JP3262120B2 - Epoxy resin molding material for sealing electronic parts and IC package - Google Patents

Epoxy resin molding material for sealing electronic parts and IC package

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JP3262120B2
JP3262120B2 JP2000291060A JP2000291060A JP3262120B2 JP 3262120 B2 JP3262120 B2 JP 3262120B2 JP 2000291060 A JP2000291060 A JP 2000291060A JP 2000291060 A JP2000291060 A JP 2000291060A JP 3262120 B2 JP3262120 B2 JP 3262120B2
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epoxy resin
molding material
package
resin molding
compound
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伸介 萩原
清一 赤城
茂樹 市村
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Showa Denko Materials Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、特に表面実装型I
Cパッケージに好適な電子部品封止用エポキシ樹脂成形
材料、及びこれにより電子部品を封止したICパッケー
ジに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
The present invention relates to an epoxy resin molding material for electronic component sealing suitable for a C package, and an IC package in which an electronic component is sealed with the epoxy resin molding material.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、トランジスタ、ICなどの電
子部品封止の分野ではエポキシ樹脂成形材料が広く用い
られている。この理由としては、エポキシ樹脂が電気特
性、耐湿性、耐熱性、機械特性、インサー卜品との接着
性などの諸特性にバランスがとれているためである。と
くに、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂と樹
脂とフェノールノボラック硬化剤の組み合わせはこれら
のバランスに優れており、IC封止用成形材料のベース
樹脂として主流になっている。
2. Description of the Related Art Epoxy resin molding materials have been widely used in the field of sealing electronic components such as transistors and ICs. The reason for this is that the epoxy resin is balanced in various properties such as electrical properties, moisture resistance, heat resistance, mechanical properties, and adhesiveness to an insert product. In particular, the combination of an ortho-cresol novolak type epoxy resin, a resin and a phenol novolak curing agent has an excellent balance between them, and has become mainstream as a base resin of a molding material for IC encapsulation.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】近年、電子部品のプリ
ント配線板への高密度実装化が進んでいる。これに伴
い、電子部品は従来のピン挿入型のパッケージから、表
面実装型のパッケージが主流になっている。IC、LS
Iなどの表面実装型ICパッケージは実装密度を高く
し、実装高さを低くするために薄型、小型のパッケーー
ジになっており、素子のパッケージに対する占有体積が
大きくなり、パッケージの肉厚は非常に薄くなってき
た。さらに、これらのパッケーージは従来のピン挿入型
のものと実装方法が異なっている。すなわち、ピン挿入
型パッケージはピンを配線板に挿入した後、配線板裏面
からはんだ付けを行うため、パッケージが直接高温にさ
らされることがなかった。しかし、表面実装型ICパッ
ケージは配線板表面に仮止めを行い、はんだバスやリフ
ロー装置などで処理されるため、直接はんだ付け温度に
さらされる。この結果、ICパッケージが吸湿した場
合、はんだ付け時に吸湿水分が急激に膨張し、パッケー
ジをクラックさせてしまう。現在、この現象が表面実装
型ICパッケージに係わる大きな問題となっている。
In recent years, high-density mounting of electronic components on printed wiring boards has been progressing. Along with this, the electronic component has become the mainstream from the conventional pin insertion type package to the surface mount type package. IC, LS
Surface mount type IC packages such as I have a thin and small package to increase the packaging density and reduce the mounting height. It's getting thinner. Furthermore, these packages are different in mounting method from the conventional pin insertion type. That is, in the pin insertion type package, the pins are inserted into the wiring board and then soldered from the back surface of the wiring board, so that the package is not directly exposed to a high temperature. However, since the surface mount type IC package is temporarily fixed to the surface of the wiring board and processed by a solder bath or a reflow device, it is directly exposed to a soldering temperature. As a result, when the IC package absorbs moisture, the moisture absorbs rapidly expands at the time of soldering, and the package is cracked. At present, this phenomenon is a major problem related to the surface mount type IC package.

【0004】現行のベース樹脂組成で封止したICパッ
ケージでは、上記の問題が避けられないため、ICを防
湿梱包して出荷したり、配線板へ実装する前に予めIC
を十分乾燥して使用するなどの方法がとられている。し
かし、これらの方法は手間がかかり、コストも高くな
る。
[0004] In the case of an IC package sealed with a current base resin composition, the above problems cannot be avoided. Therefore, the IC package is shipped in a moisture-proof package before being mounted on a wiring board.
Are used after being sufficiently dried. However, these methods are laborious and costly.

【0005】本発明はかかる状況に鑑みなされたもの
で、配線板への実装の際、特定の前処理をすることな
く、はんだ付けを行うことができる電子部品封止用エポ
キシ樹脂成形材料、及びこれにより電子部品を封止した
ICパッケージを提供しようとするものである。
The present invention has been made in view of such circumstances, and has an epoxy resin molding material for sealing electronic components, which can be soldered without a specific pretreatment when mounting on a wiring board. Thus, an IC package in which an electronic component is sealed is provided.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】発明者らは上記の課題を
解決するために鋭意検討を重ねた結果、ベース樹脂とし
てビフェニル骨格を有する特定のエポキシ樹脂を配合
し、骨格中にナフタレン環を20重量%以上有する化合
物と組み合わせて用いることにより上記の目的を達成し
うることを見いだし、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have formulated a specific epoxy resin having a biphenyl skeleton as a base resin, and have a naphthalene ring in the skeleton. The present inventors have found that the above object can be achieved by using the compound in combination with a compound having not less than% by weight, and have completed the present invention.

【0007】すなわち、本発明は、 (1)(A)下記一般式(I)で示されるエポキシ樹
脂、(B)ナフトール類とフェノール類のアルデヒド類
を用いた共縮合樹脂、及びキシリレン基を有するナフト
ール・アラルキル樹脂のいずれかであって、骨格中にナ
フタレン環を20重量%以上含み、かつ1分子中に2個
以上のフェノール性水酸基を有する化合物(但し、下記
一般式(II)で示される化合物を除く)及び(C)無機
充填剤を必須成分とし、(C)無機充填剤の配合量が電
子部品封止用エポキシ樹脂成形材料に対して60体積%
以上である電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料、
That is, the present invention provides (1) (A) an epoxy resin represented by the following general formula (I), and (B) aldehydes of naphthols and phenols.
-Based co-condensation resin, and naphtho having xylylene group
Aralkyl resin, a compound containing at least 20% by weight of a naphthalene ring in a skeleton and having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule (however, represented by the following general formula (II)) And (C) an inorganic filler as an essential component, and the blending amount of the (C) inorganic filler is 60% by volume with respect to the epoxy resin molding material for encapsulating electronic parts.
Epoxy resin molding material for electronic component sealing,

【化3】 Embedded image

【化4】 (ここで、lは0〜5の整数を示す。) (2)(B)の化合物の軟化点が100℃以上である上
記(1)に記載の電子部品封止用エポキシ樹脂成形材
(3)(A)のエポキシ樹脂と(B)の化合物をあらか
じめ加熱混合した後、(C)無機充填剤及びの他の配
合成分を添加し、混練を行うことで製造することを特徴
とする上記(1)又は(2)に記載の電子部品封止用エ
ポキシ樹脂成形材料、及び (4)上記(1)〜(3)のいずれかに記載の電子部品
封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて電子部品を封止し
たICパッケ−ジ、並びに (5)(A)前記一般式(I)で示されるエポキシ樹脂
と、 (B)ナフトール類とフェノール類のアルデヒド類
を用いた共縮合樹脂、及びキシリレン基を有するナフト
ール・アラルキル樹脂のいずれかであって、骨格中にナ
フタレン環を20重量%以上含み、かつ1分子中に2個
以上のフェノール性水酸基を有する化合物(但し、前記
一般式(II)で示される化合物を除く)とをあらかじめ
加熱混合した後、(C)無機充填剤及びその他の配合成
分を添加し、混練を行うことを特徴とする電子部品封止
用エポキシ樹脂成形材料の製造法 に関する。
Embedded image (Wherein, l represents an integer of 0 to 5.) (2) electronic component encapsulating epoxy resin molding material according to the softening point of the compound (B) is 100 ° C. or higher (1), ( 3) (after pre-heated mixture of a compound of epoxy resin and (B) in a), a characterized by producing by performing adding, mixing other ingredients of the inorganic filler (C) and its using the above (1) or (2) electronic component encapsulating epoxy resin molding material described in, and (4) above (1) for electronic component encapsulation epoxy resin molding material according to any one of the - (3) And (5) (A) an epoxy resin represented by the general formula (I).
And (B) aldehydes of naphthols and phenols
-Based co-condensation resin, and naphtho having xylylene group
Aralkyl resin, and
Containing at least 20% by weight of phthalene rings and two per molecule
Compounds having the above phenolic hydroxyl group (however,
Excluding the compound represented by the general formula (II))
After heating and mixing, (C) inorganic filler and other composition
Electronic components sealed by adding and kneading
The present invention relates to a method for producing an epoxy resin molding material for use .

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明における(A)のエポキシ
樹脂は下記一般式(I)で示される骨格中にビフェニル
骨格を有するものであり、エポキシ樹脂の純度、特に加
水分解性塩素量はICなど素子上のアルミ配線腐食に係
わるため少ない方がよく、耐湿性の優れた電子部品封止
用エポキシ樹脂成形材料を得るためには500ppm以
下であることが好ましいが、特に限定するものではな
い。ここで、加水分解性塩素量とは試料のエポキシ樹脂
1gをジオキサン30mlに溶解し、1N−KOHメタ
ノール溶液5mlを添加して30分間リフラックス後、
電位差滴定により求めた値を尺度としたものである。
(A)のエポキシ樹脂は、4,4’一ビスヒドロキシ
3,3’,5,5−テトラメチルビフェニルをエビケロ
ルヒドリンを用いてエポキシ化することで得ることがで
きる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The epoxy resin (A) in the present invention has a biphenyl skeleton in the skeleton represented by the following general formula (I), and the purity of the epoxy resin, especially the amount of hydrolyzable chlorine is determined by IC For example, the amount is preferably less than 500 ppm in order to obtain an epoxy resin molding material for sealing electronic components having excellent moisture resistance, but it is not particularly limited. Here, the amount of hydrolyzable chlorine means that 1 g of a sample epoxy resin was dissolved in 30 ml of dioxane, 5 ml of a 1N-KOH methanol solution was added, and after refluxing for 30 minutes,
The value obtained by potentiometric titration is used as a scale.
The epoxy resin (A) can be obtained by epoxidizing 4,4′-bishydroxy 3,3 ′, 5,5-tetramethylbiphenyl using shrimp chlorohydrin.

【化5】 Embedded image

【0009】本発明において用いられるエポキシ樹脂と
しては、上記の(A)一般式(I)で示されるエポキシ
樹脂の他に、電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料で一
般に使用されているその他のエポキシ樹脂を組み合せて
使用してもよい。本発明において(A)一般式(I)で
示されるエポキシ樹脂と組み合わせて用いることができ
るその他のエポキシ樹脂としては、例えば、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂をはじめとするフェノールとアルデヒ
ド類のノボラック樹脂をエポキシ化したもの、ビスフェ
ノールA、ビスフェノールB、フェノールF、ビスフェ
ノールSなどのジグリシジルエーテル、フタル酸、ダイ
マー酸などの多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応によ
り得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミ
ノジフエニルメタン、イソシアヌル酸などのポリアミン
とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジル
アミン型エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸などの
過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環
族エポキシ樹脂などが挙げられ、これらを適宜何種類で
も併用することができる。
The epoxy resin used in the present invention includes, in addition to (A) the epoxy resin represented by the general formula (I), other epoxy resins generally used in epoxy resin molding materials for sealing electronic parts. Resins may be used in combination. In the present invention, examples of other epoxy resins that can be used in combination with the epoxy resin (A) represented by the general formula (I) include phenols such as phenol novolak epoxy resins and orthocresol novolak epoxy resins. Epoxidized novolak resins of aldehydes, glycidyl ester type epoxy resins obtained by the reaction of epichlorohydrin with polybasic acids such as diglycidyl ethers such as bisphenol A, bisphenol B, phenol F and bisphenol S, phthalic acid and dimer acid Glycidylamine-type epoxy resins obtained by the reaction of epichlorohydrin with polyamines such as diaminodiphenylmethane and isocyanuric acid; linear aliphatic compounds obtained by oxidizing olefin bonds with peracids such as peracetic acid Epoxy resins, include an alicyclic epoxy resin, it can be used together even these at an appropriate number of types.

【0010】これらのエポキシ樹脂を併用する場合、特
に限定するものではないが本発明の(A)一般式(I)
で示されるエポキシ樹脂の配合量は、エポキシ樹脂全体
の30重量%以上が好ましく、さらには50重量%以上
が好ましい。この理由としては、30重量%未満では本
発明の目的である耐リフロー性に対して効果が少なく、
特に有効な効果を発揮するためには50重量%以上が必
要となるためである。
When these epoxy resins are used in combination, there is no particular limitation on the (A) general formula (I) of the present invention.
Is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more of the entire epoxy resin. The reason for this is that less than 30% by weight has little effect on the reflow resistance, which is the object of the present invention,
This is because 50% by weight or more is required to exhibit a particularly effective effect.

【0011】本発明において用いられる(B)の化合物
としては、ナフトール類とフェノール類のアルデヒド類
を用いた共縮合樹脂、及びキシリレン基を有するナフト
ール・アラルキル樹脂のいずれかであって、骨格中にナ
フタレン環を20重量%以上含み、かつ1分子中に2個
以上のフェノール性水酸基を有する化合物で、下記一般
式(II)で示される化合物でなければよく、特に限定さ
れるものではない。ここで、ナフタレン環を骨格中に有
する樹脂を用いる場合、ナフタレン環の比率が耐リフロ
ー性に及ぼす影響が大きく、本発明の効果を特に発揮す
るためには、(B)の化合物に含まれるナフタレン環の
比率は20重量%以上であって、かつ100%でない
とが必要である。
The compound (B) used in the present invention includes naphthols and aldehydes of phenols
-Based co-condensation resin, and naphtho having xylylene group
Aralkyl resin, which is a compound containing at least 20% by weight of a naphthalene ring in a skeleton and having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule and represented by the following general formula (II) The compound may be a compound, and is not particularly limited . In here, the case of using a resin having a naphthalene ring in the skeleton, greatly influence the ratio of naphthalene ring on reflow resistance, in particular to exhibit the effect of the present invention are included in the compounds of (B) The proportion of naphthalene rings must be at least 20% by weight and not 100% .

【化6】 (ここで、lは0〜5の整数を示す。)Embedded image (Here, 1 represents an integer of 0 to 5.)

【0012】また、本発明の(A)のエポキシ樹脂は結
晶性であるため、単独では常温固形であるが、硬化剤な
ど他の化合物と相溶すると低粘度化するため、得られた
成形材料が半固形状態であったり、ブロッキングしやす
いといった問題が生じ易い。そこで、このような不都合
を生じないためには軟化点の高い(B)の化合物を使用
することが好ましい。この場合、軟化点は100℃以上
が好ましいが、高すぎると成形時の流動性に支障が生じ
るため、上限は150℃以下が好ましい。さらに、これ
らの軟化点の高い(B)の化合物と(A)のエポキシ樹
脂を配合して混練した場合、混練装置の中で両樹脂系の
粘度が大きく違うため、均一な成形材料が得にくい。そ
こで、特に限定するものではないが、(A)のエポキシ
樹脂と(B)の化合物をあらかじめ加熱混合した後、
(C)無機充填剤及び硬化促進剤などの他の配合成分を添
加し、混練を行うことで製造することが好ましい。加熱
混合の条件としては、(A)のエポキシ樹脂の粘度が十
分低くなる80℃以上で、エポキシ基とフェノール基の
反応が比較的穏やかな140℃以下が好ましく、加熱混
合の時間は(A)、(B)の両樹脂が均一に相溶する必
要最小限が好ましい。
The epoxy resin (A) of the present invention is crystalline and therefore solid at room temperature by itself, but has a low viscosity when it is compatible with other compounds such as a curing agent. Are likely to be in a semi-solid state or easily blocked. Therefore, in order to avoid such inconvenience, it is preferable to use the compound (B) having a high softening point. In this case, the softening point is preferably 100 ° C. or higher. However, if the softening point is too high, the fluidity at the time of molding is hindered. Therefore, the upper limit is preferably 150 ° C. or lower. Further, when the compound (B) having a high softening point and the epoxy resin (A) are mixed and kneaded, a uniform molding material is difficult to obtain because the viscosities of both resin systems are greatly different in a kneading apparatus. . Therefore, although not particularly limited, after the epoxy resin of (A) and the compound of (B) are mixed in advance by heating,
(C) It is preferable to manufacture by adding other compounding components such as an inorganic filler and a curing accelerator and kneading. The heating and mixing conditions are preferably 80 ° C. or higher at which the viscosity of the epoxy resin (A) is sufficiently low and 140 ° C. or lower at which the reaction between the epoxy group and the phenol group is relatively mild. , And (B) are preferably the minimum necessary to uniformly dissolve the resins.

【0013】本発明においては(B)成分の他に、その
他の1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有する
化合物(フェノール樹脂)を組み合わせて用いることが
できる。ここで、併用可能なその他のフェノール樹脂と
しては、電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料で一般に
使用されているもので特に制限はないが、例えば、フェ
ノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテ
コール、ビスフェノールA、ビスフエノールF等のフェ
ノール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデ
ヒドなどのアルデヒド類とを酸性触媒下で縮合反応させ
て得られるノボラック型フェノール樹脂、ポリパラビニ
ルフェノール樹脂などが挙げられ、1種類を単独で又は
2種類以上を組合わせて、本発明の効果が得られる範囲
内で併用することができる。
In the present invention, in addition to the component (B), other compounds having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule (phenolic resins) can be used in combination. Here, other phenol resins that can be used in combination are those generally used in epoxy resin molding materials for electronic component encapsulation and are not particularly limited. For example, phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A Phenolic resins such as bisphenol F and aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde and salicylaldehyde in the presence of an acidic catalyst in a novolak-type phenolic resin, polyparavinylphenol resin and the like. One type may be used alone, or two or more types may be used in combination as long as the effects of the present invention can be obtained.

【0014】本発明に用いられる(A)成分を含むエポ
キシ樹脂と(B)成分を含むフェノール性水酸基を有す
る化合物の当量比は、特に限定するものではないが硬化
性、耐熱性等の点から、0.6〜1.4の範囲が望まし
い。
The equivalent ratio of the epoxy resin containing the component (A) and the compound having a phenolic hydroxyl group containing the component (B) used in the present invention is not particularly limited, but it is preferable from the viewpoints of curability and heat resistance. , 0.6 to 1.4.

【0015】また、本発明の電子部品封止用エポキシ樹
脂成形材料には、エポキシ樹脂とフェノール性水酸基を
有する化合物の硬化反応を促進する硬化促進剤を使用す
ることができる。この硬化促進剤としては、例えば、
1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−
7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、
トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、ト
リス(ジメチルアミノメチル)フエノール等の三級アミ
ン類、2−メチルイミダゾール、2−フエニルイミダゾ
ール、2−フエニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘ
プタデシルイミダゾール等のイミダゾール類、トリブチ
ルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェ
ニルホスフィン、フェニルホスフィン、フェニルホスフ
ィン等の有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウ
ム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニ
ウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホス
ホニウム・レー卜等のテトラ置換ホスホニウム・テトラ
置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・
テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テト
ラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩などが
挙げられる。ここで、本発明の目的であるリフロー時の
クラックに対し鋭意検討した結果、1,8−ジアザ−ビ
シクロ(5,4,0)ウンデセン−7、そのフェノール
類の誘導体又はテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボ
レート類を硬化促進剤として使用することが特に有効で
あることを見いだした。さらに、テトラ置換ホスホニウ
ム・テトラ置換ボレートとしては、テトラフェニルホス
ホニウム・テトラフェニルボレートが好ましい。この理
由としては、硬化促進剤が硬化物特性に及ぼす影響は大
きなものであり、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,
0)ウンデセン−7、そのフェノール類の誘導体又はテ
トラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート類を用いた
場合、耐熱性の指標であるTg(ガラス転移温度)が比
較的高く、吸水率が小さくなるため、一定時間加湿した
ICパッケージをはんだ処理してもクラックが発生しな
くなったと推察できる。したがって、本発明の樹脂系の
効果を有効に発現するためには、上記硬化促進剤との組
み合わせが好ましいが、特に限定するものではない。
Further, the epoxy resin molding material for encapsulating electronic parts of the present invention can use a curing accelerator for accelerating the curing reaction between the epoxy resin and the compound having a phenolic hydroxyl group. As the curing accelerator, for example,
1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-
7, triethylenediamine, benzyldimethylamine,
Tertiary amines such as triethanolamine, dimethylaminoethanol and tris (dimethylaminomethyl) phenol; imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole and the like , Organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, phenylphosphine and phenylphosphine; tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium / ethyltriphenylborate and tetrabutylphosphonium / rate Substituted phosphonium tetra-substituted borate, 2-ethyl-4-methylimidazole
And tetraphenylboron salts such as tetraphenylborate and N-methylmorpholine / tetraphenylborate. Here, as a result of intensive studies on cracks during reflow, which is the object of the present invention, it was found that 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, its phenol derivative or tetra-substituted phosphonium-tetra-substituted compound. It has been found that the use of borates as a curing accelerator is particularly effective. Further, as the tetra-substituted phosphonium / tetra-substituted borate, tetraphenyl phosphonium / tetraphenyl borate is preferable. The reason for this is that the effect of the curing accelerator on the properties of the cured product is so great that 1,8-diaza-bicyclo (5,4,
0) When undecene-7, its phenol derivative or tetra-substituted phosphonium / tetra-substituted borate is used, Tg (glass transition temperature), which is an index of heat resistance, is relatively high and the water absorption is small, so that it is constant. It can be inferred that cracks did not occur even when soldering the IC package that was humidified for a long time. Therefore, in order to effectively exhibit the effects of the resin system of the present invention, a combination with the above-mentioned curing accelerator is preferable, but not particularly limited.

【0016】また、本発明の電子部品封止用エポキシ樹
脂成形材料には、充填剤としては吸湿性低減および強度
向上の観点から(C)無機充填剤を用いることが必要で
ある。(C)無機充填剤としては特に制限はないが、例
えば、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、ジルコン、
珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪素、窒化珪
素、窒化ホウ素、ジルコニア、ジルコン、フォステライ
ト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニアなど
の粉体、またはこれらを球形化したビーズなどが挙げら
れ、1種類を単独で用いても2種類以上を組合わせて用
いてもよい。(C)無機充填剤の配合量としては同様の
理由から、電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料に対し
て60体積%以上が必要であり、さらには、65体積%
以上が好ましい。
In the epoxy resin molding material for encapsulating electronic parts of the present invention, it is necessary to use (C) an inorganic filler as a filler from the viewpoint of reducing hygroscopicity and improving strength. (C) The inorganic filler is not particularly limited. For example, crystalline silica, fused silica, alumina, zircon,
Powders of calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, zircon, fosterite, steatite, spinel, mullite, titania, etc., or spherical beads thereof, etc. They may be used alone or in combination of two or more. (C) For the same reason, the blending amount of the inorganic filler is required to be 60% by volume or more based on the epoxy resin molding material for sealing electronic parts, and further, 65% by volume.
The above is preferred.

【0017】本発明の電子部品封止用エポキシ樹脂成形
材料には、その他の添加剤として高級脂肪酸、高級脂肪
酸金属塩、エステル系ワックス等の離型剤、カーボンブ
ラック等の着色剤、エポキノシシラン、アミノシラン、
ウレイドシラン、ビニルシラン、アルキルシラン、有機
チタネー卜、アルミニウムアルコレー卜等のカップリン
グ剤、難燃剤などを必要に応じて用いることができる。
The epoxy resin molding material for encapsulating electronic parts of the present invention contains, as other additives, release agents such as higher fatty acids, metal salts of higher fatty acids, ester waxes, coloring agents such as carbon black, epoxyquinosilane, aminosilane. ,
Coupling agents such as ureido silane, vinyl silane, alkyl silane, organic titanate, aluminum alcohol and the like, flame retardants and the like can be used as required.

【0018】以上のような原材料を用いて電子部品封止
用エポキシ樹脂成形材料を作製する一般的な方法として
は、所定の配合量の原材料をミキサー等によって十分混
合した後、ミキシングロール、押出機などによって混練
し、冷却、粉砕することによって、成形材料を得ること
ができる。
As a general method for producing an epoxy resin molding material for electronic component encapsulation using the above-mentioned raw materials, a raw material having a predetermined compounding amount is sufficiently mixed by a mixer or the like, and then mixed with a mixing roll, an extruder. The molding material can be obtained by kneading, cooling, and pulverizing by the method described above.

【0019】本発明で得られる電子部品封止用エポキシ
樹脂成形材料を用いて、電子部品を封止する方法として
は、低圧トランスファー成形法が最も一般的であるが、
インジェクション成形法、圧縮成形法によっても可能で
ある。本発明の電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料で
電子部品を封止したICパッケージとしては、特に限定
するものではなく、リードフレーム、配線済みのテープ
キャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部
材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイ
リスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の
受動素子等の電子部品を搭載し、電子部品封止用エポキ
シ樹脂成形材料を用いてトランスファー成形などで封止
してなる、一般的なICパッケージなどが挙げられる。
As a method for sealing an electronic component using the epoxy resin molding material for sealing an electronic component obtained by the present invention, a low-pressure transfer molding method is most commonly used.
Injection molding and compression molding are also possible. The IC package in which the electronic component is encapsulated with the epoxy resin molding material for encapsulating the electronic component of the present invention is not particularly limited, and supports a lead frame, a wired tape carrier, a wiring board, glass, a silicon wafer, and the like. Electronic components, such as active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, and thyristors, and passive elements such as capacitors, resistors, and coils, are mounted on members, and transfer molding is performed using epoxy resin molding materials for electronic component sealing. A typical IC package or the like formed by sealing is used.

【0020】[0020]

【作用】ICパッケージがリフロー時に受けるダメージ
は、ICの保管時に吸湿した水分がリフロー時に急激に
膨張することが原因であり、この結果、パッケージのク
ラックおよび素子やリードフレームと樹脂界面の剥離を
生じる。従って、リフローに強い樹脂としては、吸水率
が低いこと、高温で強度が高いこと、および接着力が高
いことが要求される。本発明の主成分となるエポキシ樹
脂はテトラメチルビフェノールをベースにしたジエポキ
シ樹脂であり、硬化剤は骨格にナフタレン環を有するた
め、ベース樹脂骨格の剛直性、疎水性により、耐熱性、
吸湿特性、接着性に優れた組成物を得うることができた
と推察できる。この効果により、耐リフロークラック性
が向上したと考えられる。
The damage to the IC package during reflow is caused by the rapid expansion of the moisture absorbed during storage of the IC during reflow, which results in cracks in the package and separation of the interface between the element and the lead frame and the resin. . Therefore, a resin that is resistant to reflow is required to have a low water absorption, a high strength at a high temperature, and a high adhesive strength. The epoxy resin that is the main component of the present invention is a diepoxy resin based on tetramethylbiphenol, and the curing agent has a naphthalene ring in the skeleton.
It can be inferred that a composition having excellent moisture absorption properties and adhesiveness could be obtained. It is considered that the reflow crack resistance was improved by this effect.

【0021】[0021]

【実施例】以下実施例により本発明を説明するが、本発
明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

【0022】実施例1〜3、比較例1〜2 下記一般式(I)で示されるエポキシ樹脂Examples 1-3, Comparative Examples 1-2 Epoxy resins represented by the following general formula (I)

【化7】 を主成分とするエポキシ当量188のエポキシ樹脂80
重量部と下記一般式(III)
Embedded image An epoxy resin 80 having an epoxy equivalent of 188 and containing as a main component
Parts by weight and the following general formula (III)

【化8】 (n:m=35:65、重量平均分子量750)で示さ
れる水酸基当量127、軟化点110℃のβナフトール
/フェノール共縮合ノボラック樹脂59重量部を120
℃、30分の条件で溶融混合し、冷却後に得られた均一
な固形樹脂と、臭素比率50重量%、エポキシ当量37
5の臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂20重量
部、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン
−7(3重量部)、カルナバワックス(2重量部)、カ
ーボンブラック(1重量部)、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン(2重量部)、石英ガラス粉(7
5重量%)を配合し、10インチ径の加熱ロールを使用
して、混練温度80〜90℃、混練時間7〜10分の条
件で実施例1のエポキシ樹脂成形材料を作製した。
Embedded image (N: m = 35: 65, weight average molecular weight 750) A hydroxyl group equivalent of 127, a softening point of 110 ° C and a β-naphthol / phenol cocondensation novolak resin (59 parts by weight)
The mixture was melt-mixed at 30 ° C. for 30 minutes, and the solid resin obtained after cooling was mixed with a bromine ratio of 50% by weight and an epoxy equivalent of 37.
5, 20 parts by weight of a brominated bisphenol A type epoxy resin, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 (3 parts by weight), carnauba wax (2 parts by weight), carbon black (1 part by weight), γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (2 parts by weight), quartz glass powder (7
5% by weight), and a 10-inch diameter heating roll was used to produce the epoxy resin molding material of Example 1 at a kneading temperature of 80 to 90 ° C. and a kneading time of 7 to 10 minutes.

【0023】実施例2 実施例1のβナフトール/フェノール共縮合ノボラック
樹脂を下記一般式(IV)で示されるフェノール樹脂
Example 2 The β-naphthol / phenol co-condensed novolak resin of Example 1 was converted to a phenol resin represented by the following general formula (IV).

【化9】 を主成分とする、水酸基当量140、軟化点115℃の
樹脂65重量部に置き換えた以外は実施例1と同様にし
て実施例2のエポキシ樹脂成形材料を作製した。
Embedded image The epoxy resin molding material of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1, except that the resin was replaced with 65 parts by weight of a resin having a hydroxyl equivalent of 140 and a softening point of 115 ° C.

【0024】実施例3 実施例1のβナフトール/フェノール共縮合ノボラック
樹脂を下記一般式(V)
Example 3 The β-naphthol / phenol co-condensed novolak resin of Example 1 was converted to the following general formula (V)

【化10】 で示される水酸基当量220、軟化点108℃の樹脂1
02重量部に置き換えた以外は実施例1と同様にして実
施例3のエポキシ樹脂成形材料を作製した。
Embedded image Resin 1 having a hydroxyl equivalent of 220 and a softening point of 108 ° C.
An epoxy resin molding material of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition was replaced with 02 parts by weight.

【0025】比較例1 実施例1のβナフトール/フェノール共縮合ノボラック
樹脂の替わりに水酸基当量106、重量平均分子量66
0、軟化点85℃のフェノールノボラック樹脂63重量
部をベース樹脂とし、予め溶融混合せずに使用した以外
は実施例1と同様にして比較例1のエポキシ樹脂成形材
料を作製した。
Comparative Example 1 In place of the β-naphthol / phenol co-condensed novolak resin of Example 1, the hydroxyl equivalent was 106 and the weight average molecular weight was 66.
An epoxy resin molding material of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that 63 parts by weight of a phenol novolak resin having a softening point of 85 ° C. was used as a base resin without previously melting and mixing.

【0026】比較例2 比較例1のビフェニル骨格のジエポキシ樹脂をエポキシ
当量200、軟化点73℃のオルソクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂80重量部に置き換えた以外は比較例
1と同様にして比較例2のエポキシ樹脂成形材料を作製
した。
Comparative Example 2 Comparative Example 2 was repeated in the same manner as in Comparative Example 1 except that the biphenyl skeleton diepoxy resin of Comparative Example 1 was replaced with 80 parts by weight of an orthocresol novolac type epoxy resin having an epoxy equivalent of 200 and a softening point of 73 ° C. An epoxy resin molding material was produced.

【0027】実施例1〜3及び比較例1〜2の特性を表
1に、試験法の詳細を表2に示す。実施例は比較例と比
べ、吸水率が小さく、接着強度に優れることがわかる。
Table 1 shows the characteristics of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, and Table 2 shows details of the test method. It can be seen that the examples have a smaller water absorption and are superior in adhesive strength as compared with the comparative examples.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】[0029]

【表2】 [Table 2]

【0030】本発明の効果を明確にするために、評価用
ICパッケージを用いたリフロー時の耐クラック性及び
リフロー後の耐湿性の結果を表3に示す。耐クラック性
評価に用いたICパッケージは外形が19×14×2.
0(mm)のフラットパッケージであり、8×10×
0.4(mm)の素子を搭載した80ピン、42アロイ
リードのものである。試験条件は85℃、85%RHで
所定時間加湿した後、215℃のベーパーフェーズリフ
ロー炉で90秒加熱するものである。評価は外観を顕微
鏡観察し、パッケージクラックの有無を判定することに
より行った。また、耐湿性の評価に用いたICパッケー
ジは350mil幅、28ピンのスモールアウトライン
パッケージであり、10μm幅のアルミ配線を施した5
×10×0.4(mm)テスト素子を搭載し、25μm
の金線を用いてワイヤボンディングしたものである。試
験条件は85℃、85%RHで72時間加湿し、215
℃のベーパーフェーズリフロー炉で90秒加熱した後、
2気圧、121℃、100%RHの条件で所定時間加湿
し、アルミ配線腐食による断線不良を調べたものであ
る。なお、ICパッケージの成形は180℃、90秒、
70kgf/cm(6.9MPa)の条件で行い、成
形後180℃、5時間の後硬化を行った。
In order to clarify the effects of the present invention, Table 3 shows the results of crack resistance during reflow and moisture resistance after reflow using the IC package for evaluation. The external shape of the IC package used for the evaluation of crack resistance was 19 × 14 × 2.
0 (mm) flat package, 8 × 10 ×
This is an 80-pin, 42-alloy lead mounted with a 0.4 (mm) element. The test conditions were as follows: after humidification at 85 ° C. and 85% RH for a predetermined time, heating was performed in a vapor phase reflow furnace at 215 ° C. for 90 seconds. The evaluation was performed by observing the appearance under a microscope and determining the presence or absence of a package crack. The IC package used for the evaluation of moisture resistance was a small outline package of 350 mil width and 28 pins, and was provided with aluminum wiring of 10 μm width.
Equipped with × 10 × 0.4 (mm) test element, 25μm
The wire bonding is performed using the gold wire of FIG. The test conditions were humidification at 85 ° C. and 85% RH for 72 hours, followed by 215
After heating in a vapor phase reflow furnace at 90 ° C for 90 seconds,
The test was conducted by humidifying under the conditions of 2 atm, 121 ° C., and 100% RH for a predetermined period of time, and examined for disconnection failure due to corrosion of aluminum wiring. The IC package was molded at 180 ° C for 90 seconds.
The molding was performed under the conditions of 70 kgf / cm 2 (6.9 MPa), and post-curing was performed at 180 ° C. for 5 hours after molding.

【0031】[0031]

【表3】 [Table 3]

【0032】表3の実施例1〜3に示すように、本発明
の(A)のエポキシ樹脂及び(B)の化合物を用いるこ
とにより、比較例の従来樹脂系と比較してリフロー時の
耐クラック性及びリフロー後の耐湿性を大幅に改善でき
る。
As shown in Examples 1 to 3 in Table 3, by using the epoxy resin (A) of the present invention and the compound (B), the resistance to reflow during the reflow process was higher than that of the conventional resin system of the comparative example. Cracking properties and moisture resistance after reflow can be significantly improved.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明になる電子部品封止用エポキシ樹
脂成形材料はリフロー時の耐クラック性及びリフロー後
の耐湿性が従来のものと比べ大きく改善できる。電子部
品の分野、特にFP(フラットパッケージ)、SOP
(スモールアウトラインパッケージ)等のICパッケー
ジでは、パッケージが薄形、小形になり、素子の大形化
と相俟って耐パッケージクラック性が強く要求されてお
り、本発明の電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料はこ
れらの製品へも広く適用できるので、その工業的価値は
大きい。
The epoxy resin molding material for encapsulating electronic parts according to the present invention can significantly improve crack resistance during reflow and moisture resistance after reflow as compared with the conventional one. Electronic components, especially FP (flat package), SOP
In an IC package such as a (small outline package), the package becomes thinner and smaller, and the package crack resistance is strongly required in combination with the increase in the size of the element. Since resin molding materials can be widely applied to these products, their industrial value is great.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−218735(JP,A) 特開 平2−91966(JP,A) 特開 平2−91965(JP,A) 特開 平1−268711(JP,A) 特開 昭64−87616(JP,A) 特開 昭62−167318(JP,A) 特開 平4−173829(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 59/62 C08L 3/00 C08L 63/00 - 63/10 H01L 23/29 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-2-218735 (JP, A) JP-A-2-91966 (JP, A) JP-A-2-91965 (JP, A) JP-A-1- 268711 (JP, A) JP-A-64-87616 (JP, A) JP-A-62-167318 (JP, A) JP-A-4-173829 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C08G 59/62 C08L 3/00 C08L 63/00-63/10 H01L 23/29

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】(A)下記一般式(I)で示されるエポキ
シ樹脂、 (B)ナフトール類とフェノール類のアルデヒド類を用
いた共縮合樹脂、及びキシリレン基を有するナフトール
・アラルキル樹脂のいずれかであって、骨格中にナフタ
レン環を20重量%以上含み、かつ1分子中に2個以上
のフェノール性水酸基を有する化合物(但し、下記一般
式(II)で示される化合物を除く) 及び(C)無機充填剤を必須成分とし、 (C)無機充填剤の配合量が電子部品封止用エポキシ樹
脂成形材料に対して60体積%以上である電子部品封止
用エポキシ樹脂成形材料。 【化1】 【化2】 (ここで、lは0〜5の整数を示す。)
1. Use of (A) an epoxy resin represented by the following general formula (I), and (B) aldehydes of naphthols and phenols.
Co-condensation resin and naphthol having xylylene group
A aralkyl resin, a compound containing at least 20% by weight of a naphthalene ring in a skeleton and having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule (however, a compound represented by the following general formula (II)) And (C) an inorganic filler as an essential component, and (C) an epoxy resin for electronic component encapsulation wherein the blending amount of the inorganic filler is 60% by volume or more based on the epoxy resin molding material for electronic component encapsulation. Molding material. Embedded image Embedded image (Here, 1 represents an integer of 0 to 5.)
【請求項2】(B)の化合物の軟化点が100℃以上で
ある請求項1に記載の電子部品封止用エポキシ樹脂成形
材料。
2. The epoxy resin molding material for sealing electronic parts according to claim 1, wherein the compound (B) has a softening point of 100 ° C. or higher.
【請求項3】(A)のエポキシ樹脂と(B)の化合物を
あらかじめ加熱混合した後、(C)無機充填剤及び
他の配合成分を添加し、混練を行うことで製造すること
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電子部品封
止用エポキシ樹脂成形材料。
3. After pre-heated mixture of a compound of epoxy resin and (B) of (A), was added <br/> other ingredients of the inorganic filler (C) and its, by performing the kneading The epoxy resin molding material for electronic component sealing according to claim 1 or 2, which is manufactured.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の電子部
品封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて電子部品を封止
したICパッケ−ジ。
4. An IC package in which an electronic component is sealed using the epoxy resin molding material for sealing electronic components according to claim 1.
【請求項5】(A)前記一般式(I)で示されるエポキ5. An epoxy resin represented by the general formula (I):
シ樹脂と、Resin and (B)ナフトール類とフェノール類のアルデヒド類を用(B) Using naphthols and aldehydes of phenols
いた共縮合樹脂、及びキシリレン基を有するナフトールCo-condensation resin and naphthol having xylylene group
・アラルキル樹脂のいずれかであって、骨格中にナフタ・ Any of aralkyl resins, naphtha in the skeleton
レン環を20重量%以上含み、かつ1分子中に2個以上Contains at least 20% by weight of a ren ring, and two or more per molecule
のフェノール性水酸基を有する化合物(但し、前記一般Compounds having a phenolic hydroxyl group of
式(II)で示される化合物を除く)とをあらかじめ加熱Excluding the compound represented by formula (II))
混合した後、(C)無機充填剤及びその他の配合成分をAfter mixing, (C) inorganic filler and other compounding ingredients
添加し、混練を行うことを特徴とする電子部品封止用エAdding and kneading the mixture.
ポキシ樹脂成形材料の製造法。Manufacturing method of epoxy resin molding material.
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