であり、式
(1)で示されるジフェニルシロキサンオリゴマーにお
いて、R1 ,R2 ,R3 の内少なくとも1つがエポキシ
基を含むアルキル基、アルケニル基又はアリール基であ
り、R6 ,R7 ,R8 の内少なくとも1つがエポキシ基
を含むアルキル基、アルケニル基又はアリール基であ
り、R1 ,R2 ,R3 ,R6 ,R7 ,R8 の内の残りの
基は、もしあれば、メチル基、フェニル基又は炭素原子
数7〜10のアルキル置換フェニル基であるものを重合
触媒の存在下に重合させて硬化させるものである請求項
1記載のジフェニルシロキサン硬化物の製造方法。
4. The diphenylsiloxane oligomer represented by the formula (1), wherein the curing reaction is a polymerization reaction, wherein at least one of R 1 , R 2 and R 3 contains an epoxy group such as an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group. At least one of R 6 , R 7 and R 8 is an epoxy group-containing alkyl group, alkenyl group or aryl group, and R 1 , R 2 , R 3 , R 6 , R 7 and R 8 The remaining groups in the group are those which, if any, are a methyl group, a phenyl group, or an alkyl-substituted phenyl group having 7 to 10 carbon atoms, which is polymerized and cured in the presence of a polymerization catalyst. A method for producing a cured product of diphenylsiloxane.
【請求項5】 前記硬化反応が酸化反応に基づくシロキ
サン結合形成反応であり、式(1)で示されるジフェニ
ルシロキサンオリゴマーにおいてR1 ,R2,R3 のう
ち少なくとも1つが、水素原子、直鎖状の飽和炭化水素
基、分岐状の飽和炭化水素基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アラルキル基及びR1 ,R2 ,R3 のうち2つの
置換基が互に結合してトリメチレン基、テトラメチレン
基、ペンタメチレン基から選ばれたるシラシクロ構造を
形成するものから選ばれる1種であり、R6 ,R7 ,R
8 においても同様であり、R1 ,R2 ,R3 ,R6 ,R
7 ,R8 の内の残りの基は、もしあれば、メチル基、フ
ェニル基又は炭素原子数7〜10のアルキル置換フェニ
ル基であるものを、酸素含有ガス中250℃以上の温度
で加熱するものである請求項1記載のジフェニルシロキ
サン硬化物の製造方法。
5. Shiroki where the curing reaction is based on an oxidation reaction
It is a sun bond formation reaction and is represented by the formula (1).
R in siloxane oligomer1, R2, R3Horse
At least one of which is a hydrogen atom or a linear saturated hydrocarbon
Group, branched saturated hydrocarbon group, alkenyl group, alkynyl group
Group, aralkyl group and R1, R2, R3Two out of
The substituents bond to each other to form a trimethylene group, tetramethylene group.
Group, a silacyclo structure selected from pentamethylene group
R is one kind selected from those formed.6, R7, R
8Is the same as in1, R2, R3, R6, R
7, R8The remaining groups in are the methyl group,
Phenyl group or alkyl-substituted phenyl having 7 to 10 carbon atoms
That is a ruthelic group in an oxygen-containing gas at a temperature of 250 ° C or higher
The diphenyl sirox according to claim 1, which is heated at
Manufacturing method of sun cured product.
【請求項6】 前記硬化反応が架橋剤又は鎖延長剤を介
する付加反応又は縮合反応である請求項1記載のジフェ
ニルシロキサン硬化物の製造方法。
6. The method for producing a diphenylsiloxane cured product according to claim 1, wherein the curing reaction is an addition reaction or a condensation reaction via a crosslinking agent or a chain extender.
【請求項7】 式(1)において、R1 ,R2 ,R3
内の少なくとも1つが炭素原子数2〜10のアルケニル
基、アルキニル基及びスチレン系置換基から選ばれる1
種であり、残りの基は、もしあれば、メチル基、フェニ
ル基又は炭素原子数7〜10のアルキル置換フェニル基
であり、R6 ,R7 ,R8 もR1 〜R 3 と同様に定義さ
れるものであり、前記架橋剤又は鎖延長剤が1分子中に
2個以上の≡SiH基を有するものであり、ヒドロシリ
ル化触媒の存在下でヒドロシリル化反応により硬化させ
る請求項6記載のジフェニルシロキサン硬化物の製造方
法。
7. In the formula (1), R1, R2, R3of
At least one of them is alkenyl having 2 to 10 carbon atoms.
1 selected from a group, an alkynyl group and a styrenic substituent
The remaining groups are methyl groups, phenyl groups, if any.
Group or an alkyl-substituted phenyl group having 7 to 10 carbon atoms
And R6, R7, R8Also R1~ R 3Defined as
The cross-linking agent or chain extender is contained in one molecule.
Hydrosilyl group having two or more ≡SiH groups
Curing by hydrosilylation reaction in the presence of
A method for producing a cured product of diphenylsiloxane according to claim 6.
Law.
【請求項8】 式(1)において、R1 ,R2 ,R3
内の少なくとも1つが水素原子であり、残りの基は、も
しあれば、メチル基、フェニル基又は炭素原子数2〜1
0のアルキル置換フェニル基であり、R6 ,R7 ,R8
もR1 〜R3と同様に定義されるものであり、前記架橋
剤又は鎖延長剤がアルケニル基、アルキニル基及びスチ
レン系置換基から選ばれる1種の官能基を1分子中に2
個以上有するものであり、ヒドロシリル化触媒の存在下
でヒドロシリル化反応により硬化させる請求項6に記載
のジフェニルシロキサン硬化物の製造方法。
8. In the formula (1), at least one of R 1 , R 2 and R 3 is a hydrogen atom, and the remaining group, if any, is a methyl group, a phenyl group or a carbon number of 2 to 2. 1
An alkyl-substituted phenyl group of 0, R 6 , R 7 , and R 8
Is also defined as R 1 to R 3 , and the cross-linking agent or chain extender has one functional group selected from an alkenyl group, an alkynyl group and a styrene-based substituent in 2 molecules in one molecule.
The method for producing a cured product of diphenylsiloxane according to claim 6, wherein the cured product has one or more and is cured by a hydrosilylation reaction in the presence of a hydrosilylation catalyst.
【請求項9】 式(1)においてR1 ,R2 ,R3 の内
の少なくとも1つがエポキシ基を有する有機基、アミノ
基を有する有機基、置換アミノ基を有する有機基、カル
ボキシル基を有する有機基、ヒドロキシル基を有する有
機基、メルカプト基を有する有機基、イソシアナート基
を有する有機基及びビニル基を有する有機基から選ばれ
る一種であり、R6 ,R7 ,R8 もR1 〜R3 と同様に
定義されるものであり、前記架橋剤又は鎖延長剤が上記
基と反応性をするエポキシ基、アミノ基、置換アミノ
基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、
イソシアネート基及びビニル基から選ばれる官能基を1
分子中に少なくとも2個有するものである請求項6に記
載のジフェニルシロキサン硬化物の製造方法。
9. In the formula (1), at least one of R 1 , R 2 and R 3 has an organic group having an epoxy group, an organic group having an amino group, an organic group having a substituted amino group, and a carboxyl group. It is one kind selected from an organic group, an organic group having a hydroxyl group, an organic group having a mercapto group, an organic group having an isocyanate group and an organic group having a vinyl group, and R 6 , R 7 and R 8 are also R 1 to It is defined in the same manner as R 3, and the epoxy group, the amino group, the substituted amino group, the carboxyl group, the hydroxyl group, the mercapto group, in which the crosslinking agent or the chain extender has reactivity with the above group,
1 functional group selected from isocyanate group and vinyl group
The method for producing a cured product of diphenylsiloxane according to claim 6, which has at least two in the molecule.
【請求項10】 請求項1〜9のいずれかの方法により
製造され、臨界表面張力が26mN/m以上であるジフェ
ニルシロキサン硬化物。
10. A cured product of diphenylsiloxane produced by the method according to claim 1 and having a critical surface tension of 26 mN / m or more.
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