JPH10258117A - 光学的測定システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 例えば微生物アイソレ−タのような閉鎖空間
を殺菌および／または除染するための殺菌ガスを発生、
投与、抜き取りおよび回収するための装置および方法、
ならびにこの装置および方法に関連する要素を提供す
る。 【解決手段】 特に、エミッタで放出した放射線の強度
を感知する手段に応答して、エミッタに修正フィ−ドバ
ックを行うに手段を含む、流体あるいはガスの所定成分
の濃度を測定する集成装置を企図している。この測定用
集成装置は、閉鎖空間を殺菌および／または除染するた
めの殺菌ガスを発生、投与、抜き取りおよび回収するた
めの装置および方法の関連以外の関連でも利用できると
思われる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば微生物アイ
ソレータ(isolator;隔離器）のような閉鎖空間を殺菌お
よび／または除染するための殺菌ガスを発生、注入、抜
き取りおよび回収するための装置および方法、ならびに
この装置および方法に関連する要素に関する。

【０００２】

【従来の技術】これまで、殺菌および／または除染され
た環境で種々の材料を取扱い、検査、分析および／また
は生産を容易にするための広範な閉鎖空間が開発されて
きた。このような閉鎖空間には、（限定するものではな
いが、）微生物アイソレータ、殺菌移送溝、工業用空
間、容器の空間、「少量移送用」微生物アイソレータ
（例えば容量が約２５立方フィートのもの）、大型の可
撓性ワークステーションを備えた微生物アイソレータ
（例えば２個ないしそれ以上の可撓性で密着したワーク
ステーションを備えた容量が約３５０立方フィートおよ
び約４００立方フィートのもの）、オートクレーブとの
インタフェースとなる微生物アイソレータ、殺菌を必要
とする工業用空間（ガラス室や工業用規模での無菌処理
アイソレータなど）、および食品産業で使用される種々
の機能（例えばスパイスや小麦粉の漂白、製品の表面除
染など）を有する殺菌済閉鎖空間がある。

【０００３】ヒトの前腕の形状をして、アイソレータの
外表面から内部の閉鎖空間に入り込む長手グローブを備
えた公知の「グローブ型」アイソレータは、例えばフラ
ンス、ベリジーのla Calhene社およびペンシルベニア州
アイビーランドのLaminar Flow社が製造している。さら
に、la Calhene社は、閉鎖空間の底面から延び出して閉
鎖空間の中に入り込むヒトの胴体と腕の形状をし、ヘル
メットも具備した気密の被覆部を有する「iso 2100シリ
ーズ」のような半被覆型アイソレータを製造しているこ
とでも知られている。完全殺菌室を含む他の型の閉鎖空
間も、「Clean Room」誌，第１０巻，第５号（１９９６年
５月）にいくつか開示されている。

【０００４】これまでのところ、アイソレータには、二
つの型がある。すなわち、一つは「可撓性」の側面また
は壁面を備えた型で、もう一つは「剛性」の側面または
壁面を備えた型である。そして、これまで、両者は、実
質的に相互に変換可能であるかまたはその性能、機能お
よび操作がほぼ同一と考えられており、その実際の使用
またはこれを使用したいとする意思は、価格以外のもの
にはほとんど影響されなかった。

【０００５】ところで、いままで、上述のような閉鎖空
間の殺菌または除染を実際に行うため、そのような閉鎖
空間において、殺菌・除染効果をもつことが知られてい
る殺菌ガスを適切な混合比で提供すべく、多くの装置が
提案されてきた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】最近では、多くの努力
が以下のものに傾注されている：１）対象となる空間内
での殺菌や除染を行うのを助けるにの適当と考えられる
ガスあるいは化合物の発生；２）そのようなガスや化合
物を殺菌・除染空間に効率的に適用すること；および
３）そのようなガス・化合物を、対象空間を殺菌ないし
除染する目的で使用した後、環境に配慮して廃棄ないし
回収すること。

【０００７】所与の閉鎖空間に対して必ずしも恒久的に
取り付ける必要がない、すなわち一つの閉鎖空間に対し
て取付け・取り外しできるポータブル・汎用の殺菌／除
染装置を求める要望もしばしば認められる。

【０００８】さらに、ポータブル・汎用の殺菌／除染装
置を、異なった機会に、異なる閉鎖空間または異なる型
の閉鎖空間に使用したいという要望もある。

【０００９】上述の用途に用いる殺菌剤や除菌剤として
は、多くの種類のガスや化合物が提案されてきたが、そ
の多くは所望の効果が得られないか、殺菌／除染工程の
後、環境に安全な廃棄ないし回収を容易に行うことがで
きなかった。ここ何年かは、殺菌剤として、二酸化塩素
ガスが広く知られていた。その使用については、米国特
許第5,326,546 号、同第5,290,524 号、同第5,234,678
号、同第5,110,580 号、同第4,681,739 号、および同第
4,504,442 号（いずれもRosenblatt) に記載されてい
る。また、そのような能力をもつ二酸化塩素を生成させ
る方法も、上述の各特許に開示がある。しかし、二酸化
塩素ガスを殺菌剤として、効果的な殺菌・除染能力を与
え、また環境に安全な方法で容易に周囲の大気中に排
気、ないし所定の活性な成分を効率的に回収でき、そし
て殺菌・除染という役割を担う上で最も効果を発揮する
よう制御できる効率的な方法で、近い将来に使用しよう
という要望は以前からあった。

【００１０】しかし、ここでの議論は、特別な期待がも
たれていた殺菌／除染装置における種々の補助的な要
素、ならびにその装置および／または要素を操作／制御
する方法について簡単に振り返るにとどめる。

【００１１】殺菌／除染装置は、しばしば、その要素と
して、殺菌ガスを発生させるための配置と使用済みのガ
スを回収および／または排気するための配置をも問題に
してきた。「回収」は、通常、殺菌工程で使用した殺菌
ガスのうち少なくとも一つの活性成分を保持する作業を
伴う。一方、「排気」は、通常、使用済み殺菌ガスある
いはその少なくとも一部を、周囲の大気中へ、環境に安
全な仕様で放出する作業を伴う。

【００１２】従来、殺菌／除菌装置で用いるガス回収シ
ステムは、回収する予定の導入ガスを、「スクラバー
液」を収めた容器に導くものであった。この「液体に基
づくシステム」においては、ガスは、十分な静水圧ヘッ
ドを有する液体カラムの中を通されるが、こうするとガ
スの泡がその後すぐにカラムの表面に発生する。考えら
れるところでは、導入したガスは、スクラバー液との間
で十分な相互作用を経、効果的に「こすり落され」るか
または、液体カラムの表面にたどり着くまでの間に中和
までされる。得られた気泡が液体カラムの上面で「破
裂」すると、さらに上方で「こすり落された」ガスを排
除するようになる。そして、直接大気中に排気されるか
または、少なくとも一種類の活性の成分を活性するため
の「ポストスクラバー(post-scrubber)」集成装置に送ら
れる。「ソーダ石灰」ポストスクラバー集成装置は、こ
れまでにも、少なくとも後者の目的のためには使用され
てきた。

【００１３】しかし、このような液体に基づくシステム
には、いくつかの欠点が指摘されてきた。第一に、上述
のごとく大気中に放出されるかまたはポストスクラバー
集成装置に送り込まれる前に、導入されるガスが十分に
「こすり落される」よう、通常、容器の内部で、スクラ
バー液について比較的大型の静水圧ヘッドを維持する必
要がある。静水圧ヘッドは重要なパラメータであるた
め、非常に大型の静水圧ヘッドが要求されたこともしば
しばであった。これは、通常の場合、ガスを回収システ
ムに送り込むのに関連して、圧力のうちのかなりの部分
のガスが液体カラムを通って上方に十分進むのに必要と
されるという欠点となる。十分に高い静水圧ヘッドが存
在すると、この圧力（しばしば「後圧」と呼ばれる）は
相当の大きさになり、バルブや他の部品が損傷するおそ
れが高いまま、「後圧」が実際に後方の殺菌／除染装置
に送られるという結果になる。殺菌／除染装置における
部品の寿命がそのような後圧の結果短縮したり、そのよ
うな高い後圧に耐え得るよう、システム内に非常に精密
で高価なバルブ集成装置が必要となることはしばしばみ
られた。そして、この後圧の結果、ガスをスクラバー液
のカラムを通して効果的に上方に送り込むために、高価
で嵩高いポンプが要求される場合があった。

【００１４】殺菌／除染装置（および他の装置でも）に
おいては、殺菌／除染工程中に、所与のガスおよび／ま
たは混合物の相対濃度を測定することの重要性が広く認
識されている。特に、閉鎖空間に送り込まれている間お
よびここから排出されている間、または閉鎖空間中に存
在している間に、ガスの「殺菌剤」成分の相対濃度を測
定し、これを許容範囲内に収めたいという要望があっ
た。さらに、従来の測定装置の多くは、一つの特定の目
的以外には利用できなかった。このため、そのような従
来の装置の欠点を除去した汎用性のガス測定装置を求め
る声があった。

【００１５】これまでの殺菌／除染装置においては、広
範な制御バルブが用いられてきた。しかし、今日までに
提案されたバルブの多くは、比較的複雑、高価でありな
がら気密性に信頼性がなかった。このため、殺菌の分野
でもその他の分野でも、簡単、安価でかつ気密なバルブ
を求める要望があった。

【００１６】特に、膨脹・収縮する殺菌／除染空間（と
りわけ壁面が可撓性の場合）あるいは少なくとも流水洗
浄式の閉鎖空間において、殺菌ガスをそのような空間に
導入し、ついでその殺菌ガスを抜き出すための他の簡単
かつ安価なバルブシステムおよび／またはバルブ操作ス
キームを求める要望もある。

【００１７】殺菌／除染装置においては、また、装置の
要素やサブ要素を効果的に制御することができるソフト
ウエアや他のプログラムロジックに要望があった。

【００１８】この殺菌／除染装置においては、一定の時
間、制御した条件の下で、殺菌ガスをアイソレータ（あ
るいは他の閉鎖空間）に導入できるようにしてほしいと
いう特別な要望もあった。しかし、新しい殺菌／除染装
置をオンラインに組み入れる（すなわち効果的に殺菌・
除染プロセスを行えるようその操作パラメータを確定す
る）のに要求されるソフトウエアやプログラムロジック
を定義し、設計し、プログラムを組む際、しばしば困難
に見まわれた。そして、新しい制御機能や新しい操作環
境に適応するよう既存の制御プログラム（あるいはプロ
グラムロジック）を修正したり、殺菌／除染装置をオン
ラインに「有効に載せたい」（すなわち、殺菌・除染プ
ロセスを「最悪の場合の」条件下で効果的に行うことが
できるシステムのデモンストレーションと確認が可能な
方法で、「最悪の場合の」操作パラメータを確立するこ
と）という要望もあった。

【００１９】最後に、従来の殺菌／除染装置には、装置
の始動時に適正濃度の殺菌ガスをシステムに正確に注入
するため、循環空気／ガスを装置内に適切に「送給」す
ることについて、今日まで、多くの問題が見つかってい
る。特に、これまでの装置は、多くが、「送給」を、殺
菌あるいは除菌対象である閉鎖空間での直接測定による
ガス濃度に基づいて行っていた。しかし、そのような直
接測定は、殺菌ガスが閉鎖空間中で均一に分布した後で
のみ正確になるだけである。こうして、貴重な時間が、
しばしば、正確な測定が行われる状態になるのを待つこ
とに浪費されていた。このため、そのような状態が達成
される前に殺菌処理を継続すると不正確な測定となるお
それがあった。さらに、従来の殺菌／除染プロセスは、
多くが、閉鎖空間内の圧力変化に基づいて、「送給」時
のガス濃度を推定していたが、これは間接的なもので、
したがって部分的には不正確な推定であり、単に閉鎖空
間内で殺菌ガスが存在しているかどうかの推定となる場
合もあった。最後に、殺菌や除染が行われる多くの空間
は、排気することができず、手作業による殺菌・除染を
必要としていたため、人力や時間を大量に消費するおそ
れがあり、また人為的エラーによりリスクを導入してし
まうおそれもあった。

【００２０】

【課題を解決するための手段】本発明の少なくとも一つ
の好ましい態様は、広く以下のシステムを企図する：す
なわち、対象の少なくとも一部を除染するためのモジュ
ール式システムであって、除染ガスを発生するための集
成装置と、前記除染ガスを前記対象に注入するための集
成装置と、前記除染ガスを循環させるための集成装置
と、前記除染ガスを抜き取るためのガス抜取集成装置で
あって、前記対象に注入された除染ガスを受け入れる装
置と、前記受け入れ装置によって受け入れられた除染ガ
スから少なくとも一種の成分を回収する装置であって、
前記受け入れられた除染ガスと相互作用をする媒体を導
入する装置と、少なくとも一種の所定成分の前記除染ガ
スからの回収を促進する装置、を含むガス抜取集成装置
と、前記相互作用媒体の所定量を維持するための選択的
に取り外しできる集成装置を具備する除染システムであ
る。

【００２１】本発明のもう一つの好ましい態様は、広く
以下のシステムを企図する：すなわち、ガスに曝された
対象の少なくとも一部からガスを抜き取るための装置で
あって、対象に注入された除染ガスを受け入れる装置
と、前記受け入れ装置によって受け入れられた除染ガス
から少なくとも一種類の成分を回収する装置であって、
前記受け入れられた除染ガスと相互作用をする媒体を導
入する装置と、少なくとも一種類の所定成分の前記除染
ガスからの回収を促進する装置、を含む装置と、前記相
互作用媒体の所定量を維持するための選択的に取り外し
できる装置を具備するガス抜取集成装置である。

【００２２】本発明のさらに好ましい態様は、広く以下
のシステムを企図する：すなわち、除染ガスを発生する
ための集成装置と、前記除染ガスを前記対象に注入する
ための集成装置と、前記除染ガスを循環させるための集
成装置と、前記除染ガスを抜き取るための集成装置と、
前記除染ガスの所定成分の濃度を測定するための濃度測
定集成装置であって、所定強度の放射線を前記除染ガス
の流れを通過するように放出する装置と、前記放出され
た放射線を前記除染ガスの少なくとも一種類の選択した
成分の吸収スペクトルに相当する波長に分解する装置
と、前記除染ガスの所定成分の濃度を測定するために、
前記放出された放射線の少なくとも一部を受け入れ、前
記除染ガスの流れによって吸収されなかった前記放射線
の少なくとも一部を測定する装置と、前記放出装置によ
って放出された放射線の強度を感知する装置と、前記感
知装置に応答して、前記放出装置に修正フィードバック
を行う装置を含むガス濃度測定集成装置を具備する除染
システムである。

【００２３】本発明のさらに好ましい態様は、流体の少
なくとも一種類の成分の濃度を測定する集成装置であっ
て、所定強度の放射線を流体に放出する装置と、前記放
出された放射線を前記流体の少なくとも選択した成分の
吸収スペクトルに相当する波長に分解する装置と、前記
流体の所定成分の濃度を測定するために、前記放出され
た放射線の少なくとも一部を受け入れ、前記流体によっ
て吸収されなかった前記放射線の少なくとも一部を測定
する装置と、前記放出装置によって放出された放射線の
強度を感知する装置と、前記感知装置に応答して、前記
放出装置に修正フィードバックを行う装置を具備する液
体濃度測定集成装置を企図する。

【００２４】本発明のさらに好ましい態様は、対象の少
なくとも一部を除染するためのシステムであって、除染
ガスを発生させるための集成装置と、前記除染ガスを前
記対象に注入するための集成装置と、前記除染ガスを循
環させるための集成装置と、前記除染ガスを抜き取るた
めの集成装置と、少なくとも一本の導管と、前記導管を
通してガスの流れを選択的そして交互に導入しかつ制限
するためのガス流れ許容／制限集成装置であって、ハウ
ジングと、前記ハウジング内にスライド可能に配置され
る被駆動要素と、前記被駆動要素をスライドにより変位
させる装置と、前記被駆動要素を選択的に前進させたり
後退させたりする装置を含む変位集成装置と、前記被駆
動要素を前記ハウジング内で正確に位置設定するため、
前記変位集成装置に位置合わせフィードバックを行う装
置を備えるガス流れ許容／制限集成装置を具備する除染
システムである。

【００２５】本発明のさらに好ましい態様は、対象空間
の少なくとも一部を除染するためのシステムを広く企図
する。このシステムは、除染ガスを供給するための集成
装置と、前記除染ガスを前記対象空間に選択的に注入す
るための集成装置と、ガスを前記対象空間から永久に抜
き取ることを選択的に許容するための集成装置と、前記
除染ガスを前記対象空間に戻して再循環させる事を選択
的に開始するための集成装置を具備する除染システムで
ある。

【００２６】本発明のさらに好ましい態様は、対象空間
の少なくとも一部を除染するための方法を広く企図す
る。この方法は、除染ガスを供給する工程と、前記除染
ガスを前記対象空間に選択的に注入する工程と、ガスを
前記対象空間から永久に抜き取ることを選択的に許容す
る工程と、前記除染ガスを前記対象空間に戻して再循環
させる事を選択的に開始する工程を含む方法である。

【００２７】本発明のさらに好ましい態様は、対象空間
の少なくとも一部を除染するためのシステムを広く企図
する。このシステムは、除染ガスを与えるための集成装
置と、前記除染ガスを前記対象空間に選択的に注入する
ための集成装置と、前記除染ガスを前記対象空間から選
択的に抜き取るための集成装置と、前記除染ガスを与え
る工程と、除染ガスを対象空間に注入する工程と、除染
ガスを対象空間から抜き取る工程のうち少なくとも二つ
を自動的に、かつ所定シーケンスおよび予め定めること
ができるシーケンスのいずれかで行うシーケンス集成装
置を具備するシステムである。

【００２８】本発明のさらに好ましい態様は、対象空間
の少なくとも一部を除染するための方法を広く企図す
る。この方法は、除染ガスを与える工程と、前記除染ガ
スを前記対象空間に選択的に注入する工程と、前記除染
ガスを前記対象空間から選択的に抜き取る工程と、前記
除染ガスを供給する工程と、除染ガスを対象空間に注入
する工程と、除染ガスを対象空間から抜き取る工程のう
ち少なくとも二つを自動的に、かつ所定シーケンスおよ
び予め定めることができるシーケンスのいずれかで行う
工程を含む除染方法である。

【００２９】本発明のさらに好ましい態様は、対象空間
の少なくとも一部を除染するためのガスを発生させ、注
入し、循環させ、そして抜き取るシステムを広く企図す
る。このシステムは、除染ガスを前記対象空間に所定の
流量で選択的に注入するための集成装置と、前記除染ガ
スの対象空間への注入を、少なくとも前記対象空間への
流量の関数である所定の時間だけ継続するための集成装
置を具備する除染システムである。

【００３０】本発明のさらに好ましい態様は、対象空間
の少なくとも一部を除染するためのガスを発生させ、注
入し、循環させ、そして抜き取る方法を広く企図する。
この方法は、除染ガスを前記対象空間に所定の流量で選
択的に注入する工程と、前記除染ガスの対象空間への注
入を、少なくとも前記対象空間への流量の関数である所
定の時間だけ継続する工程を含む除染ガスを発生させ注
入し循環させ抜き取る方法である。

【００３１】最後に、本発明のさらに好ましい態様は、
対象空間の少なくとも一部を除染するためのモジュール
システムを広く企図する。このモジュールシステムは、
対象の少なくとも一部を除染するためのモジュールシス
テムであって、前記除染のためのガスを対象に選択的に
注入し、またその対象へ前記ガスを戻して選択的に再循
環させる手段を備える少なくとも一つのモジュールセク
ション（Ａ）を具備し、かつ、除染ガスを発生させる手
段を備える少なくとも一つのモジュールセクション
（Ｂ）および前記対象から除染ガスを選択的に抜き取る
手段を備える少なくとも一つのモジュールセクション
（Ｃ）の少なくとも一方を具備するモジュールシステム
である。

【００３２】

【発明の実施の形態】本発明及びその好ましい形態は、
以下の詳細な説明と添付の図面を参照すればよりよく理
解されるであろう。

【００３３】〔概論〕本発明を説明するため、本明細書
を通して、特に断らない限り、「steriliz-」および／ま
たは「sterili-」 の語幹に基づく「殺菌剤(sterilan
t)」、「殺菌性(sterilizing)」その他の語は、殺菌(ster
rilization)と必ずしも正確に同義ではないが、これに
関連する概念を広範に包含する。このような概念は、必
ずしも、除染、洗浄、汚染物質の排除、消毒及び他の実
質的に均等な性質および範囲の概念に制限されるわけで
はない。

【００３４】典型的には、図１に示したように、与えら
れた閉鎖空間３４内の空気またはガス、およびこの空間
内に収められたいかなる対象をも殺菌するために、殺菌
装置３０が提供される。このような閉鎖空間の例には、
（限定する意味で挙げるのではないが、）、微生物アイ
ソレータ、無菌室、殺菌や除染が要求される製品（香辛
料、食品、薬剤、創傷用テープ等）を製造するための無
菌空間、および外科手術室における無菌空間がある。こ
のような閉鎖空間についての詳細な説明は、本明細書の
冒頭に掲げた。

【００３５】図１に示したように、殺菌装置３０の一般
的な目的は、殺菌ガスを閉鎖空間３４に導入し、またこ
こから抜き取ることである。この目的のために、特徴的
な要素として、空気または殺菌ガスを殺菌装置３０から
閉鎖空間３４に導入し、その後この空気または殺菌ガス
を閉鎖空間３４から抜き取るべく、それぞれ適当な導管
３８と４２が提供される。導管４２はまた、閉鎖空間に
当初から存在する空気またはガスを収集するのにも用い
られる。

【００３６】図２は、図１に示した集成装置の幾分詳細
な図である。特に、殺菌装置３０と閉鎖空間３４のいず
れかまたは双方が自立型で持ち運び可能（ポータブル）
である限り、そのような部品も、他の機会に互いに選択
的に合体される可能性を模式的に示している。

【００３７】そこで、殺菌装置３０は、殺菌剤あるいは
ガスを外部に送り出し、またその同じ物質のその内部に
収めるために、それぞれ出口部３８ａと入口部４２ａを
有するものと考えられる。同様に、閉鎖空間３４は、殺
菌装置３０のような外部の供給源から空気または殺菌ガ
スを受け入れるための入口部３８ｂと、その殺菌済空気
またはガスを外部供給源に戻すため（あるいは殺菌する
前にその外部供給源に空気またはガスを供給するため）
の出口部４２ｂを含むものと考えられる。したがって、
殺菌装置３０と閉鎖空間３４が別個のものである限り、
殺菌装置３０と閉鎖空間３４を互いに連結するため、接
続要素４６，５０が提供される。

【００３８】第１の接続要素４６は、殺菌装置３０の出
口部３８ａと閉鎖空間３４の入口部３８ｂを連結するた
めに存在する。さらに、第２の接続要素５０は、閉鎖空
間３４の出口部４２ｂと殺菌装置３０の入口部４２ａを
連結するために存在する。以下に述べるように、本発明
は、少なくとも一つの好ましい態様においては、種々の
閉鎖空間と選択的に接続できるポータブル式の殺菌また
は除染装置を企図している。

【００３９】さて今度は、本発明による殺菌装置と一緒
に用いることができる閉鎖空間の型について簡単に述べ
た後、従来のいくつかの閉鎖空間について簡単に説明す
る。

【００４０】図３は、従来のアイソレータ１１０（例え
ば微生物アイソレータ）とその関連要素の模式図であ
る。

【００４１】典型的には、アイソレータ１１０は、入口
部（総括的に符号１１４で示す）と出口部（総括的に符
号１１８で示す）を具備し、これらの目的と機能は以下
の説明により十分理解されるであろう。このような入口
部と出口部は、アイソレータ１１０の内部を殺菌できる
よう、殺菌装置のような別個の外部装置に接続される。

【００４２】入口部１１４は、典型的には、空気をフィ
ルタ１２６を通してアイソレータ１１０に向けるブロア
（送風機）１１２を備える。圧力レギュレータ１３０は
ブロア１２２に接続され、適当な管１３４を介してアイ
ソレータ１１０に接続される。また、出口部１１８にお
いては、アイソレータ１１０から延び出て他のフィルタ
１６２に至る出口管１３８も備えられる。フィルタ１２
６と１４２は、「ＨＥＰＡ(High Efficiency Particula
te Filter;高効率粒子フィルタ）」の仕様に従って製造
される。

【００４３】図４は、公知の変更を加えたアイソレータ
１１０の模式図である。システムのキャビネット（詳細
には示していない）からは、ブロア１２２を経てバルブ
１５０に至る管１４６が延びる。図３に示した集成装置
と同じように、圧力レギュレータ１３０がブロア１２２
に接続される。バルブ１５０から延びる管１５４はま
た、フィルタ（「ＨＥＰＡ」フィルタなど）１２６を通
ってアイソレータ１１０に接続する。しかし、ガスによ
る殺菌装置と蓋付きの接続装置を介して接続をしている
点で、図３の装置とは違いがある。蓋付きの接続装置１
６０は殺菌ガスの入口となり、他方同じく蓋付きの接続
装置１５８は殺菌ガスの出口となっている。

【００４４】図３とのもう一つの違いは、フィルタ
（「ＨＥＰＡ」フィルタなど）１４２を通って延びる出
口管１３８があるにもかかわらず、出口部１１８に、も
う一つの管１７４と接続するもう一つのバルブ１７０が
見出されることである。このバルブ１７０は、殺菌装置
に接続されたとき、上述のシステムキャビネットにつが
なるように設計されている。

【００４５】これとは対照的に、図５は、本発明に係る
いくつかの形態で採用するもう一つのアイソレータ集成
装置１１０を示す。この斜視図で示したのは、ブロア１
２２、フィルタ１２６と１４２、および入口部１１４と
出口部１１８である。

【００４６】図６は、本発明の少なくとも一つの態様で
使用されるガス発生・回収システム２１０の斜視図であ
る。

【００４７】「空気流入」部２１２は、以下に詳述する
形で配置されるバルブ２１８（ここでは「制御バルブ」
と呼ぶ）に接続する。

【００４８】また微生物アイソレータのような外部装置
の適当な管と接続できる入口２２２と出口２２６も設け
るのが好ましい。好ましくは、制御バルブ２１８と「空
気流入」部２１２から延び出る管は、出口２２６の近傍
で接続部に至る。

【００４９】本発明の少なくとも一つの好ましい形態に
おいては、入口２２２は、好ましくは微生物アイソレー
タ（あるいは他の閉鎖空間でもよい）から空気またはガ
スを取り入れられるように設計される。このため、出口
２２６も微生物アイソレータあるいは他の閉鎖空間を殺
菌すべく、殺菌済の空気またはガスをこれらに戻すこと
ができるよう配置するのが好ましい。

【００５０】入口２２２に係る管と出口２２６に係る管
とを橋渡しする枝管２３４は、湿度センサ２３８を含
む。湿度センサ２３８の片側の枝管２３４には、適当な
バルブ２４２が取り付けられる。

【００５１】入口管（総括的に符号２４６で示す）に沿
って、連続的に、圧力センサ２５０、温度センサ２５４
および十字型フローセル(flow cell) ２５８を設けるの
が好ましい。以下に詳述するように、十字型フローセル
２５８は、光学的なガス測定システムを設置するのに適
当な位置を提供する役割を果たす。

【００５２】装置のガスジェネレータ（発生器）部２６
０（図８を参照）においては、ガス供給源（図示せず）
から始まる管２６６が設けられる。そして、この管は、
バルブ２７０とガスジェネレータ２７４につながる。ガ
スジェネレータ２７０からは他の管（二酸化塩素ガス２
７８を移送するためのもの）も、もう一つのバルブ２８
２、ついでシステムの適当なパイプに接続する。

【００５３】装置の「入口」側と「出口」側を橋渡しし
て、循環空気またはガスを装置の「入口」側から装置の
「出口」側に戻すもう一つの管２８６は、（「入口」側
からみて、）制御バルブ２９０（外観と機能は前述の制
御バルブ２１８に類似している）と加湿器２９８を備え
る。加湿器２９８は、循環ガスの湿度を適当な手段（例
えばガスの水分含量を公知の噴霧器や蒸発器を介して増
加させたり、乾燥空気を混合して減少させるなど）によ
って自在に制御できるものが好ましい。

【００５４】十字管２８６との接合部から延びる「スク
ラバー枝管」（総括的に符号３０２で示す）も設けるの
が好ましい。そしてこの接合部のすぐ後方には、上述の
制御バルブ２１８に類似した外観と機能を有する制御バ
ルブ３０６も設置される。管３０２はついで、回収集成
装置（模式的に点線で囲み、符号３１０で示した）に接
続するのが好ましい。この回収集成装置３１０について
は、以下に詳述する。

【００５５】接合部３１４からは、図６においては時計
方向に、入口３１６、スクラバー３３４、ポストスクラ
バー３３０、バルブ３２６、低濃度二酸化塩素センサ３
２２、および他のバルブ３１８を順に設けるのが好まし
い。ポストスクラバー３３０は、好ましくは、スクラバ
ー３３４と適当な流体で連通させるのがよい。

【００５６】スクラバー３３４の底部からは、好ましく
は、管３３８をポンプ（あるいは適当な代替物）３４２
に接続させる。このポンプ３４２は、管３４６を介し
て、スクラバー３３４の頂部に戻る。管３４６がスクラ
バー３３４の頂部に入る点のすく近くには、バルブ３５
０と「充填」部３５４を設ける。

【００５７】図７は、本発明の好ましい形態に従って、
モジュール型、互換性の選択的合体セクションの概念を
模式的に示したものである。符号２６０で示したのは、
例えば殺菌ガスの発生の関連する要素を含む図８（この
図の後）に示したシステムに対応するジェネレータシス
テムである。他方、セクション２１５は、「アダプタ集
成装置」である。この装置は、例えば図８に示したセク
ションに対応するもので、ガスをアイソレータあるいは
他の閉鎖空間から投与し、またこれらから抜き出し、さ
らに再循環ないし回収システム３１０に直接移送する要
素を含む。また、回収システム３１０は、もう一つのモ
ジュール型セクションとして具現され、例えば、図６に
点線で示したセクション３１０に対応する。

【００５８】このようにして、図７をも参照すると、種
々の位置で使用できるモジュール型集成装置が企図され
ていることが理解されるであろう。この集成装置におい
ては、すでに述べた三つのモジュール型要素（ジェネレ
ータシステム２６０、アダプタ集成装置２１５および回
収システム３１０）が、互いにあるいは他の適応可能な
モジュール要素と選択的に合体できる単一の別個の要素
となる。この目的のため、各モジュール要素は、他のモ
ジュール要素に容易に合体できるようにするためのイン
タフェースあるいは接続要素を有するのが好ましい。し
たがって、ジェネレータシステム２６０は、アダプタ集
成装置２１５のインタフェース２１５ａと容易に接続で
きるよう、インタフェースまたは接続要素２６０ａを備
えるのがよい。同様に、アダプタ集成装置２１５も、回
収システム３１０のインタフェースまたは接続要素３１
０ａと容易に接続できるよう、インタフェースまたは接
続要素２１５ｂを備えるのがよい。最後に、アダプタ集
成装置２１５は、与えられた対象空間１３１０（すなわ
ち、微生物アイソレータや他の閉鎖空間）のインタフェ
ースまたは接続要素１３１０ａと容易に接続できるよ
う、インタフェースまたは接続要素２１５ｃを備えるの
がよい。

【００５９】非限定的実施例としての図６に戻ると、接
続要素２６０ａと２１５ａ（図７参照）との接合は、例
えばバルブ２８２と十字管２８６のインタフェースとの
間の地点で生じる。さらに、接続要素２１５ｂと３１０
ａ（図７参照）の接合は、例えばバルブ３０６と接合部
３１４の間の地点で生じる。接続は、公知のパイプ連結
（所望により接続の解除や再接続が容易にできるよう取
り外し可能なものが好ましい）など適当な方法で行うこ
とができる。

【００６０】いずれにしても、図７に示したモジュール
型の部品や接続要素の一般的な集成は、適当と考えられ
るあらゆる方法で成形・配置される広範な接続要素やモ
ジュール性を企図したものであることは理解されるであ
ろう。この概念についてのさらに総括的な説明は、図４
７〜図５１を参照して後に述べる。

【００６１】さて、図７に示した「モジュール」性の原
則についての非限定的実施例から、図８は、図６に示し
たものと本質的に同じシステムであり、これに三つのシ
ステムセクションを加えたものを示していることは理解
されるであろう。したがって、図８においては、点線で
囲んだセクション２１５は「アダプタ」セクションを表
し、同じく点線で囲んだセクション２６０と３１０は、
それぞれ「ガスジェネレータ」セクションと「ガス回
収」セクション（これについてはすでに述べた）を表
す。図７に関連して述べたように、図８に示した三つの
セクション２１５，２６０および３１０は、本発明の好
ましい形態によれば、他のセクションと所望により接続
したり取り外したりできる。また、特定の対象空間（例
えば微生物アイソレータや他の閉鎖空間）と使用すべく
集合的に組み合わせた殺菌装置２１０を特別に製造する
という目的の下に、より大きな殺菌装置２１０を製造で
きるよう、他のモジュール型セクションと所望により種
々の組み合わせをつくるため、そのようなモジュール型
セクションと互換性を有すると考えられる。

【００６２】このため、図７と図８のいずれかまたは双
方を参照すれば、例えば、所与のアダプタセクション２
１５は、広範なガスジェネレータセクション２６０およ
び／または回収システム３１０を収めることができるよ
うな形状および配置とするのが好ましいことが分る。例
えば、本明細書では二酸化塩素ガスの発生システムを詳
細に説明しているが、所望により、図示のアダプタセク
ション２１５や他の型のガスジェネレータと結合できる
ことが分るであろう。同様に、本明細書では、回収シス
テム３１０の特定の型についても説明しているが、所望
により、図７と図８のいずれかまたは双方に示したアダ
プタセクション２１５や、対応するガス発生システム２
６０に適した他の広範な型のガスジェネレータと結合で
きることも分るであろう。このようなアダプタシステム
２１５、ガス発生システム２６０およびガス回収システ
ム３１０の順番を交代するのは、アダプタシステム２１
５を（入口２２２と出口２２６を介して）接続する特定
の対象空間用の特別仕様において行われる。

【００６３】図９は、図８とほぼ同じ図であるが、圧力
と湿度を感知するもう一つの集成装置を収めるアダプタ
セクション２１５を示している。図９では特に、図６と
図８に示した圧力センサ２５０が除かれ、センサからア
ダプタ２１５の入口部２２２と出口部２２６に延びる管
を備えた差圧センサ２５０ａに替えられている。差圧セ
ンサは業界ではよく知られたものであるが、ここで改め
て述べる。ここで企図する差圧センサ２５０ａは、入口
部と出口部の間にかなりの圧力差があること、または例
えば入口部２２２もしくは出口部２２６と対象空間にお
ける対応する接続部の間の結合が緩いことを検出する能
力がある。

【００６４】図９にはまた、これまでに図示し説明した
湿度センサ２３８（元々光学センサ２５８（本図では２
５８ａで示す）と一緒に使用する）の代わりに、光学測
定システム２５８ｂも示してある。後に図１４および図
１５との関連で述べるように、光学センサ２５８ａと２
５８ｂはそれぞれ、殺菌装置２１０におけるガス循環の
中で、殺菌ガスと水の濃度を測定できる形状にする。例
えば、センサ２５８ａは、システム内を流通する殺菌剤
の濃度を測定するのに適した形状にするのが好ましいの
に対して、センサ２５８ｂは、システムの内部で水の濃
度を測定するのに適した形状にするのが好ましい。

【００６５】〔ガス回収システム〕図１０は、本発明の
少なくとも一つの態様で用いられるガス回収システム３
１０を示す。

【００６６】第一に、この図１０に符号３１０で示した
ような、本発明の少なくとも一形態に係るガス回収シス
テムは、図６に示したシステムに組み入れられることに
留意されたい。このため、ガス回収システム３１０の目
的は、管３０２（図６参照）を介して、すでに微生物ア
イソレータを循環し終え、また環境に安全な方法で排気
されるか、または、一またはそれ以上の成分（活性成分
など）の回収を容易にし処理される必要のある混合ガス
を受け入れることである。図６と図１０を参照すると、
回収システム３１０に対する入口は、パイプセグメント
３１６で表されている。

【００６７】図１０に戻ると、入口３１６は、適切な形
でスクラバー３３４に入り込むようになっているのが好
ましい。この意味で、入口３１６は、スクラバー３３４
の外壁を貫通し、そして本発明の少なくとも一つの好ま
しい形態によれば、下方にほぼ直角に曲がっている。し
たがって、排ガスの流れは、矢印で示したように、この
一口３１６を通って直角に進み、スクラバー３３４の内
部に適切に入り込むのが好ましい。

【００６８】スクラバー３３４の内部は、入ってくる排
ガスに、これと相互作用を行う量のスクラバー液を与え
る形状にされる。そのようなスクラバー液は、当業者に
はよく知られているので、ここではこれ以上述べない。
ただ、そのようなスクラバー液は、排ガス中に存在する
殺菌ガスの回収プロセスにおいて、ガスが大気中に排出
される前に、排ガスと相互作用を行えることを指摘すれ
ば足りるであろう。

【００６９】したがって、入ってくる排ガスに対して、
前述のような適切な量のスクラバー液を与えるため、ス
クラバー３３４の内部には、環状の充填カラム３３６を
配置するのが好ましい。そのような環状物の配置と機能
は、以下に詳しく述べる。

【００７０】充填カラム３３６に使用されるパッキング
材料（充填材）は、必ずしも上述の環状の形状に制限さ
れる必要はない。一般に、一つ一つの充填材は、スクラ
バー液を溜める広い表面積を与えることができ、かつ自
らを容易に積み重ねることができる限り、いかなる形状
または大きさのものでも使用することができる。さら
に、パッキング材料は、空気流に対して抵抗の少ないも
のが好ましい。したがって、ここでは一つの可能性とし
て環状の要素を挙げたが、例えばわずかに湾曲したり波
形の「ラビオリ（パスタの一種）」形状のものや、簡単
なプリズム形状のもの（スクラバー液を内表面上に溜め
ることができる中空の中心部を有する三角形や直線で囲
まれた形状など）を使用することも可能である。

【００７１】スクラバー３３４の頂部には、ポストスク
ラバー（後方スクラバー）３３０につながる出口３３２
を設けるのが好ましい。本発明の少なくとも一つの好ま
しい態様によれば、ポストスクラバー３３０は、ソーダ
石灰を使う。このようなポストスクラバーもまた、当業
者にはよく知られているので、ここではこれ以上述べな
い。ただ、そのようなポストスクラバーは、問題のガス
が大気中に排出される前に、その排ガスから少なくとも
一つの成分を回収することを目的とすることを指摘すれ
ば足りるであろう。二酸化塩素ガスについていえば、例
えば保持される成分は、塩化物や亜塩素酸塩（どちらも
新しい殺菌ガスの生成に使用できる）のような活性成分
である。

【００７２】ポストスクラバー３３０は、排ガスや空気
を通す一個またはそれ以上の排気部３３１（一つは図１
０に示した）を有するのが好ましい。

【００７３】本発明における少なくとも一つの好ましい
態様によれば、スクラバー液は、双方向に連通可能な供
給装置を介して導入するのが好ましい。すなわち、スク
ラバー３３４の底部からは、スクラバー液を収める適当
な容器３４０につながる管３３８が延び、他方容器３４
０からは、ポンプまたは他の適当な送給器あるいは推進
用の集成装置３４２につながるもう一つの管３４１が延
びているのが好ましい。好ましい形態においては、推進
用集成装置３４２は、耐腐食性のポンプにする。

【００７４】このため、本発明の好ましい形態において
は、スクラバー液については、容器３４０から取り出し
たスクラバー液は、管３４６を介して、スクラバー３３
４内部への入口となるスクラバー３３４の頂部へ移送す
る再循環システムを採用する。そして、一旦スクラバー
３３４に導入した後は、スクラバー液は、以下に詳述す
る「パーコレーション」効果によって、スクラバーの内
部を下降し、前述の管３３８を介してスクラバー３３４
から排出される。こうして循環したスクラバー液は、容
器３４０に還流した後は、オペレータが定めたあるいは
スクラビング（こすり落し）作業に適切とみなされる程
度において（すなわち多数のサイクルを通して）、続く
スクラバー３３４の内部にスクラバー液を送るもう一つ
のスクラバー供給サイクルにおいて、再度使用される。

【００７５】スクラバー液を管３４１と３４６を通して
上方に送り込むため、ポンプの代わりに、圧縮空気源を
使うことも考えられる。

【００７６】このため、好ましい形態においては、再循
環スクラバー液は、ポンプ３４２から（もう一つの管３
４６を介して）スクラバー３３４の上部または頂部に送
り込まれる。そして、管３４６は、充填カラム３３６の
垂直方向上方の位置においてスクラバー３３４に入り込
む。

【００７７】すでに述べたように、こうしてスクラバー
３３４内に導入されたスクラバー液は、「パーコレーシ
ョン」効果（すなわち、図１３で述べる充填リング３３
６ａとの緩衝）によって、スクラバー３３４の底部に進
み、管３３８を介してスクラバー３３４から外に出て、
容器３４０に集められる。

【００７８】容器３４０の頂部には、図１０に示したよ
うに、浸漬チューブ３４０ａと３４０ｂが備えられる。
この点において、導入チューブ３４０ａは、容器３４０
の充填を容易にするためかなり短く、他方排出チューブ
３４０ｂは、液体の容器３４０からの抜き出しを容易に
するためにかなり長い。スクラバー３３４の頂部は、簡
単に取り外せるシステムで固定するのが好ましい。

【００７９】スクラバー液が（繰り返し使用することに
より）その効力を失ったり、他の理由で違うスクラバー
液と交換するときは、使用済みのスクラバー液を収めた
容器３４０は、新しい容器に取り替える。安全な取扱い
のため、古い容器の内容物を固定するには、新しい容器
のキャップを使用するのが好ましい。このようにして、
浸漬チューブ３４０ａと３４０ｂが差し入れられた古い
容器で使用したキャップは、新しい容器に取付けられる
（例えばねじ込まれる）。

【００８０】ポストスクラバー（後方スクラバー）３３
０は、排ガスを濾過し、捕らえた小滴がシステムから出
ないようにするためのものである。二酸化塩素を使用す
る場合は、ポストスクラバーにおいてゆるく充填したソ
ーダ石灰を用いると、微量のガスでも除去できることが
分った。

【００８１】図１１は回収用集成装置の変更例を示す。
好ましい形態によれば、図１１に示した変更例は、所望
の場合は、例えば、大気中に放出される二酸化塩素（あ
るいは他の物質）の量を監視するためのものである。

【００８２】バルブ３１８と３２６を開放すると、適当
なセンサ３２２で測定できるよう、適当な量の流出ガス
が接合部３１４から流れ出る。そのようなセンサ３２２
は、図１４および／または１５を参照して以下に説明す
る型の光学的なガス測定システムによって具現すること
ができる。一つのシナリオにおいては、センサ３２２が
きわめて低レベル（所定の境界値より低いという意味で
ある）の二酸化塩素を検出するときは、直ちに、ガス回
収装置３１０を通らずに、すべての流出ガスを通気口に
迂回させる機能を有する制御集成装置（例えば図４６を
参照）に送り込むことも考えられる。また、もし測定し
た二酸化塩素の濃度が許容できないほど高い場合には、
二酸化塩素ガスの大気中への放出を防ぐことが考えられ
る。

【００８３】センサ３２２を介して測定することを望ま
ない場合には、バルブ３２６と３１８が遮断される。こ
うすればセンサ３２２は、極端に高い濃度の二酸化塩素
に曝されるのを防止できるので、センサ３２２の有用性
と、とりわけセンサ３２２を寿命を過ぎても使用したい
という要求との妥協を図ることができる。

【００８４】もう一つの例は、装置の作動開始時に、流
出ガス中の二酸化塩素（あるいは他の物質）の当初濃度
が所定の値を超えた場合に、センサ３２２が二酸化塩素
の含量（あるいは他の所定物質の濃度）が許容閾値を下
回ったことを示すまで、流出液を回収システム３１０に
向けるというものである。

【００８５】図１２は、本発明の好ましい形態によるも
う一つの回収用集成装置３１０を示す。この集成装置３
１０は、より「完全な形での」使い捨て集成装置の代表
例である。すなわち、図１０の集成装置においては、ス
クラバー液用の交換可能な容器を用いたが、図１２の集
成装置においては、必要なときは、スクラバータンク３
３４を（スクラバー液および充填剤３３６とともに）、
外のタンクと丸ごと交換する。

【００８６】図１２に示すように、枝管３１７は、入口
３１６から直角の「Ｔ字部」を経て垂直に下降し、好ま
しくはスクラバータンク３３４の軸と垂直な方向で中に
入り込む。そして、キャップの付いた延長部３１９は、
入口３１６からの枝分れを終える。再循環スクラバー液
のために、再循環ポンプ３４２を設けるのが好ましい。
さらに、入口管３３８は、スクラバータンク３３４の底
部から出て液体を上方に運び、そこからポンプ３４２ま
で降ろす。導管３４６は、再循環ポンプ３４２から延
び、タンク３３４の頂部にあるスプレーヘッド３５０に
至る。

【００８７】図１２に示した本発明の好ましい形態にお
いては、スクラバー液を、充填カラム３３６の底部で高
さＨまで一部貯蔵しておくことができる。好ましくは貯
蔵した高さＨと入口３１７の口部との間には、一定の間
隔が維持される。

【００８８】これまで述べたように、カラム３３６内の
充填リングは、それぞれが、スプレーヘッド３５０から
放出されるスクラバー液で取り囲まれるのが好ましい。
しかし、貯蔵したスクラバーの高さが入口３１７の口部
にとどかない限り、スクラバータンク３３４の底部にお
いて、高さＨまでの限定的な貯蔵は維持することができ
る。

【００８９】本発明の好ましい形態によれば、ポンプの
入口管３３８は、スクラバー液を、延長管３３８ａを介
してタンク３３４の底部から再循環させる。延長管３３
８は、図示のように、タンク３３４の底部までのほぼ全
区間にわたって延びているため、スクラバー液を抜き出
してタンク３３４の頂部まで引き上げ、次いでポンプ３
４２の中に注ぐことができる。

【００９０】本発明の好ましい形態によれば、充填リン
グ３３６ａ（図１３参照）は、ポリプロピレン製で、口
径５／８インチの円筒形である。充填リング３３６ａの
寸法がこのようなものであるため、タンク３３４の大き
さは、頂部から底部（排ガス３３２の放出部を含む）ま
で垂直方向に約２２．６３インチ、そして口径を１４．
００インチとする。もちろん、この寸法は、単に例とし
て挙げたものであるが、本発明においては、二酸化塩素
を混入されて殺菌装置およびこれに取り付けられた閉鎖
空間中を循環するガスの洗浄、回収および／または排出
を行う上で、特に効果的であることが分った。上に挙げ
た寸法以外の寸法（似通ってはいる）を用いることも考
えられるが、スクラバー装置のここで挙げた特定の寸法
（およびその近傍の寸法）は、これまで実現されていな
いような経済的な大きさであることは理解されるであろ
う。

【００９１】図１２に参照符号を付して示した要素は、
すでに述べたものであるかどうかにかかわらず、図１０
で同じ参照符号を付した要素とほぼ同じである。

【００９２】図１３は、本発明の一形態に係る充填カラ
ム３３６の拡大図である。充填カラム３３６は、十分な
数のパッキングリング（充填リング）３３６ａを備える
（簡単なため、図には数個しか示していない）。各パッ
キングリング３３６ａは、容器３４０（図１０参照）か
らのスクラバー液で湿潤される。このようにして、排ガ
スの通路となるのは液体中だけではなく、スクラバー液
がパッキングリング３３６ａの表面上に存在する限り
は、スクラバー液とも接触する。パッキングリング３３
６ａは、スクラバー液を保持してこれを排ガスの流れに
曝すため、全部を合わせて最適な複合表面積を与える形
状・大きさにするのが好ましい。

【００９３】かくして、スクラバー液は、送給機３４２
（図１０に示したもの）によって循環され、スクラバー
３３４（図１０に示したもの）の頂部に流れつき、つい
で充填リング３３６ａの上に噴霧される。噴霧は、スク
ラバー液をスクラバー３３４の内部に供給する適当な穴
集成装置（所望の形でスクラバー３３４の周りに分布さ
れる複数の穴など）を使って行う。

【００９４】ガスが凹凸のある表面材の上を通過できる
ようにし、同時にその凹凸のある表面材を相互作用媒体
と接触させて必要な相互作用媒体の容量を最小限にする
ために、本発明の範囲内でここ（図１３に示した非制限
的実施例のこと）で述べた充填材以外の集成装置を利用
できることは理解しておくべきである。非限定的な実施
例としてではあるが、そのような相互作用媒体は、これ
までに説明したスクラバー液によって具現される。さら
に、凹凸のある表面材は、スクラバー液のような相互作
用媒体を自身の上に保持することができる単一のネット
またはメッシュのような別の型の充填集成装置によって
具現される。この表面材はまた、これまでに述べたよう
な複数の充填材タイプのものによっても具現できる。

【００９５】〔光学的ガス測定システム〕図１４は、本
発明の好ましい形態において使用される汎用性光学的ガ
ス測定システム４１０を示す。

【００９６】これまでは簡単に述べてきたが、そのよう
なシステムのための適切な位置に係る非限定的な実施例
としては、図６に示したような十字型フローセル２５８
の近傍；図９で符号２５８ａと２５８ｂで示した位置；
あるいは図６と図１１で符号３２２で示した位置があ
る。しかし、以下に述べるように、他の位置でも可能性
はある。さらに、この光学的ガス測定システムは、殺菌
の領域外においても適用が考えられる。

【００９７】大口径のパイプ（図６に示したガス発生シ
ステム２１０で使用したようなもの）は、図１４におい
ては符号４１４で示してある。一般に、光学的測定シス
テムは、第一にパイプ４１４の口径にまたがるチューブ
４１８を具備する。チューブ４１８は、ガスの流れる方
向を、このチューブ４１８を通して横断する方向に定
め、ガスが放射線集成装置の光路へ流れ込むことができ
るようにするスロット（溝）４２２を備える。

【００９８】好ましくはパイプ４１４の片側において、
チューブ４１８がインタフェースフィルタ４２６のとこ
ろで終端する。フィルタ４２６と隣接して紫外線フォト
レセプタ４３０が配置されるのが好ましい。フォトレセ
プタ４３０は、「プレアンプカード」４３４か又は他の
適当な取付け板の上に取り付ける。さらに、インタフェ
ースフィルタ４２６は、適当な支持要素４３８ａ，ｂを
介して、このカードに取り付けることもできる。本発明
の好ましい形態によれば、そのような支持要素は、カー
ド４３４から延びる環状スリーブ４３８ａと、フィルタ
４２６用のディスク状ホルダ４３８ｂから構成される。

【００９９】物理的な保護と封止のために、フィルタ４
２６とパイプ４１４の外側の面との間に、Ｏリング４４
２等を配してもよい。本発明の好ましい態様によれば、
上述のフォトレセプタ４３０は、フォトトランジスタに
する。

【０１００】パイプ４１４の同じ側には、カード４３４
の近傍に、放射線集成装置４５０ａ〜４５０ｃととも
に、フォトレセプタ４４６を設ける。フォトレセプタ４
４６は、フォトレセプタ４４６は、適当なフォトダイオ
ード、フォトレジスタ、フォトトランジスタ等にするこ
とができる。本発明の好ましい形態においては、フォト
レセプタ４４６は、小型のフォトダイオードにする。

【０１０１】放射線集成装置４５０ａ〜４５０ｃには、
強度変換可能なランプ電源４５４（これはプリアンプカ
ード４３４に取り付ける）を連通させる。適当な光ファ
イバケーブル４５０ｃが、放射線源４５０ａ（例えば適
当なランプ）を、エミッタ４５０ｂに接続させる（例え
ば、光ファイバーケーブル４５０Ｃの適当な形状・位置
の末端により具現する。）。装置のこの部分、すなわち
図１４の右側に位置するパイプ４１４の外壁近傍に位置
する部分には、外ねじ４６２が設けられる。外ねじと嵌
め合わせられるのは、封止用のねじ付ディスク４６６で
あり、このディスク４６６のパイプ４１４側にはＯリン
グ４７０が設けられる。

【０１０２】前に簡単に述べたが、ガス発生システム
（図６に示したようなもの）において適当と思われるい
ずれかの箇所に、ガス測定システム４１０（図１４また
は図１５に示したようなもの）を配置することが考えら
れる。

【０１０３】放射線源４５０ａを電源４５４およびフォ
トレセプタ４３０ａ同じ側の近傍に取り付けると、ほぼ
すべての部品がただちにアクセス可能となり、第二の取
付け部材（例えばもう一枚のカードないし板）を提供す
る必要はなくなる。

【０１０４】放射線集成装置４５０ａ〜４５０ｃは、定
量するガスの吸収スペクトルにとって適切な部品で構成
する。紫外線測定の場合は、二酸化塩素濃度を測定する
ために、放射線源４５０ａとして、クォーツハロゲンラ
ンプを用いる（顕微鏡に用いるのと同じ）。紫外線放射
が特に多く、焦点合わせ前の電球で利用可能なためであ
る。

【０１０５】本発明の好ましい形態においては、フィル
タ４２６は、取り外し可能な形で取り付ける。こうする
と、特定の目的のために測定装置全体を改造できるよう
にするため、フィルタを交換することが可能になる。例
えば、二酸化塩素の測定においては、紫外線領域の光を
通すフィルタ４２６を使用するのが望ましいが、他のガ
スの測定は、赤外線領域の光を通すフィルタが必要にな
る場合もある。本発明の一形態においては、湿度を測定
する際（後に詳細な実施例を掲げる）にも図示した測定
装置を使用することも可能である。この場合は、フィル
タ４２６は、水の吸収スペクトルの範囲にある光を通す
ようにする。例えば、赤外線の波長は、水の濃度測定
（すなわち湿度の測定）に使う光の波長に相当する。し
たがって、フィルタ４２６は、二酸化塩素の濃度を測定
する場合には、波長が約３６０nmの近傍にある光を通す
ものにし、また水の濃度を測定する場合には約１８００
nmの近傍にある光を通すものにする。

【０１０６】通常、標準的な干渉フィルタは、フィルタ
４２６として使用することができるが、実際には、回折
格子のような適当な均等物も利用することができる。

【０１０７】標準的な電圧調整器（レギュレータ）４５
４は、放射線源４５０ａに安定化した電圧を供給する。
放射線源４５０ａの実際の強度を監視するため、放射線
源４５０ａに隣接して小型のフォトレセプタ４４６を設
けることもできる。このようにして監視した放射線源の
強度は、電圧調整器４５４に入力され、放射線源４５０
ａの強度を一定に保つための修正フィードバックに使用
される。このようなフィードバックはまた、システムの
自己ゼロ調整（オペレータの介入なしにシステムをゼロ
にすること）にも使用することができる。

【０１０８】従って、放射線源に安定化した電圧を入力
するという前提の上に機能する従来の光学的測定装置と
は対照的に、本発明の好ましい形態においては、放射線
源４５０ａは、所定の操作時間の間は、ほぼ一定の強度
を達成するようにするが、こうするといくつかの利点が
生まれる。一つには、放射線の強度が一定であると、よ
り正確な測定ができること。さらに、放射線強度にとき
どき起こる「サージ」（放射線源から放出される放射線
の強度が変動すること）がなくなることにより、放射線
源４５０の寿命が延びることである。

【０１０９】他にも、放射線源４５０ａの耐用年数の開
始時に、従来の装置で使用された電圧よりも低い電圧を
使用することができるという利点がある。その結果、こ
の低電圧が、放射線源の有用な放射スペクトルを、制限
された波長範囲に集中させるのではなく、むしろ「引き
伸ばす」ことは理解されるであろう。さらに、放射線源
４５０ａの長期にわたる劣化がみられるときでも、所望
の強度を維持するために必要なことは、放射線源に印加
する電圧を、時間をかけて徐々に上げることだけであ
る。

【０１１０】電圧調整器４５４とフォトレセプタ４４６
は、上述のような操作を行えるよう、適正に較正され
る。こうすると、透明な光路の存在下で、一定の「ゼロ
値」が得られる。さらに、簡単なプログラムソフトウエ
アを使えば、光路の物理的な閉塞を補償することができ
る。

【０１１１】板（カード）４３４は、電気遮蔽されたプ
リント基板が好ましい。フィルタ４２６は、測定するガ
スにとって適当なものにする（上述した）。また、フィ
ルタ４２６は、Ｓ／Ｎ比を改善するため、信号を最大に
するよう活性なスペクトルを十分に通す一方、不活性な
波長は除去すべきである。フォトレセプタあるいはフォ
トトランジスタ４３０の使用についていえば、約１９０
nmないし約２０００nmの幅広のスペクトルに跨がる多く
のフォトダイオードとフォトトランジスタが市販されて
いる。較正装置を備えて、例えば１０ボルトまでの出力
を得られる低ノイズのプリアンプ（前置増幅器）４７１
を用いるのが特に望まれる。光学部品を集光防止に適し
た温度に維持するため、種々の光学部品の近傍に、抵抗
ヒータ４７３ａ，４７３ｂを設けるのが望まれる。

【０１１２】図１４に示すように、エミッタ４５０ｂと
スロット４２２の間には、水晶レンズのようなレンズ４
５８が設けられる。このレンズ４５８は、本発明の好ま
しい態様によれば、エミッタ４５０ｂからの発散する光
線を集めてスロット４２２を通るほぼ直線的な光路を形
成するよう特別に設計したレンズでもよいし、あるいは
光路にほとんど影響せず、エミッタをパイプ４１４から
出てくる物質の進入から守るための通路「ブロック」と
して働く単なるブランクとしてもよい。エミッタにその
ような物質が入り込むと、エミッタ４５０ｂを傷つけ、
その効率を損なうからである。本発明の好ましい形態に
おいては、図１４に示した装置４１０は、パイプ４１４
中にある所定物質の高レベルの検出に用いると都合がよ
いため、チューブ４１８は、そんなに長くある必要はな
い。このため、レンズを、発散光線を集光できる符号４
５８の位置に置く必要はないことになる（したがって、
ちょうどいま述べた「ブランク」として使用以上のもの
を請け負うものではない）。しかし、十分に長いチュー
ブの場合は、前者（すなわち、発散光を集めるレンズ）
も好ましい。

【０１１３】図１５は、システム４１０がパイプ（図示
せず）の一方にだけ取り付けられる別の形態を示す。こ
の場合、これまでシステム４１０について説明したほと
んどすべての部品が、パイプの片側にだけ設けられる。
同様の部品には、同じ参照符号を付してある。

【０１１４】符号４５０ａと４５０ｂで示した放射線集
成装置は、図１４の態様と同じような適当な放射線源４
５０ａと適当なエミッタ４５０ｂ（電球など）を具備す
る。しかし、図１５の態様においては、これら二つの部
品が互いに直に隣接しており、図１４の光ファイバケー
ブルのような集成装置を設ける必要はないことが分る。
図１５に示した態様においては、チューブ４２２は、ガ
スの流れを通すため、穿孔されるかまたは適当に穴を設
けている。これは、ここで述べた測定のため、十分な量
のガスを放射線源４５０ａとエミッタ４５０ｂから放出
された放射線の光路（以下に述べるミラー（鏡）４７４
で反射された後に戻る光路を含む）中で補足するのを可
能にするためである。

【０１１５】図１４に示したと同じようにして、外ねじ
４６２が設けられる。しかし、チューブ４２２は、図１
４のものほど長くない（あるいはそれに釣合うほど長く
ない）。これは、むしろ適当な位置に配置されたミラー
４７４あるいは適当な反射材で終端する。このため、パ
イプの反対側に光の伝送（透過）や受け入れのための要
素を配置する代わりに、透過した光は、ミラー４７４を
介して受け入れ要素４２６と４３０に戻されるよう、す
べての要素をパイプの一方の側に集めながら、ガス濃度
測定を行うことも考えられる。エミッタ４５０ｂは、放
射線源４５０ａから放出されフィルタ４２６に向う集光
放射線の正確な伝送を容易にする様なやり方でミラー４
７４に照準を合わせる。あるいは、この目的を達成する
ために、ミラー４７４自体を適当な角度に合わせてもよ
い。

【０１１６】図１５に示すように、図１４で説明したと
同じようなレンズ４５８が設けられる。図１４において
は、装置４１０の長さは、発散光線を集光できるレンズ
が位置４５８に必要であるかまたは「ブランク」で足り
るかどうかを決定する。

【０１１７】図１４と図１５に示した光学的なガス測定
システム４１０の形態は、これまでガス発生システムの
関連において説明してきたが、ガス発生システムあるい
は純粋に物理的な環境とは異なる環境においても使用す
ることができる。特に、光学的に活性な流体中の成分濃
度を測定するための汎用性の測定システムとして用いる
ことができる。

【０１１８】したがって、例えば空気または他のガスの
所定の成分の室内濃度を測定するために、装置４１０が
壁を通って延びる環境において、図１５に示した集成装
置を利用することが考えられる。図１４と図１５に示し
た集成装置は、液体（ガスの代わりに、パイプシステム
を循環する流体など）中の成分を測定するのにも用いる
ことができる。さらに、本発明で企図する測定システム
は、動的な流体（すなわちガスまたは液体）だけでな
く、静止した液体中における所定成分の濃度を測定する
こともできる。

【０１１９】本発明に係る測定システムは、従来の測定
システムには見られない独特の二面性を示す。特に、連
続的な自己修正型フィードバック能力を有することによ
り、放射線源４５０ａが一定またはほぼ一定の強度で放
射線を放射して、強度についてサージ（放射線源４５０
ａの寿命を低下させる）が発生したり、測定の精度を害
する強度不足が発生するのを回避することを保証する。
さらに、自己修正型のフィードバック装置は、新しい操
作を始める前に行う自己ゼロ調整機能（放射線源を所定
の強度ゼロの値に合わせる）も有する。すなわち、シス
テムの値をゼロにするのに何らかの入力を行う必要はな
い。これとは対照的に、従来の装置は、通常、所定の操
作中に起こる放射線源強度の連続的な監視・フィードバ
ックと、放射線源の強度低下を補償するため時々行う必
要がある長期的な調整との間の区別をつけることはでき
ない。

【０１２０】これまでの説明から、本発明の好ましい形
態に係るシステムは、放射線源に一定の強度を与え、自
己ゼロ調整機能を有するため、オペレータは操作する必
要がない（オペレータが定期的にゼロ合わせをしなけれ
ばならない装置とは異なる）ことが分る。さらに、光学
要素と測定要素に用いる本発明に係る固体状態技術によ
り、使用する部品の数と大きさを減らすことができ、製
造原価を減少させることができる。

【０１２１】〔封止または軸が不要の制御装置〕次に、
本発明の一形態において用いられるバルブ装置の実施例
を説明する。図１６ないし図３３で説明するバルブ装置
は、とりわけバルブ２１８，２９０および３０３につい
ては、図６のガス発生システムに設置される。

【０１２２】図１６は、バルブ本体の一般的な構成を示
す。好ましい要素は、押し出し成形した本体６１０、サ
イドパネル６１４，６１８および、本体６１０に設けら
れる穴６２２，６２６である。穴６２２，６２６は、バ
ルブが開いているときに流体を通過させるためのもので
ある。

【０１２３】図１７は、本発明の一形態に係る被駆動要
素（driven element）である。大きなブロック材６２８
の中に磁気電機子６３０と小型の永久磁石６３４が埋め
込まれている。ブロック６２８は、図１６の本体６１０
の中に嵌り込む。

【０１２４】後に詳しく開べるように、磁気電機子６３
０は、磁気コイルの交互の作用に応答して、ブロック６
２８を開方向または閉方向（矢印で示す）に駆動する役
割を果たす。

【０１２５】図１８は、バルブ本体６１０と流体コネク
タ６５４を備えた、本発明の一形態に係る完全な封止不
要のバルブの外形を示す。コネクタ６５４は、殺菌装置
の（例えば図６のバルブ２１８，２９０，３０６の位置
で）チューブあるいはパイプとの間で、流体を連通させ
る形状・配置にされる。さらに、コネクタ６５４は、そ
れぞれ、バルブ本体６１０（図１６参照）の穴６２２と
６２６に通され、バルブ本体内の被駆動要素（図１７に
示したようなもの）が「開」位置に保持されていると
き、流体がバルブ本体６１０を通って流れるようにす
る。また、「開」コイル６３８と「閉」コイル６４２
は、後の詳しく述べる方法で操作することができる。磁
心部分６４６，６５０は、各コイル６３８，６４２から
延びる。以下の説明から明らかになるが、コイル６３
８，６４２の中心線の間隔は、バルブ本体６１０内の被
駆動要素の移動距離を定める。

【０１２６】図１９は、図１８に示した「閉」コイル６
４２と磁心６４６の違う方向からみた図である。同じく
図１８にある「開」コイル６３８とこれに組み合わされ
る磁心６４６も同じような形状・配置とされる。

【０１２７】図２０，２１，２２，２３はそれぞれ、被
駆動要素６２８を収めたバルブ本体６１０が「開」位置
にあるときの平面図、同じく側面図、ならびに「開」位
置にあるときの平面図、同じく側面図である。さらに、
「開」状態のスイッチ６７０と「閉」状態のスイッチ６
７４も示してある。

【０１２８】本発明の好ましい形態によれば、本体６１
０と被駆動要素６２８を含むバルブ装置は、「開」コイ
ル６３８（図１８参照）が励磁されることにより、磁気
電機子６３０（図１７参照）が被駆動要素６３８が図２
０と２１における「開」位置にとどまり、付随する流体
の流れをコネクタ６５４を通して許容するように制御す
る。同様に、磁気電機子６３０（図１７参照）は、
「閉」コイル６４２（図１８参照）が励磁されることに
より、被駆動要素６３８が図２２と図２３にあるよう
に、「閉」位置にとどまり、付随する流体の流れをコネ
クタ６５４を通して制限するように制御する。

【０１２９】図２０〜図２３に示すように、永久磁石６
３４の存在を検知するスイッチ６７０，６７４が適当な
位置に設けられる。そして、永久磁石６３４をスイッチ
６７０または６７４と整列させると、それに対応して、
ブロック６２８が「開」位置または「閉」位置に正確に
保持される。永久磁石６３４のスイッチ６７０または６
７４との整列が正確でないと、適当な「位置合わせフィ
ードバック」装置が、「開」コイル６３８または「閉」
コイル６４２（図１８参照）における電圧を増加させ、
永久磁石６３４がスイッチ６７０または６７４と完全に
整列するように、ブロック６２８を動かす。したがっ
て、バルブは、明確に開放または閉止する。さらに、ス
イッチ６７０，６７４は、被駆動要素６２８が明確な
「開」または「閉」位置にあるときには、駆動電圧をい
ずれかのコイルから取り除くよう、コイル６３８，６４
２と直列に結ぶことができる。

【０１３０】バルブ本体６１０は、「ＰＶＣ」（ポリ塩
化ビニル）のような適当な強度と耐久性をもった材料か
らつくられる簡単な中空の角柱である。このため、その
側部６１４，６１８（図１６参照）は、溶剤接着でき
る。さらに、スイッチ６７０，６７４は、リードスイッ
チ等の適当なスイッチ装置により具現できる。

【０１３１】本発明に係るバルブ装置は、このような形
状と内部配置であるため、大型の装置で使用されるパイ
プをも首尾よく収納することができる。例えば、コネク
タ６５４（図１８参照）は、バルブ本体６１０に溶接す
る一方で、内径２インチのＰＶＣ製パイプをぴったりス
ライドして収められる形状にする。この目的のために、
バルブ本体６１０は、押し出し形成した３／８インチの
ＰＶＣ製角柱の一部により具現できる。

【０１３２】図２４〜図３３は、バルブを空気圧で作動
させる形態を示す。

【０１３３】図２４は、図１６に示したバルブ本体に似
たバルブ本体の一般的な構成を示すが、圧縮空気（ある
いは他の適当なガス）をバルブ本体６１０に入れたり抜
いたりするための口（ポート）６７６と６７８も示す。
図１６に示した装置と同様に、穴６２２と６２６は、バ
ルブが開いているとき、流体を流れさせる。しかし，図
１６のときとは異なり、これらの穴６２２，６２６は、
本体６１０の軸方向に沿って、より中央に位置してい
る。

【０１３４】図２５は、磁気位置合わせフィードバック
６３４，ブロック６２８および通し穴６５８を含む二重
作動空気圧システムにおける被駆動要素を示す。そこ
で、図２４に示した態様においては、ブロック６２８
は、どちら側からでも空気圧で駆動することができる。
この場合、バルブ本体６１０は、バルブが「開」位置に
ある状態（すなわち、ブロック６２８が左側に向けて移
動した状態）で、穴６５８が穴６２２，６２６と整列す
るよう、図１７の被駆動要素が使用される場合と比べ
て、長めになる。

【０１３５】図２６は、図２４に示したバルブ本体に類
似したバルブ本体６１０を示すが、このバルブ本体６１
０にはコネクタ６５４（図１８で説明したものに類似し
ている）が付いている。しかし、図２６に示すコネクタ
６５４は、ブロック６２８（図２５参照）の通し穴６５
８を設けやすいよう、バルブ本体６１０の軸方向におい
てほぼ中央に位置していることが分る。

【０１３６】本発明の好ましい形態においては、「開」
位置にある磁気位置センサ６７０と「閉」位置にある磁
気位置センサ６７４は、それぞれ、図２５に示した小型
永久磁石６３４の存在を感知するために設けられる。し
たがって、フィードバック制御のためには、センサ６７
０と６７４は、図１６ないし図２３に示した形態と比べ
るとほぼ同じように働くが、この場合センサ６７０，６
７４は、磁石６３４がスイッチ６７０または６７４と完
全に整列するよう、空気圧装置を駆動させてブロック６
２８を適切に作動させる。

【０１３７】ブロック６２８（図２５参照）の作動は、
適当な方法で行えばよい。本発明の一つの態様において
は、ブロックの作動方向に応じて、空気（あるいは他の
適当なガス）を口６７６と６７８のいずれかを通して供
給し、またこれらの穴のいずれかから排出する。例え
ば、ブロック６２８を「開」位置から「閉」位置に動か
すには、空気は、口６７６を通して導入し、同時に穴６
７８から排出させる。逆に、ブロック６２８を「閉」位
置から「開」位置に動かすには、空気は、口６７８を通
して導入し、同時に口６７６から排出させる。空気圧装
置（例えば上述の方法に従って空気を導入しかつ排出す
る装置）の例は、当業者にはよく知られているので、こ
こではこれ以上述べない。

【０１３８】図２７，２８，２９および３０はそれぞ
れ、被駆動要素６２８を収めたバルブ本体６１０が
「閉」位置にあるときの側面図、同じく平面図、ならび
に「開」位置にあるときの側面図、同じく平面図であ
る。さらに、空気口６７６と６７８も示してある。

【０１３９】本発明の好ましい形態によれば、本体６１
０と被駆動要素６２８を含むバルブ装置は、流体が付随
してコネクタ６５４を流れるのを制限するため、空気を
口６７６に通して送り込み、また口６７８を通して排気
することによって、駆動要素６２８を図２７と図２８に
あるような閉止位置に置く様に制御する。同様に、図２
９と図３０にあるように、流体が付随してコネクタ６５
４を通して流れるのを許容するためには、空気を口６７
８に通して送り込み、また口６７６を通して排気するこ
とによって、駆動要素６２８を開放位置に置く様に制御
する。

【０１４０】図２６をみると、スイッチ６７０，６７４
は、永久磁石６３４（図２５参照）の存在を検出する様
な位置・形状とする。このため、磁石６３４をスイッチ
６７０，６７４のいずれかと整列させると、ブロック６
２８は、「開」位置または「閉」位置にそれぞれ正確に
保持される。永久磁石６３４がスイッチ６７０または６
７４と正確に整列していないときは、適当なフィードバ
ック装置が、空気を口６７６と６７８に入れるかまたは
これから排出して、ブロック６２８を移動させ、永久磁
石６３４をスイッチ６７０，６７４と正確に整列させ
る。したがって、バルブは明確に「開」または「閉」状
態になる。

【０１４１】図３１は、ハウジング本体６１０が円筒形
で、この中に適当な形状に形づくられた被駆動要素６２
８ａを収めた変形例を示す。本発明の一態様において
は、要素６２８ａは、第１の円筒形主要部分６８２、円
筒形接続部６８４および第２の円筒形主要部分６８６を
具備する。主要部分６８２と６８６は、本体６１０ａ内
にぴったりスライド・密着するような形状にし、他方接
続部６８４は、空気または流体の横断方向の流れを最小
限だけ遮断するような形状にする。この間接続部は、主
要部分６８２，６８６（バルブの開閉ときにおける接続
部６８４の位置についての詳細は図３２と図３３にあ
る）との適切な接続は保っている。

【０１４２】図示のように、磁気位置センサ６７０ａと
６７４ａはそれぞれ、本体６１０ａの反対側端部に配置
され、対応する磁気磁石要素６８８と６９０（図には示
していない）の存在を検出できるような位置・形状とさ
れる。永久磁石要素６８８と６９０は、すでに述べた磁
石要素６３４と同じような働きをするが、この場合は特
に、対応するセンサ６７０ａおよび６７０ｂと直列の位
置で操作する。

【０１４３】空気口６７６，６７８も、図示のように設
けるのが好ましい。

【０１４４】図３２は、図３１に示したバルブが「閉」
位置にあるときの図であり、図３３は、同じ図３１に示
したバルブが「開」位置にあるときの図である。

【０１４５】図１６〜図３３に示した変形例を高圧で適
用するためには、バルブ装置を次のように修正するとよ
い：１）ストックが適度な安全率を見込みながら操作時
の圧力を包み込むくらい十分な強度を有すること；２）
上述の溶媒接着を、溶接の剪断強度を高めるため、まだ
新しいうちにピンで留める；３）「閉」位置において溶
接封止するため、バルブ本体６１０をわずかにテーパ付
けする（こうすると、被駆動要素６２８と合わさるテー
パが封止性を改善するが、必ずしも必要なものではな
い）。

【０１４６】これまでの記載から、本発明は、好ましい
形態においては、バルブハウジング内で被駆動要素を正
確に位置設定できる位置合わせフィードバック機能をも
った簡単で信頼性の高い装置を企図していることが分る
であろう。さらに、本発明による封止不要（seal-less)
のバルブ装置は、簡単かつ安価な設計によって、気密な
バルブ本体の中で流体の流れを制御することができる。
封止を行う場合のスライド要素は流体漏洩のおそれをな
くす一方で、この設計は、現在入手可能なバルブの費用
で、信頼性の高いバルブを与える。上述のバルブはま
た、バルブハウジングを貫通する外部からのステムない
しピストンが要求されないため、「ステム（軸）が不要
（ステムレス(stemless)」である。

【０１４７】〔積み重ね可能な低圧シャトルバルブシス
テム〕さて次は、本発明の一形態において用いられるシ
ャトルバルブシステムの実施例に移る。

【０１４８】シャトルバルブ（一般に符号７１０で示
す）は、二つの位置の間で作動させることができる。一
つの位置は以下「位置Ｉ」と呼ぶもので、図３４に示
す。もう一つの位置は「位置II」と呼ぶもので、図３５
に示す。

【０１４９】シャトル７１４は好ましくは、ハウジング
７１８の中にスライド可能に配置される。ハウジング７
１８内に設けられるスライドチャンバ７２２の両端部に
は、ばね７２６と７３０が設置される。これらのばね７
２６，７３０は、それぞれ、一方が圧縮ないし伸張され
ると、他方が伸張ないし圧縮される関係にある。

【０１５０】バルブは、４個の口７３４，７３８，７４
２および７４６を備える。口７３４と７３８は互いに整
列して配置される。口７４２と７４６も互いに整列して
配置される。シャトル７１４（図３６に詳細に示す）
は、狭隘部７５８を介して互いに接続する第１の主要部
７５０と第２の主要部７５４を具備する。すなわち、狭
隘部７５８の径が二つの主要部７５０，７５４に比して
小さいため、環状の隙間７６２が形成される（図３４と
図３５参照）。図３４に示す「位置Ｉ」においては、シ
ャトル７１４は、環状の隙間７６２が口７３４，７３８
と整列するよう、図の左側に向けて最大限変位する。逆
に、図３５に示す「位置IIにおいては、シャトル７１４
は、環状の隙間７６２が口７４２，７４６と整列するよ
う、図の右側に向けて最大限変位する。

【０１５１】狭隘部７５８は、大きなシリンダ（部分７
５０と部分７５４で構成される）がハウジング７１８
（あるいはチューブ）内にある間、そのシリンダの配向
が口７３４，７３８，７４２、７４６の開度に影響しな
いように、このシリンダの周りを径方向に切り取って形
成する。

【０１５２】図３４と図３５に示したばねを２個備える
装置の変更例として、ばねの一個を、圧力源への空気圧
接続や限定動作アクチュエータへの機械的連結などのア
クチュエータで代替することができる。

【０１５３】さて次に、図３４〜図３６で説明したシャ
トル型バルブを用いたバルブ装置の実施例について述べ
る。この実施例に係る装置は、後に図３９と図４０につ
いて説明する装置に類似した入口管、出口管、ブロア
（送風機）および結合管を備えた一般的な装置におい
て、可撓性の壁を有するアイソレータ（あるいは他の閉
鎖空間）を収縮（デフレート）および／または排気する
ために用いられる。

【０１５４】図３７は、可撓性の壁を有するアイソレー
タ（あるいは他の閉鎖空間）が殺菌プロセスに先立って
排気および／またはデフレートされた「デフレート」位
置におけるシャトルを示す。この図は、実際には、二つ
のシャトル型バルブ本体７１４ａと７１４ｂを示してい
る。この二つのバルブ本体７１４ａ，７１４ｂは、それ
ぞれが口の対７３４ａと７３８ａ；７４２ａと７４６
ａ；７３４ｂと７３８ｂ；および７４２ｂと７４６ｂを
開閉するよう操作できる。また、各シャトルは、環状の
隙間（図３４において符号７６２で示した隙間に類似す
るもの）をつくり出す。

【０１５５】入口７７５（すなわち、行く行くはアイソ
レータあるいは他の閉鎖空間に移送されることになる空
気／ガスを殺菌装置から受け入れるための口）と出口７
８３（すなわち、空気／ガスをアイソレータあるいは他
の閉鎖空間から殺菌装置へ戻すための口）は、ブロア７
６６を介して相互に接続される。特に、入口７７５から
通ずる口７７８は、口７３８ｂとつながり、ブロア７６
６の入口と連通する。他方、ブロア７６６の出口は、シ
ャトルバルブの口７３４ａと７４２ａにつながる。殺菌
／除染装置から延びるプローブ７７４と７８２は、入口
７７５と出口７８３に挿入することができる。

【０１５６】図３７にアイソレータとともに示したシャ
トルバルブ装置の相互接続について言えば、口７４６ａ
は、アイソレータの入口管７８６につながり、他方アイ
ソレータの出口管７８０は、シャトルバルブの口７３４
ｂと７４２ｂにつながる。こうして、口７４６ａと管７
８６を介してアイソレータに送られる空気／ガスは、
は、その後、管７８０と口７３４ｂ，７６２ｂを介して
戻ってくる。

【０１５７】図３７に示したように、口７３８ａは、空
気またはガスを外気に向かわせるためのもので、口７３
８ｂは、循環させた空気またはガスをブロア７７６に向
かわせるためのものである。

【０１５８】シャトル７１４ａ，ｂが図３７に示した位
置にあるときには、空気／ガスは、管７９０を介して、
取り付けたアイソレータあるいは閉鎖空間から引き出さ
れるが、管７８６を介しては送られないことは分るであ
ろう。こうして、図３７に示した装置においては、アイ
ソレータまたは閉鎖空間は排気され 壁が可撓性のアイ
ソレータの場合は、デフレートされる。こうして空気／
ガスは、アイソレータあるいは閉鎖空間から排除される
のみであり、補給されることはない。

【０１５９】ドッキング用のプローブまたはチューブ７
７４が送給管を殺菌装置をから入口スリーブ７７０に挿
入するために使用されることを仮定すると、プローブ７
７４は口７７８を塞ぐ。同時に、シャトル７１４ｂの環
状の隙間が口７３４ｂと７３８ｂの間で流体を連通させ
るように位置し、またシャトル７１４ａの環状の隙間が
口７３４ａと７３８ａの間で流体を流通させるように位
置した状態で、ブロア７６６を作動させると、空気／ガ
スをアイソレータまたは閉鎖空間から（管７９０を介し
て）引き出し、これを外気に直接送り出すことは分るで
あろう。

【０１６０】逆に、シャトル７１４ａ，ｂが図３８に示
した位置にあるときには、空気／ガスは、管７８６を介
して、アイソレータあるいは閉鎖空間に送り込まれ、そ
の後管７９０を介して引き出されることは分るであろ
う。こうして、図３８に示した装置においては、空気／
ガスは、例えば殺菌プロセスの間、アイソレータまたは
閉鎖空間を通じて連続的に循環される。

【０１６１】したがって、この点では、プローブ７７４
は、口７７８を閉鎖しない。同時に、シャトル７１４ｂ
の環状の隙間が口７４２ｂと７４６ｂの間で流体を流通
させるように位置し、またシャトル７１４ａの環状の隙
間が口７４２ａと７４６ａの間で流体を連通させるよう
に位置した状態で、ブロア７６６を作動させると、空気
／ガスをアイソレータまたは閉鎖空間から（管７７０を
介して）引き出し、これをアイソレータの入口管７８６
に直接送り出すことは分るであろう。同時に、入口管７
８６を介してアイソレータまたは閉鎖空間に送り込まれ
た空気／ガスは、アイソレータあるいは閉鎖空間にある
空気／ガスを、出口管７９０を通して口７８２に押し出
す。

【０１６２】シャトル７１４ａ，７１４ｂを相互に接続
して、これらを直列で動かし、図３７と３８に示した二
つの制御位置を実効あるものにするため、二つのバルブ
本体をそのバルブ本体の長手軸に沿って繋ぐ短い円筒形
ロッド部のような適当な装置を用いる。

【０１６３】図３７においては、本発明の好ましい形態
により、シャトル７１４ａと７１４ｂを（図面中で）ば
ねの力に抗して左側に押したときに、プローブ７７４は
定位置でロックされる配置・形状となっている。したが
って、プローブ７７４をスリーブ７７０に所定の位置
（例えば適当な配置・形状のストッパを付けることによ
って定める）まで単に挿入するだけで、このプローブ７
７４がその所定の位置でロックされ、シャトル７１４ａ
と７１４ｂを図示のような配置・形状にできるよう、プ
ローブ７７４の配置・形状を決める。プローブ７７４の
固体部は、ガスあるいは流体がプローブ７７４から口７
７８に移動するのを防止するため、口７７８を十分に覆
い尽くす。

【０１６４】他方、図３８に示すように、プローブ７７
４を、プローブ７７４をスリーブ７７０から一部後退さ
せたときに、プローブがその一部挿入した状態に対応す
る第２の位置でロックするような配置・形状にしてもよ
い。この位置で、シャトル７１４ａと７１４ｂは、図示
のような配置・形状となり、さらにプローブ７７４に設
けた適当な配置・形状の「ノッチ（あるいは他の開口も
しくは凹部）」が、プローブ７７４から口７７８へのガ
スまたは流体の移送を可能にする。

【０１６５】プローブ７７４が図３７と図３８に示した
それぞれの位置で保持される上述の「定位置ロック」型
に係る装置は、当業者にはよく知られているので、ここ
ではこれ以上述べない。

【０１６６】図３４ないし図３８で説明したシャトルバ
ルブは、主としてガス発生システムとの関連において図
示・説明したけれども、ガス発生システムとは異なる環
境下で使用することもできる。

【０１６７】本発明は、好ましい形態によれば、図３９
と図４０に模式的に示した装置を企図する。図３９と図
４０に示したように、入口７７５（殺菌剤発生器からの
すでに循環させた空気／ガスを受け入れる）は、ここか
ら分岐する枝管７８６と７９２を有する。管７９２は、
ブロア７６６の入口と、口７３８ｂ，７７８（図３７と
図３８参照）をつなぎ、他方ブロアの出口管７９４は、
シャトルバルブ口７３４ａ，７４２ａから延びる（図３
７と図３８参照）。図示のように、管７８６は、ついで
フィルタとアイソレータ１１０に至る。したがって、本
発明の好ましい態様によれば、ブロア７６６は、空気／
ガスをアイソレータ１１０とこれに取り付けた殺菌剤ジ
ェネレータ（図示せず）を通して連続的に循環させるた
め、入口７７５の近傍で空気／ガスを循環させる事がで
きるような形状・配置をしている。

【０１６８】アイソレータ１１０から出て循環を終えた
空気／ガスは、フィルタ１４２を通過した後、管７９０
を通ってシャトルバルブの口７３４ｂと７４２ｂ（図３
７と図３８参照）に入り込む。そして、この後は、「デ
フレート」モード（図３７に示す）のブロア７６６か、
または「循環」モード（図３８に示す）の出口接続部７
８２に向けられる。

【０１６９】図３９と図４０に示す図は、ブロア７６６
とその接続要素を強調するため、必要に応じて部分的に
誇張して描いたことに留意されたい。さらに、次に挙げ
る要素は、図面を完結させるために単に模式的に示した
だけである：管７９６ａ（図３７と図３８においては、
口７４６ｂから出口７８３に向かう）と管７９６ｂ（図
３７と図３８においては、口７３８ａから外気へ向か
う）。

【０１７０】空気／ガスをアイソレータ１１０に入れた
り、またこれから引き出したりして循環する方法は、図
３７と図３８で詳細に説明した。そこで、図３７と図３
８およびこれについての説明は、基本的な構造（殺菌装
置からの入口管と出口管、アイソレータからの入口管と
出口管、ブロア、および相互接続管）が、本発明の好ま
しい態様に従って、可撓性の壁を持つアイソレータを殺
菌プロセスに先立ってデフレートさせ、また殺菌プロセ
スの間、空気／ガスをアイソレータとの間で循環させる
ために用いる装置に係るものである。

【０１７１】これまで図３４〜図４０について説明した
装置は、特に「シングルブロア」型の装置、すなわち、
殺菌ガスをアイソレータ１１０および取り付けた殺菌装
置を通して循環させるのにアイソレータブロア７６６だ
けを使用する装置に適している。ところで、殺菌装置自
体に、循環を補助するためブロアを設けることも考えら
れるが、この実施例は以下に図４１のところで説明す
る。この２個以上のブロアを用いる後者の例において
は、図３４〜図４０で説明したバルブ装置以外の装置を
用いることもできる。特に、図３４〜図４０で説明した
シャトルバルブ装置を用いずに、単に既存のバルブ装置
を用いることもできる。このようなバルブ装置について
は、まずアイソレータあるいは閉鎖空間の排気（可撓性
壁のアイソレータの場合はデフレート）をし、ついで殺
菌ガスをアイソレータ／閉鎖空間と殺菌装置を通して循
環させるために、すでに殺菌装置内に設けているものが
ある。そこで、例えば、空気／ガスをアイソレータ／閉
鎖空間から引き出し、これまでと同様な方法（例えば、
図４１では、バルブ２８２，２１８および２９０を閉
じ、バルブ３０６［そして場合によりバルブ１２２２
も］を開ける）で排気するため、上述の排気／デフレー
トを、単純にシステムバルブを制御するだけで行うこと
も可能になる。同様に、空気／ガスの循環は、後で図４
４に示すシステムバルブを制御することで行うことがで
きる。

【０１７２】〔ガス発生システムの組立と操作−概説〕
次に、本発明の一つの形態に係るガス発生システムとの
関連において行われる種々の手順について説明する。こ
の手順の説明を容易にするため、最初に、本発明の好ま
しい形態に係るガス発生システムにおけるいくつかの基
本的な要素を単純化した模式図にした図４１ないし図４
５について述べる。「ガス発生システム」の語は、「ガ
スジェネレータ（発生器）」あるいは「ガス発生・回収
システム」と同義に考えてよい。

【０１７３】図４１は、本発明の一形態において使用さ
れる殺菌／除染装置２１０を示したものであるが、ここ
で、アダプタセクション２１５、ガス発生システム２６
０およびガス回収システム３１０について、図８と同じ
ように模式的に示す。

【０１７４】入口部２２２からみていくと、外観は図１
４，１５に示したセンサとほぼ同じ二酸化塩素センサ１
２１０と１２１４がある。センサ１２１０は、低レベル
のＣｌＯ₂ でも容易に測定できるよう、かなりの長さを
有し（ここでは模式的にやや誇張して描いてある）、一
方センサ１２１４はかなり小さく、高レベルのＣｌＯ₂
でも容易に測定できるようにしている。

【０１７５】この第２の二酸化塩素センサ１２１４の後
方には、適当な温度・湿度センサ１２１８が設けられ
る。

【０１７６】ついでガス発生システムの入口側と出口側
の間には、図６で説明した管に似た管２８６が延び、図
６の管と同じように、制御バルブ２９０と加熱器／加湿
器２９８を備える。

【０１７７】管２８６が交わる点の後方には、制御バル
ブ３０６を備えた管（図６に示した管３０２に類似した
もの）が配置される。この管は、次に回収装置３１０に
進む。図４１は、制御バルブ１２２２と回収装置３１０
の全体も示してあるが、回収装置３１０は、図６に示し
たスクラバー装置に関連するいくつかの要素を含む。

【０１７８】回収装置３１０からは、排気管１２２６が
延び、適当な排気口１２３０で終端する。

【０１７９】図４１は、ガス供給源１２３４も示す。ガ
ス供給源１２３４は、例えば２％のＣｌ₂ と９８％のＮ
₂ を収めたタンクを具備するが、これ以外の内容物を収
納してもよいことは勿論である。このガス供給源１２３
４は、圧力センサ１２３８（ガスが供給源１２３４から
流れているかどうかを確認するためもの）を経て、制御
バルブ２７０に接続し、ついで、適当な配置・形状をし
た二酸化塩素ガスジェネレータ２７４に至る。ガス発生
器２７４は、制御バルブ２８２につながり、この制御バ
ルブ２８２は次に出口部２２６につながる管に至る。し
かし、管２８６と接合部を過ぎた後、出口部２２６に至
る前に、まず制御バルブ２１８、そして出口部２２６に
つながる管に至るフィルタ２１４を備えた「空気流入」
部２１２（図６で説明したものとほぼ同じもの）を設け
る。

【０１８０】図４１はまた、アダプタセクション２１５
の入口部２２２に、ブロア１２４０を模式的に示す。こ
のブロア１２４０は、アイソレータあるいは他の閉鎖空
間に接続したブロアと連係して、殺菌ガスの循環を「増
幅」するために設ける。したがって、アイソレータまた
は閉鎖空間の内部をデフレートおよび／または排気する
方法は、図３４ないし図４０で説明したバルブ装置の替
わりに、上で述べたようにして行う。

【０１８１】図４２ないし図４５は、図４１で説明した
ガス発生・回収システムにおいて実現される、いままで
とは異なる操作モードを示す。図４２〜４５に示すいく
つかのバルブは、特にバルブ２１８，２８２，２９０，
３０６および１２２２が、用いる操作モードに応じて、
それぞれ開閉した状態を示している。

【０１８２】図４２〜図４５は、ざっと見たところで
も、次のことがわかる。 ・操作が、図４２に示す「循環モード」のときは、殺菌
ガスが導入される前に、当初アイソレータ内に収められ
ていた空気または他のガスが閉鎖ループ中を循環させ、
またシステムの湿度を制御する。 ・操作が、図４３に示す「ガス噴射モード」のときは、
殺菌ガスは所定量だけが導入されるように測定を行いな
がら、殺菌ガスをアイソレータに大規模に噴射する。 ・操作が、図４４に示す「暴露モード」のときは、アイ
ソレータ１３１０との間で、所定時間、殺菌ガスを連続
的に再循環させる。 ・操作が、図４５に示す「空気噴出モード」のときは、
新鮮な空気（あるいは他の適当なガス）をアイソレータ
１３１０に導入して、殺菌ガスをすべて回収システム３
１０を通して押し出し、アイソレータ１３１０から殺菌
ガスを噴出・回収する。

【０１８３】図４２は、「循環フロー」であり、図４１
に示した多くの要素に、「空気流入」部２１２において
フィルタ２１４を追加して示す。（フィルタ２１４は、
標準的な汚染防護フィルタで、流入してくる空気流から
かなり大きな粒子を取り除く構造をしている。他方、よ
り小さいな粒子の濾過は、例えばアイソレータ１３１０
における「ＨＥＰＡ」フィルタのようなフィルタを介し
て行う）。「循環フロー」モードにおいては、ガスは、
アイソレータ１３１０から取り除かれ、入口部２２２を
介して移送され、最終的には交差管２８６（図４１参
照）に至る。そしてその後は、出口部２２６を通してア
イソレータ１３１０に戻る。図４２のモードを実効あら
しめるため、適当なプログラムおよび／またはソフトウ
エアによって、制御バルブを制御する。

【０１８４】図４３は、図４２とほぼ同じであるが、
「ガス噴射フロー」モードを示す。このモードにおいて
は、ガスは、出口部２２６を介して、アイソレータ１３
１０に導入される。過剰な圧力は、入口部２２２を介し
て外部に抜かれ、回収装置３１０に進む（図４１参
照）。図４３のモードを実効あらしめるため、適当なプ
ログラムおよび／またはソフトウエアによって、制御バ
ルブを制御する。

【０１８５】図４４は、図４２および図４３とほぼ同じ
であるが、「暴露フロー」モードを示す。このフロー
（流れ）は、図４２に示したフローとほぼ同じである。
図４４のモードを実効あらしめるため、適当なプログラ
ムおよび／またはソフトウエアによって、制御バルブを
制御し、また所定の時間これを維持する。

【０１８６】図４５は、図４２〜図４４とほぼ同じであ
るが、「空気噴出フロー」モードを示す。このフロー
（流れ）は、図４３に示した「ガス噴射フロー」とほぼ
同じであるが、ガスは入口部２２２から回収装置３１０
（図４１参照）に進む。しかし、「ガス噴射フロー」と
は異なり、空気は、「空気流入」部２１２を経て出口部
２２６につながる管に入り込む。図４５のモードを実効
あらしめるため、適当なプログラムおよび／またはソフ
トウエアによって、制御バルブを制御する。

【０１８７】図４１〜図４５に示したバルブ１２２２
は、「スクラバーバイパスバルブ」である。この「スク
ラバーバイパスバルブ」が閉じているときは、ガスは、
（もしバルブ３０６を過ぎた地点にあるならば、）直接
スクラバーに進む。（もう一つの例として、もし少なく
とも一種類の活性成分が十分な量回収し終えているなら
ば、ガスを排気口１２３０を経てシステムの外に出すよ
う、「スクラバーバイパスバルブ」１２２２は開く。）

【０１８８】本発明の好ましい形態によれば、図４２〜
４５に示した種々の操作モードを、特に適当なバルブを
制御を通じて、適当な方法で実現できることは分るであ
ろう。したがって、本発明の一態様においては、適当な
時間にあるいは少なくともオペレータの動作（例えばボ
タンを押すなど）に応答して各バルブ２１８，２８２，
２９０，３０６および１２２２を開閉するため、自動装
置が提供される。一つの操作モードから他のモードへの
移行をできる限り自動的に行うこともできる。例えば、
図４３に示した「ガス噴射フロー」と図４４に示した
「暴露フロー」の間の移行は、データをＣｌＯ₂ センサ
１２１０，１２１４のいずれかまたは双方から、受け入
れ可能な閾値が得られると、直ちにスクラバーバルブ３
０６を閉じて循環バルブ２９０を開くよう処理を進める
ことができる中央処理装置に自動的にデータを送ること
によって達成できる。

【０１８９】本発明に係るガス発生システムの他の要素
は、最大限自動装置に組み入れることができる。例え
ば、図４１〜図４５に示した「湿度制御ブロック」２９
８を自動的に湿度を制御する構成にする。これは、当業
者には周知の適当なフィードバックを用いることにょっ
て達成される。

【０１９０】図４６は、本発明の好ましい形態に係る一
般的な制御装置１５１０を模式的に示す。

【０１９１】制御装置１５１０は、圧力センサ１５６０
（アイソレータ１３１０に取り付けられてアイソレータ
の中の圧力を測定する）、二酸化塩素センサ１２１０，
１２１４および温度／湿度センサ１２１８から入力を受
け入れる中央処理装置１５２０を備える。次に、制御装
置１５１０は、バルブ制御装置１５３０と、温度・湿度
制御装置１５４０およびシステムブロア１５５０を含
む。特に、バルブ制御装置１５３０は、バルブ２１８，
２７０，２８２，１２２２，３０６および２９０のどれ
かまたはすべてを選択して作動させる。また、温度・湿
度制御装置１５４０は、熱／湿度ブロック２９８を介し
てシステムの温度（熱）と湿度を制御する。そして、ブ
ロア制御１５５０は、システムブロア装置（符号１２４
０で示す）の一個またはそれ以上の要素を制御する。

【０１９２】次に、様々な目的を達成するために、本発
明に係るガス発生システムにおける種々の要素を操作す
るいくつかの方法について述べる。

【０１９３】まず、本発明に係るガス発生システムの操
作方法（スキーム；流れ）を以下に説明する。

【０１９４】第一に、装置は、殺菌あるいは除染を企図
する閉鎖空間から別個独立であることを仮定する。

【０１９５】閉鎖空間は、入口接続部を一個と、出口接
続部を一個有することになる。

【０１９６】本発明の好ましい形態によれば、閉鎖空間
の入口部と出口部は、殺菌装置の入口部および出口部と
同様、誰でも絶対に間違えることのないような接続形式
とする。実際には、「間違い防止」とされる接続形式の
ものは、どれでも上述の目的のために使用できる。例え
ば、本発明の一形態においては、雄部と雌部が殺菌装置
とアイソレータもしくは閉鎖空間の間で分け放たれる雄
雌の接続形式を用いることができる。言い換えると、殺
菌装置の入口部と出口部は、雄接続部を一つと雌接続部
を一つ（必ずしもこの順である必要はない）備えるが、
アイソレータあるいは閉鎖空間の入口部と出口部は、殺
菌装置の雌部と合う雄部、および殺菌装置の雄部と合う
雌部（必ずしもこの順である必要はない）を備える。し
たがって、殺菌装置あるいはアイソレータ／閉鎖空間の
いずれかの適当な入口部または出口部で雄と雌を正しく
接続すれば、接続部材をまず設置した後、殺菌装置の出
口部をアイソレータ／閉鎖空間の入口部に常に正しく接
続し、またアイソレータ／閉鎖空間の出口部を殺菌装置
の入口部に常に正しく接続することができる。

【０１９７】殺菌装置が対象とする閉鎖空間と結び付い
て行う次の操作は、一人または複数のオペレータが望む
方法・速度で進めることができる。しかし、もし殺菌の
操作を望むならば、他の開始操作をまず行う必要があろ
う。しかし、そのような操作を自動的に逐次行うか、ま
たはオペレータがボタンを押すなど、個別の操作をマニ
ュアルで開始することが考えられる。どちらの方法でも
よい。

【０１９８】したがって、一旦殺菌装置を閉鎖空間に接
続したら、少なくとも第１の操作、すなわち「循環」フ
ローモードを行う。本発明の好ましい態様に係るアイソ
レータと殺菌装置の間での循環を制御する方法は、後の
別のセクションで説明する。

【０１９９】「循環フロー」モードを行うには、図４２
に示した構造を仮定して、次の基準が満たされねばなら
ない。 −スクラバーバルブ３０６が閉じる： −循環バルブ２９０が開く； −ガスバルブ２８２（および好ましくは図４１に示した
ガス送給バルブ２７０も）が閉じる（このときガスジェ
ネレータ２７４が遮断されているのが好ましい）；およ
び −制御バルブ２１８が閉じる。

【０２００】「循環フロー」モードの最初の工程では、
ブロア１２４０を作動させ、少なくとも空気循環は行
う。

【０２０１】「可撓性壁」型アイソレータの場合は、ア
イソレータ１３１０をデフレートして所定量の殺菌ガス
を噴出できるようにするため、バルブ２９０（「循環」
バルブ）を閉じ、バルブ３０６（「スクラバー」バル
ブ）を開ける方が望ましい。

【０２０２】中央処理装置１５２０（図４６参照）に格
納されているパラメータによって決定される通りに、ア
イソレータを適切にデフレートおよび／または排気した
ら、バルブ２１８と３０６は閉じ、他方バルブ２９０は
開く。こうすると「循環フロー」モードが実効あるもの
になる。

【０２０３】「剛性壁」型アイソレータの場合は、異な
る作動を行う。好ましい形態は、以下の「フローベース
の作動アルゴリズム」セクションで述べる。

【０２０４】この段階では、循環は、循環空気中の湿度
を調整するため、望むならば、殺菌ガスの導入なしでも
続けることができる。湿度センサ１２１８で感知され、
湿度制御ブロック２９８で制御するところに従って、湿
度が所定のレベルに達するまで、所定回数のフローサイ
クルを行うことも考えられる。この目的のためには、適
当なフィードバック回路を用いることができる。そし
て、その所望レベルの湿度になったら、オペレータに視
覚的あるいは聴覚的な信号を与え、閉鎖空間またはアイ
ソレータ１３１０で実際に操作が行われていること（こ
のときはアイソレータ１３１０内では所望の湿度になっ
ている）を確認する。

【０２０５】本発明の一形態においては、システム内の
空気が所定の回数循環し、システムに漏洩がないこと
（あるいは予めプログラムしておいた所定の安全閾値を
超える漏洩がないこと）を確認したら、「循環フロー」
モードから「ガス噴射フロー」モードへ自動的に移行さ
せる。また、その代わりに、ある段階に達したら、次の
段階を開始するため、オペレータにボタンを押すよう促
したり、あるいは他の機会的もしくは電気的な刺激を与
えるべく、視覚的または聴覚的信号をオペレータに与え
ることもできる。

【０２０６】そこで、図４３においては、「ガス噴射フ
ロー」への移行が、自動的にあるいはオペレータの手動
による介入により行われる。この段階が開始したら、す
ぐに循環バルブ２９０を閉じる、一方、ガスバルブ２８
２は開ける。そして、スクラバーバルブ３０６は、アイ
ソレータあるいはシステムの圧力を維持するため、必要
に応じて開ける。

【０２０７】次いでガスジェネレータ２７４を公知の方
法で作動（バルブ２７０の開放を含む）させ、入口２２
６を介してアイソレータ１３１０に、二酸化塩素などの
殺菌ガスを導入する。アイソレータ１３１０から接続部
２２２を経て殺菌ガス（空気と混合したもの）が出てき
たら、直ちに、センサ１２１０と１２１４のどちらかま
たは両方を使って二酸化塩素の濃度を測定する。フィー
ドバック制御を介して、センサ１２１０，１２１４が測
定したシステム内での二酸化塩素の濃度が所定値になっ
たら、次のモード（すなわち「暴露フロー」モード）へ
移行するため、ただちに信号が自動的に送られる。

【０２０８】「ガス噴射フロー」モードから「暴露フロ
ー」モードへの移行の際は、スクラバーバルブ３０６が
閉じ、また循環バルブ２９０が開き、ガスバルブ２８２
は閉じる。

【０２０９】「暴露フロー」モードの間は、操作が所望
によりアイソレータ１３１０の中で行われているとき
は、（二酸化塩素センサ１２１０および／または１２１
４を介して）システム内での殺菌ガスの循環濃度を、温
度および湿度とともに、継続的に監視する。もし、これ
らのパラメータが所定範囲（中央制御システムに格納し
ておく）内から外れたときは、操作を停止するかまたは
パラメータを調整させるため、視覚的および／または聴
覚的信号がオペレータに与えられる。あるいは、それら
のパラメータを、中央制御システムによって制御される
適当なフィードバックシステムを介して自動的に調整し
てもよい。

【０２１０】アイソレータ１３１０内での所望の操作が
完了し、少なくとも一時的に殺菌装置とアイソレータ１
３１０の操作を停止したい場合には、図４５に示した
「空気噴出」モードへ移行させる。この移行は、オペレ
ータがいつ移行を行うべきかを注意しているのでマニュ
アルで行う。（しかし、所定の時間が経過したところで
自動的に移行させることもできる。この場合は、オペレ
ータの注意を引きつけるため、視覚的／聴覚的信号を伴
う。）

【０２１１】「空気噴出フロー」への移行時には、循環
バルブ２９０を閉じて制御バルブ２１８を開け、またス
クラバーバルブ３０６も開ける。この時点では、スクラ
バーバイパスバルブ１２２２は、出ていくガスがすべて
回収システム３１０に進むように閉じる。

【０２１２】「空気噴出フロー」モードの制御は、回収
システム３１０のセクションで述べた方法を含むいかな
る方法によっても行うことができる。そのセクションで
説明したように、スクラバー３３４をまさに通過し外気
に放出されるところのガスを監視する二酸化塩素センサ
がもう一つ設けられる。バルブ１２２２を介して通気口
１２３０から排気されるガス中の二酸化塩素濃度を測定
するためである。この型の制御はまた、センサ１２１０
と１２１４を使っても行うことができる。

【０２１３】本発明の好ましい形態に係るシステムの大
きな利点は、ガス（あるいは流体）濃度をフィードバッ
ク監視できる点にある。特に、対象空間との間でガスを
継続的に再循環させながら、ガス濃度を継続的に監視
し、必要ならばガス濃度の修正を行うこともできる。し
たがって、もしシステムに漏洩がある場合は、再循環の
ない公知のシステムにおけるより、ずっと迅速かつ高信
頼性の下に修正する。

【０２１４】〔ガス発生・回収システムを対象空間に適
用するための集成装置〕さて、本発明の好ましい形態に
よれば、殺菌装置は、アイソレータや他の閉鎖空間など
の広範な対象空間と容易に一体化できることは分るであ
ろう。

【０２１５】アイソレータには二つの接続部、すなわち
アイソレータへの入口とアイソレータからの出口を設け
るだけでよい。そのような接続部は、例えば、図４６に
符号１４０５ａと１４０５ｂで示されている。

【０２１６】図４７は、本発明の好ましい形態に係るモ
ジュール型の互換性・汎用性セクションを示す。ジェネ
レータシステム１７１０は、例えば、図８と図４１にお
いて点線で囲ったセクション２６０（すなわち、殺菌ガ
スの発生に係る要素を含むセクション）に対応する。他
方、セクション１７２０は「アダプタ集成装置」とみな
すことができ、このセクションは、例えば図８と図４１
において点線で囲ったセクション２１５（すなわち、ア
イソレータまたは他の閉鎖空間からガスを投与し、また
個々から取り出して、再循環ないし回収装置に送る要素
を含むセクション）に対応する。さらに、回収システム
１７３０は、もう一つのモジュールセクションとしても
具体化でき、例えば、図８と図４１において点線で囲っ
たセクション３１０（すなわち、使用済みのガスを外気
に放出したり、そのガスの所定の成分を回収したりする
要素を含むセクション）に対応させることができる。

【０２１７】上記三つのモジュール要素（ジェネレータ
性ステム１７１０、アダプタ集成装置１７２０および回
収システム１７３０）のそれぞれが、互いにあるいは他
の組み合わせ可能なモジュール要素と連結可能な、取り
離し可能な単一の構成要素である多くの構成部分をもつ
モジュール型集成装置が企図されていることは分るであ
ろう。この目的のためには、各モジュール要素は、他の
モジュール要素と容易に接続できるインタフェースある
いは接続部を備える。したがって、ジェネレータシステ
ム１７１０は、アダプタ集成装置１７２０のインタフェ
ースあるいは接続部１７１７と容易に接続できるインタ
フェースあるいは接続部１７１３を備える。同様に、ア
ダプタ集成装置１７２０は、回収システム１７３０のイ
ンタフェースあるいは接続部１７２７と容易に接続でき
るインタフェースあるいは接続部１７２３を備える。最
後に、アダプタ集成装置１７２０は、与えられた対象空
間１８１０（すなわち微生物アイソレータあるいは他の
閉鎖空間）のインタフェースあるいは接続部１８１３と
容易に接続できるインタフェースあるいは接続部１７２
５を備える。

【０２１８】非限定的実施例としての図８に戻ると、接
続部１７１３および１７１７のインタフェースは、例え
ば、バルブ２８２と交差管２８６との交差点の間に設け
る。さらに、接続部１７２３と１７２７のインタフェー
スは、バルブ３０６と接合部３１４の間に設ける。ま
た、非限定実施例としての図４６においては、接続部１
７２５と１８１３のインタフェースは、接続部１４０５
ａと１４０５ｂの位置にある。いずれにしても、図４７
に示すモジュール要素と接続部を集成した装置は、適当
と思われる形で構成することが可能な、広範な接続様式
とモジュール型を企図したものである。

【０２１９】図４７に示したモジュール型集成装置は、
ガス（殺菌ガスや除染ガスなど）を発生させ、注入し、
抜き出しそして回収する総合的なシステムを組み立てる
上において種々のやりかたを可能にする点において、ジ
ェネレータシステム１７１０、アダプタ集成装置１７２
０および回収システム１７３０を具体化した広範な要素
を互いに交換可能にするすぐれた可撓性と汎用性を有す
る。もちろん、このような広範な適用が可能かどうか
は、実際のケースに則して考えなければならないが、汎
用性の程度が従来より広いことは確かである。さらに、
一個またはそれ以上のモジュール型セクションが修理あ
るいは取替が必要な場合には、本発明に係るモジュール
システムは、システムの一部だけを修理ないし取替えれ
ばよいとことから、その費用が安く済む。

【０２２０】さらに、ジェネレータシステム１７１０、
アダプタ集成装置１７２０および回収システム１７３０
からなる総合的な集成装置は、与えられた対象空間１８
１０と全体として組み合わせ可能なように構成される。

【０２２１】さらに、本明細書で述べたモジュール型シ
ステムによれば、次のことも可能になる：一またはそれ
以上のジェネレータシステム１７１０を回収システム１
７３０なしで用いること；一またはそれ以上の回収シス
テム１７３０をジェネレータシステム１７１０なしで用
いること；およびジェネレータシステム１７１０も回収
システム１７３０も用いないこと（ただ再循環のために
アダプタ集成装置１７２０を設ける）。

【０２２２】本発明の好ましい形態によれば、システム
のパラメータを測定するための装置（例えば図４１と４
６で説明したガス濃度センサ１２１０／ｌ２１４、温度
／湿度センサ１２１８および圧力センサ１５６０のよう
なもの）は、すべて、モジュール型システムにおけるア
ダプタ集成装置１７２０の中に収められる。このため、
アダプタ集成装置１７２０が接続されるいかなる対象空
間１８１０にとっても、与えられたモジュール型アダプ
タ集成装置１７２０は、そのような種々の装置を収める
必要はないだろう。したがって、アダプタ集成装置１７
２０中の要素は、広範な対象空間１８１０のいずれとも
組み合わせて使用することができ、補助的な部材（接続
するアダプタ−対象空間システムに補助的な備品として
一時的に付け加えられる）や対象空間自体に部材を用い
る必要はなくなり、コストを大幅に引き下げることがで
きる。

【０２２３】対象空間１８１０（アイソレータや他の閉
鎖空間）に一またはそれ以上のブロアを取り付けるなら
ば、本発明の態様においては、アダプタ集成装置１７２
０の中にも一またはそれ以上のブロアを取り付けること
（例えばブロア１２４０係る図４１に示した方法に似た
方法によって）が考えられる。こうすると、対象空間と
の間での出し入れを含むシステム全体の中でのガスの流
れは、そのような追加のブロアによって「増幅」され
る。同様に、図４７に示したモジュール型集成装置によ
れば、自身ではブロアを欠き、ガスの送給・再循環につ
いてはアイソレータのブロアだけを利用するアダプタ集
成装置１７２０も組み込むことができる。（このような
変形例は、例えばガスの導入、抜き出しおよび再循環に
大きな流量を必要としない小型の対象空間に適してい
る。）

【０２２４】そこで、図４８は、本発明において、図４
７に示した原則に則って、カート（cart）集成装置を採
用した形態を示す。このような構成においては、カート
１６１０は、所定の対象空間に用いるため適当な構成に
したモジュールセクション１７１０，１７２０および１
７３０を同時に保持することができる。さらに、使用す
るモジュールセクション１７１０，１７２０および１７
３０用に構成した制御システム１６３０も、このカート
１６１０の上に載せることができる。

【０２２５】本発明の一形態によれば、殺菌装置は、図
４８に模式的に示した要素を含む。すなわちフレーム１
６１０、制御システム１６３０およびシステムケース１
６４０である。

【０２２６】本発明の好ましい形態によれば、上述のフ
レーム１６１０は、ホイール（車輪）１６１２付きカー
トとして具現される。このカートは、構造材フレームお
よび殺菌装置の移動手段の両方の役割を果たす。

【０２２７】図４８に符号１６３０であるいは図４６に
符号１５１０で模式的に示したような本発明による制御
装置は、覗き窓の付いた箱に入れることができる。そし
てこの箱は、システムカートに取り付けることができ
る。

【０２２８】最後に、ステンレス製のケース１６４０で
システムカートを覆い、ケースをカートの定位置に、ボ
ルト締めあるいは他の方法で固定する。ケース１６４０
は、システムを保護して外部からいじられるのを防止
し、作業スペースを与えるように構成される。ケース１
６４０はまた、システム内の消耗品を取り替えるときに
外部と連絡するためのドアを具備する。

【０２２９】オペレータとのインタフェース用に、９イ
ンチ×９インチのＬＣＤ（液晶ディスプレー）パネル１
６５０やプリンタ１６５５などの適当な装置を用いるこ
とができる。これらの要素もまた、システムケース上に
容易に取付けられるような構成とする。従来の方法だ
と、そのようなＬＣＤパネルは、オペレータが触るため
の高低差のあるタッチパネル含む。

【０２３０】このＬＣＤパネルの外形として考えられる
ものを図４９と５０に示した。図にあるＬＣＤパネル
は、置台１６４０、ＣＲＴモニタ１６６０、オペレータ
のキーパッド１６６５およびプリンタ１６５５を備え
る。

【０２３１】図５１は、かなり大型の対象空間１８１０
（例えば殺菌や除染を行うために設計したかなり大きな
室、あるいは同じような目的で設計した、１８ホイール
トラックに据えつける容器内の大型の運搬可能な室）に
適当した変形例に係る集成装置を示す。この変更例にお
いては、殺菌ガスあるいは除菌ガスを発生すべく構成し
たガス発生システム１７１０は、一般的な接続部１７１
５を介して、第１のアダプタ集成装置１７２０ａにガス
を送る。そして、第１のアダプタ集成装置は１７２０ａ
は、今度は、一般的な接続部１７７５ａを介して、対象
空間１８１０にガスを送る。さらに、対象空間１８１０
は、（一般的な接続部１７７５ｂを介して）第２のアダ
プタ集成装置１７２０ｂにガスを送り、この第２のアダ
プタ集成装置１７２０ｂは、今度は一般的な接続部１７
２６を介して、ガス回収システム１７３０にガスを送
る。

【０２３２】したがって、図５１に示す形態において
は、二つの離れて設置したアダプタ集成装置を用いる。
この変更例においては、第１のアダプタ集成装置１７２
０ａから対象空間１８１０へ、そしてさらに第２のアダ
プタ集成装置１７２０ｂへのガスの送給は、一方通行で
行う（すなわち、対象空間１８１０に入る殺菌ガスある
いは除菌ガスは、その後すべて抜き出され、排気され
る）。もう一つの変更例においては、アダプタ集成装置
１７２０ａ，１７２０ｂの一方あるいは両方ともが、対
象空間１８１０に導入された殺菌ガスの再循環に係る。
例えば、第１のアダプタ集成装置１７２０ａは、（図５
１に示した図では、）対象空間１８１０の頂部左側に殺
菌ガスを導入し、これを対象空間１８１０の底部左側か
ら抜き取る。さらに、第２のアダプタ集成装置１７２０
ｂは、対象空間１８１０の上方右側から殺菌ガスを抜き
出し、これを再度その底部右側から対象空間１８１０に
導入する。こうして、「８の字形」の連続再循環パター
ンが、対象空間１８１０に適用される。このため、かな
り大型の対象空間１８１０においては、各アダプタ集成
装置１７２０ａ，１７２０ｂは、それぞれがブロアを備
える。

【０２３３】図５１に示した変更例におけるすべての付
随するモジュールセクション（１７１０，１７２０，１
７２０ｂおよび１７３０）との通信を維持する制御シス
テムのために、適当な遠隔通信手段（例えばラジオ、有
線通信、「ethernet」）を用いる。

【０２３４】本発明は、好ましい形態においては、広
く、対象空間の少なくとも一部を除染するためのモジュ
ールシステムを企図しており、このシステムは、以下の
構成を要素を具備する：除染ガスを対象に選択的に注入
し、かつその対象にガスを戻して選択的に再循環させる
集成装置を備える少なくとも一つのモジュールセクショ
ン（Ａ）；ならびに除染ガスを発生させる集成装置を備
える少なくとも一つのモジュールセクション（Ｂ）；お
よび対象空間から除染ガスを選択的に抜き取る集成装置
を備える少なくとも一つのモジュールセクション（Ｃ）
の少なくとも一方。

【０２３５】〔制御プログラム集成装置〕さて次に、本
発明の形態に係る制御プログラム装置の説明に移る。

【０２３６】本発明においては、殺菌プロセスの各工程
を正確に行うための自己評価型集成装置を企図する。す
なわち、この装置においては、あらゆる機能とプロセス
・工程を自己監視する。そして、フェイラ（failure;故
障、異常）があれば直ちに警報を発し、適当な場合に
は、自動的な応答を引き出す。

【０２３７】モジュールおよびテンプレートに基づいた
ソフトウエア構成技術により、プログラマーは、本発明
の殺菌装置を新しい操作環境（すなわち、新しいアイソ
レータあるいは他の閉鎖空間）に導入すると同時に、独
自の（すなわち特別にあつらえた）殺菌ルーチンを開始
するようプログラムを組む。最後に、システムが実行さ
れたときは、システムは、二つのレベルで自己評価をす
る。一つの目のレベルにおいては、システムとプロセス
の操作を試験するため、ソフトウエアテンプレートの要
素が、工程ごとにチェックリストを与える。さらに、各
生産サイクルの工程は、ハードコードによる評価パラメ
ータを含むため、指定された「評価」スイッチを導入す
ると、システムがプリセットあれ、次のサイクルのプロ
セス評価バージョンを実行する。

【０２３８】本発明の好ましい形態によれば、ソフトウ
エアのテンプレートには、いくつかの特性があるため、
以下にそれを概説する。

【０２３９】制御装置（図４６に符号１５１０で示した
ようなもの）は、すべてのユーティリティーと装置を連
続的に監視する。そして、何らかのフェイラ（failure)
が検出された場合にはアラームを流し、次のプロセスが
開始しないようにする。逆にアラームがないときは、次
のプロセスを開始させる。

【０２４０】すべての機能および工程は、機能または工
程に適当とされる開始および実行が成功裡に行われるよ
う監視される。そして、フェイラが検出された場合に
は、適当なアラームを流し、工程あるいは機能を利用し
てそのフェイラを同定する。

【０２４１】本発明に従って行われる殺菌手順において
は、ただ一つの工程、とりわけ図４２〜図４５で説明し
た工程だけがいかなるときでも働く。さらに、もし何ら
かの時点で、所定の工程が働いていないと検出された場
合、あるいは二つ以上の工程が同時に働いていると検出
された場合には、制御装置がアボート（abort:中止）シ
ーケンスに入り、制御状態に安全に復帰させる。

【０２４２】本発明に係る殺菌プロセスの一部を含む工
程のそれぞれが、それが働いている時間一定の程度まで
制御されている限り、「プロセスの中止」は、何らかの
工程が最大限可能な時間（例えば図４６に示すＣＰＵ１
５２０のメモリの一部に格納されている）内に終了せ
ず、オペレータに何らかの処置をするようアラーム（聴
覚信号、視覚信号、印刷物等）を流す際になされる。

【０２４３】そのようなアラーム状態にありながら、オ
ペレータが所定時間内に何も処置を講じない場合には、
制御装置が殺菌剤を、フェイラを起こした工程にとって
適切なアボートシーケンスに入れ、制御状態に安全かつ
確実に復帰させる。

【０２４４】最後に、殺菌プロセスの何らかの段階で安
全性が低下し、製品の統合性を脅かす事態（例えばアイ
ソレータあるいは他の閉鎖空間で殺菌処理を行おうとう
する製品の無菌あるいは物理特性が脅かされる事態）が
発生したときには、プロセスは、その段階に適当な方法
で停止する。

【０２４５】工程は、次の二つの方法のうちの一つによ
り行われる： −「シーケンシャル工程作動(Sequential Step Activat
ion;ＳＳＡ）」は、所定の工程シーケンスにおいて、工
程シーケンスの絶対的な制御を確実なものにする。現在
流れている工程の終わりに開始することのできる唯一の
プロセス工程は、次にプログラムされている工程であ
る。予めプログラムされたアボート（停止）工程は、プ
ロセスの必要あるいはオペレータの入力によって要求さ
れたときは、いつでも作動できる。

【０２４６】−「ランダム工程作動(Random Step Activ
ation;ＲＳＡ) 」は、その一方で、オペレータが自由に
工程シーケンスを定義することができるが、これは、特
別の目的に応じた特別仕様の殺菌シーケンスである。こ
の特別仕様のシーケンスは、順序数的な(ordinal) なプ
ロセス工程（工程１〜工程ｎ）を、要求される工程の機
能を同定する特定の工程コードに関連づけてつくる。プ
ロセスあるいはタイミングの設定点は、要求のあった各
工程に関連する。特別仕様のサイクルが実行に移される
と、各工程が成功裡に終了する度に、工程番号は１から
ｎまで増加する。アボートのプロセスが要求された場合
は、ＲＳＡシーケンスは不能になる。そして、予めプロ
グラムされたアボート工程が作動し、プロセスはこの後
安全な条件へと向かう。このＲＳＡ法は、プロセスの展
開と試験には適している。この方法は、柔軟性と安全性
を兼ね備えるが、自己評価生産システムにとっては適当
ではない。

【０２４７】本発明の一形態に係るプログラミング集成
装置は、図５２ないし図５８を参照して説明する。図５
２ないし図５８はそれぞれ、殺菌プロセスのすべての機
能に用いられ、また必要に応じて複写や編集（すなわち
特別につくる）ことが可能なプログラミングテンプレー
トを示す。図５２〜５８における例は、公知のラダーロ
ジック(ladder logic)を使って示してある。しかし、こ
こで企図する方法や手プレートは、他の適当なプログラ
ミング言語にも用いることができることは留意すべきで
ある。図４１〜図４６も参照して、さらに説明を進め
る。

【０２４８】第一に、殺菌プロセスにおける各工程（例
えば循環フロー、殺菌ガスの噴射フロー等）は、一また
はそれ以上の機能を備える。この機能は、例えば、ガス
の噴射（すなわち図４１〜図４６におけるバルブ２８２
などのバルブの開放）や真空の発生（アイソレータや他
の閉鎖空間１３１０の内部を排気するための公知の真空
ポンプや、図４６において符号１４１０で示すブロア装
置で行うことができる）である。

【０２４９】各工程は、適当なアクチュエータを作動さ
せるか、あるいは工程に関連した機能を実行するため適
当なアクチュエータを作動させる制御ループをも動か
す。例えば、本発明の好ましい態様に係る「ガス噴射工
程」は、ＣＰＵ１５２０に格納された制御ループを起動
させ、バルブ制御装置１５３０を介して、バルブ２８２
を開き、バルブ２９０を閉じ、そしてバルブ３０６を開
ける。また、適当な制御装置も、ガスジェネレータ２７
４を作動させる。

【０２５０】さて、図５２をみると、一旦工程が開始さ
れると、「ファンクション（機能）」テンプレートが、
近い将来にあるファンクションをはっきりと定義するた
めに働くことが分る。

【０２５１】図５２の下段は、「ファンクション監視」
スキームを示す。特に、あらゆるファンクションは、シ
ステムパラメータに最初の変更（イニシャルチェンジ）
をもたらす。このイニシャルチェンジは、すでにファン
クションが始めた関連する制御ループを促すために行わ
れる。このとき、そのファンクションに関連するアラー
ムは、予め設計したシステムパラメータに反するような
時間まで、最初から発せられない。

【０２５２】本発明の好ましい形態によれば、テンプレ
ート装置は、各工程がその進行と完了を監視するように
構成される。特に、工程が不適当な終わり方をしたり、
システムのフェイラが起こった場合にそれを知らせる、
プリセット時間に基づくアラームが設置される。一般
に、工程にフェイラが発生すると、アラームが発せら
れ、その工程はその時点で停止し、オペレータが操作し
ない限り進まなくなる。もし所定の時間内にオペレータ
が操作しない場合には、予めプログラムされたアボート
シーケンスが起動し、システムは制御状態に復帰する。

【０２５３】「セットポイントで起動される（setpoint
-driven)」工程は、所定のプロセスの目標が達せられる
まで続く。この例は、所定の殺菌ガス濃度がセンサ１２
１０，１２１４で検出されるまで継続する殺菌ガスの噴
射である（図４３参照）。セットポイントとの単純な不
釣り合いの場合は、そのセットポイントに一致するまで
（すなわち、殺菌ガスの濃度など測定したパラメータの
値が所定の濃度と等しくない場合には、その工程は継続
して実行される）、工程に歯止めがかかる。図５７は、
セットポイント工程のためのセットポイントの歯止めを
示す。

【０２５４】「時間で起動する（time-driven)」工程
は、所定の時間だけ継続し、その時間が満了したときは
停止する。本発明の形態によれば、工程のタイマーは、
所定の工程パラメータが充足されないインターバルがあ
ると、停止する。先ほどと同じように、時間の要件との
単純な不一致の場合は、その時間の要件に一致するまで
（すなわち、経過した時間が所定の時間と等しくない場
合には、その工程は継続して実行される）、工程に歯止
めがかかる。図５７は、時間に基づく工程についての時
間に基づく歯止めの仕組みを示す。

【０２５５】時々、セットポイントが満たされ、かつ所
定の時間が満了するまで継続される、「複合」工程が必
要になることもある。したがって、このような工程は、
二つの歯止め、一つはセットポイント用の歯止めで、も
う一つは時間用の歯止めを備える。

【０２５６】図５３（ａ）〜図５３（ｃ）は、本発明の
一態様において、対応するアラームを促すべく用いられ
る種々の工程時間のプリセットを示す。

【０２５７】図５３（ａ）は、工程が所定の下限境界値
より短い時間で終了したとき、「最小時間」アラームの
作動を促す「最小時間」タイマーのプリセットを示す。

【０２５８】図５３（ｂ）は、工程が所定の最大時間制
限を超えて継続しているとき、「最大時間」アラームの
作動を促す「最大時間」タイマーのプリセットを示す。

【０２５９】図５３（ｃ）は、工程が所定の最大時間制
限を超えて継続し、かつアラームが所定時間作動（すな
わち所定時間「アラーム」状態にある）してもオペレー
タが何らの処置も施さないとき、工程、あるいはさらに
殺菌プロセス全体を停止させる「工程フェイラ」タイマ
ーのプリセットを示す。

【０２６０】図５４（ａ）〜（ｃ）は、図５３（ａ）〜
（ｃ）に示したプリセットを実際に採用したアラームを
示す。

【０２６１】二つの工程タイマーは、工程の実行を監視
するために用いられ、新しい工程が開始したときにリセ
ットされる。例えば、図５５には、工程中に経過した時
間を記録しておく「工程中の時間（time in step）」タ
イマーが示してある。他方、図５６には、工程パラメー
タの要件が充足されている間、累積時間を記録しておく
「良好時間（time made good）」タイマーが示してあ
る。この「良好時間」タイマーは、プロセスの説明で定
義した工程の所要時間に合わせるための基準となる。

【０２６２】図５７には、先のシーケンシャル工程起動
（ＳＳＡ）あるいはランダム工程起動（ＲＳＡ）のいず
れかを選択できる工程制御スキームが示してある。

【０２６３】ＳＳＡを選択した場合は、工程Ｘは、工程
Ｘ−１が完了したときに作動する。この方法の場合は、
前の工程が完了したとき、二つの工程のうちただ一つだ
けが競合的に作動する。正常な工程（図５７参照）は、
前の工程がアボート条件なしに正常に完結したときに作
動する。アボート工程（図５８参照）は、現在の工程は
アボート条件の下に終了したときに作動する。

【０２６４】ＲＳＡを選択したときは、オペレータの選
択したコードが正しい場合に、工程Ｘが作動する。この
コードは、以下の方法の一つによって行われるシーケン
スの一つである。他の方法も使用できるが、上述の方法
が最も一般的である。 １．マニュアルシーケンス：オペレータが、現に進行中
の工程に対して、コードとセットポイントを入力する。 ２．テナードラム：予め構成したコードとセットポイン
トのシーケンスが、プロセスの工程の完了によって駆動
される。 ３．セットポイントプログラミング（ＳＰＰ）：時間と
プロセスによって駆動される数値コードと対応するセッ
トポイントのシーケンスを与えるハネウェル制御ソフト
ウエアシステムのプログラミングツールである。

【０２６５】図５７に示すように、プログラミングを簡
単にするため、ＲＳＡはプログラムするが、ＳＳＡは明
示的には定義していない。ＲＳＡが動作していない（フ
ォールス）とき、ＳＳＡがデフォルトにより作動する。

【０２６６】ず５７と５８に示した工程テンプレートに
従った工程の完結が企図されている。

【０２６７】プロセスの工程が目標とするセットポイン
トに一致するか、または工程時間が満了すると、工程は
正常に終了する。テンプレートは、「工程時間（STEP T
IME）」と「工程のセットポイント（STEP SETPOINT)」
の両方が満たされたときに歯止め（ラッチ）がかけられ
ることを示している。どちらの要件も、ある工程にとっ
て適当なときにはラッチを解除できるようにしなければ
ならない。ほとんどの工程においては、ただ一本の枝だ
けが使用される。プロセス工程の枝分れは、「バリデー
ト（評価）」フラッグがないときに行われ、プロセスの
セットポイントと値が十分に実効があることに留意され
たい。

【０２６８】他方、オペレータによって「バリデート
（VALIDATE）」フラッグが立てられたときは、正常な
「工程時間」と「工程のセットポイント」の分枝は作動
しなくなり、「バリデート時間（VALIDATE TIME)」と
「バリデートのセットポイント（VALIDATE SETPOINT)」
の分枝は作動する。工程は、正常な工程の完了のところ
で説明したように、実行され、また終了するが、バリデ
ート時間とセットポイントの値は有効である。

【０２６９】オペレータのコマンド（優先コマンド）が
発せられると同時に、一つの機械サイクルに対して、
「強制工程フラッグ（FORCE STEP FLAG)」が作動する。
このフラッグは、工程時間やプロセス条件にかかわりな
く、現に進行中の工程を終了させる。そして、続く工程
が正常に始まる。テンプレートは、「強制工程（FORCES
TEP）」が「真」のときは、工程は歯止めされないこと
を示している。歯止めが破られると、工程は終了する。
バリデートプロセスにおいては、ある工程を強制するの
は、プロセスの逸脱を意味し、そのプロセスにとって適
当な手順によって処理されなければならない。

【０２７０】オペレータがコマンドを発すると同時に、
あるいはプロセスの安全あるいは製品の完全性の要求に
応じて、「アボートフラッグ（ABORT FLAG）」が「真」
と設定される。図５７と５８における工程テンプレート
は、いかなる工程も、「アボート（ABORT)」が「真」の
場合は、作動中は歯止めされず、また作動していないと
きは停止させられることを示している。これは、予めプ
ログラムしたアボートシーケンスを開始させる。そして
現に進行している工程は、直ちに停止する。アボートプ
ロセスにおけるいかなる工程にとっても、システムが安
全条件に復帰するアボート氏ー消すの終わりにおいて
は、可能な次の工程はただ一つだけである。アボート工
程のテンプレートは、図５８に示してある。アボートフ
ラッグがアボートを開始させ、またＲＳＡフラッグを
「オフ」に変えることに留意されたい。アボートシーケ
ンスは、アボートすることができない特別のＳＳＡシー
ケンスである。

【０２７１】一セットのタイマーがすべてのステップに
働くことは分るであろう。ある工程が始まると、新しい
工程とタイマーのリスタートによって、タイマーのプリ
セットがリセットされる。

【０２７２】これまでに説明したシーケンスがオペレー
タによるマニュアル作動で開始されるものならば、本発
明によるプロセスは、そのようなシーケンスを自動的な
ものにできる。さらに、自動シーケンスの場合は、本発
明によるプロセスは、そのシーケンスあるいはプロセス
における何らかの個別の工程が所定の「フェイラ」を起
こした際は、アボートされることを可能にする。

【０２７３】本発明による殺菌装置が広範な閉鎖空間に
容易に取付け可能なものになることを企図しているなら
ば、本発明によるプロセスは、プロセスシーケンスのい
くらか標準化するものであることは理解されるであろ
う。換言すれば、本発明によるテンプレートプログラミ
ングソフトウエアは、広範な殺菌装置とプロセスに共通
と考えられる基本的なフレームワーク（枠組み）を与え
るものである。しかし、この枠組みは、手元の状況の必
要に応じて、修正したり構築したりできる。

【０２７４】例えば、まだ違反していない殺菌装置とプ
ロセス用のパラメータの範囲をオペレータがプリセット
する制御装置を与えることができる。この装置は、もし
侵された場合には、上述したアラームやアボートを発す
る。

【０２７５】また、非常に広範な殺菌装置とプロセスに
共通な範囲に入るであろうパラメータが存在することも
分るであろう。この場合、そのようなパラメータは、問
題の制御装置用に予めプログラムしておくことができ
る。

【０２７６】本発明の「自己評価」にかかる様相は、公
知の集成装置と比較すると、独特の利点を有する。特
に、公知の評価ソフトウエアは、多くが、殺菌あるいは
除菌を行うソフトウエアとは無縁のものが多い。しか
し、本発明の好ましい態様によれば、「自己評価」型の
集成装置は、評価を実行させるために、例えば図５７に
示すテンプレートが評価の実行を促すフラッグによって
のみ変更される点において、殺菌／除菌を行うまさに同
一の集成装置の一部を構成する。これは、例えば、オペ
レータが単にボタンを押したり、他の何らかの刺激を与
えるだけで達成される。

【０２７７】ここで説明したテンプレート集成装置は、
殺菌操作において、少なくとも二つの工程を、所定のあ
るいは予め定めることができるシーケンスに従って自動
的に行えるようにすることができる。本発明の好ましい
態様によれば、「予め定めることができる」シーケンス
とは、「アドホック（AD-HOC:特別）」シーケンスのこ
とと考えられる。

【０２７８】本明細書でシステムが「決定的な」という
ことは、システムが、自身を監視し、またシーケンス工
程を適切に実行しているかを決定できることを意味す
る。

【０２７９】〔フローに基づくガス送給アルゴリズム〕
次に、本発明の好ましい態様に従って用いられる、フロ
ー（流れ）に基づくガス送給アルゴリズムについて説明
する。このアルゴリズムは、図４１〜４６を参照すると
一番よく理解できる。

【０２８０】一般に、近くの雰囲気のセットポイントに
おける圧力を維持しながら活性なガス成分について所望
の濃度を得るために行う、フローに基づくガス送給と
は、次の事項の組み合わせである：・循環値に基づいて
ガスを添加すること；および・フィードバック制御に応
答してガスを添加すること。

【０２８１】このシステムは、図４６に示した圧力セン
サ１５６０および制御装置１５１０に加えて、図４３に
ある矢印で示したループからなる

【０２８２】フローに基づくガス送給が開始されると、
ガスバルブ２８２が開く。そして、活性ガスが、ガスジ
ェネレータ２７４から、バルブ２８２を通して入ってく
る。一方、バルブ３０６からは排気が行われる。最初の
ガス送給は、以下に定義する「Ｔ」時間だけ行われる： Ｔ＝（ＶＣ／ＦＲ）Ｋ ここで、Ｖ＝殺菌する容器の有効容積（立方フィート） Ｃ＝殺菌ガスの濃度（mg／l) Ｆ＝導入したガスのバルブ２８２における濃度（mg／l) Ｒ＝導入したガスのバルブ２８２における流量（ft³/mi
n) Ｔ＝送給時間（分） Ｋ＝チャンバ容積の修正％または非占有空間の％

【０２８３】最初の送給の後は、アイソレータや閉鎖空
間１３１０にある循環装置が、活性がガスを均一に放散
させるために作動する。濃度センサ１２１４からの制御
信号が、濃度が数量Ｃ未満であること知らせた場合は、
バルブ２７０と２８２が追加のガスを導入すべく開放す
る。

【０２８４】「ガス噴射」位相（図４１に示した）の間
は、バルブ３０６は過剰な圧力を外に逃がすように開放
することができる。同様に、圧力モニタ１５６０（ある
いは他の圧力監視装置）からの信号が、圧力がセットポ
イント（設定点）に達したかまたはこれを超えたと知ら
せた場合は、バルブ３０６が容器（アイソレータ１３１
０など）内の圧力を維持するために開かれる。そして、
数量Ｃの濃度が得られたときは、図４４に示す「暴露」
位相に移行する。

【０２８５】したがって、所定容積のガスを漏洩のない
容器に導入する方法が企図されているため、システム
は、活性なガスを容器に供給し、また圧力と濃度を位置
することが要求されるときにはガスを除去するのにバル
ブを使う。ＣＰＵ１５２０を含む制御装置１５１０は、
所定の指示シーケンスの実行を制御する。この方法は、
この方法は、内部圧力（すなわち、大気圧、真空あるい
は正圧）にかかわらず、あらゆる型のアイソレータに適
用することができる。

【０２８６】したがって、本発明によるフローに基づく
ガス送給によれば、圧力に基づく殺菌システムの問題点
が除去され、どのような閉鎖空間でもガスで殺菌するこ
とができる。小型の感圧微生物アイソレータは、損傷す
ることなく殺菌／除染される。そして、これは、大型の
工業用室や容器においても行うことができる。さらに、
どのような場合でも、殺菌する空間を排気したり、他の
操作を加えたりする必要がない。そして、公知の濃度の
殺菌ガスを公知の流量において一定時間流すと、送給さ
れる殺菌ガスが直接循環する。さらに、濃度は、センサ
（例えば図４６で符号１２１４で示したもの）によって
監視され、またコンピュータによってフィードバック制
御される。このため、圧力に基づくシステムに共通の間
接循環は行わなくてすむ。

【０２８７】本明細書では、特に断らない限り、すべて
の要素および／またはプロセスは、適当な場合、明細書
の他の箇所で述べた類似の要素および／またはプロセス
と相互に交換可能である。

【０２８８】本発明の装置および方法は、その適用に適
した形に構成される。これまでに述べた態様は、すべて
例示的なもので、限定的なものではないと考えられた
い。本発明の範囲は、上述の明細書本文の記載よりも、
特許請求の範囲によって定義される。そして特許請求の
範囲と等価のあらゆる変更は、本発明の範囲に包含され
る。

【０２８９】なお、本発明の具体的な実施態様は、以下
の通りである。 （１）前記放出手段によって放出された放射線の強度を
自動的にほぼ一定に設定する手段をさらに含む請求項１
に記載のシステム。 （２）前記放出手段によって放出された放射線の強度を
自動的に一定にするための手段は、前記放出手段を自動
的に補償する手段を含む実施態様（１）に記載のシステ
ム。 （３）１個の取り付け媒体をさらに含み、前記放出手
段、前記感知手段および前記修正フィ−ドバックを行う
ための手段の全てが前記１個の取り付け媒体に取り付け
られる請求項１に記載のシステム。 （４）前記１個の取り付け媒体は、除染ガスの流れる方
向を定めるためのガス流れ方向付け手段の片側に前記１
個の取り付け媒体を取り付けるために適合した手段を含
む実施態様（３）に記載のシステム。

【０２９０】（５）前記放出手段は、放射線を発生させ
るため発生源と、そのように発生した放射線を放出する
ためのエミッタとを含み、前記エミッタは、前記１個の
取り付け媒体を配置する側とほぼ径の反対側であるガス
流れ方向付け手段の側に前記エミッタを配置するために
適合した手段を含み、前記放出手段はさらに、放射線を
前記発生源から前記エミッタ−に向ける手段を含む実施
態様（４）に記載のシステム。 （６）前記放出手段はさらに、除染ガス流れ方向付け手
段の最大直径寸法とほぼ平行に放射線出力を伝送するた
めの手段を含み、前記最大直径寸法は前記除染ガス流れ
に対してほぼ直交方向に向いている請求項１に記載のシ
ステム。 （７）前記１個の取り付け媒体は回路板媒体を含み、前
記回路板媒体は前記放出手段、前記受け入れ手段、前記
感知手段および前記修正フィ−ドバックを行う手段との
間で電子的通信を行なう手段を有する実施態様（５）に
記載のシステム。 （８）前記放射線を前記発生源から前記エミッタ−に向
ける手段は、光ファイバーケーブルを含む実施態様
（５）に記載のシステム。

【０２９１】（９）前記分解手段は、前記受け入れ手段
で受け入れられた放射線の波長を、前記除染ガスの少な
くとも１種類の吸収スペクトルに相当するようにするた
めの少なくとも１つのフィルタ−を含む請求項１に記載
のシステム。 （１０）前記少なくとも１つのフィルタ−は、前記受け
入れ手段で受け入れられた放射線の波長を、選択的に前
記システムのガスの他の少なくとも一つの成分に相当す
るようにするために、選択的に取り外し可能であり、他
の少なくとも１つのフィルタ−と交換可能である実施態
様（９）に記載のシステム。 （１１）前記除染ガスは二酸化塩素ガスを含み、前記交
換可能なフィルタ−は、前記除染ガス中の二酸化塩素の
濃度測定と、前記システムのガス中の水分の濃度測定と
を選択的かつ交互に行うことができる実施態様（１０）
に記載のシステム。 （１２）前記放出手段は、放射線を発生させるため発生
源と、そのように発生した放射線を放出するためのエミ
ッタとを含み、前記エミッタは、前記１個の取り付け媒
体を配置する側とほぼ同一のガス流れ側に前記エミッタ
を配置するために適合した手段を含む実施態様（３）に
記載のシステム。

【０２９２】（１３）前記放出手段はさらに、ガス流れ
方向付け手段の最大直径寸法とほぼ平行に放射線出力を
伝送するための手段を含み、前記最大直径寸法は前記除
染ガス流れに対してほぼ直交方向に向いている実施態様
（１２）に記載のシステム。 （１４）前記１個の取り付け媒体は回路板媒体を含み、
前記回路板媒体は前記放出手段、前記受け入れ手段、前
記感知手段および前記修正フィ−ドバックを行う手段と
の間で電子的通信を行なう手段を有する実施態様（１
２）に記載のシステム。 （１５）前記測定手段はさらに、前記放射線出力を前記
放出手段から前記受け入れ手段へ反射する手段を含む実
施態様（１２）に記載のシステム。 （１６）前記分解手段は、前記受け入れ手段で受け入れ
られた放射線の波長を、前記ガスの少なくとも１種類の
吸収スペクトルに相当するようにするための少なくとも
１つのフィルタ−を含む実施態様（１２）に記載のシス
テム。

【０２９３】（１７）前記少なくとも１つのフィルタ−
は、前記受け入れ手段で受け入れられた放射線の波長
を、選択的に前記ガスの他の少なくとも１つの成分に相
当するようにするために、選択的に取り外し可能であ
り、他の少なくとも１つのフィルタ−と交換可能である
実施態様（１２）に記載のシステム。 （１８）前記除染ガスは二酸化塩素ガスを含み、前記交
換可能なフィルタ−は、前記除染ガス中の二酸化塩素の
濃度測定と、前記システムのガス中の水分の濃度測定と
を選択的かつ交互に行うことができる実施態様（１７）
に記載のシステム。 （１９）前記放出手段によって放出された放射線の強度
を自動的にほぼ一定に設定する手段をさらに含む請求項
２に記載の装置。 （２０）前記放出手段によって放出された放射線の強度
を自動的に一定にするための手段は、前記放出手段を自
動的に補償する手段を含む実施態様（１９）に記載の装
置。

【０２９４】（２１）１個の取り付け媒体をさらに含
み、前記放出手段、前記感知手段および前記修正フィ−
ドバックを行うための手段の全てが前記１個の取り付け
媒体に取り付けられる請求項２に記載の装置。 （２２）前記１個の取り付け媒体は、流体の流れる方向
を定めるための流体流れ方向付け手段の片側に前記１個
の取り付け媒体を取り付けるために適合した手段を含む
実施態様（２１）に記載の装置。 （２３）前記放出手段は、放射線を発生させるため発生
源と、そのように発生した放射線を放出するためのエミ
ッタとを含み、前記エミッタは、前記１個の取り付け媒
体を配置する側とほぼ径の反対側である流体流れ方向付
け手段の側に前記エミッタを配置するために適合した手
段を含み、前記放出手段はさらに、放射線を前記発生源
から前記エミッタ−に向ける手段を含む実施態様（２
２）に記載の装置。 （２４）前記放出手段はさらに、流体流れ方向付け手段
の最大直径寸法とほぼ平行に放射線出力を伝送するため
の手段を含み、前記最大直径寸法は前記流体流れに対し
てほぼ直交方向に向いている請求項２に記載の装置。

【０２９５】（２５）前記１個の取り付け媒体は回路板
媒体を含み、前記回路板媒体は前記放出手段、前記受け
入れ手段、前記感知手段および前記修正フィ−ドバック
を行う手段との間で電子的通信を行なう手段を有する実
施態様（２３）に記載の装置。 （２６）前記放射線を前記発生源から前記エミッタ−に
向ける手段は、光ファイバーケーブルを含む実施態様
（２３）に記載の装置。 （２７）前記分解手段は、前記受け入れ手段で受け入れ
られた放射線の波長を、前記流体の少なくとも１種類の
吸収スペクトルに相当するようにするための少なくとも
１つのフィルタ−を含む請求項２に記載の装置。 （２８）前記少なくとも１つのフィルタ−は、前記受け
入れ手段で受け入れられた放射線の波長を、選択的に前
記装置の流体の他の少なくとも一つの成分に相当するよ
うにするために、選択的に取り外し可能であり、他の少
なくとも１つのフィルタ−と交換可能である実施態様
（２７）に記載の装置。

【０２９６】（２９）前記流体は二酸化塩素ガスを含
み、前記交換可能なフィルタ−は、前記流体中の二酸化
塩素の濃度測定と、前記流体中の水分の濃度測定とを選
択的かつ交互に行うことができる実施態様（２８）に記
載の装置。 （３０）前記放出手段は、放射線を発生させるため発生
源と、そのように発生した放射線を放出するためのエミ
ッタとを含み、前記エミッタは、前記１個の取り付け媒
体を配置する側とほぼ同一の流体流れ側に前記エミッタ
を配置するために適合した手段を含む実施態様（２２）
に記載の装置。 （３１）前記放出手段はさらに、流体流れ方向付け手段
の最大直径寸法とほぼ平行に放射線出力を伝送するため
の手段を含み、前記最大直径寸法は前記流体流れに対し
てほぼ直交方向に向いている実施態様（３０）に記載の
装置。 （３２）前記１個の取り付け媒体は回路板媒体を含み、
前記回路板媒体は前記放出手段、前記受け入れ手段、前
記感知手段および前記修正フィ−ドバックを行う手段と
の間で電子的通信を行なう手段を有する実施態様（３
０）に記載の装置。

【０２９７】（３３）前記測定手段はさらに、前記放射
線出力を前記放出手段から前記受け入れ手段へ反射する
手段を含む実施態様（３０）に記載の装置。 （３４）前記分解手段は、前記受け入れ手段で受け入れ
られた放射線の波長を、前記流体の少なくとも１種類の
吸収スペクトルに相当するようにするための少なくとも
１つのフィルタ−を含む実施態様（３０）に記載の装
置。 （３５）前記少なくとも１つのフィルタ−は、前記受け
入れ手段で受け入れられた放射線の波長を、選択的に前
記ガスの他の少なくとも１つの成分に相当するようにす
るために、選択的に取り外し可能であり、他の少なくと
も１つのフィルタ−と交換可能である実施態様（３４）
に記載の装置。 （３６）前記流体は二酸化塩素ガスを含み、前記交換可
能なフィルタ−は、前記流体中の二酸化塩素の濃度測定
と、前記流体中の水分の濃度測定とを選択的かつ交互に
行うことができる実施態様（３５）に記載の装置。

【０２９８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
微生物アイソレータの内部空間のような閉鎖空間を殺菌
および／または除染する殺菌ガスを発生、注入、抜き出
し、そして回収するための装置および方法、ならびにこ
れらの装置および方法に関連する要素が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の殺菌装置とこの装置にインタフェースで
接する閉鎖空間の模式配置図である。

【図２】図１とほぼ同じであるが、殺菌装置と閉鎖空間
の間の接続を示す配置配置図である。

【図３】従来の隔離器とその関連要素を示す模式配置図
である。

【図４】ガス殺菌が可能なように変更した仕様の隔離器
を示す模式配置図である。

【図５】本発明の各態様で採用される代替的な隔離集成
装置を示す図である。

【図６】本発明の各態様で採用するガス発生・回収シス
テムを模式的に示した斜視図である。

【図７】モジュール型の互換性、選択統合式セクション
の概念を示す模式図である。

【図８】図６とほぼ同じであるが、さらに三つのセクシ
ョンを加えたシステムを模式的に示した斜視図である。

【図９】図８とほぼ同じであるが、圧力と湿度の感知に
ついて異なる集成装置を模式的に示した斜視図である。

【図１０】本発明で採用するガス回収システムを示す模
式図である。

【図１１】図１０の態様に基づく他のガス回収システム
を示す模式図である。

【図１２】本発明の好ましい態様に基づく他のガス回収
システムを示す模式図である。

【図１３】本発明に係るガス回収システム内に設けられ
る充填カラムの拡大図である。

【図１４】他のガス測定システムを示す軸方向断面図で
ある。

【図１５】さらに他のガス測定システムを示す軸方向断
面図である。

【図１６】本発明の一形態に係るバルブ本体の一般的な
構成を示す斜視図である。

【図１７】図１６のバルブ本体とともに用いられる被駆
動要素を示す模式図である。

【図１８】本発明の一形態に係るバルブ一式の側面図で
ある。

【図１９】図１８に示したコイルの違う方向から見た図
である。

【図２０】図１８のバルブが開位置にあるときの平面図
である。

【図２１】図１８のバルブが開位置にあるときの側面図
である。

【図２２】図１８のバルブが閉位置にあるときの平面図
である。

【図２３】図１８のバルブが閉位置にあるときの側面図
である。

【図２４】空気圧式に変形した構成を有するバルブ本体
を示す図である。

【図２５】図２４に示したバルブ本体とともに用いられ
る被駆動要素を示す図である。

【図２６】図２４と図２５に示した本発明の変形例に係
るバルブ一式の側面図である。

【図２７】図２６のバルブが開位置にあるときの平面図
である。

【図２８】図２６のバルブが開位置にあるときの側面図
である。

【図２９】図２６のバルブが閉位置にあるときの平面図
である。

【図３０】図２６のバルブが閉位置にあるときの側面図
である。

【図３１】バルブハウジングが円筒形の変形例を示す図
である。

【図３２】図３１に示したバルブが閉位置にある状態を
示す図である。

【図３３】図３１に示したバルブが開位置にある状態を
示す図である。

【図３４】単シャトルバルブ装置の第一の状態を示す図
である。

【図３５】図３４の単シャトルバルブ装置の第二の状態
を示す図である。

【図３６】図３４と図３５に示したシャトルバルブ装置
に用いるシャトルの斜視図である。

【図３７】バルブ−ブロア集成装置の「収縮」配置を示
す図である。

【図３８】図３７のバルブ−ブロア集成装置の「循環」
配置を示す図である。

【図３９】図３７と図３４に示したバルブ−ブロア集成
装置を採用することが可能な操作環境の模式図である。

【図４０】図３９の操作環境を他の方向から見た図であ
る。

【図４１】本発明の各態様で用いる殺菌／除染装置を示
す図である。

【図４２】図４１に示したシステムの操作が「循環」モ
ードにあるときのシステム模式図である。

【図４３】図４１に示したシステムの操作が「ガス噴
射」モードにあるときのシステム模式図である。

【図４４】図４１に示したシステムの操作が「暴露」モ
ードにあるときのシステム模式図である。

【図４５】図４１に示したシステムの操作が「空気噴
出」モードにあるときのシステム模式図である。

【図４６】図４１とほぼ同じであるが、さらに制御集成
装置を示す図である。

【図４７】本発明の少なくとも一つの態様に係るモジュ
ール型、互換性で選択統合式セクションの概念を模式的
に示した図である。

【図４８】図４７の原理に則った部品の集成を示す図で
ある。

【図４９】本発明に係る部品集成装置の考えられる外観
を示す図である。

【図５０】図４９に示した集成装置の他の方向からみた
外観図である。

【図５１】モジュール型、互換性で選択統合式セクショ
ンのもう一つの概念を模式的に示した図である。

【図５２】ラダー（はしご）ロジックによる「機能」プ
ラグラミングのテンプレート（型板）を示す図である。

【図５３】図５３（ａ）〜（ｃ）はラダーロジックにお
ける種々の「ステップ時間」のプリセットを示す図であ
る。

【図５４】図５４（ａ）〜（ｃ）は、ラダーロジックに
おいて図５３（ａ）〜（ｃ）に示したプリセットを採用
したアラームを示す図である。

【図５５】ラダーロジックにおいて「ステップ時間式」
タイマーを示す図である。

【図５６】ラダーロジックにおいて「時間良好」タイマ
ーを示す図である。

【図５７】ラダーロジックにおけるステップ制御スキー
ムである。

【図５８】ラダーロジックにおける「失敗ステップ」制
御スキームである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ダイアン・エル・バッティスティ アメリカ合衆国、08852 ニュージャージ ィ州、モンマウス・ジャンクション、キン グスランド・サークル 64、プリンスト ン・ゲート（番地なし) (72)発明者 ミカエル・ジェイ・ブオノ アメリカ合衆国、08742 ニュージャージ ィ州、ポイント・プリザント、ハーバー・ ドライブ 2321

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 対象の少なくとも一部を除染するための
   システムであって、前記システムは、 除染ガスを発生させるための手段と、 前記除染ガスを前記対象に注入するための手段と、 前記除染ガスを循環させるための手段と、 前記除染ガスを抜き取るための手段と、 前記除染ガスの所定成分の濃度を測定するためのガス濃
   度測定手段とを含み、前記ガス濃度測定手段は、 所定強度の放射線を、前記除染ガスの流れを通過するよ
   うに放出する手段と、 前記放出された放射線を前記除染ガスの少なくとも１種
   類の選択された成分の吸収スペクトルに相当する波長に
   分解する手段と、 前記除染ガスの所定成分の濃度を測定するために、前記
   放出された放射線の少なくとも一部を受け入れ、前記除
   染ガスの流れによって吸収されなかった前記放射線の少
   なくとも一部を測定する手段と、 前記放出手段によって放出された前記放射線の強度を感
   知する手段と、 前記感知手段に応答して、前記放出手段に修正フィ−ド
   バックを行う手段を具備する除染システム。
2. 【請求項２】 流体の少なくとも１種類の成分の濃度を
   測定するための装置であって、前記装置は、 放射線を流体に所定強度で放出するための手段と、 前記放出された放射線を、前記流体の少なくとも１種類
   の選択された成分の吸収スペクトルに相当する波長に分
   解するための手段と、 前記流体の所定成分の濃度を測定するために、前記放出
   された放射線の少なくとも一部を受け入れ、前記流体に
   よって吸収されなかった前記放射線の少なくとも一部を
   測定する手段と、 前記放出手段によって放出された前記放射線の強度を感
   知するための手段と、 前記感知手段に応答して、前記放出手段に修正フィ−ド
   バックを行う手段を具備する流体濃度測定装置。