JPH10309568A - 被処理水の紫外線消毒装置 - Google Patents
被処理水の紫外線消毒装置Info
- Publication number
- JPH10309568A JPH10309568A JP12225697A JP12225697A JPH10309568A JP H10309568 A JPH10309568 A JP H10309568A JP 12225697 A JP12225697 A JP 12225697A JP 12225697 A JP12225697 A JP 12225697A JP H10309568 A JPH10309568 A JP H10309568A
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- Japan
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- treated
- ultraviolet
- disinfection
- treated water
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 流入水量が変動しても紫外線暴露量が均一で
確実に消毒出来る。 【解決手段】 水槽16の被処理水が貯留された側17
に設けられ、被処理水流入口5及び処理水流出口6を有
するケーシング4と、このケーシング4の中に互いに平
行に並べて設けられ、紫外線を照射する複数の紫外線ラ
ンプ8とを備え、被処理水28をケーシング4の下部側
から上部側に流す。更に、処理水流出口に紫外線ランプ
8を水没させる処理水流出堰11を有する。
確実に消毒出来る。 【解決手段】 水槽16の被処理水が貯留された側17
に設けられ、被処理水流入口5及び処理水流出口6を有
するケーシング4と、このケーシング4の中に互いに平
行に並べて設けられ、紫外線を照射する複数の紫外線ラ
ンプ8とを備え、被処理水28をケーシング4の下部側
から上部側に流す。更に、処理水流出口に紫外線ランプ
8を水没させる処理水流出堰11を有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、下水処理水や浄水
(飲料水)の消毒、又は浄水処理工程や修景池の藻の発
生を防止する被処理水の紫外線消毒装置に関するもので
ある。
(飲料水)の消毒、又は浄水処理工程や修景池の藻の発
生を防止する被処理水の紫外線消毒装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】図5は、従来技術に係る被処理水の紫外
線消毒装置の一例を示す縦断面図である。従来の被処理
水の紫外線消毒装置2は、開水路に設けられた横型のも
ので、水槽16に流入した被処理水28は整流板22を
通り水平方向に複数配列された紫外線ランプ8の周囲を
水平方向に流れる。複数の紫外線ランプ8は枠体に支持
されてランプアッセンブリー7を形成している。水槽1
6の水位23は水位調整ゲート24によって維持されて
いる。被処理水28は、ランプアッセンブリーの紫外線
ランプ8で紫外線照射を受けて消毒され、処理水29と
なって開水路20を流出する。
線消毒装置の一例を示す縦断面図である。従来の被処理
水の紫外線消毒装置2は、開水路に設けられた横型のも
ので、水槽16に流入した被処理水28は整流板22を
通り水平方向に複数配列された紫外線ランプ8の周囲を
水平方向に流れる。複数の紫外線ランプ8は枠体に支持
されてランプアッセンブリー7を形成している。水槽1
6の水位23は水位調整ゲート24によって維持されて
いる。被処理水28は、ランプアッセンブリーの紫外線
ランプ8で紫外線照射を受けて消毒され、処理水29と
なって開水路20を流出する。
【0003】図6は、他の被処理水の紫外線消毒装置2
の例を示す縦断面図である。この被処理水の紫外線消毒
装置2は、開水路に設けられた横型のもので、図5の被
処理水の紫外線消毒装置と同様に、水槽16に流入した
被処理水28は整流板22を通り垂直方向に複数配列さ
れた紫外線ランプ8と直交する方向(水平方向)に流れ
る。複数配列された紫外線ランプ8はランプアッセンブ
リー7を形成している。水槽16の水位23は特殊堰2
5によって維持されている。被処理水28は、ランプア
ッセンブリーの紫外線ランプ8で紫外線照射を受けて消
毒され、処理水29となって開水路20を流出する。
の例を示す縦断面図である。この被処理水の紫外線消毒
装置2は、開水路に設けられた横型のもので、図5の被
処理水の紫外線消毒装置と同様に、水槽16に流入した
被処理水28は整流板22を通り垂直方向に複数配列さ
れた紫外線ランプ8と直交する方向(水平方向)に流れ
る。複数配列された紫外線ランプ8はランプアッセンブ
リー7を形成している。水槽16の水位23は特殊堰2
5によって維持されている。被処理水28は、ランプア
ッセンブリーの紫外線ランプ8で紫外線照射を受けて消
毒され、処理水29となって開水路20を流出する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記図
5、6に示す開水路に浸漬されたランプアセンブリー7
を流れる被処理水28の流速は、水面側が速く、底側が
遅くなるため水面側を流れる被処理水と底面側を流れる
被処理水とで紫外線暴露量が異なる。従って、水深、
幅、又は長さが異なっても同一の消毒性能が得られるよ
うにするには、三次元的な紫外線照射強度の評価と複雑
な水の流動解析が必要になることから共通した手順に基
づいてスケールアップをすることが難しいと云う問題が
あった。
5、6に示す開水路に浸漬されたランプアセンブリー7
を流れる被処理水28の流速は、水面側が速く、底側が
遅くなるため水面側を流れる被処理水と底面側を流れる
被処理水とで紫外線暴露量が異なる。従って、水深、
幅、又は長さが異なっても同一の消毒性能が得られるよ
うにするには、三次元的な紫外線照射強度の評価と複雑
な水の流動解析が必要になることから共通した手順に基
づいてスケールアップをすることが難しいと云う問題が
あった。
【0005】更に、図5に示す横型の被処理水の紫外線
消毒装置2は紫外線ランプを支えるランプ・サポート・
ラックの高さ制限(浸漬深さ最大約1m)から、一般に
は処理水量数万トン以上の大規模施設で水深1mを越え
る開水路の場合には適用出来ないことや、水深を1m未
満にすると大規模施設では多数の開水路を並列に設ける
必要があり各開水路への流入量を均等にするのが困難な
ことや流入水量の増加により水面が上昇すると水面近く
を流れる被処理水の紫外線ランプからの距離が遠くなり
紫外線照射が不足するため、開水路の水深変化を最小に
する複雑な水位調節ゲートを必要とする等の問題があっ
た。
消毒装置2は紫外線ランプを支えるランプ・サポート・
ラックの高さ制限(浸漬深さ最大約1m)から、一般に
は処理水量数万トン以上の大規模施設で水深1mを越え
る開水路の場合には適用出来ないことや、水深を1m未
満にすると大規模施設では多数の開水路を並列に設ける
必要があり各開水路への流入量を均等にするのが困難な
ことや流入水量の増加により水面が上昇すると水面近く
を流れる被処理水の紫外線ランプからの距離が遠くなり
紫外線照射が不足するため、開水路の水深変化を最小に
する複雑な水位調節ゲートを必要とする等の問題があっ
た。
【0006】又、図6に示す縦型は、長いランプを用い
ることにより横型の問題点を改良しているが、流入水量
の変動による開水路水深の変化を最小にするには高価な
特殊堰25を設けなければならないという問題があっ
た。
ることにより横型の問題点を改良しているが、流入水量
の変動による開水路水深の変化を最小にするには高価な
特殊堰25を設けなければならないという問題があっ
た。
【0007】本発明の第1の課題は、被処理水の流入水
量が変動しても紫外線暴露量が略均一で確実に消毒出来
ることである。
量が変動しても紫外線暴露量が略均一で確実に消毒出来
ることである。
【0008】本発明の第2の課題は、装置のスケールア
ップが容易であり、被処理水の水量が大きい大規模消毒
処理に対しても対応出来ることである。
ップが容易であり、被処理水の水量が大きい大規模消毒
処理に対しても対応出来ることである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、水槽に供給された被処理水に紫外線を照射し
て消毒する被処理水の紫外線消毒装置において、前記水
槽の被処理水が貯留された側に設けられ、下部に下部側
開口部及び上部に上部側開口部を有する囲いと、該囲い
の中に互いに平行に並べて設けられ、前記紫外線を照射
する複数の紫外線ランプとを備え、前記被処理水を前記
囲いの下部側から上部側に流すことである。下部側開口
部及び上部側開口部を有する囲いを設け、この囲いの下
部側から上部側に被処理水を流すことにより、囲いの中
のどの断面においても流速が略均一になり、紫外線ラン
プによる紫外線暴露量も略均一になる。囲いの長さを消
毒するに必要、十分な長さに形成しておけば被処理水は
確実に消毒される。
本発明は、水槽に供給された被処理水に紫外線を照射し
て消毒する被処理水の紫外線消毒装置において、前記水
槽の被処理水が貯留された側に設けられ、下部に下部側
開口部及び上部に上部側開口部を有する囲いと、該囲い
の中に互いに平行に並べて設けられ、前記紫外線を照射
する複数の紫外線ランプとを備え、前記被処理水を前記
囲いの下部側から上部側に流すことである。下部側開口
部及び上部側開口部を有する囲いを設け、この囲いの下
部側から上部側に被処理水を流すことにより、囲いの中
のどの断面においても流速が略均一になり、紫外線ラン
プによる紫外線暴露量も略均一になる。囲いの長さを消
毒するに必要、十分な長さに形成しておけば被処理水は
確実に消毒される。
【0010】更に、上記被処理水の紫外線消毒装置にお
いて、前記囲いは、前記紫外線ランプを水没させる水没
手段を有することである。紫外線ランプの水没手段を有
することにより、上記被処理水の紫外線消毒装置の作用
に加え、囲いの中に設けられた紫外線ランプの紫外線発
光部全体に渡って有効に使用され、その使用効率が向上
する。
いて、前記囲いは、前記紫外線ランプを水没させる水没
手段を有することである。紫外線ランプの水没手段を有
することにより、上記被処理水の紫外線消毒装置の作用
に加え、囲いの中に設けられた紫外線ランプの紫外線発
光部全体に渡って有効に使用され、その使用効率が向上
する。
【0011】更に、上記いずれかの被処理水の紫外線消
毒装置において、前記水没手段は、前記被処理水を消毒
した処理水を流れ落とす堰である。水没手段が堰である
ものは、上記いずれかの被処理水の紫外線消毒装置の作
用に加え、簡便な装置により紫外線ランプを水没させる
ことが出来、経済的な装置である。
毒装置において、前記水没手段は、前記被処理水を消毒
した処理水を流れ落とす堰である。水没手段が堰である
ものは、上記いずれかの被処理水の紫外線消毒装置の作
用に加え、簡便な装置により紫外線ランプを水没させる
ことが出来、経済的な装置である。
【0012】そして、上記いずれかの被処理水の紫外線
消毒装置において、前記囲いと前記紫外線ランプとを含
む紫外線消毒ユニットを開水路に複数連結したことであ
る。紫外線消毒ユニットを複数設けたことにより、上記
いずれかの被処理水の紫外線消毒装置の作用に加え、被
処理水の水量が大きい大規模装置に対しても対応するこ
とが出来る。
消毒装置において、前記囲いと前記紫外線ランプとを含
む紫外線消毒ユニットを開水路に複数連結したことであ
る。紫外線消毒ユニットを複数設けたことにより、上記
いずれかの被処理水の紫外線消毒装置の作用に加え、被
処理水の水量が大きい大規模装置に対しても対応するこ
とが出来る。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る被処理水の紫
外線消毒装置の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明
する。尚、図1〜4において、同一又は同等部分には同
一符号を付けて示す。
外線消毒装置の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明
する。尚、図1〜4において、同一又は同等部分には同
一符号を付けて示す。
【0014】図1は、本発明に係る被処理水の紫外線消
毒装置の第1実施の形態を示す縦断面図、図2は、図1
の平面図である。そして、図1は図2の I−I 線断面に
相当する。第1実施の形態の被処理水の紫外線消毒装置
1は、水槽16に供給された被処理水28に紫外線を照
射して消毒するものである。更に、被処理水の紫外線消
毒装置1は、水槽16の被処理水が貯留された側17に
浸漬した状態で設けられ、下部に下部側開口部である被
処理水流入口5及び上部に上部側開口部である処理水流
出口6を有する囲いとしての縦型のケーシング4と、こ
のケーシング4の中に互いに平行に並べて設けられ、紫
外線を照射する複数の紫外線ランプ8とを備え、紫外線
ランプ8は、ケーシング4の被処理水の流れ方向18に
沿って設けられている。被処理水28は、ケーシング4
の下部側から上部側に流される。ここで、複数の紫外線
ランプ8はランプアッセンブリー7を形成する。図1に
おいて、紫外線ランプは、ケーシング4の中に被処理水
の流れ方向に沿って鉛直方向に配列されているが、流れ
方向に直角、即ち水平方向に設けられても良い。
毒装置の第1実施の形態を示す縦断面図、図2は、図1
の平面図である。そして、図1は図2の I−I 線断面に
相当する。第1実施の形態の被処理水の紫外線消毒装置
1は、水槽16に供給された被処理水28に紫外線を照
射して消毒するものである。更に、被処理水の紫外線消
毒装置1は、水槽16の被処理水が貯留された側17に
浸漬した状態で設けられ、下部に下部側開口部である被
処理水流入口5及び上部に上部側開口部である処理水流
出口6を有する囲いとしての縦型のケーシング4と、こ
のケーシング4の中に互いに平行に並べて設けられ、紫
外線を照射する複数の紫外線ランプ8とを備え、紫外線
ランプ8は、ケーシング4の被処理水の流れ方向18に
沿って設けられている。被処理水28は、ケーシング4
の下部側から上部側に流される。ここで、複数の紫外線
ランプ8はランプアッセンブリー7を形成する。図1に
おいて、紫外線ランプは、ケーシング4の中に被処理水
の流れ方向に沿って鉛直方向に配列されているが、流れ
方向に直角、即ち水平方向に設けられても良い。
【0015】更に、ケーシング4は、このケーシング4
の処理水流出口6近傍に紫外線ランプ8を水没させる水
没手段として被処理水28を消毒した処理水29を流れ
落とす処理水流出堰11(処理水越流堰とも云う)を有
する。処理水流出堰11よって形成される処理水流出水
面13は、水路水面21より高くなるように開水路20
を設ける。処理水流出堰11を設けずに処理水流出口6
を開水路20に連結しても良い。尚、この場合は、開水
路20出口に流出堰を設ける。又、ケーシング4、ラン
プアッセンブリー7等を一つのセットとして紫外線消毒
ユニット3と呼ぶことにする。
の処理水流出口6近傍に紫外線ランプ8を水没させる水
没手段として被処理水28を消毒した処理水29を流れ
落とす処理水流出堰11(処理水越流堰とも云う)を有
する。処理水流出堰11よって形成される処理水流出水
面13は、水路水面21より高くなるように開水路20
を設ける。処理水流出堰11を設けずに処理水流出口6
を開水路20に連結しても良い。尚、この場合は、開水
路20出口に流出堰を設ける。又、ケーシング4、ラン
プアッセンブリー7等を一つのセットとして紫外線消毒
ユニット3と呼ぶことにする。
【0016】以上の構造を有する第1実施の形態の被処
理水の紫外線消毒装置1は、次のように作用する。即
ち、被処理水28は、ケーシング4下部の被処理水流入
口5から流入し、ケーシング4内を上昇する。ランプア
ッセンブリーの紫外線ランプ8に直角などの断面におい
ても流速は略均等になり、上昇する間に紫外線ランプ8
により紫外線照射を受け、被処理水28の紫外線暴露量
も略均一になる。ケーシング4とその中の紫外線ランプ
8の長さを消毒するに必要、十分な長さに形成しておけ
ば被処理水28は確実に消毒され、被処理水28中の細
菌等の微生物は死滅する。処理水29は、処理水流出口
6から処理水流出堰11の頂12より開水路20へ自然
流下する。
理水の紫外線消毒装置1は、次のように作用する。即
ち、被処理水28は、ケーシング4下部の被処理水流入
口5から流入し、ケーシング4内を上昇する。ランプア
ッセンブリーの紫外線ランプ8に直角などの断面におい
ても流速は略均等になり、上昇する間に紫外線ランプ8
により紫外線照射を受け、被処理水28の紫外線暴露量
も略均一になる。ケーシング4とその中の紫外線ランプ
8の長さを消毒するに必要、十分な長さに形成しておけ
ば被処理水28は確実に消毒され、被処理水28中の細
菌等の微生物は死滅する。処理水29は、処理水流出口
6から処理水流出堰11の頂12より開水路20へ自然
流下する。
【0017】更に、処理水流出口6近傍に処理水流出堰
11を設けることにより、簡便な装置によりランプアッ
センブリーの紫外線ランプ8を水没させ、ケーシング4
の中に設けられた紫外線ランプの紫外線発光部全体に渡
って有効に使用され、その使用効率も向上し経済的な装
置である。処理水流出堰の頂12は、処理水量がゼロで
も紫外線ランプ8の発光部分が水没するように形成され
ているので、被処理水28は水量が変動しても同一の紫
外線照射量を受けることになる。
11を設けることにより、簡便な装置によりランプアッ
センブリーの紫外線ランプ8を水没させ、ケーシング4
の中に設けられた紫外線ランプの紫外線発光部全体に渡
って有効に使用され、その使用効率も向上し経済的な装
置である。処理水流出堰の頂12は、処理水量がゼロで
も紫外線ランプ8の発光部分が水没するように形成され
ているので、被処理水28は水量が変動しても同一の紫
外線照射量を受けることになる。
【0018】又、水槽16の水面19と処理水流出堰1
1の水面13との距離ΔHはランプアッセンブリー7の
損失水頭に相当し、処理水流出堰11の水面13と処理
水流出堰の頂12との距離Δhは処理水流出堰11の越
流水深であり、流入水量の変動によりΔH及びΔhは変
化する。流入量ゼロの時は水槽の水面19は処理水流出
堰の頂12のレベルまで下がるが、この場合でも紫外線
ランプ8が水没するよう処理水流出堰の頂12の高さ位
置を決定する。
1の水面13との距離ΔHはランプアッセンブリー7の
損失水頭に相当し、処理水流出堰11の水面13と処理
水流出堰の頂12との距離Δhは処理水流出堰11の越
流水深であり、流入水量の変動によりΔH及びΔhは変
化する。流入量ゼロの時は水槽の水面19は処理水流出
堰の頂12のレベルまで下がるが、この場合でも紫外線
ランプ8が水没するよう処理水流出堰の頂12の高さ位
置を決定する。
【0019】図3は、本発明に係る被処理水の紫外線消
毒装置の第2実施の形態を示す平面図、図4は、図3の
II−II 線断面図である。第2実施の形態の被処理水の
紫外線消毒装置1は、図1、2に示した紫外線消毒ユニ
ット3を複数、この場合は水槽16の片側に四つ、両側
で合計八つ設けたものである。そして、各処理水流出堰
11の頂12(図4)を同一レベルとなるように、且つ
開水路20の水面より高く設定する。
毒装置の第2実施の形態を示す平面図、図4は、図3の
II−II 線断面図である。第2実施の形態の被処理水の
紫外線消毒装置1は、図1、2に示した紫外線消毒ユニ
ット3を複数、この場合は水槽16の片側に四つ、両側
で合計八つ設けたものである。そして、各処理水流出堰
11の頂12(図4)を同一レベルとなるように、且つ
開水路20の水面より高く設定する。
【0020】図4に示す水槽水面19と処理水流出堰1
1の水面13との距離ΔH、及び処理水流出堰11の水
面13と処理水流出堰の頂12との距離Δhは、それぞ
れ第1実施の形態の場合と同様に、ランプアッセンブリ
ーの損失水頭、処理水流出堰11の越流水深であり、そ
の設定は、それぞれ第1実施の形態の場合と同様に決定
される。
1の水面13との距離ΔH、及び処理水流出堰11の水
面13と処理水流出堰の頂12との距離Δhは、それぞ
れ第1実施の形態の場合と同様に、ランプアッセンブリ
ーの損失水頭、処理水流出堰11の越流水深であり、そ
の設定は、それぞれ第1実施の形態の場合と同様に決定
される。
【0021】第2実施の形態の被処理水の紫外線消毒装
置1は、紫外線消毒ユニット3を複数設けたことによ
り、被処理水の水量が大きい大規模装置に対しても対応
することが出来る。スケールアップは紫外線消毒ユニッ
ト3の設置基数を増やすだけで容易に対応出来る。又、
各ランプアッセンブリー7の3次元的な紫外線強度は水
槽16の水深や幅、長さの影響を受けず同一であり、先
に挙げた従来技術のような3次元的な紫外線強度の予測
計算や複雑な水の流動計算を必要としない。
置1は、紫外線消毒ユニット3を複数設けたことによ
り、被処理水の水量が大きい大規模装置に対しても対応
することが出来る。スケールアップは紫外線消毒ユニッ
ト3の設置基数を増やすだけで容易に対応出来る。又、
各ランプアッセンブリー7の3次元的な紫外線強度は水
槽16の水深や幅、長さの影響を受けず同一であり、先
に挙げた従来技術のような3次元的な紫外線強度の予測
計算や複雑な水の流動計算を必要としない。
【0022】更に、複数の処理水流出堰11の頂又は処
理水流出トラフ(開水路)の流出口に堰を設けることに
より各ランプアッセンブリー7へ流入する流量を略均等
にすることが出来る。
理水流出トラフ(開水路)の流出口に堰を設けることに
より各ランプアッセンブリー7へ流入する流量を略均等
にすることが出来る。
【0023】
【発明の効果】本発明の被処理水の紫外線消毒装置によ
れば、流入水量が変動しても紫外線暴露量が均一で確実
に消毒出来る。
れば、流入水量が変動しても紫外線暴露量が均一で確実
に消毒出来る。
【0024】又、本発明の被処理水の紫外線消毒装置
は、装置のスケールアップが容易で、被処理水の水量が
大きい大規模装置に対しても対応出来る。
は、装置のスケールアップが容易で、被処理水の水量が
大きい大規模装置に対しても対応出来る。
【図1】本発明に係る被処理水の紫外線消毒装置の第1
実施の形態を示す縦断面図である。
実施の形態を示す縦断面図である。
【図2】図1の平面図である。
【図3】本発明に係る被処理水の紫外線消毒装置の第2
実施の形態を示す平面図である。
実施の形態を示す平面図である。
【図4】図3の II−II 線断面図である。
【図5】従来技術に係る被処理水の紫外線消毒装置の一
例を示す縦断面図である。
例を示す縦断面図である。
【図6】図5と同様の他の被処理水の紫外線消毒装置の
例を示す縦断面図である。
例を示す縦断面図である。
1 被処理水の紫外線消毒装置 3 紫外線消毒ユニット 4 ケーシング(囲い) 5 被処理水流入口(下部側開口部) 6 処理水流出口(上部側開口部) 8 紫外線ランプ 11 処理水流出堰(水没手段) 16 水槽 17 被処理水が貯留された側 18 被処理水の流れ方向 28 被処理水 29 処理水
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石田 宏司 東京都中央区銀座五丁目2番1号 千代田 工販株式会社内
Claims (4)
- 【請求項1】 水槽に供給された被処理水に紫外線を照
射して消毒する被処理水の紫外線消毒装置において、前
記水槽の被処理水が貯留された側に設けられ、下部に下
部側開口部及び上部に上部側開口部を有する囲いと、該
囲いの中に互いに平行に並べて設けられ、前記紫外線を
照射する複数の紫外線ランプとを備え、前記被処理水を
前記囲いの下部側から上部側に流すことを特徴とする被
処理水の紫外線消毒装置。 - 【請求項2】 請求項1において、前記囲いは、前記紫
外線ランプを水没させる水没手段を有することを特徴と
する被処理水の紫外線消毒装置。 - 【請求項3】 請求項1又は2において、前記水没手段
は、前記被処理水を消毒した処理水を流れ落とす堰であ
ることを特徴とする被処理水の紫外線消毒装置。 - 【請求項4】 請求項1乃至3のいずれかにおいて、前
記囲いと前記紫外線ランプとを含む紫外線消毒ユニット
を開水路に複数連結したことを特徴とする被処理水の紫
外線消毒装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12225697A JPH10309568A (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 被処理水の紫外線消毒装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12225697A JPH10309568A (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 被処理水の紫外線消毒装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10309568A true JPH10309568A (ja) | 1998-11-24 |
Family
ID=14831458
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12225697A Pending JPH10309568A (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 被処理水の紫外線消毒装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10309568A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008307503A (ja) * | 2007-06-18 | 2008-12-25 | Maezawa Ind Inc | 紫外線照射装置 |
CN107935107A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-04-20 | 安徽理工大学 | 一种明渠式紫外线消毒装置 |
-
1997
- 1997-05-13 JP JP12225697A patent/JPH10309568A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008307503A (ja) * | 2007-06-18 | 2008-12-25 | Maezawa Ind Inc | 紫外線照射装置 |
CN107935107A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-04-20 | 安徽理工大学 | 一种明渠式紫外线消毒装置 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20040309 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
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A02 | Decision of refusal |
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