JPH10197192A - Fin for heat exchanger - Google Patents

Fin for heat exchanger

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JPH10197192A
JPH10197192A JP9015911A JP1591197A JPH10197192A JP H10197192 A JPH10197192 A JP H10197192A JP 9015911 A JP9015911 A JP 9015911A JP 1591197 A JP1591197 A JP 1591197A JP H10197192 A JPH10197192 A JP H10197192A
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JP
Japan
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water
cobalt
photocatalyst
heat exchanger
silicone
Prior art date
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Application number
JP9015911A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Kitamura
厚 北村
Makoto Hayakawa
信 早川
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Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
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Publication date
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Publication of JPH10197192A publication Critical patent/JPH10197192A/en
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28FDETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
    • F28F1/00Tubular elements; Assemblies of tubular elements
    • F28F1/10Tubular elements and assemblies thereof with means for increasing heat-transfer area, e.g. with fins, with projections, with recesses
    • F28F1/12Tubular elements and assemblies thereof with means for increasing heat-transfer area, e.g. with fins, with projections, with recesses the means being only outside the tubular element
    • F28F1/24Tubular elements and assemblies thereof with means for increasing heat-transfer area, e.g. with fins, with projections, with recesses the means being only outside the tubular element and extending transversely
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F8/00Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying
    • F24F8/20Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation
    • F24F8/22Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation using UV light
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
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    • F28F13/00Arrangements for modifying heat-transfer, e.g. increasing, decreasing
    • F28F13/18Arrangements for modifying heat-transfer, e.g. increasing, decreasing by applying coatings, e.g. radiation-absorbing, radiation-reflecting; by surface treatment, e.g. polishing
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28FDETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
    • F28F2245/00Coatings; Surface treatments
    • F28F2245/04Coatings; Surface treatments hydrophobic

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fin for a heat exchanger having a surface for maintaining water repellency for a long period. SOLUTION: In the fin for a heat exchanger, a surface of a base material is formed with a surface layer 2 containing photocatalytic particles, water repellent silicone and substance for preventing hydrophilizing of the silicone due to photo-exciting of the photocatalyst, or a layer containing the particles and the silicone is formed on the surface of the base material. Further, the substance for preventing the hydrophilizing of the silicone due to photo-exciting of the photocatalyst is fixed to at least part of the surface of the layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、冷暖房用の空調機
等に組込まれる熱交換器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat exchanger incorporated in an air conditioner for cooling and heating.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的な熱交換器の構造は、冷媒や熱媒
が流れるパイプに熱伝導率の高いアルミニウム板製のフ
ィンを多数取付け、熱交換の効率を高めるようにしてい
る。そしてフィンの枚数が多ければそれだけ効率は高く
なる。しかし、フィンの枚数が多くなると、隣接するフ
ィン間の間隔が狭くなり、雰囲気中の湿分がフィンに付
着し、付着した湿分が水滴状に成長したときに、水滴が
フィン間に毛細管現象により保持されてしまう。する
と、水滴はフィン間を流れる空気の抵抗となり、却って
熱交換の効率が低下することになる。
2. Description of the Related Art A general heat exchanger has a structure in which a plurality of aluminum plate fins having a high thermal conductivity are attached to a pipe through which a refrigerant or a heat medium flows to increase the efficiency of heat exchange. The greater the number of fins, the higher the efficiency. However, when the number of fins increases, the distance between adjacent fins becomes narrower, and moisture in the atmosphere adheres to the fins. Will be held by the Then, the water droplets become the resistance of the air flowing between the fins, and the heat exchange efficiency is rather reduced.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】そこで、水滴の付着し
にくい熱交換器用フィンが望まれている。
Therefore, a fin for a heat exchanger to which water droplets are unlikely to adhere is desired.

【0004】水滴の付着を防止する方法としては、基材
表面に撥水性を付与するとよいことが知られている。そ
の一方法として、基材表面に撥水性シリコ−ンからなる
表面層を形成する方法がある。しかしながら、この構成
では経時的に汚れが付着することによって水との接触角
が70゜程度に低下し、撥水性の効果が持続しない。そ
こで、上記課題を解決する他の方法として、基材表面に
光触媒と撥水性シリコ−ンとからなる表面層を形成する
方法がある。この方法によれば、光触媒の酸化分解性に
基づき、経時的に付着する汚れを分解できる。しかしな
がら、この構成では屋外で太陽光に晒すと、光触媒の光
励起によりシリコ−ンが親水化してしまうため表面の撥
水性を維持することができない。本発明では、上記事情
に鑑み、表面の撥水性を長期にわたり維持しうる熱交換
器用フィンを提供し、以て長期にわたり熱交換効率の低
下の生じない熱交換器を提供することを目的とする。
[0004] As a method of preventing the adhesion of water droplets, it is known that it is better to impart water repellency to the surface of a substrate. As one of the methods, there is a method of forming a surface layer made of a water-repellent silicone on a substrate surface. However, with this structure, the contact angle with water is reduced to about 70 ° due to the adhesion of dirt over time, and the effect of water repellency is not maintained. Therefore, as another method for solving the above-mentioned problem, there is a method of forming a surface layer comprising a photocatalyst and a water-repellent silicone on the surface of a substrate. According to this method, it is possible to decompose the adhered dirt over time based on the oxidative decomposability of the photocatalyst. However, in this configuration, when exposed to sunlight outdoors, the silicone is hydrophilized by photoexcitation of the photocatalyst, so that the water repellency of the surface cannot be maintained. In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a heat exchanger fin capable of maintaining surface water repellency for a long period of time, and to provide a heat exchanger that does not cause a decrease in heat exchange efficiency over a long period of time. .

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決すべく、基材表面に、光触媒粒子と、撥水性シリコ
−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光励起に
よる親水化を防止するための物質とを含有する表面層が
形成されている、或いは基材表面に、光触媒粒子と撥水
性シリコ−ンとを含有する層が形成され、さらにその層
表面の少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記
光触媒の光励起による親水化を防止するための物質が固
定されていることを特徴とする熱交換器用フィンを提供
する。コバルト又はコバルト化合物のような光触媒の光
励起による親水化を防止するための物質が表面層に含有
されているようにすることにより、光触媒の光励起によ
りシリコ−ンが親水化してしまうのを防止することがで
きる。かつ光触媒が含有されているので、光触媒の酸化
分解性に基づき、経時的に付着する汚れを分解できる。
従って、表面の撥水性を恒久的に維持することができ、
引いてはフィン間に水滴が保持されて冷媒や熱媒に対す
る抵抗を形成する状態が生じなくなり、長期にわたり熱
交換効率の低下の生じない熱交換器を提供できるように
なる。
According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, photocatalytic particles, water-repellent silicone, and hydrophilicity of the water-repellent silicone by photoexcitation of the photocatalyst are provided on a substrate surface. Or a layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the base material, and is further formed on at least a part of the surface of the layer. The present invention provides a fin for a heat exchanger, on which a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is fixed. Preventing the silicon from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst by making the surface layer contain a substance such as cobalt or a cobalt compound for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation. Can be. In addition, since the photocatalyst is contained, it is possible to decompose the dirt adhering with time based on the oxidative decomposability of the photocatalyst.
Therefore, the water repellency of the surface can be maintained permanently,
As a result, a state in which water droplets are held between the fins and resistance to the refrigerant and the heat medium does not occur does not occur, and a heat exchanger in which the heat exchange efficiency does not decrease for a long time can be provided.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】図1、図2は本発明の熱交換器の
一実施例であり、図1は斜視図、図2は要部拡大断面図
を示す。熱交換器は、内部を熱媒体が流れるパイプに多
数枚のフィン2を対向して取付けている。フィン2はア
ルミニウム平板からなり、その表面には表面層3が形成
されている。その一実施態様においては、図3に示すよ
うに、光触媒粒子と、シリコ−ンと、コバルト又はコバ
ルト化合物等の光触媒の光励起による親水化を防止する
ための物質を含む表面層が形成されている。本発明の他
の態様においては、図4に示すように、フィン2の表面
に光触媒粒子と、撥水性シリコ−ンとを含有する層が形
成され、さらにその層表面の少なくとも一部にはコバル
ト又はコバルト化合物等の撥水性シリコ−ンの光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質が固定されて
いる。
1 and 2 show one embodiment of the heat exchanger of the present invention. FIG. 1 is a perspective view, and FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part. In the heat exchanger, a number of fins 2 are attached to a pipe through which a heat medium flows so as to face each other. The fin 2 is made of an aluminum plate, and a surface layer 3 is formed on a surface of the fin 2. In one embodiment, as shown in FIG. 3, a surface layer containing photocatalyst particles, silicon, and a substance for preventing photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound from becoming hydrophilic by photoexcitation is formed. . In another embodiment of the present invention, as shown in FIG. 4, a layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the fin 2, and at least a part of the surface of the layer contains cobalt. Alternatively, a substance for preventing hydrophilicity due to photoexcitation of a photocatalyst of a water-repellent silicone such as a cobalt compound is fixed.

【0007】光触媒とは、その結晶の伝導帯と価電子帯
との間のエネルギ−ギャップよりも大きなエネルギ−
(すなわち短い波長)の光(励起光)を照射したとき
に、価電子帯中の電子の励起(光励起)が生じて、伝導
電子と正孔を生成しうる物質をいい、例えば、アナタ−
ゼ型酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化第二鉄、三酸
化二ビスマス、三酸化タングステン、チタン酸ストロン
チウム等の酸化物が好適に利用できる。光触媒の光励起
に用いる光源としては、例えば、蛍光灯、白熱電灯、メ
タルハライドランプ、水銀灯、キセノンランプ、殺菌灯
等の照明が利用できる。
A photocatalyst has an energy greater than the energy gap between the conduction band and the valence band of the crystal.
A substance capable of generating conduction electrons and holes by excitation of electrons in the valence band (photoexcitation) when irradiated with light (excitation light) having a short wavelength (excitation light).
Oxides such as zeta-type titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, ferric oxide, bismuth trioxide, tungsten trioxide and strontium titanate can be suitably used. Illumination such as a fluorescent lamp, an incandescent lamp, a metal halide lamp, a mercury lamp, a xenon lamp, and a germicidal lamp can be used as a light source used for photoexcitation of the photocatalyst.

【0008】シリコ−ンには、平均組成式 RpSiO(4-p)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは0<p<2を満足する数
である)で表される樹脂が利用できる。
The silicone has an average composition formula R p SiO (4-p) / 2 (where R is a functional group comprising one or more monovalent organic groups, or a monovalent organic group) A resin represented by the following formula: X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is a number satisfying 0 <p <2. Is available.

【0009】コバルト化合物には、コバルト合金、酸化
コバルト、塩化コバルト、硫酸コバルト、ヨウ化コバル
ト、臭化コバルト、酢酸コバルト、塩素酸コバルト、硝
酸コバルト等が好適に利用できる。
As the cobalt compound, cobalt alloy, cobalt oxide, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, cobalt bromide, cobalt acetate, cobalt chlorate, cobalt nitrate and the like can be suitably used.

【0010】表面層の膜厚は、0.4μm以下にするの
が好ましい。そうすれば、光の乱反射による白濁を防止
することができ、表面層は実質的に透明となる。さら
に、表面層の膜厚を、0.2μm以下にすると一層好ま
しい。そうすれば、光の干渉による表面層の発色を防止
することができる。また、表面層が薄ければ薄いほどそ
の透明度は向上する。更に、膜厚を薄くすれば、表面層
の耐摩耗性が向上する。
The thickness of the surface layer is preferably set to 0.4 μm or less. Then, cloudiness due to irregular reflection of light can be prevented, and the surface layer becomes substantially transparent. Further, it is more preferable that the thickness of the surface layer be 0.2 μm or less. Then, it is possible to prevent the surface layer from being colored by light interference. Also, the thinner the surface layer, the better its transparency. Further, when the film thickness is reduced, the wear resistance of the surface layer is improved.

【0011】表面層には、Ag、Cu、Znのような金
属を添加することができる。前記金属を添加した表面層
は、表面に付着した細菌や黴を暗所でも死滅させること
ができる。
A metal such as Ag, Cu and Zn can be added to the surface layer. The surface layer to which the metal is added can kill bacteria and fungi attached to the surface even in a dark place.

【0012】表面層にはPt、Pd、Ru、Rh、I
r、Osのような白金族金属を添加することができる。
前記金属を添加した表面層は、光触媒の酸化還元活性を
増強でき、有機物汚れの分解性、有害気体や悪臭の分解
性を向上させることができる。
Pt, Pd, Ru, Rh, I
A platinum group metal such as r or Os can be added.
The surface layer to which the metal is added can enhance the redox activity of the photocatalyst, and can improve the decomposability of organic contaminants and the decomposability of harmful gases and odors.

【0013】次に、基材表面に、光触媒粒子と、撥水性
シリコ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光
励起による親水化を防止するための物質とを含有する表
面層が形成されている撥水性部材の製法について説明す
る。この場合の製法は、基本的には、基材表面にコ−テ
ィング組成物を塗布し、硬化させることによる。
Next, a surface layer containing photocatalyst particles, water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is formed on the surface of the substrate. The method of manufacturing the water-repellent member described above will be described. The production method in this case is basically based on applying a coating composition on the surface of a substrate and curing the coating composition.

【0014】ここでコ−ティング組成物は、光触媒粒
子、コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の光励起に
よる親水化を防止するための物質にシリコ−ンの前駆体
を必須構成要件とし、その他に水、エタノ−ル、プロパ
ノ−ル等の溶媒や、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン
酸等のシリコ−ンの前駆体の加水分解を促進する触媒
や、トリブチルアミン、ヘキシルアミンなどの塩基性化
合物類、アルミニウムトリイソプロポキシド、テトライ
ソプロピルチタネ−トなどの酸性化合物類等のシリコ−
ンの前駆体を硬化させる触媒や、シランカップリング剤
等のコ−ティング液の分散性を向上させる界面活性剤な
どを添加してもよい。
Here, the coating composition contains a precursor of silicon as an essential component of a substance for preventing photocatalytic particles, cobalt or a cobalt compound or the like from becoming hydrophilic by photoexcitation of a photocatalyst. Solvents such as ethanol and propanol, catalysts that promote hydrolysis of silicone precursors such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid and maleic acid, and basic compounds such as tributylamine and hexylamine Silicon compounds such as acidic compounds such as aluminum, aluminum triisopropoxide and tetraisopropyl titanate;
And a surfactant for improving the dispersibility of the coating liquid such as a silane coupling agent.

【0015】コバルト又はコバルト化合物としては、水
溶性のコバルト化合物を用いるのが好ましい。水溶性の
コバルト化合物としては、例えば、塩化コバルト、硫酸
コバルト、ヨウ化コバルト、臭化コバルト、酢酸コバル
ト、塩素酸コバルト、硝酸コバルト等が好適に利用でき
る。
As cobalt or a cobalt compound, a water-soluble cobalt compound is preferably used. As the water-soluble cobalt compound, for example, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, cobalt bromide, cobalt acetate, cobalt chlorate, cobalt nitrate and the like can be suitably used.

【0016】ここでシリコ−ンの前駆体としては、平均
組成式 RpSiXq(4-p-q)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、p及びqは0<p<2、0<
q<4を満足する数である)で表されるシロキサンから
なる塗膜形成要素、又は一般式 RpSiX4-p (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは1または2である)で表
される加水分解性シラン誘導体からなる塗膜形成要素、
が好適に利用できる。
[0016] Here silicone - The precursor emissions in the average composition formula R p SiX q O (4- pq) / 2 ( wherein, R consists of one or more organic groups monovalent functional X or a functional group comprising two or more selected from a monovalent organic group and a hydrogen group, X is an alkoxy group or a halogen atom, and p and q are 0 <p <2, 0 <
a film-forming element composed of a siloxane represented by the following formula: q <4) or a general formula R p SiX 4-p (where R is one or more monovalent organic groups) Wherein X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is 1 or 2. A film-forming element comprising a hydrolyzable silane derivative to be
Can be suitably used.

【0017】ここで上記加水分解性シラン誘導体からな
る塗膜形成要素としては、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジプロポ
キシシラン、フェニルメチルジブトキシシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリプロポキシシラン、n−プロ
ピルトリブトキシシラン、γ−グリコキシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン等が好適に利用できる。
Here, as the coating film forming element comprising the hydrolyzable silane derivative, methyltrimethoxysilane,
Methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, Phenyltributoxysilane,
Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldibutoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenyl Methyldipropoxysilane, phenylmethyldibutoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, γ-glycoxydoxypropyltrimethoxysilane, γ -Acryloxypropyltrimethoxysilane and the like can be suitably used.

【0018】また、上記シロキサンからなる塗膜形成要
素としては、上記加水分解性シラン誘導体の部分加水分
解及び脱水縮重合、又は上記加水分解性シラン誘導体の
部分加水分解物と、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、ジエトキシジメトキシシラン等の部分加水分解
物との脱水縮重合等で作製することができる。
The film-forming element composed of the siloxane includes partial hydrolysis and dehydration-condensation polymerization of the hydrolyzable silane derivative, or partial hydrolyzate of the hydrolyzable silane derivative, tetramethoxysilane, tetramethoxysilane, It can be produced by dehydration polycondensation with a partial hydrolyzate such as ethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, diethoxydimethoxysilane and the like.

【0019】上記コ−ティング組成物の塗布方法として
は、スプレ−コ−ティング法、ディップコ−ティング
法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ
−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポンジ塗り等の方法
が好適に利用できる。硬化方法としては、熱処理、室温
放置、紫外線照射等により重合させて行うことができ
る。
The coating method of the coating composition includes spray coating, dip coating, flow coating, spin coating, roll coating, brush coating, and sponge. A method such as coating can be suitably used. As a curing method, it can be carried out by polymerizing by heat treatment, standing at room temperature, ultraviolet irradiation, or the like.

【0020】次に、基材表面に、光触媒粒子と撥水性シ
リコ−ンとを含有する層が形成され、さらにその層表面
の少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記光触
媒の光励起による親水化を防止するための物質が固定さ
れている撥水性部材の製法について説明する。この場合
の製法は、基本的には、光触媒粒子と撥水性シリコ−ン
の前駆体とを含有するコ−ティング組成物を塗布し、硬
化させた後、コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質を含有する溶
液を塗布し、表面に固定することによる。
Next, a layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of the base material, and at least a part of the surface of the layer is formed by photoexcitation of the photocatalyst by the water-repellent silicone. A method for manufacturing a water-repellent member to which a substance for preventing hydrophilicity is fixed will be described. The production method in this case is basically based on the photo-excitation of a photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound after coating and curing a coating composition containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone precursor. By applying a solution containing a substance for preventing hydrophilization and fixing the solution to the surface.

【0021】ここでコ−ティング組成物は、光触媒粒子
と、撥水性シリコ−ンの前駆体を必須構成要件とし、そ
の他に水、エタノ−ル、プロパノ−ル等の溶媒や、塩
酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン酸等のシリカの前駆体
の加水分解を促進する触媒や、トリブチルアミン、ヘキ
シルアミンなどの塩基性化合物類、アルミニウムトリイ
ソプロポキシド、テトライソプロピルチタネ−トなどの
酸性化合物類等のシリカの前駆体を硬化させる触媒や、
シランカップリング剤等のコ−ティング液の分散性を向
上させる界面活性剤などを添加してもよい。
Here, the coating composition has photocatalyst particles and a precursor of a water-repellent silicone as essential components, and in addition, a solvent such as water, ethanol, propanol, hydrochloric acid, nitric acid, and the like. Catalysts that promote the hydrolysis of silica precursors such as sulfuric acid, acetic acid and maleic acid, basic compounds such as tributylamine and hexylamine, and acidic compounds such as aluminum triisopropoxide and tetraisopropyl titanate Such as a catalyst for curing a precursor of silica,
A surfactant such as a silane coupling agent for improving the dispersibility of the coating liquid may be added.

【0022】ここでシリコ−ンの前駆体としては、平均
組成式 RpSiXq(4-p-q)/2 (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、p及びqは0<p<2、0<
q<4を満足する数である)で表されるシロキサンから
なる塗膜形成要素、又は一般式 RpSiX4-p (式中、Rは一価の有機基の1種若しくは2種以上から
なる官能基、又は、一価の有機基と水素基から選ばれた
2種以上からなる官能基であり、Xはアルコキシ基、又
は、ハロゲン原子であり、pは1または2である)で表
される加水分解性シラン誘導体からなる塗膜形成要素、
が好適に利用できる。
[0022] Here silicone - The precursor emissions in the average composition formula R p SiX q O (4- pq) / 2 ( wherein, R consists of one or more organic groups monovalent functional X or a functional group comprising two or more selected from a monovalent organic group and a hydrogen group, X is an alkoxy group or a halogen atom, and p and q are 0 <p <2, 0 <
a film-forming element composed of a siloxane represented by the following formula: q <4) or a general formula R p SiX 4-p (where R is one or more monovalent organic groups) Wherein X is an alkoxy group or a halogen atom, and p is 1 or 2. A film-forming element comprising a hydrolyzable silane derivative to be
Can be suitably used.

【0023】ここで上記加水分解性シラン誘導体からな
る塗膜形成要素としては、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジプロポ
キシシラン、フェニルメチルジブトキシシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリプロポキシシラン、n−プロ
ピルトリブトキシシラン、γ−グリコキシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン等が好適に利用できる。
Here, as the coating film forming element comprising the hydrolyzable silane derivative, methyltrimethoxysilane,
Methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, Phenyltributoxysilane,
Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldibutoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenyl Methyldipropoxysilane, phenylmethyldibutoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltripropoxysilane, n-propyltributoxysilane, γ-glycoxydoxypropyltrimethoxysilane, γ -Acryloxypropyltrimethoxysilane and the like can be suitably used.

【0024】また、上記シロキサンからなる塗膜形成要
素としては、上記加水分解性シラン誘導体の部分加水分
解及び脱水縮重合、又は上記加水分解性シラン誘導体の
部分加水分解物と、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、ジエトキシジメトキシシラン等の部分加水分解
物との脱水縮重合等で作製することができる。
The film-forming element composed of the siloxane includes partial hydrolysis and dehydration-condensation polymerization of the hydrolyzable silane derivative, or a partial hydrolyzate of the hydrolyzable silane derivative, tetramethoxysilane, tetramethoxysilane and tetramethoxysilane. It can be produced by dehydration polycondensation with a partial hydrolyzate such as ethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, diethoxydimethoxysilane and the like.

【0025】上記コ−ティング組成物の塗布方法として
は、スプレ−コ−ティング法、ディップコ−ティング
法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ
−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポンジ塗り等の方法
が好適に利用できる。硬化方法としては、熱処理、室温
放置、紫外線照射等により重合させて行うことができ
る。
The coating method of the above coating composition includes spray coating, dip coating, flow coating, spin coating, roll coating, brush coating, and sponge. A method such as coating can be suitably used. As a curing method, it can be carried out by polymerizing by heat treatment, standing at room temperature, ultraviolet irradiation, or the like.

【0026】コバルト又はコバルト化合物等の光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質を含有する溶
液を塗布し、表面に固定する方法は、例えば、塩化コバ
ルト、硫酸コバルト、ヨウ化コバルト、臭化コバルト、
酢酸コバルト、塩素酸コバルト、硝酸コバルト等の水溶
性のコバルト化合物を、スプレ−コ−ティング法、ディ
ップコ−ティング法、フロ−コ−ティング法、スピンコ
−ティング法、ロ−ルコ−ティング法、刷毛塗り、スポ
ンジ塗り等の方法で塗布し、光還元、熱処理、アルコ−
ル等の犠牲酸化剤を併用する還元等の方法で固定するこ
とにより行う。
The method of applying a solution containing a substance for preventing the photocatalyst such as cobalt or a cobalt compound from being hydrophilized by photoexcitation and fixing it on the surface includes, for example, cobalt chloride, cobalt sulfate, cobalt iodide, bromide, and the like. cobalt,
Spray coating method, dip coating method, flow coating method, spin coating method, roll coating method, brushing water-soluble cobalt compounds such as cobalt acetate, cobalt chlorate and cobalt nitrate Coating, sponge coating, etc., photoreduction, heat treatment, alcohol
This is performed by fixing by a method such as reduction using a sacrificial oxidizing agent such as toluene.

【0027】[0027]

【実施例】【Example】

参考例.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル(日産化学、TA
−15、硝酸解膠型、pH=1)と、シリカゾル(日本
合成ゴム、グラスカA液、pH=4)と、メチルトリメ
トキシシラン(日本合成ゴム、グラスカB液)とエタノ
−ルを混合し、2〜3時間撹拌して得たコ−ティング液
を、スプレ−コ−ティング法にて5×10cm角の施釉
タイル基材(東陶機器、AB02E11)上に塗布し、
200℃で15分熱処理して、アナタ−ゼ型酸化チタン
粒子11重量部、シリカ6重量部、シリコ−ン5重量部
からなる表面層を形成した#1試料を得た。#1試料の
水との接触角は92゜であった。ここで水との接触角は
接触角測定器(協和界面科学、CA−X150)を用
い、マイクロシリンジから水滴を滴下した後30秒後の
水との接触角で評価した。次いで#1試料表面に、紫外
線光源(三共電気、ブラックライトブル−(BLB)蛍
光灯)を用いて0.3mW/cm2の紫外線照度で1日
照射し、#2試料を得た。その結果、#2試料の水との
接触角は0゜まで親水化された。次に、#1試料と、#
1試料に水銀灯を22.8mW/cm2の紫外線照度で
2時間照射して得た#3試料夫々の試料表面をラマン分
光分析した。その結果、#1試料表面で認められたメチ
ル基のピ−クが#3試料では認められず、代わりに水酸
基のブロ−ドなピ−クが認められた。以上のことから、
光触媒であるアナタ−ゼ型酸化チタンの光励起により被
膜の表面のシリコ−ン分子中のケイ素原子に結合した有
機基は、水酸基に置換されること、及び親水化されるこ
とがわかる。
Reference example. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA
-15, nitric acid peptized type, pH = 1), silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4), methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution) and ethanol are mixed. The coating liquid obtained by stirring for 2 to 3 hours was applied on a 5 × 10 cm square glazed tile base material (TOTOKIKI, AB02E11) by spray coating.
A heat treatment was performed at 200 ° C. for 15 minutes to obtain a # 1 sample having a surface layer formed of 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles, 6 parts by weight of silica, and 5 parts by weight of silicone. The contact angle of the # 1 sample with water was 92 °. Here, the contact angle with water was evaluated using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X150) by the contact angle with water 30 seconds after a water droplet was dropped from the micro syringe. Next, the surface of the # 1 sample was irradiated for one day with an ultraviolet illuminance of 0.3 mW / cm 2 using an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue (BLB) fluorescent lamp) to obtain a # 2 sample. As a result, the contact angle with water of the # 2 sample was hydrophilized to 0 °. Next, # 1 sample and #
One sample was irradiated with a mercury lamp at an ultraviolet irradiance of 22.8 mW / cm 2 for 2 hours, and the surface of each of the # 3 samples obtained was subjected to Raman spectroscopic analysis. As a result, a peak of methyl group observed on the surface of sample # 1 was not observed in sample # 3, but a peak of hydroxyl group was observed instead. From the above,
It can be seen that the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the film by the photoexcitation of the anatase type titanium oxide which is a photocatalyst is replaced by a hydroxyl group and becomes hydrophilic.

【0028】実施例1.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル
(日産化学、TA−15、硝酸解膠型、pH=1)と、
シリカゾル(日本合成ゴム、グラスカA液、pH=4)
と、メチルトリメトキシシラン(日本合成ゴム、グラス
カB液)と、塩化コバルト六水和物と、エタノ−ルを混
合し、2〜3時間撹拌して得たコ−ティング液を、スプ
レ−コ−ティング法にてシリコ−ンで被覆したアルミニ
ウム基材上に塗布し、150℃で15分熱処理して、ア
ナタ−ゼ型酸化チタン粒子11重量部、シリカ6重量
部、シリコ−ン5重量部、コバルト0.2重量部からな
る表面層を形成した#4試料を得た。#4試料の水との
接触角は97゜であった。ここで水との接触角は接触角
測定器(協和界面科学、CA−X150)を用い、マイ
クロシリンジから水滴を滴下した後30秒後の水との接
触角で評価した。次いで#4試料表面に、紫外線光源
(三共電気、ブラックライトブル−(BLB)蛍光灯)
を用いて0.3mW/cm2の紫外線照度で1日照射
し、#5試料を得た。その結果、#5試料の水との接触
角は依然95゜と撥水性を維持した。従って、以上のこ
とから、光触媒であるアナタ−ゼ型酸化チタンの光励起
による被膜の表面のシリコ−ンの親水化が、コバルトに
より阻害されることがわかる。これは、被膜の表面のシ
リコ−ン分子中のケイ素原子に結合した有機基の水酸基
への置換がコバルトにより阻害されるためと考えられ
る。また、#5試料を傾けると水滴は転がりながら落下
した。
Embodiment 1 FIG. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA-15, peptized nitrate, pH = 1),
Silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4)
And methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution), cobalt chloride hexahydrate, and ethanol, and stirred for 2-3 hours. -Applied on an aluminum substrate coated with silicone by a coating method, and heat-treated at 150 ° C for 15 minutes to obtain 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles, 6 parts by weight of silica, and 5 parts by weight of silicone. And a # 4 sample having a surface layer composed of 0.2 parts by weight of cobalt was obtained. The contact angle of the # 4 sample with water was 97 °. Here, the contact angle with water was evaluated using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X150) by the contact angle with water 30 seconds after a water droplet was dropped from the micro syringe. Next, an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue- (BLB) fluorescent lamp) was placed on the surface of the # 4 sample.
Was used for 1 day at an ultraviolet illuminance of 0.3 mW / cm 2 to obtain a # 5 sample. As a result, the contact angle of the # 5 sample with water was still 95 °, maintaining water repellency. Therefore, it can be understood from the above that the hydrophilicity of the silicon on the surface of the coating film due to the photoexcitation of the anatase type titanium oxide as a photocatalyst is inhibited by cobalt. This is considered because the substitution of the hydroxyl group for the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the coating is inhibited by cobalt. Further, when the # 5 sample was tilted, the water droplets fell while rolling.

【0029】実施例2.アナタ−ゼ型酸化チタンゾル
(日産化学、TA−15、硝酸解膠型、pH=1)と、
シリカゾル(日本合成ゴム、グラスカA液、pH=4)
と、メチルトリメトキシシラン(日本合成ゴム、グラス
カB液)と、エタノ−ルを混合し、2〜3時間撹拌して
得たコ−ティング液を、スプレ−コ−ティング法にてシ
リコ−ンで被覆したアルミニウム基材上に塗布し、15
0℃で15分熱処理して、アナタ−ゼ型酸化チタン粒子
11重量部、シリカ6重量部、シリコ−ン5重量部から
なる表面層を形成した。さらにその上にコバルト金属濃
度50μmol/gの塩化コバルト六水和物水溶液を
0.3g塗布後、紫外線光源(三共電気、ブラックライ
トブル−(BLB)蛍光灯)を用いて紫外線照度0.4
mW/cm2の紫外線を10分照射して基材上にコバル
トを固定して#6試料を得た。#6試料の水との接触角
は96゜であった。ここで水との接触角は接触角測定器
(協和界面科学、CA−X150)を用い、マイクロシ
リンジから水滴を滴下した後30秒後の水との接触角で
評価した。次いで#6試料表面に、紫外線光源(三共電
気、ブラックライトブル−(BLB)蛍光灯)を用いて
0.3mW/cm2の紫外線照度で1日照射し、#7試
料を得た。その結果、#7試料の水との接触角は依然9
4゜と撥水性を維持した。従って、以上のことから、光
触媒であるアナタ−ゼ型酸化チタンの光励起による被膜
の表面のシリコ−ンの親水化が、コバルトにより阻害さ
れることがわかる。これは、被膜の表面のシリコ−ン分
子中のケイ素原子に結合した有機基の水酸基への置換が
コバルトにより阻害されるためと考えられる。また、#
7試料を傾けると水滴は転がりながら落下した。
Embodiment 2 FIG. Anatase type titanium oxide sol (Nissan Chemical, TA-15, peptized nitrate, pH = 1),
Silica sol (Nippon Synthetic Rubber, Glasca A solution, pH = 4)
And methyltrimethoxysilane (Nippon Synthetic Rubber, Glasca B solution) and ethanol were mixed, and the mixture was stirred for 2 to 3 hours to obtain a silicone coating by spray coating. 15 on the aluminum substrate coated with
Heat treatment was performed at 0 ° C. for 15 minutes to form a surface layer comprising 11 parts by weight of anatase type titanium oxide particles, 6 parts by weight of silica, and 5 parts by weight of silicone. Further, 0.3 g of an aqueous cobalt chloride hexahydrate solution having a cobalt metal concentration of 50 μmol / g was applied thereon, and the ultraviolet illuminance was set to 0.4 using an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue (BLB) fluorescent lamp).
A # 6 sample was obtained by irradiating ultraviolet rays of mW / cm 2 for 10 minutes to fix cobalt on the substrate. The contact angle of the # 6 sample with water was 96 °. Here, the contact angle with water was evaluated using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science, CA-X150) by the contact angle with water 30 seconds after a water droplet was dropped from the micro syringe. Next, the surface of the # 6 sample was irradiated with ultraviolet light of 0.3 mW / cm 2 for one day using an ultraviolet light source (Sankyo Electric, Black Light Blue (BLB) fluorescent lamp) to obtain a # 7 sample. As a result, the contact angle of the # 7 sample with water was still 9
The water repellency was maintained at 4 °. Therefore, it can be understood from the above that the hydrophilicity of the silicon on the surface of the coating film due to the photoexcitation of the anatase type titanium oxide as a photocatalyst is inhibited by cobalt. This is considered because the substitution of the hydroxyl group for the organic group bonded to the silicon atom in the silicon molecule on the surface of the coating is inhibited by cobalt. Also,#
When the seven samples were tilted, the water droplets fell while rolling.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明では、熱交換器用フィンにおい
て、基材表面に、光触媒粒子と、撥水性シリコ−ンと、
前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光励起による親水
化を防止するための物質とを含有する表面層が形成され
ているようにする、或いは基材表面に、光触媒粒子と撥
水性シリコ−ンとを含有する層が形成され、さらにその
層表面の少なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前
記光触媒の光励起による親水化を防止するための物質が
固定されているようにすることにより、部材表面は長期
にわたり撥水性を維持可能となり、引いては、長期にわ
たり熱交換効率の低下の生じない熱交換器を提供するこ
とが可能となる。
According to the present invention, in a fin for a heat exchanger, photocatalyst particles, a water-repellent silicone,
A surface layer containing a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is formed, or photocatalyst particles and a water-repellent silicone are formed on the surface of the base material. Is formed, and a material for preventing hydrophilicity of the water-repellent silicone by photoexcitation of the photocatalyst is fixed to at least a part of the surface of the layer. The surface can maintain the water repellency for a long period of time, so that it is possible to provide a heat exchanger in which the heat exchange efficiency does not decrease for a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の熱交換器の実施例の斜視図。FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of a heat exchanger of the present invention.

【図2】本発明の熱交換器の実施例の要部拡大断面図。FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part of an embodiment of the heat exchanger of the present invention.

【図3】本発明の熱交換器用フィンの表面構造を示す
図。
FIG. 3 is a diagram showing a surface structure of a heat exchanger fin of the present invention.

【図4】本発明の熱交換器用フィンの他の表面構造を示
す図。
FIG. 4 is a diagram showing another surface structure of the heat exchanger fin of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:パイプ 2:フィン 3:表面層 4:光源 1: pipe 2: fin 3: surface layer 4: light source

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材表面に、光触媒粒子と、撥水性シリ
コ−ンと、前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の光励起
による親水化を防止するための物質とを含有する表面層
が形成されていることを特徴とする熱交換器用フィン。
1. A surface layer containing photocatalyst particles, water-repellent silicone, and a substance for preventing the water-repellent silicone from becoming hydrophilic by photoexcitation of the photocatalyst is formed on the surface of a substrate. A fin for a heat exchanger.
【請求項2】 基材表面に、光触媒粒子と撥水性シリコ
−ンとを含有する層が形成され、さらにその層表面の少
なくとも一部には前記撥水性シリコ−ンの前記光触媒の
光励起による親水化を防止するための物質が固定されて
いることを特徴とする熱交換器用フィン。
2. A layer containing photocatalyst particles and a water-repellent silicone is formed on the surface of a base material, and at least a part of the surface of the layer is made hydrophilic by the photoexcitation of the photocatalyst of the water-repellent silicone. A fin for a heat exchanger, wherein a substance for preventing fining is fixed.
【請求項3】 前記光触媒の光励起による親水化を防止
するための物質は、コバルト又はコバルト化合物である
ことを特徴とする請求項1、2に記載の熱交換器用フィ
ン。
3. The heat exchanger fin according to claim 1, wherein the substance for preventing the photocatalyst from becoming hydrophilic by photoexcitation is cobalt or a cobalt compound.
JP9015911A 1997-01-13 1997-01-13 Fin for heat exchanger Pending JPH10197192A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1069380A3 (en) * 1999-07-16 2003-02-05 Carrier Corporation Photocatalytic oxidation enhanced evaporator coil surface for fly-by control

Cited By (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1069380A3 (en) * 1999-07-16 2003-02-05 Carrier Corporation Photocatalytic oxidation enhanced evaporator coil surface for fly-by control

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