JPH10201655A - Bathtub - Google Patents

Bathtub

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JPH10201655A
JPH10201655A JP9028514A JP2851497A JPH10201655A JP H10201655 A JPH10201655 A JP H10201655A JP 9028514 A JP9028514 A JP 9028514A JP 2851497 A JP2851497 A JP 2851497A JP H10201655 A JPH10201655 A JP H10201655A
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JP
Japan
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water
bathtub
cobalt
photocatalyst
silicone
Prior art date
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Application number
JP9028514A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Kitamura
厚 北村
Makoto Hayakawa
信 早川
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Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
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Publication date
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Publication of JPH10201655A publication Critical patent/JPH10201655A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make water drops hardly adhere to the surface of the apron part of a bathtub over a long period by forming a surface layer containing an optical catalyst particle, water repelling silicone, and a material for preventing the water repelling silicone from being hydrophilic by the optical excitation of the optical catalyst on the apron part surface of the bathtub. SOLUTION: On the surface of the apron part base material of a bathtub, a surface layer containing an optical catalyst particle, silicone, and a material for preventing the silicone from being hydrophilic by the optical excitation of the optical catalyst such as cobalt or a cobalt compound is formed. Otherwise, a layer containing an optical catalyst particle and water repelling silicone is formed, and a material for preventing the water repelling silicone from being hydrophilic by the optical excitation of the optical catalyst such as cobalt or a cobalt compound is fixed to at least a part of this layer surface.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、エプロン部に水垢
汚れが生じにくい浴槽に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bathtub which is less likely to cause water stains on an apron.

【0002】[0002]

【従来の技術】浴槽には、ホ−ロ−、ポリエステル、マ
−ブライト、ステンレス、FRP、アクリルなどが使用
されている。浴槽のエプロン部に白い輪状の汚れである
水垢汚れが生じていることはしばしば観察されている。
特に青色のホ−ロ−浴槽の場合、その汚れは背景とのコ
ントラストが大きいためによく目立って、ホ−ロ−浴槽
の美観、質感、高級感を損ねるという問題があった。
2. Description of the Related Art Hollow, polyester, marbright, stainless steel, FRP, acrylic and the like are used in bathtubs. It is often observed that white algae-like stains are formed on the apron of the bathtub.
In particular, in the case of a blue hollow bathtub, the stains are conspicuous because the contrast with the background is large, and there is a problem that the beauty, texture and luxury of the hollow bathtub are impaired.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】水垢汚れは以下のよう
にして生じると考えられる。すなわち、浴槽のエプロン
部に残留した付着水滴中に含有されるカルシウムイオン
等が、空気中の二酸化炭素と反応して炭酸カルシウムの
ような塩が生じ、それが水滴の乾燥と共に浴槽のエプロ
ン部表面に析出し、固着化するのである。そこで、浴槽
のエプロン部に水垢汚れが生じにくく、浴槽の美観、質
感、高級感を損ねないようにするために、浴槽のエプロ
ン部に水滴が付着、残留しにくい浴槽が望まれている。
It is considered that the water stain occurs as follows. In other words, calcium ions and the like contained in the attached water droplets remaining in the apron portion of the bathtub react with carbon dioxide in the air to form a salt such as calcium carbonate, which is dried as the waterdrops dry and becomes a surface of the apron portion of the bathtub. It precipitates and is fixed. Therefore, in order to prevent water stains from being generated on the apron portion of the bathtub and not to impair the aesthetics, texture and luxury of the bathtub, a bathtub in which water droplets hardly adhere and remain on the apron portion of the bathtub is desired.

【0004】水滴の付着を防止する方法としては、基材
表面に撥水性を付与するとよいことが知られている。そ
の一方法として、基材表面に撥水性シリコ−ンからなる
表面層を形成する方法がある。しかしながら、この構成
では経時的に汚れが付着することによって水との接触角
が70゜程度に低下し、撥水性の効果が持続しない。そ
こで、上記課題を解決する他の方法として、基材表面に
光触媒と撥水性シリコ−ンとからなる表面層を形成する
方法がある。この方法によれば、光触媒の酸化分解性に
基づき、経時的に付着する汚れを分解できる。しかしな
がら、この構成では屋外で太陽光に晒すと、光触媒の光
励起によりシリコ−ンが親水化してしまうため表面の撥
水性を維持することができない。本発明では、上記事情
に鑑み、浴槽のエプロン部表面の撥水性を長期にわたり
維持しうる浴槽を提供し、以て長期にわたり浴槽のエプ
ロン部表面に水滴の付着しにくい浴槽を提供することを
目的とする。
[0004] As a method of preventing the adhesion of water droplets, it is known that it is better to impart water repellency to the surface of a substrate. As one of the methods, there is a method of forming a surface layer made of a water-repellent silicone on a substrate surface. However, with this structure, the contact angle with water is reduced to about 70 ° due to the adhesion of dirt over time, and the effect of water repellency is not maintained. Therefore, as another method for solving the above-mentioned problem, there is a method of forming a surface layer comprising a photocatalyst and a water-repellent silicone on the surface of a substrate. According to this method, it is possible to decompose the adhered dirt over time based on the oxidative decomposability of the photocatalyst. However, in this configuration, when exposed to sunlight outdoors, the silicone is hydrophilized by photoexcitation of the photocatalyst, so that the water repellency of the surface cannot be maintained. In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a bathtub that can maintain the water repellency of the surface of an apron portion of a bathtub for a long time, and to provide a bathtub that does not easily adhere to water droplets on the surface of the apron portion of the bathtub for a long time. And

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決すべく、浴槽のエプロン部表面に、光触媒粒子と、
撥水性シリコ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触
媒の光励起による親水化を防止するための物質とを含有
する実質的に透明な表面層が形成されている、或いは基
材表面に、光触媒粒子と撥水性シリコ−ンとを含有する
実質的に透明な層が形成され、さらにその層表面の少な
くとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光
励起による親水化を防止するための物質が固定されてい
ることを特徴とする浴槽を提供する。コバルト又はコバ
ルト化合物のような光触媒の光励起による親水化を防止
するための物質が表面層に含有されているようにするこ
とにより、光触媒の光励起によりシリコ−ンが親水化し
てしまうのを防止することができる。かつ光触媒が含有
されているので、光触媒の酸化分解性に基づき、経時的
に付着する汚れを分解できる。従って、浴槽のエプロン
部表面の撥水性を恒久的に維持することができ、長期に
わたり水滴の付着しにくい浴槽を提供できるようにな
る。
According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, photocatalyst particles are provided on an apron surface of a bathtub.
A substantially transparent surface layer containing a water-repellent silicone and a substance for preventing the water-repellent silicone from being hydrophilized by photoexcitation of the photocatalyst is formed, or on a substrate surface, A substantially transparent layer containing photocatalyst particles and water-repellent silicone is formed, and at least a part of the surface of the layer is used to prevent the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst. A bathtub characterized in that the substance is fixed. Preventing the silicon from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst by making the surface layer contain a substance such as cobalt or a cobalt compound for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation. Can be. In addition, since the photocatalyst is contained, it is possible to decompose the dirt adhering with time based on the oxidative decomposability of the photocatalyst. Therefore, the water repellency of the apron surface of the bathtub can be maintained permanently, and a bathtub to which water droplets are unlikely to adhere for a long time can be provided.

【0006】本発明の好ましい態様においては、浴槽の
エプロン部表面は水平でないようにする。このようにす
ることで、エプロン部において水滴は高い所から低い所
へ流滴するようになり、付着しにくくなるとともに、残
留もしなくなるので、浴槽のエプロン部に水垢汚れがよ
り生じにくくなる。
[0006] In a preferred embodiment of the present invention, the surface of the apron section of the bathtub is not horizontal. By doing so, the water droplets flow from a high place to a low place in the apron part, so that they are less likely to adhere and remain, so that water stains are less likely to occur in the apron part of the bathtub.

【0007】本発明の好ましい態様においては、浴槽内
部側のほうが浴槽外部側よりも高い位置にくるように傾
斜しているようにする。このようにすることで、エプロ
ン部において流滴する水滴は浴槽内部に滴下されないの
で、入浴に際し、より気持ちよく使用できる。
In a preferred embodiment of the present invention, the inside of the bathtub is inclined so as to be higher than the outside of the bathtub. By doing so, since the water droplets flowing in the apron portion are not dropped into the bathtub, the bath can be used more comfortably when taking a bath.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】図1は本発明の浴槽の一例を示す
平面図である。図2及び図3は浴槽のエプロン部表面の
例を示す要部拡大断面図であり、図2では、浴槽のエプ
ロン部基材の表面には、光触媒粒子と、シリコ−ンと、
コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の光励起による
親水化を防止するための物質を含む表面層が形成されて
いる。図3では、光触媒粒子と、撥水性シリコ−ンとを
含有する層が形成され、さらにその層表面の少なくとも
一部にはコバルト又はコバルト化合物等の撥水性シリコ
−ンの光触媒の光励起による親水化を防止するための物
質が固定されている。浴槽の材質には、従来と同様に、
ホ−ロ−、ポリエステル、マ−ブライト、ステンレス、
FRP、アクリルなどが利用できる。基材と表面層との
間には、シリコ−ン、無定型シリカ、アクリルシリコン
等からなる中間層を設けるようにしてもよい。
FIG. 1 is a plan view showing an example of a bathtub according to the present invention. 2 and 3 are enlarged cross-sectional views of an essential part showing an example of an apron surface of a bathtub. In FIG. 2, photocatalyst particles, silicone, and
A surface layer containing a substance for preventing hydrophilicity due to photoexcitation of a photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound is formed. In FIG. 3, a layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed, and at least a part of the surface of the layer is hydrophilized by photoexcitation of a photocatalyst of a water-repellent silicone such as cobalt or a cobalt compound. The substance to prevent is fixed. For the material of the bathtub, as before,
Hollow, polyester, mar bright, stainless steel,
FRP, acrylic, etc. can be used. An intermediate layer made of silicon, amorphous silica, acrylic silicon or the like may be provided between the substrate and the surface layer.

【0009】光触媒とは、その結晶の伝導帯と価電子帯
との間のエネルギ−ギャップよりも大きなエネルギ−
(すなわち短い波長)の光(励起光)を照射したとき
に、価電子帯中の電子の励起(光励起)が生じて、伝導
電子と正孔を生成しうる物質をいい、例えば、アナタ−
ゼ型酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化第二鉄、三酸
化二ビスマス、三酸化タングステン、チタン酸ストロン
チウム等の酸化物が好適に利用できる。光触媒の光励起
に用いる光源としては、例えば、太陽光、蛍光灯、白熱
電灯、メタルハライドランプ、水銀灯、キセノンランプ
等の照明が利用できる。光触媒が光励起されるために
は、励起光の照度は0.001mW/cm2以上あれば
よいが、0.01mW/cm2以上だと好ましく、0.
1mW/cm2以上だとより好ましい。
A photocatalyst has an energy greater than the energy gap between the conduction band and the valence band of the crystal.
A substance capable of generating conduction electrons and holes by excitation of electrons in the valence band (photoexcitation) when irradiated with light (excitation light) having a short wavelength (excitation light).
Oxides such as zeta-type titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, ferric oxide, bismuth trioxide, tungsten trioxide and strontium titanate can be suitably used. Illumination such as sunlight, a fluorescent lamp, an incandescent lamp, a metal halide lamp, a mercury lamp, and a xenon lamp can be used as a light source used for photoexcitation of the photocatalyst. For the photocatalyst is photoexcited, the illuminance of the excitation light may be at 0.001 mW / cm 2 or more, but preferably that it 0.01 mW / cm 2 or more, 0.
More preferably, it is 1 mW / cm 2 or more.

【0010】シリコ−ンには、平均組成式 RpSiO(4-p)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは0<p<2を満足する数
である)で表される樹脂が利用できる。
The silicone has an average composition formula R p SiO (4-p) / 2 (where R is a functional group comprising one or more monovalent organic groups, or a monovalent organic group) A resin represented by the following formula: X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is a number satisfying 0 <p <2. Is available.

【0011】コバルト化合物には、コバルト合金、酸化
コバルト、塩化コバルト、硫酸コバルト、ヨウ化コバル
ト、臭化コバルト、酢酸コバルト、塩素酸コバルト、硝
酸コバルト等が好適に利用できる。
As the cobalt compound, a cobalt alloy, cobalt oxide, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, cobalt bromide, cobalt acetate, cobalt chlorate, cobalt nitrate and the like can be suitably used.

【0012】表面層の膜厚は、0.4μm以下にするの
が好ましい。そうすれば、光の乱反射による白濁を防止
することができ、表面層は実質的に透明となる。さら
に、表面層の膜厚を、0.2μm以下にすると一層好ま
しい。そうすれば、光の干渉による表面層の発色を防止
することができる。また、表面層が薄ければ薄いほどそ
の透明度は向上する。更に、膜厚を薄くすれば、表面層
の耐摩耗性が向上する。
The thickness of the surface layer is preferably set to 0.4 μm or less. Then, cloudiness due to irregular reflection of light can be prevented, and the surface layer becomes substantially transparent. Further, it is more preferable that the thickness of the surface layer be 0.2 μm or less. Then, it is possible to prevent the surface layer from being colored by light interference. Also, the thinner the surface layer, the better its transparency. Further, when the film thickness is reduced, the wear resistance of the surface layer is improved.

【0013】表面層には、Ag、Cu、Znのような金
属を添加することができる。前記金属を添加した表面層
は、表面に付着した細菌や黴を暗所でも死滅させること
ができる。
A metal such as Ag, Cu and Zn can be added to the surface layer. The surface layer to which the metal is added can kill bacteria and fungi attached to the surface even in a dark place.

【0014】表面層にはPt、Pd、Ru、Rh、I
r、Osのような白金族金属を添加することができる。
前記金属を添加した表面層は、光触媒の酸化還元活性を
増強でき、有機物汚れの分解性、有害気体や悪臭の分解
性を向上させることができる。
Pt, Pd, Ru, Rh, I
A platinum group metal such as r or Os can be added.
The surface layer to which the metal is added can enhance the redox activity of the photocatalyst, and can improve the decomposability of organic contaminants and the decomposability of harmful gases and odors.

【0015】次に、基材表面に、光触媒粒子と、撥水性
シリコ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光
励起による親水化を防止するための物質とを含有する表
面層が形成されている撥水性部材の製法について説明す
る。この場合の製法は、基本的には、基材表面にコ−テ
ィング組成物を塗布し、硬化させることによる。
Next, a surface layer containing photocatalyst particles, water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is formed on the surface of the substrate. The method of manufacturing the water-repellent member described above will be described. The production method in this case is basically based on applying a coating composition on the surface of a substrate and curing the coating composition.

【0016】ここでコ−ティング組成物は、光触媒粒
子、コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の光励起に
よる親水化を防止するための物質にシリコ−ンの前駆体
を必須構成要件とし、その他に水、エタノ−ル、プロパ
ノ−ル等の溶媒や、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン
酸等のシリコ−ンの前駆体の加水分解を促進する触媒
や、トリブチルアミン、ヘキシルアミンなどの塩基性化
合物類、アルミニウムトリイソプロポキシド、テトライ
ソプロピルチタネ−トなどの酸性化合物類等のシリコ−
ンの前駆体を硬化させる触媒や、シランカップリング剤
等のコ−ティング液の分散性を向上させる界面活性剤な
どを添加してもよい。
Here, the coating composition contains a precursor of silicon as an essential component in a substance for preventing photocatalytic particles, cobalt or a cobalt compound or the like from becoming hydrophilic by photoexcitation of a photocatalyst. Solvents such as ethanol and propanol, catalysts that promote hydrolysis of silicone precursors such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid and maleic acid, and basic compounds such as tributylamine and hexylamine Silicon compounds such as acidic compounds such as aluminum, aluminum triisopropoxide and tetraisopropyl titanate;
And a surfactant for improving the dispersibility of the coating liquid such as a silane coupling agent.

【0017】コバルト又はコバルト化合物としては、水
溶性のコバルト化合物を用いるのが好ましい。水溶性の
コバルト化合物としては、例えば、塩化コバルト、硫酸
コバルト、ヨウ化コバルト、臭化コバルト、酢酸コバル
ト、塩素酸コバルト、硝酸コバルト等が好適に利用でき
る。
As cobalt or a cobalt compound, a water-soluble cobalt compound is preferably used. As the water-soluble cobalt compound, for example, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, cobalt bromide, cobalt acetate, cobalt chlorate, cobalt nitrate and the like can be suitably used.

【0018】ここでシリコ−ンの前駆体としては、平均
組成式 RpSiXq(4-p-q)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、p及びqは0<p<2、0<
q<4を満足する数である)で表されるシロキサンから
なる塗膜形成要素、又は一般式 RpSiX4-p (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは1または2である)で表
される加水分解性シラン誘導体からなる塗膜形成要素、
が好適に利用できる。
Here, the precursor of the silicone is an average compositional formula of R p SiX q O (4-pq) / 2 (where R is a functional group comprising one or more monovalent organic groups) X or a functional group comprising two or more selected from a monovalent organic group and a hydrogen group, X is an alkoxy group or a halogen atom, and p and q are 0 <p <2, 0 <
a film-forming element composed of a siloxane represented by the following formula: q <4) or a general formula R p SiX 4-p (where R is one or more monovalent organic groups) Wherein X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is 1 or 2. A film-forming element comprising a hydrolyzable silane derivative to be
Can be suitably used.

【0019】ここで上記加水分解性シラン誘導体からな
る塗膜形成要素としては、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジプロポ
キシシラン、フェニルメチルジブトキシシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリプロポキシシラン、n−プロ
ピルトリブトキシシラン、γ−グリコキシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン等が好適に利用できる。
Here, as the coating film forming element comprising the hydrolyzable silane derivative, methyltrimethoxysilane,
Methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, Phenyltributoxysilane,
Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldibutoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenyl Methyldipropoxysilane, phenylmethyldibutoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, γ-glycoxydoxypropyltrimethoxysilane, γ -Acryloxypropyltrimethoxysilane and the like can be suitably used.

【0020】また、上記シロキサンからなる塗膜形成要
素としては、上記加水分解性シラン誘導体の部分加水分
解及び脱水縮重合、又は上記加水分解性シラン誘導体の
部分加水分解物と、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、ジエトキシジメトキシシラン等の部分加水分解
物との脱水縮重合等で作製することができる。
The film-forming element composed of the above-mentioned siloxane includes partial hydrolysis and dehydration-condensation polymerization of the above-mentioned hydrolyzable silane derivative, or partially hydrolyzate of the above-mentioned hydrolyzable silane derivative, tetramethoxysilane, tetramethoxysilane and tetramethoxysilane. It can be produced by dehydration polycondensation with a partial hydrolyzate such as ethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, diethoxydimethoxysilane and the like.

【0021】上記コ−ティング組成物の塗布方法として
は、スプレ−コ−ティング法、ディップコ−ティング
法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ
−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポンジ塗り等の方法
が好適に利用できる。硬化方法としては、熱処理、室温
放置、紫外線照射等により重合させて行うことができ
る。
The coating method of the above coating composition includes spray coating, dip coating, flow coating, spin coating, roll coating, brush coating, and sponge. A method such as coating can be suitably used. As a curing method, it can be carried out by polymerizing by heat treatment, standing at room temperature, ultraviolet irradiation, or the like.

【0022】次に、基材表面に、光触媒粒子と撥水性シ
リコ−ンとを含有する層が形成され、さらにその層表面
の少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記光触
媒の光励起による親水化を防止するための物質が固定さ
れている撥水性部材の製法について説明する。この場合
の製法は、基本的には、光触媒粒子と撥水性シリコ−ン
の前駆体とを含有するコ−ティング組成物を塗布し、硬
化させた後、コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質を含有する溶
液を塗布し、表面に固定することによる。
Next, a layer containing the photocatalyst particles and the water-repellent silicone is formed on the surface of the substrate, and at least a part of the layer surface is formed by the photoexcitation of the photocatalyst by the water-repellent silicone. A method for manufacturing a water-repellent member to which a substance for preventing hydrophilicity is fixed will be described. The production method in this case is basically based on the photo-excitation of a photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound after coating and curing a coating composition containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone precursor. By applying a solution containing a substance for preventing hydrophilization and fixing the solution to the surface.

【0023】ここでコ−ティング組成物は、光触媒粒子
と、撥水性シリコ−ンの前駆体を必須構成要件とし、そ
の他に水、エタノ−ル、プロパノ−ル等の溶媒や、塩
酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン酸等のシリカの前駆体
の加水分解を促進する触媒や、トリブチルアミン、ヘキ
シルアミンなどの塩基性化合物類、アルミニウムトリイ
ソプロポキシド、テトライソプロピルチタネ−トなどの
酸性化合物類等のシリカの前駆体を硬化させる触媒や、
シランカップリング剤等のコ−ティング液の分散性を向
上させる界面活性剤などを添加してもよい。
Here, the coating composition has photocatalyst particles and a precursor of a water-repellent silicone as essential components, and in addition, a solvent such as water, ethanol, propanol, hydrochloric acid, nitric acid, and the like. Catalysts that promote the hydrolysis of silica precursors such as sulfuric acid, acetic acid and maleic acid, basic compounds such as tributylamine and hexylamine, and acidic compounds such as aluminum triisopropoxide and tetraisopropyl titanate Such as a catalyst for curing a precursor of silica,
A surfactant such as a silane coupling agent for improving the dispersibility of the coating liquid may be added.

【0024】ここでシリコ−ンの前駆体としては、平均
組成式 RpSiXq(4-p-q)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、p及びqは0<p<2、0<
q<4を満足する数である)で表されるシロキサンから
なる塗膜形成要素、又は一般式 RpSiX4-p (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは1または2である)で表
される加水分解性シラン誘導体からなる塗膜形成要素、
が好適に利用できる。
[0024] Here silicone - The precursor emissions in the average composition formula R p SiX q O (4- pq) / 2 ( wherein, R consists of one or more organic groups monovalent functional X or a functional group comprising two or more selected from a monovalent organic group and a hydrogen group, X is an alkoxy group or a halogen atom, and p and q are 0 <p <2, 0 <
a film-forming element composed of a siloxane represented by the following formula: q <4) or a general formula R p SiX 4-p (where R is one or more monovalent organic groups) Wherein X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is 1 or 2. A film-forming element comprising a hydrolyzable silane derivative to be
Can be suitably used.

【0025】ここで上記加水分解性シラン誘導体からな
る塗膜形成要素としては、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジプロポ
キシシラン、フェニルメチルジブトキシシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリプロポキシシラン、n−プロ
ピルトリブトキシシラン、γ−グリコキシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン等が好適に利用できる。
Here, as the coating film forming element comprising the hydrolyzable silane derivative, methyltrimethoxysilane,
Methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, Phenyltributoxysilane,
Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldibutoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenyl Methyldipropoxysilane, phenylmethyldibutoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, γ-glycoxydoxypropyltrimethoxysilane, γ -Acryloxypropyltrimethoxysilane and the like can be suitably used.

【0026】また、上記シロキサンからなる塗膜形成要
素としては、上記加水分解性シラン誘導体の部分加水分
解及び脱水縮重合、又は上記加水分解性シラン誘導体の
部分加水分解物と、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、ジエトキシジメトキシシラン等の部分加水分解
物との脱水縮重合等で作製することができる。
The film-forming element composed of the siloxane includes partial hydrolysis and dehydration-condensation polymerization of the hydrolyzable silane derivative, or partial hydrolyzate of the hydrolyzable silane derivative, tetramethoxysilane and tetramethoxysilane. It can be produced by dehydration polycondensation with a partial hydrolyzate such as ethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, diethoxydimethoxysilane and the like.

【0027】上記コ−ティング組成物の塗布方法として
は、スプレ−コ−ティング法、ディップコ−ティング
法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ
−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポンジ塗り等の方法
が好適に利用できる。硬化方法としては、熱処理、室温
放置、紫外線照射等により重合させて行うことができ
る。
The coating method of the above coating composition includes spray coating, dip coating, flow coating, spin coating, roll coating, brush coating, and sponge. A method such as coating can be suitably used. As a curing method, it can be carried out by polymerizing by heat treatment, standing at room temperature, ultraviolet irradiation, or the like.

【0028】コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質を含有する溶
液を塗布し、表面に固定する方法は、例えば、塩化コバ
ルト、硫酸コバルト、ヨウ化コバルト、臭化コバルト、
酢酸コバルト、塩素酸コバルト、硝酸コバルト等の水溶
性のコバルト化合物を、スプレ−コ−ティング法、ディ
ップコ−ティング法、フロ−コ−ティング法、スピンコ
−ティング法、ロ−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポ
ンジ塗り等の方法で塗布し、光還元、熱処理、アルコ−
ル等の犠牲酸化剤を併用する還元等の方法で固定するこ
とにより行う。
The method of applying a solution containing a substance for preventing the photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound from becoming hydrophilic by photoexcitation and fixing the solution on the surface is exemplified by, for example, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, and bromide. cobalt,
Spray coating method, dip coating method, flow coating method, spin coating method, roll coating method, brushing water-soluble cobalt compounds such as cobalt acetate, cobalt chlorate and cobalt nitrate Coating, sponge coating, etc., photoreduction, heat treatment, alcohol
This is performed by fixing by a method such as reduction using a sacrificial oxidizing agent such as toluene.

【0029】[0029]

【実施例】【Example】

参考例.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル(日産化学、TA
−15、硝酸解膠型、pH=1)と、シリカゾル(日本
合成ゴム、グラスカA液、pH=4)と、メチルトリメ
トキシシラン(日本合成ゴム、グラスカB液)とエタノ
−ルを混合し、2〜3時間撹拌して得たコ−ティング液
を、スプレ−コ−ティング法にて5×10cm角の施釉
タイル基材(東陶機器、AB02E11)上に塗布し、
200℃で15分熱処理して、アナタ−ゼ型酸化チタン
粒子11重量部、シリカ6重量部、シリコ−ン5重量部
からなる表面層を形成した#1試料を得た。#1試料の
水との接触角は92゜であった。ここで水との接触角は
接触角測定器(協和界面科学、CA−X150)を用
い、マイクロシリンジから水滴を滴下した後30秒後の
水との接触角で評価した。次いで#1試料表面に、紫外
線光源(三共電気、ブラックライトブル−(BLB)蛍
光灯)を用いて0.3mW/cm2の紫外線照度で1日
照射し、#2試料を得た。その結果、#2試料の水との
接触角は0゜まで親水化された。次に、#1試料と、#
1試料に水銀灯を22.8mW/cm2の紫外線照度で
2時間照射して得た#3試料夫々の試料表面をラマン分
光分析した。その結果、#1試料表面で認められたメチ
ル基のピ−クが#3試料では認められず、代わりに水酸
基のブロ−ドなピ−クが認められた。以上のことから、
光触媒であるアナタ−ゼ型酸化チタンの光励起により被
膜の表面のシリコ−ン分子中のケイ素原子に結合した有
機基は、水酸基に置換されること、及び親水化されるこ
とがわかる。
Reference example. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA
-15, nitric acid peptized type, pH = 1), silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4), methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution) and ethanol are mixed. The coating liquid obtained by stirring for 2 to 3 hours was applied on a 5 × 10 cm square glazed tile base material (TOTOKIKI, AB02E11) by spray coating.
A heat treatment was performed at 200 ° C. for 15 minutes to obtain a # 1 sample having a surface layer formed of 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles, 6 parts by weight of silica, and 5 parts by weight of silicone. The contact angle of the # 1 sample with water was 92 °. Here, the contact angle with water was evaluated using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X150) by the contact angle with water 30 seconds after a water droplet was dropped from the micro syringe. Next, the surface of the # 1 sample was irradiated for one day with an ultraviolet illuminance of 0.3 mW / cm 2 using an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue (BLB) fluorescent lamp) to obtain a # 2 sample. As a result, the contact angle with water of the # 2 sample was hydrophilized to 0 °. Next, # 1 sample and #
One sample was irradiated with a mercury lamp at an ultraviolet irradiance of 22.8 mW / cm 2 for 2 hours, and the surface of each of the # 3 samples obtained was subjected to Raman spectroscopic analysis. As a result, a peak of methyl group observed on the surface of sample # 1 was not observed in sample # 3, but a peak of hydroxyl group was observed instead. From the above,
It can be seen that the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the film by the photoexcitation of the anatase type titanium oxide which is a photocatalyst is replaced by a hydroxyl group and becomes hydrophilic.

【0030】実施例1.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル
(日産化学、TA−15、硝酸解膠型、pH=1)と、
シリカゾル(日本合成ゴム、グラスカA液、pH=4)
と、メチルトリメトキシシラン(日本合成ゴム、グラス
カB液)と、塩化コバルト六水和物と、エタノ−ルを混
合し、2〜3時間撹拌して得たコ−ティング液を、スプ
レ−コ−ティング法にてシリカ被覆した10cm角のホ
−ロ−鋼板基材上に塗布し、150℃で30分熱処理し
て、アナタ−ゼ型酸化チタン粒子11重量部、シリカ6
重量部、シリコ−ン5重量部、コバルト0.2重量部か
らなる表面層を形成した#4試料を得た。#4試料の水
との接触角は97゜であった。ここで水との接触角は接
触角測定器(協和界面科学、CA−X150)を用い、
マイクロシリンジから水滴を滴下した後30秒後の水と
の接触角で評価した。次いで#4試料表面に、紫外線光
源(三共電気、ブラックライトブル−(BLB)蛍光
灯)を用いて0.3mW/cm2の紫外線照度で1日照
射し、#5試料を得た。その結果、#5試料の水との接
触角は依然95゜と撥水性を維持した。従って、以上の
ことから、光触媒であるアナタ−ゼ型酸化チタンの光励
起による被膜の表面のシリコ−ンの親水化が、コバルト
により阻害されることがわかる。これは、被膜の表面の
シリコ−ン分子中のケイ素原子に結合した有機基の水酸
基への置換がコバルトにより阻害されるためと考えられ
る。また、#5試料を傾けると水滴は転がりながら落下
した。
Embodiment 1 Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA-15, peptized nitrate, pH = 1),
Silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4)
And methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution), cobalt chloride hexahydrate, and ethanol, and stirred for 2-3 hours. Coating on a 10 cm square hollow steel plate substrate coated with silica by a coating method and heat-treating at 150 ° C. for 30 minutes to obtain 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles and silica 6
A # 4 sample having a surface layer composed of 5 parts by weight of silicon, 5 parts by weight of silicon, and 0.2 parts by weight of cobalt was obtained. The contact angle of the # 4 sample with water was 97 °. Here, the contact angle with water is measured using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X150).
The evaluation was made based on the contact angle with water 30 seconds after the water droplet was dropped from the micro syringe. Next, the surface of the # 4 sample was irradiated with ultraviolet light of 0.3 mW / cm 2 for one day using an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue (BLB) fluorescent lamp) to obtain a # 5 sample. As a result, the contact angle of the # 5 sample with water was still 95 °, maintaining water repellency. Therefore, it can be understood from the above that the hydrophilicity of the silicon on the surface of the coating film due to the photoexcitation of the anatase type titanium oxide as a photocatalyst is inhibited by cobalt. This is considered because the substitution of the hydroxyl group for the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the coating is inhibited by cobalt. Further, when the # 5 sample was tilted, the water droplets fell while rolling.

【0031】実施例2.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル
(日産化学、TA−15、硝酸解膠型、pH=1)と、
シリカゾル(日本合成ゴム、グラスカA液、pH=4)
と、メチルトリメトキシシラン(日本合成ゴム、グラス
カB液)と、エタノ−ルを混合し、2〜3時間撹拌して
得たコ−ティング液を、スプレ−コ−ティング法にてシ
リカ被覆した10cm角のホ−ロ−鋼板基材上に塗布
し、150℃で30分熱処理して、アナタ−ゼ型酸化チ
タン粒子11重量部、シリカ6重量部、シリコ−ン5重
量部からなる表面層を形成した。さらにその上にコバル
ト金属濃度50μmol/gの塩化コバルト六水和物水
溶液を0.3g塗布後、紫外線光源(三共電気、ブラッ
クライトブル−(BLB)蛍光灯)を用いて紫外線照度
0.4mW/cm2の紫外線を10分照射して基材上に
コバルトを固定して#6試料を得た。#6試料の水との
接触角は97゜であった。ここで水との接触角は接触角
測定器(協和界面科学、CA−X150)を用い、マイ
クロシリンジから水滴を滴下した後30秒後の水との接
触角で評価した。次いで#6試料表面に、紫外線光源
(三共電気、ブラックライトブル−(BLB)蛍光灯)
を用いて0.3mW/cm2の紫外線照度で1日照射
し、#7試料を得た。その結果、#7試料の水との接触
角は依然94゜と撥水性を維持した。従って、以上のこ
とから、光触媒であるアナタ−ゼ型酸化チタンの光励起
による被膜の表面のシリコ−ンの親水化が、コバルトに
より阻害されることがわかる。これは、被膜の表面のシ
リコ−ン分子中のケイ素原子に結合した有機基の水酸基
への置換がコバルトにより阻害されるためと考えられ
る。また、#7試料を傾けると水滴は転がりながら落下
した。
Embodiment 2 FIG. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA-15, peptized nitrate, pH = 1),
Silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4)
, Methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution) and ethanol were mixed, and the coating solution obtained by stirring for 2 to 3 hours was coated with silica by a spray coating method. A surface layer comprising 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles, 6 parts by weight of silica, and 5 parts by weight of silicone, which is applied on a 10 cm square hollow steel base material and heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes. Was formed. Further, 0.3 g of an aqueous solution of cobalt chloride hexahydrate having a cobalt metal concentration of 50 μmol / g was applied thereon, and then an ultraviolet illuminance of 0.4 mW / The cobalt was fixed on the substrate by irradiating it with ultraviolet rays of cm 2 for 10 minutes to obtain a # 6 sample. The contact angle of the # 6 sample with water was 97 °. Here, the contact angle with water was evaluated using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X150) by the contact angle with water 30 seconds after a water droplet was dropped from the micro syringe. Next, an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue (BLB) fluorescent lamp) was placed on the # 6 sample surface.
And irradiated with ultraviolet light of 0.3 mW / cm 2 for one day to obtain a # 7 sample. As a result, the contact angle of the # 7 sample with water was still 94 °, maintaining water repellency. Therefore, it can be understood from the above that the hydrophilicity of the silicon on the surface of the coating film due to the photoexcitation of the anatase type titanium oxide as a photocatalyst is inhibited by cobalt. This is considered because the substitution of the hydroxyl group for the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the coating is inhibited by cobalt. When the # 7 sample was tilted, the water droplets fell while rolling.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明では、浴槽において、エプロン部
表面に、光触媒粒子と、撥水性シリコ−ンと、前記撥水
性シリコ−ンの前記光触媒の光励起による親水化を防止
するための物質とを含有する表面層が形成されているよ
うにする、或いはエプロン部表面に、光触媒粒子と撥水
性シリコ−ンとを含有する層が形成され、さらにその層
表面の少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記
光触媒の光励起による親水化を防止するための物質が固
定されているようにすることにより、エプロン部表面は
長期にわたり撥水性を維持可能となり、長期にわたり水
滴付着を防止しうる浴槽を提供することが可能となる。
According to the present invention, in the bathtub, on the surface of the apron portion, photocatalyst particles, water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst. A layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the apron portion, and the water-repellent silicone is formed on at least a part of the surface of the layer. The apron surface can maintain water repellency for a long period of time by fixing a substance for preventing hydrophilicity of the photocatalyst by photoexcitation of the photocatalyst, so that a bathtub that can prevent water droplet adhesion for a long time can be provided. Can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の浴槽エプロン部の表面構造を示す図。FIG. 1 is a view showing a surface structure of a bathtub apron section of the present invention.

【図2】本発明の浴槽エプロン部の他の表面構造を示す
図。
FIG. 2 is a diagram showing another surface structure of the bathtub apron section of the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B32B 27/18 B32B 27/18 Z 33/00 33/00 C08K 3/20 C08K 3/20 C08L 83/04 C08L 83/04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI B32B 27/18 B32B 27/18 Z33 / 00 33/00 C08K 3/20 C08K 3/20 C08L 83/04 C08L 83/04

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 浴槽エプロン部表面に、光触媒粒子と、
撥水性シリコ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触
媒の光励起による親水化を防止するための物質とを含有
する表面層が形成されていることを特徴とする浴槽。
1. A photocatalyst particle on a surface of a bathtub apron part,
A bath tub comprising a surface layer containing a water-repellent silicone and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst.
【請求項2】 浴槽エプロン部表面に、光触媒粒子と撥
水性シリコ−ンとを含有する実質的に透明な層が形成さ
れ、さらにその層表面の少なくとも一部には前記撥水性
シリコ−ンの前記光触媒の光励起による親水化を防止す
るための物質が固定されていることを特徴とする浴槽。
2. A substantially transparent layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of a bathtub apron, and at least a part of the surface of the layer is formed of the water-repellent silicone. A bath tub on which a substance for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation is fixed.
【請求項3】 前記光触媒の光励起による親水化を防止
するための物質は、コバルト又はコバルト化合物である
ことを特徴とする請求項1、2に記載の浴槽。
3. The bathtub according to claim 1, wherein the substance for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation is cobalt or a cobalt compound.
【請求項4】 前記浴槽エプロン部表面は水平でないこ
とを特徴とする請求項1〜3に記載の浴槽。
4. The bathtub according to claim 1, wherein the surface of the bathtub apron is not horizontal.
【請求項5】 前記浴槽エプロン部表面は、浴槽内部側
のほうが浴槽外部側よりも高い位置にくるように傾斜し
ていることを特徴とする請求項4に記載の浴槽。
5. The bathtub according to claim 4, wherein the surface of the bathtub apron is inclined so that the inside of the bathtub is higher than the outside of the bathtub.
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