JPH10226746A - Epoxy resin molding material for semiconductor sealing and semiconductor device - Google Patents

Epoxy resin molding material for semiconductor sealing and semiconductor device

Info

Publication number
JPH10226746A
JPH10226746A JP5014997A JP5014997A JPH10226746A JP H10226746 A JPH10226746 A JP H10226746A JP 5014997 A JP5014997 A JP 5014997A JP 5014997 A JP5014997 A JP 5014997A JP H10226746 A JPH10226746 A JP H10226746A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
epoxy resin
molding material
resin
phenol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5014997A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumio Furusawa
文夫 古沢
Seiichi Akagi
清一 赤城
Shinsuke Hagiwara
伸介 萩原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP5014997A priority Critical patent/JPH10226746A/en
Publication of JPH10226746A publication Critical patent/JPH10226746A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin molding material for semiconductor sealing, being excellent in moldability such as hot hardness and improved in reflow crack resistance. SOLUTION: This material essentially consists of a polyfunctional epoxy resin (A) having at least 2.3 epoxy groups on the average per molecule, a curing agent (B) containing a modified phenolic resin obtained by reacting a phenol with a fused polycyclic aromatic hydrocarbon and a formaldehyde source and an inorganic filler (C) and satisfies the following requirements: the ratio X/Y is 0.8-1.2 (wherein X is the number of the epoxy groups of component A, and Y is the number of the hydroxyl groups of component B; the modified phenolic resin of component B has a melt viscosity of 5 poise or lower at 150 deg.C and a hydroxyl equivalent of 150 or below; and the content of component C is 80-93wt.% based on the entire material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体封止用エポ
キシ樹脂成形材料、特に表面実装型半導体の封止に好適
な成形材料及びその成形材料の硬化物によって封止され
た半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin molding material for semiconductor encapsulation, and more particularly to a molding material suitable for encapsulating a surface mount semiconductor and a semiconductor device sealed with a cured product of the molding material.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、トランジスタ、IC等の半導
体封止の分野ではエポキシ樹脂成形材料が広く用いられ
ている。この理由としては、エポキシ樹脂が成形性、電
気特性、耐湿性、耐熱性、機械特性、インサート品との
接着性等の諸特性にバランスがとれているためである。
特に、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂とフ
ェノールノボラック硬化剤の組み合わせは、これら特性
バランスに優れており、半導体封止用成形材料のベース
樹脂として広範囲に使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, epoxy resin molding materials have been widely used in the field of semiconductor encapsulation of transistors, ICs and the like. The reason for this is that the epoxy resin is balanced in various properties such as moldability, electrical properties, moisture resistance, heat resistance, mechanical properties, and adhesiveness to insert products.
In particular, a combination of an ortho-cresol novolak type epoxy resin and a phenol novolak curing agent has an excellent balance of these properties, and is widely used as a base resin of a molding material for semiconductor encapsulation.

【0003】近年、半導体部品のプリント配線板への高
密度実装化が進むに伴い、半導体パッケ−ジは従来のD
IP(Dual In−line Package)等
のピン挿入型のパッケージが減少し、QFP(Quad
Flat Package)、SOP(Small
Out−line Package)、TQFP(Th
in Quad Flat Package)、TSO
P(Small Out−line Package)
等の小型薄型の表面実装型のパッケージが増加してい
る。表面実装型パッケージは従来のピン挿入型のものと
実装方法が異なり、配線板表面に仮止めされた後、はん
だバスやリフロー装置等ではんだ付け処理されるため、
パッケ−ジ全体がはんだ付け温度にさらされる。この結
果、半導体パッケージが吸湿している場合、はんだ付け
時に吸湿水分が急激に気化膨張し、接着界面の剥離やパ
ッケージクラックが発生し、耐湿性が大きく低下すると
いう現象が表面実装型パッケージの最大の問題点となっ
ている。一方、半導体パッケージの成形方式について
は、省人化の点から自動化が進んでおり、成形材料に対
する要求として、成形性(離型性や熱時硬度)が重要な
特性項目になっている。
[0003] In recent years, with the progress of high-density mounting of semiconductor parts on a printed wiring board, semiconductor packages have been used in conventional D-packages.
Pin insertion type packages such as IP (Dual In-line Package) have been reduced, and QFP (Quad
Flat Package), SOP (Small
Out-line Package), TQFP (Th
in Quad Flat Package), TSO
P (Small Out-line Package)
The number of small and thin surface-mounted packages, such as those described above, is increasing. The mounting method of the surface mount type package is different from the conventional pin insertion type package.Since it is temporarily fixed to the wiring board surface, it is soldered with a solder bath or reflow device, etc.
The entire package is exposed to the soldering temperature. As a result, when the semiconductor package absorbs moisture, the moisture absorbed rapidly evaporates and expands during soldering, peeling of the bonding interface and package cracking occur, and the phenomenon that the moisture resistance is greatly reduced is the largest phenomenon of the surface mount type package. Has become a problem. On the other hand, with respect to the method of molding a semiconductor package, automation is progressing in terms of labor saving, and moldability (releasability and heat hardness) is an important characteristic item as a requirement for a molding material.

【0004】以上のような動向に対処するため、成形材
料の改良が活発に進められてきた。リフロ−時のパッケ
−ジクラックを改良するため、成形材料の樹脂成分であ
るエポキシ樹脂や硬化剤の見直しが行われた結果、従来
のオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂より吸湿
性及び接着性に優れたビフェニル骨格型エポキシ樹脂を
配合した各種の成形材料が提案されている(特開昭64
−65116号公報、特開平3−207714号公報な
ど)。現在、このビフェニル型エポキシ樹脂を配合した
成形材料が表面実装型パッケ−ジの封止用として実用化
され始めており、表面実装型パッケージの耐リフロー性
向上に大きく貢献している。
[0004] In order to cope with such trends, improvement of molding materials has been actively promoted. In order to improve the package crack during reflow, the epoxy resin and the curing agent, which are resin components of the molding material, were reviewed, and as a result, biphenyl with better hygroscopicity and adhesiveness than conventional ortho-cresol novolak type epoxy resin Various molding materials containing a skeletal epoxy resin have been proposed (JP-A-64
-65116, JP-A-3-207714, etc.). At present, molding materials containing this biphenyl type epoxy resin have begun to be put to practical use for sealing surface mount packages, and have greatly contributed to the improvement of reflow resistance of surface mount packages.

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the invention]

【0005】上記のビフェニル型エポキシ樹脂を配合し
た成形材料は、従来のオルソクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂を配合した成形材料に比べて耐リフロー性は
格段に優れているものの、成形性(離型性や熱時硬度)
の点で劣っており、改良が望まれている。ビフェニル型
エポキシ樹脂は、2官能性のモノマ−を主体としたエポ
キシ樹脂であるため、成形後の熱時硬度が低い(柔らか
い)。この結果、金型からの脱型がしにくい、また、パ
ッケージが変形し易いためインサートである半導体素子
がクラックするという深刻な問題点がある。
[0005] The molding material containing the above biphenyl type epoxy resin is remarkably excellent in reflow resistance as compared with the molding material containing the conventional orthocresol novolak type epoxy resin, but the moldability (releasability, Hardness when hot)
Therefore, improvement is desired. The biphenyl type epoxy resin is an epoxy resin mainly composed of a bifunctional monomer, and therefore has a low heat hardness (soft) after molding. As a result, there is a serious problem that the mold is difficult to be removed from the mold and that the semiconductor element as an insert is cracked because the package is easily deformed.

【0006】以上のような背景から、ビフェニル型エポ
キシ樹脂を配合した材料と同等の耐リフロー性を有し、
成形性は従来のオルソクレゾールノボラック型エポキシ
樹脂と同等に優れた成形材料が強く求められている。
[0006] From the above background, it has the same reflow resistance as a material containing a biphenyl type epoxy resin,
There is a strong demand for a molding material that is as excellent in moldability as a conventional orthocresol novolak type epoxy resin.

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

【0007】本発明者らは、上記の課題を解決するた
め、熱時硬度が高く成形性の良い成形材料でありながら
耐リフロー性にも優れた材料を見いだすべく鋭意研究を
重ねた結果、多官能エポキシ樹脂と特定の硬化剤の組合
せ及びそれらの配合量、また、特定含有量の無機充填剤
を配合した成形材料が、上記の要求を満足し得ることを
見いだし、本発明を完成するに至った。
To solve the above-mentioned problems, the present inventors have conducted intensive studies to find a material having high heat hardness and good moldability, but also excellent reflow resistance. It has been found that a combination of a functional epoxy resin and a specific curing agent and their compounding amounts, and a molding material containing an inorganic filler having a specific content can satisfy the above-mentioned requirements, and have completed the present invention. Was.

【0008】すなわち、本発明は、 (A)一分子中の平均エポキシ基数が2.3以上の多官
能エポキシ樹脂 (B)フェノ−ル類と縮合多環芳香族炭化水素とホルム
アルデヒド源を反応させて得られる変性フェノ−ル樹脂
を含む硬化剤 (C)無機充填剤 を必須成分とする成形材料であって、(A)成分中のエ
ポキシ基数をX、(B)成分中の水酸基数をYとしたと
き、X/Y=0.8〜1.2であり、(B)成分中の変
性フェノ−ル樹脂の150℃における溶融粘度が5ポイ
ズ以下でかつ水酸基当量が150以下であり、(C)成
分の含有量が成形材料全体に対して80〜93重量%で
あることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂成形材
料であり、さらに、この成形材料の硬化物によって封止
された半導体装置である。
That is, the present invention provides: (A) a polyfunctional epoxy resin having an average number of epoxy groups in one molecule of 2.3 or more; (B) reacting a phenol, a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon and a formaldehyde source. A curing material containing a modified phenolic resin obtained by the above method, wherein (C) an inorganic filler is an essential component, and the number of epoxy groups in component (A) is X, and the number of hydroxyl groups in component (B) is Y. X / Y = 0.8 to 1.2, the modified phenol resin in the component (B) has a melt viscosity at 150 ° C. of 5 poise or less and a hydroxyl equivalent of 150 or less; An epoxy resin molding material for semiconductor encapsulation, wherein the content of the component (C) is 80 to 93% by weight with respect to the entire molding material, and the semiconductor encapsulated by a cured product of the molding material. Device.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明において用いられる(A)
成分のエポキシ樹脂は、一分子中の平均エポキシ基数が
2.3官能以上の多官能エポキシ樹脂である。具体的に
例示すれば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オ
ルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノ
−ルAノボラック型エポキシ樹脂をはじめとするフェノ
ール類とアルデヒド類から合成されるノボラック樹脂を
エポキシ化したエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンと
フェノ−ル類の共縮合樹脂のエポキシ化物、ナフタレン
環を有するエポキシ樹脂、ナフトールアラルキル樹脂の
エポキシ化物、トリメチロールプロパン型エポキシ樹
脂、テルペン変性エポキシ樹脂等があり、単独又は2種
類以上併用して使用することができる。これらのエポキ
シ樹脂は、フェノ−ル系化合物とエピハロヒドリンを反
応させることにより製造されるが、原料であるフェノ−
ル系化合物の分子量を制御することにより、エポキシ樹
脂の分子量もほぼ任意に制御することが可能である。各
エポキシ樹脂ともに、分子量の異なる数種のグレードが
市販されている。これらの中で、本発明を達成するため
には、一分子中のエポキシ基の数が平均2.3個以上含
むことが必須の条件である。一分子中の平均エポキシ基
数を、正確に求めることは困難であるが、本発明で規定
する値は、テトラヒドロフランを溶離液とするゲルパー
ミュエーションクロマトグラフィー(GPC)によって
求めた数平均分子量と一般構造式より求めた値である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (A) used in the present invention
The component epoxy resin is a polyfunctional epoxy resin having an average number of epoxy groups in one molecule of 2.3 or more. If specifically illustrated, a phenol novolak type epoxy resin, an orthocresol novolak type epoxy resin, an epoxy resin obtained by epoxidizing a novolak resin synthesized from phenols and aldehydes including a bisphenol A novolak type epoxy resin, Epoxidized co-condensed resin of dicyclopentadiene and phenols, epoxy resin having naphthalene ring, epoxidized naphthol aralkyl resin, trimethylolpropane type epoxy resin, terpene-modified epoxy resin, etc., alone or in combination of two or more It can be used in combination. These epoxy resins are produced by reacting a phenolic compound with epihalohydrin.
By controlling the molecular weight of the epoxy-based compound, the molecular weight of the epoxy resin can be almost arbitrarily controlled. Several grades with different molecular weights are commercially available for each epoxy resin. Among these, in order to achieve the present invention, it is an essential condition that the number of epoxy groups in one molecule is 2.3 or more on average. Although it is difficult to accurately determine the average number of epoxy groups in one molecule, the value specified in the present invention is the same as the number average molecular weight determined by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as an eluent. This is a value obtained from the structural formula.

【0010】本発明において用いられる(B)成分中に
含まれる変性フェノ−ル樹脂は、フェノ−ル類と縮合多
環芳香族炭化水素とホルムアルデヒド源を酸触媒下で反
応させて得られ、その150℃における溶融粘度が5ポ
イズ以下かつ水酸基当量が150以下の硬化剤である。
The modified phenol resin contained in the component (B) used in the present invention is obtained by reacting a phenol, a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon and a formaldehyde source under an acid catalyst. A curing agent having a melt viscosity at 150 ° C. of 5 poise or less and a hydroxyl equivalent of 150 or less.

【0011】縮合多環芳香族炭化水素は、石油系重質油
類またはピッチ類に含まれる成分であり、合成原料とし
てこれらの石油系重質油類またはピッチ類を用いてもよ
い。石油系重質油類またはピッチ類は、原油の蒸留残
油、水添分解残油、接触分解残油、ナフサまたはLPG
の熱分解残油及びこれら残油の減圧蒸留物、溶剤抽出に
よるエキストラクト或いは熱処理物として得られるもの
であり、これらの中から芳香族炭化水素分率fa値及び
芳香族水素量Ha値の適当なものを選んで使用する。本
発明に適する石油系重質油類またはピッチ類は、fa値
が0.40〜0.95、Ha値が0.2〜0.8となる
ものである。なお、fa値及びHa値は、次の式で計算
される値であり、fa値は、13C−NMRから、Ha
値は1H−NMRによって求めることができる。 fa値=油またはピッチ中の芳香族炭素数/油またはピ
ッチ中の全炭素数 Ha値=油またはピッチ中の芳香族水素数/油またはピ
ッチ中の全水素数 fa値が0.40より小さくなると、芳香族分が少なく
なるため、硬化物の低吸湿化に対する効果が小さい。
0.95より大きいと、ホルムアルデヒド成分との反応
性が低くなり好ましくない。Ha値については、0.2
より小さくなると、ホルムアルデヒド成分と反応する芳
香族水素分が少なくなり反応性が低下するため、好まし
くない。0.8より大きい場合は硬化物の強度が低くな
る傾向があるため、好ましくない。
The condensed polycyclic aromatic hydrocarbon is a component contained in petroleum heavy oils or pitches, and these petroleum heavy oils or pitches may be used as a raw material for synthesis. Petroleum heavy oils or pitches include crude oil distillation residue, hydrogenolysis residue, catalytic cracking residue, naphtha or LPG
And a residue obtained by decompressing the residual oil under reduced pressure, extracting by solvent extraction, or heat-treating. Among them, the aromatic hydrocarbon fraction fa value and the aromatic hydrogen content Ha value Choose and use the one that is best for you. The petroleum heavy oils or pitches suitable for the present invention have a fa value of 0.40 to 0.95 and a Ha value of 0.2 to 0.8. Note that the fa value and the Ha value are values calculated by the following formulas.
The value can be determined by 1H-NMR. Fa value = Number of aromatic carbons in oil or pitch / total carbon number in oil or pitch Ha value = Number of aromatic hydrogens in oil or pitch / Total hydrogen number in oil or pitch Fa value is less than 0.40 If so, the aromatic content is reduced, and the effect of reducing the moisture absorption of the cured product is small.
If it is larger than 0.95, the reactivity with the formaldehyde component is undesirably low. For the Ha value, 0.2
A smaller size is not preferred because the amount of aromatic hydrogen reacting with the formaldehyde component is reduced and the reactivity is reduced. If it is more than 0.8, the strength of the cured product tends to be low, and therefore it is not preferable.

【0012】また、石油系重質油類またはピッチ類を構
成する芳香族炭化水素の縮合環数は、特に限定されない
が、2〜4環の縮合多環芳香族炭化水素であることが好
ましい。石油系重質油類またはピッチ類が5環以上の縮
合多環芳香族炭化水素を多く含む場合は、得られる変性
フェノ〜ル樹脂の粘度が高くなる傾向や水酸基当量が大
きくなるため、本発明には適しない。また、石油系重質
油類またはピッチ類が主に単環芳香族炭化水素である場
合には、ホルムアルデヒドとの反応性が低いため、得ら
れる変性フェノ−ル樹脂の改質効果が十分でない。
The number of condensed rings of the aromatic hydrocarbons constituting the petroleum heavy oils or pitches is not particularly limited, but is preferably a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon having 2 to 4 rings. When the petroleum heavy oils or pitches contain a large amount of condensed polycyclic aromatic hydrocarbons having 5 or more rings, the resulting modified phenolic resin tends to have a high viscosity and a large hydroxyl equivalent, so that the present invention Not suitable for Further, when the petroleum heavy oils or pitches are mainly monocyclic aromatic hydrocarbons, the reactivity with formaldehyde is low, and the effect of modifying the resulting modified phenol resin is not sufficient.

【0013】ホルムアルデヒド源としては、パラホルム
アルデヒド、ポリオキシメチレン、トリオキサン等を用
いることができる。石油系重質油類またはピッチ類とホ
ルムアルデヒド重合物の混合比は、ホルムアルデヒド重
合物のホルムアルデヒド換算モル数が、石油系重質油類
またはピッチ類の平均分子量より算出される値1モルに
対して1〜15であって、より好ましくは、3〜11で
ある。1未満の場合は、得られる変性フェノ−ル樹脂の
強度が低いので好ましくない。一方、15より大きい場
合は、得られる変性フェノ−ル樹脂の性能及び収量共に
ほとんど変わらないため、無駄になる。
As a formaldehyde source, paraformaldehyde, polyoxymethylene, trioxane and the like can be used. The mixing ratio of petroleum heavy oils or pitches to formaldehyde polymer is such that the number of moles of formaldehyde polymer in terms of formaldehyde is based on 1 mole of the value calculated from the average molecular weight of petroleum heavy oils or pitches. It is 1-15, More preferably, it is 3-11. When it is less than 1, the strength of the resulting modified phenol resin is low, such being undesirable. On the other hand, if it is larger than 15, both the performance and the yield of the resulting modified phenolic resin hardly change, so that it is wasted.

【0014】酸触媒の具体例としては、ブレンステッド
酸、ルイス酸等が挙げられるが、ブレンステッド酸が好
ましい。ブレンステッド酸としては、p−トルエンスル
ホン酸、塩酸、硫酸、ギ酸等が使用できるが、p−トル
エンスルホン酸、塩酸が特に好ましい。酸触媒の使用量
は、石油系重質油類またはピッチ類とホルムアルデヒド
との合計量に対して、0.1〜30重量%、好ましくは
1〜10重量%である。酸触媒の使用量が少ない場合は
反応時間が長くなり、また、多すぎてもその割には反応
速度が速くならないため、コスト的に不利になる。
Specific examples of the acid catalyst include Bronsted acids and Lewis acids, but Bronsted acids are preferred. As the Bronsted acid, p-toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid and the like can be used, but p-toluenesulfonic acid and hydrochloric acid are particularly preferable. The amount of the acid catalyst used is 0.1 to 30% by weight, preferably 1 to 10% by weight, based on the total amount of petroleum heavy oils or pitches and formaldehyde. When the amount of the acid catalyst used is small, the reaction time is prolonged, and when the amount is too large, the reaction speed is not so high, which is disadvantageous in cost.

【0015】フェノ−ル類としては、フェノ−ル、オル
ソクレゾール、メタクレゾール、パラクレゾール、キシ
レノール、レゾルシン、カテコール、ヒドロキノン、ビ
スフェノ−ルA、ビスフェノ−ルF、αーナフトール、
βーナフトール等のフェノ−ル系化合物等を挙げること
ができ、単独又は2種類以上併用して原料フェノ−ル類
として使用することができるが、成形材料の硬化性(熱
時硬度)点から、フェノ−ルが最も適している。フェノ
−ル類のモル数は、前記石油系重質油類またはピッチ類
の平均分子量より算出される値1モルに対して0.3〜
10モルが好ましく、より好ましくは0.5〜5モルで
ある。添加量が0.3モル以下の場合には最終的に得ら
れる硬化物の機械的強度が低くなる傾向があるため好ま
しくない。一方、10モル以上の場合には、得られる変
性フェノ−ル樹脂の改質効果が小さく好ましくない。
Examples of phenols include phenol, orthocresol, metacresol, paracresol, xylenol, resorcin, catechol, hydroquinone, bisphenol A, bisphenol F, α-naphthol,
Phenol compounds such as β-naphthol can be used, and these can be used alone or in combination of two or more as raw phenols. Phenol is most suitable. The number of moles of the phenols is from 0.3 to 1 mole per mole of the value calculated from the average molecular weight of the petroleum heavy oils or pitches.
It is preferably 10 mol, more preferably 0.5 to 5 mol. If the addition amount is 0.3 mol or less, the mechanical strength of the finally obtained cured product tends to decrease, which is not preferable. On the other hand, when the amount is more than 10 mol, the modifying effect of the resulting modified phenolic resin is small, which is not preferable.

【0016】(B)成分中の変性フェノ−ル樹脂を得る
ための反応は、無溶媒でも溶媒を使用しても行うことが
できる。使用できる溶媒の具体例としてはトルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素、メチルイソブチルケト
ンのようなケトン類、クロルベンゼンのようなハロゲン
化芳香族炭化水素、ニトロベンゼンのようなニトロ化芳
香族炭化水素、ニトロエタン、ニトロプロパンのような
ニトロ化脂肪族炭化水素、パークレン、トリクレン、四
塩化炭素のようなハロゲン化脂肪族炭化水素が挙げられ
る。反応終了後は、中和処理あるいは水洗処理を行っ
て、反応系のpH値を3〜7好ましくは5〜7に調節し
ておくことが好ましい。中和処理を行う場合は水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化
物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアル
カリ土類金属水酸化物、アンモニア、ジエチレントリア
ミン、トリエチレンテトラミン、アニリン、フェニレン
ジアミンなどの有機アミン類を中和剤として使用するこ
とができる。また、水洗処理の場合は常法にしたがって
行えばよい。例えば、反応系中に上記中和剤をを溶解し
た水を加えて分液抽出操作を繰り返えせば良い。中和処
理を行った後、溶剤を使用した場合は減圧加熱下で溶剤
を留去し濃縮操作を行い、目的とする変性フェノ−ル樹
脂を得ることができる。
The reaction for obtaining the modified phenolic resin in the component (B) can be carried out without a solvent or using a solvent. Specific examples of solvents that can be used include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, ketones such as methyl isobutyl ketone, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, and nitrated aromatic hydrocarbons such as nitrobenzene. And nitrated aliphatic hydrocarbons such as nitroethane and nitropropane, and halogenated aliphatic hydrocarbons such as perchrene, trichlene and carbon tetrachloride. After completion of the reaction, it is preferable to perform a neutralization treatment or a water washing treatment to adjust the pH value of the reaction system to 3 to 7, preferably 5 to 7. When performing the neutralization treatment, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide, ammonia, diethylenetriamine, triethylenetetramine, aniline, and phenylene Organic amines such as diamines can be used as neutralizing agents. In the case of the water washing treatment, it may be carried out according to a conventional method. For example, water in which the neutralizing agent is dissolved may be added to the reaction system, and the separation and extraction operation may be repeated. After the neutralization treatment, when a solvent is used, the solvent is distilled off under heating under reduced pressure and a concentration operation is performed to obtain a desired modified phenol resin.

【0017】(B)成分中の変性フェノ−ル樹脂はすな
わち、樹脂骨格中に次の成分(I)及び成分(II)を含
むものである。 −Ph−CH2− ・・・・・(I) −PC−CH2− ・・・・・(II) ここで、Phはフェノ−ル類を示し、たとえば先に例示
したもの等が挙げられ、異なるフェノ−ル類を用いた成
分(I)が樹脂中に2種以上含まれていてもよい。PC
は縮合多環芳香族炭化水素を示し、たとえばナフタレ
ン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ベンズア
ントラセン、ベンゾピレン等及びこれらに炭素数1〜5
のアルキル基が付加してなる化合物等が挙げられ、異な
る縮合多環芳香族炭化水素を用いた成分(II)が樹脂中
に2種以上含まれていてもよい。
The modified phenolic resin in the component (B) contains the following components (I) and (II) in the resin skeleton. -Ph-CH 2 - ····· (I ) -PC-CH 2 - ····· (II) wherein, Ph is phenol - indicates Le acids, and the like such as those exemplified above Two or more components (I) using different phenols may be contained in the resin. PC
Represents a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon, for example, naphthalene, anthracene, phenanthrene, pyrene, benzanthracene, benzopyrene, etc.
And the like. The resin may contain two or more types of component (II) using different condensed polycyclic aromatic hydrocarbons.

【0018】以上の変性フェノ−ル樹脂の一例として、
特開平7−252339号公報に開示がある。この変性
フェノ−ル樹脂は、鹿島石油株式会社製のPPF樹脂と
して入手できる。
As an example of the above modified phenol resin,
This is disclosed in JP-A-7-252339. This modified phenol resin can be obtained as a PPF resin manufactured by Kashima Oil Co., Ltd.

【0019】変性フェノ−ル樹脂の性状は、製造条件に
よって様々であるが、本発明の成形材料に使用できる変
性フェノ−ル樹脂は限定される。すなわち、150℃に
おける溶融粘度が5ポイズ以下かつ水酸基当量が150
以下であることが必須の条件である。150℃における
溶融粘度が5ポイズを越える場合は、成形材料の粘度が
高くなりすぎ、半導体装置を成形にて製造する際、未充
填不良や金線曲がり等の成形不良を発生し易くなるため
好ましくない。また、水酸基当量が150を越える場合
は、組み合わせるエポキシ樹脂の種類にもよるが、硬化
物の架橋密度が不足するため熱時硬度が低くなり、本発
明を達成することができない。
The properties of the modified phenol resin vary depending on the production conditions, but the modified phenol resin that can be used in the molding material of the present invention is limited. That is, the melt viscosity at 150 ° C. is 5 poise or less and the hydroxyl equivalent is 150 poise.
The following are essential conditions: When the melt viscosity at 150 ° C. exceeds 5 poise, the viscosity of the molding material becomes too high, and when a semiconductor device is produced by molding, molding defects such as unfilling failure and bending of a gold wire are likely to occur. Absent. Further, when the hydroxyl equivalent exceeds 150, although depending on the type of epoxy resin to be combined, the crosslinked density of the cured product is insufficient, so that the hardness at the time of heating becomes low, and the present invention cannot be achieved.

【0020】本発明において用いられる(B)成分は、
(A)成分であるエポキシ樹脂の硬化剤として作用する
ものであるが、上記変性フェノ−ル樹脂を単独で使用し
ても良いし、他の従来公知の硬化剤を併用しても良い。
併用できる硬化剤としては、フェノール、クレゾール、
レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェ
ノールF等のフェノール類又はα−ナフトール、β−ナ
フトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類と
ホルムアルデヒド等のアルデヒド類とを酸性触媒下で縮
合又は共縮合させて得られる樹脂、フェノール・アラル
キル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等があり、単独
又は2種類以上併用してもよいが、本発明を有効に発現
するためには、上記変性フェノ−ル樹脂の含有量を
(B)成分の硬化剤全量に対して、50重量%以上、好
ましくは70重量%以上含むことが好ましい。
The component (B) used in the present invention comprises:
The component (A) acts as a curing agent for the epoxy resin. The modified phenol resin may be used alone, or another conventionally known curing agent may be used in combination.
As curing agents that can be used in combination, phenol, cresol,
Resorcin, catechol, bisphenol A, phenols such as bisphenol F or α-naphthol, β-naphthol, naphthols such as dihydroxynaphthalene and aldehydes such as formaldehyde and a resin obtained by condensation or cocondensation under an acidic catalyst, Phenol / aralkyl resins, naphthol / aralkyl resins, etc., may be used alone or in combination of two or more. However, in order to effectively exhibit the present invention, the content of the modified phenolic resin should be adjusted to the component (B). Is preferably 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, based on the total amount of the curing agent.

【0021】また、(A)成分のエポキシ樹脂と(B)
成分の硬化剤の当量比、すなわち、エポキシ樹脂中のエ
ポキシ基数/硬化剤中の水酸基数の比を、0.8〜1.
2の範囲に設定することが、本発明を達成するための必
須条件である。これ以外の範囲では、良好な成形性を得
ることができない。
The epoxy resin (A) and the epoxy resin (B)
The equivalent ratio of the curing agent of the component, that is, the ratio of the number of epoxy groups in the epoxy resin / the number of hydroxyl groups in the curing agent is 0.8 to 1.
Setting the value in the range of 2 is an essential condition for achieving the present invention. Outside this range, good moldability cannot be obtained.

【0022】次に、(C)成分の無機充填剤は、吸湿性
の低減、機械強度の向上及び線膨張係数の低減のために
用いるものである。使用できる無機充填剤を例示すれ
ば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪
酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪素、窒化アル
ミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア等の粉体、又は
これらを球形化したビーズ、チタン酸カリウム、炭化珪
素、窒化珪素、アルミナ等の単結晶繊維、ガラス繊維等
を挙げることができるが、溶融シリカ粉末が特に好まし
い。また、充填剤の形状については、流動性の点から、
球状もしくは球状に近い形が好ましい。
Next, the inorganic filler of the component (C) is used for reducing the hygroscopicity, improving the mechanical strength and reducing the linear expansion coefficient. Examples of inorganic fillers that can be used include fused silica, crystalline silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, aluminum nitride, boron nitride, beryllia, zirconia, and other powders, or spherical beads of these. And monocrystalline fibers such as potassium titanate, silicon carbide, silicon nitride and alumina, glass fibers, etc., and fused silica powder is particularly preferred. Also, regarding the shape of the filler, from the viewpoint of fluidity,
A spherical or nearly spherical shape is preferred.

【0023】充填剤(C)の配合量は、成形材料を構成
する全組成物に対して、80〜93重量%であることが
必須条件である。80重量%以下では、吸水率が大きく
なり、耐リフロー性が十分でなく、93重量%以上で
は、成形材料の流動性が不足するためである。
It is an essential condition that the compounding amount of the filler (C) is 80 to 93% by weight based on the whole composition constituting the molding material. If it is less than 80% by weight, the water absorption becomes large, and the reflow resistance is not sufficient. If it is more than 93% by weight, the fluidity of the molding material is insufficient.

【0024】本発明の成形材料には、上記(A)〜
(C)成分以外に硬化促進剤を使用することができる。
例えば、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウン
デセン−7、1,5−ジアザ−ビシクロ(4,3,0)
ノネン−5、6−ヂブチルアミノ−1,8−ジアザ−ビ
シクロ(5,4,0)ウンデセン−7、ベンジルジメチ
ルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタ
ノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等
の3級アミン類及びこれらの誘導体、2−メチルイミダ
ゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4
−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、トリブチル
ホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニ
ルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフ
ィン等の有機ホスフィン類及びこれらのホスフィン類に
無水マレイン酸、ベンゾキノン、ジアゾフェニルメタン
等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有
するリン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフ
ェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニ
ルボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾールテト
ラフェニルボレート、N−メチルモリホリンテトラフェ
ニルボレート等のテトラフェニルボロン塩等があげられ
る。これらは、単独でも2種以上併用して用いても良
い。
The molding material of the present invention includes the above (A) to
A curing accelerator can be used in addition to the component (C).
For example, 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7,1,5-diaza-bicyclo (4,3,0)
Tertiary amines such as nonene-5,6-dibutylamino-1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, and tris (dimethylaminomethyl) phenol And derivatives thereof, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4
-Imidazoles such as methylimidazole, organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, and phenylphosphine; and phosphines having a π bond such as maleic anhydride, benzoquinone, and diazophenylmethane. Phosphorus compounds having intramolecular polarization obtained by adding a compound, such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, triphenylphosphine tetraphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate, and N-methylmorpholine tetraphenylborate And tetraphenylboron salts. These may be used alone or in combination of two or more.

【0025】さらに、その他の添加剤として、シランカ
ップリング剤等の表面処理剤、ブロム化エポキシ樹脂や
三酸化アンチモン、リン酸エステル、メラミン樹脂をは
じめとする含窒素化合物等の難燃剤、天然ワックス、合
成ワックス、酸化または非酸化のポリオレフィン等の離
型剤、カーボンブラック等の着色剤、シリコーンオイル
やシリコーンゴム粉末等の応力緩和剤等を必要に応じて
用いることができる。
Further, other additives include a surface treating agent such as a silane coupling agent, a flame retardant such as a brominated epoxy resin, a nitrogen-containing compound such as antimony trioxide, a phosphate ester and a melamine resin, and a natural wax. A releasing agent such as synthetic wax, oxidized or non-oxidized polyolefin, a coloring agent such as carbon black, a stress relieving agent such as silicone oil or silicone rubber powder, etc. can be used as required.

【0026】本発明における成形材料は、各種原材料を
均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用い
ても調製できるが、一般的な手法として、所定の配合量
の原材料をミキサー等によって十分混合した後、ミキシ
ングロール、押出機等によって溶融混練した後、冷却、
粉砕する方法を挙げることができる。成形条件に合うよ
うな寸法及び重量でタブレット化すると使いやすい。
The molding material in the present invention can be prepared by any method as long as the various raw materials can be uniformly dispersed and mixed. As a general method, the raw materials having a predetermined blending amount are sufficiently mixed by a mixer or the like. After mixing, melt-kneading with a mixing roll, extruder, etc., cooling,
A pulverizing method can be used. It is easy to use if it is tableted with dimensions and weight that match the molding conditions.

【0027】リードフレーム、配線済みのテープキャリ
ア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、
半導体素子を搭載し、必要な部分を本発明の成形材料で
封止して半導体装置を製造することができる。半導体素
子を封止する方法としては、低圧トランスファー成形法
が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮
成形法等を用いてもよい。
For supporting members such as lead frames, wired tape carriers, wiring boards, glass and silicon wafers,
A semiconductor device can be manufactured by mounting a semiconductor element and sealing necessary portions with the molding material of the present invention. As a method of sealing a semiconductor element, a low-pressure transfer molding method is most common, but an injection molding method, a compression molding method, or the like may be used.

【実施例】次に本発明の実施例を示すが、本発明の範囲
はこれらの実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Next, examples of the present invention will be described, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

【0028】実施例1〜9、比較例1〜10 図1の表1及び図2の表2に示すエポキシ樹脂及び硬化
剤のほか、硬化促進剤として1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7(DBU)のフェノ−ル
ノボラック樹脂塩(DBU含有量:30重量%)、離型
剤としてカルナバワックス、着色剤としてカーボンブラ
ック、カップリング剤として3−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、充填剤として平均粒径が16μの
球形溶融シリカ粉を用いて、実施例1〜9は図3の表
3、比較例1〜10は図4の表4に示す配合組成で、各
原材料をインテグラルブレンドで混合した後、10イン
チ径の加熱ロールを使用して、混練温度80〜90℃、
混練時間10〜12分の条件で混練し、シ−ト状の混練
物を冷却、粉砕することにより実施例1〜9及び比較例
1〜10の成形材料を作製した。
Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 10 In addition to the epoxy resins and curing agents shown in Table 1 of FIG. 1 and Table 2 of FIG. 2, 1,8-diazabicyclo (5,4,0 ) Phenol-novolak resin salt of undecene-7 (DBU) (DBU content: 30% by weight), carnauba wax as a releasing agent, carbon black as a coloring agent, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a coupling agent, Using spherical fused silica powder having an average particle diameter of 16μ as a filler, Examples 1 to 9 had the composition shown in Table 3 in FIG. 3 and Comparative Examples 1 to 10 had the composition shown in Table 4 in FIG. After mixing with a metal blend, a kneading temperature of 80 to 90 ° C.
Kneading was performed under the conditions of a kneading time of 10 to 12 minutes, and the sheet-like kneaded material was cooled and pulverized to produce molding materials of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 10.

【0029】なお、図2の表2に示した硬化剤1〜4
は、平均分子量270(蒸気圧浸透法による値)、沸点
242〜467℃、芳香族炭化水素分率(fa値)0.
64、芳香族水素量(Ha値)0.29の原料油と、パ
ラホルムアルデヒド、p−トルエンスルホン酸及びフェ
ノ−ルを用いて作製した。
The curing agents 1 to 4 shown in Table 2 of FIG.
Has an average molecular weight of 270 (value by vapor pressure osmosis method), a boiling point of 242 to 467 ° C., and an aromatic hydrocarbon fraction (fa value) of 0.1.
It was prepared using a raw material oil having an aromatic hydrogen content (Ha value) of 0.29, paraformaldehyde, p-toluenesulfonic acid and phenol.

【0030】作製した合計19種類の成形材料を次に示
す方法で評価した。 (1)流動性(スパイラルフロー:SF) EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金
型を用いて、金型温度175℃、成形圧力70kg/c
2、硬化時間90秒の条件で成形し、流動距離を求め
た。 (2)熱時硬度 成形温度175℃、成形圧力70kg/cm2、硬化時
間90秒の条件で、直径50mm、厚み3mmの円板状
の成形品を成形し、金型開き直後の成形品硬度をショア
−D型硬度計を用いて測定した。 (3)耐リフロークラック性 各成形材料を用い、寸法20×14×2mm、ピン数8
0のQFP(QuadFlatPackage、チップ
サイズ:8×10mm)を成形し、175℃、6時間、
後硬化することにより試験用パッケージを作製した。こ
のパッケージを恒温恒湿槽を用い、85℃/85%RH
の条件下、一定時間加湿した後、直ちにベ−パ−フェイ
ズリフロ−装置を用い、215℃/90秒の条件で加熱
した。室温に冷却した後、実体顕微鏡あるい超音波探査
装置を用いてクラックの有無を観察した。
A total of 19 types of molding materials produced were evaluated by the following method. (1) Fluidity (spiral flow: SF) Using a mold for measuring spiral flow according to EMMI-1-66, a mold temperature of 175 ° C and a molding pressure of 70 kg / c.
Molding was performed under the conditions of m 2 and a curing time of 90 seconds, and the flow distance was determined. (2) Hot Hardness A disk-shaped molded product having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm was molded under the conditions of a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 70 kg / cm 2 , and a curing time of 90 seconds, and the molded product hardness immediately after the mold was opened. Was measured using a Shore-D hardness tester. (3) Reflow crack resistance Using each molding material, dimensions 20 × 14 × 2 mm, number of pins 8
QFP (QuadFlatPackage, chip size: 8 × 10 mm) at 175 ° C. for 6 hours
A test package was prepared by post-curing. This package is placed in a thermo-hygrostat at 85 ° C / 85% RH.
After humidification for a certain period of time under the above conditions, the mixture was immediately heated at 215 ° C./90 seconds using a vapor phase reflow apparatus. After cooling to room temperature, the presence or absence of cracks was observed using a stereo microscope or an ultrasonic probe.

【0031】評価結果を図5の表5及び図6の表6に示
す。本発明における(B)成分中の変性フェノール樹脂
を含有しない比較例1では耐リフロー性が劣り、(A)
成分のエポキシ樹脂を含まない(エポキシ基数の少ない
エポキシ樹脂しか含まない)比較例4では成形性(熱時
硬度)が劣っている。両者をともに含まない比較例2、
3でも熱時硬度が低い。(B)成分中の変性フェノール
樹脂の性状が本発明の限定からはずれる比較例でも目標
値をクリアしていない。すなわち、水酸基当量が150
を超えている比較例5では流動性と熱時硬度が悪く、溶
融粘度が高い比較例6では流動性と耐リフロー性が劣っ
ている。また、(C)成分の含有量の少ない比較例7、
8は、耐リフロー性が悪く、(A)成分と(B)成分の
当量比が0.8〜1.2の範囲にない比較例9、10は
熱時硬度が低い。
The evaluation results are shown in Table 5 of FIG. 5 and Table 6 of FIG. In Comparative Example 1 in which the modified phenol resin in the component (B) in the present invention was not contained, the reflow resistance was poor, and (A)
In Comparative Example 4 which does not contain the epoxy resin as a component (only contains an epoxy resin having a small number of epoxy groups), the moldability (hardness when heated) is inferior. Comparative Example 2, which does not contain both,
3 also has a low hardness when heated. The properties of the modified phenolic resin in the component (B) do not meet the target values even in Comparative Examples in which the properties of the modified phenolic resin are outside the limits of the present invention. That is, the hydroxyl equivalent is 150
In Comparative Example 5, which exceeds 100, the fluidity and the hardness at the time of heating are poor, and in Comparative Example 6, which has a high melt viscosity, the fluidity and the reflow resistance are inferior. Comparative Example 7, in which the content of the component (C) was low,
Sample No. 8 has poor reflow resistance, and Comparative Examples 9 and 10 in which the equivalent ratio of component (A) to component (B) is not in the range of 0.8 to 1.2 have low hot hardness.

【0032】これに対して、(A)〜(C)成分を全て
含み、(A)成分と(B)成分の当量比、(B)成分中
の変性フェノール樹脂の性状、(C)成分の含有量も本
発明の限定を満たす実施例1〜9は、流動性、熱時硬
度、耐リフロ−クラック性のいずれも良好である。
On the other hand, all the components (A) to (C) are contained, the equivalent ratio of the components (A) and (B), the properties of the modified phenolic resin in the component (B), and the content of the component (C). Examples 1 to 9 in which the content satisfies the limitations of the present invention are all excellent in fluidity, hardness at hot time, and reflow crack resistance.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明によって得られる半導体封止用エ
ポキシ樹脂成形材料は、成形性に優れているため、半導
体の高生産性に寄与し、また、これを用いて作製した半
導体装置は、実施例で示したように耐リフロークラック
性に優れているため、その工業的価値は大である。
The epoxy resin molding material for semiconductor encapsulation obtained according to the present invention is excellent in moldability and thus contributes to high productivity of semiconductors. As shown in the examples, since it has excellent reflow crack resistance, its industrial value is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】成形材料に用いるエポキシ樹脂の内容を示す
表。
FIG. 1 is a table showing contents of an epoxy resin used for a molding material.

【図2】成形材料に用いる硬化剤の内容を示す表。FIG. 2 is a table showing contents of a curing agent used for a molding material.

【図3】実施例の配合組成を示す表。FIG. 3 is a table showing the composition of Examples.

【図4】比較例の配合組成を示す表。FIG. 4 is a table showing a composition of a comparative example.

【図5】実施例の成形材料の特性(評価結果)を示す
表。
FIG. 5 is a table showing characteristics (evaluation results) of molding materials of Examples.

【図6】比較例の成形材料の特性(評価結果)を示す
表。
FIG. 6 is a table showing characteristics (evaluation results) of molding materials of Comparative Examples.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 23/31 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 23/31

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(A)一分子中の平均エポキシ基数が2.
3以上の多官能エポキシ樹脂 (B)フェノ−ル類と縮合多環芳香族炭化水素とホルム
アルデヒド源を反応させて得られる変性フェノ−ル樹脂
を含む硬化剤 (C)無機充填剤 を必須成分とする成形材料であって、(A)成分中のエ
ポキシ基数をX、(B)成分中の水酸基数をYとしたと
き、X/Y=0.8〜1.2であり、(B)成分中の変
性フェノ−ル樹脂の150℃における溶融粘度が5ポイ
ズ以下でかつ水酸基当量が150以下であり、(C)成
分の含有量が成形材料全体に対して80〜93重量%で
あることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂成形材
料。
(1) The average number of epoxy groups in one molecule (A) is 2.
(B) a curing agent containing a modified phenol resin obtained by reacting a phenol, a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon and a formaldehyde source, and (C) an inorganic filler as an essential component. When the number of epoxy groups in the component (A) is X and the number of hydroxyl groups in the component (B) is Y, X / Y = 0.8 to 1.2, and the component (B) The modified phenolic resin has a melt viscosity at 150 ° C. of 5 poise or less and a hydroxyl equivalent of 150 or less, and the content of the component (C) is 80 to 93% by weight based on the whole molding material. Characteristic epoxy resin molding material for semiconductor encapsulation.
【請求項2】請求項1記載の成形材料の硬化物によって
封止された半導体装置。
2. A semiconductor device sealed with a cured product of the molding material according to claim 1.
JP5014997A 1996-12-12 1997-03-05 Epoxy resin molding material for semiconductor sealing and semiconductor device Pending JPH10226746A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5014997A JPH10226746A (en) 1996-12-12 1997-03-05 Epoxy resin molding material for semiconductor sealing and semiconductor device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8-332543 1996-12-12
JP33254396 1996-12-12
JP5014997A JPH10226746A (en) 1996-12-12 1997-03-05 Epoxy resin molding material for semiconductor sealing and semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10226746A true JPH10226746A (en) 1998-08-25

Family

ID=26390598

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5014997A Pending JPH10226746A (en) 1996-12-12 1997-03-05 Epoxy resin molding material for semiconductor sealing and semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10226746A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10330594A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic part and electronic part
JPH0948839A (en) Epoxy resin composition and semiconductor sealer
JP3137295B2 (en) Epoxy resin curing agent and epoxy resin composition
JPWO2003029323A1 (en) Phenol resin, epoxy resin, method for producing the same, and epoxy resin composition
JPH07206995A (en) Epoxy resin composition and sealing material for semiconductor
JPH10330591A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic part and electronic part
JPH10226746A (en) Epoxy resin molding material for semiconductor sealing and semiconductor device
JPH10265650A (en) Epoxy resin molding material for use in sealing electronic part and electronic part
JPH10330461A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic part and electronic part
JPH07258364A (en) Phenolic curative and semiconductor-sealing resin composition containing the same
JPH06271648A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic component
JPH04173828A (en) Epoxy resin molding material for sealing electric part
JPH10330588A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic part and electronic part
JPH10324733A (en) Epoxy resin composition, production of epoxy resin and semiconductor-sealing material
JPH10330459A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic part and electronic part
JPH10330589A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic part and electronic part
JPH10330590A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic part and electronic part
JP3102026B2 (en) Epoxy resin molding compound for electronic parts encapsulation
JP3118763B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor encapsulating material
JPH0680598A (en) Polyhydroxynaphthalene and epoxy resin composition
JPH05132543A (en) Epoxy resin composition
JPH0570552A (en) Epoxy resin composition
JP2948056B2 (en) Resin composition for semiconductor encapsulation
JP3262120B2 (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic parts and IC package
JPH05291436A (en) Epoxy resin molding material for sealing semiconductor

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20040303

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060203

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20060209

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060608