JPH10195658A - Vaporizing device for liquid raw material and its operation - Google Patents
Vaporizing device for liquid raw material and its operationInfo
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- JPH10195658A JPH10195658A JP2987397A JP2987397A JPH10195658A JP H10195658 A JPH10195658 A JP H10195658A JP 2987397 A JP2987397 A JP 2987397A JP 2987397 A JP2987397 A JP 2987397A JP H10195658 A JPH10195658 A JP H10195658A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液体原料の気化装
置に関し、特に化学気相成長法に用いる液体原料を良好
かつ連続的に気化させ、薄膜堆積装置の処理室に導入す
るための気化装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for vaporizing a liquid source, and more particularly to a vaporizer for satisfactorily and continuously vaporizing a liquid source used in a chemical vapor deposition method and introducing the same into a processing chamber of a thin film deposition apparatus. About.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体を用いた集積回路製造工程におい
て、原料を気化して処理室の被処理体表面上へ輸送し、
化学反応を利用して所定の薄膜を堆積させる化学気相成
長法（Chemical Vapour Deposition：以下ＣＶＤ法）が
広く用いられている。2. Description of the Related Art In an integrated circuit manufacturing process using a semiconductor, a raw material is vaporized and transported onto a surface of an object to be processed in a processing chamber.
2. Description of the Related Art Chemical vapor deposition (hereinafter, referred to as CVD) in which a predetermined thin film is deposited using a chemical reaction is widely used.
【０００３】ＣＶＤ法に用いられる原料の中には通常液
体状態で原料容器の中に収納され、使用時に適宜気化さ
れ、処理室に導入されて利用されるものがある。例え
ば、有機シリコン系のＴＥＯＳ（tetraethoxy ortho si
licate, Ｓi(ＯＣ2Ｈ5)4) がある。図４はＴＥＯＳの気
化方法の例を示す概要図である。これは、図示するよう
に、液体原料２を蒸発容器４１に入れ、一定の温度に保
ったまま液面上又は液中にキャリアガス２０を流しなが
ら、その温度での蒸気圧に応じた一定量の液体原料２を
蒸発させて処理室１０に輸送する。このとき蒸発温度及
びキャリアガスの流量によって原料ガスの供給量が定め
られる。Some of the raw materials used in the CVD method are usually stored in a raw material container in a liquid state, are appropriately vaporized at the time of use, and are introduced into a processing chamber and used. For example, organic silicon-based TEOS (tetraethoxy ortho si
license, Si (OC 2 H 5 ) 4 ). FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of a TEOS vaporization method. As shown in the drawing, the liquid raw material 2 is placed in an evaporation container 41, and a constant amount corresponding to the vapor pressure at that temperature is supplied while the carrier gas 20 is flowed on the liquid surface or in the liquid while maintaining the constant temperature. The liquid raw material 2 is evaporated and transported to the processing chamber 10. At this time, the supply amount of the source gas is determined by the evaporation temperature and the flow rate of the carrier gas.
【０００４】また、原料として有機溶剤に有機金属化合
物を溶解した液体原料がある。この種の液体原料は、沸
点の低い溶剤と沸点の高い有機金属化合物とからなるた
め、前述の図４に示される気化方式は用いられない。こ
の原料の気化方式は、液体原料を収納している原料容器
から液体原料をポンプで原料容器とは個別に設けられた
気化器に輸送し、そこで液体原料を加熱して気化し、そ
の気化原料を処理室に輸送する方法が用いられている。[0004] As a raw material, there is a liquid raw material in which an organic metal compound is dissolved in an organic solvent. Since this kind of liquid raw material is composed of a solvent having a low boiling point and an organic metal compound having a high boiling point, the above-described vaporization method shown in FIG. 4 is not used. In this method of vaporizing a raw material, a liquid raw material is transported from a raw material container containing a liquid raw material by a pump to a vaporizer provided separately from the raw material container, where the liquid raw material is heated and vaporized. Is transported to a processing chamber.
【０００５】図５は、この液体原料の従来の気化方法例
を示す概要図である。図５において、原料容器１に収納
されている液体原料２は原料ポンプ３により原料輸送管
４へ送られる。流量制御器５によって秤量および流量制
御された後ノズル４３に送られる。液体原料２はノズル
４３で霧化され、ヒータ９で加熱される高温熱交換器８
で気化され、処理室１０の被処理体１１表面上へ送られ
る。また、ノズルを用いずに超音波振動子を用いて液体
原料を霧化させる方法もある。更に、霧化された原料を
高温のキャリアガスに同伴させることも広く一般的に用
いられている。図６は、他の従来の気化方法例である。
この方法では液体原料は加熱された焼結体を通過するこ
とにより気化される。FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of a conventional method for vaporizing this liquid raw material. In FIG. 5, a liquid raw material 2 stored in a raw material container 1 is sent to a raw material transport pipe 4 by a raw material pump 3. After being weighed and controlled by the flow controller 5, it is sent to the nozzle 43. The liquid raw material 2 is atomized by a nozzle 43 and is heated by a heater 9 by a high-temperature heat exchanger 8.
And is sent onto the surface of the processing object 11 in the processing chamber 10. There is also a method of atomizing a liquid raw material using an ultrasonic transducer without using a nozzle. Further, entraining the atomized raw material with a high-temperature carrier gas is also widely and generally used. FIG. 6 shows another example of the conventional vaporization method.
In this method, the liquid raw material is vaporized by passing through a heated sintered body.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の各々の気化装置は、不純物を含まない気化原料を
連続的に処理室の被処理体表面上に供給するには不十分
であった。例えば、図４に示される従来の気化方法にお
いて、蒸発容器の中の液体原料は恒温槽により加熱さ
れ、キャリアガスにより気化原料が搬送されていた。こ
の方式では、沸点の異なる混合物の原料を取り扱うこと
はできない。However, each of the above-mentioned conventional vaporizers is insufficient to continuously supply the vaporized raw material containing no impurities onto the surface of the workpiece in the processing chamber. For example, in the conventional vaporization method shown in FIG. 4, the liquid raw material in the evaporation container is heated by a constant temperature bath, and the vaporized raw material is transported by the carrier gas. In this method, it is not possible to handle raw materials of a mixture having different boiling points.
【０００７】また、図５に示される従来の気化方法にお
いては、液体原料をノズルで霧化し、ヒータの加熱によ
り霧化原料を高温熱交換器内で気化する。しかし、液体
原料が有機溶剤に有機金属化合物を溶解した液体原料の
場合、有機化合物又はその変質物がノズル近傍および高
温熱交換器内に析出し、純粋の気化原料を安定的かつ連
続的に処理室に供給することはできなかった。In the conventional vaporization method shown in FIG. 5, a liquid raw material is atomized by a nozzle, and the atomized raw material is vaporized in a high-temperature heat exchanger by heating a heater. However, when the liquid raw material is a liquid raw material in which an organometallic compound is dissolved in an organic solvent, the organic compound or its alteration precipitates in the vicinity of the nozzle and in the high-temperature heat exchanger, and the pure vaporized raw material is stably and continuously processed. Could not be supplied to the room.
【０００８】図６に示される従来の気化方法において
も、液体原料が有機溶剤に有機金属化合物を溶解した液
体原料の場合、固形の有機金属化合物又はその変質物が
焼結体又はその下流に析出し、その固形析出物が気化原
料に同伴されて処理室の被処理体表面上に付着する不具
合が生じた。In the conventional vaporization method shown in FIG. 6, even when the liquid raw material is a liquid raw material in which an organic metal compound is dissolved in an organic solvent, a solid organic metal compound or a modified product thereof is deposited on a sintered body or downstream thereof. However, there was a problem that the solid precipitate was entrained by the vaporized raw material and adhered to the surface of the workpiece in the processing chamber.
【０００９】本発明は上述の事情に鑑みなされたもの
で、上述の問題点を除去し、種々の液体原料に対し、安
定した気化原料を連続的に処理室に供給する気化装置を
提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to eliminate the above-mentioned problems and to provide a vaporizer for continuously supplying a stable vaporized raw material to a processing chamber for various liquid raw materials. With the goal.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の気化装置は、処
理室にて被処理体に所定の処理を施すために液体原料を
気化させて、前記処理室に導入するための気化装置にお
いて、液体原料を収納するための原料容器、前記液体原
料を輸送するための原料供給手段および原料輸送路を有
し、前記原料供給手段と前記処理室との間の原料輸送路
に前記液体原料を気化させるための気化部と、前記気化
部で気化された気化原料中に存在する固形粒子を捕らえ
るためのフィルタを設けている。ここで、前記フィルタ
は温度制御されていて、その温度が可変であることが好
ましい。According to the present invention, there is provided a vaporizer for vaporizing a liquid raw material in order to perform a predetermined process on an object to be processed in a processing chamber and introducing the liquid raw material into the processing chamber. A raw material container for storing the liquid raw material, a raw material supply means for transporting the liquid raw material, and a raw material transport path, wherein the liquid raw material is vaporized in a raw material transport path between the raw material supply means and the processing chamber And a filter for trapping solid particles present in the vaporized raw material vaporized in the vaporizing section. Here, it is preferable that the temperature of the filter is controlled and the temperature is variable.
【００１１】本発明の気化装置を運転する方法において
は、前記原料輸送路に前記液体原料を輸送してその気化
を行う気化工程と、前記液体原料の輸送を停止して前記
フィルタ周囲の圧力を下げることにより、前記フィルタ
に捕らえられた固形粒子を気化させ除去する洗浄工程を
含んでいる。[0011] In the method of operating the vaporizer of the present invention, a vaporizing step of transporting the liquid raw material to the raw material transport path and vaporizing the liquid raw material; The cleaning step includes a step of evaporating and removing solid particles trapped by the filter by lowering the filter.
【００１２】また、本発明の気化装置を運転する方法に
おいて、前記フィルタが温度制御されていてその温度が
可変であり、前記原料輸送路に前記液体原料を輸送して
その気化を行う気化工程と、前記液体原料の輸送を停止
して前記フィルタの温度を変化させることにより、前記
フィルタに捕らえられた固形粒子を気化させ除去する洗
浄工程を含んでいる。In the method of operating a vaporizer according to the present invention, a temperature of the filter is controlled and a temperature thereof is variable, and a vaporizing step of transporting the liquid raw material to the raw material transport path to vaporize the liquid raw material. A cleaning step of stopping the transportation of the liquid raw material and changing the temperature of the filter to vaporize and remove the solid particles captured by the filter.
【００１３】また、本発明の気化装置を運転する方法の
洗浄工程において、前記フィルタに捕らえられた固形粒
子を気化させた除去ガスは、前記処理室を経由せずに外
部に排気されることが好ましい。In the cleaning step of the method for operating the vaporizer according to the present invention, the removal gas obtained by vaporizing the solid particles captured by the filter may be exhausted to the outside without passing through the processing chamber. preferable.
【００１４】この発明における気化方法は、気化装置の
気化部の下流にフィルタを設け、原料の固形析出物およ
び原料の変質等固形析出物が気化原料に同伴されるのを
防ぎ、不純物を含まない気化原料を連続的に処理室に供
給することができる。According to the vaporization method of the present invention, a filter is provided downstream of the vaporization section of the vaporizer to prevent solid precipitates such as raw materials and solid precipitates such as alteration of the raw materials from being entrained in the vaporized raw materials and contain no impurities. The vaporized raw material can be continuously supplied to the processing chamber.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。なお、本実施の形態は一例であ
り、本願発明はこの実施の形態に限定されるものではな
い。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that this embodiment is an example, and the present invention is not limited to this embodiment.
【００１６】本発明の装置は、例えばチタン、バリウ
ム、ストロンチウム、鉛、ジルコニウム等の有機金属化
合物を有機溶剤に溶解させた液体原料を取り扱うときに
効果が著しい装置である。The apparatus of the present invention is an apparatus having a remarkable effect when handling a liquid raw material in which an organic metal compound such as titanium, barium, strontium, lead, zirconium or the like is dissolved in an organic solvent.
【００１７】図１は本発明の気化装置の概要図を示す図
である。図１において、１は液体原料２を収容する原料
容器であり、これは原料輸送管４を介して原料ポンプ
３、流量コントローラ５、及び気化部３５に接続されて
いる。液体原料２は流量制御器５で精密に流量を秤量お
よび制御されると同時に流量脈動変動が平坦化され、気
化部３５に送られる。FIG. 1 is a diagram showing a schematic view of a vaporizer according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a raw material container that stores a liquid raw material 2, which is connected to a raw material pump 3, a flow controller 5, and a vaporization unit 35 via a raw material transport pipe 4. The flow rate of the liquid raw material 2 is precisely weighed and controlled by the flow controller 5, and at the same time, the flow pulsation fluctuation is flattened and sent to the vaporization section 35.
【００１８】気化部３５にはヒータ３７が配置され、原
料輸送管４の内部の液体原料を気化温度以上に加熱して
気化する。原料輸送管は気化器３５の下流側においてフ
ィルタ３６に接続されている。このフィルタ３６は、こ
の例では焼結材料から構成され、その周囲にはその温度
を制御するヒータ３８が設けられている。フィルタ３６
の下流側には処理室（この例では薄膜気相成長装置のチ
ャンバ）１０が配置され、この間の配管には配管ヒータ
３９が設けられている。A heater 37 is disposed in the vaporizing section 35 and heats the liquid raw material in the raw material transport pipe 4 to a temperature higher than the vaporizing temperature to vaporize the liquid raw material. The raw material transport pipe is connected to a filter 36 on the downstream side of the vaporizer 35. The filter 36 is made of a sintered material in this example, and a heater 38 for controlling the temperature is provided around the filter 36. Filter 36
A processing chamber (in this example, a chamber of a thin film vapor phase growth apparatus) 10 is disposed on the downstream side, and a piping heater 39 is provided in a piping therebetween.
【００１９】このように構成された気化装置による気化
工程を説明する。液体原料２は流量制御器５で精密に流
量を秤量および制御されると同時に流量脈動変動が平坦
化され、気化部３５に送られる。液体原料２は気化部３
５で気化され、この気化原料は配管ヒータ３９等により
所定温度に保たれながら、処理室１０の被処理体１１表
面上に導かれる。ここで、気化部３５およびその出口近
傍で発生した原料の固形析出物は気化部３５の下流の焼
結フィルタ３６により捕らえられる。The vaporization process performed by the vaporizer configured as described above will be described. The flow rate of the liquid raw material 2 is precisely weighed and controlled by the flow controller 5, and at the same time, the flow pulsation fluctuation is flattened and sent to the vaporization section 35. Liquid raw material 2 is vaporized part 3
The vaporized raw material is guided to the surface of the processing target 11 in the processing chamber 10 while being kept at a predetermined temperature by the pipe heater 39 and the like. Here, the solid precipitate of the raw material generated near the vaporizing section 35 and the outlet thereof is caught by the sintering filter 36 downstream of the vaporizing section 35.
【００２０】なお、本例では、固形析出物を捕らえるフ
ィルタとして焼結材を用いているが、これに限ることは
ない。また、本例では、原料および原料容器が一種類の
場合を取り扱っているが、複数の原料容器から複数の原
料を導いて混合溶液を気化部で気化する場合も同様であ
る。In this embodiment, a sintered material is used as a filter for capturing solid precipitates, but the filter is not limited to this. Further, in this example, the case where one kind of the raw material and the raw material container is used is handled. However, the same applies to a case where a plurality of raw materials are guided from a plurality of raw material containers and the mixed solution is vaporized in the vaporizing section.
【００２１】図２は、本発明の気化装置の他の概要を示
す図である。本装置は図１に示す気化装置と略同様であ
るが、気化部３５に液体原料２を霧化するためのノズル
４３がある。液体原料が霧化された後、気化部ヒータ３
７からの熱で霧化原料が気化される。このような気化方
式でも原料の固形析出物が発生するので、固形析出物を
捕らえる焼結フィルタ３６を設けている。この例におい
ても、気化原料中の固形物がフィルタによりトラップさ
れるので、次工程に粒子が混入することがない。FIG. 2 is a diagram showing another outline of the vaporizer of the present invention. This apparatus is substantially the same as the vaporizing apparatus shown in FIG. 1, except that the vaporizing section 35 has a nozzle 43 for atomizing the liquid raw material 2. After the liquid raw material is atomized, the vaporizing section heater 3
The heat from 7 vaporizes the atomized raw material. Since a solid precipitate as a raw material is generated even in such a vaporization method, a sintered filter 36 for capturing the solid precipitate is provided. Also in this example, the solid matter in the vaporized raw material is trapped by the filter, so that no particles are mixed in the next step.
【００２２】図３は、図１の実施の形態に、さらにフィ
ルタ３６の洗浄を行なう機構を組み込んだ例である。す
なわち、原料輸送管４の、気化室３５の入り口にはブロ
ーガスシリンダ３１からの配管がブローガス仕切弁２８
を介して接続されており、また、処理室１０の上流側と
下流側を結ぶバイパス配管である反応ガス輸送管４６が
設けられ、これらの流通を切り替える仕切弁４７，４８
が設けられている。FIG. 3 shows an example in which a mechanism for cleaning the filter 36 is further incorporated in the embodiment of FIG. That is, a pipe from the blow gas cylinder 31 is provided at the inlet of the vaporization chamber 35 of the raw material transport pipe 4 with the blow gas gate valve 28.
A reaction gas transport pipe 46 is provided as a bypass pipe connecting the upstream side and the downstream side of the processing chamber 10, and gate valves 47 and 48 for switching these flow paths are provided.
Is provided.
【００２３】このように構成された気化装置は、気化工
程とフィルタ洗浄工程に切替えて運転することができ
る。気化工程は図１の場合と同様であるので、フィルタ
３６の洗浄工程を説明する。これは、液体原料２の輸送
を停止して焼結焼フィルタに捕らえられた固形粒子を気
化させ除去する工程である。The vaporizer configured as described above can be operated by switching between the vaporization step and the filter cleaning step. Since the vaporization step is the same as that in FIG. 1, the step of cleaning the filter 36 will be described. This is a step of stopping the transportation of the liquid raw material 2 and vaporizing and removing the solid particles captured by the sintering filter.
【００２４】この洗浄工程は、以下のように行われる。
すなわち、原料仕切弁２６を閉じ、フィルタヒータ３８
で焼結フィルタ３６の温度を気化温度以上にする。そし
て、ブローガス仕切弁２８を開け、加熱されたブローガ
スを焼結フィルタ３６に流し、また、除去ガス仕切弁４
８を開け、処理室１０をバイパスして排気装置に直結す
る。This washing step is performed as follows.
That is, the raw material gate valve 26 is closed, and the filter heater 38 is closed.
To make the temperature of the sintered filter 36 equal to or higher than the vaporization temperature. Then, the blow gas gate valve 28 is opened, and the heated blow gas is passed through the sintering filter 36.
8 is opened to bypass the processing chamber 10 and directly connect to the exhaust device.
【００２５】これにより、焼結フィルタ中の固形物は気
化し、ブローガスとともに処理室１０をバイパスして真
空ポンプに吸引される。このように処理室をバイパスす
ることにより、除去ガスで処理室１０を汚染することを
回避することができ、また、焼結フィルタ３６の周囲の
圧力がさらに下がるので、効果的な除去を行うことがで
きる。As a result, the solid matter in the sintered filter is vaporized, and is sucked by the vacuum pump together with the blow gas, bypassing the processing chamber 10. By bypassing the processing chamber in this way, it is possible to avoid contaminating the processing chamber 10 with the removal gas, and to further reduce the pressure around the sintering filter 36, thereby performing effective removal. Can be.
【００２６】本例では洗浄工程にブローガスを用い、洗
浄液を流さない場合について説明しているが、洗浄液又
は溶液の溶剤を焼結フィルタ３６に流してもよいことは
もちろんである。In this embodiment, a case is described in which a blow gas is used in the cleaning step and the cleaning liquid is not supplied. However, it is a matter of course that the solvent of the cleaning liquid or the solution may be supplied to the sintered filter 36.
【００２７】また、本例では、気化工程において、気化
部３５に高温に加熱されたキャリアガスを導入していな
いが、気化部の上流又は下流にキャリアガスを導入して
もよく、その場合は、キャリアガスをブローガスとして
用いることができる。In this embodiment, the carrier gas heated to a high temperature is not introduced into the vaporizing section 35 in the vaporizing step. However, the carrier gas may be introduced upstream or downstream of the vaporizing section. Alternatively, a carrier gas can be used as a blow gas.
【００２８】[0028]
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、液体
原料を気化させるための気化部の下流に気化原料中に存
在する固形粒子を捕らえるフィルタを設けることによ
り、不純物を含まない気化原料を処理室の被処理体表面
上に供給することができる。As described above, according to the present invention, by providing a filter for capturing solid particles present in the vaporized material downstream of the vaporizing section for vaporizing the liquid material, the vaporized material free from impurities is provided. Can be supplied onto the surface of the object to be processed in the processing chamber.
【００２９】また、フィルタ温度を制御し、その設定温
度を可変にすることにより、それぞれの運転工程又は運
転状況に対応することができる。Further, by controlling the filter temperature and making the set temperature variable, it is possible to cope with each operation step or operation state.
【００３０】また、本発明の運転方法により、原料を気
化する気化工程と、液体原料の輸送を停止してフィルタ
周辺の圧力を下げることにより、フィルタに捕らえられ
た固形粒子を気化させ除去する洗浄工程とを含むことに
より、効率的な運転を維持管理することができる。Further, according to the operation method of the present invention, a vaporizing step of vaporizing the raw material, and a cleaning step of stopping the transportation of the liquid raw material and lowering the pressure around the filter to vaporize and remove solid particles captured by the filter. By including the steps, efficient operation can be maintained and managed.
【００３１】また、洗浄工程において、フィルタ温度を
変化させることにより、効率的な除去運転を行うことが
できる。Further, in the cleaning step, an efficient removal operation can be performed by changing the filter temperature.
【００３２】また、洗浄工程において、フィルタに捕ら
えられた固形粒子を気化させた除去ガスを処理室を経由
させずに外部に排気することにより、処理室の汚染を除
くことができる。Further, in the cleaning step, the contamination of the processing chamber can be removed by exhausting the removal gas, which is obtained by evaporating the solid particles captured by the filter, without passing through the processing chamber.
【図１】本発明に基づく気化装置の概要図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a vaporizer according to the present invention.
【図２】本発明に基づく気化装置の他の実施の形態の概
要図である。FIG. 2 is a schematic view of another embodiment of the vaporizer according to the present invention.
【図３】本発明に基づく気化装置のさらに他の実施の形
態の概要図である。FIG. 3 is a schematic view of still another embodiment of the vaporizer according to the present invention.
【図４】従来の気化装置の概要図である。FIG. 4 is a schematic view of a conventional vaporizer.
【図５】従来の気化装置の概要図である。FIG. 5 is a schematic diagram of a conventional vaporizer.
【図６】従来の気化装置の概要図である。FIG. 6 is a schematic diagram of a conventional vaporizer.
１ 原料容器 ２ 液体原料 ３ 原料ポンプ ４ 原料輸送管 ５ 流量制御器 ９ ヒータ １０ 処理室 １１ 被処理体 １２ 真空ポンプ １７ 原料流れ １８ 反応ガス流れ １９ 排気ガス流れ ２１ 仕切弁 ２６ 原料仕切弁 ２８ ブローガス仕切弁 ３１ ブローガスシリンダ ３３ ブローガス流れ ３４ 除去ガス流れ ３５ 気化部 ３６ 焼結フィルタ ３７ 気化部フィルタ ３８ フィルタヒータ ３９ 配管ヒータ ４０ 反応ガス輸送管 ４１ 蒸発容器 ４２ 恒温槽 ４３ ノズル ４４ 焼結体 ４５ 混合ガス ４６ 除去ガス輸送管 ４７ 気化原料仕切弁 ４８ 除去ガス仕切弁 REFERENCE SIGNS LIST 1 raw material container 2 liquid raw material 3 raw material pump 4 raw material transport pipe 5 flow controller 9 heater 10 processing chamber 11 workpiece 12 vacuum pump 17 raw material flow 18 reaction gas flow 19 exhaust gas flow 21 gate valve 26 raw material gate valve 28 blow gas partition Valve 31 Blow gas cylinder 33 Blow gas flow 34 Removal gas flow 35 Vaporizer 36 Sintering filter 37 Vaporizer filter 38 Filter heater 39 Pipe heater 40 Reaction gas transport pipe 41 Evaporation container 42 Constant temperature bath 43 Nozzle 44 Sintered body 45 Mixed gas 46 Removal gas transport pipe 47 Vaporized raw material gate valve 48 Removal gas gate valve
フロントページの続き (72)発明者 阿部 祐士 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内Continued on the front page (72) Inventor Yuji Abe 11-1 Haneda Asahimachi, Ota-ku, Tokyo Inside Ebara Corporation
Claims (5)
ために液体原料を気化させて前記処理室に導入するため
の気化装置において、 液体原料を収納するための原料容器、前記液体原料を輸
送するための原料供給手段および原料輸送路を有し、前
記原料供給手段と前記処理室との間の原料輸送路に、前
記液体原料を気化させるための気化部と前記気化部で気
化された気化原料中に存在する固形粒子を捕らえるため
のフィルタを設けたことを特徴とする気化装置。1. A vaporizer for vaporizing a liquid material and introducing the liquid material into the processing chamber in order to perform a predetermined process on an object to be processed in the processing chamber, wherein the raw material container contains the liquid material, A vapor supply section for vaporizing the liquid raw material and a vaporizing section for vaporizing the liquid raw material in a raw material transport path between the raw material supply section and the processing chamber; A vaporizer comprising a filter for capturing solid particles present in the vaporized raw material.
あることを特徴とする気化装置。2. The vaporizer according to claim 1, wherein the temperature of the filter is controlled, and the temperature of the filter is variable.
転方法において、 前記原料輸送路に前記液体原料を輸送してその気化を行
う気化工程と、前記液体原料の輸送を停止して前記フィ
ルタ周囲の圧力を下げることにより、前記フィルタに捕
らえられた固形粒子を気化させ除去する洗浄工程を含む
ことを特徴とする気化装置の運転方法。3. An operation method for operating the vaporizer according to claim 1, wherein the vaporizing step includes transporting the liquid raw material to the raw material transport path to vaporize the liquid raw material, and stopping the transportation of the liquid raw material. A method for operating a vaporizer, comprising a cleaning step of reducing the pressure around a filter to vaporize and remove solid particles captured by the filter.
転方法において、 前記原料輸送路に前記液体原料を輸送してその気化を行
う気化工程と、前記液体原料の輸送を停止して前記フィ
ルタの温度を変化させることにより、前記フィルタに捕
らえられた固形粒子を気化させ除去する洗浄工程を含む
ことを特徴とする気化装置の運転方法。4. The operation method for operating the vaporizer according to claim 2, wherein the vaporizing step includes transporting the liquid raw material to the raw material transport path to vaporize the liquid raw material, and stopping the transportation of the liquid raw material. A method for operating a vaporizer, comprising: a cleaning step of vaporizing and removing solid particles captured by the filter by changing a temperature of the filter.
方法において、 前記洗浄工程では前記フィルタに捕らえられた固形粒子
を気化させた除去ガスを、前記処理室を経由せずに外部
に排気することを特徴とする気化装置の運転方法。5. The operating method of the vaporizer according to claim 3 or 4, wherein in the cleaning step, the removal gas obtained by vaporizing the solid particles captured by the filter is sent to the outside without passing through the processing chamber. A method for operating a vaporizer, comprising exhausting gas.
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|---|---|---|---|
| JP02987397A JP3333418B2 (en) | 1997-01-08 | 1997-01-08 | Liquid material vaporizer and operation method thereof |
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| JP (1) | JP3333418B2 (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2008263244A (en) * | 2003-05-12 | 2008-10-30 | Tokyo Electron Ltd | Raw material vaporizer, and reaction processing apparatus |
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| US8168001B2 (en) * | 2002-04-19 | 2012-05-01 | Ulvac, Inc. | Film-forming apparatus and film-forming method |
| KR20150012502A (en) * | 2013-07-25 | 2015-02-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | Evaporating device |
-
1997
- 1997-01-08 JP JP02987397A patent/JP3333418B2/en not_active Expired - Fee Related
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