JPH1025598A - Plating device - Google Patents

Plating device

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JPH1025598A
JPH1025598A JP19983996A JP19983996A JPH1025598A JP H1025598 A JPH1025598 A JP H1025598A JP 19983996 A JP19983996 A JP 19983996A JP 19983996 A JP19983996 A JP 19983996A JP H1025598 A JPH1025598 A JP H1025598A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
section
work
plating
unloading
loading
Prior art date
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Pending
Application number
JP19983996A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sumiyasu Yamakawa
純逸 山川
Akihisa Hongo
明久 本郷
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Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Corp filed Critical Ebara Corp
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Publication of JPH1025598A publication Critical patent/JPH1025598A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plating device with which the constitution of the compact device and the consequent reduction of an equipment cost are possible by bringing an unloading section and a loading section in proximity to each other and surely managing unloading and loading work with a smaller number of persons. SOLUTION: This plating device has the loading section 1, a treating section 3 which includes a plating cell, the unloading section 2 and a work transporting means 4 which hangs works between these sections and transports the works. This work transporting means has jigs traveling along the loading section, the treating section and the unloading section. These jigs has holding sections which freely attachably and detachably hold works and an electrode section which is freely attachable and detachable to and from the works.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、半導体
リードフレームの外装部にはんだめっきを行うためのめ
っき装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plating apparatus for performing, for example, solder plating on an exterior part of a semiconductor lead frame.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体リードフレームの外装部にはんだ
めっきを施す場合、図4に示すように、脱脂洗浄槽、エ
ッチング槽、めっき槽、中和処理槽、乾燥炉などの処理
部20を搬送路に沿って配置しておき、リードフレーム
をこれらの装置に順次移動させてこれらの処理を連続的
に行うようにしている。搬送は、例えば、めっき槽上に
ワイヤやチェーンのコンベアを走行させ、これに電極を
兼ねた吊持治具を取り付けてリードフレームを吊持し、
槽間の移動は治具を上下動させて行う。めっき工程にお
いて電極にもめっきがされるので、同図に示すようにア
ンロード部21とロード部22との間に剥離(電解)槽
23を配置している。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 4, when a solder plating is applied to an exterior portion of a semiconductor lead frame, a processing section 20 such as a degreasing cleaning tank, an etching tank, a plating tank, a neutralization processing tank, a drying furnace, etc. And the lead frame is sequentially moved to these devices so that these processes are continuously performed. For transport, for example, run a wire or chain conveyor on the plating tank, attach a hanging jig that also serves as an electrode to suspend the lead frame,
The movement between the tanks is performed by moving the jig up and down. Since the electrodes are also plated in the plating step, a peeling (electrolysis) tank 23 is disposed between the unloading section 21 and the loading section 22 as shown in FIG.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】前記のような従来の技
術においては、上述したようにアンロード部21とロー
ド部22の間に剥離工程が入るので、アンロード部とロ
ード部が図に示すように離れざるを得ない。その結果、
アンロード部とロード部を管理する作業者が2人必要に
なる。また、剥離工程の前後でリードフレームを槽から
出し入れするので、そのために装置構成が複雑になり、
設置スペースも広くなるなどの不都合があった。
In the prior art as described above, since the peeling process is performed between the unloading section 21 and the loading section 22 as described above, the unloading section and the loading section are shown in the drawing. I have to leave. as a result,
Two workers are required to manage the unload section and the load section. In addition, since the lead frame is taken in and out of the tank before and after the peeling process, the device configuration becomes complicated,
There were inconveniences, such as a large installation space.

【0004】この発明は、アンロード部とロード部を近
接させて、アンロードとロード作業を少ない人数で確実
に管理することができるとともに、装置をコンパクトな
ものとして設備コストを低下することができるめっき装
置を提供することを目的とするものである。
According to the present invention, the unloading section and the loading section are brought close to each other, so that unloading and loading operations can be reliably managed by a small number of people, and the equipment cost can be reduced by making the apparatus compact. It is an object to provide a plating apparatus.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、ロード部、めっき槽を含む処理部、アンロード部及
びこれら各部の間でワークを吊持して搬送するワーク搬
送手段を備え、前記ワーク搬送手段は前記ロード部、処
理部、アンロード部に沿って走行する治具を備え、該治
具は、前記ワークを着脱自在に保持する保持部と、前記
ワークに接離自在な電極部とを有することを特徴とする
めっき装置である。これにより、ワークは保持部によっ
て保持されるので、ワークと電極部を切り離し、電極部
に通電して電解を行なうことにより、電極部に付着した
めっきの剥離工程を行なうことができる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a load section, a processing section including a plating tank, an unload section, and a work transfer means for suspending and transferring a work between these sections. The work transfer means includes a jig that travels along the loading section, the processing section, and the unloading section, and the jig includes a holding section that detachably holds the work, A plating apparatus comprising: an electrode unit. As a result, the work is held by the holding portion, and thus the work and the electrode portion are separated, and a current is applied to the electrode portion to perform electrolysis, thereby performing a step of removing plating adhered to the electrode portion.

【0006】請求項2に記載の発明は、ロード部、めっ
き槽を含む処理部、アンロード部及びこれら各部の間で
ワークを吊持して搬送するワーク搬送手段を備え、前記
アンロード部と前記ロード部が隣接して配置され、ロー
ド部の下流側に電極のめっきを剥離する剥離槽が配置さ
れていることを特徴とするめっき装置である。これによ
りロード部及びアンロード部を近接配置してロード、ア
ンロード作業をまとめて行えるので、作業やその管理を
少ない人数で行なうことができる。また、ワークの着脱
作業が減るので、これによっても作業の軽減と装置のコ
ンパクト化を図ることができる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a load section, a processing section including a plating tank, an unload section, and a work transfer means for suspending and transferring a work between these sections. The plating apparatus is characterized in that the load section is arranged adjacent to the load section, and a stripping tank for stripping the plating of the electrode is arranged downstream of the load section. Thus, the loading and unloading operations can be performed collectively by disposing the loading unit and the unloading unit close to each other. Further, since the work of attaching and detaching the work is reduced, the work can be reduced and the apparatus can be made more compact.

【0007】請求項3に記載の発明は、前記ワーク搬送
手段が、ほぼ平板状の前記ワークの面を進行方向に向け
て保持することを特徴とする請求項1又は2に記載のめ
っき装置であるので、床面積を活用した効率の良いめっ
き装置を提供することができる。
According to a third aspect of the present invention, in the plating apparatus according to the first or second aspect, the work transfer means holds the surface of the substantially flat work in a traveling direction. As a result, an efficient plating apparatus utilizing the floor area can be provided.

【0008】請求項4に記載の発明は、前記ワーク搬送
手段は、前記治具の保持部及び/又は電極部を機械的に
制御するカム機構を有することを特徴とする請求項1又
は2に記載のめっき装置であるので、簡単な機構により
確実な制御動作を行なうことができる。
According to a fourth aspect of the present invention, the work transfer means has a cam mechanism for mechanically controlling a holding portion and / or an electrode portion of the jig. Since the plating apparatus is described, a reliable control operation can be performed by a simple mechanism.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、図1及び図2を参照して、
この発明のめっき装置の1つの実施の形態を説明する。
この装置は、全体がU字状をなす2列の処理ラインに沿
って配置されており、その開放端側にロード部1とアン
ロード部2が配置され、これらの間にめっき槽を含む処
理部3が配置された構成となっている。この装置の上側
には、リードフレームなどのワークを保持して処理部3
に順次移送する搬送装置4が設けられている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIGS. 1 and 2,
One embodiment of the plating apparatus of the present invention will be described.
This apparatus is arranged along two rows of processing lines having a U-shape as a whole. A loading section 1 and an unloading section 2 are arranged on the open end side thereof, and a processing tank including a plating tank therebetween. The configuration is such that the unit 3 is arranged. A work such as a lead frame is held on the upper side of
Is provided with a transport device 4 for sequentially transporting the paper.

【0010】搬送装置4は、処理ラインに沿って配置さ
れた案内レールによって処理ラインに沿って走行可能に
支持された無端状のチェーン(巡回走行部)5を有して
いる。処理ラインの両側端部には水平面内で回転駆動さ
れるスプロケットホイール6が設置され、チェーン5は
これに巻掛けられている。スプロケットホイール6の駆
動装置(図示略)には、この例ではチェーンを一定の時
間ピッチで間欠的に移動するための割り出し機構が設け
られている。このチェーン5には、所定の等間隔で図に
示すようなワーク保持用の治具7が取り付けられてい
る。
The transport device 4 has an endless chain (circular traveling portion) 5 supported by guide rails arranged along the processing line so as to run along the processing line. At both ends of the processing line, sprocket wheels 6 that are driven to rotate in a horizontal plane are installed, and a chain 5 is wound around the sprocket wheels 6. The drive device (not shown) of the sprocket wheel 6 is provided with an indexing mechanism for intermittently moving the chain at a constant time pitch in this example. A work holding jig 7 as shown in the figure is attached to the chain 5 at predetermined regular intervals.

【0011】この治具7は、図2及び図3に示すよう
に、チェーン5に取り付けられた固定板8と、この固定
板8より垂下して設けられた1本のフック9と2対のア
ーム10,11とを備えている。フック9には、ワーク
Wの下端を支持する屈曲部12が形成されて構成されて
いる。また、2対のアーム10,11はそれぞればね部
材により内向きに付勢されているとともに、それぞれリ
ンク機構が設けられて開閉自在になっている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the jig 7 has a pair of a fixed plate 8 attached to the chain 5 and one hook 9 provided to be suspended from the fixed plate 8. Arms 10 and 11 are provided. The hook 9 is formed with a bent portion 12 that supports the lower end of the work W. The two pairs of arms 10 and 11 are urged inward by spring members, respectively, and are provided with link mechanisms so as to be freely opened and closed.

【0012】すなわち、上側の保持アーム10はワーク
Wを機械的に保持するためのもので、コイルばね13に
より付勢され、一方、下側の電極アーム11はワークに
通電するための電極であり、コイルばね15により付勢
され、開閉バー14にリンクしている。案内レールに沿
って配置された給電レールに摺動している。いずれのリ
ンク機構も、案内レールに沿って配置されたカムフォロ
ワによって制御され、所定の位置においてアーム10,
11が開閉するようになっている。また、電極アーム1
1への給電も同様な方法で制御されている。さらに、処
理部3の処理槽間の壁を乗り越えるために、ワークWを
治具7ごと一体に側方に傾斜させるカム機構が設けられ
ている。
That is, the upper holding arm 10 is for mechanically holding the work W and is urged by the coil spring 13, while the lower electrode arm 11 is an electrode for supplying electricity to the work. , Which are urged by a coil spring 15 and are linked to the open / close bar 14. It slides on a power supply rail arranged along the guide rail. Each of the link mechanisms is controlled by a cam follower arranged along a guide rail, and at a predetermined position, the arm 10,
11 is designed to open and close. Also, the electrode arm 1
1 is controlled in a similar manner. Further, a cam mechanism for inclining the workpiece W together with the jig 7 to the side in order to get over the wall between the processing tanks of the processing section 3 is provided.

【0013】処理部3には、ロード部1のすぐ後ろ(ワ
ークの流れに関して下流側)に、電極に付着しためっき
を除去する剥離槽16が配置され、その後に、めっきプ
ロセスを行なう複数の処理槽が順次配置されている。こ
のような処理槽としては、めっきすべき表面を清浄化す
るための前工程である水洗浄、脱脂、エッチング工程、
そして、めっき工程、後洗浄、乾燥などの工程が必要に
応じて適宜配される。ロード部1及びアンロード部2に
は、ワークを収容する容器が置かれ、これらと搬送装置
4との間でワークを授受するためのステージが設けられ
ている。
In the processing section 3, immediately after the load section 1 (downstream with respect to the flow of the work), there is disposed a peeling tank 16 for removing plating adhered to the electrodes. The tanks are arranged sequentially. As such a treatment tank, a water washing, degreasing, etching step, which is a previous step for cleaning the surface to be plated,
Then, steps such as a plating step, post-washing, and drying are appropriately arranged as necessary. In the loading unit 1 and the unloading unit 2, containers for accommodating the work are placed, and a stage for exchanging the work between the container and the transfer device 4 is provided.

【0014】次に、前記のように構成されためっき装置
の作用を説明する。チェーン5に取り付けられた治具7
は駆動装置によって間欠的に巡回走行する。ワークであ
る半導体のリードフレームは、ロード部1において、治
具7に取り付けられる。すなわち、ワークWはその面を
進行方向に向け、長手方向を上下に向けた状態で、下端
を屈曲部12に、側部を保持アーム10に、背面をフッ
ク9によりそれぞれ接して保持される。このように保持
することにより、狭い床面積で多くのワークWを処理す
ることができる。
Next, the operation of the plating apparatus configured as described above will be described. Jig 7 attached to chain 5
Is driven intermittently by the driving device. A semiconductor lead frame, which is a work, is attached to a jig 7 in the load section 1. That is, the work W is held with its lower end in contact with the bent portion 12, its side portion in contact with the holding arm 10, and its back surface in contact with the hook 9, with its surface oriented in the traveling direction and its longitudinal direction oriented up and down. By holding in this manner, many works W can be processed with a small floor area.

【0015】次に、ワークWは剥離槽16に移動して浸
漬させられる。ここでは、電極アーム10は閉じておら
ず、ワークWに接触していない。ここでは、めっき工程
と逆の電位が印加されて、電解工程が行われる。これに
より、めっき過程において電極アーム10に付着しため
っき金属が液中に溶解して除かれる。
Next, the work W is moved to the peeling tank 16 and immersed therein. Here, the electrode arm 10 is not closed and does not contact the work W. Here, an electrolysis step is performed by applying a potential opposite to that of the plating step. Thereby, the plating metal attached to the electrode arm 10 in the plating process is dissolved in the solution and removed.

【0016】所定の時間の剥離処理をした後、ワークW
は下流側に移動し、そこで、水洗浄、脱脂、エッチング
等の前処理工程が順次行われる。さらに、ワークWはめ
っき槽に移動し、ここでは電極アーム11が閉じてワー
クWと接触し、通電されてめっき処理が行われる。ワー
クWはさらに別の処理部3に移動し、後洗浄、乾燥など
の工程が行われた後、さらにアンロード部2に移動す
る。アンロード部2においては、電極アーム11及び保
持アーム10を開放してワークWを取り外して容器に収
容する。空になった治具7はロード部1に移動して、こ
こで新たなワークWを保持し、剥離槽16に移動し、さ
らに前記の工程を繰り返す。
After the peeling process for a predetermined time, the work W
Moves to the downstream side, where pretreatment steps such as water washing, degreasing, and etching are sequentially performed. Further, the work W moves to the plating tank, where the electrode arm 11 closes and comes into contact with the work W, and is energized to perform the plating process. The workpiece W is further moved to another processing unit 3, and after performing processes such as post-washing and drying, the workpiece W is further moved to the unloading unit 2. In the unloading section 2, the electrode arm 11 and the holding arm 10 are opened, and the work W is removed and stored in the container. The emptied jig 7 moves to the loading section 1, where it holds a new work W, moves to the peeling tank 16, and repeats the above steps.

【0017】このように、この装置においては、ワーク
Wを吊持する治具7に、ワークWの荷重を負荷する保持
アーム10と通電用の電極11とを個別に設けたので、
ワークWを保持した状態で剥離工程を行なうことができ
る。従って、ワークをロードした後で剥離工程を行うこ
とができるので、アンロード部2とロード部1を隣接さ
せることができ、作業者がロード、アンロード作業やそ
の管理をまとめて行なうことができる。さらに、剥離工
程とめっきあるいはその前処理工程を続けることができ
るので、治具7へのワークWの着脱作業を省くことがで
き、全体の装置のコンパクト化を図ることができる。
As described above, in this apparatus, the holding arm 10 for applying the load of the work W and the electrode 11 for energization are separately provided on the jig 7 for suspending the work W.
The peeling step can be performed while holding the work W. Therefore, since the peeling process can be performed after loading the work, the unloading section 2 and the loading section 1 can be adjacent to each other, and the operator can perform the loading and unloading operations and the management thereof collectively. . Furthermore, since the peeling step and the plating or the pretreatment step can be continued, the work of attaching and detaching the work W to and from the jig 7 can be omitted, and the overall apparatus can be made compact.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ワークを保持部によって保持した状態で電極部に付
着しためっき金属の剥離工程を行なうことができる。従
って、ロードした後に電極の剥離工程を行なうことがで
き、アンロード部とロード部を近接して配置させること
ができる。従って、アンロードとロード作業を少ない人
数で確実に管理することができるとともに、全体の装置
をコンパクトなものとして設備コストを低下することが
できる。
As described above, according to the present invention, it is possible to perform the step of removing the plating metal adhered to the electrode portion while holding the work by the holding portion. Therefore, an electrode peeling step can be performed after loading, and the unloading section and the loading section can be arranged close to each other. Therefore, unloading and loading operations can be reliably managed by a small number of people, and the entire apparatus can be made compact to reduce equipment costs.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一つの実施例のめっき装置の全体の
構成を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing the overall configuration of a plating apparatus according to one embodiment of the present invention.

【図2】図1のめっき装置の要部である治具の(a)平
面図、(b)正面図である。
2A is a plan view and FIG. 2B is a front view of a jig as a main part of the plating apparatus of FIG.

【図3】図1のめっき装置の要部である治具の(a)側
面図、(b)背面図である。
3A is a side view and FIG. 3B is a rear view of a jig which is a main part of the plating apparatus of FIG.

【図4】従来のめっき装置の全体の構成を示す平面図で
ある。
FIG. 4 is a plan view showing the overall configuration of a conventional plating apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ロード部 2 アンロード部 3 処理部 4 ワーク搬送手段 7 治具 10 保持部 11 電極部 W ワーク DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Load part 2 Unload part 3 Processing part 4 Work conveyance means 7 Jig 10 Holding part 11 Electrode part W Work

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ロード部、めっき槽を含む処理部、アン
ロード部及びこれら各部の間でワークを吊持して搬送す
るワーク搬送手段を備え、 前記ワーク搬送手段は前記ロード部、処理部、アンロー
ド部に沿って走行する治具を備え、該治具は、前記ワー
クを着脱自在に保持する保持部と、前記ワークに接離自
在な電極部とを有することを特徴とするめっき装置。
1. A load section, a processing section including a plating tank, an unload section, and a work transfer section for suspending and transferring a work between these sections, wherein the work transfer section includes the load section, the processing section, A plating apparatus, comprising: a jig running along an unloading section, the jig having a holding section for detachably holding the work, and an electrode section capable of coming into contact with and separating from the work.
【請求項2】 ロード部、めっき槽を含む処理部、アン
ロード部及びこれら各部の間でワークを吊持して搬送す
るワーク搬送手段を備え、 前記アンロード部と前記ロード部が隣接して配置され、
ロード部の下流側に電極のめっきを剥離する剥離槽が配
置されていることを特徴とするめっき装置。
2. A load section, a processing section including a plating tank, an unload section, and a work transporting means for suspending and transporting a workpiece between these sections, wherein the unload section and the load section are adjacent to each other. Placed,
A plating apparatus, characterized in that a stripping tank for stripping plating of an electrode is disposed downstream of the load section.
【請求項3】 前記ワーク搬送手段は、ほぼ平板状の前
記ワークの面を進行方向に向けて保持することを特徴と
する請求項1又は2に記載のめっき装置。
3. The plating apparatus according to claim 1, wherein the work transport means holds the surface of the substantially flat work in a traveling direction.
【請求項4】 前記ワーク搬送手段は、前記治具の保持
部及び/又は電極部を機械的に制御するカム機構を有す
ることを特徴とする請求項1又は2に記載のめっき装
置。
4. The plating apparatus according to claim 1, wherein said work transport means has a cam mechanism for mechanically controlling a holding portion and / or an electrode portion of said jig.
JP19983996A 1996-07-10 1996-07-10 Plating device Pending JPH1025598A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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