JPH10213635A - 放射分布検出用顕微鏡システム及びその操作方法 - Google Patents
放射分布検出用顕微鏡システム及びその操作方法Info
- Publication number
- JPH10213635A JPH10213635A JP9192066A JP19206697A JPH10213635A JP H10213635 A JPH10213635 A JP H10213635A JP 9192066 A JP9192066 A JP 9192066A JP 19206697 A JP19206697 A JP 19206697A JP H10213635 A JPH10213635 A JP H10213635A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- microscope system
- diverging element
- microscope
- distribution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/0016—Technical microscopes, e.g. for inspection or measuring in industrial production processes
Abstract
(57)【要約】
【課題】 多数のフィルターを必要とせず、短時間に正
確に行え、かつコンパクトな、スペースを必要としな
い、特に小さい、弱光の対象物の場合のスペクトロメー
ターの限られた入光の放射分布検出用顕微鏡システムお
よびその方法。 【解決手段】 ミクロ発光する対象物からの放射が、中
間結像なしに直接発散素子に到達し、その際、発散素子
は例えば有利なブレーズ格子とし、それによってスペク
トル中の分析される光を分光し、カメラチップ上に結像
した離散的に存在して発光する対象物の光を、たとえば
平行な光路内に（顕微鏡内へのフィルターの挿入）また
は直接カメラハウジング内（収束光）に取り付けられた
発散素子を通過させ、これにより、光は屈折または回折
により自身のスペクトル的構成部分に分解され、この構
成部分が面受光部の様々なピクセル上に到達するように
した放射分布検出用顕微鏡システム。
確に行え、かつコンパクトな、スペースを必要としな
い、特に小さい、弱光の対象物の場合のスペクトロメー
ターの限られた入光の放射分布検出用顕微鏡システムお
よびその方法。 【解決手段】 ミクロ発光する対象物からの放射が、中
間結像なしに直接発散素子に到達し、その際、発散素子
は例えば有利なブレーズ格子とし、それによってスペク
トル中の分析される光を分光し、カメラチップ上に結像
した離散的に存在して発光する対象物の光を、たとえば
平行な光路内に（顕微鏡内へのフィルターの挿入）また
は直接カメラハウジング内（収束光）に取り付けられた
発散素子を通過させ、これにより、光は屈折または回折
により自身のスペクトル的構成部分に分解され、この構
成部分が面受光部の様々なピクセル上に到達するように
した放射分布検出用顕微鏡システム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】半導体回路の欠陥分析に関
し、光放射が発生した「ホットスポット」をスペクトル
的に検査する顕微鏡システムが知られている。
し、光放射が発生した「ホットスポット」をスペクトル
的に検査する顕微鏡システムが知られている。
【０００２】「ホットスポット」とは、電流接続の際の
電子回路の欠陥個所に発生する弱い光放射と一般に言わ
れている。
電子回路の欠陥個所に発生する弱い光放射と一般に言わ
れている。
【０００３】
【従来の技術】この欠陥個所のスペクトル的検知はそれ
ぞれの個所に対する「指紋」を示す、言い換えると、ス
ペクトルの時間的経過によって製造プロセスにおける欠
陥の原因個所を推し量ることができる。現在のところ、
このような「ホットスポット」はたとえば、交換可能な
メタル干渉フィルター付きの装置によって検知されてい
る。（Photoemission Spectrum Analysis-A Powerful T
ool for Increased RootCause Success: J. S. Seo;
S.S. Lee; C.S.Choe; S. Daniel; K.D.Hong; C.K.Yoon;
K. ISTFA 95, 21st International Symposium for T
esting snd Failure Analysis, 6-10 November, 1995,
Santa Clara, Californa)
ぞれの個所に対する「指紋」を示す、言い換えると、ス
ペクトルの時間的経過によって製造プロセスにおける欠
陥の原因個所を推し量ることができる。現在のところ、
このような「ホットスポット」はたとえば、交換可能な
メタル干渉フィルター付きの装置によって検知されてい
る。（Photoemission Spectrum Analysis-A Powerful T
ool for Increased RootCause Success: J. S. Seo;
S.S. Lee; C.S.Choe; S. Daniel; K.D.Hong; C.K.Yoon;
K. ISTFA 95, 21st International Symposium for T
esting snd Failure Analysis, 6-10 November, 1995,
Santa Clara, Californa)
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このフィルタは、診断
しなければならないスペクトルの個々の波長が、対応す
るフィルターの旋回によって、連続的に記録される。そ
のため十分狭いステップのスペクトルが必要とされる場
合、多数のフィルターを要し、時間がかかる。そのう
え、キャリブレーションにも問題がある。
しなければならないスペクトルの個々の波長が、対応す
るフィルターの旋回によって、連続的に記録される。そ
のため十分狭いステップのスペクトルが必要とされる場
合、多数のフィルターを要し、時間がかかる。そのう
え、キャリブレーションにも問題がある。
【０００５】さらに、光放射を楕円形のミラーで受け、
ファイバー入口上に結像させることが提案された。（"A
High-Sensirivity Photo Emission Microscope Syste
m..",Tao,Chim,Chan,Phang,Liu,Centre for Integrated
Circuit Failure Analysis,Singapore ）。ファイバー
を介して、この光はSEV 付きスキャニング−モノクロメ
ーターに導かれ、スペクトル的に検知される。X-Y 位置
決めテーブルは、ミラーの焦点を光放射の位置に合わせ
る。
ファイバー入口上に結像させることが提案された。（"A
High-Sensirivity Photo Emission Microscope Syste
m..",Tao,Chim,Chan,Phang,Liu,Centre for Integrated
Circuit Failure Analysis,Singapore ）。ファイバー
を介して、この光はSEV 付きスキャニング−モノクロメ
ーターに導かれ、スペクトル的に検知される。X-Y 位置
決めテーブルは、ミラーの焦点を光放射の位置に合わせ
る。
【０００６】さらに、光放射を分析するための、カメラ
と結合した顕微鏡の配列が知られている。("Photoemiss
ion Spectrum Analysis..."IATFA,06-10.11.1995,Santa
Clara,California ）。細いベルト状の、交換可能なフ
ィルターを使用し、波長に従って評価が行われる。
と結合した顕微鏡の配列が知られている。("Photoemiss
ion Spectrum Analysis..."IATFA,06-10.11.1995,Santa
Clara,California ）。細いベルト状の、交換可能なフ
ィルターを使用し、波長に従って評価が行われる。
【０００７】顕微鏡的に弱い光を放射する対象物のスペ
クトル分析は、一般に技術的、生物学的な検査の際に重
要である。顕微鏡観察において、単に一部分の領域がス
ペクトル分析される場合、一般的に、関心のない領域
は、光路内で絞り選択により排除され、残った顕微鏡画
像の残りは後接続された、たとえば、いろいろある中
で、発散素子と面受光部から構成することのできるスペ
クトロメーターの入射スリット上に結像される。
クトル分析は、一般に技術的、生物学的な検査の際に重
要である。顕微鏡観察において、単に一部分の領域がス
ペクトル分析される場合、一般的に、関心のない領域
は、光路内で絞り選択により排除され、残った顕微鏡画
像の残りは後接続された、たとえば、いろいろある中
で、発散素子と面受光部から構成することのできるスペ
クトロメーターの入射スリット上に結像される。
【０００８】この機器構造は、相当なスペースが必要で
あり（顕微鏡に追加取付け）、特に小さい、弱光の対象
物の場合、スペクトロメーターの限られた入光のため
に、問題が多い。これの解決には、さらにコストがかか
ることになる。顕微鏡とスペクトロメーター配列のコン
ビネーションは、例としてドイツ特許ＤＥ４４１９９４
０Ａ１が知られている。
あり（顕微鏡に追加取付け）、特に小さい、弱光の対象
物の場合、スペクトロメーターの限られた入光のため
に、問題が多い。これの解決には、さらにコストがかか
ることになる。顕微鏡とスペクトロメーター配列のコン
ビネーションは、例としてドイツ特許ＤＥ４４１９９４
０Ａ１が知られている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、記述さ
れた問題点を回避し、より単純でコストの安い配列で、
非常に小さな発光をする対象物の放射を捕らえること、
特にミクロメーターの領域でそれを実現することであ
る。この課題は、独立請求項の特徴によって解決され
る。優先的な提案は従属請求項の目的である。
れた問題点を回避し、より単純でコストの安い配列で、
非常に小さな発光をする対象物の放射を捕らえること、
特にミクロメーターの領域でそれを実現することであ
る。この課題は、独立請求項の特徴によって解決され
る。優先的な提案は従属請求項の目的である。
【００１０】
【発明の実施の態様】基本的な創意に富んだひとつの考
え方は、ミクロ発光する対象物からの放射が、中間結像
なしに直接発散素子に到達し、その際、発散素子は例え
ば透過型格子であるというところにある。格子は、有利
なブレーズ格子（geblaztes ）とし、それによってスペ
クトル中の分析される光を分光する。
え方は、ミクロ発光する対象物からの放射が、中間結像
なしに直接発散素子に到達し、その際、発散素子は例え
ば透過型格子であるというところにある。格子は、有利
なブレーズ格子（geblaztes ）とし、それによってスペ
クトル中の分析される光を分光する。
【００１１】カメラチップ上に結像した離散的に存在し
て発光する対象物の光は、たとえば平行な光路内に（顕
微鏡内へのフィルターの挿入）または直接カメラハウジ
ング内（収束光）に取り付けられた発散素子を通過す
る。発散素子は、プリズム（直視プリズム）、透過型格
子、または電気光学的に切替え可能な格子であってもよ
い。
て発光する対象物の光は、たとえば平行な光路内に（顕
微鏡内へのフィルターの挿入）または直接カメラハウジ
ング内（収束光）に取り付けられた発散素子を通過す
る。発散素子は、プリズム（直視プリズム）、透過型格
子、または電気光学的に切替え可能な格子であってもよ
い。
【００１２】これにより、光は屈折または回折により自
身のスペクトル的構成部分に分解され、その構成部分は
面受光部の様々なピクセル上に到達する。ある格子の用
途としては、さらに、視野内での、発散素子を除く対象
点の位置状況に対応する０次にまだ存在する光線は、個
々の波長を使ったピクセル配置の明確化のためと、スペ
クトルの明確な配分のために、光源に関して使用され
る。これにより、非常に有利な取扱経過が実現され、そ
の経過にさらにより近く立ち入ることができる。
身のスペクトル的構成部分に分解され、その構成部分は
面受光部の様々なピクセル上に到達する。ある格子の用
途としては、さらに、視野内での、発散素子を除く対象
点の位置状況に対応する０次にまだ存在する光線は、個
々の波長を使ったピクセル配置の明確化のためと、スペ
クトルの明確な配分のために、光源に関して使用され
る。これにより、非常に有利な取扱経過が実現され、そ
の経過にさらにより近く立ち入ることができる。
【００１３】従来の面受光部のピクセルサイズ、例えば
27μｍでは、非対称に放射する顕著に広い光点にも、十
分な分解能を可能にする。
27μｍでは、非対称に放射する顕著に広い光点にも、十
分な分解能を可能にする。
【００１４】光点の大きさ以外に、システムのスペクト
ル分析は、素子の分散、光路内の位置状況（平行な光路
内、またはカメラチップの前）、結像するレンズの焦点
距離、およびカメラのピクセルサイズによって決まる。
発散素子は第一の実施例において、スペクトルが２次元
のチップのピクセルオリエンテーションに沿って進行す
るように方向づけられる。
ル分析は、素子の分散、光路内の位置状況（平行な光路
内、またはカメラチップの前）、結像するレンズの焦点
距離、およびカメラのピクセルサイズによって決まる。
発散素子は第一の実施例において、スペクトルが２次元
のチップのピクセルオリエンテーションに沿って進行す
るように方向づけられる。
【００１５】第二の実施例のスペクトルの斜めの配置で
は、特に、多数の光点が画像フィールド内に列状に連続
して存在する場合に有利である。
は、特に、多数の光点が画像フィールド内に列状に連続
して存在する場合に有利である。
【００１６】その際、画像表示のために使用されるカメ
ラは、同時に分析経過の中でスペクトル検知に使用され
る。ほとんどの顕微鏡は、挿入する発散素子として使用
するフィルターインサートまたはその他の顕微鏡付属品
を備えているのが、本発明により、従来の機器への単純
な後装着という解決法によって幅広い利用が可能にな
る。
ラは、同時に分析経過の中でスペクトル検知に使用され
る。ほとんどの顕微鏡は、挿入する発散素子として使用
するフィルターインサートまたはその他の顕微鏡付属品
を備えているのが、本発明により、従来の機器への単純
な後装着という解決法によって幅広い利用が可能にな
る。
【００１７】応用範囲は特に、顕微鏡あるいはその他の
光学的結像装置の対象画像に関し、分散的な小さな点
が、自身で光りないしは照射され、それらのスペクトル
的光分布に興味をもたれるところならどこでも可能であ
る。その例は、説明されたように、なによりも電子回路
の中の「ホットスポット」、しかしまた蛍光光線−暗視
野装置により、または顕微鏡の暗いバックグラウンド
で、点状の光放射の存在による放射にも驚くほど有利で
ある。一般的に、この配列のスペクトル分解能は、約10
nmで十分である。発散素子の選択により、分解能は、配
列に対応して適応させることができる。発散素子の位置
は、例えば顕微鏡へのフィルターインサートの中が可能
で、その他に、存在する測定要求に対応して素子の簡単
な移動ができるようにする。
光学的結像装置の対象画像に関し、分散的な小さな点
が、自身で光りないしは照射され、それらのスペクトル
的光分布に興味をもたれるところならどこでも可能であ
る。その例は、説明されたように、なによりも電子回路
の中の「ホットスポット」、しかしまた蛍光光線−暗視
野装置により、または顕微鏡の暗いバックグラウンド
で、点状の光放射の存在による放射にも驚くほど有利で
ある。一般的に、この配列のスペクトル分解能は、約10
nmで十分である。発散素子の選択により、分解能は、配
列に対応して適応させることができる。発散素子の位置
は、例えば顕微鏡へのフィルターインサートの中が可能
で、その他に、存在する測定要求に対応して素子の簡単
な移動ができるようにする。
【００１８】
【実施例】本発明は、以下に実施例をもとに詳しく説明
される。
される。
【００１９】図１について説明する 周知の方法でモーターにより計算機（１）を介して制御
可能な、少なくともＸ−Ｙ方向に移動できる顕微鏡テー
ブル（２）に、対象物（３）、例えば放射する点または
領域３．１を示す半導体回路が配置される。
可能な、少なくともＸ−Ｙ方向に移動できる顕微鏡テー
ブル（２）に、対象物（３）、例えば放射する点または
領域３．１を示す半導体回路が配置される。
【００２０】対物レンズ（４）、鏡筒レンズ（５）、照
明レンズ（７）を介して連結されスイッチを切ることが
できる照明（６）、光線スプリッター（８）、そして接
眼レンズ（１０）の方向へ結像するためのさらにもう一
つの光線スプリッター（９）から構成される顕微鏡の光
路のなかに、対物レンズ（４）と鏡筒レンズ（５）の間
に透過型格子（１１）が配置さており、そこで点３．１
の放射が到達するＣＣＤ受光部（１５）にスペクトル分
割を生じさせ、点の画像（１２）と並べてスペクトル分
布（１３）のような模範的な０解析次が示される。
明レンズ（７）を介して連結されスイッチを切ることが
できる照明（６）、光線スプリッター（８）、そして接
眼レンズ（１０）の方向へ結像するためのさらにもう一
つの光線スプリッター（９）から構成される顕微鏡の光
路のなかに、対物レンズ（４）と鏡筒レンズ（５）の間
に透過型格子（１１）が配置さており、そこで点３．１
の放射が到達するＣＣＤ受光部（１５）にスペクトル分
割を生じさせ、点の画像（１２）と並べてスペクトル分
布（１３）のような模範的な０解析次が示される。
【００２１】図２（ａ）には、図１の格子（１１）に対
応する発散素子（１４）、鏡筒レンズ（５）およびＣＣ
Ｄ受光部（１５）が拡大して概略的に示されている。
応する発散素子（１４）、鏡筒レンズ（５）およびＣＣ
Ｄ受光部（１５）が拡大して概略的に示されている。
【００２２】図２（ｂ）は、発散素子上に発生したスペ
クトル分布（１３）ならびに０次（１２）を示す。
クトル分布（１３）ならびに０次（１２）を示す。
【００２３】発散素子（例：フィルター）は平行な光路
に挿入され、それによってスペクトル（例：一次）の隣
に０次が鏡筒レンズを通してカメラチップ上に結像され
る。
に挿入され、それによってスペクトル（例：一次）の隣
に０次が鏡筒レンズを通してカメラチップ上に結像され
る。
【００２４】このスペクトルは、１本あるいは多数のラ
イン（発散方向）に沿ってピクセル上に画かれ、各ピク
セルの上に信号高さに対応して固定される。
イン（発散方向）に沿ってピクセル上に画かれ、各ピク
セルの上に信号高さに対応して固定される。
【００２５】選択された対象物の測定は次のように進め
ることができる。
ることができる。
【００２６】チップ表面の顕微鏡画像の撮影（カメラエ
ントリ） ・ 対象物の照明をオフにする ・ 電子構成素子の電気的接続 ・ 光っている欠陥個所をカメラで撮影 ・ カメラ画像（ソフトウェア）の欠陥個所をマーキン
グ（クリック）して位置座標の決定 ・ 光路内で透過型格子の方向を変換 ・ 画像領域（例: 中央）内に設定した入射スリットと
して働く座標へ、最初の欠陥個所が自動的に着信。これ
により、０次の位置座標およびすべてのスペクトロメー
タ−ピクセルの、波長に対応した（したがって波長方向
に）配置が固定される。 ・ 最初に入ってきた欠陥個所のスペクトルをスケッ
チ。その際、分散方向に対して垂直にカメラチップの多
数のピクセルが一緒に切り替えられ、それによって全体
の光量が評価される。 ・ さらなる欠陥個所の座標入力とそのスペクトル撮影 図３は、例として単一ピクセル（１６）付きＣＣＤチッ
プ（１５）上に、捕らえた光点（１７）とともに座標Ｘ
i 、Ｙi が表示されている。発散素子が挿入されている
とき、対応する切替えにより、列ｙi にあるピクセル上
に選別することのできるスペクトル分布λ1 〜λm が発
生する。
ントリ） ・ 対象物の照明をオフにする ・ 電子構成素子の電気的接続 ・ 光っている欠陥個所をカメラで撮影 ・ カメラ画像（ソフトウェア）の欠陥個所をマーキン
グ（クリック）して位置座標の決定 ・ 光路内で透過型格子の方向を変換 ・ 画像領域（例: 中央）内に設定した入射スリットと
して働く座標へ、最初の欠陥個所が自動的に着信。これ
により、０次の位置座標およびすべてのスペクトロメー
タ−ピクセルの、波長に対応した（したがって波長方向
に）配置が固定される。 ・ 最初に入ってきた欠陥個所のスペクトルをスケッ
チ。その際、分散方向に対して垂直にカメラチップの多
数のピクセルが一緒に切り替えられ、それによって全体
の光量が評価される。 ・ さらなる欠陥個所の座標入力とそのスペクトル撮影 図３は、例として単一ピクセル（１６）付きＣＣＤチッ
プ（１５）上に、捕らえた光点（１７）とともに座標Ｘ
i 、Ｙi が表示されている。発散素子が挿入されている
とき、対応する切替えにより、列ｙi にあるピクセル上
に選別することのできるスペクトル分布λ1 〜λm が発
生する。
【００２７】しかしまた、テーブル制御によって光点，
特に中央の座標ｘo ，ｙo は、ＣＣＤチップ上を動かさ
れ、その際平行して方向ｙo にあるピクセル面（１８）
はいわばほとんどライン受光部としてスペクトルλ1 〜
λm を受像する。多数の光点の評価のため、これらはア
ナログ方式で相前後して、定義された座標ｘo ，ｙo内
を動かされ、ライン受光部によって選別される。
特に中央の座標ｘo ，ｙo は、ＣＣＤチップ上を動かさ
れ、その際平行して方向ｙo にあるピクセル面（１８）
はいわばほとんどライン受光部としてスペクトルλ1 〜
λm を受像する。多数の光点の評価のため、これらはア
ナログ方式で相前後して、定義された座標ｘo ，ｙo内
を動かされ、ライン受光部によって選別される。
【００２８】顕微鏡に接続されたカメラによって、面検
知器は通常任意に使用できるので、多数の光る対象点の
同時検知も対応するソフトウェアによって可能である。
知器は通常任意に使用できるので、多数の光る対象点の
同時検知も対応するソフトウェアによって可能である。
【００２９】いわゆる「ホットスポット」の分析におい
て、電子チップのリトグラフ製造工程でのｘ−ｙアドレ
スに基づいて、この有利な方向付けとして斜め分散方向
が最適である。これにより、様々な、狭く隣接した光点
のスペクトルが層を成して重なることや、測定結果の低
品質化が阻止できる。
て、電子チップのリトグラフ製造工程でのｘ−ｙアドレ
スに基づいて、この有利な方向付けとして斜め分散方向
が最適である。これにより、様々な、狭く隣接した光点
のスペクトルが層を成して重なることや、測定結果の低
品質化が阻止できる。
【００３０】ソフトウェアに従って、面検知器内にある
点の座標が決められ、発散素子の方向変換後に、それら
の配置され分散方向によった生じたスペクトル分布は、
隣接するピクセルエネルギーに対応してすべてが同時に
受像される。それゆえ、すべての光点を受像するための
対象物の移動は不要である。
点の座標が決められ、発散素子の方向変換後に、それら
の配置され分散方向によった生じたスペクトル分布は、
隣接するピクセルエネルギーに対応してすべてが同時に
受像される。それゆえ、すべての光点を受像するための
対象物の移動は不要である。
【００３１】図４は、分散方向が、ＣＣＤ−チップの受
光部素子の方向づけと平行でないような種類の配置を示
す。
光部素子の方向づけと平行でないような種類の配置を示
す。
【００３２】ここでは、多数の光点（１９）、それらか
らそれぞれ発生したスペクトル（２０）が示され、そこ
では分析のために受光部素子が分散方向に位置してい
る。
らそれぞれ発生したスペクトル（２０）が示され、そこ
では分析のために受光部素子が分散方向に位置してい
る。
【００３３】カメラチップ上に鏡筒レンズによって結像
された光束の開口部が、さらにまた有利に、スペクトル
検知のためにうすい担体上の透過型格子を、鏡筒レンズ
光束の方向への収束内の挿入を可能とする。０次は再び
カメラピクセルのスペクトルの配分設定に役立ち、ま
た、集中基準化へ導くことができる。
された光束の開口部が、さらにまた有利に、スペクトル
検知のためにうすい担体上の透過型格子を、鏡筒レンズ
光束の方向への収束内の挿入を可能とする。０次は再び
カメラピクセルのスペクトルの配分設定に役立ち、ま
た、集中基準化へ導くことができる。
【００３４】対応する発散素子の調整による多数の光点
の同時検知は、これまた同様に可能である。
の同時検知は、これまた同様に可能である。
【００３５】図５には、発散素子、ここでは透過型格子
（２１）、が鏡筒レンズ（５）とＣＣＤチップ（１５）
の間、収束する光路内に配置され、ここには描かれてい
ない顕微鏡の写真用出口に取り付けられたカメラハウジ
ング（２２）の構成部品の一部を成している。
（２１）、が鏡筒レンズ（５）とＣＣＤチップ（１５）
の間、収束する光路内に配置され、ここには描かれてい
ない顕微鏡の写真用出口に取り付けられたカメラハウジ
ング（２２）の構成部品の一部を成している。
【００３６】これまで言及された回折格子のほかに、有
利に、ほかの発散素子も取り付けることができる。回折
格子の代わりに、平行光路内にプリズム（直線プリズ
ム）を使用することは、光の弱い光線の場合に有利であ
って、発生する全部の光エネルギーがひとつのスペクト
ルに分解される、という利点を持っている。
利に、ほかの発散素子も取り付けることができる。回折
格子の代わりに、平行光路内にプリズム（直線プリズ
ム）を使用することは、光の弱い光線の場合に有利であ
って、発生する全部の光エネルギーがひとつのスペクト
ルに分解される、という利点を持っている。
【００３７】屈折率の変化する材料、例えば液晶のブレ
ーズ格子の液侵により、メカニカルな調整経過なしに光
面検知の状態ないしスペクトル分析を実現できる。
ーズ格子の液侵により、メカニカルな調整経過なしに光
面検知の状態ないしスペクトル分析を実現できる。
【００３８】その方法は、まず回折構造が液侵の屈折率
によってそれの光線に影響する機能の中に完全に相殺さ
れ、次にスペクトル分析過程のために液晶が切替えら
れ、位相格子が入射光をスペクトル構成に応じて屈折さ
せるというものである。この種の格子は、例えば、Fens
tle, Frisch:"Static and dynamic Frensnel Zone Lens
es for optical interconnections",Special Issue of
the Journal of Modern Optics , July 1996 に書かれ
ている。
によってそれの光線に影響する機能の中に完全に相殺さ
れ、次にスペクトル分析過程のために液晶が切替えら
れ、位相格子が入射光をスペクトル構成に応じて屈折さ
せるというものである。この種の格子は、例えば、Fens
tle, Frisch:"Static and dynamic Frensnel Zone Lens
es for optical interconnections",Special Issue of
the Journal of Modern Optics , July 1996 に書かれ
ている。
【００３９】本発明は、示された実施例に限るものでは
ない。特に、結像光路内に発散素子を具備した顕微鏡を
さらに具体的に修正した、ＣＣＤマトリックス上に放射
光点のスペクトル分布を作る配列が考えられる。
ない。特に、結像光路内に発散素子を具備した顕微鏡を
さらに具体的に修正した、ＣＣＤマトリックス上に放射
光点のスペクトル分布を作る配列が考えられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に従った、顕微鏡内での配列。
【図２】 平行する光路内で、CCDカメラの方向に、顕
微鏡の鏡筒レンズの前に取り付けられた透過型格子。
微鏡の鏡筒レンズの前に取り付けられた透過型格子。
【図３】 多数の光る対象点の同時検知
【図４】 チップの位置あわせのための斜めの分散方向
による検知
による検知
【図５】 カメラハウジング内の透過型格子の配列
１ 計算機 ２ 顕微鏡テーブル ３ 対象物 ４ 対物レンズ ５ 鏡筒レンズ ６ 照明 ７ 照明レンズ ８、９ 光線ガイド １０ 接眼レンズ １１ 透過型格子 １２ 点の画像 １３ スペクトル分析 １４ 発散素子 １５ ＣＣＤ受光部 １６ 単一ピクセル １７ 光点 １８ ピクセル面 １９ 光点 ２０ スペクトル ２１ 透過型格子 ２２ カメラハウジング
Claims (20)
- 【請求項１】 点状に発光する試料の放射分布を検出す
るための顕微鏡システムにおいて、特に集積回路の欠陥
を分析する際、少なくとも１次元の受光分布の方向の試
料の結像光路から成り、前記結像光路に少なくとも点状
に放射された光をスペクトル分析するための素子が少な
くとも１つ具備されている顕微鏡システム。 - 【請求項２】 スペクトル分析するための素子が、発散
素子であることを特徴とする請求項１に記載の顕微鏡シ
ステム。 - 【請求項３】 発散素子が、格子であることを特徴とす
る請求項２に記載の顕微鏡システム。 - 【請求項４】 格子が、透過型格子であることを特徴と
する請求項３に記載の顕微鏡システム。 - 【請求項５】 格子が、光学的方向変換素子を介して画
像に関連付けられる請求項３に記載の反射型格子である
ことを特徴とする顕微鏡システム。 - 【請求項６】 発散素子が、プリズムであることを特徴
とする請求項２に記載の顕微鏡システム。 - 【請求項７】 発散素子が、顕微鏡対物レンズに対して
画像の方向に従属することを特徴とする請求項１から６
のいずれか１に記載の顕微鏡システム。 - 【請求項８】 発散素子が、顕微鏡の対物レンズと鏡胴
レンズとの間に配設されていることを特徴とする請求項
７に記載の顕微鏡システム。 - 【請求項９】 発散素子が、カメラシステムの構成要素
であることを特徴とする請求項１から８のいずれか１に
記載の顕微鏡システム。 - 【請求項１０】 発散素子が、顕微鏡の鏡胴レンズとカ
メラシステムのＣＣＤ素子の間に配設されていることを
特徴とする請求項１から９のいずれか１に記載の顕微鏡
システム。 - 【請求項１１】 発散素子が前記カメラシステムのカメ
ラハウジング内に配設されていることを特徴とする請求
項９または１０に記載の顕微鏡システム。 - 【請求項１２】 発散素子が結像光路内で旋回可能、お
よびまたは挿入可能に形成されていることを特徴とする
請求項１から１１のいずれか１に記載の顕微鏡システ
ム。 - 【請求項１３】 １つの評価基準により、試料の発光領
域を少なくとも点状にマーキングおよびまたは評価する
ためのマーキング手段およびまたは評価手段であって、 スペクトル分布が、結像される受光分布を感光領域から
向きを定めて選択する手段を有することを特徴とする請
求項１から１２のいずれか１に記載の顕微鏡システム。 - 【請求項１４】 評価またはマーキング領域を受光分布
による前記評価が可能となる所定の位置に合わせるため
に、少なくとも２次元的に取り扱い可能な試料台が具備
されていることを特徴とする請求項１３に記載の顕微鏡
システム。 - 【請求項１５】 請求項１から１４のいずれか１に記載
の顕微鏡システムの操作方法において、 受光分布による複数の発光点または領域を受像するステ
ップと、 １つ以上の点または領域を画面表示してマーキングをす
るステップと、 発散素子の向きを変えるステップと、 マーキングした１つ以上の位置を所定の座標内で移動す
るステップと、 受光配列の感光領域によるスペクトルを記録するステッ
プと、を含むことを特徴とする顕微鏡システムの操作方
法。 - 【請求項１６】 請求項１から１５のいずれか１に記載
の顕微鏡システムの操作方法において、 自動的またはマーキングにより画面上で複数の発光点ま
たは領域を評価するステップと、 評価された点または領域の方向移動ステップと、 マーキングまたは評価された出力点から見て発散方向に
配列されている受光分布中の感光領域を選択するステッ
プとを含むことを特徴とする操作方法。 - 【請求項１７】 前記の評価と分析が、受光分布の行お
よびまたは段の延長方向と平行な発散方向で行われるこ
とを特徴とする請求項１６に記載の操作方法。 - 【請求項１８】 前記の評価と分析が、受光分布の行ま
たは段の方向に対し、ある角度で行われることを特徴と
する請求項１６に記載の操作方法。 - 【請求項１９】 前記受光分布の前記感光領域へ向きを
変えることにより、多数の発光点または領域およびこれ
らのスペクトル分布を同時に検出および評価することを
特徴とする請求項１から１８のいずれか１に記載の顕微
鏡システムの操作方法。 - 【請求項２０】 前記評価されたスペクトル分布を記憶
素子に割当てるステップと、前記記憶素子を選択するこ
とにより個々の波長の発生頻度／強度を評価するステッ
プと、これらの評価された頻度分布に対応するスペクト
ル分布を相互に配分するステップとを含むことを特徴と
する請求項１から１９のいずれか１に記載の顕微鏡シス
テムの操作方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19701703.7 | 1997-01-21 | ||
| DE19701703A DE19701703A1 (de) | 1997-01-21 | 1997-01-21 | Mikroskopisches System zur Erfassung der Emissionsverteilung und Verfahren zu dessen Betrieb |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10213635A true JPH10213635A (ja) | 1998-08-11 |
Family
ID=7817765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9192066A Pending JPH10213635A (ja) | 1997-01-21 | 1997-07-03 | 放射分布検出用顕微鏡システム及びその操作方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6040907A (ja) |
| JP (1) | JPH10213635A (ja) |
| DE (1) | DE19701703A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002014145A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-18 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体デバイス検査装置及び半導体デバイス検査方法 |
| JP2015175851A (ja) * | 2014-03-13 | 2015-10-05 | ディーシージー システムズ、 インコーポライテッドＤｃｇ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｉｎｃ． | 発光スペクトル分析による欠陥の分離のためのシステムと方法 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6337472B1 (en) * | 1998-10-19 | 2002-01-08 | The University Of Texas System Board Of Regents | Light imaging microscope having spatially resolved images |
| US6429968B1 (en) * | 2000-03-09 | 2002-08-06 | Agere Systems Guardian Corp | Apparatus for photoluminescence microscopy and spectroscopy |
| US6690467B1 (en) * | 2000-05-05 | 2004-02-10 | Pe Corporation | Optical system and method for optically analyzing light from a sample |
| US6958811B2 (en) | 2000-06-29 | 2005-10-25 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Method for the detection of dyes in fluorescence microscopy |
| US6747737B2 (en) | 2000-06-29 | 2004-06-08 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Method for optical detection of an illuminated specimen in a plurality of detection channels |
| DE10033180B4 (de) * | 2000-06-29 | 2006-08-31 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Verfahren zur Detektion von Farbstoffen in der Fluoreszenzmikroskopie |
| US6858852B2 (en) | 2000-08-08 | 2005-02-22 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Method and apparatus for rapid change of fluorescence bands in the detection of dyes in fluorescence microscopy |
| US6947133B2 (en) * | 2000-08-08 | 2005-09-20 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Method for increasing the spectral and spatial resolution of detectors |
| US6670087B2 (en) * | 2000-11-07 | 2003-12-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Toner, image-forming apparatus, process cartridge and image forming method |
| US20030133109A1 (en) * | 2002-01-17 | 2003-07-17 | Murguia James E. | Real time LASER and LED detection system using a hyperspectral imager |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4844617A (en) * | 1988-01-20 | 1989-07-04 | Tencor Instruments | Confocal measuring microscope with automatic focusing |
| DE3843876A1 (de) * | 1988-12-24 | 1990-07-12 | Leitz Wild Gmbh | Spektralmikroskop mit einem photometer |
| GB9014263D0 (en) * | 1990-06-27 | 1990-08-15 | Dixon Arthur E | Apparatus and method for spatially- and spectrally- resolvedmeasurements |
| US5301006A (en) * | 1992-01-28 | 1994-04-05 | Advanced Micro Devices, Inc. | Emission microscope |
| US5706083A (en) * | 1995-12-21 | 1998-01-06 | Shimadzu Corporation | Spectrophotometer and its application to a colorimeter |
| US5767965A (en) * | 1996-05-31 | 1998-06-16 | Instruments S.A., Inc. | Apparatus and method for driving diffraction gratings |
-
1997
- 1997-01-21 DE DE19701703A patent/DE19701703A1/de not_active Withdrawn
- 1997-07-03 JP JP9192066A patent/JPH10213635A/ja active Pending
- 1997-08-29 US US08/920,680 patent/US6040907A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002014145A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-18 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体デバイス検査装置及び半導体デバイス検査方法 |
| JP2015175851A (ja) * | 2014-03-13 | 2015-10-05 | ディーシージー システムズ、 インコーポライテッドＤｃｇ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｉｎｃ． | 発光スペクトル分析による欠陥の分離のためのシステムと方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19701703A1 (de) | 1998-07-23 |
| US6040907A (en) | 2000-03-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5199539B2 (ja) | 焦点ずれ検出のためのマルチスペクトル技術 | |
| US8274652B2 (en) | Defect inspection system and method of the same | |
| EP0294643B1 (en) | Inspection system for array of microcircuit dies having redundant circuit patterns | |
| US7973921B2 (en) | Dynamic illumination in optical inspection systems | |
| US9546962B2 (en) | Multi-spot scanning collection optics | |
| JP2515090B2 (ja) | パタ―ン化されたウェハの厚さ測定用のコフォ―カル光学系 | |
| US6181427B1 (en) | Compact optical reflectometer system | |
| US7456950B2 (en) | Spectroscope with spatial resolution control | |
| US20200333262A1 (en) | Simultaneous multi-directional laser wafer inspection | |
| TW201706593A (zh) | 在雷射暗場系統中用於斑點抑制之方法及裝置 | |
| US11933717B2 (en) | Sensitive optical metrology in scanning and static modes | |
| KR101466258B1 (ko) | 촬상장치 | |
| JPH07107346A (ja) | 検査装置 | |
| JPH10213635A (ja) | 放射分布検出用顕微鏡システム及びその操作方法 | |
| US20090201499A1 (en) | Spectroscopic Imaging Microscopy | |
| KR20230128002A (ko) | 스캐닝 산란 계측 오버레이 측정 | |
| US6693704B1 (en) | Wave surface aberration measurement device, wave surface aberration measurement method, and projection lens fabricated by the device and the method | |
| KR101523336B1 (ko) | 웨이퍼 영상 검사 장치 | |
| TW202014671A (zh) | 光學地量測與成像一量測物件的裝置與方法 | |
| JP3659952B2 (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JPS62278402A (ja) | アライメント装置 | |
| JP2005208064A (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JP3659953B2 (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| US6943901B2 (en) | Critical dimension measuring instrument | |
| JP2000136982A (ja) | アレイ素子検査方法およびアレイ素子検査装置 |