JPH10251036A - Method for firing glass substrate - Google Patents

Method for firing glass substrate

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JPH10251036A
JPH10251036A JP5939697A JP5939697A JPH10251036A JP H10251036 A JPH10251036 A JP H10251036A JP 5939697 A JP5939697 A JP 5939697A JP 5939697 A JP5939697 A JP 5939697A JP H10251036 A JPH10251036 A JP H10251036A
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JP
Japan
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glass substrate
firing
cassette
holding
glass substrates
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JP5939697A
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Japanese (ja)
Inventor
Shozo Kasai
省三 笠井
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Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B35/00Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
    • C03B35/14Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B29/00Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
    • C03B29/04Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a continuous way
    • C03B29/06Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a continuous way with horizontal displacement of the products
    • C03B29/08Glass sheets

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for firing glass substrates capable of heating all of the glass substrates loaded in a cassette up to a required temp. within a specified time without using special constitution. SOLUTION: This method executes the firing of the glass substrates in the following manner: The cassette having many stages of upper and lower rack parts for holding the glass substrates is arranged in a firing furnace. This cassette is vertically moved and the glass substrates which exist in the holding rack parts and for which the firing is completed are taken out of the inside of the firing furnace by each sheet. The glass substrates are fed by each sheet into the firing furnace and are loaded into the empty holding rack parts. The respective glass substrates are then fired for the specified time. Dummy substrates D are loaded onto the holding rack parts of the prescribed stages of the cassette and the radiation heat from these dummy substrates D is applied to the glass substrates on the holding rack parts adjacent thereto.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、焼成炉内に設けた
カセットのガラス基板用の保持棚部に、それぞれ、ガラ
ス基板を順次、装填し、また、取り出す過程で、前記ガ
ラス基板に対する所定時間の焼成を行うガラス基板焼成
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a process for sequentially loading and unloading glass substrates onto and from a holding shelf for glass substrates of a cassette provided in a baking furnace, the glass substrate being held for a predetermined time. The present invention relates to a glass substrate baking method for baking glass.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種のガラス基板焼成方法で
は、焼成炉内に、上下に多段のガラス基板用保持棚部を
備えたカセットを配置し、このカセットを昇降動作し
て、前記保持棚部にある焼成完了のガラス基板を各葉毎
に前記焼成炉内から取り出すと共に、前記焼成炉内にガ
ラス基板を各葉毎に送り込んで、空の保持棚部に装填
し、それぞれのガラス基板を一定時間(装填から排出ま
で)、焼成している。
2. Description of the Related Art Conventionally, in this type of glass substrate firing method, a cassette provided with a plurality of stages of glass substrate holding shelves is arranged in a firing furnace, and the cassette is moved up and down to operate the holding shelf. The fired glass substrates in the section are taken out of the firing furnace for each leaf, and the glass substrates are fed into the firing furnace for each leaf, loaded into empty holding shelves, and the respective glass substrates are removed. Baking for a certain period of time (from loading to discharging).

【0003】この場合のガラス基板の装填、排出は、ロ
ボットなどの手段を介して、前記カセットの保持棚部の
最上段から最下段まで、順次に行われている。
In this case, loading and unloading of the glass substrates are performed sequentially from the uppermost stage to the lowermost stage of the holding shelf of the cassette via means such as a robot.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ここで問題になるの
は、前記保持棚部の中間段のガラス基板は、その上下面
にて、炉内加熱に合わせて、隣接ガラス基板からの輻射
熱を受けるが、最上段および最下段に装填されたガラス
基板は、少なくとも、その片面側(最上段のものは上面
側、最下段のものは下面側)が、炉内加熱のみで昇温さ
れ、隣接ガラス基板からの輻射熱を受けないから、中間
段のものに比べて、一定時間内に、所要温度まで昇温さ
れない点である。
What is problematic here is that the glass substrate in the middle stage of the holding shelf receives radiant heat from the adjacent glass substrate on the upper and lower surfaces in accordance with the heating in the furnace. However, at least one of the glass substrates loaded on the uppermost and lowermost stages (the uppermost one on the upper surface side and the lowermost one on the lower surface side) is heated only by heating in the furnace, and the adjacent glass substrates are heated. Since it does not receive radiant heat from the substrate, it is not heated up to a required temperature within a certain time as compared with the intermediate stage.

【0005】このような状況の対策として、カセットの
最上部および最下部にヒータを設置して、輻射熱相当分
を補填することも考えられるが、このために、前記ヒー
タをセットするための占有空間の増大で、炉体を大型化
しなけれならない上、カセット重量が大きくなるので、
カセットの昇降のための駆動モーターを大容量のものに
する必要があるなどのデメリットを伴う。
As a countermeasure against such a situation, it is conceivable to provide heaters at the uppermost portion and the lowermost portion of the cassette so as to compensate for the amount of radiant heat. As the furnace size increases, the size of the furnace must be increased and the weight of the cassette increases.
There are disadvantages such as the need to increase the capacity of the drive motor for raising and lowering the cassette.

【0006】また、カセットの各保持棚部に装填された
ガラス基板は、その装填時、隣接のガラス基板が前段階
で装填されたばかりであり、十分に加熱されていない
(炉内での経過時間が短い)ために、十分な輻射熱を受
けられないから、炉内加熱に付加される輻射熱の授受が
遅くなり、焼成の効率が悪い。
In addition, when the glass substrates loaded on each holding shelf of the cassette are loaded, the adjacent glass substrates have just been loaded in the previous stage and are not sufficiently heated (elapsed time in the furnace). Is short), so that sufficient radiant heat cannot be received, so that the transfer of radiant heat added to the heating in the furnace is delayed, and the firing efficiency is poor.

【0007】本発明は、上記事情に基づいてなされたも
ので、その目的は、特別な構成を用いることなく、カセ
ットに装填されたガラス基板が全て、一定時間内に所要
温度まで昇温できるようにしたガラス基板焼成方法を提
供するにある。
[0007] The present invention has been made based on the above circumstances, and an object of the present invention is to make it possible to raise the temperature of all glass substrates loaded in a cassette to a required temperature within a predetermined time without using a special configuration. Another object of the present invention is to provide a glass substrate firing method.

【0008】また、本発明の第2の目的とするところ
は、新たに炉内に装填されたガラス基板が、直ちに隣接
のガラス基板からの輻射熱を十分に受けられるように、
カセットのガラス基板用の保持棚部への装填順序に工夫
を凝らしたガラス基板焼成方法を提供するにある。
A second object of the present invention is to provide a glass substrate newly loaded in a furnace so that it can immediately receive radiant heat from an adjacent glass substrate.
It is an object of the present invention to provide a glass substrate firing method that takes into account the order of loading cassettes into glass substrate holding shelves.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を解決するた
め、本発明では、焼成炉内に、上下に多段のガラス基板
用保持棚部を備えたカセットを配置し、このカセットを
昇降動作して、前記保持棚部にある焼成完了のガラス基
板を各葉毎に前記焼成炉内から取り出すと共に、前記焼
成炉内にガラス基板を各葉毎に送り込んで、空の保持棚
部に装填し、それぞれのガラス基板を一定時間、焼成す
るガラス基板焼成方法において、前記カセットの所定段
の保持棚部に、ダミー基板を装填し、これに隣接する保
持棚部のガラス基板にダミー基板からの輻射熱を与える
ことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned object, according to the present invention, a cassette provided with a plurality of glass substrate holding shelves at the top and bottom in a firing furnace is arranged, and the cassette is moved up and down. Along with taking out the fired glass substrate in the holding shelf from the firing furnace for each leaf, sending the glass substrate into the firing furnace for each leaf, and loading the empty holding shelf, In the glass substrate baking method of baking the glass substrate for a certain period of time, a dummy substrate is loaded into a holding shelf at a predetermined stage of the cassette, and radiant heat from the dummy substrate is applied to the glass substrate of the holding shelf adjacent thereto. It is characterized by the following.

【0010】これによって、ヒータなどの特別な手段を
設置することなく、カセットに装填された最上および最
下のガラス基板についても、一定時間内で所要の温度ま
で昇温できることになる。
[0010] Thus, the temperature of the uppermost and lowermost glass substrates loaded in the cassette can be raised to a required temperature within a certain time without installing special means such as a heater.

【0011】また、本発明では、焼成炉内に、上下に多
段のガラス基板用保持棚部を備えたカセットを配置し、
このカセットを昇降動作して、前記保持棚部にある焼成
完了のガラス基板を各葉毎に前記焼成炉内から取り出す
と共に、前記焼成炉内にガラス基板を各葉毎に送り込ん
で、空の保持棚部に装填し、それぞれのガラス基板を一
定時間、焼成するガラス基板焼成方法において、前記焼
成炉内へのガラス基板の送り込み、および、前記焼成炉
内からのガラス基板の取り出しを、前記カセットの保持
棚部について、少なくとも、1隔毎に行うことを特徴と
する。
Further, in the present invention, a cassette provided with a plurality of glass substrate holding shelves at the top and bottom in a firing furnace is provided.
The cassette is moved up and down to take out the fired glass substrates in the holding shelf from the firing furnace for each leaf, and to send the glass substrates into the firing furnace for each leaf to hold the empty glass substrates. In a glass substrate firing method in which each glass substrate is fired for a certain period of time, the glass substrates are fed into the firing furnace, and the glass substrates are taken out of the firing furnace. The holding shelf is performed at least every one interval.

【0012】これによって、焼成炉内に搬入されたガラ
ス基板が、炉内の加熱に加えて、既に十分加熱された隣
接のカラス基板からの十分な輻射熱を受けることで、迅
速に昇温でき、より効果的な加熱処理ができる。
[0012] Thus, the glass substrate carried into the firing furnace can be quickly heated by receiving sufficient radiant heat from the adjacent crow substrate already heated, in addition to the heating in the furnace, More effective heat treatment can be performed.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(実施の形態1)図1および図2は、本発明に係わる生
産システムに適用される焼成炉の構成を示したもので、
図中、符号1および4はコンベア、2および3はロボッ
ト、5は焼成炉、Gは被焼成物、例えば、360mm×
465mm角、厚み:0.7mmのガラス基板である。
(Embodiment 1) FIGS. 1 and 2 show the configuration of a firing furnace applied to a production system according to the present invention.
In the drawing, reference numerals 1 and 4 indicate conveyors, reference numerals 2 and 3 indicate robots, reference numeral 5 indicates a firing furnace, reference G indicates an object to be fired, for example, 360 mm ×
It is a 465 mm square glass substrate having a thickness of 0.7 mm.

【0014】ここでは、焼成されるべきガラス基板G
を、コンベア1で、1枚づつ、所定の時間間隔をあけて
焼成炉5内に搬入する。焼成炉5の直前では、適当な位
置決め手段(図示せず)で、ガラス基板Gの装填準備が
なされ、所定のタイミングで、ロボット2の吸着ハンド
Hにより、ガラス基板Gが保持され、焼成炉5の入口、
即ち、スリットSを介して、焼成炉5内に投入される。
また、一定時間をかけて焼成されたガラス基板Gは、焼
成炉5の出口、即ち、前述同様のスリットSから、同じ
く、ロボット3の吸着ハンドHによって、コンベア4に
排出され、所要の箇所(図示せず)に送られる。
Here, the glass substrate G to be fired is
Are transported into the firing furnace 5 one by one on the conveyor 1 at predetermined time intervals. Immediately before the firing furnace 5, the glass substrate G is prepared for loading by a suitable positioning means (not shown), and the glass substrate G is held by the suction hand H of the robot 2 at a predetermined timing. Entrance,
That is, it is put into the firing furnace 5 through the slit S.
Further, the glass substrate G fired over a certain period of time is discharged from the outlet of the firing furnace 5, that is, the same slit S as described above, to the conveyor 4 by the suction hand H of the robot 3, and is discharged to a required portion ( (Not shown).

【0015】焼成炉5内にはヒータ(図示せず)が装備
してあり、内部温度を一様に、例えば、230℃の温度
に保っている。また、焼成炉5内には、ボールネジ8と
一対のガイドレール9が設置してあり、ボールネジ8の
回転で、箱形のカセット6がガイドレール9に沿って昇
降できるようになっている。また、カセット6には、そ
の上下方向に向けて、多段に板状の保持棚部7が用意さ
れていて、この各保持棚部7には、炉内に装填されたガ
ラス基板Gが載置される。なお、符号10はボールネジ
8を回転駆動するモータである。
A heater (not shown) is provided in the sintering furnace 5 to keep the internal temperature uniformly, for example, at a temperature of 230 ° C. Further, a ball screw 8 and a pair of guide rails 9 are installed in the firing furnace 5, and the box-shaped cassette 6 can be moved up and down along the guide rail 9 by rotation of the ball screw 8. The cassette 6 is provided with a plurality of plate-like holding shelves 7 in the vertical direction. Each holding shelf 7 holds a glass substrate G loaded in a furnace. Is done. Reference numeral 10 denotes a motor for driving the ball screw 8 to rotate.

【0016】次に、図3〜図23を用いて、本発明に係
わる、焼成炉内でのカセットの動き、即ち、ガラス基板
の装填、取り出しの順序を説明する。なお、この実施の
形態では、カセット6に装填されるガラス基板Gの枚数
を7枚としたが、言うまでもなく、この枚数は、設定さ
れた焼成時間に応じて可変である。
Next, the movement of the cassette in the firing furnace according to the present invention, that is, the order of loading and unloading the glass substrate, will be described with reference to FIGS. In this embodiment, the number of glass substrates G loaded in the cassette 6 is seven, but it is needless to say that this number is variable according to the set firing time.

【0017】先ず、カセット6が空の状態で、その保持
棚部7に対して、上から順番に、一定のタクトで、ボー
ルネジ8を所定量回転させ、各保持棚部7を順次、入口
のスリットSに合わせ、ロボット2を用いて、ガラス基
板Gを装填する(図3〜図9を参照)。上述のタクトが
7回繰り返されると、カセット6への1順目のガラス基
板G1 〜G7 の装填が完了する。
First, in a state where the cassette 6 is empty, the ball screw 8 is rotated by a predetermined amount with respect to the holding shelf 7 in order from the top with a constant tact, and each holding shelf 7 is sequentially turned to the entrance. The glass substrate G is loaded using the robot 2 in accordance with the slit S (see FIGS. 3 to 9). When the above-described tact is repeated seven times, the loading of the first-order glass substrates G 1 to G 7 into the cassette 6 is completed.

【0018】この時点で、最初のガラス基板G1 は、予
め定められた焼成時間になるので、この基板に対応する
保持棚部7が出口のスリットSの位置に移動され、ロボ
ット3を介して、コンベア4に当該ガラス基板G1 を取
り出す(図10および図11を参照)。この状態では、
入口のスリットSが空の保持棚部7に対応しているの
で、2順目のガラス基板G’1 が装填される(図12を
参照)。
At this time, since the first glass substrate G 1 has a predetermined baking time, the holding shelf 7 corresponding to this substrate is moved to the position of the slit S at the exit, and , the conveyor 4 takes out the glass substrate G 1 (see FIGS. 10 and 11). In this state,
Since the entrance of the slit S corresponds to the empty holding ledges 7, 2 glass substrate G '1 of the forward first is loaded (see Figure 12).

【0019】同様に、1順目の2番目〜7番目のガラス
基板G2 〜G7 は、順次、所定のタクトで焼成炉5から
取り出され、一方、2順目のガラス基板G2 〜G7 が、
空の保持棚部7に装填される(図13〜図21を参
照)。このような順序で、3順目以降を継続するのであ
る。
[0019] Similarly, 1 2 to seventh glass substrate G 2 ~G 7 forward th are sequentially taken out from the firing furnace 5 at a predetermined tact, while second round of the glass substrate G 2 ~G 7 is
The empty holding shelf 7 is loaded (see FIGS. 13 to 21). In this order, the third and subsequent steps are continued.

【0020】この場合、本発明に係わるガラス基板Gの
焼成の状況を、従来との比較で、検証する。図22〜図
27は、カセット6でのガラス基板Gに及ぼす熱的影響
を図解したものである。それぞれの熱的影響度を、模式
的に3段階に分けたベクトル(矢印)で表示する。即
ち、太矢印で焼成炉5内の雰囲気による熱を示し、中矢
印で二枚目以上前に投入された先行のガラス基板Gから
の輻射熱(炉内待機時間が長く、十分な熱量である)
を、また、細矢印で直前に投入された先行のガラス基板
Gからの輻射熱(炉内待機時間が短く、不十分な熱量で
ある)を、それぞれ示している。
In this case, the sintering state of the glass substrate G according to the present invention will be verified in comparison with the conventional case. 22 to 27 illustrate the thermal effects on the glass substrate G in the cassette 6. FIG. The respective degrees of thermal influence are displayed as vectors (arrows) schematically divided into three stages. That is, the bold arrow indicates the heat due to the atmosphere in the baking furnace 5, and the middle arrow indicates the radiant heat from the preceding glass substrate G that has been input second or more times (the standby time in the furnace is long and the amount of heat is sufficient).
, And the radiant heat from the preceding glass substrate G (the standby time in the furnace is short and the amount of heat is insufficient), which is input immediately before, is indicated by a thin arrow.

【0021】図22から明らかなように、1順目(図3
〜図10)における1段目のガラス基板G1 は、装填さ
れた直後、雰囲気による熱しか授受しないが、2段目以
降のガラス基板G2 〜G6 は、雰囲気による熱に加え
て、直前に装填された隣接のガラス基板からの輻射熱を
授受する。換言すれば、1段目のガラス基板G1 は、そ
の後の2段目〜6段目のものと比較して、昇温が遅れる
ことになる。
As is clear from FIG. 22, the first sequence (FIG. 3)
To 10) 1-stage glass substrate G 1 of the can, immediately after being loaded, the heat only to transfer by the atmosphere, the glass substrate G 2 ~G 6 of the second and subsequent stages, in addition to the heat from the atmosphere, immediately before The radiant heat from the adjacent glass substrate loaded in is transferred. In other words, the glass substrate G 1 of the first stage, compared to that of the subsequent second stage 6 stage, so that the Atsushi Nobori late.

【0022】本発明では、1段目の上の保持棚部7に、
予め、炉内雰囲気で加熱されるように、ダミー基板(ガ
ラス基板でもよい)Dを装填して置くことで、図23に
示すように、1段目のガラス基板Gに対しても輻射熱
(中矢印)を与えることができる。このため、中間段の
ガラス基板Gと同じ焼成時間でも、所期の焼成が達成で
き、焼成不足が起こらない。
In the present invention, the holding shelf 7 on the first stage
By loading and placing a dummy substrate (or a glass substrate) D in advance so as to be heated in the furnace atmosphere, as shown in FIG. Arrow) can be given. For this reason, the desired firing can be achieved even with the same firing time as that of the glass substrate G in the intermediate stage, and insufficient firing does not occur.

【0023】また、2順目以降(図11〜)を考察する
と、図24で理解されるように、1段目のガラス基板
G’1 は、装填直後に、雰囲気による熱に加えて、直下
のガラス基板G2 の輻射熱(中矢印)を受けるが、2段
目〜6段目のガラス基板G’2〜G’6 は、直上のガラ
ス基板G’1 〜G’5 からの輻射熱も受ける。
Moreover, considering the second round or later (FIG. 11), as seen in Figure 24, the first stage the glass substrate G '1 of, immediately after loading, in addition to the heat from the atmosphere, directly below radiation heat of the glass substrate G 2 receives the (middle arrow), but the second stage 6 stage of the glass substrate G '2 ~G' 6 also receives radiant heat from the glass substrate G '1 ~G' 5 immediately above the .

【0024】然るに、本発明では、図25に示すよう
に、ガラス基板G’1 は、その直上にダミー基板Dがあ
るために、これからの輻射熱を授受することができるの
で、中間段のものに比べて、その昇温が遅れない。
However, according to the present invention, as shown in FIG. 25, the glass substrate G ′ 1 can receive and transmit radiant heat from the glass substrate G ′ 1 because the dummy substrate D is located immediately above the glass substrate G ′ 1. In comparison, the temperature rise is not delayed.

【0025】同様に、図26から解るように、7段目の
ガラス基板G7 あるいはG’7 は、下からの輻射熱を受
けない。そこで、本発明では、図27で示すように、そ
の直下にダミー基板Dを設けることにより、7番目のガ
ラス基板G7 あるいはG’7が輻射熱を受けられるか
ら、上述同様に、中間段のものに比べて、その昇温が遅
れない。
Similarly, as can be seen from FIG. 26, the seventh-stage glass substrate G 7 or G ′ 7 does not receive radiant heat from below. Accordingly, in the present invention, as shown in FIG. 27, by providing the dummy substrate D directly below the dummy substrate D, the seventh glass substrate G 7 or G ′ 7 can receive radiant heat. In comparison with the above, the temperature rise is not delayed.

【0026】このようにして、本発明によれば、一定の
時間で焼成処理を行っても、全てのガラス基板に均等な
焼成が達成される。しかも、これは、カセット6におけ
る上下の余剰の保持棚部を利用して、ダミー基板Dを置
くだけであるから、設備のために、コストを増大するお
それもない。
As described above, according to the present invention, even if the sintering process is performed for a certain period of time, uniform sintering is achieved for all the glass substrates. In addition, since only the dummy substrate D is placed by using the upper and lower surplus holding shelves in the cassette 6, there is no risk of increasing the cost for equipment.

【0027】(実施の形態2)本発明の第2の実施の形
態では、先述の実施の形態で採用したシステムが、その
まま利用される。従って、以下に本発明の焼成方法につ
いて具体的に説明するが、図1および図2の構成部品に
ついては、その説明を省略する。
(Embodiment 2) In the second embodiment of the present invention, the system adopted in the above embodiment is used as it is. Therefore, the firing method of the present invention will be specifically described below, but the description of the components shown in FIGS. 1 and 2 will be omitted.

【0028】図28〜図48は、本発明のガラス基板G
の搬入順序および取り出し順序と、その時のカセット内
でのガラス基板Gの装填状況とを示している。なお、こ
の実施の形態としては、カセット6へのガラス基板Gの
装填枚数は7枚としてあるが、この枚数は、焼成時間と
の兼ね合いで可変であることは、先述の実施の形態同様
に、当然のことである。
FIGS. 28 to 48 show the glass substrate G of the present invention.
And the loading order of the glass substrates G in the cassette at that time. In this embodiment, the number of glass substrates G to be loaded into the cassette 6 is seven. However, this number is variable in consideration of the firing time, as in the above-described embodiment. Of course.

【0029】先ず、空のカセット6にガラス基板Gを装
填するが、その第1順目の順序は、保持棚部7の2段→
4段→6段→1段→3段→5段→7段で、ガラス基板G
1 〜G7 は、何れも、所定のタクトで焼成炉1内に投入
される。その最終的な状態が図28に示されている。
First, the glass substrate G is loaded into the empty cassette 6, and the first order is as follows.
4 → 6 → 1 → 3 → 5 → 7 stages, glass substrate G
1 ~G 7 are both are put into a firing furnace 1 at a predetermined tact. The final state is shown in FIG.

【0030】次の第2順目では、保持棚部7の2段目を
出口のスリットSに合わせ、ここに装填されたガラス基
板G2 を、ロボット3により、焼成炉1外に取り出す
(図29を参照)。そして、その空の保持棚部7に、入
口のスリットSを介して、ロボット3により、新たなガ
ラス基板G’2 を投入する(図30を参照)。
In the next second order, the second stage of the holding shelf 7 is aligned with the slit S at the exit, and the glass substrate G 2 loaded here is taken out of the firing furnace 1 by the robot 3 (FIG. 29). Then, the holding ledges 7 of the sky, through the inlet of the slit S, the robot 3, to introduce a new glass substrate G '2 (see Figure 30).

【0031】その後は、カセット6を昇降動作し、第1
順目と同じ順序で、保持棚部7をスリットSに合わせ、
ロボット3によって、焼成されたガラス基板の取り出し
と、新たなガラス基板(G’4 、G’6 、G’1 、G’
3 、G’5 およびG’7 )の投入を行うのである(図3
1〜図48を参照)。これは、3順目以降も繰り返され
て、焼成炉1による連続的なガラス基板の焼成作業が達
成されるのである。この際、一定のタクトによるガラス
基板Gの投入、取り出しによって、各ガラス基板Gに対
する一定時間の焼成がなされる。
Thereafter, the cassette 6 is moved up and down to move the first
In the same order as the first order, align the holding shelf 7 with the slit S,
The robot 3 takes out the fired glass substrate and adds a new glass substrate (G ′ 4 , G ′ 6 , G ′ 1 , G ′).
3 , G ′ 5 and G ′ 7 ) (FIG. 3).
1 to 48). This is repeated in the third and subsequent steps, whereby the continuous firing operation of the glass substrate by the firing furnace 1 is achieved. At this time, the glass substrates G are fired for a certain period of time by loading and unloading the glass substrates G by a certain tact.

【0032】図49および図50は、カセット6内のガ
ラス基板Gに及ぼす熱の影響を示したものである。ここ
では、先述の実施の形態と同様に、それぞれの熱的影響
度を、模式的に3段階に分けたベクトル(矢印)で表示
する。即ち、太矢印で焼成炉5内の雰囲気による熱を示
し、中矢印で二枚目以上前に投入された先行のガラス基
板Gからの輻射熱(炉内待機時間が長く、十分な熱量で
ある)を、また、細矢印で直前に投入された先行のガラ
ス基板Gからの輻射熱(炉内待機時間が短く、不十分な
熱量である)を、それぞれ示している。
FIGS. 49 and 50 show the effect of heat on the glass substrate G in the cassette 6. FIG. Here, similarly to the above-described embodiment, the respective degrees of thermal influence are represented by vectors (arrows) schematically divided into three stages. That is, the bold arrow indicates the heat due to the atmosphere in the baking furnace 5, and the middle arrow indicates the radiant heat from the preceding glass substrate G that has been input second or more times (the standby time in the furnace is long and the amount of heat is sufficient). , And the radiant heat from the preceding glass substrate G (the standby time in the furnace is short and the amount of heat is insufficient), which is input immediately before, is indicated by a thin arrow.

【0033】従来のように、上から順番にガラス基板を
投入、取り出しする場合(図50を参照)には、新たに
投入されたガラス基板G’は、少なくとも中間段の保持
棚部7のものについては、焼成炉1内の雰囲気温度によ
る熱(太矢印)の外、その片面について、直前に投入さ
れたガラス基板Gからの輻射熱(細矢印)を受けること
になるが、本発明の実施の形態2については、所謂、
「1段飛ばし」にて(1段、隔てて)、ガラス基板の投
入、取り出しをする(図49を参照)ので、何れの面に
ついても、既に装填されたガラス基板Gからの輻射熱
(中矢印)を受けることになる。
When the glass substrates are loaded and unloaded in order from the top as in the prior art (see FIG. 50), the newly loaded glass substrate G 'must be at least the glass substrate G' at the intermediate stage. In addition to the heat (thick arrow) due to the ambient temperature in the firing furnace 1, one surface thereof receives radiant heat (thin arrow) from the glass substrate G inserted immediately before. Regarding form 2, the so-called
The glass substrate is loaded and unloaded by "single-step skipping" (one step apart) (see FIG. 49), so that the radiant heat from the already loaded glass substrate G (middle arrow) ).

【0034】実験によれば、本発明の方式では、各ガラ
ス基板の昇温(230℃まで)に約10分を要したが、
従来例では13分が必要であった。このように、ガラス
基板の投入、排出を、保持棚部7について、所定の順序
で行うだけで、ガラス基板の焼成処理を迅速化すること
ができる。
According to the experiment, in the method of the present invention, it took about 10 minutes to raise the temperature (up to 230 ° C.) of each glass substrate.
In the conventional example, 13 minutes were required. As described above, the glass substrate can be quickly fired only by charging and discharging the glass substrate in the holding shelf 7 in a predetermined order.

【0035】なお、本発明の実施の形態では、ガラス基
板の投入、排出の順序を、「1段飛ばし」としたが、飛
ばす段数は、適宜、選択できる。また、この実施の形態
2において、実施の形態1で採用したダミー基板を、使
用している保持棚部7の上および/あるいは下の段に配
設して、焼成の均一化を図るようにしても良いことは勿
論である。
In the embodiment of the present invention, the order of charging and discharging the glass substrate is "one step", but the number of steps to be dropped can be selected as appropriate. Further, in the second embodiment, the dummy substrate employed in the first embodiment is disposed on the upper and / or lower stage of the holding shelf 7 used so as to achieve uniform firing. Of course, it may be possible.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
焼成炉内に、上下に多段のガラス基板用保持棚部を備え
たカセットを配置し、このカセットを昇降動作して、前
記保持棚部にある焼成完了のガラス基板を各葉毎に前記
焼成炉内から取り出すと共に、前記焼成炉内にガラス基
板を各葉毎に送り込んで、空の保持棚部に装填し、それ
ぞれのガラス基板を一定時間、焼成するガラス基板焼成
方法において、前記カセットの所定段の保持棚部に、ダ
ミー基板を装填し、これに隣接する保持棚部のガラス基
板にダミー基板からの輻射熱を与える。
As described above, according to the present invention,
In the baking furnace, a cassette having a multi-stage glass substrate holding shelf is arranged vertically, and the cassette is moved up and down to move the fired glass substrate in the holding shelf into the baking furnace for each leaf. In the glass substrate firing method of taking out the glass substrate from the inside, feeding the glass substrates into the firing furnace for each leaf, loading the empty holding shelves, and firing each glass substrate for a predetermined time, Is loaded with a dummy substrate, and radiant heat from the dummy substrate is applied to the glass substrate of the holding shelf adjacent to the dummy shelf.

【0037】従って、ヒータなどの特別な手段を設置す
ることなく、カセットに装填された最上および最下のガ
ラス基板についても、一定時間内で所要の温度まで昇温
できる。
Therefore, the temperature of the uppermost and lowermost glass substrates loaded in the cassette can be raised to a required temperature within a certain time without installing any special means such as a heater.

【0038】また、本発明によれば、焼成炉内に、上下
に多段のガラス基板用保持棚部を備えたカセットを配置
し、このカセットを昇降動作して、前記保持棚部にある
焼成完了のガラス基板を各葉毎に前記焼成炉内から取り
出すと共に、前記焼成炉内にガラス基板を各葉毎に送り
込んで、空の保持棚部に装填し、それぞれのガラス基板
を一定時間、焼成するガラス基板焼成方法において、前
記焼成炉内へのガラス基板の送り込み、および、前記焼
成炉内からのガラス基板の取り出しを、前記カセットの
保持棚部について、少なくとも、1隔毎に行う。
Further, according to the present invention, a cassette provided with glass substrate holding shelves at upper and lower stages is arranged in a firing furnace, and the cassette is moved up and down to complete the firing completion on the holding shelf. The glass substrates are taken out of the firing furnace for each leaf, and the glass substrates are fed into the firing furnace for each leaf, loaded into empty holding shelves, and each glass substrate is fired for a certain time. In the glass substrate firing method, the feeding of the glass substrate into the firing furnace and the removal of the glass substrate from the firing furnace are performed on the holding shelf of the cassette at least every one interval.

【0039】従って、焼成炉内に搬入されたガラス基板
が、炉内の加熱に加えて、既に十分加熱された隣接のカ
ラス基板からの十分な輻射熱を受けることで、迅速に昇
温でき、より効果的な加熱処理ができる。
Therefore, in addition to heating the inside of the furnace, the glass substrate carried into the firing furnace receives sufficient radiant heat from the already heated adjacent crow substrate, so that the temperature can be raised quickly, Effective heat treatment can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の焼成方法に採用される装置システムの
概略正面図である。
FIG. 1 is a schematic front view of an apparatus system employed in a firing method of the present invention.

【図2】図1の焼成炉内を示す側断面図である。FIG. 2 is a side sectional view showing the inside of the firing furnace of FIG.

【図3】本発明の第1の実施の形態を示すガラス基板の
投入、排出の順序を説明するための図である。
FIG. 3 is a view for explaining the order of loading and discharging of the glass substrate according to the first embodiment of the present invention.

【図4】同じく、順序説明の図である。FIG. 4 is also a diagram for explaining the order.

【図5】同じく、順序説明の図である。FIG. 5 is also a diagram for explaining the order.

【図6】同じく、順序説明の図である。FIG. 6 is also a diagram for explaining the order.

【図7】同じく、順序説明の図である。FIG. 7 is also a diagram for explaining the order.

【図8】同じく、順序説明の図である。FIG. 8 is also a diagram for explaining the order.

【図9】同じく、順序説明の図である。FIG. 9 is also a view for explaining the order.

【図10】同じく、順序説明の図である。FIG. 10 is also a diagram for explaining the order.

【図11】同じく、順序説明の図である。FIG. 11 is also a diagram for explaining the order.

【図12】同じく、順序説明の図である。FIG. 12 is also a diagram for explaining the order.

【図13】同じく、順序説明の図である。FIG. 13 is also a diagram for explaining the order.

【図14】同じく、順序説明の図である。FIG. 14 is also a diagram for explaining the order.

【図15】同じく、順序説明の図である。FIG. 15 is also a diagram for explaining the order.

【図16】同じく、順序説明の図である。FIG. 16 is also a diagram for explaining the order.

【図17】同じく、順序説明の図である。FIG. 17 is also a view for explaining the order.

【図18】同じく、順序説明の図である。FIG. 18 is also a diagram for explaining the order.

【図19】同じく、順序説明の図である。FIG. 19 is also a diagram for explaining the order.

【図20】同じく、順序説明の図である。FIG. 20 is also a diagram for explaining the order.

【図21】同じく、順序説明の図である。FIG. 21 is also a diagram for explaining the order.

【図22】上記順序に際しての1順目のガラス基板の熱
的影響を示した図である。
FIG. 22 is a view showing a thermal effect of a first-order glass substrate in the above order.

【図23】本発明の上述の実施の形態におけるガラス基
板の熱的影響を示した図である。
FIG. 23 is a diagram showing a thermal effect of the glass substrate in the above embodiment of the present invention.

【図24】同じく、通常(従来)の場合の2順目以降を
示した図である。
FIG. 24 is a diagram showing a second order and subsequent steps in a normal (conventional) case.

【図25】同じく、最上段において本発明のダミー基板
を使用した場合の図である。
FIG. 25 is also a diagram when the dummy substrate of the present invention is used in the uppermost stage.

【図26】通常(従来)の場合の最下段のガラス基板の
熱的影響を示した図である。
FIG. 26 is a diagram showing a thermal effect of a lowermost glass substrate in a normal (conventional) case.

【図27】同じく、最下段において本発明のダミー基板
を使用した場合の図である。
FIG. 27 is also a diagram in the case where the dummy substrate of the present invention is used in the lowermost stage.

【図28】本発明の第2の実施の形態におけるガラス基
板の投入、排出の順序を説明するための図である。
FIG. 28 is a view for explaining the order of charging and discharging glass substrates according to the second embodiment of the present invention.

【図29】同じく、順序説明の図である。FIG. 29 is a view for explaining the order in the same manner.

【図30】同じく、順序説明の図である。FIG. 30 is also a view for explaining the order.

【図31】同じく、順序説明の図である。FIG. 31 is also a view for explaining the order.

【図32】同じく、順序説明の図である。FIG. 32 is also a view for explaining the order.

【図33】同じく、順序説明の図である。FIG. 33 is also a view for explaining the order.

【図34】同じく、順序説明の図である。FIG. 34 is also a diagram for explaining the order.

【図35】同じく、順序説明の図である。FIG. 35 is also a view for explaining the order.

【図36】同じく、順序説明の図である。FIG. 36 is also a view for explaining the order.

【図37】同じく、順序説明の図である。FIG. 37 is also a view for explaining the order.

【図38】同じく、順序説明の図である。FIG. 38 is also a view for explaining the order.

【図39】同じく、順序説明の図である。FIG. 39 is a view for explaining the order in the same manner.

【図40】同じく、順序説明の図である。FIG. 40 is also a view for explaining the order.

【図41】同じく、順序説明の図である。FIG. 41 is also a view for explaining the order.

【図42】同じく、順序説明の図である。FIG. 42 is also a diagram for explaining the order.

【図43】同じく、順序説明の図である。FIG. 43 is also a view for explaining the order.

【図44】同じく、順序説明の図である。FIG. 44 is also a view for explaining the order.

【図45】同じく、順序説明の図である。FIG. 45 is also a view for explaining the order.

【図46】同じく、順序説明の図である。FIG. 46 is also a view for explaining the order.

【図47】同じく、順序説明の図である。FIG. 47 is also a view for explaining the order.

【図48】同じく、順序説明の図である。FIG. 48 is also a view for explaining the order.

【図49】本発明の第2の実施の形態におけるガラス基
板の熱的影響を示す図である。
FIG. 49 is a diagram showing a thermal effect of a glass substrate according to the second embodiment of the present invention.

【図50】従来の順序におけるガラス基板の熱的影響を
示す図である。
FIG. 50 is a diagram showing a thermal effect of a glass substrate in a conventional order.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、4 コンベア 2、3 ロボット 5 焼成炉 6 カセット 7 保持棚部 8 ボールネジ 9 ガイドレール 10 モータ G、G1 〜G7 、G’1 〜G’7 ガラス基板(被焼
成物) H 吸着ハンド S スリット
1,4 conveyor 2,3 robot 5 calcining furnace 6 cassettes 7 holding ledges 8 ball screw 9 guide rails 10 motor G, G 1 ~G 7, G '1 ~G' 7 glass substrate (object to be fired product) H suction hand S slit

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 焼成炉内に、上下に多段のガラス基板用
保持棚部を備えたカセットを配置し、このカセットを昇
降動作して、前記保持棚部にある焼成完了のガラス基板
を各葉毎に前記焼成炉内から取り出すと共に、前記焼成
炉内にガラス基板を各葉毎に送り込んで、空の保持棚部
に装填し、それぞれのガラス基板を一定時間、焼成する
ガラス基板焼成方法において、前記カセットの所定段の
保持棚部に、ダミー基板を装填し、これに隣接する保持
棚部のガラス基板にダミー基板からの輻射熱を与えるこ
とを特徴とするガラス基板焼成方法。
1. A cassette provided with a plurality of glass substrate holding shelves at the top and bottom in a firing furnace, and the cassette is moved up and down to remove the fired glass substrates in the holding shelf. A glass substrate firing method in which the glass substrates are taken out of the firing furnace every time, and the glass substrates are fed into the firing furnace for each leaf, loaded into empty holding shelves, and each glass substrate is fired for a certain period of time. A method of firing a glass substrate, comprising: loading a dummy substrate in a holding shelf at a predetermined stage of the cassette; and applying radiant heat from the dummy substrate to a glass substrate in a holding shelf adjacent to the dummy shelf.
【請求項2】 前記ダミー基板を装填した保持棚部は、
カセットの保持棚部の最上段に設定されていることを特
徴とする請求項1に記載のガラス基板焼成方法。
2. A holding shelf loaded with the dummy substrate,
2. The glass substrate firing method according to claim 1, wherein the glass substrate firing method is set at the top of the holding shelf of the cassette.
【請求項3】 前記ダミー基板を装填した保持棚部は、
カセットの保持棚部の最下段に設定されていることを特
徴とする請求項1に記載のガラス基板焼成方法。
3. A holding shelf loaded with the dummy substrate,
2. The glass substrate firing method according to claim 1, wherein the glass substrate is set at the lowermost stage of a holding shelf of the cassette.
【請求項4】 前記ダミー基板を装填した保持棚部は、
カセットの保持棚部の最上段および最下段に設定されて
いることを特徴とする請求項1に記載のガラス基板焼成
方法。
4. A holding shelf loaded with the dummy substrate,
2. The glass substrate firing method according to claim 1, wherein the glass shelf is set at the top and bottom of the holding shelf of the cassette.
【請求項5】 焼成炉内に、上下に多段のガラス基板用
保持棚部を備えたカセットを配置し、このカセットを昇
降動作して、前記保持棚部にある焼成完了のガラス基板
を各葉毎に前記焼成炉内から取り出すと共に、前記焼成
炉内にガラス基板を各葉毎に送り込んで、空の保持棚部
に装填し、それぞれのガラス基板を一定時間、焼成する
ガラス基板焼成方法において、前記焼成炉内へのガラス
基板の送り込み、および、前記焼成炉内からのガラス基
板の取り出しを、前記カセットの保持棚部について、少
なくとも、1隔毎に行うことを特徴とするガラス基板焼
成方法。
5. A cassette provided with a plurality of glass substrate holding shelves at the top and bottom in a firing furnace, and the cassette is moved up and down to remove the fired glass substrates in the holding shelf. A glass substrate firing method in which the glass substrates are taken out of the firing furnace every time, and the glass substrates are fed into the firing furnace for each leaf, loaded into empty holding shelves, and each glass substrate is fired for a certain period of time. A method of firing a glass substrate, wherein the feeding of the glass substrate into the firing furnace and the removal of the glass substrate from the firing furnace are performed at least at intervals of a holding shelf of the cassette.
【請求項6】 前記焼成炉はインラインで前後装置の連
携されていることを特徴とする請求項1あるいは5に記
載のガラス基板焼成方法。
6. The method of firing a glass substrate according to claim 1, wherein the firing furnace includes an in-line and a downstream apparatus linked to each other.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012214328A (en) * 2011-03-31 2012-11-08 Kaneka Corp Substrate cooling device, substrate curing device and substrate manufacturing method

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