JPH10199844A - Substrate cleaning device - Google Patents
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- JPH10199844A JPH10199844A JP9002476A JP247697A JPH10199844A JP H10199844 A JPH10199844 A JP H10199844A JP 9002476 A JP9002476 A JP 9002476A JP 247697 A JP247697 A JP 247697A JP H10199844 A JPH10199844 A JP H10199844A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称す
る）に対して純水などの洗浄液を供給しつつ洗浄具によ
り基板を洗浄する基板洗浄装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning liquid such as pure water for cleaning a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a liquid crystal display, and a substrate for an optical disk (hereinafter simply referred to as a substrate). The present invention relates to a substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate with a cleaning tool while supplying the substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のこの種の装置として、例えば、基
板に純水などの洗浄液を供給しながら洗浄具を回転させ
て基板面に当接させるものが挙げられる。この洗浄具の
基板面側に取り付けられ、基板面に当接する洗浄部材と
しては、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）により形成さ
れたスポンジ状のものや、ナイロンまたはモヘアによる
ブラシ状のものが利用されている。2. Description of the Related Art As a conventional apparatus of this type, for example, there is an apparatus in which a cleaning tool is rotated while supplying a cleaning liquid such as pure water to a substrate so as to contact the substrate surface. A sponge-like member made of PVA (polyvinyl alcohol) or a brush-like member made of nylon or mohair is used as a cleaning member attached to the substrate surface side of the cleaning tool and in contact with the substrate surface.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、基板の洗浄時には、全ての基板に対し
て同じ条件で処理を施すために洗浄部材を基板面に当接
させた際の押圧を一定にすることが行われるが、ＰＶＡ
により形成されたスポンジ状の洗浄部材は、洗浄液を含
むと膨潤してその外形が大きく変形する。したがって、
その洗浄部材を基板面に当接させた際の押圧管理が困難
であるという問題がある。このような問題は、ブラシの
変形が大きなことからナイロンまたはモヘアによるブラ
シ状の洗浄部材であっても同様に生じている。なお、押
圧は基板の洗浄度合いに密接に関連するものであるの
で、それを一定化することは非常に重要である。However, the prior art having such a structure has the following problems. That is, at the time of cleaning the substrate, in order to perform processing on all the substrates under the same conditions, a constant pressure is applied when the cleaning member is brought into contact with the substrate surface.
The sponge-like cleaning member formed as described above swells when containing a cleaning liquid, and its outer shape is greatly deformed. Therefore,
There is a problem that it is difficult to control pressing when the cleaning member is brought into contact with the substrate surface. Such a problem similarly occurs even with a brush-like cleaning member made of nylon or mohair because the deformation of the brush is large. Since the pressing is closely related to the degree of cleaning of the substrate, it is very important to make it constant.
【０００４】また、洗浄部材がＰＶＡ製のものである場
合には、膨潤した際の形状が様々であるため、交換部品
である洗浄具の寸法形状を一定化することが難しく、材
質的に磨耗が早いため頻繁に交換する必要があり、洗浄
部材として取り扱いにくい一面がある。Further, when the cleaning member is made of PVA, the shape when swollen is various, so that it is difficult to stabilize the size and shape of the cleaning tool as a replacement part, and the material is worn. It needs to be replaced frequently because it is fast, and there is one aspect that it is difficult to handle as a cleaning member.
【０００５】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、洗浄部材を特定の材料で構成すること
により、押圧管理が容易で、かつ、洗浄部材の取り扱い
が容易な基板洗浄装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and when the cleaning member is made of a specific material, the substrate can be easily controlled for pressing and the cleaning member can be easily handled. It is intended to provide a device.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板に洗浄液を供給しつ
つ洗浄具により基板を洗浄する基板洗浄装置において、
前記洗浄具のうち前記基板側に向けられた洗浄部材を多
孔質ゴムで構成したことを特徴とするものである。The present invention has the following configuration in order to achieve the above object. That is, the invention according to claim 1 is a substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate with a cleaning tool while supplying a cleaning liquid to the substrate,
In the cleaning tool, a cleaning member directed to the substrate side is made of porous rubber.
【０００７】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載の基板洗浄装置において、前記多孔質ゴムをポリ
ウレタンゴムとしたことを特徴とするものである。[0007] The invention described in claim 2 is the first invention.
The substrate cleaning apparatus according to the above, wherein the porous rubber is polyurethane rubber.
【０００８】また、請求項３に記載の発明は、請求項１
または請求項２に記載の基板洗浄装置において、前記多
孔質ゴムまたは前記ポリウレタンゴムをシート状に形成
したことを特徴とするものである。[0008] The invention described in claim 3 is the first invention.
Alternatively, in the substrate cleaning apparatus according to claim 2, the porous rubber or the polyurethane rubber is formed in a sheet shape.
【０００９】[0009]
【作用】請求項１に記載の発明によれば、洗浄部材を多
孔質のものとしたので、基板面に付着したゴミを多数の
微細な孔に取り込んで除去することができ、ゴム系の材
質としたので、ＰＶＡやナイロン、モヘアなどの従来の
材質に比較して極めて変形しにくく、洗浄液を含んでも
ほとんど膨潤することがない。したがって、予め設定し
た押圧で洗浄部材を基板に当接させることができる。ま
た、変形しにくいので交換部品である洗浄具の寸法形状
を一定化することができ、従来の材質に比較して耐磨耗
性が良いので、交換頻度を低減することができる。According to the first aspect of the present invention, since the cleaning member is made of a porous material, dust adhering to the substrate surface can be removed by being taken into a large number of fine holes. Therefore, compared to conventional materials such as PVA, nylon, mohair, etc., they are extremely hard to deform, and hardly swell even when containing a cleaning liquid. Therefore, the cleaning member can be brought into contact with the substrate with a preset pressure. Further, since the cleaning tool, which is a replacement part, is hardly deformed, the size and shape of the cleaning tool can be made constant, and the wear resistance is better than that of a conventional material, so that the replacement frequency can be reduced.
【００１０】また、請求項２に記載の発明の作用は次の
とおりである。基板に付着したゴミを除去し、除去した
ゴミが再付着することを防止するためには、基板とゴミ
とを同極性に帯電させてそれらを電気的に反発させるこ
とが条件の一つとして挙げられる。特に、ＲＣＡ洗浄法
におけるＳＣ−１液（ＡＰＭ液とも呼ばれる）を洗浄液
として使用している場合には、ポリウレタンゴムが負に
帯電しやすいので、ほとんどの金属粒子のゴミの再付着
を防止することができる。The operation of the second aspect of the present invention is as follows. In order to remove dust adhering to the substrate and prevent the removed dust from re-adhering, one of the conditions is to charge the substrate and dust to the same polarity and electrically repel them. Can be In particular, when the SC-1 solution (also called an APM solution) in the RCA cleaning method is used as a cleaning solution, the polyurethane rubber is likely to be negatively charged. Can be.
【００１１】また、請求項３に記載の発明によれば、多
孔質ゴムまたはポリウレタンゴムの洗浄部材をシート状
にしたので、より変形しにくく予め設定した押圧で洗浄
部材を基板面に当接させることができるとともに、適度
の弾性を有するので基板面を傷つけることを防止でき
る。According to the third aspect of the present invention, since the cleaning member made of porous rubber or polyurethane rubber is formed in a sheet shape, the cleaning member is hardly deformed and is brought into contact with the substrate surface by a predetermined pressure. In addition, since the substrate has appropriate elasticity, it is possible to prevent the substrate surface from being damaged.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は実施例に係る基板洗浄装置の
概略構成を示す図であり、図２はその洗浄アームを示す
縦断面図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a view showing a schematic configuration of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment, and FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing the cleaning arm.
【００１３】図中、符号１は、真空吸引によって基板Ｗ
を水平姿勢で吸着保持するスピンチャックである。この
スピンチャック１は、回転軸２を介してモータ３によっ
て鉛直軸周りに回転駆動されるようになっているととも
に、洗浄液が飛散することを防止するための飛散防止カ
ップ５によって周囲を囲われている。飛散防止カップ５
の側方には、揺動自在かつ昇降自在に構成された洗浄ア
ーム１１が配備されている。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a substrate W by vacuum suction.
Is a spin chuck that holds by suction in a horizontal posture. The spin chuck 1 is rotatably driven around a vertical axis by a motor 3 via a rotating shaft 2 and is surrounded by a scattering prevention cup 5 for preventing the cleaning liquid from scattering. I have. Shatterproof cup 5
A cleaning arm 11 configured to be swingable and vertically movable is provided on the side of the cleaning arm 11.
【００１４】なお、この装置では基板Ｗを真空吸引によ
って吸着保持するスピンチャック１を採用しているが、
これに代えて例えば、基板Ｗの周縁部および下面を当接
支持する支持部材により水平姿勢に保持するものを採用
してもよい。Although this apparatus employs a spin chuck 1 for sucking and holding the substrate W by vacuum suction,
Instead of this, for example, a member that is held in a horizontal position by a support member that abuts and supports the peripheral portion and the lower surface of the substrate W may be employed.
【００１５】洗浄アーム１１は、図示しない揺動駆動手
段により鉛直軸周りに揺動されるとともに、図示しない
昇降駆動手段により昇降される揺動軸１３を下面に配設
された支持体１５によって水平に支持されている。外筒
１７は、筒軸Ｐ１が水平方向に沿うように配設された水
平外筒１７ａと、筒軸Ｐ２が鉛直方向に沿うように配設
された鉛直外筒１７ｂと、水平外筒１７ａと鉛直外筒１
７ｂとの延長上であって、通常屈曲形成される部位に配
設されたフレキシブルジョイント１７ｃとから構成され
ている。フレキシブルジョイント１７ｃは、水平外筒１
７ａと鉛直外筒１７ｂとを連動連結するものである。外
筒１７の内部には、筒軸Ｐ１に沿って配設された水平内
筒１９ａと、筒軸Ｐ２に沿って配設された鉛直内筒１９
ｂと、これらを連結した屈曲内筒１９ｃとから構成され
ている内筒１９が配設されている。内筒１９は、その基
端部側を、支持体１５内に配設されたベース２１に固着
されて水平に保持されている。水平内筒１９ａの支持体
１５側と先端部側の外周面には、環状のベアリング２３
が取り付けられており、水平外筒１７ａを水平方向の筒
軸Ｐ１周りで回転可能に支持している。また、鉛直内筒
１９ｂの上側外周面には、同様に環状のベアリング２３
が取り付けられ、鉛直外筒１７ｂを鉛直方向の筒軸Ｐ２
周りで回転可能に支持している。The cleaning arm 11 is swung about a vertical axis by a swing driving means (not shown), and is horizontally moved by a support 15 disposed on a lower surface of a swing shaft 13 which is raised and lowered by a lifting drive means (not shown). It is supported by. The outer cylinder 17 includes a horizontal outer cylinder 17a in which the cylinder axis P1 is arranged in the horizontal direction, a vertical outer cylinder 17b in which the cylinder axis P2 is arranged in the vertical direction, and a horizontal outer cylinder 17a. Vertical outer cylinder 1
7b, and a flexible joint 17c disposed at a portion where bending is normally formed. The flexible joint 17c is the horizontal outer cylinder 1
7a and the vertical outer cylinder 17b are interlockingly connected. Inside the outer cylinder 17, a horizontal inner cylinder 19a arranged along the cylinder axis P1 and a vertical inner cylinder 19 arranged along the cylinder axis P2 are arranged.
b and an inner cylinder 19 composed of a bent inner cylinder 19c connecting these. The base end of the inner cylinder 19 is fixed to a base 21 provided in the support 15 and held horizontally. An annular bearing 23 is provided on the outer peripheral surface of the horizontal inner cylinder 19a on the support body 15 side and the distal end side.
Is mounted, and supports the horizontal outer cylinder 17a so as to be rotatable around a horizontal cylinder axis P1. Similarly, an annular bearing 23 is provided on the upper outer peripheral surface of the vertical inner cylinder 19b.
Is attached, and the vertical outer cylinder 17b is connected to the vertical cylindrical shaft P2.
It is supported rotatably around.
【００１６】水平外筒１７ａの基端部側の外周面には、
その全周にわたって歯車２５が取り付けられており、筒
軸Ｐ１に平行な軸芯Ｐ３周りに電動モータ２７で回転駆
動される駆動歯車２９と咬合している。電動モータ２７
は内筒１９が固着されているベース２１に取り付けられ
ており、これを回転駆動すると駆動歯車２９と歯車２５
とを介して水平外筒１７ａが筒軸Ｐ１周りに回転するよ
うになっている。なお、咬合部から発生したパーティク
ルが、支持体１５の外部に出てクリーンルーム内に拡散
しないようにそれを吸引排出する機構を設けることが好
ましい。On the outer peripheral surface on the base end side of the horizontal outer cylinder 17a,
A gear 25 is mounted around the entire circumference thereof, and meshes with a drive gear 29 driven by an electric motor 27 to rotate around an axis P3 parallel to the cylinder axis P1. Electric motor 27
Is mounted on a base 21 to which the inner cylinder 19 is fixed. When this is rotationally driven, the driving gear 29 and the gear 25
The horizontal outer cylinder 17a is configured to rotate around the cylinder axis P1. In addition, it is preferable to provide a mechanism for sucking and discharging particles generated from the occlusion portion so that the particles do not go out of the support 15 and diffuse into the clean room.
【００１７】内筒１９の内部には、筒軸Ｐ１に沿って配
設された水平配管３１ａと、筒軸Ｐ２に沿って配設され
た鉛直配管３１ｂと、水平配管３１ａと鉛直配管３１ｂ
との延長上であって、通常屈曲形成される部位に配設さ
れたフレキシブルジョイント３１ｃとから構成された供
給配管３１が配設されている。フレキシブルジョイント
３１ｃは、水平配管３１ａと鉛直配管３１ｂとを連動連
結するものである。水平配管３１ａの基端部は、純水な
どの洗浄液を供給する図示しない供給源に連通した管継
手３３の開口３３ａに緩挿されているとともに、開口３
３ａと水平配管３１ａの隙間から漏れ出る洗浄液が水平
配管３１ａの先端部側へ伝ってゆくことを防止するため
の液止め部材３５が開口３３ａに近い部位に形成されて
いる。なお、開口３３ａより漏れ出た洗浄液を回収する
ように排液手段を支持体１５内に設けておくことが好ま
しい。鉛直配管３１ｂは、水平配管３１ａと同径の上部
３１ｂ1 と、この上部３１ｂ1 より大径であって、鉛直
内筒１９ｂの内径よりやや小さな外径を有する胴部３１
ｂ2 とを有する縦断面凸状に形成されている。なお、こ
の実施例では、鉛直配管３１ｂを、上述した鉛直外筒１
７ｂとともに一体的に構成しているが、その胴部３１ｂ
2 と鉛直外筒１７ｂとを先端部１７ｂ1 で連結して連動
させるように構成してもよい。胴部３１ｂ2 の先端部１
７ｂ1 には、後述する洗浄具４１を取り付けるための雌
ネジ部３９が形成されており、管継手３３を介して供給
された洗浄液を洗浄具４１に供給するようになってい
る。Inside the inner cylinder 19, a horizontal pipe 31a disposed along the cylinder axis P1, a vertical pipe 31b disposed along the cylinder axis P2, a horizontal pipe 31a and the vertical pipe 31b
And a flexible pipe 31c disposed at a portion where bending is normally performed. The flexible joint 31c interlocks and connects the horizontal pipe 31a and the vertical pipe 31b. The base end of the horizontal pipe 31a is loosely inserted into an opening 33a of a pipe joint 33 that communicates with a supply source (not shown) for supplying a cleaning liquid such as pure water.
A liquid stopping member 35 for preventing the cleaning liquid leaking from the gap between 3a and the horizontal pipe 31a from being transmitted to the tip end side of the horizontal pipe 31a is formed at a position near the opening 33a. It is preferable that a drainage unit is provided in the support 15 so as to collect the cleaning liquid leaked from the opening 33a. Vertical pipe 31b includes an upper 31b 1 of the same diameter as the horizontal pipe 31a, a larger diameter than the upper 31b 1, barrel 31 having a slightly smaller outer diameter than the inner diameter of the vertical inner cylinder 19b
It is formed in the longitudinal sectional convex shape and a b 2. In this embodiment, the vertical pipe 31b is connected to the vertical outer cylinder 1 described above.
7b and the body 31b.
And 2 a vertical outer cylinder 17b may be configured to be linked by connecting with tip 17b 1. Tip 1 of body 31b 2
The 7b 1, and supplies are formed female screw portion 39 for mounting the cleaning device 41 to be described later, the cleaning liquid supplied through the pipe joint 33 to the cleaning device 41.
【００１８】水平内筒１９ａの内周面と水平配管３１ａ
の外周面の間には、環状のベアリング３７が取り付けら
れており、水平配管３１ａを水平方向の筒軸Ｐ１周りで
回転可能に支持している。また、鉛直配管３１ｂの上部
３１ｂ1 外周面には、同様に環状のベアリング３７が取
り付けられ、鉛直配管３１ｂを鉛直方向の筒軸Ｐ２周り
で回転可能に支持している。電動モータ２７を回転駆動
（例えば、１ｒｐｍ程度の低速）すると、水平外筒１７
ａが筒軸Ｐ１周りに回転し、この回転力がフレキシブル
ジョイント１７ｃを介して鉛直外筒１７ｂに伝達し、鉛
直外筒１７ｂを筒軸Ｐ２周りに回転する。鉛直外筒１７
ｂが回転すると、鉛直外筒１７ｂと一体的に構成されて
いる鉛直配管３１ｂおよび洗浄具４１も筒軸Ｐ２周りに
回転し、この回転力がフレキシブルジョイント３１ｃを
介して水平配管３１ａに伝達し、水平配管３１ａを筒軸
Ｐ１周りに回転するようになっている。つまり、非回転
の内筒１９によって外筒１７および供給配管３１が支持
され、その外周で外筒１７が回転し、その内周で供給配
管３１が回転するようになっている。この回転の際に
は、歯車２５および駆動歯車２９の咬合部と、ベアリン
グ２３と、ベアリング３７と、鉛直配管３１ｂの胴部３
１ｂ2 の外周面における摺動部において摩損が生じてパ
ーティクルが発生するが、咬合部は基板Ｗ上から側方に
離れた支持体１５内に配設されていること、摺動部は外
筒１７により閉塞されていることから発生したパーティ
クルが基板Ｗ上に落下することを防止できる。したがっ
て、パーティクルに起因する基板Ｗの汚染を防止するこ
とができる。The inner peripheral surface of the horizontal inner cylinder 19a and the horizontal pipe 31a
An annular bearing 37 is attached between the outer peripheral surfaces of the horizontal pipe 31a and rotatably supports the horizontal pipe 31a about a horizontal cylinder axis P1. Further, on the upper 31b 1 outer peripheral surface of the vertical pipes 31b, likewise mounted annular bearing 37, rotatably supports the vertical pipe 31b in the vertical direction of the tube axis P2 around. When the electric motor 27 is driven to rotate (for example, at a low speed of about 1 rpm), the horizontal outer cylinder 17 is rotated.
a rotates around the cylinder axis P1, and this rotational force is transmitted to the vertical outer cylinder 17b via the flexible joint 17c, and the vertical outer cylinder 17b rotates about the cylinder axis P2. Vertical outer cylinder 17
When b rotates, the vertical pipe 31b and the cleaning tool 41 integrally formed with the vertical outer cylinder 17b also rotate around the cylinder axis P2, and this rotational force is transmitted to the horizontal pipe 31a via the flexible joint 31c, The horizontal pipe 31a rotates around the cylinder axis P1. That is, the outer cylinder 17 and the supply pipe 31 are supported by the non-rotating inner cylinder 19, the outer cylinder 17 rotates around its outer periphery, and the supply pipe 31 rotates around its inner periphery. At the time of this rotation, the engaging portion of the gear 25 and the drive gear 29, the bearing 23, the bearing 37, and the trunk 3 of the vertical pipe 31b
Although wear at the sliding portion of the outer peripheral surface of the 1b 2 is particles occurs occurs, it occlusal portion which is disposed within support 15 spaced laterally from the the substrate W, the sliding portion is the outer tube Particles generated due to the blockage of the particles 17 can be prevented from falling onto the substrate W. Therefore, contamination of the substrate W due to particles can be prevented.
【００１９】次に、図３の縦断面図を参照して外筒１７
および供給配管３１とともに回転する洗浄具４１につい
て説明する。洗浄具４１は、凸状の支持部４１ａと、支
持部４１ａの胴部４１ａ1 の側面に嵌め込まれた環状の
枠４１ｂと、枠４１ｂの下部内周面に形成された凹部４
１ｂ 1 と胴部４１ａ1 の外周面で挟持されて、基板Ｗ側
に向けられたシート状の洗浄部材４１ｃとから構成され
ている。支持部４１ａの上部４１ａ2 は、その外周面
に、鉛直配管３１ｂの雌ネジ部３９に螺合される雄ネジ
部４１ａ3 が形成され、その内部に、鉛直配管３１ｂに
連通する流路４１ａ4 が形成されている。胴部４１ａ1
は、その内部に、流路４１ａ4 に連通した液室４１ｄが
形成されており、その底面に、供給孔４１ｄ1 が形成さ
れている。このように構成された洗浄具４１は、雄ネジ
部４１ａ3 を鉛直配管３１ｂの雌ネジ部３９に螺合させ
て取り付けられ、外筒１７および供給配管３１ととも
に、いずれの部分とも摺動することなく筒軸Ｐ２周りに
回転する。Next, referring to a longitudinal sectional view of FIG.
And a cleaning tool 41 which rotates together with the supply pipe 31.
Will be explained. The cleaning tool 41 includes a convex support portion 41a and a support.
The trunk 41a of the holding portion 41a1Of a ring fitted into the side of
A frame 41b and a concave portion 4 formed on the lower inner peripheral surface of the frame 41b
1b 1And torso 41a1Of the substrate W side
And a sheet-like cleaning member 41c directed to
ing. Upper part 41a of support part 41aTwoIs the outer peripheral surface
And a male screw screwed into the female screw portion 39 of the vertical pipe 31b.
Part 41aThreeIs formed inside the vertical pipe 31b.
The communicating channel 41aFourAre formed. Body 41a1
Is provided therein with a flow path 41a.FourThe liquid chamber 41d communicating with
And a supply hole 41 d1Formed
Have been. The cleaning tool 41 configured as described above has a male screw
Part 41aThreeInto the female thread 39 of the vertical pipe 31b.
With the outer cylinder 17 and the supply pipe 31
Around the cylinder axis P2 without sliding with any part
Rotate.
【００２０】なお、上記の洗浄部材４１ｃには、多孔質
ゴムであるポリウレタンゴムを採用しており、その厚さ
は約１ｍｍである。The cleaning member 41c employs a polyurethane rubber, which is a porous rubber, and has a thickness of about 1 mm.
【００２１】流路４１ａ4 から流入した洗浄液は、液室
４１ｄに入り供給孔４１ｄ1 を通して洗浄部材４１ｃに
達する。洗浄部材４１ｃは、多孔質のポリウレタンゴム
で構成されているので洗浄液が浸透し、基板Ｗが位置す
る下面側に洗浄液を供給する。また、多孔質であるた
め、基板Ｗ面に付着している汚れを多数の微細な孔に取
り込んで除去することができ、基板Ｗに傷が生じること
を防止できる。さらに、ゴム系の材質であるため磨耗に
強く洗浄具４１の耐久性を高めることができ、長期間に
わたって洗浄具４１を使用できること、上記のように構
成しているので基板Ｗをスピンチャック１に支持させて
いない状態で洗浄液を供給すれば、洗浄部材４１ｃの多
数の孔に取り込んだ汚れを排出することができて清浄に
保つことが可能であるので、洗浄具４１の交換頻度が低
減できてランニングコストを抑制することができる。ま
た、ポリウレタンゴムは、洗浄液を含んでもほとんで膨
潤せず変形しにくいのでその寸法形状を一定化すること
ができること、および上述したように耐磨耗性が高いの
で交換頻度を低減できることから、交換部品である洗浄
具４１としての取り扱いを容易にすることができる。The washing liquid which has flowed from the flow passage 41a 4 reaches the cleaning member 41c through the supply holes 41d 1 enters the liquid chamber 41d. Since the cleaning member 41c is made of porous polyurethane rubber, the cleaning liquid permeates and supplies the cleaning liquid to the lower surface where the substrate W is located. Further, since it is porous, dirt adhering to the surface of the substrate W can be taken in and removed by a large number of fine holes, thereby preventing the substrate W from being damaged. Further, since the rubber-based material is used, the durability of the cleaning tool 41 can be enhanced because it is resistant to abrasion, and the cleaning tool 41 can be used for a long time. If the cleaning liquid is supplied in a state where the cleaning tool is not supported, it is possible to discharge the dirt taken in a large number of holes of the cleaning member 41c and to keep the cleaning member clean, so that the frequency of replacing the cleaning tool 41 can be reduced. Running costs can be reduced. In addition, since polyurethane rubber is hardly deformed because it hardly swells even if it contains a cleaning liquid, its dimensional shape can be kept constant. The handling as the cleaning tool 41 as a part can be facilitated.
【００２２】上述したように構成されている基板洗浄装
置では、図１中に二点鎖線で示すように、図示しない昇
降駆動手段により洗浄アーム１１を下降させ、洗浄具４
１から洗浄液を供給しつつ回転する基板Ｗの表面に、予
め設定した所定の押圧力で洗浄部材４１ｃを当接させる
ことにより洗浄処理を施す。このときの押圧力は、変形
しにくいシート状のポリウレタンゴムにより洗浄部材４
１ｃを構成しているので、所定の押圧力で確実に当接さ
せることが可能である。つまり、押圧管理を容易に行う
ことができる。また、この装置では、洗浄液を供給する
供給配管３１を洗浄アーム１１と一体的に構成している
ので、洗浄液を基板Ｗに供給するためのノズルを別体に
設けた構成に比較して構成を簡易化することができる。In the substrate cleaning apparatus constructed as described above, the cleaning arm 11 is moved down by a lifting drive means (not shown) as shown by a two-dot chain line in FIG.
The cleaning process is performed by bringing the cleaning member 41c into contact with the surface of the rotating substrate W while supplying the cleaning liquid from 1 with a predetermined pressing force. The pressing force at this time is such that the cleaning member 4 is made of a sheet-like polyurethane rubber which is hardly deformed.
1c, it is possible to reliably contact with a predetermined pressing force. That is, the pressing can be easily performed. Further, in this apparatus, since the supply pipe 31 for supplying the cleaning liquid is integrally formed with the cleaning arm 11, the configuration is compared with a configuration in which a nozzle for supplying the cleaning liquid to the substrate W is provided separately. It can be simplified.
【００２３】なお、洗浄具としては、上記のものに代え
て図４に示す構成の洗浄具５１を採用してもよい。すな
わち、洗浄具５１は、凸状の支持部５１ａと、支持部５
１ａの胴部５１ａ 1 の側面に嵌め込まれた環状の枠５１
ｂと、枠５１ｂの下部内周面に形成された凹部５１ｂ1
と胴部５１ａ1 の外周面で挟持されて、基板Ｗ側に向け
られたシート状（厚さ約１ｍｍ）の洗浄部材５１ｃと、
枠５１ｂの外周面に取り付けられた案内枠５１ｄとから
構成されている。支持部５１ａの上部５１ａ2 は、上記
洗浄具４１と同様に雄ネジ部５１ａ3 が形成され、その
内部に、流路５１ａ4 が形成されている。胴部５１ａ1
は、その内部に、流路５１ａ4 に連通した縦断面台形状
の液室５１ｅが形成され、その側面に供給孔５１ｅ1 が
形成されている。洗浄部材５１ｃとしては、上記の洗浄
部材４１ｃと同様にポリウレタンゴムを採用している。In addition, as the cleaning tool,
The cleaning tool 51 having the configuration shown in FIG. sand
That is, the cleaning tool 51 includes a convex support portion 51a and a support portion 5a.
1a trunk 51a 1Frame 51 fitted on the side of
b and a concave portion 51b formed in the lower inner peripheral surface of the frame 51b.1
And torso 51a1To the substrate W side
A cleaning member 51c in the form of a sheet (about 1 mm thick),
From the guide frame 51d attached to the outer peripheral surface of the frame 51b
It is configured. Upper part 51a of support part 51aTwoAbove
Male screw part 51a like cleaning tool 41ThreeIs formed and its
Inside, the flow path 51aFourAre formed. Body 51a1
Has a flow path 51a therein.FourTrapezoidal vertical section communicating with
Liquid chamber 51e is formed, and a supply hole 51e1But
Is formed. The cleaning member 51c includes the above-described cleaning.
Polyurethane rubber is used in the same manner as the member 41c.
【００２４】このように構成された洗浄具５１は、上記
洗浄具４１と同様にして取り付けられ、外筒１７および
供給配管３１とともに筒軸Ｐ２周りに回転する。流路５
１ａ 4 から流入した洗浄液は、液室５１ｅを経て供給孔
５１ｅ1 を通り、案内枠５１ｄにより下方に案内されて
基板Ｗに供給される。この洗浄具５１は、その洗浄部材
３１ｃがポリウレタンゴムで構成されているため、上記
洗浄具４１と同様、洗浄時に基板Ｗに傷が生じることを
防止できる。さらに、ゴム系の材質であるため磨耗に強
く洗浄具５１の耐久性を高めることができ、長期間にわ
たって洗浄具５１を使用できる。したがって、交換頻度
を低減してランニングコストを抑制することができる。The cleaning tool 51 thus configured is
Attached in the same manner as the cleaning tool 41, the outer cylinder 17 and
It rotates around the cylinder axis P2 together with the supply pipe 31. Channel 5
1a FourOf the cleaning liquid flowing from the supply port through the liquid chamber 51e.
51e1Through the guide frame 51d
It is supplied to the substrate W. The cleaning tool 51 includes a cleaning member.
Because 31c is made of polyurethane rubber,
As with the cleaning tool 41, it is assumed that the substrate W is damaged during cleaning.
Can be prevented. In addition, it is resistant to abrasion because it is made of rubber.
The durability of the cleaning tool 51 can be enhanced, and
Then, the cleaning tool 51 can be used. Therefore, the replacement frequency
And running costs can be reduced.
【００２５】なお、基板Ｗに付着した金属粒子などのゴ
ミを除去するとともに、そのゴミが再度付着するのを防
止するには、基板Ｗとゴミとを同程度同極性に帯電させ
てそれらを電気的に反発させることが条件の一つとして
挙げられる。上記のように洗浄部材４１ｃ，５１ｃに採
用しているポリウレタンゴムは、負極性に帯電しやすい
のでほとんどの金属粒子のゴミの再付着を防止すること
ができる。したがって、再付着を防止しつつゴミを除去
することができて洗浄効率を向上することができる。In addition, in order to remove dust such as metal particles attached to the substrate W and to prevent the dust from being attached again, the substrate W and the dust are charged to the same degree and the same polarity so that they are electrically charged. One of the conditions is to make it repulsive. As described above, the polyurethane rubber used for the cleaning members 41c and 51c is easily charged to a negative polarity, so that it is possible to prevent most metal particles from reattaching dust. Therefore, dust can be removed while preventing re-adhesion, and the cleaning efficiency can be improved.
【００２６】なお、上記実施例では、洗浄部材４１ｃ，
５１ｃとしてポリウレタンゴムを採用しているが、多孔
質ゴム系の部材であればポリウレタンゴム以外のもので
あってもよい。例えば、ＮＢＲ（ニトリルブタジエンゴ
ム），ＥＰＤＭ（エチレンプロピレンゴム）などが採用
可能である。In the above embodiment, the cleaning members 41c,
Although polyurethane rubber is employed as 51c, any material other than polyurethane rubber may be used as long as it is a porous rubber-based member. For example, NBR (nitrile butadiene rubber), EPDM (ethylene propylene rubber) and the like can be adopted.
【００２７】また、上記実施例では、洗浄部材４１ｃ，
５１ｃの厚さを約１ｍｍとしたが、その厚さは０．５〜
２．０ｍｍの範囲で設定することが好ましい。この範囲
が好ましいのは、厚さが０．５ｍｍ未満であると弾性が
低くなりすぎて基板Ｗに傷を付ける恐れがあり、２．０
ｍｍを越えると膨潤の影響が少なからず生じて押圧管理
に支障を来す恐れがあるからである。In the above embodiment, the cleaning members 41c,
Although the thickness of 51c was set to about 1 mm, the thickness was 0.5 to
It is preferable to set within the range of 2.0 mm. This range is preferable because when the thickness is less than 0.5 mm, the elasticity becomes too low, and the substrate W may be damaged.
When the thickness exceeds mm, the influence of swelling is not so small, and there is a possibility that the pressing control may be hindered.
【００２８】なお、上記の実施例装置では、洗浄液を供
給する供給配管３１と、洗浄具４１，５１を回転させる
外筒１７とを一体的に構成したが、洗浄液を供給するノ
ズルを別体で配備し、洗浄具４１，５１の洗浄部材４１
ｃ，５１ｃ付近に洗浄液を供給するように構成してもよ
い。In the apparatus of the above embodiment, the supply pipe 31 for supplying the cleaning liquid and the outer cylinder 17 for rotating the cleaning tools 41 and 51 are integrally formed, but the nozzle for supplying the cleaning liquid is provided separately. The cleaning members 41 of the cleaning tools 41 and 51 are deployed.
The cleaning liquid may be supplied to the vicinity of c and 51c.
【００２９】[0029]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、洗浄部材を多孔質ゴムで構成
したことにより、ＰＶＡやナイロン、モヘアなどの従来
の材質に比較して極めて変形しにくく、洗浄液を含んで
もほとんど膨潤しない洗浄部材とすることができるの
で、予め設定した押圧で洗浄部材を基板面に当接させる
ことができる。したがって、押圧を正確に制御すること
ができて押圧管理を容易に行うことができる。また、変
形しにくく洗浄部品の寸法形状を一定化することがで
き、従来の材質に比較して耐磨耗性が良いので洗浄具の
交換頻度を低減することができる。したがって、洗浄部
材の取り扱いを容易なものとすることができる。As is clear from the above description, according to the first aspect of the present invention, the cleaning member is made of porous rubber, so that it can be compared with conventional materials such as PVA, nylon and mohair. Therefore, the cleaning member can be made to be extremely hardly deformed and hardly swell even if it contains a cleaning liquid. Therefore, the cleaning member can be brought into contact with the substrate surface by a preset pressure. Therefore, the pressing can be accurately controlled, and the pressing can be easily managed. Further, the size and shape of the cleaning parts are hardly deformed, and the cleaning parts can be fixed and the wear resistance is better than that of the conventional material, so that the frequency of replacing the cleaning tools can be reduced. Therefore, handling of the cleaning member can be facilitated.
【００３０】また、請求項２に記載の発明によれば、電
気的に負に帯電しやすいポリウレタンを洗浄部材として
用いることにより、ほとんどの金属粒子のゴミの再付着
を防止することができる。したがって、再付着を防止し
つつゴミを除去することができ、洗浄効率を向上するこ
とができる。According to the second aspect of the present invention, by using polyurethane which is easily electrically negatively charged as a cleaning member, it is possible to prevent most metal particles from reattaching dust. Therefore, dust can be removed while preventing re-adhesion, and the cleaning efficiency can be improved.
【００３１】また、請求項３に記載の発明によれば、洗
浄部材をシート状に形成することにより、変形しにくく
することができて予め設定した押圧で洗浄部材を基板面
に当接させることができるとともに、適度の弾性を有す
るので基板面を傷つけることを防止できる。したがっ
て、より洗浄部材として取り扱いが容易なものとするこ
とができる。According to the third aspect of the present invention, by forming the cleaning member in a sheet shape, it is possible to make the cleaning member difficult to deform, and the cleaning member is brought into contact with the substrate surface by a preset pressure. In addition, since the substrate has appropriate elasticity, it is possible to prevent the substrate surface from being damaged. Therefore, it can be made easier to handle as a cleaning member.
【図１】実施例に係る基板洗浄装置の概略構成を示す図
である。FIG. 1 is a view showing a schematic configuration of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment.
【図２】洗浄アームの縦断面図である。FIG. 2 is a vertical sectional view of a cleaning arm.
【図３】洗浄具の縦断面図である。FIG. 3 is a longitudinal sectional view of the cleaning tool.
【図４】洗浄具の変形例を示す縦断面図である。FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing a modification of the cleaning tool.
Ｗ … 基板 １１ … 洗浄アーム １７ … 外筒 １７ｃ … フレキシブルジョイント １９ … 内筒 ３１ … 供給配管 ３１ｃ … フレキシブルジョイント ２５ … 歯車 ２７ … 電動モータ ２９ … 駆動歯車 ４１，５１ … 洗浄具 ４１ｃ，５１ｃ … 洗浄部材 W: substrate 11: cleaning arm 17: outer cylinder 17c: flexible joint 19: inner cylinder 31: supply pipe 31c: flexible joint 25: gear 27: electric motor 29: drive gear 41, 51: cleaning tool 41c, 51c: cleaning member
Claims (3)
基板を洗浄する基板洗浄装置において、 前記洗浄具の前記基板側に向けられた洗浄部材を多孔質
ゴムで構成したことを特徴とする基板洗浄装置。1. A substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate with a cleaning tool while supplying a cleaning liquid to the substrate, wherein a cleaning member directed to the substrate side of the cleaning tool is made of porous rubber. Cleaning equipment.
て、前記多孔質ゴムをポリウレタンゴムとしたことを特
徴とする基板洗浄装置。2. The substrate cleaning apparatus according to claim 1, wherein said porous rubber is polyurethane rubber.
浄装置において、前記多孔質ゴムまたは前記ポリウレタ
ンゴムをシート状に形成したことを特徴とする基板洗浄
装置。3. The substrate cleaning apparatus according to claim 1, wherein the porous rubber or the polyurethane rubber is formed in a sheet shape.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9002476A JPH10199844A (en) | 1997-01-10 | 1997-01-10 | Substrate cleaning device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9002476A JPH10199844A (en) | 1997-01-10 | 1997-01-10 | Substrate cleaning device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10199844A true JPH10199844A (en) | 1998-07-31 |
Family
ID=11530398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9002476A Pending JPH10199844A (en) | 1997-01-10 | 1997-01-10 | Substrate cleaning device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10199844A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140073428A (en) * | 2012-12-06 | 2014-06-16 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method |
| JP2017017138A (en) * | 2015-06-30 | 2017-01-19 | 東京エレクトロン株式会社 | Nozzle, processing liquid supply device, liquid processing device, and processing liquid supply method |
-
1997
- 1997-01-10 JP JP9002476A patent/JPH10199844A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140073428A (en) * | 2012-12-06 | 2014-06-16 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method |
| JP2014132639A (en) * | 2012-12-06 | 2014-07-17 | Ebara Corp | Substrate cleaning device and substrate cleaning method |
| JP2017017138A (en) * | 2015-06-30 | 2017-01-19 | 東京エレクトロン株式会社 | Nozzle, processing liquid supply device, liquid processing device, and processing liquid supply method |
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