JP2948748B2 - Lead frame transfer device - Google Patents

Lead frame transfer device

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JP2948748B2 JP24861695A JP24861695A JP2948748B2 JP 2948748 B2 JP2948748 B2 JP 2948748B2 JP 24861695 A JP24861695 A JP 24861695A JP 24861695 A JP24861695 A JP 24861695A JP 2948748 B2 JP2948748 B2 JP 2948748B2
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明久 本郷
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、半導体
リードフレームの外装部にはんだめっきを行うめっき装
置に用いるリードフレームの搬送装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to, for example, a lead frame transport device used in a plating apparatus for performing solder plating on an exterior part of a semiconductor lead frame.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体リードフレームの外装部にはんだ
めっきを施す場合、洗浄槽、エッチング槽、めっき槽、
中和処理槽、乾燥炉などを搬送路に沿って配置してお
き、リードフレームをこれらの装置に順次移動させてこ
れらの処理を連続的に行うようにしている。リードフレ
ームを搬送する装置としては、図8に示すようなものが
ある。図8(a)及び(b)は、めっき槽上にワイヤ又
は金属製ベルトを走行させ、これにリードフレームを吊
持しながら搬送するものであり、同図(c)及び(d)
は、めっき槽の液面下に複数のローラを配置して、これ
により搬送を行なうものである。
2. Description of the Related Art When a solder plating is applied to an exterior part of a semiconductor lead frame, a cleaning tank, an etching tank, a plating tank,
A neutralization tank, a drying furnace, and the like are arranged along the transport path, and the lead frame is sequentially moved to these devices to perform these processes continuously. As an apparatus for transporting a lead frame, there is an apparatus as shown in FIG. FIGS. 8 (a) and 8 (b) show a case where a wire or a metal belt is run on a plating tank and a lead frame is conveyed while being suspended therefrom. FIGS. 8 (c) and 8 (d)
Is a method in which a plurality of rollers are arranged below the liquid level in a plating tank, and the rollers are conveyed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような方法においては、それぞれ次のような解決すべき
課題があった。すなわち、図8(a)及び(b)の場合
は、リードフレームをワイヤに取り付ける作業が煩雑で
あること、ワイヤから吊り下げるので全長が大きくな
り、設備コストが高くなること、そして、槽壁を越える
際の上下幅も大きくなり、搬送ラインが上下するのでま
た、リードフレームを途中で落下させたり、引っ掛けた
りしやすいなどの欠点がある。
However, each of the above methods has the following problems to be solved. In other words, in the case of FIGS. 8A and 8B, the work of attaching the lead frame to the wire is complicated, the entire length is increased because the lead frame is hung from the wire, and the equipment cost is increased. There is also a drawback that the lead frame becomes large, and the transport line goes up and down, and the lead frame is easily dropped or caught on the way.

【0004】また、図8の(c)及び(d)の場合、駆
動されるローラをめっき槽の中に設置するので、槽の構
造が複雑になり、また、槽間の移動には別の手段を用い
なければならない。また、ローラ間の移動が比較的不安
定であり、めっきの効率を上げるべくリードフレームの
短辺を進行方向に向けて搬送する場合、ローラのピッチ
を狭くしても落下を完全に防止することはできない。さ
らに、電極との電気的コンタクトを確実に行なうのが難
しいという問題もある。
In the case of FIGS. 8 (c) and 8 (d), since the driven roller is installed in the plating tank, the structure of the tank becomes complicated, and the movement between the tanks is different. Means must be used. In addition, when the transport between rollers is relatively unstable, and when the short side of the lead frame is transported in the direction of travel in order to increase plating efficiency, dropping should be completely prevented even if the roller pitch is narrowed. Can not. Further, there is a problem that it is difficult to make an electrical contact with the electrode reliably.

【0005】本発明は、比較的簡単な構造で、リードフ
レームを槽内で安定に支持して搬送し、リードフレーム
を並列に配置して効率良くめっきすることができ、か
つ、電極とのコンタクトが確実でめっき処理の高速化に
対応でき、さらに、複数の槽を通して同じ搬送装置で搬
送が行えるような半導体リードフレームの搬送装置を提
供することを目的とする。
According to the present invention, a lead frame can be stably supported and transported in a tank with a relatively simple structure, the lead frames can be arranged in parallel and plated efficiently, and a contact with an electrode can be made. It is an object of the present invention to provide a semiconductor lead frame transfer device that can reliably perform plating processing at high speed and can transfer the same through a plurality of tanks using the same transfer device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、処理槽中を水平方向に走行するチェーンと、このチ
ェーンに取り付けられ、リードフレームを水平状態で収
容する複数のトレーとが設けられ、このトレーは少なく
ともその一部が流体の流通を可能とするように形成さ
れ、側部に囲いが設けられていることを特徴とするリー
ドフレームの搬送装置である。この発明においては、リ
ードフレームはトレー内に収容され、槽内で姿勢を一定
にして安定に支持されながら搬送される。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a chain which travels in a processing tank in a horizontal direction, and a plurality of trays attached to the chain and for accommodating a lead frame in a horizontal state. The tray is a lead frame transfer device characterized in that at least a part of the tray is formed so as to allow a fluid to flow therethrough, and a side wall is provided. According to the present invention, the lead frame is accommodated in the tray, and is transported while being stably supported in the tank with a constant posture.

【0007】請求項2に記載の発明は、上記チェーン
が、上記処理槽の槽壁に形成された開口部を挿通して走
行するようなっていることを特徴とする請求項1に記載
のリードフレームの搬送装置である。この発明によれ
ば、搬送装置が全体として高さを低く維持することがで
き、設備コストを軽減できる。請求項3に記載の発明
は、上記トレーの底部に、電極棒が通過可能な隙間が形
成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の
リードフレームの搬送装置であり、簡単な構造で電極と
のコンタクトが確実に行えるので、めっき処理の高速化
に対応できる。請求項4に記載の発明は、上記トレーの
短辺が進行方向と平行であることを特徴とする請求項1
ないし3のいずれかに記載のリードフレームの搬送装置
である。請求項5に記載の発明は、上記処理槽に、上記
トレー上方を落下防止部材が設けられていることを特徴
とする請求項1ないし4のいずれかに記載のリードフレ
ームの搬送装置である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the lead according to the first aspect, wherein the chain runs by passing through an opening formed in a tank wall of the processing tank. This is a frame transport device. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a conveyance apparatus can maintain height low as a whole, and can reduce equipment cost. According to a third aspect of the present invention, there is provided the lead frame transfer device according to the first or second aspect, wherein a gap through which the electrode rod can pass is formed at the bottom of the tray. The structure allows reliable contact with the electrodes, so that the plating process can be speeded up. According to a fourth aspect of the present invention, the short side of the tray is parallel to the traveling direction.
4. The lead frame transport device according to any one of claims 1 to 3. The invention according to claim 5 is the lead frame transfer device according to any one of claims 1 to 4, wherein a fall prevention member is provided above the tray in the processing tank.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明の1つの実施の形態
のリードフレームの搬送装置を図1ないし図7を参照し
て説明する。図1ないし図7は、本発明のリードフレー
ムの搬送装置を示すもので、符号1は搬送トレーであ
り、処理槽2a〜2eの中を走行する左右一対の無端状
のコンベアチェーン3,3に取り付けられている。コン
ベアチェーン3は、処理槽2a〜2eの両側に設置した
スプロケット4に巻き掛けられて、電動機5によって循
環走行するようになっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A lead frame transport device according to one embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 7 show a lead frame transfer device according to the present invention. Reference numeral 1 denotes a transfer tray, which is provided on a pair of left and right endless conveyor chains 3, 3 running in processing tanks 2a to 2e. Installed. The conveyor chain 3 is wound around sprockets 4 installed on both sides of the processing tanks 2a to 2e, and is circulated by an electric motor 5.

【0009】搬送トレー1は、図2に示すように側壁6
と底部7から浅い皿状に構成されている。側壁6は、板
状の囲いであり、短辺側の側壁6にはコンベアチェーン
3に取り付けるためのピン8が設けられ、長辺側の側壁
には、ガイドバー(落下防止部材)9を挿通させるため
の切欠部10が形成されている。底部7は、側壁6の間
に張り渡された細い線材又は金網により構成され、処理
液や気体の流通及びめっき電流の流れを阻害しないよう
になっている。搬送トレー1は、対象となるリードフレ
ーム(いくつかのIC素子がつながったもの)Lを1つ
収容する程度の大きさになっている。底部7の線材又は
金網には、幅方向所定箇所において一部が短辺に平行な
隙間部1が形成されており、これは、後述する電極棒を
通過させるために設けられている。
The transport tray 1 has a side wall 6 as shown in FIG.
And a shallow dish shape from the bottom 7. The side wall 6 is a plate-like enclosure, and a pin 8 for attaching to the conveyor chain 3 is provided on the short side wall 6, and a guide bar (fall prevention member) 9 is inserted into the long side wall. There is formed a notch 10 for making the cut. The bottom 7 is formed of a thin wire or a wire mesh stretched between the side walls 6 so as not to obstruct the flow of the processing solution or gas and the flow of the plating current. The transport tray 1 is large enough to accommodate one lead frame L (one to which several IC elements are connected). A gap 1 that is partially parallel to the short side is formed at a predetermined position in the width direction of the wire or the wire mesh of the bottom 7, and is provided for passing an electrode rod described later.

【0010】上記搬送用トレー1は、その短辺が進行方
向に対して平行となるように所定の間隔に複数個配置さ
れ、トレー両端部分を挟むようにして、左右一対の無端
状コンベアチェーン3に連結されている。ガイドバー9
は、各処理槽間における槽壁とリードフレームLの引っ
掛かり防止と、エッチング槽内などにおいてスプレー等
でリードフレームに処理液を吹き付ける場合、又はブロ
ー、乾燥の場合にリードフレームが浮き上がって落下す
るのを防止する目的で、処理槽に設けられている。
A plurality of the transport trays 1 are arranged at predetermined intervals so that the short sides thereof are parallel to the traveling direction, and are connected to a pair of left and right endless conveyor chains 3 so as to sandwich both ends of the tray. Have been. Guide bar 9
Is to prevent the tank wall and the lead frame L from being caught between the processing tanks, and to prevent the lead frame from being lifted and dropped in the case of spraying the processing liquid on the lead frame with a spray or the like in the etching tank, or in the case of blowing or drying. It is provided in the processing tank for the purpose of preventing the occurrence of the above.

【0011】図1において符号2a,2bは洗浄槽、エ
ッチング槽などのめっき前処理槽、符号2cはめっき
槽、符号2d,2eは、中和処理槽、乾燥炉などのめっ
き後処理槽である。図4に示すように、前後及び槽間の
壁12に開口部13が形成され、これを挿通してチェー
ン3及び搬送トレー1が出入りするようになっている。
In FIG. 1, reference numerals 2a and 2b denote plating pretreatment tanks such as a cleaning tank and an etching tank, reference numeral 2c denotes a plating tank, and reference numerals 2d and 2e denote post-plating processing tanks such as a neutralization tank and a drying furnace. . As shown in FIG. 4, an opening 13 is formed in the wall 12 between the front and rear and between the tanks, and the chain 3 and the transport tray 1 enter and exit through the opening.

【0012】図5ないし図6はめっき槽2c及びその付
属装置を示すもので、めっき槽2cの上方には、電極棒
14をめっき槽2cの一端から他端、さらに剥離槽15
の他端から一端に循環して搬送する電極移動装置16が
設けられている。めっき槽2c及び剥離槽15の上方に
は、めっき用及び剥離用の電源につながる電極バーと、
電極棒14の姿勢を制御するためのカム17が設けられ
ている。
FIGS. 5 and 6 show the plating tank 2c and its attachments. The electrode rod 14 is placed above the plating tank 2c from one end to the other end of the plating tank 2c.
An electrode moving device 16 that circulates and conveys from one end to the other end is provided. Above the plating tank 2c and the peeling tank 15, an electrode bar leading to a power source for plating and peeling,
A cam 17 for controlling the attitude of the electrode rod 14 is provided.

【0013】コンベアチェーン3はめっき槽2cの一端
側から他端側へ、壁18に形成されたオリフィス19を
挿通して走行するので、図7に示すように、このオリフ
ィス19からは常にめっき液が流出しており、この流出
しためっき液は循環してめっき槽2cに補給されてい
る。このような構成により、この搬送装置ではめっき槽
2cへの出入りにおいても搬送ラインを上下させる必要
がなく、搬送装置の簡略化と搬送の高速化が図られてい
る。
Since the conveyor chain 3 travels from one end of the plating tank 2c to the other end thereof through the orifice 19 formed in the wall 18, the plating solution always flows from the orifice 19 as shown in FIG. Is flowing out, and the flowing out plating solution is circulated and supplied to the plating tank 2c. With this configuration, it is not necessary to move the transport line up and down in the transport apparatus even when entering and exiting the plating tank 2c, so that the transport apparatus is simplified and the transport speed is increased.

【0014】次に、上記のように構成されたリードフレ
ームの搬送装置の作用を説明する。リードフレームL
は、まずローディング部において、ローディング装置2
0や人手によりトレー1上に置かれる。コンベアチェー
ン3の走行により、トレー1がめっき処理に必要な前処
理槽2a,2bを通過し、めっき槽2cに移動する。
Next, the operation of the lead frame transport device configured as described above will be described. Lead frame L
First, in the loading section, the loading device 2
It is placed on the tray 1 by hand or by hand. As the conveyor chain 3 travels, the tray 1 passes through the pretreatment tanks 2a and 2b required for the plating treatment and moves to the plating tank 2c.

【0015】めっき電極14の移動装置16は、リード
フレームLのコンベアチェーン3と同期して走行する。
電極棒14が進行すると、カム17と図示しないコイル
バネの作用によって電極棒14が回転し、下端が液中の
トレー1中に浸漬し、更に進行すると電極棒14はさら
に付勢されて下端がトレー1の後方に向かう。電極棒1
4の下端は底部7の隙間11の中を移動してリードフレ
ームLに接触し、リードフレームLは電極棒14を介し
て通電されてめっきが進行する。このように、このめっ
き装置では、電極棒14がトレー1の底部の隙間を通
り、コイルバネの付勢によりリードフレームLと確実に
コンタクトするので、高速めっきが安定的に行える。
The moving device 16 for the plating electrode 14 runs in synchronization with the conveyor chain 3 of the lead frame L.
As the electrode rod 14 advances, the electrode rod 14 rotates by the action of a cam 17 and a coil spring (not shown), and the lower end is immersed in the tray 1 in the liquid. Go behind one. Electrode rod 1
The lower end of 4 moves in the gap 11 of the bottom 7 and contacts the lead frame L, and the lead frame L is energized via the electrode rod 14 and plating proceeds. As described above, in this plating apparatus, the electrode rod 14 passes through the gap at the bottom of the tray 1 and reliably contacts the lead frame L by the bias of the coil spring, so that high-speed plating can be performed stably.

【0016】めっき槽2cの壁から搬出されたリードフ
レームLは、さらに後処理槽2d,2eで後処理を施さ
れ、アンローディング部においてアンローディング装置
21あるいは人手を介してトレー1から取り出される。
リードフレームが取り出されたトレー1は、処理工程ラ
インの上、下又は横を通って再度ローディング部に戻
る。動作サイクルは、停止せずに連続式としてもよい
し、また、一定枚数分送った後に停止しながら各々処理
を行ってもよい。
The lead frame L carried out from the wall of the plating tank 2c is further subjected to post-processing in post-processing tanks 2d and 2e, and is taken out of the tray 1 at the unloading section via the unloading device 21 or manually.
The tray 1 from which the lead frame has been taken out returns to the loading section again above, below or beside the processing line. The operation cycle may be continuous without stopping, or each process may be performed while stopping after feeding a certain number of sheets.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、リードフレームが槽内で安定に支持されながら搬送
されるので、並列に密度高く配置して槽面積を有効に活
用しためっきを行なうことができる。また、リードフレ
ームを着脱する作業も簡単で、作業能率も高い。めっき
の前後の処理のための槽を含めた複数の槽を同じ搬送装
置で搬送することも容易である。さらに、搬送装置が全
体として高さを低く維持することができ、設備コストを
軽減できる。そして、トレーの底部に、電極棒が通過可
能な隙間を形成することにより、簡単な構造で電極との
コンタクトが確実に行えるので、めっき処理の高速化に
対応できるなどの優れた効果を奏する。
As described above, according to the present invention, the lead frame is conveyed while being stably supported in the tank. Therefore, the lead frames are arranged in parallel at a high density to perform plating utilizing the tank area effectively. be able to. Also, the work of attaching and detaching the lead frame is easy and the work efficiency is high. It is also easy to transfer a plurality of tanks including a tank for processing before and after plating by the same transfer device. Further, the height of the transfer device as a whole can be kept low, and the equipment cost can be reduced. Further, by forming a gap at the bottom of the tray through which the electrode rod can pass, the contact with the electrode can be reliably performed with a simple structure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の1つの実施の形態を示す斜視図であ
る。
FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of the present invention.

【図2】この発明の要部であるトレーの構造を示す斜視
図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a structure of a tray which is a main part of the present invention.

【図3】トレー及びコンベアチェーンの平面図である。FIG. 3 is a plan view of a tray and a conveyor chain.

【図4】処理槽の断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a processing tank.

【図5】めっき槽の平面図である。FIG. 5 is a plan view of a plating tank.

【図6】めっき槽の正面図である。FIG. 6 is a front view of a plating tank.

【図7】めっき槽の断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a plating tank.

【図8】従来の搬送装置の例を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating an example of a conventional transport device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 トレー 2a,2b 前処理槽 2c めっき槽 2d,2e 後処理槽 3 コンベアチェーン 4 スプロケット 6 側壁 7 底部 9 ガイドバー(落下防止部材) 11 隙間 13 開口部 14 電極棒 L リードフレーム Reference Signs List 1 tray 2a, 2b pretreatment tank 2c plating tank 2d, 2e posttreatment tank 3 conveyor chain 4 sprocket 6 side wall 7 bottom 9 guide bar (fall prevention member) 11 gap 13 opening 14 electrode rod L lead frame

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 21/68 H01L 21/68 U (72)発明者 小沢 直光 神奈川県平塚市黒部丘1番14号 株式会 社 ワイテック内 (56)参考文献 特開 昭53−83936(JP,A) 特開 昭58−125857(JP,A) 特開 平3−173793(JP,A) 特開 平9−53199(JP,A) 実開 昭53−94913(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C25D 7/12 C25D 17/08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 21/68 H01L 21/68 U (72) Inventor Naoko Ozawa 1-114 Kurobeoka, Hiratsuka-shi, Kanagawa Pref. (56) References JP-A-53-83936 (JP, A) JP-A-58-125857 (JP, A) JP-A-3-173793 (JP, A) JP-A-9-53199 (JP, A) 53-94913 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C25D 7/12 C25D 17/08

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 処理槽中を水平方向に走行するチェーン
と、 このチェーンに取り付けられ、リードフレームを水平状
態で収容する複数のトレーとが設けられ、 このトレーは少なくともその一部が流体の流通を可能と
するように形成され、側部に囲いが設けられていること
を特徴とするリードフレームの搬送装置。
1. A chain running in a processing tank in a horizontal direction, and a plurality of trays attached to the chain and accommodating a lead frame in a horizontal state are provided. A lead frame transport device, which is formed so as to enable the following, and is provided with an enclosure on a side portion.
【請求項2】 上記チェーンは、上記処理槽の槽壁に形
成された開口部を挿通して走行するようなっていること
を特徴とする請求項1に記載のリードフレームの搬送装
置。
2. The lead frame transfer device according to claim 1, wherein the chain runs through an opening formed in a tank wall of the processing tank.
【請求項3】 上記トレーの底部には、電極棒が通過可
能な隙間が形成されていることを特徴とする請求項1又
は2に記載のリードフレームの搬送装置。
3. The lead frame transfer device according to claim 1, wherein a gap through which an electrode rod can pass is formed at the bottom of the tray.
【請求項4】 上記トレーの短辺が進行方向と平行であ
ることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載
のリードフレームの搬送装置。
4. The lead frame transfer device according to claim 1, wherein a short side of the tray is parallel to a traveling direction.
【請求項5】 上記処理槽に、上記トレー上方を覆う防
止部材が設けられていることを特徴とする請求項1ない
し4のいずれかに記載のリードフレームの搬送装置。
5. The lead frame transfer device according to claim 1, wherein a prevention member that covers an upper portion of the tray is provided in the processing tank.
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CN103594404B (en) * 2013-11-20 2016-04-27 西安永电电气有限责任公司 A kind of plastic sealed Intelligent Power Module loading and unloading system and supporting lead frame
CN114855232A (en) * 2022-04-14 2022-08-05 南通盛杰拉链有限公司 Metal zipper gold plating device based on automatic circulation
CN115527867B (en) * 2022-11-24 2023-03-17 宁波德洲精密电子有限公司 Anti-layering preparation method for lead frame packaging

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