JPH10229950A - Bathtub - Google Patents

Bathtub

Info

Publication number
JPH10229950A
JPH10229950A JP9049736A JP4973697A JPH10229950A JP H10229950 A JPH10229950 A JP H10229950A JP 9049736 A JP9049736 A JP 9049736A JP 4973697 A JP4973697 A JP 4973697A JP H10229950 A JPH10229950 A JP H10229950A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
cobalt
photocatalyst
silicone
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9049736A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Kitamura
厚 北村
Makoto Hayakawa
信 早川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toto Ltd filed Critical Toto Ltd
Priority to JP9049736A priority Critical patent/JPH10229950A/en
Publication of JPH10229950A publication Critical patent/JPH10229950A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a bathtub so that scale can hardly be adhered to the water vapor-liquid boundary face. SOLUTION: The inside surface of this bathtub is provided with a substantially-transparent surface layer containing photocatalytic particles, a water repellent silicone and a substance for preventing the silicone from becoming hydrophilic due to optical excitation by the photocatalyst, or with such a layer containing photocatalytic particles and the water repellent silicone and further a substance fixed at least on a part of this layer for preventing the silicone from becoming hydrophilic due to optical excitation by the photocatalyst.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、汽水面に汚れが固
着しにくい浴槽に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bathtub to which dirt hardly adheres to a brackish water surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】浴槽の汚れ成分は、湯垢と水垢に大別さ
れる。湯垢は人が排出する垢、脂質と石鹸カス等からな
り、汽水面に集中的に付着する。水垢は、細菌、微生物
及びタンパク質、脂質、炭酸カルシウム等からなり、主
として浴槽水の浸漬、吐水時及び脱水後の乾燥により発
生する。従来より浴槽の清掃において特に困難かつ労力
を要するのは、汽水面に固着した汚れの清掃であった。
2. Description of the Related Art Soil components in bathtubs are roughly classified into scales and scales. The descaling is composed of dirt, lipids and soap scum discharged by humans, and adheres intensively to the brackish water surface. The scale is composed of bacteria, microorganisms and proteins, lipids, calcium carbonate, etc., and is mainly generated by immersion of bath water, drying at the time of spouting, and drying after dehydration. A particularly difficult and laborious task in cleaning a bathtub has been cleaning dirt stuck to a brackish water surface.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】そこで、汽水面に汚れ
が固着しにくい浴槽が望まれている。
Therefore, there is a need for a bathtub in which dirt hardly adheres to the brackish water surface.

【0004】汚れの付着を防止する方法としては、基材
表面に撥水性を付与するとよいことが知られている。基
材表面に撥水性を付与すると、表面エネルギ−が著しく
小さくなるため、汚れ成分が付着されにくくなる。その
一方法として、基材表面に撥水性シリコ−ンからなる表
面層を形成する方法がある。しかしながら、この構成で
は経時的に汚れが付着することによって水との接触角が
70゜程度に低下し、撥水性の効果が持続しない。そこ
で、上記課題を解決する他の方法として、基材表面に光
触媒と撥水性シリコ−ンとからなる表面層を形成する方
法がある。この方法によれば、光触媒の酸化分解性に基
づき、経時的に付着する汚れを分解できる。しかしなが
ら、この構成では例えば太陽光に晒されると、光触媒の
光励起によりシリコ−ンが親水化してしまうため表面の
撥水性を維持することができない。本発明では、上記事
情に鑑み、内側面の撥水性を長期にわたり維持しうる浴
槽を提供し、以て汽水面に汚れが固着しにくい浴槽を提
供することを目的とする。
As a method for preventing the adhesion of dirt, it is known that it is better to impart water repellency to the surface of a substrate. When water repellency is imparted to the surface of the base material, the surface energy is significantly reduced, so that it becomes difficult for dirt components to adhere. As one of the methods, there is a method of forming a surface layer made of a water-repellent silicone on a substrate surface. However, with this structure, the contact angle with water is reduced to about 70 ° due to the adhesion of dirt over time, and the effect of water repellency is not maintained. Therefore, as another method for solving the above-mentioned problem, there is a method of forming a surface layer comprising a photocatalyst and a water-repellent silicone on the surface of a substrate. According to this method, it is possible to decompose the adhered dirt over time based on the oxidative decomposability of the photocatalyst. However, in this configuration, for example, when exposed to sunlight, the silicon becomes hydrophilic by the photoexcitation of the photocatalyst, so that the water repellency of the surface cannot be maintained. In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a bathtub that can maintain the water repellency of the inner surface for a long period of time, and to provide a bathtub that is less likely to adhere dirt to a brackish water surface.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決すべく、内側面に、光触媒粒子と、撥水性シリコ−
ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光励起によ
る親水化を防止するための物質とを含有する表面層が形
成されている、或いは内側面に、光触媒粒子と撥水性シ
リコ−ンとを含有する層が形成され、さらにその層表面
の少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記光触
媒の光励起による親水化を防止するための物質が固定さ
れていることを特徴とする浴槽を提供する。コバルト又
はコバルト化合物のような光触媒の光励起による親水化
を防止するための物質が表面層に含有されているように
することにより、光触媒の光励起によりシリコ−ンが親
水化してしまうのを防止することができる。かつ光触媒
が含有されているので、光触媒の酸化分解性に基づき、
経時的に付着する汚れを分解できる。従って、内側面の
撥水性を維持することができ、浴槽は汽水面に汚れが付
着しにくくなる。
According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, photocatalyst particles and a water-repellent silicone are provided on the inner surface.
And a surface layer containing a substance for preventing hydrophilicity of the water repellent silicone by photoexcitation of the photocatalyst is formed, or the photocatalyst particles and the water repellent silicone are formed on the inner surface. A bath containing a water-repellent silicone, wherein a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is fixed to at least a part of the surface of the layer. I do. Preventing the silicon from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst by making the surface layer contain a substance such as cobalt or a cobalt compound for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation. Can be. And because it contains a photocatalyst, based on the oxidative decomposability of the photocatalyst,
Dirt that adheres over time can be broken down. Therefore, the water repellency of the inner surface can be maintained, and the bathtub is less likely to adhere to the brackish surface.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明の浴槽はその一実施態様に
おいては、図1に示すように、浴槽の少なくとも内側面
に、光触媒粒子と、シリコ−ンと、コバルト又はコバル
ト化合物等の光触媒の光励起による親水化を防止するた
めの物質を含む層が形成されている。また、他の態様に
おいては、図2に示すように、浴槽の少なくとも内側面
に、光触媒粒子と、撥水性シリコ−ンとを含有する層が
形成され、さらにその層表面の少なくとも一部にはコバ
ルト又はコバルト化合物等の撥水性シリコ−ンの光触媒
の光励起による親水化を防止するための物質が固定され
ている。浴槽基材と表面層との間には、シリカ、シリコ
−ン、アクリルシリコン等の中間層を設けてもよい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In one embodiment of the present invention, as shown in FIG. 1, a bathtub according to the present invention comprises at least an inner surface of a bathtub containing photocatalyst particles, silicone, and a photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound. A layer containing a substance for preventing hydrophilicity due to light excitation is formed. In another embodiment, as shown in FIG. 2, a layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on at least the inner surface of the bath, and at least a part of the surface of the layer is formed on the layer. A substance for preventing hydrophilicity due to photoexcitation of a photocatalyst of a water-repellent silicone such as cobalt or a cobalt compound is fixed. An intermediate layer of silica, silicone, acrylic silicon or the like may be provided between the bathtub substrate and the surface layer.

【0007】光触媒とは、その結晶の伝導帯と価電子帯
との間のエネルギ−ギャップよりも大きなエネルギ−
(すなわち短い波長)の光(励起光)を照射したとき
に、価電子帯中の電子の励起(光励起)が生じて、伝導
電子と正孔を生成しうる物質をいい、例えば、アナタ−
ゼ型酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化第二鉄、三酸
化二ビスマス、三酸化タングステン、チタン酸ストロン
チウム等の酸化物が好適に利用できる。光触媒を光励起
するためには、例えば、蛍光灯、白熱電灯、ブラックラ
イト、キセノンランプ、水銀灯、殺菌灯等の光源を用い
る。これらの光源は専用光源を用いてもよいし、浴室の
室内照明を用いてもよい。
A photocatalyst has an energy greater than the energy gap between the conduction band and the valence band of the crystal.
A substance capable of generating conduction electrons and holes by excitation of electrons in the valence band (photoexcitation) when irradiated with light (excitation light) having a short wavelength (excitation light).
Oxides such as zeta-type titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, ferric oxide, bismuth trioxide, tungsten trioxide and strontium titanate can be suitably used. In order to optically excite the photocatalyst, a light source such as a fluorescent lamp, an incandescent lamp, a black light, a xenon lamp, a mercury lamp, and a germicidal lamp is used. As these light sources, dedicated light sources may be used, or indoor lighting of a bathroom may be used.

【0008】シリコ−ンには、平均組成式 RpSiO(4-p)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは0<p<2を満足する数
である)で表される樹脂が利用できる。
The silicone has an average composition formula R p SiO (4-p) / 2 (where R is a functional group comprising one or more monovalent organic groups, or a monovalent organic group) A resin represented by the following formula: X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is a number satisfying 0 <p <2. Is available.

【0009】コバルト化合物には、コバルト合金、酸化
コバルト、塩化コバルト、硫酸コバルト、ヨウ化コバル
ト、臭化コバルト、酢酸コバルト、塩素酸コバルト、硝
酸コバルト等が好適に利用できる。
As the cobalt compound, cobalt alloy, cobalt oxide, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, cobalt bromide, cobalt acetate, cobalt chlorate, cobalt nitrate and the like can be suitably used.

【0010】表面層の膜厚は、0.4μm以下にするの
が好ましい。そうすれば、光の乱反射による白濁を防止
することができ、表面層は実質的に透明となる。さら
に、表面層の膜厚を、0.2μm以下にすると一層好ま
しい。そうすれば、光の干渉による表面層の発色を防止
することができる。また、表面層が薄ければ薄いほどそ
の透明度は向上する。更に、膜厚を薄くすれば、表面層
の耐摩耗性が向上する。
The thickness of the surface layer is preferably set to 0.4 μm or less. Then, cloudiness due to irregular reflection of light can be prevented, and the surface layer becomes substantially transparent. Further, it is more preferable that the thickness of the surface layer be 0.2 μm or less. Then, it is possible to prevent the surface layer from being colored by light interference. Also, the thinner the surface layer, the better its transparency. Further, when the film thickness is reduced, the wear resistance of the surface layer is improved.

【0011】表面層には、Ag、Cu、Znのような金
属を添加することができる。前記金属を添加した表面層
は、表面に付着した細菌や黴を暗所でも死滅させること
ができる。
A metal such as Ag, Cu and Zn can be added to the surface layer. The surface layer to which the metal is added can kill bacteria and fungi attached to the surface even in a dark place.

【0012】表面層にはPt、Pd、Ru、Rh、I
r、Osのような白金族金属を添加することができる。
前記金属を添加した表面層は、光触媒の酸化還元活性を
増強でき、有機物汚れの分解性、有害気体や悪臭の分解
性を向上させることができる。
Pt, Pd, Ru, Rh, I
A platinum group metal such as r or Os can be added.
The surface layer to which the metal is added can enhance the redox activity of the photocatalyst, and can improve the decomposability of organic contaminants and the decomposability of harmful gases and odors.

【0013】次に、基材表面に、光触媒粒子と、撥水性
シリコ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光
励起による親水化を防止するための物質とを含有する表
面層が形成されている撥水性部材の製法について説明す
る。この場合の製法は、基本的には、基材表面にコ−テ
ィング組成物を塗布し、硬化させることによる。
Next, a surface layer containing photocatalyst particles, water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is formed on the surface of the substrate. The method of manufacturing the water-repellent member described above will be described. The production method in this case is basically based on applying a coating composition on the surface of a substrate and curing the coating composition.

【0014】ここでコ−ティング組成物は、光触媒粒
子、コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の光励起に
よる親水化を防止するための物質にシリコ−ンの前駆体
を必須構成要件とし、その他に水、エタノ−ル、プロパ
ノ−ル等の溶媒や、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン
酸等のシリコ−ンの前駆体の加水分解を促進する触媒
や、トリブチルアミン、ヘキシルアミンなどの塩基性化
合物類、アルミニウムトリイソプロポキシド、テトライ
ソプロピルチタネ−トなどの酸性化合物類等のシリコ−
ンの前駆体を硬化させる触媒や、シランカップリング剤
等のコ−ティング液の分散性を向上させる界面活性剤な
どを添加してもよい。
Here, the coating composition contains a precursor of silicon as an essential component of a substance for preventing photocatalytic particles, cobalt or a cobalt compound or the like from becoming hydrophilic by photoexcitation of a photocatalyst. Solvents such as ethanol and propanol, catalysts that promote hydrolysis of silicone precursors such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid and maleic acid, and basic compounds such as tributylamine and hexylamine Silicon compounds such as acidic compounds such as aluminum, aluminum triisopropoxide and tetraisopropyl titanate;
And a surfactant for improving the dispersibility of the coating liquid such as a silane coupling agent.

【0015】コバルト又はコバルト化合物としては、水
溶性のコバルト化合物を用いるのが好ましい。水溶性の
コバルト化合物としては、例えば、塩化コバルト、硫酸
コバルト、ヨウ化コバルト、臭化コバルト、酢酸コバル
ト、塩素酸コバルト、硝酸コバルト等が好適に利用でき
る。
As cobalt or a cobalt compound, a water-soluble cobalt compound is preferably used. As the water-soluble cobalt compound, for example, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, cobalt bromide, cobalt acetate, cobalt chlorate, cobalt nitrate and the like can be suitably used.

【0016】ここでシリコ−ンの前駆体としては、平均
組成式 RpSiXq(4-p-q)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、p及びqは0<p<2、0<
q<4を満足する数である)で表されるシロキサンから
なる塗膜形成要素、又は一般式 RpSiX4-p (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは1または2である)で表
される加水分解性シラン誘導体からなる塗膜形成要素、
が好適に利用できる。
[0016] Here silicone - The precursor emissions in the average composition formula R p SiX q O (4- pq) / 2 ( wherein, R consists of one or more organic groups monovalent functional X or a functional group comprising two or more selected from a monovalent organic group and a hydrogen group, X is an alkoxy group or a halogen atom, and p and q are 0 <p <2, 0 <
a film-forming element composed of a siloxane represented by the following formula: q <4) or a general formula R p SiX 4-p (where R is one or more monovalent organic groups) Wherein X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is 1 or 2. A film-forming element comprising a hydrolyzable silane derivative to be
Can be suitably used.

【0017】ここで上記加水分解性シラン誘導体からな
る塗膜形成要素としては、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジプロポ
キシシラン、フェニルメチルジブトキシシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリプロポキシシラン、n−プロ
ピルトリブトキシシラン、γ−グリコキシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン等が好適に利用できる。
Here, as the coating film forming element comprising the hydrolyzable silane derivative, methyltrimethoxysilane,
Methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, Phenyltributoxysilane,
Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldibutoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenyl Methyldipropoxysilane, phenylmethyldibutoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, γ-glycoxydoxypropyltrimethoxysilane, γ -Acryloxypropyltrimethoxysilane and the like can be suitably used.

【0018】また、上記シロキサンからなる塗膜形成要
素としては、上記加水分解性シラン誘導体の部分加水分
解及び脱水縮重合、又は上記加水分解性シラン誘導体の
部分加水分解物と、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、ジエトキシジメトキシシラン等の部分加水分解
物との脱水縮重合等で作製することができる。
The film-forming element composed of the siloxane includes partial hydrolysis and dehydration-condensation polymerization of the hydrolyzable silane derivative, or partial hydrolyzate of the hydrolyzable silane derivative, tetramethoxysilane, tetramethoxysilane, It can be produced by dehydration polycondensation with a partial hydrolyzate such as ethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, diethoxydimethoxysilane and the like.

【0019】上記コ−ティング組成物の塗布方法として
は、スプレ−コ−ティング法、ディップコ−ティング
法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ
−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポンジ塗り等の方法
が好適に利用できる。硬化方法としては、熱処理、室温
放置、紫外線照射等により重合させて行うことができ
る。
The coating method of the coating composition includes spray coating, dip coating, flow coating, spin coating, roll coating, brush coating, and sponge. A method such as coating can be suitably used. As a curing method, it can be carried out by polymerizing by heat treatment, standing at room temperature, ultraviolet irradiation, or the like.

【0020】次に、基材表面に、光触媒粒子と撥水性シ
リコ−ンとを含有する層が形成され、さらにその層表面
の少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記光触
媒の光励起による親水化を防止するための物質が固定さ
れている撥水性部材の製法について説明する。この場合
の製法は、基本的には、光触媒粒子と撥水性シリコ−ン
の前駆体とを含有するコ−ティング組成物を塗布し、硬
化させた後、コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質を含有する溶
液を塗布し、表面に固定することによる。
Next, a layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the base material, and at least a part of the surface of the layer is formed by photoexcitation of the photocatalyst by the water-repellent silicone. A method for manufacturing a water-repellent member to which a substance for preventing hydrophilicity is fixed will be described. The production method in this case is basically based on the photo-excitation of a photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound after coating and curing a coating composition containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone precursor. By applying a solution containing a substance for preventing hydrophilization and fixing the solution to the surface.

【0021】ここでコ−ティング組成物は、光触媒粒子
と、撥水性シリコ−ンの前駆体を必須構成要件とし、そ
の他に水、エタノ−ル、プロパノ−ル等の溶媒や、塩
酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン酸等のシリカの前駆体
の加水分解を促進する触媒や、トリブチルアミン、ヘキ
シルアミンなどの塩基性化合物類、アルミニウムトリイ
ソプロポキシド、テトライソプロピルチタネ−トなどの
酸性化合物類等のシリカの前駆体を硬化させる触媒や、
シランカップリング剤等のコ−ティング液の分散性を向
上させる界面活性剤などを添加してもよい。
Here, the coating composition has photocatalyst particles and a precursor of a water-repellent silicone as essential components, and in addition, a solvent such as water, ethanol, propanol, hydrochloric acid, nitric acid, and the like. Catalysts that promote the hydrolysis of silica precursors such as sulfuric acid, acetic acid and maleic acid, basic compounds such as tributylamine and hexylamine, and acidic compounds such as aluminum triisopropoxide and tetraisopropyl titanate Such as a catalyst for curing a precursor of silica,
A surfactant such as a silane coupling agent for improving the dispersibility of the coating liquid may be added.

【0022】ここでシリコ−ンの前駆体としては、平均
組成式 RpSiXq(4-p-q)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、p及びqは0<p<2、0<
q<4を満足する数である)で表されるシロキサンから
なる塗膜形成要素、又は一般式 RpSiX4-p (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは1または2である)で表
される加水分解性シラン誘導体からなる塗膜形成要素、
が好適に利用できる。
[0022] Here silicone - The precursor emissions in the average composition formula R p SiX q O (4- pq) / 2 ( wherein, R consists of one or more organic groups monovalent functional X or a functional group comprising two or more selected from a monovalent organic group and a hydrogen group, X is an alkoxy group or a halogen atom, and p and q are 0 <p <2, 0 <
a film-forming element composed of a siloxane represented by the following formula: q <4) or a general formula R p SiX 4-p (where R is one or more monovalent organic groups) Wherein X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is 1 or 2. A film-forming element comprising a hydrolyzable silane derivative to be
Can be suitably used.

【0023】ここで上記加水分解性シラン誘導体からな
る塗膜形成要素としては、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジプロポ
キシシラン、フェニルメチルジブトキシシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリプロポキシシラン、n−プロ
ピルトリブトキシシラン、γ−グリコキシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン等が好適に利用できる。
Here, as the coating film forming element comprising the hydrolyzable silane derivative, methyltrimethoxysilane,
Methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, Phenyltributoxysilane,
Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldibutoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenyl Methyldipropoxysilane, phenylmethyldibutoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, γ-glycoxydoxypropyltrimethoxysilane, γ -Acryloxypropyltrimethoxysilane and the like can be suitably used.

【0024】また、上記シロキサンからなる塗膜形成要
素としては、上記加水分解性シラン誘導体の部分加水分
解及び脱水縮重合、又は上記加水分解性シラン誘導体の
部分加水分解物と、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、ジエトキシジメトキシシラン等の部分加水分解
物との脱水縮重合等で作製することができる。
The film-forming element composed of the siloxane includes partial hydrolysis and dehydration-condensation polymerization of the hydrolyzable silane derivative, or a partial hydrolyzate of the hydrolyzable silane derivative, tetramethoxysilane, tetramethoxysilane and tetramethoxysilane. It can be produced by dehydration polycondensation with a partial hydrolyzate such as ethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, diethoxydimethoxysilane and the like.

【0025】上記コ−ティング組成物の塗布方法として
は、スプレ−コ−ティング法、ディップコ−ティング
法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ
−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポンジ塗り等の方法
が好適に利用できる。硬化方法としては、熱処理、室温
放置、紫外線照射等により重合させて行うことができ
る。
The coating method of the above coating composition includes spray coating, dip coating, flow coating, spin coating, roll coating, brush coating, and sponge. A method such as coating can be suitably used. As a curing method, it can be carried out by polymerizing by heat treatment, standing at room temperature, ultraviolet irradiation, or the like.

【0026】コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質を含有する溶
液を塗布し、表面に固定する方法は、例えば、塩化コバ
ルト、硫酸コバルト、ヨウ化コバルト、臭化コバルト、
酢酸コバルト、塩素酸コバルト、硝酸コバルト等の水溶
性のコバルト化合物を、スプレ−コ−ティング法、ディ
ップコ−ティング法、フロ−コ−ティング法、スピンコ
−ティング法、ロ−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポ
ンジ塗り等の方法で塗布し、光還元、熱処理、アルコ−
ル等の犠牲酸化剤を併用する還元等の方法で固定するこ
とにより行う。
The method of applying a solution containing a substance for preventing the photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound from being hydrophilized by photoexcitation and fixing it on the surface includes, for example, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, bromide, and the like. cobalt,
Spray coating method, dip coating method, flow coating method, spin coating method, roll coating method, brushing water-soluble cobalt compounds such as cobalt acetate, cobalt chlorate and cobalt nitrate Coating, sponge coating, etc., photoreduction, heat treatment, alcohol
This is performed by fixing by a method such as reduction using a sacrificial oxidizing agent such as toluene.

【0027】[0027]

【実施例】【Example】

参考例.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル(日産化学、TA
−15、硝酸解膠型、pH=1)と、シリカゾル(日本
合成ゴム、グラスカA液、pH=4)と、メチルトリメ
トキシシラン(日本合成ゴム、グラスカB液)とエタノ
−ルを混合し、2〜3時間撹拌して得たコ−ティング液
を、スプレ−コ−ティング法にて5×10cm角の施釉
タイル基材(東陶機器、AB02E11)上に塗布し、
200℃で15分熱処理して、アナタ−ゼ型酸化チタン
粒子11重量部、シリカ6重量部、シリコ−ン5重量部
からなる表面層を形成した#1試料を得た。#1試料の
水との接触角は92゜であった。ここで水との接触角は
接触角測定器(協和界面科学、CA−X150)を用
い、マイクロシリンジから水滴を滴下した後30秒後の
水との接触角で評価した。次いで#1試料表面に、紫外
線光源(三共電気、ブラックライトブル−(BLB)蛍
光灯)を用いて0.3mW/cm2の紫外線照度で1日
照射し、#2試料を得た。その結果、#2試料の水との
接触角は0゜まで親水化された。次に、#1試料と、#
1試料に水銀灯を22.8mW/cm2の紫外線照度で
2時間照射して得た#3試料夫々の試料表面をラマン分
光分析した。その結果、#1試料表面で認められたメチ
ル基のピ−クが#3試料では認められず、代わりに水酸
基のブロ−ドなピ−クが認められた。以上のことから、
光触媒であるアナタ−ゼ型酸化チタンの光励起により被
膜の表面のシリコ−ン分子中のケイ素原子に結合した有
機基は、水酸基に置換されること、及び親水化されるこ
とがわかる。
Reference example. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA
-15, nitric acid peptized type, pH = 1), silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4), methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution) and ethanol are mixed. The coating liquid obtained by stirring for 2 to 3 hours was applied on a 5 × 10 cm square glazed tile base material (TOTOKIKI, AB02E11) by spray coating.
A heat treatment was performed at 200 ° C. for 15 minutes to obtain a # 1 sample having a surface layer formed of 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles, 6 parts by weight of silica, and 5 parts by weight of silicone. The contact angle of the # 1 sample with water was 92 °. Here, the contact angle with water was evaluated using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X150) by the contact angle with water 30 seconds after a water droplet was dropped from the micro syringe. Next, the surface of the # 1 sample was irradiated for one day with an ultraviolet illuminance of 0.3 mW / cm 2 using an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue (BLB) fluorescent lamp) to obtain a # 2 sample. As a result, the contact angle with water of the # 2 sample was hydrophilized to 0 °. Next, # 1 sample and #
One sample was irradiated with a mercury lamp at an ultraviolet irradiance of 22.8 mW / cm 2 for 2 hours, and the surface of each of the # 3 samples obtained was subjected to Raman spectroscopic analysis. As a result, a peak of methyl group observed on the surface of sample # 1 was not observed in sample # 3, but a peak of hydroxyl group was observed instead. From the above,
It can be seen that the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the film by the photoexcitation of the anatase type titanium oxide which is a photocatalyst is replaced by a hydroxyl group and becomes hydrophilic.

【0028】実施例1.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル
(日産化学、TA−15、硝酸解膠型、pH=1)と、
シリカゾル(日本合成ゴム、グラスカA液、pH=4)
と、メチルトリメトキシシラン(日本合成ゴム、グラス
カB液)と、塩化コバルト六水和物と、エタノ−ルを混
合し、2〜3時間撹拌して得たコ−ティング液を、スプ
レ−コ−ティング法にてアクリルシリコン系のプライマ
−で被覆後にシリコ−ンハ−ドコ−トしたPMMA板基
材上に塗布し、90℃で3時間熱処理して、アナタ−ゼ
型酸化チタン粒子11重量部、シリカ6重量部、シリコ
−ン5重量部、コバルト0.2重量部からなる表面層を
形成した#4試料を得た。#4試料の水との接触角は9
7゜であった。ここで水との接触角は接触角測定器(協
和界面科学、CA−X150)を用い、マイクロシリン
ジから水滴を滴下した後30秒後の水との接触角で評価
した。次いで#4試料表面に、紫外線光源(三共電気、
ブラックライトブル−(BLB)蛍光灯)を用いて0.
3mW/cm2の紫外線照度で1日照射し、#5試料を
得た。その結果、#5試料の水との接触角は依然95゜
と撥水性を維持した。従って、以上のことから、光触媒
であるアナタ−ゼ型酸化チタンの光励起による被膜の表
面のシリコ−ンの親水化が、コバルトにより阻害される
ことがわかる。これは、被膜の表面のシリコ−ン分子中
のケイ素原子に結合した有機基の水酸基への置換がコバ
ルトにより阻害されるためと考えられる。
Embodiment 1 FIG. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA-15, peptized nitrate, pH = 1),
Silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4)
And methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution), cobalt chloride hexahydrate, and ethanol, and agitated for 2-3 hours. After coating with an acrylic silicon-based primer by a coating method, the composition is applied to a silicon-hard coated PMMA plate base material and heat-treated at 90 ° C. for 3 hours to obtain 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles. # 4 sample having a surface layer comprising 6 parts by weight of silica, 5 parts by weight of silicon, and 0.2 parts by weight of cobalt was obtained. The contact angle of the # 4 sample with water is 9
It was 7 ゜. Here, the contact angle with water was evaluated using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X150) by the contact angle with water 30 seconds after a water droplet was dropped from the micro syringe. Next, an ultraviolet light source (Sankyo Electric,
Black Light Bull (BLB) fluorescent lamp).
Irradiation was performed at an ultraviolet illuminance of 3 mW / cm 2 for 1 day to obtain a # 5 sample. As a result, the contact angle of the # 5 sample with water was still 95 °, maintaining water repellency. Therefore, it can be understood from the above that the hydrophilicity of the silicon on the surface of the coating film due to the photoexcitation of the anatase type titanium oxide as a photocatalyst is inhibited by cobalt. This is considered because the substitution of the hydroxyl group for the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the coating is inhibited by cobalt.

【0029】実施例2.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル
(日産化学、TA−15、硝酸解膠型、pH=1)と、
シリカゾル(日本合成ゴム、グラスカA液、pH=4)
と、メチルトリメトキシシラン(日本合成ゴム、グラス
カB液)と、エタノ−ルを混合し、2〜3時間撹拌して
得たコ−ティング液を、スプレ−コ−ティング法にてア
クリルシリコン系のプライマ−で被覆後にシリコ−ンハ
−ドコ−トしたPMMA板基材上に塗布し、90℃で3
時間熱処理して、アナタ−ゼ型酸化チタン粒子11重量
部、シリカ6重量部、シリコ−ン5重量部からなる表面
層を形成した。さらにその上にコバルト金属濃度50μ
mol/gの塩化コバルト六水和物水溶液を0.3g塗
布後、紫外線光源(三共電気、ブラックライトブル−
(BLB)蛍光灯)を用いて紫外線照度0.4mW/c
2の紫外線を10分照射して基材上にコバルトを固定
して#6試料を得た。#6試料の水との接触角は96゜
であった。ここで水との接触角は接触角測定器(協和界
面科学、CA−X150)を用い、マイクロシリンジか
ら水滴を滴下した後30秒後の水との接触角で評価し
た。次いで#6試料表面に、紫外線光源(三共電気、ブ
ラックライトブル−(BLB)蛍光灯)を用いて0.3
mW/cm2の紫外線照度で1日照射し、#7試料を得
た。その結果、#7試料の水との接触角は依然94゜と
撥水性を維持した。従って、以上のことから、光触媒で
あるアナタ−ゼ型酸化チタンの光励起による被膜の表面
のシリコ−ンの親水化が、コバルトにより阻害されるこ
とがわかる。これは、被膜の表面のシリコ−ン分子中の
ケイ素原子に結合した有機基の水酸基への置換がコバル
トにより阻害されるためと考えられる。
Embodiment 2 FIG. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA-15, peptized nitrate, pH = 1),
Silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4)
, Methyl trimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution) and ethanol were mixed and stirred for 2 to 3 hours. Coated on a PMMA plate base material coated with a silicone hard coat after coating with a primer of
Heat treatment was performed for a time to form a surface layer comprising 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles, 6 parts by weight of silica, and 5 parts by weight of silicone. Furthermore, a cobalt metal concentration of 50μ
After applying 0.3 g of an aqueous solution of cobalt chloride hexahydrate (mol / g), an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue)
(BLB) fluorescent light) using an ultraviolet illuminance of 0.4 mW / c
The substrate was irradiated with ultraviolet rays of m 2 for 10 minutes to fix cobalt on the substrate, thereby obtaining a # 6 sample. The contact angle of the # 6 sample with water was 96 °. Here, the contact angle with water was evaluated using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X150) by the contact angle with water 30 seconds after a water droplet was dropped from the micro syringe. Then, the surface of the sample # 6 was coated with an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue- (BLB) fluorescent lamp) to 0.3
Irradiation was performed at an ultraviolet irradiance of mW / cm 2 for 1 day to obtain a # 7 sample. As a result, the contact angle of the # 7 sample with water was still 94 °, maintaining water repellency. Therefore, it can be understood from the above that the hydrophilicity of the silicon on the surface of the coating film due to the photoexcitation of the anatase type titanium oxide as a photocatalyst is inhibited by cobalt. This is considered because the substitution of the hydroxyl group for the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the coating is inhibited by cobalt.

【0030】実施例3.#5試料、#7試料、及び比較
のためポリテトラフルオロエチレン板を、上方は空気中
に露出するように垂直に浴槽水に浸漬し、1週間放置
し、汽水面に付着する湯垢の固着性を調べた。湯垢の固
着性は、試験後に布でこすったときの状態変化で調べ
た。その結果#7試料のほうがポリテトラフルオロエチ
レン板よりもきれいに湯垢が拭い取れた。
Embodiment 3 FIG. The # 5 sample, the # 7 sample, and the polytetrafluoroethylene plate for comparison were immersed vertically in bath water so that the upper part was exposed to the air, allowed to stand for one week, and the adhesiveness of the scale attached to the brackish water surface Was examined. The adhesiveness of the descaling was examined by a change in the state when rubbed with a cloth after the test. As a result, the descaling of the # 7 sample was more clean than that of the polytetrafluoroethylene plate.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明では、浴槽において、内側面に、
光触媒粒子と、撥水性シリコ−ンと、前記撥水性シリコ
−ンの前記光触媒の光励起による親水化を防止するため
の物質とを含有する実質的に透明な表面層が形成されて
いるようにする、或いは内側面に、光触媒粒子と撥水性
シリコ−ンとを含有する実質的に透明な層が形成され、
さらにその層表面の少なくとも一部には前記撥水性シリ
コ−ンの前記光触媒の光励起による親水化を防止するた
めの物質が固定されているようにすることにより、部材
表面は長期にわたり撥水性を維持可能となり、付着した
湯垢が固化しても汽水面に強固に固着しなくなる。
According to the present invention, in the bathtub, on the inner surface,
A substantially transparent surface layer containing photocatalyst particles, water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is formed. Alternatively, a substantially transparent layer containing the photocatalyst particles and the water-repellent silicone is formed on the inner surface,
Further, a material for preventing the hydrophilicity of the water-repellent silicone by photoexcitation of the photocatalyst is fixed to at least a part of the surface of the layer, so that the surface of the member maintains the water-repellency for a long time. It becomes possible, and even if the attached scale is solidified, it does not firmly adhere to the brackish water surface.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る浴槽内側面の表面構造を示す図。FIG. 1 is a view showing a surface structure of an inner surface of a bathtub according to the present invention.

【図2】本発明に係る浴槽内側面の他の表面構造を示す
図。
FIG. 2 is a diagram showing another surface structure of the inner surface of the bathtub according to the present invention.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 浴槽の少なくとも内側面に、光触媒粒子
と、撥水性シリコ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記
光触媒の光励起による親水化を防止するための物質とを
含有する表面層が形成されていることを特徴とする浴
槽。
1. A surface layer containing photocatalyst particles, a water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is provided on at least an inner surface of the bathtub. A bathtub characterized by being formed.
【請求項2】 浴槽の少なくとも内側面に、光触媒粒子
と撥水性シリコ−ンとを含有する実質的に透明な層が形
成され、さらにその層表面の少なくとも一部には前記撥
水性シリコ−ンの前記光触媒の光励起による親水化を防
止するための物質が固定されていることを特徴とする浴
槽。
2. A substantially transparent layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on at least the inner surface of the bathtub, and the water-repellent silicone is formed on at least a part of the surface of the layer. A bath for fixing a substance for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by light excitation.
【請求項3】 前記光触媒の光励起による親水化を防止
するための物質はコバルト又はコバルト化合物であるこ
とを特徴とする請求項1、2に記載の浴槽。
3. The bathtub according to claim 1, wherein the substance for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation is cobalt or a cobalt compound.
JP9049736A 1997-02-18 1997-02-18 Bathtub Pending JPH10229950A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9049736A JPH10229950A (en) 1997-02-18 1997-02-18 Bathtub

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9049736A JPH10229950A (en) 1997-02-18 1997-02-18 Bathtub

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10229950A true JPH10229950A (en) 1998-09-02

Family

ID=12839484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9049736A Pending JPH10229950A (en) 1997-02-18 1997-02-18 Bathtub

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10229950A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10212809A (en) Building material for external wall
JPH10198299A (en) Reflection plate for traffic sign
JPH10221504A (en) Plastic lens
JPH10229950A (en) Bathtub
JPH10192110A (en) Mirror for washstand
JPH10215996A (en) Dishes and dishes housing device
JPH10211680A (en) Membrane structural material
JPH10201655A (en) Bathtub
JPH10137149A (en) Bathtub
JPH10204718A (en) Helmet shield
JPH10199311A (en) Lighting system for tunnel
JPH10221503A (en) Glass lens
JPH10214985A (en) Solar-cell cover
JPH10212139A (en) Window glass for construction
JPH10269814A (en) Luminaire
JPH10226765A (en) Aircraft
JPH10137098A (en) Stainproofing tableware and housing device for stainproofing tableware
JPH10229949A (en) Bathtub
JPH10195829A (en) Sound insulation wall
JPH10193524A (en) Facing plate for road
JPH10219147A (en) Antifouling board
JPH10198890A (en) Light source cover for traffic signal
JPH10227532A (en) Transparent cover for solar heat collector
JPH10287153A (en) Pantagraph and trolley wire
JPH10195385A (en) Automobile