JPH10305223A - ガス加圧供給装置 - Google Patents
ガス加圧供給装置Info
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- JPH10305223A JPH10305223A JP11567497A JP11567497A JPH10305223A JP H10305223 A JPH10305223 A JP H10305223A JP 11567497 A JP11567497 A JP 11567497A JP 11567497 A JP11567497 A JP 11567497A JP H10305223 A JPH10305223 A JP H10305223A
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- gas
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 加熱・加圧処理装置を用いてＳｉウェーハの
微細化を行うに当って、短サイクルでの連続運転が可能
なガス加圧供給装置を提供する。 【解決手段】 吐出圧力が異なる２台以上の圧縮機２
１，２２を直列に接続するとともに各圧縮機２１，２２
の吐出側にリザーバ容器２３，２４，２５を設け、各リ
ザーバ容器から塞止弁Ｖ３，Ｖ４を介して処理用の圧力
容器１にガスを供給するような回路構成手段Ｌを備えて
いる。
微細化を行うに当って、短サイクルでの連続運転が可能
なガス加圧供給装置を提供する。 【解決手段】 吐出圧力が異なる２台以上の圧縮機２
１，２２を直列に接続するとともに各圧縮機２１，２２
の吐出側にリザーバ容器２３，２４，２５を設け、各リ
ザーバ容器から塞止弁Ｖ３，Ｖ４を介して処理用の圧力
容器１にガスを供給するような回路構成手段Ｌを備えて
いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱間等方圧プレス
（ＨＩＰ）処理、高圧ガス酸化・窒化などの処理や、超
臨界状態の流体を用いて洗浄処理を行うための高圧ガス
処理装置、すなわち被処理物が固体でバッチ処理となる
ような場合に用いられる加熱・加圧処理装置に関するも
のである。とくに、バッチ式でかつ数分のオーダでの短
時間処理を行なう装置のガス加圧供給装置に関するもの
である。
（ＨＩＰ）処理、高圧ガス酸化・窒化などの処理や、超
臨界状態の流体を用いて洗浄処理を行うための高圧ガス
処理装置、すなわち被処理物が固体でバッチ処理となる
ような場合に用いられる加熱・加圧処理装置に関するも
のである。とくに、バッチ式でかつ数分のオーダでの短
時間処理を行なう装置のガス加圧供給装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】Ｓｉ半導体すなわちＵＬＳＩの製造プロ
セスは、近年ウェーハを１枚ずつを数分のサイクルタイ
ムで処理するいわゆる枚葉式が生産性の観点や品質管理
の観点から主流となりつつある。一方、バッチ式で高圧
ガスを用いた最も工業的に普及しているプロセスはＨＩ
Ｐ法（熱間等方圧プレス法）であるが、このＨＩＰ法は
小形の装置で短時間に処理をおこなっても１サイクル３
〜５時間かかるのが通例である。
セスは、近年ウェーハを１枚ずつを数分のサイクルタイ
ムで処理するいわゆる枚葉式が生産性の観点や品質管理
の観点から主流となりつつある。一方、バッチ式で高圧
ガスを用いた最も工業的に普及しているプロセスはＨＩ
Ｐ法（熱間等方圧プレス法）であるが、このＨＩＰ法は
小形の装置で短時間に処理をおこなっても１サイクル３
〜５時間かかるのが通例である。
【０００３】枚葉式の半導体の処理に高圧ガスを利用し
たプロセスを適用するには、短サイクル化が大きな課題
である。ちなみに、通常のＨＩＰ法に用いられるＨＩＰ
装置では、サイクル全体が数時間以上のオーダで、加圧
に１〜２時間を要するのが通例であり、ダイヤフラム形
ガス圧縮機あるいは往復動形の増圧機をガス源であるガ
スボンベと処理用の圧力容器の間に設置して、ガス源の
圧力以上の圧力に加圧する時間帯においてこれらのガス
圧縮機を駆動する方式が用いられている。一方、Ｓｉウ
ェーハなどを枚葉式で処理する高圧の装置では、処理を
行なうプロセス圧力容器の容積は２〜１０リットルと小
さいものの、サイクルタイムが全体で数分から１０分の
オーダであり、加圧時間は１〜３分程度とＨＩＰ装置と
は比較にならない程短い。このため、ＨＩＰ装置のよう
なガス圧縮機の使い方、すなわち加圧時のみ圧縮機を駆
動する方法では、圧縮機として大流量のものが必要でか
つ間欠運転になるという大きな欠点を有している。
たプロセスを適用するには、短サイクル化が大きな課題
である。ちなみに、通常のＨＩＰ法に用いられるＨＩＰ
装置では、サイクル全体が数時間以上のオーダで、加圧
に１〜２時間を要するのが通例であり、ダイヤフラム形
ガス圧縮機あるいは往復動形の増圧機をガス源であるガ
スボンベと処理用の圧力容器の間に設置して、ガス源の
圧力以上の圧力に加圧する時間帯においてこれらのガス
圧縮機を駆動する方式が用いられている。一方、Ｓｉウ
ェーハなどを枚葉式で処理する高圧の装置では、処理を
行なうプロセス圧力容器の容積は２〜１０リットルと小
さいものの、サイクルタイムが全体で数分から１０分の
オーダであり、加圧時間は１〜３分程度とＨＩＰ装置と
は比較にならない程短い。このため、ＨＩＰ装置のよう
なガス圧縮機の使い方、すなわち加圧時のみ圧縮機を駆
動する方法では、圧縮機として大流量のものが必要でか
つ間欠運転になるという大きな欠点を有している。
【０００４】本発明が適用されるような半導体処理用の
高圧ガス装置としては、たとえば、配線膜の加圧埋込み
用の装置として特表平７−５０２３７６号公報に記載の
技術が提案されている。しかし、当該従来技術の明細書
には、「不活性ガス、典型的にはアルゴンは油圧ポンプ
によって高圧室（典型的には２００から２０００バール
の範囲」あるいは「圧力源から…パイプを通って封入空
間に供給される」程度の説明しかされておらず、具体的
な加圧の手段については記載されていない。また、「油
圧ポンプによって」は単動または往復動形の増圧機を指
すものと推定されるが、直接このような増圧機で加圧す
るならば、前述のような問題が提起される。
高圧ガス装置としては、たとえば、配線膜の加圧埋込み
用の装置として特表平７−５０２３７６号公報に記載の
技術が提案されている。しかし、当該従来技術の明細書
には、「不活性ガス、典型的にはアルゴンは油圧ポンプ
によって高圧室（典型的には２００から２０００バール
の範囲」あるいは「圧力源から…パイプを通って封入空
間に供給される」程度の説明しかされておらず、具体的
な加圧の手段については記載されていない。また、「油
圧ポンプによって」は単動または往復動形の増圧機を指
すものと推定されるが、直接このような増圧機で加圧す
るならば、前述のような問題が提起される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】以上述べたように特表
平７−５０２３７６号公報に示されたような従来技術に
よる高圧ガス処理装置に、ＨＩＰ装置のガス加圧供給装
置を用いたのでは、数分といった短サイクルでの装置の
運転、とくに生産工場において、何台もの装置を連続運
転する場合においても効率良く加圧を行なうことが困難
である等の操業上において重要な課題があった。
平７−５０２３７６号公報に示されたような従来技術に
よる高圧ガス処理装置に、ＨＩＰ装置のガス加圧供給装
置を用いたのでは、数分といった短サイクルでの装置の
運転、とくに生産工場において、何台もの装置を連続運
転する場合においても効率良く加圧を行なうことが困難
である等の操業上において重要な課題があった。
【０００６】本発明は、Ｓｉウェーハなどの板状の被処
理品を枚葉式で高圧ガス処理を行なうための装置におけ
る操業上に係る上述の課題すなわちバッチ式でかつ数分
のオーダでの短時間処理を行なう装置のガス加圧供給装
置を提供することが目的である。
理品を枚葉式で高圧ガス処理を行なうための装置におけ
る操業上に係る上述の課題すなわちバッチ式でかつ数分
のオーダでの短時間処理を行なう装置のガス加圧供給装
置を提供することが目的である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガス雰囲気下
で被処理品を加圧処理する装置に使用するガス加圧供給
装置において、前述の目的を達成するために次の技術的
手段を講じている。すなわち、請求項１に係る本発明で
は、吐出圧力が異なる複数基のガス圧縮機を直列に接続
するとともに各圧縮機の吐出側のそれぞれにリザーバ容
器を設け、該リザーバ容器のそれぞれから塞止弁を介し
て処理用の圧力容器に加圧したガスを供給する回路構成
手段を備えていることを特徴とするものである。
で被処理品を加圧処理する装置に使用するガス加圧供給
装置において、前述の目的を達成するために次の技術的
手段を講じている。すなわち、請求項１に係る本発明で
は、吐出圧力が異なる複数基のガス圧縮機を直列に接続
するとともに各圧縮機の吐出側のそれぞれにリザーバ容
器を設け、該リザーバ容器のそれぞれから塞止弁を介し
て処理用の圧力容器に加圧したガスを供給する回路構成
手段を備えていることを特徴とするものである。
【０００８】また、請求項２に係る本発明にあっては前
記請求項１の構成を前提として、リザーバ容器のひとつ
は、圧力容器による処理圧力よりも高い圧力値でガスを
貯留可能であることを特徴とするものである。更に、請
求項３に係る本発明にあっては前記請求項１又は２の構
成を前提として、複数の圧力容器が塞止弁を介して並列
に接続され、かつ各リザーバ容器と直列に接続される配
管系で結合されていることを特徴とするものである。
記請求項１の構成を前提として、リザーバ容器のひとつ
は、圧力容器による処理圧力よりも高い圧力値でガスを
貯留可能であることを特徴とするものである。更に、請
求項３に係る本発明にあっては前記請求項１又は２の構
成を前提として、複数の圧力容器が塞止弁を介して並列
に接続され、かつ各リザーバ容器と直列に接続される配
管系で結合されていることを特徴とするものである。
【０００９】また、請求項４に係る本発明にあっては前
記請求項１〜３の構成を前提として、ガス圧縮機がダイ
ヤフラム形圧縮機又は往復動形の増圧機であることを特
徴とするものである。更に、請求項５に係る本発明にあ
っては前記請求項１〜４の構成を前提として、リザーバ
容器がこれに貯留する加圧したガスの圧力が高圧用リザ
ーバ容器、中圧用リザーバ容器および低圧用リザーバ容
器に区分されており、前記低圧用リザーバ容器がガス源
用として備えられ、往復動形の増圧機の２組のガス圧シ
リンダ部の片方が、低圧用リザーバ容器からガスを吸込
み中圧用リザーバ容器に吐出する低圧段圧縮部とされ、
他方が、中圧用リザーバ容器からガスを吸込み高圧用リ
ザーバ容器に吐出する高圧段圧縮部とされていることを
特徴とするものである。
記請求項１〜３の構成を前提として、ガス圧縮機がダイ
ヤフラム形圧縮機又は往復動形の増圧機であることを特
徴とするものである。更に、請求項５に係る本発明にあ
っては前記請求項１〜４の構成を前提として、リザーバ
容器がこれに貯留する加圧したガスの圧力が高圧用リザ
ーバ容器、中圧用リザーバ容器および低圧用リザーバ容
器に区分されており、前記低圧用リザーバ容器がガス源
用として備えられ、往復動形の増圧機の２組のガス圧シ
リンダ部の片方が、低圧用リザーバ容器からガスを吸込
み中圧用リザーバ容器に吐出する低圧段圧縮部とされ、
他方が、中圧用リザーバ容器からガスを吸込み高圧用リ
ザーバ容器に吐出する高圧段圧縮部とされていることを
特徴とするものである。
【００１０】また、請求項６に係る本発明にあっては前
記した請求項５の構成を前提として低圧段圧縮部および
高圧段圧縮部を有する往復動形の増圧機を、その吸込み
側及び吐出側にそれぞれ塞止弁を備えて並列に複数台設
置していることを特徴とするものである。更に、請求項
７に係る本発明にあっては前記請求項４の構成を前提と
して、１台の往復動形の増圧機の２組のガス圧シリンダ
部を同一圧力仕様として各段に設置していることを特徴
とするものである。
記した請求項５の構成を前提として低圧段圧縮部および
高圧段圧縮部を有する往復動形の増圧機を、その吸込み
側及び吐出側にそれぞれ塞止弁を備えて並列に複数台設
置していることを特徴とするものである。更に、請求項
７に係る本発明にあっては前記請求項４の構成を前提と
して、１台の往復動形の増圧機の２組のガス圧シリンダ
部を同一圧力仕様として各段に設置していることを特徴
とするものである。
【００１１】本発明にあっては、前述した構成を採用し
たことによって、プロセス容器（圧力容器）内のガス圧
力を例えば 700kg／cm2 まで昇圧して操業するには以下
の昇圧方法を採用できる。 高圧リザーバ容器から直接プロセス容器へ一気にガ
スを流し込んで、プロセス容器内圧力を 700kg／cm2 に
する。又は 常時 450kg／cm2 に保たれた中圧リザーバ容器から
プロセス容器へガスを流し込んでプロセス容器内圧力を
400kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を行う。又は 常時 150kg／cm2 に保たれた低圧リザーバ容器から
プロセス容器へガスを流し込みプロセス容器内圧力を 1
00kg／cm2 まで昇圧した後の操作を行う。又は と同様 100kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を
行いプロセス容器内圧力を 400kg／cm2 、 700kg／cm2
と順々に昇圧する。
たことによって、プロセス容器（圧力容器）内のガス圧
力を例えば 700kg／cm2 まで昇圧して操業するには以下
の昇圧方法を採用できる。 高圧リザーバ容器から直接プロセス容器へ一気にガ
スを流し込んで、プロセス容器内圧力を 700kg／cm2 に
する。又は 常時 450kg／cm2 に保たれた中圧リザーバ容器から
プロセス容器へガスを流し込んでプロセス容器内圧力を
400kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を行う。又は 常時 150kg／cm2 に保たれた低圧リザーバ容器から
プロセス容器へガスを流し込みプロセス容器内圧力を 1
00kg／cm2 まで昇圧した後の操作を行う。又は と同様 100kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を
行いプロセス容器内圧力を 400kg／cm2 、 700kg／cm2
と順々に昇圧する。
【００１２】以上述べたように本発明により、特表平７
−５０２３７６号公報に示されたような従来技術による
高圧ガス処理装置の持つ問題点が解消可能となり、数分
といった短サイクルでの装置の運転、とくに生産工場に
おいて、何台もの装置を連続運転する場合においても効
率良く加圧を行なうことが可能となったのである。
−５０２３７６号公報に示されたような従来技術による
高圧ガス処理装置の持つ問題点が解消可能となり、数分
といった短サイクルでの装置の運転、とくに生産工場に
おいて、何台もの装置を連続運転する場合においても効
率良く加圧を行なうことが可能となったのである。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図を参照して本発明の実施
の形態について説明する。まず、図５を参照して本発明
に係るガス加圧供給装置を使用する加熱・加圧処理装置
についてその概要を説明する。図５において、プロセス
容器である圧力容器１は円筒形状であって、容器軸方向
で少くとも２つ以上に分割されている容器構成部材（以
下、上側部材２，下側部材３という）で構成されてお
り、その分割部には、Ｓｉウェーハ等の板状被処理品４
のための処理空間５を形成するための形状部分６Ａ，６
Ｂが上・下側部材２，３を容器軸方向に凹入することで
形成されている。
の形態について説明する。まず、図５を参照して本発明
に係るガス加圧供給装置を使用する加熱・加圧処理装置
についてその概要を説明する。図５において、プロセス
容器である圧力容器１は円筒形状であって、容器軸方向
で少くとも２つ以上に分割されている容器構成部材（以
下、上側部材２，下側部材３という）で構成されてお
り、その分割部には、Ｓｉウェーハ等の板状被処理品４
のための処理空間５を形成するための形状部分６Ａ，６
Ｂが上・下側部材２，３を容器軸方向に凹入することで
形成されている。
【００１４】処理空間５には、下側部材３の部分６Ｂ上
に下断熱構造物７Ｂが載設してあり、この構造物７Ｂ上
に加熱要素であるヒータ８が備えられているとともに、
上側部材２の部分６Ａには上断熱構造物７Ａが備えら
れ、これら断熱構造物７Ａ，７Ｂによって過度の熱が散
逸しないようにされていて、上断熱構造物７Ａは断面倒
立コップ形状とされて上側部材２に支持されている。
に下断熱構造物７Ｂが載設してあり、この構造物７Ｂ上
に加熱要素であるヒータ８が備えられているとともに、
上側部材２の部分６Ａには上断熱構造物７Ａが備えら
れ、これら断熱構造物７Ａ，７Ｂによって過度の熱が散
逸しないようにされていて、上断熱構造物７Ａは断面倒
立コップ形状とされて上側部材２に支持されている。
【００１５】処理空間５の外周を取り囲んで分割部に
は、シールリング９が交換自在として備えられており、
このシールリング９のための冷却手段１０が備えられて
いる。上・下側部材２，３は昇降用アクチュエータ１１
の動作で分割部から上・下に解離自在であり、この解離
状態において、処理空間５に被処理品４を搬入する通路
が形成され、この通路２はその外周が真空チャンバ１２
によって取囲まれており、該チャンバ１２には、被処理
品４の搬送口１３が備えられているとともに、上・下側
部材２，３の容器軸方向の動きに追従し、かつ、真空度
を確保するために、チャンバ１２と下側部材３とは伸縮
自在なベローズ周壁１４で接続されている。
は、シールリング９が交換自在として備えられており、
このシールリング９のための冷却手段１０が備えられて
いる。上・下側部材２，３は昇降用アクチュエータ１１
の動作で分割部から上・下に解離自在であり、この解離
状態において、処理空間５に被処理品４を搬入する通路
が形成され、この通路２はその外周が真空チャンバ１２
によって取囲まれており、該チャンバ１２には、被処理
品４の搬送口１３が備えられているとともに、上・下側
部材２，３の容器軸方向の動きに追従し、かつ、真空度
を確保するために、チャンバ１２と下側部材３とは伸縮
自在なベローズ周壁１４で接続されている。
【００１６】圧力容器１内で加熱・加圧処理していると
き、上側部材２および下側部材３には、高圧ガスの圧力
により容器の円周方向の応力と軸方向の荷重が発生す
る。円周方向の応力については各容器の径方向の肉厚を
最適設計することにより決定される。上側部材２および
下側部材３に発生する荷重（軸力）は、コッタ１５、耐
圧板１６、ガス導入孔１７Ａを有するガス圧ラム１７を
介して最終的に窓枠型のプレスフレーム１８により支持
される。実際には、この軸方向の荷重は、上側部材２と
下側部材３の分割面で両容器を解離する方向に作用す
る。また、この荷重はプレスフレーム１８のコラム部を
引き伸ばすとともにコッタ１５とプレスフレーム１８に
おける上プラテンと下ボトムに挟まれた空間の部材を圧
縮する方向に作用する。このため、上下部材２，３の分
割面には解離しがちな力が常に発生している。
き、上側部材２および下側部材３には、高圧ガスの圧力
により容器の円周方向の応力と軸方向の荷重が発生す
る。円周方向の応力については各容器の径方向の肉厚を
最適設計することにより決定される。上側部材２および
下側部材３に発生する荷重（軸力）は、コッタ１５、耐
圧板１６、ガス導入孔１７Ａを有するガス圧ラム１７を
介して最終的に窓枠型のプレスフレーム１８により支持
される。実際には、この軸方向の荷重は、上側部材２と
下側部材３の分割面で両容器を解離する方向に作用す
る。また、この荷重はプレスフレーム１８のコラム部を
引き伸ばすとともにコッタ１５とプレスフレーム１８に
おける上プラテンと下ボトムに挟まれた空間の部材を圧
縮する方向に作用する。このため、上下部材２，３の分
割面には解離しがちな力が常に発生している。
【００１７】これらの力により、分割面が解離しはじ
め、シールリング９が接触しなくなると、高圧ガス空間
の高圧ガスが外部に漏れ出して所期の高温高圧処理は実
施不可能となる。この解離による高圧ガスの漏れを防止
するための方策の一つは、両部材２，３の解離時の隙間
の拡大に対する追随性にすぐれた弾性体をシールリング
９に用いることである。弾性体という点ではゴム系統を
含めた樹脂がもっとも弾性的な特性、すなわち大きな変
位に対しても追随できる特性を持っている。ただし、欠
点として、耐熱性に乏しく、耐熱性のすぐれたシリコン
樹脂あるいは、フッ素樹脂系のものでも 300℃程度が常
用の限界である。このような比較的耐熱性に優れた樹脂
性のシールリング９を用いるとともに、上側部材２およ
び、下側部材３のいずれかもしくは両方に冷却水を導入
する冷却手段１０を備えることでシールリング部分の温
度が上昇しても使用している樹脂の耐熱温度以下に保持
するように構成している。
め、シールリング９が接触しなくなると、高圧ガス空間
の高圧ガスが外部に漏れ出して所期の高温高圧処理は実
施不可能となる。この解離による高圧ガスの漏れを防止
するための方策の一つは、両部材２，３の解離時の隙間
の拡大に対する追随性にすぐれた弾性体をシールリング
９に用いることである。弾性体という点ではゴム系統を
含めた樹脂がもっとも弾性的な特性、すなわち大きな変
位に対しても追随できる特性を持っている。ただし、欠
点として、耐熱性に乏しく、耐熱性のすぐれたシリコン
樹脂あるいは、フッ素樹脂系のものでも 300℃程度が常
用の限界である。このような比較的耐熱性に優れた樹脂
性のシールリング９を用いるとともに、上側部材２およ
び、下側部材３のいずれかもしくは両方に冷却水を導入
する冷却手段１０を備えることでシールリング部分の温
度が上昇しても使用している樹脂の耐熱温度以下に保持
するように構成している。
【００１８】また、二つめの方策として、上述の軸方向
の荷重に対して、上側部材２と下側部材３を分割面で常
に密着させるためのガス圧ラム１７を用いている。この
ガス圧ラム１７には基本的に上記高圧ガス処理空間５に
充填されるガスと同じ圧力のガスを導入する。このた
め、常に、容器の分割面を密着させておくためには、こ
のガス圧ラム１８の受圧面積を、高圧ガス処理空間５の
シールリング部分の外径で規定される面積よりも大きく
設計されている。
の荷重に対して、上側部材２と下側部材３を分割面で常
に密着させるためのガス圧ラム１７を用いている。この
ガス圧ラム１７には基本的に上記高圧ガス処理空間５に
充填されるガスと同じ圧力のガスを導入する。このた
め、常に、容器の分割面を密着させておくためには、こ
のガス圧ラム１８の受圧面積を、高圧ガス処理空間５の
シールリング部分の外径で規定される面積よりも大きく
設計されている。
【００１９】このような設計とすることにより、ガス圧
が供給されている限り、常に上側および下側部材２，３
よりなる容器１は分割面で密着した状態が維持され、前
記の弾性体である樹脂製シールリング９のシール作用と
の相乗効果により高圧ガス処理空間５内部の高圧ガスが
分割面から外部に漏出することが防止できる。なお、こ
れらの方策とともに、窓枠状のプレス枠体（プレスフレ
ーム）１８を組み合せることにより、全体としてコンパ
クト且つ安全性にすぐれた装置を提供することが可能と
なる。すなわち、窓枠型のプレス枠体では、コラム
（柱）部分の断面積を調整することにより、軸方向の伸
びをほぼ任意に選定することが可能で、且つ応力レベル
を調整することにより、1000kgf/cm2 を越えるような高
圧力を利用する場合に対しても、10,000,000回以上の使
用にたえるような疲労評価を含めた設計を行なうことが
できる。
が供給されている限り、常に上側および下側部材２，３
よりなる容器１は分割面で密着した状態が維持され、前
記の弾性体である樹脂製シールリング９のシール作用と
の相乗効果により高圧ガス処理空間５内部の高圧ガスが
分割面から外部に漏出することが防止できる。なお、こ
れらの方策とともに、窓枠状のプレス枠体（プレスフレ
ーム）１８を組み合せることにより、全体としてコンパ
クト且つ安全性にすぐれた装置を提供することが可能と
なる。すなわち、窓枠型のプレス枠体では、コラム
（柱）部分の断面積を調整することにより、軸方向の伸
びをほぼ任意に選定することが可能で、且つ応力レベル
を調整することにより、1000kgf/cm2 を越えるような高
圧力を利用する場合に対しても、10,000,000回以上の使
用にたえるような疲労評価を含めた設計を行なうことが
できる。
【００２０】また、このプレスフレーム１８の形状を２
枚に分割して２枚のフレームの間、すなわち、圧力容器
１の中心軸部分に、圧媒ガスの供給・排出孔１９Ａを有
するガス導入手段１９を設ける設計を行なうことが推奨
される。このような配置とすることにより、数分／サイ
クルといった短サイクルでの高温高圧ガス処理を行なう
際に、必須となる高圧ガスの高速供給時に発生する高圧
ガス処理空間内での温度の乱れを、軸対称にすることで
回避可能となり、被処理品の温度分布の管理が容易とな
る。
枚に分割して２枚のフレームの間、すなわち、圧力容器
１の中心軸部分に、圧媒ガスの供給・排出孔１９Ａを有
するガス導入手段１９を設ける設計を行なうことが推奨
される。このような配置とすることにより、数分／サイ
クルといった短サイクルでの高温高圧ガス処理を行なう
際に、必須となる高圧ガスの高速供給時に発生する高圧
ガス処理空間内での温度の乱れを、軸対称にすることで
回避可能となり、被処理品の温度分布の管理が容易とな
る。
【００２１】すなわち、ガス導入手段１９の導入部材１
９Ｂが圧力容器１の軸心上に備えられ、この導入部材１
９Ｂを挟む両側に窓枠形状のプレスフレーム１８が備え
られ、該プレスフレーム１８は導入部材１９Ｂを挟む両
側において互いに遠近移動自在とされていて圧力容器１
の両端面に対して係脱自在である構成を採用しているの
である。
９Ｂが圧力容器１の軸心上に備えられ、この導入部材１
９Ｂを挟む両側に窓枠形状のプレスフレーム１８が備え
られ、該プレスフレーム１８は導入部材１９Ｂを挟む両
側において互いに遠近移動自在とされていて圧力容器１
の両端面に対して係脱自在である構成を採用しているの
である。
【００２２】上述した加熱・加圧処理装置に使用する本
発明に係るガス加圧供給装置の実施の形態が図１に示し
てあり、図１において、吐出圧力が異なる複数基のガス
圧縮機本例では高・低圧のダイヤフラム形圧縮機２１，
２２を直列に接続するとともに各圧縮機２１，２２の吐
出側のそれぞれに塞止弁Ｖ１，Ｖ２を介してリザーバ容
器本例では高・中圧用のリザーバ容器２３，２４を設
け、該リザーバ容器２３，２４のそれぞれから塞止弁Ｖ
３，Ｖ４を介して処理用の圧力容器１に加圧したガスを
供給する回路構成手段Ｌを備えている。
発明に係るガス加圧供給装置の実施の形態が図１に示し
てあり、図１において、吐出圧力が異なる複数基のガス
圧縮機本例では高・低圧のダイヤフラム形圧縮機２１，
２２を直列に接続するとともに各圧縮機２１，２２の吐
出側のそれぞれに塞止弁Ｖ１，Ｖ２を介してリザーバ容
器本例では高・中圧用のリザーバ容器２３，２４を設
け、該リザーバ容器２３，２４のそれぞれから塞止弁Ｖ
３，Ｖ４を介して処理用の圧力容器１に加圧したガスを
供給する回路構成手段Ｌを備えている。
【００２３】図１において、吸込側と吐出側に塞止弁Ｖ
５，Ｖ６を有する低圧用リザーバ容器２５はガス源とさ
れており、塞止弁Ｖ７を有する補給用のガスボンベ２６
を備えており、各リザーバ容器２３、２４、２５の吐出
側には圧力計Ｐ１〜Ｐ３が備えられていて該リザーバ容
器２３〜２５に貯留されるガスの圧力が計測可能である
とともに、絞りを有する流量制御弁Ｖ８〜Ｖ９を吐出側
に備えることで塞止弁Ｖ１０を介して圧力容器１に供給
されるガスによる被処理物の踊りを防止している。
５，Ｖ６を有する低圧用リザーバ容器２５はガス源とさ
れており、塞止弁Ｖ７を有する補給用のガスボンベ２６
を備えており、各リザーバ容器２３、２４、２５の吐出
側には圧力計Ｐ１〜Ｐ３が備えられていて該リザーバ容
器２３〜２５に貯留されるガスの圧力が計測可能である
とともに、絞りを有する流量制御弁Ｖ８〜Ｖ９を吐出側
に備えることで塞止弁Ｖ１０を介して圧力容器１に供給
されるガスによる被処理物の踊りを防止している。
【００２４】ここで高圧用リザーバ容器２３は圧縮機２
１によって処理圧力（ 700kg／cm2）よりも高い圧力で
アルゴン、窒素等の不活性ガスを貯留可能であり、中圧
用リザーバ容器２４は圧縮機２２によって 450kg／cm2
のガスを貯留可能であり、また、低圧用リザーバ容器２
５は 150kg／cm2 のガスを貯留可能であり、従って、圧
力容器１の処理空間５を含めて真空ポンプ２７によって
ガス置換（真空引き）してから、圧力容器１の処理空間
５を 700kg／cm2 まで昇圧するには以下のいずれかの昇
圧方法を援用できるのである（なお、処理空間５のガス
圧力は圧力計Ｐａによって計測可能である）。 高圧リザーバ容器２１から直接プロセス容器１へ一
気にガスを流し込んで、昇圧するときは、塞止弁Ｖ３，
Ｖ１０を開にしてプロセス容器１内圧力を 700kg／cm2
にする。又は 常時 450kg／cm2 に保たれた中圧リザーバ容器２４
から塞止弁Ｖ４およびＶ１０を開にしてプロセス容器１
へガスを流し込んでプロセス容器内圧力を 400kg／cm2
まで昇圧した後、の操作を行う。又は 常時 150kg／cm2 に保たれた低圧リザーバ容器２５
からプロセス容器１へガスを流し込みプロセス容器１内
圧力を 100kg／cm2 まで昇圧した後の操作を行う。又
は と同様 100kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を
行いプロセス容器１内圧力を 400kg／cm2 、 700kg／cm
2 と順々に昇圧する。
１によって処理圧力（ 700kg／cm2）よりも高い圧力で
アルゴン、窒素等の不活性ガスを貯留可能であり、中圧
用リザーバ容器２４は圧縮機２２によって 450kg／cm2
のガスを貯留可能であり、また、低圧用リザーバ容器２
５は 150kg／cm2 のガスを貯留可能であり、従って、圧
力容器１の処理空間５を含めて真空ポンプ２７によって
ガス置換（真空引き）してから、圧力容器１の処理空間
５を 700kg／cm2 まで昇圧するには以下のいずれかの昇
圧方法を援用できるのである（なお、処理空間５のガス
圧力は圧力計Ｐａによって計測可能である）。 高圧リザーバ容器２１から直接プロセス容器１へ一
気にガスを流し込んで、昇圧するときは、塞止弁Ｖ３，
Ｖ１０を開にしてプロセス容器１内圧力を 700kg／cm2
にする。又は 常時 450kg／cm2 に保たれた中圧リザーバ容器２４
から塞止弁Ｖ４およびＶ１０を開にしてプロセス容器１
へガスを流し込んでプロセス容器内圧力を 400kg／cm2
まで昇圧した後、の操作を行う。又は 常時 150kg／cm2 に保たれた低圧リザーバ容器２５
からプロセス容器１へガスを流し込みプロセス容器１内
圧力を 100kg／cm2 まで昇圧した後の操作を行う。又
は と同様 100kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を
行いプロセス容器１内圧力を 400kg／cm2 、 700kg／cm
2 と順々に昇圧する。
【００２５】図２は、本発明の第２の実施の形態を示し
ており、図１で示した回路に、プロセス容器１をひとつ
追加したものである。すなわち、図２に示した例では、
複数（図では２台）の圧力容器１が塞止弁Ｖ３−１，Ｖ
４−１，Ｖ６−１を介して並列に接続され、かつ各リザ
ーバ容器２３，２４，２５と直列に接続される配管系で
結合されている。
ており、図１で示した回路に、プロセス容器１をひとつ
追加したものである。すなわち、図２に示した例では、
複数（図では２台）の圧力容器１が塞止弁Ｖ３−１，Ｖ
４−１，Ｖ６−１を介して並列に接続され、かつ各リザ
ーバ容器２３，２４，２５と直列に接続される配管系で
結合されている。
【００２６】従って、図２に示した例では、それぞれの
プロセス容器１は各リザーバ容器２３，２４，２５と独
立して接続されているので、各プロセス容器の昇圧方法
は図１で説明したからのいずれかの昇圧方法を使う
ことができる。図３は、図１で示した回路の内、低圧ダ
イヤフラム圧縮機と高圧ダイヤフラム圧縮機を２段式往
復動伸縮シリンダ型増圧機１２１，１２２に置き換えた
ものである。この往復動型増圧機は、１台で低圧段と高
圧段を持つため低圧段吐出配管を中圧リザーバ容器に接
続することで図１と同様の回路を構成することができ
る。すなわちプロセス容器内圧力を 700kg／cm2 まで上
げる場合、以下のいずれかの昇圧方法となる。 高圧リザーバ容器２３から直接プロセス容器１へ一
気にガスを流し込んで、プロセス容器１内圧力を 700kg
／cm2 にする。又は 常時 450kg／cm2 に保たれた中圧リザーバ容器２４
からプロセス容器１へガスを流し込んでプロセス容器１
内圧力を 400kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を行
う。又は 常時 150kg／cm2 に保たれた低圧リザーバ容器２５
からプロセス容器１へガスを流し込みプロセス容器内圧
力を 100kg／cm2 まで昇圧した後の操作を行う。又は と同様 100kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を
行いプロセス容器内圧力を 400kg／cm2 、 700kg／cm2
と順々に昇圧する。
プロセス容器１は各リザーバ容器２３，２４，２５と独
立して接続されているので、各プロセス容器の昇圧方法
は図１で説明したからのいずれかの昇圧方法を使う
ことができる。図３は、図１で示した回路の内、低圧ダ
イヤフラム圧縮機と高圧ダイヤフラム圧縮機を２段式往
復動伸縮シリンダ型増圧機１２１，１２２に置き換えた
ものである。この往復動型増圧機は、１台で低圧段と高
圧段を持つため低圧段吐出配管を中圧リザーバ容器に接
続することで図１と同様の回路を構成することができ
る。すなわちプロセス容器内圧力を 700kg／cm2 まで上
げる場合、以下のいずれかの昇圧方法となる。 高圧リザーバ容器２３から直接プロセス容器１へ一
気にガスを流し込んで、プロセス容器１内圧力を 700kg
／cm2 にする。又は 常時 450kg／cm2 に保たれた中圧リザーバ容器２４
からプロセス容器１へガスを流し込んでプロセス容器１
内圧力を 400kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を行
う。又は 常時 150kg／cm2 に保たれた低圧リザーバ容器２５
からプロセス容器１へガスを流し込みプロセス容器内圧
力を 100kg／cm2 まで昇圧した後の操作を行う。又は と同様 100kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を
行いプロセス容器内圧力を 400kg／cm2 、 700kg／cm2
と順々に昇圧する。
【００２７】すなわち、図３の実施の形態では、リザー
バ容器がこれに貯留する加圧したガスの圧力が高圧用リ
ザーバ容器２３、中圧用リザーバ容器２４および低圧用
リザーバ容器２５に区分されており、前記低圧用リザー
バ容器２５がガス源用として備えられ、往復動形の増圧
機１２１，１２２の２組の低圧側シリンダ部が、低圧用
リザーバ容器２５から塞止弁Ｖ５，Ｖ５−１，Ｖ５−２
およびチェック弁ＣＶ１，ＣＶ２を介してガスを吸込み
中圧用リザーバ容器にチェック弁ＣＶ３，ＣＶ４および
塞止弁Ｖ２を介して吐出する低圧段圧縮部１２１Ａ，１
２２Ａとされ、他方が、中圧用リザーバ容器２４から塞
止弁Ｖ２およびチェック弁ＣＶ５，ＣＶ６を介してガス
を吸込み高圧用リザーバ容器２１にチェック弁ＣＶ７，
ＣＶ８および塞止弁Ｖ１，Ｖ１−１，Ｖ１−２を介して
吐出する高圧段圧縮部１２１Ｂ，１２２Ｂとされてい
る。
バ容器がこれに貯留する加圧したガスの圧力が高圧用リ
ザーバ容器２３、中圧用リザーバ容器２４および低圧用
リザーバ容器２５に区分されており、前記低圧用リザー
バ容器２５がガス源用として備えられ、往復動形の増圧
機１２１，１２２の２組の低圧側シリンダ部が、低圧用
リザーバ容器２５から塞止弁Ｖ５，Ｖ５−１，Ｖ５−２
およびチェック弁ＣＶ１，ＣＶ２を介してガスを吸込み
中圧用リザーバ容器にチェック弁ＣＶ３，ＣＶ４および
塞止弁Ｖ２を介して吐出する低圧段圧縮部１２１Ａ，１
２２Ａとされ、他方が、中圧用リザーバ容器２４から塞
止弁Ｖ２およびチェック弁ＣＶ５，ＣＶ６を介してガス
を吸込み高圧用リザーバ容器２１にチェック弁ＣＶ７，
ＣＶ８および塞止弁Ｖ１，Ｖ１−１，Ｖ１−２を介して
吐出する高圧段圧縮部１２１Ｂ，１２２Ｂとされてい
る。
【００２８】この図３の実施の形態では、２段式の増圧
機１２１，１２２を２台設置することによって、吐出容
量の増加を実現でき、また各増圧機の低圧段シリンダ吸
入前と高圧段シリンダ吐出側後には塞止弁を設けている
ため、どちらかの増圧機が停止しても残りの１台の増圧
機で継続して運転することが可能である。図４は、図１
の低圧ダイヤフラム式圧縮機を２つのシリンダをもつ単
段式往復動型の低圧増圧機、高圧ダイヤフラム式圧縮機
を２つのシリンダをもつ単段式往復動型の高圧増圧機に
置き換えたものである。
機１２１，１２２を２台設置することによって、吐出容
量の増加を実現でき、また各増圧機の低圧段シリンダ吸
入前と高圧段シリンダ吐出側後には塞止弁を設けている
ため、どちらかの増圧機が停止しても残りの１台の増圧
機で継続して運転することが可能である。図４は、図１
の低圧ダイヤフラム式圧縮機を２つのシリンダをもつ単
段式往復動型の低圧増圧機、高圧ダイヤフラム式圧縮機
を２つのシリンダをもつ単段式往復動型の高圧増圧機に
置き換えたものである。
【００２９】すなわち、１台の往復動式増圧機２２１，
２２２の２組のガス圧シリンダを同一圧力仕様とし、各
段にチェックバルブＣＶ９〜ＣＶ１６を介して設置した
ものであり、プロセス容器１内の昇圧方法は、図１で説
明したものと同じである。すなわちプロセス容器内圧力
を 700kg／cm2 まで上げる場合、以下のいずれかの昇圧
方法となる。 高圧リザーバ容器２３から直接プロセス容器１へ一
気にガスを流し込んで、プロセス容器２３内圧力を 700
kg／cm2 にする。又は 常時 450kg／cm2 に保たれた中圧リザーバ容器２４
からプロセス容器１へガスを流し込んでプロセス容器１
内圧力を 400kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を行
う。又は 常時 150kg／cm2 に保たれた低圧リザーバ容器２５
からプロセス容器１へガスを流し込みプロセス容器１内
圧力を 100kg／cm2 まで昇圧した後の操作を行う。又
は と同様 100kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を
行いプロセス容器内圧力を 400kg／cm2 、 700kg／cm2
と順々に昇圧する。
２２２の２組のガス圧シリンダを同一圧力仕様とし、各
段にチェックバルブＣＶ９〜ＣＶ１６を介して設置した
ものであり、プロセス容器１内の昇圧方法は、図１で説
明したものと同じである。すなわちプロセス容器内圧力
を 700kg／cm2 まで上げる場合、以下のいずれかの昇圧
方法となる。 高圧リザーバ容器２３から直接プロセス容器１へ一
気にガスを流し込んで、プロセス容器２３内圧力を 700
kg／cm2 にする。又は 常時 450kg／cm2 に保たれた中圧リザーバ容器２４
からプロセス容器１へガスを流し込んでプロセス容器１
内圧力を 400kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を行
う。又は 常時 150kg／cm2 に保たれた低圧リザーバ容器２５
からプロセス容器１へガスを流し込みプロセス容器１内
圧力を 100kg／cm2 まで昇圧した後の操作を行う。又
は と同様 100kg／cm2 まで昇圧した後、の操作を
行いプロセス容器内圧力を 400kg／cm2 、 700kg／cm2
と順々に昇圧する。
【００３０】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、特表
平７−５０２３７６号公報で示されたような従来技術に
よる高圧ガス処理装置の持つ問題点が解消可能となり、
数分といった短サイクルでの装置の運転、とくに生産工
場において、何台もの装置を連続運転する場合において
も効率良く加圧を行なうことが可能となる。今後、Ｓｉ
ウェーハの微細化に伴い、高圧力を利用した加圧埋め込
み処理ほかのプロセスの普及が期待されているが、本発
明はこれらの工業的な利用に資することろ極めて大き
い。
平７−５０２３７６号公報で示されたような従来技術に
よる高圧ガス処理装置の持つ問題点が解消可能となり、
数分といった短サイクルでの装置の運転、とくに生産工
場において、何台もの装置を連続運転する場合において
も効率良く加圧を行なうことが可能となる。今後、Ｓｉ
ウェーハの微細化に伴い、高圧力を利用した加圧埋め込
み処理ほかのプロセスの普及が期待されているが、本発
明はこれらの工業的な利用に資することろ極めて大き
い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態の全体構成図である。
【図２】本発明の第２実施形態の全体構成図である。
【図３】本発明の第３実施形態の全体構成図である。
【図４】本発明の第４実施形態の全体構成図である。
【図５】本発明を使用する加熱・加圧処理装置の断面図
である。
である。
１ 圧力容器 ２１ ガス圧縮機 ２２ ガス圧縮機 ２３ 高圧用リザーバ容器 ２４ 中圧用リザーバ容器 ２５ 低圧用リザーバ容器 Ｖ３ 塞止弁 Ｖ４ 塞止弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 結城 隆裕 兵庫県高砂市荒井町新浜２丁目３番１号 株式会社神戸製鋼所高砂製作所内 (72)発明者 坂下 由彦 兵庫県高砂市荒井町新浜２丁目３番１号 株式会社神戸製鋼所高砂製作所内
Claims (7)
- 【請求項１】 ガス雰囲気下で被処理品を加圧処理する
装置に使用するガス加圧供給装置において、 吐出圧力が異なる複数基のガス圧縮機を直列に接続する
とともに各圧縮機の吐出側のそれぞれにリザーバ容器を
設け、該リザーバ容器のそれぞれから塞止弁を介して処
理用の圧力容器に加圧したガスを供給する回路構成手段
を備えていることを特徴とするガス加圧供給装置。 - 【請求項２】 リザーバ容器のひとつは、圧力容器によ
る処理圧力よりも高い圧力値でガスを貯留可能であるこ
とを特徴とする請求項１記載のガス加圧供給装置。 - 【請求項３】 複数の圧力容器が塞止弁を介して並列に
接続され、かつ各リザーバ容器と直列に接続される配管
系で結合されていることを特徴とする請求項１又は２に
記載のガス加圧供給装置。 - 【請求項４】 ガス圧縮機がダイヤフラム形圧縮機又は
往復動形の増圧機であることを特徴とする請求項１〜３
のいずれかに記載のガス加圧供給装置。 - 【請求項５】リザーバ容器はこれに貯留する加圧したガ
スの圧力が高圧用リザーバ容器、中圧用リザーバ容器お
よび低圧用リザーバ容器に区分されており、前記低圧用
リザーバ容器がガス源用として備えられ、往復動形の増
圧機の２組のガス圧シリンダ部の片方が、低圧用リザー
バ容器からガスを吸込み中圧用リザーバ容器に吐出する
低圧段圧縮部とされ、他方が、中圧用リザーバ容器から
ガスを吸込み高圧用リザーバ容器に吐出する高圧段圧縮
部とされていることを特徴とする請求項１〜４のいずれ
かに記載のガス加圧供給装置。 - 【請求項６】 低圧段圧縮部および高圧段圧縮部を有す
る往復動形の増圧機を、その吸込み側及び吐出側にそれ
ぞれ塞止弁を備えて並列に複数台設置していることを特
徴とする請求項５に記載のガス加圧供給装置。 - 【請求項７】 １台の往復動形の増圧機の２組のガス圧
シリンダ部を同一圧力仕様として各段に設置しているこ
とを特徴とする請求項４に記載のガス加圧供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11567497A JPH10305223A (ja) | 1997-05-06 | 1997-05-06 | ガス加圧供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11567497A JPH10305223A (ja) | 1997-05-06 | 1997-05-06 | ガス加圧供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10305223A true JPH10305223A (ja) | 1998-11-17 |
Family
ID=14668490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11567497A Pending JPH10305223A (ja) | 1997-05-06 | 1997-05-06 | ガス加圧供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10305223A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010179199A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Kobe Steel Ltd | 熱間等方圧加圧装置用の圧媒ガス浄化装置及び圧媒ガス供給回収装置 |
| JP2013113538A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Kobe Steel Ltd | 等方圧加圧装置及び等方圧加圧装置の加圧方法 |
| JP2014013858A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Ihi Corp | 不活性ガス置換システム |
| WO2017145969A1 (ja) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | 増圧回路を備える液体材料吐出装置 |
| JP2018108579A (ja) * | 2016-12-30 | 2018-07-12 | 上海頤柏熱処理設備有限公司Ｓｈａｎｇｈａｉ Ｙｉｂａｉ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｆｕｒｎａｃｅｓ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | 超臨界状態洗浄システムおよび方法 |
-
1997
- 1997-05-06 JP JP11567497A patent/JPH10305223A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010179199A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Kobe Steel Ltd | 熱間等方圧加圧装置用の圧媒ガス浄化装置及び圧媒ガス供給回収装置 |
| JP2013113538A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Kobe Steel Ltd | 等方圧加圧装置及び等方圧加圧装置の加圧方法 |
| JP2014013858A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Ihi Corp | 不活性ガス置換システム |
| WO2017145969A1 (ja) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | 増圧回路を備える液体材料吐出装置 |
| CN108698074A (zh) * | 2016-02-22 | 2018-10-23 | 武藏工业株式会社 | 具备增压回路的液体材料吐出装置 |
| CN108698074B (zh) * | 2016-02-22 | 2021-03-05 | 武藏工业株式会社 | 具备增压回路的液体材料吐出装置 |
| US11344903B2 (en) | 2016-02-22 | 2022-05-31 | Musashi Engineering, Inc. | Liquid material discharge device comprising booster circuit |
| TWI811188B (zh) * | 2016-02-22 | 2023-08-11 | 日商武藏工業股份有限公司 | 液體材料吐出裝置及塗佈裝置 |
| JP2018108579A (ja) * | 2016-12-30 | 2018-07-12 | 上海頤柏熱処理設備有限公司Ｓｈａｎｇｈａｉ Ｙｉｂａｉ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｆｕｒｎａｃｅｓ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | 超臨界状態洗浄システムおよび方法 |
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