JPH10266957A - トラップ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 トラップと再生・洗浄処理を能率良くかつ迅
速に行い、トラップ効率を上げることで、真空ポンプの
長寿命化、除害装置の保護、ロスタイム削減等により運
転の信頼性の向上を図り、さらに設備や運転コストの低
減を図る。 【解決手段】 気密チャンバから真空ポンプにより排気
する排気経路に配置され、排ガス中の成分を付着させて
除去するトラップ部１８を有し、排気経路に隣接してト
ラップ部１８に付着した付着物を再生または洗浄する再
生・洗浄経路が設けられ、またトラップ部１８を排気経
路と再生・洗浄経路に切替える切替手段３０が設けら
れ、トラップ部１８は、排ガスの流れ方向に直交する方
向に延びる軸体２８に複数の平板状のバッフル板４２を
所定のピッチで並設して構成され、排気経路及び再生・
洗浄経路にそれぞれ連通するトラップ室３２ａ及び再生
・洗浄室３４ａを有するケーシング２６内に収納されて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
装置等の真空チャンバを真空にするために用いる真空排
気システムにおいて用いられるトラップ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の真空排気システムを、図１０を参
照して説明する。ここにおいて、真空チャンバ１０１
は、例えばエッチング装置や化学気相成長装置（ＣＶ
Ｄ）等の半導体製造工程に用いるプロセスチャンバであ
り、この真空チャンバ１０１は、配管１０２を通じて真
空ポンプ１０３に接続されている。真空ポンプ１０３
は、真空チャンバ１０１からのプロセスの排ガスを大気
圧まで昇圧するためのもので、従来は油回転式ポンプ
が、現在はドライポンプが主に使用されている。

【０００３】真空チャンバ１０１が必要とする真空度が
ドライポンプ１０３の到達真空度よりも高い場合には、
ドライポンプの上流側にさらにターボ分子ポンプ等の超
高真空ポンプが配置されることもある。プロセスの排ガ
スは、プロセスの種類により毒性や爆発性があるので、
そのまま大気に放出できない。そのため、真空ポンプ１
０３の下流には排ガス処理装置１０４が配備されてい
る。大気圧まで昇圧されたプロセスの排ガスのうち、上
記のような大気に放出できないものは、ここで吸着、分
解、吸収等の処理が行われて無害なガスのみが大気に放
出される。なお、配管１０２には必要に応じて適所にバ
ルブが設けられている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】以上のような従来の真
空排気システムにおいては、反応副生成物の中に昇華温
度の高い物質がある場合、そのガスを真空ポンプが排気
するので、昇圧途中でガスが固形化し、真空ポンプ内に
析出して真空ポンプの故障の原因になる欠点がある。

【０００５】例えば、アルミのエッチングを行うため
に、代表的なプロセスガスであるＢＣｌ₃，Ｃｌ₂ を使
用すると、プロセスチャンバからは、ＢＣｌ₃，Ｃｌ₂
のプロセスガスの残ガスとＡｌＣｌ₃ の反応副生成物が
真空ポンプにより排気される。

【０００６】このＡｌＣｌ₃ は、真空ポンプの吸気側で
は分圧が低いので析出しないが、加圧排気する途中で分
圧が上昇し、真空ポンプ内で析出して固形化し、ポンプ
内壁に付着して真空ポンプの故障の原因となる。これ
は、ＳｉＮの成膜を行うＣＶＤ装置から生じる（Ｎ
Ｈ₄）₂ＳｉＦ₆ やＮＨ₄Ｃｌ等の反応副生成物の場合も
同様である。

【０００７】従来、この問題に対して、 （１）真空ポンプ全体を加熱して真空ポンプ内部で固形
化物質が析出しないようにし、ガスの状態で真空ポンプ
を通過させる。 （２）真空ポンプの上流（吸気側）に水冷クーラを設け
て、析出物をトラップする。 等の対策が施されてきた。

【０００８】しかし、（１）の対策では、真空ポンプ内
での析出に対しては効果があるが、その結果として、そ
の真空ポンプの下流に配置される排ガス処理装置で固形
化物が析出し、充填層の目詰まりを生じさせる問題があ
った。また、（２）の対策は、水冷クーラが真空ポンプ
の吸気側に設けられているので、有効なトラップとして
働かないばかりでなく、トラップ後の洗浄等のためにシ
ステムを停止させなければならないので、大きなロスタ
イムができてしまう。

【０００９】本発明は上述の事情に鑑みなされたもので
あり、トラップと再生・洗浄処理を能率良くかつ迅速に
行い、トラップ効率を上げることで、真空ポンプの長寿
命化、除害装置の保護、ロスタイム削減等により運転の
信頼性の向上を図り、さらに設備や運転コストの低減を
図ることができるトラップ装置を提供することを目的と
している。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、気密チャンバから真空ポンプにより排気する排気経
路に配置され、排ガス中の成分を付着させて除去するト
ラップ部を有するトラップ装置において、前記排気経路
に隣接して前記トラップ部に付着した付着物を再生また
は洗浄する再生・洗浄経路が設けられ、また前記トラッ
プ部を前記排気経路と前記再生・洗浄経路に切替える切
替手段が設けられ、前記トラップ部は、排ガスの流れ方
向に直交する方向に延びる軸体に複数の平板状のバッフ
ル板を所定のピッチで並設して構成され、前記排気経路
及び再生・洗浄経路にそれぞれ連通するトラップ室及び
再生・洗浄室を有するケーシング内に収納されているこ
とを特徴とするトラップ装置である。

【００１１】これにより、長時間の稼働においてもトラ
ップの再生処理のために装置を止めたり、交換のトラッ
プを用意する必要がなく、気密チャンバにおいて安定し
た処理を行なうことができる。また、適当な切替タイミ
ング判定手段を用いて完全な自動化を図ることも容易で
ある。しかも、トラップ室内を流れる排ガスのコンダク
タンスに対する影響を抑えつつ排ガスとバッフル板との
接触面積を大きくして、排ガスに対するトラップ効率を
高めることができる。

【００１２】チャンバは、例えば、半導体装置のプロセ
スチャンバであり、必要に応じて、プロセスガスを除害
化する排ガス処理装置を設ける。真空ポンプとしては、
油による逆拡散によるチャンバの汚染を防ぐために排気
経路に潤滑油を用いないドライポンプを用いるのが好ま
しい。

【００１３】トラップ部の切替駆動は、エアーシリンダ
で行なうようにしてもよい。その場合は、ソレノイドバ
ルブ、スピードコントローラで構成されたエアー駆動制
御機器により制御するようにしてもよく、さらに、エア
ー駆動制御機器を、シーケンサあるいは、リレーによる
制御信号により、制御するようにしてもよい。

【００１４】トラップ部の切替を人手を介することなく
完全に自動的に行なうことができる方法としては、例え
ば、トラップ部の前後の差圧を検出するセンサを設けて
これの検出値が所定値になったときに切替を行なう方
法、あるいはより実用的な方法として予め適当な切替時
間を設定しておく方法がある。排気経路と再生・洗浄経
路が１対１である場合には、トラップと再生または洗浄
の時間は同一となるので、再生または洗浄終了時間の方
が短くなるように再生または洗浄能力をトラップ能力よ
りも高めておくのが好ましい。

【００１５】トラップ部を低温トラップとして構成する
場合、外部から温度媒体をトラップ部に流通させる方法
があり、液化ガスの気化熱（例えば液体窒素）、あるい
は冷却水、冷媒などがある。また、熱電素子（ペルチェ
素子）や、パルスチューブ冷凍機などのヘリウム冷凍機
を用いて温度媒体そのものを流さずにトラップ部で低温
を発生させる方法もある。

【００１６】請求項２に記載の発明は、前記バッフル板
が前記軸体の軸線を含む断面において屈曲して形成され
ていることを特徴とする請求項１記載のトラップ装置で
ある。これにより、各バッフル板の間での排ガスの流れ
を該バッフル板に沿って波状に屈曲させて、バッフル板
と排ガスとの面積を更に大きくしてトラップ効率を更に
高めることができる。

【００１７】請求項３に記載の発明は、前記バッフル板
が前記軸体の軸線に直交する方向に対して傾斜している
ことを特徴とする請求項１に記載のトラップ装置であ
る。これにより、各バッフル板の間での排ガスの流れを
該バッフル板に沿って一方向に屈曲させて、バッフル板
と排ガスとの面積及び接触の機会を大きくし、且つ排ガ
スのコンダクダンスに対する影響を少なくすることがで
きる。

【００１８】請求項４に記載の発明は、前記バッフル板
が多孔質材料で構成されていることを特徴とする請求項
１乃至３のいずれかに記載のトラップ装置である。これ
により、排ガスに対するコンダクタンスに影響を与えず
に、しかも例えばＮ₂，ＣＦ₄，ＮＦ₃ といった固形化が
極めて困難なガスを低温吸着して採取することができ
る。なお、このように多孔質材料製のバッフル板でトラ
ップ部を構成した場合は、温度を上げることによって再
生を行なうことができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態について説明する。図１乃至図５に示すのは、気
密チャンバ１０を真空ポンプ１２により排気する排気経
路１４に隣接して再生・洗浄経路１６が配置され、この
排気経路１４及び再生・洗浄経路１６に交差する方向
（以下、交差方向という）に直進移動して切替可能に配
置されたトラップ部１８が設けられているものである。
真空ポンプ１２は、この例では一段であるが多段として
もよい。真空ポンプ１２の後段には排ガスを除害するた
めの排ガス処理装置２０が設けられている。再生・洗浄
経路１６には、トラップした析出物を加熱して気化さ
せ、あるいは気化したガスを搬送するための再生ガス、
またはこの析出物を洗浄排出する洗浄液が流通させら
れ、下流側には排ガス処理装置２２が設けられている。
本実施例では排ガス処理装置２０，２２は別々に設けた
が、共用してもよい。

【００２０】この切替式のトラップ装置は、排気経路１
４と再生・洗浄経路１６に跨って配置された直方体状の
ケーシング２６と、このケーシング２６を交差方向に貫
通する軸体２８と、この軸体２８を軸方向に往復移動さ
せる切替手段であるエアシリンダ３０を備えている。ケ
ーシング２６は、内部をトラップ室３２ａとしたトラッ
プ容器３２と、内部を再生・洗浄室３４ａとした再生・
洗浄容器３４とから主に構成されている。

【００２１】トラップ容器３２には、排気経路１４に接
続されてトラップ室３２ａ内にプロセスの排ガスを導入
する排ガス導入口３２ｂと、このトラップ室３２ａ内の
排ガスを排出する排ガス排出口３２ｃが設けられてい
る。また再生・洗浄容器３４には、再生・洗浄経路１６
に接続されて再生・洗浄室３４ａ内に再生ガスまたは洗
浄液を注入するガス・液注入口３４ｂと、この再生・洗
浄室３４ａ内の再生ガスまたは洗浄液を排出するガス・
液排出口３４ｃが設けられている。

【００２２】軸体２８には、断熱性を有する素材からな
る一対のシール板４０が配置され、その間に複数のバッ
フル板４２が熱伝導を良くするために溶接等により軸体
２８に一体に取付けられ前記トラップ部１８が構成され
ている。

【００２３】すなわち、図３に詳細に示すように、軸体
２８の軸方向に沿った所定のピッチｐ₁ で複数の円板状
のバッフル板４２が軸体２８に取付けられてトラップ部
１８が構成されている。このピッチｐ₁ は、この各バッ
フル板４２間を層状に流れる排ガスのコンダクタンスに
対する影響を抑えられる値に設定されている。これによ
って、バッフル板４２と排ガスとの接触面積を大きくし
て、バッフル板４２によるトラップ効率を高めることが
できる。

【００２４】トラップ容器３２の再生・洗浄室３４との
隣接側には、バッフル板４２は通過できるがシール板４
０は通過できないような大きさの開口部３６が設けられ
ている。更に、軸体２８のケーシング２６からの両突出
部には、ベローズ４４が設けられており、排気経路１４
及び再生・洗浄経路１６と外部環境との間の気密性を維
持している。

【００２５】トラップ容器３２の前記開口部３６を挟ん
だ両側と該開口部３６と対面する内面、及び再生・洗浄
容器３４の前記開口部３６と対面する内面の合計４カ所
には、シール板４０の外形に沿った形状に形成されたシ
ール板収納部４６が設けられている。シール板４０は断
熱性の高い素材で形成されて、トラップ室３２ａと再生
・洗浄室３４ａの間の熱移動を阻止するようにしている
とともに、この外周端面は、横断面円状に形成され、こ
こにシール部４８が設けられている。このシール部４８
は、シール板４０の外周端面に設けた凹部４０ａ内にシ
ール材としてのＯリング５０を嵌着して構成され、この
シール板４０がシール板収納部４６内に位置した時、Ｏ
リング５０がシール板収納部４６の内周面に圧接するよ
うになっている。このシール板収納部４６の内周面は、
シール板４０が入り易くなるように、テーパ状に形成さ
れている。

【００２６】更に、シール板４０の側端面または該側端
面が当接するシール板収納部４６の壁面の一方には、第
２のシール部５２が設けられている。この例では、１枚
のシール板４０の１側端面に第２のシール部５２を、３
つのシール板収納部４６に第２のシール部５２をそれぞ
れ設けた例を示している。すなわち、シール板４０の側
端面にリング状の凹部４０ｂを設け、この凹部４０ｂ内
にＯリング５４を嵌着することによって、またシール板
収納部４６の壁面にリング状の凹部４６ａを設け、この
凹部４６ａ内にＯリング５４を嵌着することによって、
第２のシール部５２が構成されている。

【００２７】このように、シール板４０とケーシング２
６（トラップ容器３２及び再生・洗浄容器３４）との間
をシール板４０の外周端面と側端面で二重にシールする
ことにより、ここでのシールの完全性を図って、排気経
路１４と再生・洗浄経路１６の気密性を維持している。

【００２８】軸体２８は、金属等の熱伝導性の良い材料
により形成された２重円筒体として形成され、冷媒供給
管５６から供給された冷媒が軸体２８の内側の管の内部
を通った後、両管の間の隙間を流れて冷媒排出管５８か
ら排出され、これによって、バッフル板４２が冷却され
るようになっている。この冷媒としては、例えば液体窒
素のような液体又は冷却された空気又は水等が使用され
る。なお、再生の際には、この冷媒の供給を停止すると
ともに、冷媒の替わりに再生用の加熱用熱媒体を流通さ
せることもできる。

【００２９】エアシリンダ３０の駆動用のエアー配管
は、図５に示すようになっている。すなわち、エアー源
からのエアーはレギュレータ６０で減圧され、ソレノイ
ドバルブ６２に送られ、これの電磁信号による開閉の切
替によって制御されてシリンダ３０に送られ、ピストン
が前進又は後退をする。この時のシリンダ３０の駆動速
度はスピードコントローラ６４で制御される。ソレノイ
ドバルブ６２は、例えば、シーケンサ、リレー等からの
制御信号により、この例では一定時間毎に切替動作が行
われるように制御される。

【００３０】なお、トラップ部１８のバッフル板４２等
の所定位置に温度センサ６６が、また、排気経路１４の
トラップ部１８の前後に圧力センサ６８が設けられ、こ
れにより温度や差圧を検知することができるようになっ
ている。

【００３１】次に、前記のような構成の発明の実施の形
態のトラップ装置の作用を説明する。図１に示す位置に
おいて、トラップ室３２ａ内に位置するトラップ部１８
には冷媒供給管５６から液体窒素や冷却空気又は水等の
冷媒が供給され、これは軸体２８と、これを介してバッ
フル板４２を冷却する。従って、これに接触した排ガス
中の特定の成分はここで析出してこれらに付着し、トラ
ップされる。この時、排ガスは、各バッフル板４２，４
２間を層状にスムーズに流れ、しかも各バッフル板４２
との接触面積が大きくなって、トラップ効率が高くな
る。

【００３２】所定時間の経過後にエアシリンダ３０が動
作し、図２に示すように、トラップ室３２ａに有ったト
ラップ部１８が再生・洗浄室３４ａ内に位置するように
切り替えられる。すると、ガス・液注入口３４ｂから高
温の再生ガスあるいは洗浄液が再生・洗浄室３４ａ内に
注入される。再生ガスが注入された時には、トラップさ
れた析出物が再び気化させられ、気化したガスは再生・
洗浄経路１６中から排出され、排ガス処理装置２２にお
いて除害処理を受けて放出されるか、あるいは再利用の
ために循環又は貯蔵等される。一方、洗浄液が注入され
た時には、トラップされた析出物はこの洗浄液によって
洗浄されて再生・洗浄室３４ａから排出され、上記と同
様に処理される。

【００３３】ここで、シール板４０は断熱性を持ってい
て、トラップ室３２ａと再生・洗浄室３４ａが相互に断
熱されているので、熱エネルギーのロスがなく、それぞ
れトラップと再生または洗浄が効率的に行われる。ま
た、軸体２８の両突出部は、伸縮するベローズ４４によ
り気密を維持されているので、外部との間の熱移動によ
るエネルギーロスや処理の効率低下が抑えられ、安定し
たトラップと再生または洗浄処理が行われるとともに、
外部からの汚染要素が排気経路１４に侵入することも防
止される。

【００３４】なお、トラップのための冷却手段として、
熱電効果により冷却を行なう熱電素子（ペルチェ素子）
を用いた冷却器を使用しても良いことは勿論である。こ
の種の冷却器は、２枚の金属板の間に熱電素子を間隔を
置いて配置することによって構成される。

【００３５】図６は、トラップ装置の他の構成を示すも
ので、ここでは、トラップ容器３２の両側に再生・洗浄
容器３４が連結されて、トラップ室３２ａを挟んでこの
両側に一対の再生・洗浄室３４ａが配置されているとと
もに、軸体２８には、３枚のシール板４０が等間隔に配
置され、その間にバッフル板４２が一体に取付けられ
て、２つのトラップ部１８が形成されている。

【００３６】この実施の形態では、一方のトラップ部１
８が常に中央のトラップ室３２ａ内に位置し、他方のト
ラップ部１８が一方の再生・洗浄室３４ａ内に位置す
る。すなわち、図６において、左側のトラップ部１８が
トラップ室３２ａ内に位置する時には、右側のトラップ
部１８は右側の再生・洗浄室３４ａ内に位置し、シリン
ダ３０の作動によって切り替わった時には、左側のトラ
ップ部１８が左側の再生・洗浄室３４ａ内に、右側のト
ラップ部１８はトラップ室３２ａ内にそれぞれ位置す
る。これによって、トラップ動作と再生・洗浄動作を同
時に並行して行うことができる。

【００３７】これらの実施の形態では、トラップ部１８
に設けた温度センサ６６や排気経路１６に設けた圧力セ
ンサ６８の検出値をモニターすることができ、これによ
りトラップの状態を把握して、異常値が出れば警報を発
して必要な処置を採ることができる。すなわち、トラッ
プ部１８の温度が異常に上昇したら、析出物が付着して
熱負荷が増えたためと判断され、差圧が上昇した場合も
同様でありうる。これらの異常上昇の際は、例えば、設
定時間前でもトラップを切り替えるように操作する。勿
論、これらのセンサの検出値を基準として、所定の値に
なったら切替を行なうようにしてもよい。

【００３８】図７及び図８は、この発明のトラップ部１
８の他の実施の形態を示すものである。すなわち、図７
は、バッフル板７０を平板ではなく、軸線を通る断面に
おいて屈曲した形状としている。すなわち、バッフル板
７０には、円周方向に延びる山部７０ａと谷部７０ｂと
が交互に設けられ、これが所定のピッチｐ₂ で軸体２８
に一体に取り付けてトラップ部１８を構成している。こ
のピッチｐ₂ は、各バッフル板７０間を流れる排ガスの
コンダクタンスに対する影響を抑えられる値に設定され
ている。

【００３９】この実施の形態では、排ガスとバッフル板
７０との接触面積が大きくなっており、さらに、排ガス
がバッフル板７０間の波状に屈曲した流路をバッフル板
７０の面に当たって方向を変えながら流れるので、トラ
ップ効率を更に高めることができる。なお、この場合、
排ガスのコンダクタンスに対する影響が大きくなるが、
この影響は、このピッチｐ₂ の大きさによって調整する
ことができる。

【００４０】図８は、直径方向に沿って一方向に徐々に
傾斜する形状に形成した平板状のバッフル板７２を所定
のピッチｐ₃ で軸体２８に一体に取り付けてトラップ部
１８を構成したものである。ここに、バッフル板７２の
傾斜角θ及びピッチｐ₃ は、バッフル板７２間を流れる
排ガスのコンダクタンスに対する影響が抑えられる値に
設定されている。

【００４１】この実施の形態でも、排ガスとバッフル板
７２との接触面積が大きくなっているとともに、バッフ
ル板７２は本来の排ガス流れ方向に対して傾斜してお
り、かつ軸体２８の上下で流路の方向が変わっているの
で、バッフル板７２の間の流路を該バッフル板７２に当
たって方向を変えながら流れる。従って、排ガスのコン
ダクタンスに対する影響を少なくしつつ、トラップ効率
を高めることができる。コンダクタンスは、バッフル板
７２の傾斜角θ及びピッチｐ₃ を変えることにより容易
に調節することができる。

【００４２】なお、前記各実施の形態において、バッフ
ル板４２，７０，７２は、例えばステンレス等の緻密な
材料によって構成され、これによって、再生には、昇温
及び洗浄の双方が行えるようになっているが、これらの
バッフル板４２，７０，７２を、例えばチタン、モネ
ル、インコネル、ハステイロ等の多孔質材料で構成する
こともできる。このように、多孔質材料製のバッフル板
でトラップ部を構成することにより、排ガス流れに対す
るコンダクタンスに影響を与えることなく、例えば
Ｎ₂ ，ＣＦ₄ ，ＮＦ₃ 等の固形化が極めて困難なガスを
バッフル板に低温吸着させることができる。

【００４３】なお、多孔質材料は組織が粗いため、ガス
体の採取はできるが、再生に洗浄が使用できない。この
ため、再生の際には、温度を上げてガス体を排出させる
必要がある。すなわち、例えば、図１及び図２に示すバ
ッフル板４２として多孔質材料製のものを使用した場合
には、同図に示す再生・洗浄室３４ａ内に高温の再生ガ
スを導入して再生を行う必要がある。

【００４４】図９は、ステンレス等の緻密な材料製のバ
ッフル板からなるトラップ部と、多孔質材料製のバッフ
ル板からなるトラップ部とを組み合わせたトラップ装置
の他の実施の形態を示すものである。

【００４５】すなわち、一対のケーシング８０ａ，８０
ｂが備えられ、上流側に位置する一方のケーシング８０
ａ内にステンレス等の緻密な材料製のバッフル板８２ａ
からなるトラップ部１８ａが、下流側に位置する他方の
ケーシング８０ｂ内に多孔質材料製のバッフル板８２ｂ
からなるトラップ部１８ｂがそれぞれ収納されている。

【００４６】そして、上流側のケーシング８０ａは、ト
ラップ室８４ａと再生・洗浄室８６ａに区分され、この
トラップ室８４ａ内に排ガスが、再生・洗浄室８６ａ内
に高温の再生ガスまたは洗浄液がそれぞれ導入されるよ
うになっている。一方、下流側のケーシング８０ｂ内
は、トラップ室８４ｂと再生室８６ｂに区分され、この
トラップ室８４ｂ内に上流側のケーシング８０ａのトラ
ップ室８４ａを出た排ガスが、再生室８６ｂ内に高温の
再生ガスがそれぞれ導入されるようになっている。

【００４７】なお、このトラップ部１８ａは、ケーシン
グ８０ａ内でトラップ室８４ａと再生・洗浄室８６ａと
の間を、トラップ部１８ｂは、ケーシング８０ｂ内でト
ラップ室８４ｂと再生室８６ｂとの間を、それぞれ移動
自在になっていることは、前述と同様である。

【００４８】この実施の形態では、上流側のケーシング
８０ａ内のトラップ部１８ａで腐食性ガスをトラップ
し、再生・洗浄室８６ａ内に注入した高温の再生ガスま
たは洗浄液で再生を行い、下流側のケーシング８０ｂ内
のトラップ部１８ｂで、Ｎ₂ ，ＣＦ₄ ，ＮＦ₃ 等の固形
化が極めて困難なガスを採取し、再生室８６ｂ内に注入
した高温の再生ガスで再生を行うことができる。

【００４９】以上の実施の形態では、トラップ部はケー
シング内を直線的に移動して切り替えられるようになっ
ているが、ケーシングを環状に形成し、トラップ部をロ
ータリー運動させることによって移動させてもよい。こ
の場合には１つの排気経路に対してトラップ部を３以上
設けて２以上の再生・洗浄経路で同時に再生させること
ができる。通常、トラップの速度より再生の速度が遅い
ので、この点は特に有利である。また、ロータリー式で
は２つのトラップ部の場合には再生経路が１つで済むこ
とになる。

【００５０】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、長時間の稼働においてもトラップの再生・洗浄処理
のために装置を止めたり、交換のトラップを用意する必
要がなく、気密チャンバにおいて安定した処理を行なう
ことができる。また、適当な切替タイミング判定手段を
用いて完全な自動化を図ることも容易である。従って、
真空ポンプの長寿命化、除害装置の保護、ロスタイム削
減による運転の信頼性の向上、さらには設備や運転コス
トの低減を図ることができる。

【００５１】しかも、排ガスのコンダクタンスに影響を
与えることなく、トラップ部でのトラップ効率を高める
とともに、多孔質材料製のバッフル板でトラップ部を構
成することにより、固形化が極めて困難なＮ₂ 等をトラ
ップしてリサイクルに用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の１つの実施の形態のトラップ装置の
一部を破断した正面図である。

【図２】図１の実施の形態の切替後の状態を一部を破断
して示す正面図である。

【図３】図１の実施の形態のトラップ部を拡大した
（ａ）一部を破断した平面図、（ｂ）同側面図である。

【図４】図１の実施の形態の全体の構成を示す模式図で
ある。

【図５】エアシリンダの駆動系を示す図である。

【図６】トラップ装置の他の実施の形態の一部を破断し
た正面図である。

【図７】トラップ部の他の実施の形態の（ａ）一部を破
断した平面図、（ｂ）側面図である。

【図８】トラップ部の更に他の実施の形態の（ａ）一部
を破断した平面図、（ｂ）側面図である。

【図９】トラップ装置の更に他の実施の形態を示す断面
図である。

【図１０】従来の真空排気システムの構造を示す図であ
る。

【符号の説明】

１０ 気密チャンバ １２ 真空ポンプ １４ 排気経路 １６ 再生・洗浄経路 １８，１８ａ，１８ｂ トラップ部 ２６，８０ａ，８０ｂ ケーシング ２８ 軸体 ３０ エアシリンダ（駆動手段） ３２ トラップ容器 ３２ａ，８４ａ，８４ｂ トラップ室 ３４ 再生・洗浄容器 ３４ａ，８６ａ 再生・洗浄室 ４０ シール板 ４２，７０，７２，８２ａ，８２ｂ バッフル板 ４６ シール板収納部 ４８，５２ シール部 ８６ｂ 再生室

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 気密チャンバから真空ポンプにより排気
   する排気経路に配置され、排ガス中の成分を付着させて
   除去するトラップ部を有するトラップ装置において、 前記排気経路に隣接して前記トラップ部に付着した付着
   物を再生または洗浄する再生・洗浄経路が設けられ、ま
   た前記トラップ部を前記排気経路と前記再生・洗浄経路
   に切替える切替手段が設けられ、 前記トラップ部は、排ガスの流れ方向に直交する方向に
   延びる軸体に複数の平板状のバッフル板を所定のピッチ
   で並設して構成され、前記排気経路及び再生・洗浄経路
   にそれぞれ連通するトラップ室及び再生・洗浄室を有す
   るケーシング内に収納されていることを特徴とするトラ
   ップ装置。
2. 【請求項２】 前記バッフル板が前記軸体の軸線を含む
   断面において屈曲して形成されていることを特徴とする
   請求項１記載のトラップ装置。
3. 【請求項３】 前記バッフル板が前記軸体の軸線に直交
   する方向に対して傾斜していることを特徴とする請求項
   １に記載のトラップ装置。
4. 【請求項４】 前記バッフル板が多孔質材料で構成され
   ていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記
   載のトラップ装置。