JPH10287993A - めっき方法及び装置 - Google Patents

めっき方法及び装置

Info

Publication number
JPH10287993A
JPH10287993A JP11010797A JP11010797A JPH10287993A JP H10287993 A JPH10287993 A JP H10287993A JP 11010797 A JP11010797 A JP 11010797A JP 11010797 A JP11010797 A JP 11010797A JP H10287993 A JPH10287993 A JP H10287993A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plated
plating
mounting plate
objects
shaped
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11010797A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3532065B2 (ja
Inventor
Seiji Masaki
征史 正木
Takao Takeuchi
孝夫 武内
Masakazu Yoshimoto
雅一 吉本
Keigo Obata
惠吾 小幡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daiwa Kasei Kenkyusho KK
Original Assignee
Daiwa Kasei Kenkyusho KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daiwa Kasei Kenkyusho KK filed Critical Daiwa Kasei Kenkyusho KK
Priority to JP11010797A priority Critical patent/JP3532065B2/ja
Publication of JPH10287993A publication Critical patent/JPH10287993A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3532065B2 publication Critical patent/JP3532065B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 平板状又は円盤状の被めっき物のめっき膜厚
の面内均一性、電流効率を向上させ、めっき粒子を改善
することができる電気めっき方法及び装置を提供する。 【解決手段】 平板状又は円盤状の被めっき物をめっき
液に浸漬して電気めっきするにあたり、回転軸により垂
直面で回転できる一対の対向する円盤状の装着板に被め
っき物を陽極と対面させて支持し、該被めっき物を装着
板と共に回転させながらめっきすることからなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平板状又は円盤状
の被めっき物のめっき膜厚の面内均一性、電流効率を向
上させ、めっき粒子を改善することができる電気めっき
方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体工業においては、シリコンウェハ
上に形成された多数の素子に、電気めっき方法によって
バンプと称される突起状の電極を形成し、接続用の電極
とする方法が採用されている。このバンプのめっきにお
いては、バンプの高さ及び形状を極力一定にする必要が
あるところから、被めっき物表面に対してめっき液を高
速で流動させることが行われている。
【0003】この目的のため、図1に略図として示しよ
うに、被めっき物1の表面のバンプに対して噴流を照射
する方式が採用されることが多いが、この方式はポンプ
や噴射ノズル或いはそれに伴う配管等の点で、 装置が複
雑となるという欠点があった。
【0004】これに対して、通常の被めっき物に対して
旧来から行われていると同様に、めっき浴中に被めっき
対象物を浸漬してめっきする方法を改良したものがあ
る。この方法では、装置は比較的簡易であるという利点
がある。例えば、特開平7−243097号公報には、
その略図を図2に示したように、垂直に保持したラック
にウェハ1を吊るし、該ラックを回転させる方法などが
開示されている。この方法では、同時に2枚を回転させ
ながら処理できるという作業能率上の利点もあるが、回
転方向が平板状の被めっき面に対して水平でないために
回転速度に限界があり、満足できる液の流動、ひいては
結果的にバンプ高さや形状において満足できる均一性が
得られないという限界があった。
【0005】一方、その略図を図3に示したように、垂
直に配置したジグに被めっき物1が水平になるように保
持し、ジグを回転させる方法がある。この方法では、被
めっき対象物のめっきをめっき面に対して水平に回転さ
せることができ、回転速度を速くすることができるとい
う利点はあるが、被めっき物を陽極と対向する位置に配
置するために一度に1枚の被めっき物しかめっきでき
ず、作業能率が悪かった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このような現状に対し
て、本発明者らは、簡易な装置でめっきが可能な浸漬法
を用いて、満足できるめっき厚さ及び形状の均一性或い
は高電流効率が達成されると共にめっき粒子が改善され
且つ2枚のウェハを同時に処理することができるめっき
方法及び装置の開発を本発明の課題とした。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、簡易な装置を用いることができる浸漬
式めっき方法において、車の両輪の如く回転する円盤状
の装着板を配置し、該装着板に取り付けられた支持金具
によって被めっき物を支持することによって、2枚の被
めっき物を同時にめっき処理できると共に、被めっき物
をめっき面に対して水平に回転させることができ、よっ
て高速での回転を可能とし、満足できる液の流動、ひい
てはバンプ高さや形状、粒子形状において満足できる均
一性並びに高い電流効率が得られる、平板状又は円盤状
の被めっき物の電気めっき方法及び装置を提供する。
【0008】即ち、本発明の第一の態様は、平板状又は
円盤状の被めっき物をめっき液に浸漬して電気めっきす
るにあたり、回転軸により垂直面で回転できる一対の対
向する円盤状の装着板に被めっき物を陽極と対面させて
支持し、該被めっき物を装着板と共に回転させながらめ
っきすることを特徴とする、平板状又は円盤状の被めっ
き物の電気めっき方法である。
【0009】本発明の第二の態様は、平板状又は円盤状
の被めっき物を保持し且つ該被めっき物表面が垂直配向
となるように回転させるために垂直に配置された2枚の
装着板と、該装着板に被めっき物を保持し且つ通電する
ための通電金具(チャック)と、該装着板を各端に保持
し装着板の回転中心となり且つ該被めっき物への通電を
行うための回転軸と、該回転軸を回転自在に支持し該回
転軸に通電するための付帯構造と、被めっき物と対面す
る陽極をめっき槽に設けてなる、前記の方法を実施する
ための装置である。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明は、平板状又は円盤状の被
めっき物をめっき液に浸漬して電気めっきするにあた
り、回転軸により垂直面で回転できる一対の対向する円
盤状の装着板に被めっき物を支持し、該被めっき物を回
転させながらめっきすることを特徴とする、平板状又は
円盤状の被めっき物の電気めっき方法であるでるが、こ
の方法を具体化できるめっき装置の一例を図4に示し、
これに基づいて本発明を説明する。図4を参照するに、
本発明に従うめっき装置においては、めっき槽8内に、
円盤状の被めっき物1を保持し且つ被めっき物表面に対
して水平に回転させるために垂直に配置された2枚の装
着板2、該装着板に被めっき物1を保持し且つ通電すめ
ための通電金具(チャック)3、さらに該装着板2を保
持し装着板の回転中心となり且つ被めっき物への通電を
行うための回転軸4、該回転軸4を駆動させるためのモ
ーター5及び回転伝達シャフト6を含む、該回転軸4を
回転自在に支持し且つ該回転軸4に通電するための主要
構成部分保持筐体9、並びに陽極7が配置される。
【0011】本発明の方法によれば、図4に示したよう
に、円盤状の被めっき物1を円盤面に対して水平に回転
でき且つ2枚の被めっき物を同時にめっきできるよう
に、しかも水平な軸4を中心として回転できるように、
装着板2を垂直に配置し、該装着板に被めっき物1を保
持することによって被めっき物1が垂直面で高速で回転
し得るようにしたので、被めっき物1の表面に対してめ
っき液を高速で流動させることができる。
【0012】さらに、装着板の回転速度並びに回転方向
を自由に変更し得る機構を備えることによってサイズや
形状の異なる被めっき対象物に対して、それぞれに最適
な回転条件を選定することが可能となった。
【0013】モーター5の回転は、伝達シャフト6及び
回転軸4を介して該装着板2を回転させる。回転方向及
び回転速度可変のモーターの使用により、電気的に該装
着板2の回転速度並びに正逆を変更することができ、こ
のことによって被めっき物の種類に応じて、最も適正な
回転条件を与えることができる。回転速度は、通常、5
〜100rpm程度が好ましいが、被めっき物の種類に
応じては3〜200rpm程度の範囲で変化させて最も
適性な条件を見い出すのが好ましい。
【0014】通常は、被めっき物1は、該被めっき物1
の中心と該装着板2の中心を一致させて該装着板2に通
電金具(チャック)3によって保持されるが、該被めっ
き物1を該装着板2の回転中心から偏心させて保持する
ことによって、被めっき面とめっき液の相対速度が小さ
くなる箇所をなくすことができることを見い出し、一層
めっき厚さの面内均一性を向上させることができること
を見い出した。即ち、回転する物体とめっき液の相対速
度は円周部ほど速く、中心部では遅い。従って、被めっ
き物を装着板の中心に配置すると、中心部と円周部では
撹拌条件が異なるためにめっき厚さ或いはめっき形状に
変化が生じやすい。鋭意研究の結果、被めっき物を装着
板中心から偏心させて保持し、被めっき物の中心から回
転中心をずらすと、被めっき面とめっき液の相対速度が
小さくなる箇所がなくすことができることを見い出し
た。幾何学的にはたとえ偏心させて保持しても回転中心
は存在するために、その部分では流速が遅くなると予想
されるが、回転が対称的でなくなるためにめっき液の流
れが不規則となり、膜厚の均一性が非常に向上する結果
となったのである。
【0015】偏心の大きさは装着板径の2%程度以上あ
ればよいが、200mm以下の装着板の場合には2%で
は偏心がごくわずかになるため、被めっき物1の中心か
ら5mm程度以上異常或いは装着板径の2%以上偏心さ
せることが好ましい。
【0016】本発明のめっき装置では、さらに、構成要
素1〜6を含む主要構成部分全体を保持する筐体9を左
右方向に揺動させる機構、例えばクランクシャフトを設
けることによって、めっき液の流動を一層促進すること
ができた。このような装着板の左右方向への揺動のため
に、めっき液面が上下するので、めっき槽はオーバーフ
ローが可能な形態とし、オーバーフローしためっき液を
保持するための予備槽並びに本槽へめっき液を戻すため
のポンプを設けることによって一層好ましい結果を得
た。
【0017】主要構成部分保持筐体9の上述のような左
右への揺動は、具体的には、モーター10の回転をクラ
ンク11によって左右方向への運動に変え、該主要構成
部分全体をガイドレール12の上を左右に滑らせること
によって行われる。また、主要構成部分保持筐体9のス
ライド方向を上下方向とすることによって揺動を行って
もよい。
【0018】本発明のめっき装置では、さらにめっき液
の撹拌を促進するために、被めっき面への噴流の照射、
超音波の照射、或いはスキジーの使用などを併用してめ
っきすることもできる。特に超音波の併用においては、
一般に静止状態で超音波を照射しながらめっきする場合
には、直接照射された超音波と壁面で反射した波が共鳴
して、音波の強い部分と弱い部分が生じ、そのことによ
るめっきのムラが生じることがあるのに対して、本発明
のめっき装置においては、被めっき面は回転によって常
にその位置が変化しているため、上述のような不都合が
生じなく、したがって、めっき界面の撹拌に有利な超音
波照射を安心して行うことができるという特徴がある。
【0019】本発明のめっき装置においては、被めっき
対象物の回転中心に対して凸に湾曲した陽極を用いるこ
とができ、電流密度の分布を一層改善することができ
る。
【0020】また、本発明のめっき装置においては、通
常のめっき装置に付帯され得る付帯設備即ち撹拌機、濾
過器、温度コントローラ、pHコントローラ等を付帯さ
せて用いることができる。さらに、該装置を用いてめっ
きするに際しては一般の直流電流ばかりではなく、パル
ス電流、反転電流或いは交流を重畳させた電流等を使用
することもできる。
【0021】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。これらの試験では、図4に示すめっき装置を用い
て、円盤状被めっき物にめっきを施し、めっき厚さの面
内均一性の改善を達成した結果について説明する。
【0022】比較例1 市販のはんだめっき浴を用いてφ300mmの円盤状の
装着板にφ8インチの円盤状被めき物を装着板の中心に
保持し、装着板に回転を与えず静止状態で、ポンプ撹拌
しながらめっきを行った。被めっき物の円周から10m
m内部で、円周を4等分した箇所4点(A〜D)と被め
っき物の中心点(E)のめっき膜厚を比較した。めっき
条件は2.5A/dm2 、めっき時間40分、20℃で
ある。
【0023】実施例1 比較例1と同じく、円盤状被めっき物を装着板の中心に
保持し、装着板を60rpmで回転させてめっきを行っ
た。めっき条件は比較例1と同じである。
【0024】実施例2 円盤状被めっき物を装着板の中心から15mm偏心させ
て保持してめっきを行った。比較例1、実施例1の測定
点に加えて、円盤状被めっき物の回転中心となる部分
(F)のめっき厚さも測定した。
【0025】実施例3 実施例2の条件に加えて、回転を1分毎に反転させてめ
っきを行った。
【0026】実施例4 実施例3の条件に加えて、主要構成部分保持筐体を左右
に揺動させて被めっき物の装着板を揺動させてめっきを
行った。揺動距離は50mm、揺動速度は50mm/秒
とした。
【0027】比較例1、実施例1〜4で得た結果を表1
に示した。
【表1】
【0028】
【発明の効果】以上説明した如く、本発明によると、平
板状又は円盤状の被めき物に対するめっきにおいて、簡
便なる装置を用いる浸漬方式において、2枚の被めっき
物を同時に処理することが可能となり、しかもめっき厚
さやめっき形状の面内均一性、電流効率を大幅に改善す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の噴流式のめっき装置を示す概念図であ
る。
【図2】従来の浸漬式のめっき装置を示す概念図(2枚
同時めっきタイプ)である。
【図3】従来の浸漬式のめっき装置を示す概念図(水平
回転タイプ)である。
【図4】本発明の方法を具体化できる装置の一例を示す
説明図である。
【符号の説明】
1・・円盤状被めっき物 2・・装着板 3・・通電及び取り付け金具(チャック) 4・・軸 5・・モーター 6・・回転伝達シャフト 7・・陽極 8・・めっき槽 9・・主要構成部分保持筐体 10・・モーター 11・・クランク 12・・ガイドレール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小幡 惠吾 兵庫県明石市二見町南二見21−8株式会社 大和化成研究所内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平板状又は円盤状の被めっき物をめっき
    液に浸漬して電気めっきするにあたり、回転軸により垂
    直面で回転できる一対の対向する円盤状の装着板に被め
    っき物を陽極と対面させて支持し、該被めっき物を装着
    板と共に回転させながらめっきすることを特徴とする、
    平板状又は円盤状の被めっき物の電気めっき方法。
  2. 【請求項2】 平板状又は円盤状の被めっき物の中心を
    装着板の回転中心から該装着板径の2%以上又は5mm
    以上偏心させて該装着板に保持してめっきすることを特
    徴とする請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 装着板の回転速度が可変であると共に、
    タイマーによって、装着板の回転方向を正逆反転させな
    がら、しかも正逆回転の時間を自由に変更してめっきす
    る請求項1又は2記載の方法。
  4. 【請求項4】 装着板を左右方向及び(又は)上下方向
    に揺動させてめっきする請求項1〜3のいずれかに記載
    の方法。
  5. 【請求項5】 平板状又は円盤状の被めっき物を保持し
    且つ該被めっき物表面が垂直配向となるように回転させ
    るために垂直に配置された2枚の装着板と、該装着板に
    被めっき物を保持し且つ通電するための通電金具(チャ
    ック)と、該装着板を各端に保持し装着板の回転中心と
    なり且つ該被めっき物への通電を行うための回転軸と、
    駆動源と連繋した該回転軸を回転自在に支持し且つ該回
    転軸に通電するための付帯構造と、被めっき物と対面す
    る陽極とをめっき槽に設けてなる、請求項1に記載の方
    法を実施するための装置。
  6. 【請求項6】 装着板を左右方向及び(又は)上下方向
    に揺動させるための手段を含む請求項5に記載の装置。
JP11010797A 1997-04-14 1997-04-14 めっき方法及び装置 Expired - Lifetime JP3532065B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11010797A JP3532065B2 (ja) 1997-04-14 1997-04-14 めっき方法及び装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11010797A JP3532065B2 (ja) 1997-04-14 1997-04-14 めっき方法及び装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10287993A true JPH10287993A (ja) 1998-10-27
JP3532065B2 JP3532065B2 (ja) 2004-05-31

Family

ID=14527228

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11010797A Expired - Lifetime JP3532065B2 (ja) 1997-04-14 1997-04-14 めっき方法及び装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3532065B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016515668A (ja) * 2013-04-22 2016-05-30 エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド 基板を均一に金属被覆する方法および装置
JP6993537B1 (ja) * 2020-12-25 2022-01-13 株式会社荏原製作所 めっき装置、めっき装置の制御方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016515668A (ja) * 2013-04-22 2016-05-30 エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド 基板を均一に金属被覆する方法および装置
US10113244B2 (en) 2013-04-22 2018-10-30 Acm Research (Shanghai) Inc. Method and apparatus for uniformly metallization on substrate
JP6993537B1 (ja) * 2020-12-25 2022-01-13 株式会社荏原製作所 めっき装置、めっき装置の制御方法
KR20220093092A (ko) * 2020-12-25 2022-07-05 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 도금 장치, 도금 장치의 제어 방법
CN114981488A (zh) * 2020-12-25 2022-08-30 株式会社荏原制作所 镀敷装置、镀敷装置的控制方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3532065B2 (ja) 2004-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100800531B1 (ko) 구리 도금액, 도금 방법 및 도금 장치
US6592742B2 (en) Electrochemically assisted chemical polish
US20220010446A1 (en) Electrodeposition of nanotwinned copper structures
JP2002292523A (ja) 電解加工方法及び装置
JPH04107297A (ja) 電解的な表面処理法と装置
JPH03275130A (ja) 液槽における液体の攪拌方法および装置
JPS58166726A (ja) ウエ−ハエツチング装置
JPH10287993A (ja) めっき方法及び装置
TW202136593A (zh) 電鍍裝置和電鍍方法
JP2020193358A (ja) 湿式基板処理装置
JP2003205428A (ja) 電解加工装置及び方法
JP2911350B2 (ja) 表面処理方法およびそれに使用する表面処理装置
US3883410A (en) Method of and apparatus for the deburring workpieces
JPH0441698A (ja) 電解めっき方法および装置並びにそれに使用される治具
JPH03294497A (ja) 小孔内の表面処理方法
RU2715395C1 (ru) Способ электрополирования лопаток блиска и устройство для его реализации
JPS59142068A (ja) 切断加工用砥石の製造方法
JP2003225830A (ja) 電解加工装置および方法
JP2900476B2 (ja) 分散メッキ装置
JP3326777B2 (ja) 洗浄装置
CN217839167U (zh) 一种电镀设备
JPH06306700A (ja) 電気化学的処理方法とそのための装置
CN217809773U (zh) 集成式电解抛光装置
CN116676650A (zh) 一种晶圆夹具及电镀设备
JPS58123730A (ja) 半導体ウエハ−エツチング装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20031202

A521 Written amendment

Effective date: 20040130

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040224

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20040302

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080312

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 5

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090312

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100312

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 6

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100312

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110312

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 7

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110312

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 8

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120312

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312