JPH10193162A - Method for removing contaminated material - Google Patents

Method for removing contaminated material

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JPH10193162A
JPH10193162A JP9012029A JP1202997A JPH10193162A JP H10193162 A JPH10193162 A JP H10193162A JP 9012029 A JP9012029 A JP 9012029A JP 1202997 A JP1202997 A JP 1202997A JP H10193162 A JPH10193162 A JP H10193162A
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JP
Japan
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water
energy
liquid
substrate
surfactant
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JP9012029A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Koshikawa
浩志 越川
Haruhiko Terai
晴彦 寺井
Masafumi Takimoto
雅文 瀧本
Junji Tatsumi
純二 巽
Takeshi Ikegame
健 池亀
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perfectly and surely remove a contaminated material by applying an energy transdusing medium on the contaminated material (by-product) stuck to a base material having water repellency or a base material subjected to water repellent treatment and irradiating it with a laser beam. SOLUTION: In a base material 4 formed with a water repellent layer 5, a liquid 7, which contains a surface active agent as an energy transfusing medium, is coated on the surface stuck with a contaminated material 6 (by-product), a liquid 7 containing a surface active agent is irradiated with a laser beam, which is emitted from a YAG laser 1 through a SHG 2/ filter 3 and has a wave length having selective absorbability to be absorbed in the liquid 7, the energy transdusing medium is instantly evaporated or transdused to a kinetic energy, thus, the contaminated material is removed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂等にレーザ光
を照射して加工を行なうアブレーションや成膜、あるい
はその他の加工によって樹脂等の表面に付着した汚染物
質(副生成物)をレーザの照射により除去する方法に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser or the like for irradiating a laser beam onto a resin or the like to perform processing, and to remove contaminants (by-products) attached to the surface of the resin or the like by laser processing. It relates to a method of removing by irradiation.

【0002】[0002]

【従来の技術】KrFエキシマレーザ等のレーザ光を樹
脂に照射して、アブレーション加工や成膜加工、あるい
はその他の加工を行なう際に、樹脂材料を構成する分子
の分子間解離エネルギーよりも大きなエネルギーをもつ
エキシマレーザ光によって、樹脂材料の分子が直接断ち
切られて分解除去され、所定の加工がなされているが、
このとき、分解除去された炭素や炭化物等は微小破片と
なって飛散し、この微小破片は樹脂表面に落下堆積し付
着してしまう。このように樹脂の表面に付着した副生成
物はその表面を汚染し、好ましいものではない。
2. Description of the Related Art When a resin is irradiated with a laser beam such as a KrF excimer laser to perform ablation processing, film formation processing, or other processing, an energy larger than an intermolecular dissociation energy of molecules constituting a resin material. With the excimer laser light with, the molecules of the resin material are directly cut off and decomposed and removed,
At this time, the decomposed and removed carbon, carbide, and the like are scattered as fine fragments, and the fine fragments fall and accumulate on the resin surface and adhere thereto. Such by-products adhering to the surface of the resin contaminate the surface, which is not preferable.

【0003】そこで、このような汚染物質(副生成物)
を樹脂等の表面から除去する方法が従来から種々提案さ
れている。それらの中において、レーザ光を用いて樹脂
等の基材の表面に付着した汚染物質を除去する方法とし
て次のような方法が提案されている。
[0003] Therefore, such contaminants (by-products)
Conventionally, various methods have been proposed for removing carbon from the surface of a resin or the like. Among them, the following method has been proposed as a method for removing contaminants attached to the surface of a base material such as a resin using a laser beam.

【0004】1.汚染物質に対して吸収性のあるレーザ
光を直接照射し、これを除去する方法(特開平5−42
385号公報)。
[0004] 1. A method of directly irradiating a contaminant with a laser beam having absorptivity and removing the contaminant (Japanese Patent Laid-Open No. 5-42
385).

【0005】2.汚染物質とこれが付着した基材表面と
の間に水の層を設け、この水の層にレーザ光のエネルギ
ーを吸収させ、変換された運動エネルギーにより、ある
いは水の層の爆発的な蒸発により、汚染物質を飛ばす方
法(米国特許第4987286号明細書)。
[0005] 2. A layer of water is provided between the contaminant and the surface of the substrate on which the contaminant is attached, and the layer of water absorbs the energy of the laser beam, and is converted by kinetic energy or explosive evaporation of the layer of water. A method for flying contaminants (US Pat. No. 4,987,286).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術において、前者の従来技術では、後者の水のよ
うなエネルギー変換媒体が存在しないために、汚染物質
を除去する力が弱く、ごく微細な汚染物質しか除去する
ことができないものであり、また、後者の従来技術で
は、水をエネルギー変換媒体として用いているために、
除去効果は前者に比べて著しく改善されている。しか
し、撥水性を有する基材や表面に撥水処理を施した基材
上では、水を弾いてしまい、水がエネルギー変換媒体と
して満足に機能しないことがあった。
However, in the above prior art, in the former prior art, since there is no energy conversion medium such as water, the power to remove contaminants is weak and very fine. Only the pollutants can be removed, and in the latter prior art, since water is used as an energy conversion medium,
The removal effect is significantly improved compared to the former. However, on a substrate having water repellency or a substrate having a surface subjected to a water repellent treatment, water is repelled, and water may not function satisfactorily as an energy conversion medium.

【0007】そこで、本発明は、上述の従来技術の有す
る未解決な課題に鑑みてなされたものであって、汚染物
質の付着した基材にエネルギー変換媒体として界面活性
剤を含む液体を塗布してレーザ光を照射することによっ
て、撥水性を有する基材や表面に撥水処理を施した基材
上であっても、汚染物質を完全にかつ確実に除去するこ
とができる汚染物質の除去方法を提供することを目的と
するものである。
The present invention has been made in view of the above-mentioned unsolved problems of the prior art, and is directed to applying a liquid containing a surfactant as an energy conversion medium to a substrate to which contaminants are adhered. Contaminant removal method that can completely and reliably remove contaminants even on a substrate having water repellency or a substrate having a surface subjected to water repellency treatment by irradiating the substrate with laser light. The purpose is to provide.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の汚染物質の除去方法は、汚染物質の付着し
た基材にエネルギー変換媒体を塗布し、これにレーザ光
を照射することにより、エネルギー変換媒体を瞬間的に
蒸発させ、あるいは光エネルギーを運動エネルギーに変
換させて、汚染物質を除去する方法において、前記エネ
ルギー変換媒体として界面活性剤を含んだ液体を使用す
ることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a method for removing contaminants according to the present invention comprises applying an energy conversion medium to a substrate to which contaminants are adhered, and irradiating the medium with a laser beam. A method for removing contaminants by instantaneously evaporating an energy conversion medium or converting light energy into kinetic energy, wherein a liquid containing a surfactant is used as the energy conversion medium. .

【0009】さらに、本発明の汚染物質の除去方法は、
界面活性剤を含んだ液体はレーザ光を吸収するものであ
ることが好ましく、また、基材が撥水性を有する材質あ
るいは表面に撥水処理を施した材質であるときに特に好
適である。
Further, the method for removing contaminants of the present invention comprises:
The liquid containing a surfactant is preferably one that absorbs laser light, and is particularly suitable when the substrate is a material having water repellency or a material whose surface has been subjected to water repellency treatment.

【0010】[0010]

【作用】本発明において、樹脂等の基材にレーザ光を照
射して加工を行なうアブレーションや成膜、その他の加
工などによって表面に汚染物質(副生成物)の付着した
樹脂等の基材に、エネルギー変換媒体として界面活性剤
を含んだ液体を塗布し、これに選択吸収性を有する波長
のレーザ光を照射することにより、エネルギー変換媒体
を瞬間的に蒸発させあるいはレーザ光のエネルギーを運
動エネルギーに変換させて、汚染物質を除去するもので
あって、基材が撥水性を有するものや撥水処理を施した
ものであっても、エネルギー変換媒体としての界面活性
剤を含んだ液体が、撥水面上でも弾かれることなく汚染
物質を完全に覆いかつ汚染物質と撥水面の間に浸透する
ことから効果的に機能して、汚染物質(副生成物)を完
全にかつ確実に除去できるものである。
According to the present invention, a substrate such as a resin to which a contaminant (by-product) adheres to the surface by ablation, film formation, or other processing in which a substrate such as a resin is irradiated with a laser beam for processing. By applying a liquid containing a surfactant as an energy conversion medium and irradiating it with laser light of a wavelength having selective absorption, the energy conversion medium is instantaneously evaporated or the energy of the laser light is converted into kinetic energy. In order to remove contaminants, even if the substrate has a water-repellent or water-repellent treatment, a liquid containing a surfactant as an energy conversion medium, It completely covers the contaminants without being repelled on the water-repellent surface and works effectively because it penetrates between the contaminants and the water-repellent surface to completely and reliably remove the contaminants (by-products). It is those that can be.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0012】図1の(a)および(b)は、撥水処理を
施した基材に付着した汚染物質に対するエネルギー変換
媒体としての液体の作用を説明するための説明図であ
り、図2は、本発明にかかる汚染物質の除去方法の実施
例の一例を概略的に示す構成図である。
FIGS. 1 (a) and 1 (b) are illustrations for explaining the effect of a liquid as an energy conversion medium on contaminants adhering to a water-repellent substrate, and FIG. FIG. 1 is a configuration diagram schematically showing an example of an embodiment of a method for removing contaminants according to the present invention.

【0013】本発明にかかる汚染物質の除去方法におい
ては、撥水性を有する基材あるいは表面に撥水処理を施
した基材に付着した汚染物質を除去するためのエネルギ
ー変換媒体として界面活性剤を含んだ液体を用いること
を特徴とするものであるが、界面活性剤を含んだ液体の
汚染物質に対する作用を図1に基づいて説明する。
In the method for removing contaminants according to the present invention, a surfactant is used as an energy conversion medium for removing contaminants attached to a water-repellent substrate or a substrate having a surface subjected to water-repellent treatment. The method is characterized in that a liquid containing a surfactant is used. The effect of a liquid containing a surfactant on contaminants will be described with reference to FIG.

【0014】図1の(a)および(b)において、11
は撥水処理を施した基材、12は基材表面に付着した汚
染物質である。エネルギー変換媒体として界面活性剤を
含まない液体13を汚染物質12を覆うように基材11
に塗布した場合は、図1の(a)に示すように、液体1
3は撥水面上で弾かれてしまい、基材11と汚染物質1
2の間にうまく浸透しない。したがって、これにレーザ
光を照射しても汚染物質12を除去するだけのエネルギ
ーを得ることができない。一方、エネルギー変換媒体と
して界面活性剤を含んだ液体14を塗布した場合には、
図1の(b)に示すように、液体14に含まれる界面活
性剤の作用により、液体14は、撥水面上でも弾かれる
ことなく、良好な濡れ性を示し、汚染物質を完全に覆う
ことができかつ汚染物質と撥水面の間にもよく浸透す
る。したがって、後述するレーザ光を照射した際に、汚
染物質を完全に覆いかつ汚染物質と撥水面の間に浸透し
た液体14によって、汚染物質を完全に除去できるだけ
のエネルギーを生み出すことが可能となる。
In FIGS. 1A and 1B, 11
Denotes a substrate subjected to a water-repellent treatment, and 12 denotes a contaminant adhered to the surface of the substrate. A liquid 13 containing no surfactant is used as an energy conversion medium so as to cover the contaminant 12.
When the liquid 1 is applied, as shown in FIG.
3 is repelled on the water-repellent surface, and the substrate 11 and the contaminant 1
Does not penetrate well between the two. Therefore, even if this is irradiated with a laser beam, it is not possible to obtain enough energy to remove the contaminant 12. On the other hand, when the liquid 14 containing a surfactant is applied as an energy conversion medium,
As shown in FIG. 1B, due to the action of the surfactant contained in the liquid 14, the liquid 14 exhibits good wettability without being repelled on the water-repellent surface, and completely covers the contaminants. And penetrates well between contaminants and water repellent surfaces. Therefore, when a laser beam, which will be described later, is irradiated, the liquid 14 that completely covers the contaminant and penetrates between the contaminant and the water-repellent surface can generate enough energy to completely remove the contaminant.

【0015】このように、撥水性を有する基材あるいは
表面に撥水処理を施した基材に付着した汚染物質であっ
ても、これにエネルギー変換媒体として界面活性剤を含
んだ液体を塗布することによって、エネルギー変換媒体
は汚染物質を完全に覆うことができかつ汚染物質と撥水
面の間にもよく浸透するから、これにレーザ光を照射す
ることにより、エネルギー変換媒体は、レーザ光のエネ
ルギーを吸収して変換された運動エネルギーにより、あ
るいは瞬間的な蒸発により、汚染物質を完全に除去する
ことができる。
As described above, even if a contaminant adheres to a water-repellent substrate or a substrate whose surface has been subjected to a water-repellent treatment, a liquid containing a surfactant is applied thereto as an energy conversion medium. Therefore, the energy conversion medium can completely cover the contaminant and penetrates well between the contaminant and the water-repellent surface. The contaminants can be completely removed by the kinetic energy converted by absorbing or by instantaneous evaporation.

【0016】次に、本発明の汚染物質の除去方法の実施
例を図2に基づいて説明する。図2において、1はQ−
スイッチ YAGレーザ、2は第2高調波発生器SHG
(Second Harmonic Generator )、3はフィルター
(Optical Filter )である。この構成により、Q−ス
イッチ YAGレーザ1から発振されたレーザ光は、S
HG2により基本波とその倍波の混合光となり、さら
に、フィルター3によって基本波をカットして倍波のみ
を取り出して、この倍波を汚染物質6が付着した基材4
に照射してその汚染物質6を除去しようとするものであ
る。そして撥水層5が形成された基材4上の汚染物質6
にはエネルギー変換媒体としての界面活性剤を含んだ液
体7を塗布してある。
Next, an embodiment of the method for removing contaminants according to the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 2, 1 is Q-
Switch YAG laser, 2 is second harmonic generator SHG
(Second Harmonic Generator), 3 is a filter (Optical Filter). With this configuration, the laser light oscillated from the Q-switch YAG laser 1
The HG 2 forms a mixed light of the fundamental wave and its harmonic wave, and further cuts the fundamental wave by the filter 3 to extract only the harmonic wave.
To remove the contaminant 6. Then, the contaminants 6 on the substrate 4 on which the water-repellent layer 5 is formed
Is coated with a liquid 7 containing a surfactant as an energy conversion medium.

【0017】ここで、基材4は、その表面に撥水層5が
形成されたポリエーテルサルフォンのフィルムであっ
て、KrFエキシマレーザによるアブレーションによっ
て微細加工を施したものであり、その際に発生した副生
成物(汚染物質)6が撥水層5に付着する。このアブレ
ーション加工の副生成物(汚染物質)6の付着は金属顕
微鏡で確認できる。この副生成物(汚染物質)6を覆う
ように界面活性剤を含んだ液体(例えば、黒インク)7
を塗布する。この界面活性剤を含んだ液体7は、その界
面活性剤の作用により、撥水層5上でも弾かれることな
く、良好な濡れ性を示し、汚染物質6を完全に覆うこと
ができかつ汚染物質6と撥水層5の間にも浸透する。液
体7として黒インクを例示したが、液体の色は光を吸収
しやすい黒色が望ましいが、その他の色でもよい。
Here, the substrate 4 is a polyethersulfone film having a water-repellent layer 5 formed on the surface thereof, and is subjected to fine processing by ablation using a KrF excimer laser. The generated by-products (contaminants) 6 adhere to the water-repellent layer 5. The adhesion of the by-product (contaminant) 6 of this ablation processing can be confirmed with a metallographic microscope. Liquid (for example, black ink) 7 containing a surfactant so as to cover this by-product (contaminant) 6
Is applied. Due to the action of the surfactant, the liquid 7 containing the surfactant exhibits good wettability without being repelled on the water-repellent layer 5, and can completely cover the contaminant 6. 6 and the water-repellent layer 5. Although the black ink is illustrated as the liquid 7, the color of the liquid is desirably black, which easily absorbs light, but other colors may be used.

【0018】そして、副生成物(汚染物質)6が付着
し、これに界面活性剤を含んだ液体7として黒インクを
塗布したポリエーテルサルフォンのフィルム基材4に対
して、上述のようにフィルター3から出射されたレーザ
光の倍波を1〜10パルス照射する。このとき照射した
倍波(λ=532nm)はエネルギー密度が3.3mJ
/puls・cm2 であり、ポリエーテルサルフォンの
フィルム4に入射した倍波は、ポリエーテルサルフォン
には吸収のない波長のレーザ光であるが、界面活性剤を
含んだ液体7には吸収がある選択吸収性のある波長のレ
ーザ光である。このため、この界面活性剤を含んだ液体
7がエネルギー変換媒体として機能し、レーザ光を吸収
して瞬間的に蒸発するなどして副生成物6を除去するこ
とができる。予め金属顕微鏡により付着が確認された副
生成物(汚染物質)の様子を再度金属顕微鏡で観察した
ところ、副生成物(汚染物質)6は完全に除去されてい
ることが確認できた。
As described above, the by-product (contaminant) 6 adheres to the polyethersulfone film substrate 4 to which black ink is applied as a liquid 7 containing a surfactant. Irradiation of 1 to 10 pulses of a harmonic of the laser light emitted from the filter 3 is performed. At this time, the irradiated harmonic (λ = 532 nm) has an energy density of 3.3 mJ.
/ Pulss · cm 2 , and the harmonic wave incident on the polyethersulfone film 4 is a laser beam having a wavelength not absorbed by the polyethersulfone, but absorbed by the liquid 7 containing a surfactant. There is a laser beam of a wavelength having a certain selective absorption. Therefore, the liquid 7 containing the surfactant functions as an energy conversion medium, and the by-product 6 can be removed by absorbing the laser beam and evaporating instantaneously. When the state of the by-product (contaminant) whose adhesion was confirmed in advance by the metallographic microscope was observed again with the metallographic microscope, it was confirmed that the by-product (contaminant) 6 was completely removed.

【0019】以上のように、撥水性を有する樹脂や撥水
処理を施した樹脂等の基材にエキシマレーザ光の照射に
よりアブレーションや成膜あるいはその他の加工などの
微細加工を行なうことによって、その表面に付着した汚
染物質(副生成物)に対して、エネルギー変換媒体とし
ての界面活性剤を含んだ液体を塗布し、これに選択吸収
性を有する波長のレーザ光を照射することにより、エネ
ルギー変換媒体を瞬間的に蒸発させ、あるいはレーザ光
のエネルギーを運動エネルギーに変換させて、汚染物質
とともに除去することができる。このように、基材が撥
水性を有するものや撥水処理を施したものであっても、
エネルギー変換媒体としての界面活性剤を含んだ液体
が、その界面活性剤の作用により、撥水面上でも弾かれ
ることなく、汚染物質を完全に覆いかつ汚染物質と撥水
面の間によく浸透するから、エネルギー変換媒体として
効果的に機能して、汚染物質(副生成物)を完全にかつ
確実に除去できる。
As described above, a substrate such as a resin having water repellency or a resin subjected to water repellency treatment is subjected to fine processing such as ablation, film formation, or other processing by irradiation with excimer laser light. A liquid containing a surfactant as an energy conversion medium is applied to the contaminants (by-products) attached to the surface, and the liquid is irradiated with a laser beam having a wavelength of selective absorption, thereby converting the energy. The medium can be evaporated instantaneously, or the energy of the laser light can be converted to kinetic energy and removed with contaminants. Thus, even if the substrate has water repellency or has been subjected to a water repellent treatment,
The liquid containing a surfactant as an energy conversion medium completely covers the contaminant and penetrates well between the contaminant and the water-repellent surface without being repelled on the water-repellent surface by the action of the surfactant. It functions effectively as an energy conversion medium and can completely and reliably remove pollutants (by-products).

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明は、上述したように、レーザ光を
樹脂に照射して加工を行なうアブレーションや成膜等の
加工によって汚染物質(副生成物)が付着した基材に、
エネルギー変換媒体として界面活性剤を含んだ液体を塗
布し、これに選択吸収性を有する波長のレーザ光を照射
することにより、エネルギー変換媒体としての界面活性
剤を含んだ液体を瞬間的に蒸発させるなどして汚染物質
を除去するものであって、基材が撥水性を有するのもの
あるいは表面に撥水処理を施したものであっても、エネ
ルギー変換媒体としての界面活性剤を含んだ液体が、撥
水面上で弾かれることなく、有効に機能し、汚染物質
(副生成物)を完全にかつ確実に除去することができ
る。
As described above, according to the present invention, a substrate on which a contaminant (by-product) is adhered by a process such as ablation or film formation in which a resin is irradiated with a laser beam to perform a process.
By applying a liquid containing a surfactant as an energy conversion medium and irradiating it with a laser beam having a wavelength having selective absorption, the liquid containing a surfactant as an energy conversion medium is instantaneously evaporated. Even if the substrate has water repellency or the surface has been subjected to a water repellent treatment, a liquid containing a surfactant as an energy conversion medium can be used. It functions effectively without being repelled on the water-repellent surface, and can completely and reliably remove contaminants (by-products).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】撥水処理を施した基材に付着した汚染物質に対
するエネルギー変換媒体としての液体の作用を説明する
ための説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining the effect of a liquid as an energy conversion medium on contaminants attached to a substrate subjected to a water-repellent treatment.

【図2】本発明の汚染物質の除去方法の実施例の一例を
概略的に示す構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram schematically showing an example of an embodiment of a method for removing contaminants according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 Q−スイッチ YAGレーザ 2 第2高調波発生器SHG 3 フィルター 4 基材 5 撥水層 6 汚染物質(副生成物) 7 界面活性剤を含んだ液体(エネルギー変換媒体) 11 撥水処理を施した基材 12 汚染物質 13 界面活性剤を含まない液体 14 界面活性剤を含んだ液体 REFERENCE SIGNS LIST 1 Q-switch YAG laser 2 Second harmonic generator SHG 3 Filter 4 Base material 5 Water repellent layer 6 Contaminant (by-product) 7 Liquid containing surfactant (energy conversion medium) 11 Water repellent treatment Substrate 12 Contaminant 13 Liquid without surfactant 14 Liquid with surfactant

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 巽 純二 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 池亀 健 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Junji Tatsumi 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Ken Ikegame 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inside the corporation

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 汚染物質の付着した基材にエネルギー変
換媒体を塗布し、これにレーザ光を照射することによ
り、エネルギー変換媒体を瞬間的に蒸発させ、あるいは
光エネルギーを運動エネルギーに変換させて、汚染物質
を除去する方法において、前記エネルギー変換媒体とし
て界面活性剤を含んだ液体を使用することを特徴とする
汚染物質の除去方法。
An energy conversion medium is applied to a substrate to which contaminants are adhered, and is irradiated with a laser beam to instantaneously evaporate the energy conversion medium or convert light energy into kinetic energy. A method for removing contaminants, wherein a liquid containing a surfactant is used as the energy conversion medium.
【請求項2】 界面活性剤を含んだ液体は、レーザ光を
吸収するものであることを特徴とする請求項1記載の汚
染物質の除去方法。
2. The method for removing contaminants according to claim 1, wherein the liquid containing a surfactant absorbs laser light.
【請求項3】 基材は、撥水性を有する材質、あるいは
表面に撥水処理を施した材質でできていることを特徴と
する請求項1また2記載の汚染物質の除去方法。
3. The method for removing contaminants according to claim 1, wherein the substrate is made of a material having water repellency or a material having a surface subjected to a water repellent treatment.
JP9012029A 1997-01-07 1997-01-07 Method for removing contaminated material Pending JPH10193162A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6835319B2 (en) * 2001-10-25 2004-12-28 Data Storage Institute Method of patterning a substrate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6835319B2 (en) * 2001-10-25 2004-12-28 Data Storage Institute Method of patterning a substrate

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