JPH103013A - Polymer waveguide and its production - Google Patents

Polymer waveguide and its production

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JPH103013A
JPH103013A JP15415696A JP15415696A JPH103013A JP H103013 A JPH103013 A JP H103013A JP 15415696 A JP15415696 A JP 15415696A JP 15415696 A JP15415696 A JP 15415696A JP H103013 A JPH103013 A JP H103013A
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JP
Japan
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core
polymer
waveguide
polymer waveguide
heat resistance
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JP15415696A
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Japanese (ja)
Inventor
Akihiro Hori
彰弘 堀
Katsuyuki Imoto
克之 井本
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Hitachi Cable Ltd
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Hitachi Cable Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymer waveguide having a low loss and high heat resistance and a manufacturing method therefor. SOLUTION: A clad layer 13 made of a polymer material covers a core 12 made of a glass material having a low loss and high heat resistance, thereby, hydrogen of C-H group in the polymer structure of the core 12 is replaced by fluorine or deuterium. Thus, polymer material can be easily obtained. In order to acquire high heat resistance, the polymers in the core 12 are cross-liquid or aromatic groups are introduced in the polymer structure, thereby the polymer waveguide 10 having a low loss and high heat resistance can be easily realized without making a manufacturing process of the waveguide complex.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリマ導波路及び
その製造方法に関する。
The present invention relates to a polymer waveguide and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】光部品としてポリマ導波路があり、光フ
ィルタ、光スイッチや分散補償回路等に利用されてい
る。
2. Description of the Related Art As an optical component, there is a polymer waveguide, which is used for an optical filter, an optical switch, a dispersion compensation circuit and the like.

【0003】図5は従来のポリマ導波路の断面図であ
る。
FIG. 5 is a sectional view of a conventional polymer waveguide.

【0004】ポリマ導波路1は、基板2上に矩形断面形
状のコア3が形成され、コア3及び基板2上面がクラッ
ド層4で覆われている。コア3にはポリメチルメタクリ
レート、ポリカーボネイト、ポリイミド等のポリマ材料
が用いられている。クラッド層4にはコア3よりも低屈
折率を有するポリメチルメタクリレート、ポリカーボネ
イト、ポリイミド等のポリマ材料が用いられている。
The polymer waveguide 1 has a core 3 having a rectangular cross section formed on a substrate 2, and the upper surface of the core 3 and the substrate 2 are covered with a cladding layer 4. The core 3 is made of a polymer material such as polymethyl methacrylate, polycarbonate, or polyimide. For the cladding layer 4, a polymer material such as polymethyl methacrylate, polycarbonate, or polyimide having a lower refractive index than the core 3 is used.

【0005】図6(a)〜図6(f)は図5に示したポ
リマ導波路の製造方法を示す工程図である。
FIGS. 6A to 6F are process diagrams showing a method for manufacturing the polymer waveguide shown in FIG.

【0006】まずSiO2 或いはSiからなる基板2上
に、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネイト、ポ
リイミド等のポリマ材料のコア膜3aをスピンコート法
等により成膜する(図6(a))。
First, a core film 3a made of a polymer material such as polymethyl methacrylate, polycarbonate, or polyimide is formed on a substrate 2 made of SiO 2 or Si by spin coating or the like (FIG. 6A).

【0007】コア膜3a上にWSi膜5aをスパッタ法
により成膜する(図6(b))。
A WSi film 5a is formed on the core film 3a by a sputtering method (FIG. 6B).

【0008】フォトリソグラフィ及びドライエッチング
によりコア3となる部分を覆うWSiマスクパターン5
を形成する(図6(c))。
[0008] WSi mask pattern 5 covering a portion to be core 3 by photolithography and dry etching
Is formed (FIG. 6C).

【0009】ドライエッチングによりコア3を形成する
(図6(d))。
The core 3 is formed by dry etching (FIG. 6D).

【0010】ドライエッチングによりWSiマスクパタ
ーン5を剥離する(図6(e))。
The WSi mask pattern 5 is removed by dry etching (FIG. 6E).

【0011】コア3及び基板2の上面を、コア3よりも
低屈折率のポリメチルメタクリレート、ポリカーボネイ
ト、ポリイミド等のポリマ材料のクラッド層4で覆うこ
とによりポリマ導波路1が形成される(図6(f))。
The polymer waveguide 1 is formed by covering the upper surfaces of the core 3 and the substrate 2 with a cladding layer 4 of a polymer material such as polymethyl methacrylate, polycarbonate, or polyimide having a lower refractive index than the core 3. (F)).

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】ところで、ポリマ導波
路の応用範囲を広めるためには、低損失、高耐熱性が要
求される。従来のポリマ導波路において、低損失化する
方法としては、コアのポリマ構造の中でC−H基のH
(水素)をフッ素F或いは重水素Dで置換することが一
般的であり、高耐熱化する方法としては、コアのポリマ
を架橋したりポリマ構造中に芳香族を導入することが一
般的である。
By the way, in order to widen the application range of the polymer waveguide, low loss and high heat resistance are required. In a conventional polymer waveguide, as a method of reducing the loss, H in the C—H group in the core polymer structure is used.
It is common to replace (hydrogen) with fluorine F or deuterium D, and as a method of increasing the heat resistance, it is common to crosslink the polymer of the core or introduce an aromatic into the polymer structure. .

【0013】しかしながら、このような方法ではポリマ
材料の入手が困難になったり、導波路の製造工程が複雑
になってしまうので、ポリマ導波路の応用範囲を広める
上では問題となる。
However, such a method makes it difficult to obtain a polymer material and complicates the manufacturing process of the waveguide, which is a problem in expanding the application range of the polymer waveguide.

【0014】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、低損失、高耐熱性のポリマ導波路及びその製造方法
を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a polymer waveguide having low loss and high heat resistance and a method for manufacturing the same.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のポリマ導波路は、基板上にコア及びクラッド
層が形成された光導波路において、コアにSiOX Y
Z ガラスを用い、クラッド層にコアよりも屈折率の低
いポリマを用いたものである。
Means for Solving the Problems] polymer waveguide of the present invention in order to achieve the above object, the optical waveguide core and cladding layer is formed on the substrate, SiO X N Y core
HZ glass is used, and a polymer having a lower refractive index than the core is used for the cladding layer.

【0016】上記構成に加え本発明のポリマ導波路は、
コアの近傍或いは中にヒータを設けてもよい。
In addition to the above configuration, the polymer waveguide of the present invention comprises:
A heater may be provided near or inside the core.

【0017】上記目的を達成するために本発明のポリマ
導波路の製造方法は、基板上にSiOX Y Z ガラス
からなるコア膜を形成し、コア膜の上にWSi膜を形成
し、WSi膜にフォトリソグラフィ及びドライエッチン
グを施してWSiマスクパターンを形成し、WSiマス
クパターンを用いてコア膜にドライエッチングを施して
コアを形成し、コアをコアよりも低い屈折率を有するポ
リマ材料で覆ってクラッド層を形成したものである。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a polymer waveguide according to the present invention comprises forming a core film made of SiO X N Y H Z glass on a substrate, forming a WSi film on the core film, A WSi mask pattern is formed by performing photolithography and dry etching on the WSi film, and a core is formed by performing dry etching on the core film using the WSi mask pattern, and the core is formed of a polymer material having a lower refractive index than the core. The clad layer is formed so as to cover.

【0018】低損失で高耐熱性を有するガラス材料から
なるコアの周囲をポリマ材料のクラッド層で覆うことに
より、コアのポリマ構造の中でC−H基の水素をフッ素
或いは重水素で置換するため、ポリマ材料の入手が困難
となることがない。高耐熱化するため、コアのポリマを
架橋したりポリマ構造中に芳香族を導入することにより
導波路の製造工程を複雑にすることなく、容易に低損
失、高耐熱性のポリマ導波路を実現することができる。
By covering the periphery of a core made of a glass material having low loss and high heat resistance with a cladding layer of a polymer material, hydrogen of a C--H group is replaced with fluorine or deuterium in the polymer structure of the core. Therefore, there is no difficulty in obtaining the polymer material. To achieve high heat resistance, low loss and high heat resistance polymer waveguides can be easily realized without complicating the waveguide manufacturing process by cross-linking the core polymer or introducing aromatics into the polymer structure. can do.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳述する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0020】図1は本発明のポリマ導波路の断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view of a polymer waveguide according to the present invention.

【0021】同図に示すポリマ導波路10は、基板11
上に矩形断面形状のコア12が形成され、コア12及び
基板11上面がクラッド層13で覆われている。
The polymer waveguide 10 shown in FIG.
A core 12 having a rectangular cross-sectional shape is formed thereon, and the upper surfaces of the core 12 and the substrate 11 are covered with a cladding layer 13.

【0022】コア12には高屈折率を有するSiOX
Y Z のガラスを用い、クラッド層13にはコア12の
屈折率より低い屈折率を有し、所望の厚さを有するポリ
マ材料を用いた。
The core 12 is made of SiO x N having a high refractive index.
A glass of Y H Z, the cladding layer 13 has a refractive index lower than the refractive index of the core 12, using a polymer material having a desired thickness.

【0023】図2は図1に示したポリマ導波路の製造方
法を示す工程図である。
FIG. 2 is a process chart showing a method for manufacturing the polymer waveguide shown in FIG.

【0024】SiO2 或いはSiからなる基板11上
に、プラズマCVD法、スパッタ法、イオンビーム法等
により高屈折率を有するSiOX Y Z からなるガラ
スコア膜12aを形成する(図2(a))。
On the substrate 11 made of SiO 2 or Si, a glass core film 12a made of SiO X N Y H Z having a high refractive index is formed by a plasma CVD method, a sputtering method, an ion beam method or the like (FIG. 2 ( a)).

【0025】スパッタ法によりガラスコア膜12aの上
にWSi膜14aを形成する(図2(b))。
A WSi film 14a is formed on the glass core film 12a by a sputtering method (FIG. 2B).

【0026】フォトリソグラフィ及びドライエッチング
によりコア12となる部分を覆うWSiマスクパターン
14を形成する(図2(c))。
A WSi mask pattern 14 for covering a portion to be the core 12 is formed by photolithography and dry etching (FIG. 2C).

【0027】ドライエッチングによりコア12を形成す
る(図2(d))。
The core 12 is formed by dry etching (FIG. 2D).

【0028】ドライエッチングによりWSiマスクパタ
ーン14を取り除く(図2(e))。 コア12及び基
板11上面を、コア12よりも低い屈折率を有するポリ
メチルメタクリレート、ポリカーボネイト、ポリイミド
等のポリマ材料からなるクラッド層13で覆うことによ
り、低屈折率、高耐熱性のポリマ導波路10が形成され
る(図2(f))。
The WSi mask pattern 14 is removed by dry etching (FIG. 2E). The core 12 and the upper surface of the substrate 11 are covered with a cladding layer 13 made of a polymer material such as polymethyl methacrylate, polycarbonate, or polyimide having a lower refractive index than the core 12, so that the polymer waveguide 10 has a low refractive index and high heat resistance. Is formed (FIG. 2F).

【0029】ポリマ導波路10は、低損失で高耐熱性を
有するガラス材料からなるコア12の周囲をポリマ材料
からなるクラッド層13で覆うことにより、コア12の
ポリマ構造の中でC−H基の水素をフッ素或いは重水素
で置換するため、ポリマ材料の入手が困難となることが
ない。高耐熱化するため、コア12のポリマを架橋した
りポリマ構造中に芳香族を導入することにより導波路の
製造工程を複雑にすることなく、容易に低損失、高耐熱
性のポリマ導波路を実現することができる。
The polymer waveguide 10 is formed by covering the periphery of a core 12 made of a glass material having low loss and high heat resistance with a clad layer 13 made of a polymer material, so that a C—H group in the polymer structure of the core 12 is formed. Is replaced by fluorine or deuterium, so that it is not difficult to obtain a polymer material. In order to increase the heat resistance, a polymer waveguide having low loss and high heat resistance can be easily formed without complicating the manufacturing process of the waveguide by cross-linking the polymer of the core 12 or introducing aromatics into the polymer structure. Can be realized.

【0030】次に具体的な数値を挙げて説明するがこれ
に限定されるものではない。
Next, description will be made with specific numerical values, but the present invention is not limited to these numerical values.

【0031】図2に示した製造方法によって図1に示す
ようなポリマ導波路を作製した。石英系ガラスからなる
コア12がシングルモードとなるようサイズを幅4μ
m、高さ3μmとした。ポリマ材料からなるクラッド層
13の厚さを10μmとした。また直線導波路の長さを
50mmとした。さらにコア12とクラッド層13との
比屈折率差が2%となるように調整した。
A polymer waveguide as shown in FIG. 1 was manufactured by the manufacturing method shown in FIG. The size is 4 μm so that the core 12 made of quartz glass becomes single mode.
m and a height of 3 μm. The thickness of the cladding layer 13 made of a polymer material was set to 10 μm. The length of the straight waveguide was set to 50 mm. Further, the relative refractive index difference between the core 12 and the cladding layer 13 was adjusted to be 2%.

【0032】比較例として図6に示した従来の方法によ
って作製した。ポリマからなるコア3がシングルモード
となるようサイズを幅4μm、高さ3μmとした。ポリ
マ材料からなるクラッド層4の厚さを10μmとした。
また直線導波路の長さを50mmとした。さらにコア3
とクラッド層4との比屈折率差が2%となるように調整
した。
As a comparative example, it was manufactured by the conventional method shown in FIG. The size was set to 4 μm in width and 3 μm in height so that the core 3 made of polymer was in a single mode. The thickness of the cladding layer 4 made of a polymer material was set to 10 μm.
The length of the straight waveguide was set to 50 mm. Further core 3
It was adjusted so that the relative refractive index difference between the cladding layer 4 and the cladding layer 4 was 2%.

【0033】このようにして得られた石英系ガラスから
なるコアを有する本発明のポリマ導波路と、ポリマから
なるコアを有する従来のポリマ導波路との波長1.3μ
mにおける損失を表1に示す。
The wavelength of 1.3 μm between the polymer waveguide of the present invention having a core made of silica-based glass thus obtained and the conventional polymer waveguide having a core made of polymer was obtained.
Table 1 shows the loss at m.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】同表に示したように従来のポリマ導波路の
損失特性が2.30dB/cmであるのに対し、本発明
のポリマ導波路の損失特性は0.90dB/cmであっ
た。これはポリマの構造中のC−H基の吸収損失のため
である。また、100℃の恒温槽中で1時間放置した後
で損失特性を測定したところ、従来のポリマ導波路の損
失特性が3.20dB/cmに増加したのに対して、本
発明のポリマ導波路は0.95dB/cmとほとんど変
化が見られず、低損失、高耐熱性を有しているのが分か
る。これは100℃で1時間放置したためポリマが劣化
し散乱損失が増加したことによる。
As shown in the table, the loss characteristic of the conventional polymer waveguide was 2.30 dB / cm, whereas the loss characteristic of the polymer waveguide of the present invention was 0.90 dB / cm. This is due to the absorption loss of the CH group in the structure of the polymer. Further, when the loss characteristics were measured after being left for 1 hour in a thermostat at 100 ° C., the loss characteristics of the conventional polymer waveguide were increased to 3.20 dB / cm, whereas the polymer waveguide of the present invention was increased. Shows almost no change at 0.95 dB / cm, indicating low loss and high heat resistance. This is because the polymer was deteriorated due to being left at 100 ° C. for 1 hour, and the scattering loss increased.

【0036】図3は図1に示したポリマ導波路をマッハ
ツェンダ型光フィルタに適用した場合の平面図であり、
図4は図3のA−A線断面図である。
FIG. 3 is a plan view when the polymer waveguide shown in FIG. 1 is applied to a Mach-Zehnder type optical filter.
FIG. 4 is a sectional view taken along line AA of FIG.

【0037】同図に示すマッハツェンダ型光フィルタ2
0は、基板21上に形成された2つの3dBカプラ22
a,22bと、3dBカプラ22a,22bに接続され
たコア23a,23b,23c,24a,24b,24
cとを有している。2つの3dBカプラ22a,22b
同士を接続する2本のコア23b,24bを覆うクラッ
ド層25上にはそれぞれ金属ヒータ26a,26bが設
けられている。
The Mach-Zehnder type optical filter 2 shown in FIG.
0 denotes two 3 dB couplers 22 formed on the substrate 21
a, 22b and cores 23a, 23b, 23c, 24a, 24b, 24 connected to the 3 dB couplers 22a, 22b.
c. Two 3 dB couplers 22a and 22b
Metal heaters 26a and 26b are provided on the cladding layer 25 covering the two cores 23b and 24b connecting the two.

【0038】これらのコア23b,24bは、金属ヒー
タ26a,26bが通電されていない状態では同一光路
長となっている。このとき、入力ポートP1から入射し
た信号光は出力ポートP3から出射するが、出力ポート
P4からは出射しない。
The cores 23b and 24b have the same optical path length when the metal heaters 26a and 26b are not energized. At this time, the signal light incident from the input port P1 is emitted from the output port P3, but is not emitted from the output port P4.

【0039】しかし、いずれか一方の金属ヒータ(例え
ば26a)を通電加熱することで、加熱されたコア24
bとクラッド層25との比屈折率差を変えて見掛上の光
路長を変化させ、通電加熱されたコア24bと通電加熱
されていないコア23bとの間に180°の光位相に相
当する1/2波長近傍の光路長差となるように加熱され
ている金属ヒータ26aの電流(或いは電圧)を調整す
ると、信号光は出力ポートP4から出力される。このと
き本発明の方法で作製することにより、クラッド層25
に用いられているポリマ材料の温度に対する屈折率変化
がコア23a,23b,23c,24a,24b,24
cに用いられているガラス材料の屈折率変化よりも格段
に大きいため、コア23a,23b,23c,24a,
24b,24cとクラッド層25との比屈折率差を容易
に変化させることができ、光路長差の調整が容易にでき
る。
However, when one of the metal heaters (for example, 26a) is energized and heated, the heated core 24 is heated.
The apparent optical path length is changed by changing the relative refractive index difference between b and the cladding layer 25, and corresponds to an optical phase of 180 ° between the electrically heated core 24b and the electrically unheated core 23b. When the current (or voltage) of the heated metal heater 26a is adjusted so as to have an optical path length difference near 1/2 wavelength, the signal light is output from the output port P4. At this time, the cladding layer 25 is manufactured by the method of the present invention.
The change in the refractive index of the polymer material used for the temperature with respect to the temperature is caused by the cores 23a, 23b, 23c, 24a, 24b, 24
Since the change in the refractive index of the glass material used for c is much larger, the cores 23a, 23b, 23c, 24a,
The relative refractive index difference between the cladding layers 25 and 24b, 24c can be easily changed, and the optical path length difference can be easily adjusted.

【0040】以上のように本発明のポリマ導波路及びそ
の製造方法によると、低損失、高耐熱性を有するポリマ
導波路を容易に得ることができる。
As described above, according to the polymer waveguide of the present invention and the method of manufacturing the same, a polymer waveguide having low loss and high heat resistance can be easily obtained.

【0041】すなわち、コアに比較的容易に高屈折率が
得られるSiOX Y Z ガラスを用い、コアの周囲を
コアよりも低い屈折率を有するポリメチルメタクリレー
ト、ポリカーボネイト、ポリイミド等のポリマ材料から
なるクラッド層で覆うことにより、コア材料の入手が困
難になったり、製造工程が複雑になったりすることもな
く低損失、高耐熱性のポリマ導波路を得ることができ
る。
That is, a material such as polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyimide or the like having a lower refractive index than the core is used around the core using SiO x N Y H Z glass which can obtain a high refractive index relatively easily for the core. By covering with a cladding layer made of, a polymer waveguide having low loss and high heat resistance can be obtained without making it difficult to obtain a core material or complicating the manufacturing process.

【0042】またクラッド層に用いたポリマ材料の温度
に対する屈折率変化が大きいことを利用することで、容
易にマッハツェンダ型光フィルタ等の機能性導波路型光
部品を得ることができる。
Further, a functional waveguide type optical component such as a Mach-Zehnder type optical filter can be easily obtained by utilizing the fact that the refractive index change of the polymer material used for the cladding layer with respect to temperature is large.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果を発揮する。
In summary, according to the present invention, the following excellent effects are exhibited.

【0044】コアにSiOX Y Z ガラスを用い、ク
ラッド層にコアよりも屈折率の低いポリマを用いること
により、低損失、高耐熱性のポリマ導波路及びその製造
方法の提供を実現することができる。
By using SiO X N Y H Z glass for the core and using a polymer having a lower refractive index than the core for the cladding layer, it is possible to provide a polymer waveguide having low loss and high heat resistance and a method of manufacturing the same. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のポリマ導波路の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a polymer waveguide of the present invention.

【図2】図1に示したポリマ導波路の製造方法を示す工
程図である。
FIG. 2 is a process chart showing a method for manufacturing the polymer waveguide shown in FIG.

【図3】図1に示したポリマ導波路をマッハツェンダ型
光フィルタに適用した場合の平面図である。
FIG. 3 is a plan view when the polymer waveguide shown in FIG. 1 is applied to a Mach-Zehnder optical filter.

【図4】図3のA−A線断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line AA of FIG. 3;

【図5】従来のポリマ導波路の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional polymer waveguide.

【図6】(a)〜(f)は図5に示したポリマ導波路の
製造方法を示す工程図である。
6 (a) to 6 (f) are process diagrams showing a method for manufacturing the polymer waveguide shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ポリマ導波路 11 基板 12 コア 13 クラッド層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Polymer waveguide 11 Substrate 12 Core 13 Cladding layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上にコア及びクラッド層が形成され
た光導波路において、コアにSiOX Y Z ガラスを
用い、クラッド層にコアよりも屈折率の低いポリマを用
いたことを特徴とするポリマ導波路。
1. An optical waveguide having a core and a cladding layer formed on a substrate, wherein the core is made of SiO X N Y H Z glass, and the cladding layer is made of a polymer having a lower refractive index than the core. Polymer waveguide.
【請求項2】 上記コアの近傍或いは中にヒータを設け
た請求項1記載のポリマ導波路。
2. The polymer waveguide according to claim 1, wherein a heater is provided near or inside said core.
【請求項3】 基板上にSiOX Y Z ガラスからな
るコア膜を形成し、該コア膜の上にWSi膜を形成し、
該WSi膜にフォトリソグラフィ及びドライエッチング
を施してWSiマスクパターンを形成し、該WSiマス
クパターンを用いて上記コア膜にドライエッチングを施
してコアを形成し、該コアを該コアよりも低い屈折率を
有するポリマ材料で覆ってクラッド層を形成したことを
特徴とするポリマ導波路の製造方法。
3. A core film made of SiO x N Y H Z glass is formed on a substrate, and a WSi film is formed on the core film.
The WSi film is subjected to photolithography and dry etching to form a WSi mask pattern, and the core film is dry-etched using the WSi mask pattern to form a core, and the core has a lower refractive index than the core. A method for manufacturing a polymer waveguide, comprising forming a clad layer by covering with a polymer material having the following.
JP15415696A 1996-06-14 1996-06-14 Polymer waveguide and its production Pending JPH103013A (en)

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JP15415696A Pending JPH103013A (en) 1996-06-14 1996-06-14 Polymer waveguide and its production

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JP (1) JPH103013A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7376317B2 (en) 2003-10-27 2008-05-20 Nec Corporation Waveguide structure and method of manufacturing the same

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