JPH10188339A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JPH10188339A
JPH10188339A JP8343688A JP34368896A JPH10188339A JP H10188339 A JPH10188339 A JP H10188339A JP 8343688 A JP8343688 A JP 8343688A JP 34368896 A JP34368896 A JP 34368896A JP H10188339 A JPH10188339 A JP H10188339A
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JP
Japan
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group
recording
dye
layer
recording layer
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Pending
Application number
JP8343688A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuko Suzuki
祐子 鈴木
Hideki Umehara
英樹 梅原
Atsushi Tokuhiro
淳 徳弘
Yoshiteru Taniguchi
義輝 谷口
Tomoyoshi Sasagawa
知由 笹川
Sumio Hirose
純夫 広瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH10188339A publication Critical patent/JPH10188339A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a DRAW type optical recording medium which is stable in tracking at the time of recording and enables high-density recording having good recording characteristics. SOLUTION: This high-density optical recording medium has a recording layer contg. dyestuff to absorb laser beams on a substrate spirally formed with pregrooves and a reflection layer of a metal on this recording layer. In such a case, a track pitch and groove depth are regulated with respect to the recording beam diameter (λ is a recording wavelength and NA is the numerical aperture of an objective lens) expressed by λ/NA. Further, the dyestuff included in the recording layer is formed of a trimethyl cyanine compd.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明基板上に、色
素を含有する記録層、反射層を有する光記録媒体で、特
に高密度に記録可能な光記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium having a recording layer containing a dye and a reflective layer on a transparent substrate, and more particularly to an optical recording medium capable of recording at high density.

【0002】[0002]

【従来の技術】色素を記録層とし、且つ反射率を大きく
するため、記録層の上に金属の反射層を設けた記録可能
な光記録媒体は、例えば、 Optical Data Storage 1989
Technical Digest Series Vol.1 45(1989)に開示さ
れ、記録層にシアニン系色素やフタロシアニン系色素を
用いた媒体はCD−R媒体として市場に供されている。
これらの媒体は780 nmの半導体レーザーで記録するこ
とが出来、且つ780 nmの半導体レーザーを搭載してい
る市販のCDプレーヤーやCD−ROMプレーヤーで再
生できるという特徴を有する。しかし、これらの媒体は
650MB程度の容量しか持たず、デジタル動画等のように
大容量の情報を記録するには記録時間が15分以下と短
い。又、機器の小型化が進む状況に対応するために、従
来の媒体を小型にすると容量が不足する。前記した従来
のCD−R媒体は 780nm前後の波長を有する半導体レ
ーザーを用いて記録及び再生を行っていたが、最近 630
〜655 nmの半導体レーザーが開発され、より高密度の
記録及び又は再生が可能となり、直径 120mmの媒体に約
2時間の高画質の動画を記録した光記録媒体がDVDと
して開発されている。この媒体は4.7GB/面の記録容
量を有するが、ピットを基板に転写して作られる再生専
用の媒体である。最近、上記のような再生専用のDVD
の記録容量に近い容量を有する記録可能な光記録媒体が
求められている。
2. Description of the Related Art A recordable optical recording medium in which a recording layer is made of a dye and a metal reflective layer is provided on the recording layer in order to increase the reflectance is disclosed in, for example, Optical Data Storage 1989.
Technical Digest Series Vol. 145 (1989), a medium using a cyanine dye or a phthalocyanine dye in the recording layer is marketed as a CD-R medium.
These media are characterized in that they can be recorded by a 780 nm semiconductor laser and can be reproduced by a commercially available CD player or CD-ROM player equipped with a 780 nm semiconductor laser. But these media
It has a capacity of only about 650 MB, and the recording time is as short as 15 minutes or less for recording large-capacity information such as digital moving images. In addition, if the size of the conventional medium is reduced in order to cope with a situation where the size of the device is reduced, the capacity becomes insufficient. The above-mentioned conventional CD-R medium performs recording and reproduction using a semiconductor laser having a wavelength of about 780 nm.
Semiconductor lasers of up to 655 nm have been developed, enabling higher-density recording and / or reproduction, and an optical recording medium in which a high-quality moving image of about 2 hours is recorded on a medium having a diameter of 120 mm has been developed as a DVD. This medium has a recording capacity of 4.7 GB / side, but is a read-only medium made by transferring pits to a substrate. Recently, a read-only DVD as described above
There is a demand for a recordable optical recording medium having a capacity close to that of the above.

【0003】記録可能な媒体に於いて、記録容量を大き
くするには記録レーザービームを小さくする必要があ
る。ビーム径は用いるレーザーの波長が短い程、又対物
レンズの開口数(NA)が大きい程小さくなり、高密度
記録に好ましいが、現在の半導体レーザー技術やレンズ
のNAからは、ビーム径には限界がある。例えば、前記
したDVDのビーム径は、従来のCDの場合に比較し
て、記録密度の割には小さくない。従って、記録時に
は、CD−Rの場合と比較して、ビーム径に比してより
小さなピットを正確に形成しなければならない。しか
し、ピットの大きさが小さくなるほど、最短ピットの変
調度が小さくなり、ジッターやエラーレートが大きくな
るという問題点が生じる。そこで記録時に変調度を犠牲
にせずに、細く小さなピットを正確に形成できる媒体が
求められている。さらに、記録時のグルーブに沿ってレ
ーザーを位置づかせるトラッキングの安定性を考慮する
と、未記録のラジアルコントラスト(RCb)が0.0
5より大きいことが望まれる。また、短波長の光を吸収
するトリメチンシアニン色素を用いた媒体が、特開平6-
40162 に開示されている。しかし、高密度記録のための
短波長レーザー光に記録感度を有する色素としてトリメ
チンシアニン色素が挙げられているのみで、記録容量を
大きくするための種々の条件に関しては何も開示されて
いない。
In a recordable medium, it is necessary to reduce the recording laser beam in order to increase the recording capacity. The beam diameter becomes smaller as the wavelength of the laser used becomes shorter and the numerical aperture (NA) of the objective lens becomes larger, which is preferable for high-density recording. However, the current semiconductor laser technology and the NA of the lens limit the beam diameter. There is. For example, the beam diameter of the DVD described above is not small for the recording density as compared with the conventional CD. Therefore, during recording, pits smaller than the beam diameter must be accurately formed as compared with the case of CD-R. However, as the size of the pits becomes smaller, the degree of modulation of the shortest pits becomes smaller, causing a problem that the jitter and the error rate increase. Therefore, there is a demand for a medium that can accurately form thin and small pits without sacrificing the degree of modulation during recording. Furthermore, considering the stability of tracking for positioning the laser along the groove during recording, the unrecorded radial contrast (RCb) is 0.0%.
Desirably greater than 5. Further, a medium using a trimethine cyanine dye that absorbs light of a short wavelength is disclosed in
40162. However, only a trimethine cyanine dye is mentioned as a dye having recording sensitivity to short-wavelength laser light for high-density recording, but nothing is disclosed about various conditions for increasing the recording capacity.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、記録
ビーム径、トラックピッチ、グルーブ形状及び色素の最
適化を行い、記録ビーム径に対してトラックピッチを小
さくしても、記録時のトラッキングが安定しており、従
来より小さなピットを形成した際に良好な記録特性を有
する高密度光記録媒体を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to optimize a recording beam diameter, a track pitch, a groove shape and a dye, and to perform tracking during recording even if the track pitch is reduced with respect to the recording beam diameter. The object of the present invention is to provide a high-density optical recording medium which is stable and has good recording characteristics when smaller pits are formed than before.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、記録ビーム径、ト
ラックピッチ、グルーブ形状及び色素構造の最適化を行
うことにより、記録ビーム径に対してトラックピッチを
小さくしても、RCb値が適度の大きさで記録時のトラ
ッキングが安定しており、従来より小さなピットを形成
した際に変調度が大きく、ジッター、エラー率が良好な
高密度光記録媒体が実現されることを見出し、本発明を
完成するに至った。
The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, by optimizing the recording beam diameter, track pitch, groove shape, and dye structure, the recording beam Even when the track pitch is made smaller than the diameter, the tracking during recording is stable with an appropriate RCb value, and when a smaller pit is formed, the degree of modulation is larger, the jitter and error rate are better. It has been found that a high-density optical recording medium can be realized, and the present invention has been completed.

【0006】すなわち、本発明は、スパイラル状にグ
ルーブが形成された基板上に直接または他の層を介して
レーザー光を吸収する色素を含有する記録層、該記録層
の上に直接または他の層を介して金属の反射層を有する
光記録媒体において、λ/NAで表される記録ビームの
径をr〔ここで、λは記録波長(μm)、NAは対物レ
ンズの開口数を表す〕、基板のグルーブのピッチをP
(μm)、グルーブの深さをdsub (μm)、該記録層
のグルーブ部の色素膜厚をdg (μm)、ランド部の色
素膜厚dl (μm)、波長λでの記録層の屈折率をnab
s 、基板の屈折率をnsub としたとき、下記式の関係を
有し、 0.66r≦P≦0.89r 0.12r≦dsub ≦0.20r 1.8≦nabs ≦2.7 また、光学位相差(△T)=2〔nsub ・dsub +nab
s(dl −dg)〕/λが、0.13≦△T≦0.41で、
dg −dl ≦dsub であり、且つ記録層に含有される色
素が一般式(化2)で示されるトリメチンシアニン化合
物であることを特徴とする高密度光記録媒体、λが
0.630〜0.655μm、NAが0.58〜0.7
0であるの高密度光記録媒体、に関するものである。
That is, the present invention relates to a recording layer containing a dye that absorbs a laser beam directly or through another layer on a substrate in which a groove is formed in a spiral shape, and directly or on another layer on the recording layer. In an optical recording medium having a metal reflective layer via a layer, the diameter of a recording beam represented by λ / NA is r (where λ is the recording wavelength (μm), and NA is the numerical aperture of the objective lens). , The pitch of the groove of the substrate is P
(Μm), the depth of the groove is dsub (μm), the dye film thickness of the groove portion of the recording layer is dg (μm), the dye film thickness of the land portion is dl (μm), and the refractive index of the recording layer at wavelength λ To nab
where s and the refractive index of the substrate are nsub, the following relationship is established: 0.66r ≦ P ≦ 0.89r 0.12r ≦ dsub ≦ 0.20r 1.8 ≦ nabs ≦ 2.7 Phase difference (ΔT) = 2 [nsub · dsub + nab
s (dl−dg)] / λ is 0.13 ≦ ΔT ≦ 0.41;
dg-dl≤dsub, and the dye contained in the recording layer is a trimethinecyanine compound represented by the general formula (Chemical Formula 2). .655 μm, NA 0.58-0.7
0 is a high-density optical recording medium.

【0007】[0007]

【化2】 〔式中、Y、Y’はそれぞれ、CR4 5 、O、S、S
eまたはNR6 を表し、R1 〜R6 は水素原子あるいは
炭素数1〜12の無置換または置換アルキル基、A1
4 は水素原子あるいは炭素数1〜4のアルキル基を表
し、A1 とA2 、A3 とA4 は無置換または置換のベン
ゼン環あるいはナフタレン環を形成していても良く、X
は1価の陰イオンを表す。ただし、R1 が1価の陰イオ
ン置換基の場合は、Xは存在しない〕
Embedded image [Wherein, Y and Y ′ are each CR 4 R 5 , O, S, S
e or NR 6 , wherein R 1 to R 6 are a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, A 1 to
A 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, A 1 and A 2 , A 3 and A 4 may form an unsubstituted or substituted benzene ring or a naphthalene ring;
Represents a monovalent anion. However, when R 1 is a monovalent anionic substituent, X does not exist.]

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明は、スパイラル状にグルー
ブが形成された基板上に直接または他の層を介してレー
ザー光を吸収する色素を含有する記録層、該記録層の上
に直接または他の層を介して金属の反射層を有する光記
録媒体において、記録ビーム径、トラックピッチ、グル
ーブ形状及び色素構造の最適化を行うことにより、記録
ビーム径に対してトラックピッチを小さくしても、RC
b値が適度の大きさで記録時のトラッキングが安定して
おり、従来より小さなピットを形成した際に変調度が大
きく、ジッター、エラー率が良好な高密度光記録媒体を
提供するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention relates to a recording layer containing a dye that absorbs laser light directly on a substrate in which grooves are formed spirally or through another layer, directly or on the recording layer. In an optical recording medium having a metal reflective layer via another layer, by optimizing the recording beam diameter, track pitch, groove shape and dye structure, even if the track pitch is reduced with respect to the recording beam diameter. , RC
An object of the present invention is to provide a high-density optical recording medium having a moderate b value, stable tracking during recording, a large degree of modulation when forming smaller pits than before, and a good jitter and error rate. .

【0009】色素を記録層に用いた場合、スピンコート
法により記録層を成膜することが出来る。グルーブを有
する基板上に、スピンコート法で記録層を成膜した場
合、通常、グルーブ部の記録層の膜厚は、グルーブ間
(ランド)部の記録層の膜厚より厚くなる。一方、記録
感度は、記録層の膜厚に依存し、特に記録層の上に金属
の反射層を設けた媒体の場合は、この反射層へ熱が拡散
し記録感度が低下する。記録層の膜厚が薄いほど、この
熱拡散の影響を大きく受け、感度が低下し易い。即ち、
グルーブとランド部の記録感度に大きな差が生じる。そ
れ故に、記録レーザービームのビーム径が大きくても細
いピットを形成することができる。しかし、いくら細い
ピットが記録できてもトラックピッチを小さく出来るわ
けではない。トラックピッチを無制限に小さくしても、
再生する際のレーザービームの径が大きいと、変調度が
小さくなるだけでなく、クロストークが大きくなり過ぎ
てジッターが悪化し、再生できなくなる。
When a dye is used for the recording layer, the recording layer can be formed by spin coating. When a recording layer is formed on a substrate having a groove by a spin coating method, the thickness of the recording layer in the groove portion is usually larger than the thickness of the recording layer in the portion between the grooves (lands). On the other hand, the recording sensitivity depends on the thickness of the recording layer, and particularly in the case of a medium provided with a metal reflective layer on the recording layer, heat is diffused into this reflective layer and the recording sensitivity is reduced. The smaller the thickness of the recording layer, the greater the influence of this thermal diffusion, and the lower the sensitivity. That is,
A large difference occurs in the recording sensitivity between the groove and the land. Therefore, even if the beam diameter of the recording laser beam is large, a thin pit can be formed. However, no matter how thin pits can be recorded, the track pitch cannot be reduced. Even if the track pitch is reduced without limit,
When the diameter of the laser beam at the time of reproduction is large, not only the degree of modulation becomes small, but also the crosstalk becomes too large, the jitter becomes worse, and the reproduction becomes impossible.

【0010】本発明によれば、再生時の変調度を犠牲に
せずに、クロストークが小さくジッターが良好になるよ
うに記録するには、λ/NAで表される記録ビーム径を
rとすると、トラックピッチ(P)を0.66r〜0.
89rにするのが好ましい。トラックピッチが0.66
r未満の場合は、ジッター及びエラーレートが大きくな
り好ましくなく、0.89rを越える場合は、半径方向
の記録密度が大きくならず目的の記録容量が得られな
い。また、(図1)において、基板のグルーブ部分の深
さをdsub (μm)、記録層のグルーブ部の色素膜厚を
dg (μm)、ランド部の色素膜厚dl (μm)、波長
λでの記録層の屈折率をnabs 、基板の屈折率をnsub
としたとき、変調度及びラジアルコントラストを十分に
獲得するためには、dsub を0.12r〜0.20rに
することが好ましい。
According to the present invention, in order to perform recording in such a manner that crosstalk is small and jitter is good without sacrificing the degree of modulation during reproduction, the recording beam diameter represented by λ / NA is defined as r. , The track pitch (P) is set to 0.66r to 0.
It is preferably 89r. Track pitch is 0.66
If it is less than r, the jitter and error rate increase, which is not preferable. If it exceeds 0.89r, the recording density in the radial direction does not increase, and the desired recording capacity cannot be obtained. In FIG. 1, the depth of the groove portion of the substrate is dsub (μm), the dye film thickness of the groove portion of the recording layer is dg (μm), the dye film thickness of the land portion is dl (μm), and the wavelength is λ. The refractive index of the recording layer is nabs, and the refractive index of the substrate is nsub
In order to sufficiently obtain the modulation degree and the radial contrast, dsub is preferably set to 0.12r to 0.20r.

【0011】さらに、グルーブ部の光学的距離(Xp )
はnabs ・dg であり、ランド部の光学的距離(Xl )
はnsub ・dsub + nabs ・dl であるから、基板側か
ら波長λのレーザー光を照射した際、反射層3によりグ
ルーブの部分とランド部分で反射されたレーザー光の光
学的位相差〔△T=2(Xl −Xp )/λ〕は、△T=
2〔nsub ・dsub + nabs(dl-dg)〕/λ(ただし、
dg −dl ≦dsub を満足する)と表され、この△Tの
範囲が0.13〜 0.41であることが好ましい。す
なわち、有機色素層は、記録レーザー光で分解、燃焼、
変形等の変化を生じ、変化しないところとの反射率の差
が信号の変調度となるため、この変調度を大きく獲得す
るためには、色素膜の光路長を十分取る必要がある。さ
らに加えて、未記録のラジアルコントラストを十分得る
ための光学位相差を考慮すると、上記の基板の深さおよ
び光学的位相差の条件を満足することが必要となる。グ
ルーブの深さが0.12r未満の場合は変調度及びラジ
アルコントラストが小さくなり、ジッター特性も悪化す
る。0.20rを越える場合は、反射率の低下および基
板成形が困難になる。また、△Tが0.13未満の場合
は、変調度及びラジアルコントラストが十分に得られ
ず、0.41以上の場合は反射率の低下が生じる。
Further, the optical distance (Xp) of the groove portion
Is nabs · dg, and the optical distance of the land (Xl)
Is nsub.dsub + nabs.dl. Therefore, when a laser beam having a wavelength .lambda. Is irradiated from the substrate side, the optical phase difference of the laser beam reflected by the reflective layer at the groove portion and the land portion [.DELTA.T = 2 (Xl -Xp) / [lambda]
2 [nsub.dsub + nabs (dl-dg)] / λ (where,
dg−dl ≦ dsub), and the range of ΔT is preferably from 0.13 to 0.41. That is, the organic dye layer is decomposed by the recording laser light, burned,
Since the difference in reflectivity from a change or the like where deformation or the like does not occur is a signal modulation degree, it is necessary to take a sufficient optical path length of the dye film in order to obtain a large modulation degree. In addition, in consideration of an optical phase difference for sufficiently obtaining an unrecorded radial contrast, it is necessary to satisfy the above-described conditions of the substrate depth and the optical phase difference. If the depth of the groove is less than 0.12r, the modulation degree and the radial contrast will be small, and the jitter characteristics will be deteriorated. If it exceeds 0.20r, it will be difficult to reduce the reflectance and form the substrate. Further, when ΔT is less than 0.13, a sufficient degree of modulation and radial contrast cannot be obtained, and when it is 0.41 or more, a decrease in reflectance occurs.

【0012】前記レーザー光の波長λにおいて、記録層
に必要な屈折率nabs は1.8以上であり、且つ、有機
色素の特性を考慮すると2.7以下を満足することが好
ましい。nabs が1.8より小さい値になると大きな反
射率と信号変調度は得られず、正確な信号読みとりがで
きなくなる。また、消衰係数kabs は0.04〜0.2
0であることが好ましい。kabs が0.04より小さい
と記録感度が著しく低下して現在の半導体レーザーの出
力では記録が困難になり、0.20より大きいと正確な
信号読み取りに必要な反射率が得られないだけでなく、
再生光により信号が変化しやすくなる。
At the wavelength λ of the laser beam, the refractive index nabs required for the recording layer is preferably 1.8 or more and 2.7 or less in consideration of the characteristics of the organic dye. When the value of nabs is smaller than 1.8, a large reflectivity and a high signal modulation cannot be obtained, and accurate signal reading cannot be performed. The extinction coefficient kabs is 0.04 to 0.2.
It is preferably 0. If kabs is smaller than 0.04, recording sensitivity is remarkably reduced, and recording is difficult with the current output of the semiconductor laser. If it is larger than 0.20, not only the reflectance required for accurate signal reading cannot be obtained, but also ,
The signal is easily changed by the reproduction light.

【0013】本発明に於いて、記録、再生の際のビーム
径は、用いるレーザーの波長が短い程、また、対物レン
ズの開口数(NA)が大きい程小さくなり、高密度記録
に好ましいが、装置の小型化や光学系を単純に出来る等
の点、及装置の経済性の点から、記録に利用できる高出
力のレーザーとしては0.630〜0.655μmの半
導体レーザーが好ましく、0.630〜0.640μm
が最も好ましい。又、レンズのNAは、基板の厚みムラ
や基板の傾きによる収差の点から0.70が限界であ
る。好ましくはNAは0.58〜0.70である。
In the present invention, the beam diameter at the time of recording and reproduction becomes smaller as the wavelength of the laser used becomes shorter and the numerical aperture (NA) of the objective lens becomes larger, which is preferable for high density recording. As a high-output laser usable for recording, a semiconductor laser of 0.630 to 0.655 μm is preferable, in view of downsizing of the apparatus, simplification of an optical system, and the economical efficiency of the apparatus. ~ 0.640 μm
Is most preferred. Further, the limit of the NA of the lens is 0.70 in terms of aberration due to unevenness in the thickness of the substrate and inclination of the substrate. Preferably the NA is between 0.58 and 0.70.

【0014】本発明の媒体は透明な基板上に少なくとも
レーザー光を吸収する色素を含有する記録層、金属の反
射層からなる。例えば、(図1)に示すように、基板
1、記録層2、反射層3及び保護層4が順次積層してい
る4層構造、または、(図2)に示すように、基板
1’、記録層2’、反射層3’が順次積層され、その上
に接着層4’を介して基板5’が貼り合わされている構
造を有すものがある。本発明の光記録媒体に於いて用い
られる透明な基板としては、信号の記録や読み出しを行
う光の透過率が85%以上で、且つ光学異方性の小さいも
のが好ましい。例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリオレフィン樹脂等の公知の樹脂基板が挙
げられる。これらの基板は、板状でもフィルム状でも良
く、又その形状は、円形でもカード状でも良い。これら
の基板の表面には、記録位置を表すグルーブ及び/又は
ピットを有する。このようなグルーブやピットは、基板
の成形時に付与するのが好ましいが、基板の上に紫外線
硬化樹脂層を設けて付与することもできる。トラック
(グルーブ)ピッチ及びグルーブの深さは前記したが、
グルーブの幅は0.25〜0.37μnm程度が好まし
い。
The medium of the present invention comprises a recording layer containing a dye absorbing at least laser light and a metal reflective layer on a transparent substrate. For example, as shown in FIG. 1, a four-layer structure in which a substrate 1, a recording layer 2, a reflective layer 3 and a protective layer 4 are sequentially stacked, or as shown in FIG. There is a structure having a structure in which a recording layer 2 'and a reflective layer 3' are sequentially laminated, and a substrate 5 'is bonded thereon via an adhesive layer 4'. The transparent substrate used in the optical recording medium of the present invention preferably has a transmittance of light for recording and reading signals of 85% or more and has a small optical anisotropy. For example, a known resin substrate such as an acrylic resin, a polycarbonate resin, and a polyolefin resin may be used. These substrates may be in the form of a plate or a film, and their shape may be circular or card-like. The surfaces of these substrates have grooves and / or pits indicating recording positions. Such grooves and pits are preferably provided at the time of molding the substrate, but may also be provided by providing an ultraviolet curable resin layer on the substrate. The track (groove) pitch and groove depth are described above,
The width of the groove is preferably about 0.25 to 0.37 μnm.

【0015】本発明に於いては、記録層は色素を含有し
てなるが、この記録層に用いられる色素は良好な記録感
度、反射率、変調度を獲得するために重要な要素の一つ
である。その中でも特に変調度に対して、分解特性及び
上述した光学的特性等の色素種の特性が大きく効く。高
密度記録に際しては、同じ大きさのピットを形成した場
合に大きな変調度が得られ、且つしきい値特性に優れた
色素が特に好ましく、この点からは一般式(1)で示さ
れるトリメチンシアニン化合物が好ましい。
In the present invention, the recording layer contains a dye, and the dye used in this recording layer is one of the important factors for obtaining good recording sensitivity, reflectance and modulation. It is. Among them, the characteristics of the dye species such as the decomposition characteristics and the above-described optical characteristics are particularly effective for the degree of modulation. In high-density recording, a dye having a large modulation degree when pits having the same size are formed and having excellent threshold characteristics is particularly preferable. In this regard, trimethine represented by the general formula (1) is preferred. Preference is given to cyanine compounds.

【0016】一般式(1)の置換基において、R1 〜R
6 は水素原子あるいは直鎖または分岐のアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル
基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、アル
コキシカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルオ
キシアルキル基、アルコキシアルコキシカルボニルオキ
シアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアル
コキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルコキシア
ルキル基、シアノアルキル基、アシルオキシアルキル
基、アシルオキシアルコキシアルキル基、アシルオキシ
アルコキシアルコキシアルキル基、ハロゲン化アルキル
基、スルホンアルキル基、アルキルカルボニルアミノア
ルキル基、アルキルスルホンアミノアルキル基、スルホ
ンアミドアルキル基、アルキルアミノアルキル基、アミ
ノアルキル基、及びアルキルスルホンアルキル基等の中
から選択される。
In the substituents of the general formula (1), R 1 to R
6 is a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkoxyalkoxyalkyl group, an alkoxyalkoxyalkoxyalkyl group, an alkoxycarbonylalkyl group, an alkoxycarbonyloxyalkyl group, an alkoxyalkoxycarbonyloxyalkyl group, a hydroxyalkyl group, Hydroxyalkoxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkoxyalkyl group, cyanoalkyl group, acyloxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkoxyalkyl group, halogenated alkyl group, sulfonealkyl group, alkylcarbonylaminoalkyl group, alkylsulfonaminoalkyl group , A sulfonamidoalkyl group, an alkylaminoalkyl group, an aminoalkyl group, and an It is selected from a killsulfonalkyl group and the like.

【0017】直鎖または分岐のアルキル基としては、炭
素数1〜12の炭化水素基で、ポリカーボネート、アク
リル、エポキシ、ポリオレフィン基板等への塗布による
加工性を考慮すれば、メチル基、エチル基、n-プロピル
基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブ
チル基、n-ペンチル基、iso-ペンチル基、2-メチルブチ
ル基、1-メチルブチル基、neo-ペンチル基、1,2-ジメチ
ルプロピル基、1,1-ジメチルプロピル基、シクロペンチ
ル基、n-ヘキシル基、4-メチルペンチル基、3-メチルペ
ンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルペンチル基、
3,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、1,3-ジ
メチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、1,2-ジメチル
ブチル基、1,1-ジメチルブチル基、3-エチルブチル基、
2-エチルブチル基、1-エチルブチル基、1,2,2-トリメチ
ルブチル基、1,1,2-トリメチルブチル基、1-エチル-2-
メチルプロピル基、シクロヘキシル基、n-ヘプチル基、
2-メチルヘキシル基、3-メチルヘキシル基、4-メチルヘ
キシル基、5-メチルヘキシル基、2,4-ジメチルペンチル
基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、2,5-ジメチル
ヘキシル基、2,5,5-トリメチルペンチル基、2,4-ジメチ
ルヘキシル基、2,2,4-トリメチルペンチル基、n-ノニル
基、n-デシル基、4-エチルオクチル基、4-エチル-4,5-
メチルヘキシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、4-
ブチルオクチル基、6,6-ジエチルオクチル基、3,5-ジメ
チルヘプチル基、2,6-ジメチルヘプチル基、2,4-ジメチ
ルヘプチル基、2,2,5,5-テトラメチルヘキシル基、1-cy
clo-ペンチル-2,2- ジメチルプロピル基、1-シクロヘキ
シル-2,2- ジメチルプロピル基等が挙げられる。
The linear or branched alkyl group is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. In consideration of workability by coating on a polycarbonate, acrylic, epoxy, polyolefin substrate, etc., a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neo-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group,
3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3- Ethylbutyl group,
2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,2,2-trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2-
Methylpropyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group,
2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4, Five-
Methylhexyl, n-undecyl, n-dodecyl, 4-
Butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, 3,5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,2,5,5-tetramethylhexyl group, 1 -cy
clo-pentyl-2,2-dimethylpropyl group, 1-cyclohexyl-2,2-dimethylpropyl group and the like.

【0018】アルコキシアルキル基としては、メトキシ
メチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブ
トキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル
基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、n-ヘキシ
ルオキシエチル基、4-メチルペントキシエチル基、1,3-
ジメチルブトキシエチル基、2-エチルヘキシルオキシエ
チル基、n-オクチルオキシエチル基、3,5,5-トリメチル
ヘキシルオキシエチル基、2-メチル-1-iso- プロピルプ
ロポキシエチル基、3-メチル-1-iso- プロピルブチルオ
キシエチル基、2-エトキシ-1- メチルエチル基、3-メト
キシブチル基、3,3,3-トリフルオロプロポキシエチル
基、3,3,3-トリクロロプロポキシエチル基などの炭素数
2〜12のものが挙げられる。
Examples of the alkoxyalkyl group include a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a propoxymethyl group, a butoxymethyl group, a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a propoxyethyl group, a butoxyethyl group, an n-hexyloxyethyl group, Methylpentoxyethyl group, 1,3-
Dimethylbutoxyethyl group, 2-ethylhexyloxyethyl group, n-octyloxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxyethyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropoxyethyl group, 3-methyl-1- Carbon number of iso-propylbutyloxyethyl group, 2-ethoxy-1-methylethyl group, 3-methoxybutyl group, 3,3,3-trifluoropropoxyethyl group, 3,3,3-trichloropropoxyethyl group, etc. 2-12.

【0019】アルコキシアルコキシアルキル基の例とし
ては、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエ
チル基、プロポキシエトキシエチル基、ブトキシエトキ
シエチル基、ヘキシルオキシエトキシエチル基、1,2-ジ
メチルプロポキシエトキシエチル基、2-メトキシ-1- メ
チルエトキシエチル基、2-ブトキシ-1- メチルエトキシ
エチル基、2-(2'-エトキシ-1'-メチルエトキシ)-1-メチ
ルエチル基、3,3,3-トリフルオロプロポキシエトキシエ
チル基、3,3,3-トリクロロプロポキシエトキシエチル基
などが挙げられる。
Examples of the alkoxyalkoxyalkyl group include methoxyethoxyethyl, ethoxyethoxyethyl, propoxyethoxyethyl, butoxyethoxyethyl, hexyloxyethoxyethyl, 1,2-dimethylpropoxyethoxyethyl, 2- Methoxy-1-methylethoxyethyl group, 2-butoxy-1-methylethoxyethyl group, 2- (2'-ethoxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl group, 3,3,3-trifluoropropoxy Examples include an ethoxyethyl group and a 3,3,3-trichloropropoxyethoxyethyl group.

【0020】アルコキシアルコキシアルコキシアルキル
基の例としては、メトキシエトキシエトキシエチル基、
エトキシエトキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシ
エトキシエチル基、2,2,2-トリフルオロエトキシエトキ
シエトキシエチル基、2,2,2-トリクロロエトキシエトキ
シエトキシエチル基などが挙げられる。アルコキシカル
ボニルアルキル基の例としては、メトキシカルボニルメ
チル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボ
ニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシ
カルボニルエチル基、ブトキシカルボニルエチル基、2,
2,3,3-テトラフルオロプロポキシカルボニルメチル基、
2,2,3,3-テトラクロロプロポキシカルボニルメチル基等
が挙げられる。
Examples of the alkoxyalkoxyalkoxyalkyl group include a methoxyethoxyethoxyethyl group,
Examples thereof include an ethoxyethoxyethoxyethyl group, a butoxyethoxyethoxyethyl group, a 2,2,2-trifluoroethoxyethoxyethoxyethyl group, and a 2,2,2-trichloroethoxyethoxyethoxyethyl group. Examples of the alkoxycarbonylalkyl group include a methoxycarbonylmethyl group, an ethoxycarbonylmethyl group, a butoxycarbonylmethyl group, a methoxycarbonylethyl group, an ethoxycarbonylethyl group, a butoxycarbonylethyl group,
2,3,3-tetrafluoropropoxycarbonylmethyl group,
And a 2,2,3,3-tetrachloropropoxycarbonylmethyl group.

【0021】アルコキシカルボニルオキシアルキル基の
例としては、メトキシカルボニルオキシエチル基、エト
キシカルボニルオキシエチル基、ブトキシカルボニルオ
キシエチル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル
オキシエチル基、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル
オキシエル基などが挙げられる。アルコキシアルコキシ
カルボニルオキシアルキル基の例としては、メトキシエ
トキシカルボニルオキシエチル基、エトキシエトキシカ
ルボニルオキシエチル基、ブトキシエトキシカルボニル
オキシエチル基、2,2,2-トリフルオロエトキシエトキシ
カルボニルオキシエチル基、2,2,2-トリクロロエトキシ
エトキシカルボニルオキシエチル基などが挙げられる。
Examples of the alkoxycarbonyloxyalkyl group include a methoxycarbonyloxyethyl group, an ethoxycarbonyloxyethyl group, a butoxycarbonyloxyethyl group, a 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxyethyl group, a 2,2,2 -Trichloroethoxycarbonyloxyl group and the like. Examples of the alkoxyalkoxycarbonyloxyalkyl group include a methoxyethoxycarbonyloxyethyl group, an ethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, a butoxyethoxycarbonyloxyethyl group, a 2,2,2-trifluoroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, and a 2,2. , 2-trichloroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group and the like.

【0022】ヒドロキシアルキル基の例としては、2-ヒ
ドロキシエチル基、4-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキ
シ-3- メトキシプロピル基、2-ヒドロキシ-3- クロロプ
ロピル基、2-ヒドロキシ-3- エトキシプロピル基、3-ブ
トキシ-2- ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシ-3- フ
ェノキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、2-ヒド
ロキシブチル基などが挙げられる。ヒドロキシアルコキ
シアルキル基の例としては、ヒドロキシエトキシエチル
基、2-(2'-ヒドロキ-1'-メチルエトキシ)-1- メチルエ
チル基、2-(3'-フルオロ-2'-ヒドロキシプロポキシ) エ
チル基、2-(3'-クロロ-2'-ヒドロキシプロポキシ) エチ
ル基などが挙げられ、ヒドロキシアルコキシアルコキシ
アルキル基の例としては、ヒドロキシエトキシエトキシ
エチル基、[2'-(2'-ヒドロキ-1'-メチルエトキシ)-1'-
メチルエトキシ] エトキシエチル基、[2'-(2'-フルオロ
-1'-ヒドロキシエトキシ)-1'-メチルエトキシ] エトキ
シエチル基、[2'-(2'-クロロ-1'-ヒドロキシエトキシ)
-1'-メチルエトキシ] エトキシエチル基などが挙げられ
る。
Examples of hydroxyalkyl groups include 2-hydroxyethyl, 4-hydroxyethyl, 2-hydroxy-3-methoxypropyl, 2-hydroxy-3-chloropropyl, 2-hydroxy-3-ethoxy Propyl group, 3-butoxy-2-hydroxypropyl group, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-hydroxybutyl group and the like. Examples of hydroxyalkoxyalkyl groups include hydroxyethoxyethyl group, 2- (2'-hydroxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl group, 2- (3'-fluoro-2'-hydroxypropoxy) ethyl Group, 2- (3′-chloro-2′-hydroxypropoxy) ethyl group, and the like.Examples of the hydroxyalkoxyalkoxyalkyl group include a hydroxyethoxyethoxyethyl group and [2 ′-(2′-hydroxy-1). '-Methylethoxy) -1'-
Methylethoxy] ethoxyethyl group, [2 '-(2'-fluoro
-1'-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2 '-(2'-chloro-1'-hydroxyethoxy)
-1'-methylethoxy] ethoxyethyl group and the like.

【0023】シアノアルキル基の例としては、2-シアノ
エチル基、4-シアノブチル基、2-シアノ-3- メトキシプ
ロピル基、2-シアノ-3- クロロプロピル基、2-シアノ-3
- エトキシプロピル基、3-ブトキシ-2- シアノプロピル
基、2-シアノ-3- フェノキシプロピル基、2-シアノプロ
ピル基、2-シアノブチル基などが挙げられる。アシルオ
キシアルキル基の例としては、アセトキシエチル基、プ
ロピオニルオキシエチル基、ブチリルオキシエチル基、
1-エチルペンチルカルボニルオキシエチル基、2,4,4-ト
リメチルペンチルカルボニルオキシエチル基、3-フロオ
ロブチリルオキシエチル基、3-クロロブチリルオキシエ
チル基などが挙げられ、アシルオキシアルコキシアルキ
ル基の例としては、アセトキシエトキシエチル基、プロ
ピオニルオキシエトキシエチル基、1-エチルペンチルカ
ルボニルオキシエトキシエチル基、2-フルオロプロピオ
ニルオキシエトキシエチル基、2-クロロプロピオニルオ
キシエトキシエチル基などが挙げられ、アシルオキシア
ルコキシアルコキシアルキル基の例としては、アセトキ
シエトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキシエト
キシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシエトキ
シエチル基、2-フルオロプロピオニルオキシエトキシエ
トキシエチル基、2-クロロプロピオニルオキシエトキシ
エトキシエチル基などが挙げられる。
Examples of cyanoalkyl groups include 2-cyanoethyl, 4-cyanobutyl, 2-cyano-3-methoxypropyl, 2-cyano-3-chloropropyl, 2-cyano-3
-Ethoxypropyl, 3-butoxy-2-cyanopropyl, 2-cyano-3-phenoxypropyl, 2-cyanopropyl, 2-cyanobutyl and the like. Examples of the acyloxyalkyl group include an acetoxyethyl group, a propionyloxyethyl group, a butyryloxyethyl group,
1-ethylpentylcarbonyloxyethyl group, 2,4,4-trimethylpentylcarbonyloxyethyl group, 3-fluorobutyryloxyethyl group, 3-chlorobutyryloxyethyl group and the like, and an acyloxyalkoxyalkyl group Examples include an acetoxyethoxyethyl group, a propionyloxyethoxyethyl group, a 1-ethylpentylcarbonyloxyethoxyethyl group, a 2-fluoropropionyloxyethoxyethyl group, a 2-chloropropionyloxyethoxyethyl group, and the like. Examples of the alkyl group include an acetoxyethoxyethoxyethyl group, a propionyloxyethoxyethoxyethyl group, a valeryloxyethoxyethoxyethyl group, a 2-fluoropropionyloxyethoxyethoxyethyl group, and 2-chloro. And a propionyloxyethoxyethoxyethyl group.

【0024】ハロゲン化アルキル基の例としては、クロ
ルメチル基、クロルエチル基、2,2,2-トリフルオロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、ブロムメチル基、ヨウ化
メチル基などが挙げられる。スルホンアルキル基の例と
しては、スルホンメチル基、スルホンエチル基、スルホ
ンプロピル基などが挙げられる。アルキルカルボニルア
ミノアルキル基の例としては、メチルカルボニルアミノ
エチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、プロピル
カルボニルアミノエチル基、シクロヘキシルカルボニル
アミノエチル基などが挙げられる。アルキルスルホンア
ミノアルキル基の例としては、メチルスルホンアミノエ
チル基、エチルスルホンアミノエチル基、プロピルスル
ホンアミノエチル基などが挙げられる。スルホンアミド
アルキル基の例としては、スルホンアミドメチル基、ス
ルホンアミドエチル基、スルホンアミドプロピル基など
が挙げられる。
Examples of the halogenated alkyl group include a chloromethyl group, a chloroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a trifluoromethyl group, a bromomethyl group and a methyl iodide group. Examples of the sulfonealkyl group include a sulfonemethyl group, a sulfoneethyl group, a sulfonepropyl group, and the like. Examples of the alkylcarbonylaminoalkyl group include a methylcarbonylaminoethyl group, an ethylcarbonylaminoethyl group, a propylcarbonylaminoethyl group, a cyclohexylcarbonylaminoethyl group, and the like. Examples of the alkylsulfonaminoalkyl group include a methylsulfonaminoethyl group, an ethylsulfonaminoethyl group, a propylsulfonaminoethyl group, and the like. Examples of the sulfonamidoalkyl group include a sulfonamidomethyl group, a sulfonamidoethyl group, a sulfonamidopropyl group and the like.

【0025】アルキルアミノアルキル基の例としては、
N-メチルアミノメチル基、N,N-ジメチルアミノメチル
基、N,N-ジエチルアミノメチル基、N,N-ジプロピルアミ
ノメチル基、N,N-ジブルアミノメチル基、などが挙げら
れる。アミノアルキル基の例としては、アミノメチル
基、アミノエチル基、アミノプロピル基などが挙げられ
る。アルキルスルホンアルキル基の例としては、メチル
スルホンメチル基、エチルスルホンメチル基、ブチルス
ルホンメチル基、メチルスルホンエチル基、エチルスル
ホンエチル基、ブチルスルホンエチル基、2,2,3,3-テト
ラフルオロプロピルスルホンメチル基、2,2,3,3-テトラ
クロロプロピルスルホンメチル基などが挙げられる。
Examples of the alkylaminoalkyl group include:
Examples include an N-methylaminomethyl group, an N, N-dimethylaminomethyl group, an N, N-diethylaminomethyl group, an N, N-dipropylaminomethyl group, and an N, N-dibleaminomethyl group. Examples of the aminoalkyl group include an aminomethyl group, an aminoethyl group, an aminopropyl group and the like. Examples of the alkylsulfonalkyl group include a methylsulfonmethyl group, an ethylsulfonemethyl group, a butylsulfonmethyl group, a methylsulfonethyl group, an ethylsulfonethyl group, a butylsulfonethyl group, and 2,2,3,3-tetrafluoropropyl And a sulfonemethyl group and a 2,2,3,3-tetrachloropropylsulfonemethyl group.

【0026】置換または未置換のアルケニル基の例とし
ては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有する
アルケニル基であり、好ましくは、プロペニル基、1-ブ
テニル基、iso-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテ
ニル基、2-メチル-1- ブテニル基、3-メチル-1- ブテニ
ル基、2-メチル-2- ブテニル基、2,2-ジシアノビニル
基、2-シアノ-2- メチルカルボキシルビニル基、2-シア
ノ-2- メチルスルホンビニル基などの低級アルケニル基
が挙げられる。置換または未置換のアラルキル基の例と
しては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有す
るアラルキル基であり、好ましくは、ベンジル基、ニト
ロベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル
基、メチルベンジル基、トリフルオロメチルベンジル
基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シア
ノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メ
チルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメ
チル基などが挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyl groups are alkenyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a propenyl group, a 1-butenyl group, an iso-butenyl group, -Pentenyl group, 2-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-2- And lower alkenyl groups such as a methylcarboxylvinyl group and a 2-cyano-2-methylsulfonevinyl group. Examples of the substituted or unsubstituted aralkyl groups are aralkyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably benzyl, nitrobenzyl, cyanobenzyl, hydroxybenzyl, methylbenzyl Group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthylmethyl group, methylnaphthylmethyl group, trifluoromethylnaphthylmethyl group and the like.

【0027】置換または未置換のアルコキシ基の例とし
ては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有する
アルコキシ基であり、好ましくは、メトキシ基、エトキ
シ基、n-プロポキシ基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ
基、iso-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、
n-ペントキシ基、iso-ペントキシ基、neo-ペントキシ
基、2-メチルブトキシ基などの低級アルコキシ基が挙げ
られる。置換または未置換のアリール基の例としては、
上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアリー
ル基であり、好ましくは、フェニル基、ニトロフェニル
基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチル
フェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ナフチル
基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシ
ナフチル基、メチルナフチル基、トリフルオロメチルナ
フチル基などが挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkoxy groups are the alkoxy groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methoxy, ethoxy, n-propoxy, iso-propoxy. Group, n-butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group,
Lower alkoxy groups such as n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group and 2-methylbutoxy group are exemplified. Examples of substituted or unsubstituted aryl groups include
Aryl groups having the same substituents as the alkyl groups mentioned above, preferably phenyl, nitrophenyl, cyanophenyl, hydroxyphenyl, methylphenyl, trifluoromethylphenyl, naphthyl, nitro Examples include a naphthyl group, a cyanonaphthyl group, a hydroxynaphthyl group, a methylnaphthyl group, and a trifluoromethylnaphthyl group.

【0028】置換または未置換のアシル基の例として
は、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するア
シル基であり、好ましくは、ホルミル基、メチルカルボ
ニル基、エチルカルボニル基、n-プロピルカルボニル
基、iso-プロピルカルボニル基、n-ブチルカルボニル
基、iso-ブチルカルボニル基、sec-ブチルカルボニル
基、t-ブチルカルボニル基、n-ペンチルカルボニル基、
iso-ペンチルカルボニル基、neo-ペンチルカルボニル
基、2-メチルブチルカルボニル基、ニトロベンジルカル
ボニル基などが挙げられる。置換または未置換のアルキ
ルカルボキシル基の例としては、上記に挙げたアルキル
基と同様な置換基を有するアルキルカルボキシル基であ
り、好ましくは、メチルカルボキシル基、エチルカルボ
キシル基、n-プロピルカルボキシル基、iso-プロピルカ
ルボキシル基、n-ブチルカルボキシル基、iso-ブチルカ
ルボキシル基、sec-ブチルカルボキシル基、t-ブチルカ
ルボキシル基、n-ペンチルカルボキシル基、iso-ペンチ
ルカルボキシル基、neo-ペンチルカルボキシル基、2-メ
チルブチルカルボキシル基などの低級アルキルカルボキ
シル基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted acyl groups are acyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably formyl group, methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group, n-propyl group. Carbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group,
Examples include an iso-pentylcarbonyl group, a neo-pentylcarbonyl group, a 2-methylbutylcarbonyl group, and a nitrobenzylcarbonyl group. Examples of the substituted or unsubstituted alkyl carboxyl group include an alkyl carboxyl group having the same substituent as the above-described alkyl group, preferably a methyl carboxyl group, an ethyl carboxyl group, an n-propyl carboxyl group, -Propyl carboxyl group, n-butyl carboxyl group, iso-butyl carboxyl group, sec-butyl carboxyl group, t-butyl carboxyl group, n-pentyl carboxyl group, iso-pentyl carboxyl group, neo-pentyl carboxyl group, 2-methyl A lower alkyl carboxyl group such as a butyl carboxyl group is exemplified.

【0029】置換または未置換のアルキルカルボニルア
ミノ基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な
置換基を有するアルキルカルボニルアミノ基であり、好
ましくは、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニ
ルアミノ基、n-プロピルカルボニルアミノ基、iso-プロ
ピルカルボニルアミノ基、n-ブチルカルボニルアミノ
基、iso-ブチルカルボニルアミノ基、sec-ブチルカルボ
ニルアミノ基、t-ブチルカルボニルアミノ基、n-ペンチ
ルカルボニルアミノ基、iso-ペンチルカルボニルアミノ
基、neo-ペンチルカルボニルアミノ基、2-メチルブチル
カルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ
基、スクシンイミノ基などの低級アルキルカルボニルア
ミノ基が挙げられる。置換または未置換のアルキルスル
ホンアミノ基の例としては、上記に挙げたアルキル基と
同様な置換基を有するアルキルスルホンアミノ基であ
り、好ましくは、メチルスルホンアミノ基、エチルスル
ホンアミノ基、n-プロピルスルホンアミノ基、iso-プロ
ピルスルホンアミノ基、n-ブチルスルホンアミノ基、is
o-ブチルスルホンアミノ基、sec-ブチルスルホンアミノ
基、t-ブチルスルホンアミノ基、n-ペンチルスルホンア
ミノ基、iso-ペンチルスルホンアミノ基、neo-ペンチル
スルホンアミノ基、2-メチルブチルスルホンアミノ基、
シクロヘキシルスルホンアミノ基などの低級アルキルス
ルホンアミノ基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group include an alkylcarbonylamino group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylcarbonylamino group, an ethylcarbonylamino group, n-propylcarbonylamino group, iso-propylcarbonylamino group, n-butylcarbonylamino group, iso-butylcarbonylamino group, sec-butylcarbonylamino group, t-butylcarbonylamino group, n-pentylcarbonylamino group, iso And lower alkylcarbonylamino groups such as -pentylcarbonylamino group, neo-pentylcarbonylamino group, 2-methylbutylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, and succinimino group. Examples of the substituted or unsubstituted alkylsulfonamino group include an alkylsulfonamino group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylsulfonamino group, an ethylsulfonamino group, and n-propyl. Sulfonamino group, iso-propylsulfonamino group, n-butylsulfonamino group, is
o-butyl sulfone amino group, sec-butyl sulfone amino group, t-butyl sulfone amino group, n-pentyl sulfone amino group, iso-pentyl sulfone amino group, neo-pentyl sulfone amino group, 2-methylbutyl sulfone amino group,
A lower alkylsulfonamino group such as a cyclohexylsulfonamino group is exemplified.

【0030】置換または未置換のアルキルアミノ基の例
としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有
するアルキルアミノ基であり、好ましくは、N-メチルア
ミノ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ
基、N,N-ジプロピルアミノ基、N,N-ジブチルアミノ基な
どの低級アルキルアミノ基が挙げられる。置換または未
置換のアルキルスルホン基の例としては、上記に挙げた
アルキル基と同様な置換基を有するアルキルスルホン基
であり、好ましくは、メチルスルホン基、エチルスルホ
ン基、n-プロピルスルホン基、iso-プロピルスルホン
基、n-ブチルスルホン基、iso-ブチルスルホン基、sec-
ブチルスルホン基、t-ブチルスルホン基、n-ペンチルス
ルホン基、iso-ペンチルスルホン基、neo-ペンチルスル
ホン基、2-メチルブチルスルホン基、2-ヒドロキシエチ
ルスルホン基、2-シアノエチルスルホン基などの低級ア
ルキルスルホン基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylamino group include an alkylamino group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably an N-methylamino group or an N, N-dimethylamino group. And lower alkylamino groups such as N, N-diethylamino group, N, N-dipropylamino group and N, N-dibutylamino group. Examples of the substituted or unsubstituted alkylsulfone group include an alkylsulfone group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylsulfone group, an ethylsulfone group, an n-propylsulfone group, an iso group. -Propyl sulfone group, n-butyl sulfone group, iso-butyl sulfone group, sec-
Lower grades such as butyl sulfone group, t-butyl sulfone group, n-pentyl sulfone group, iso-pentyl sulfone group, neo-pentyl sulfone group, 2-methylbutyl sulfone group, 2-hydroxyethyl sulfone group, and 2-cyanoethyl sulfone group An alkylsulfone group is exemplified.

【0031】置換または未置換のアルキルチオ基の例と
しては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有す
るアルキルチオ基であり、好ましくは、メチルチオ基、
エチルチオ基、n-プロピルチオ基、iso-プロピルチオ
基、n-ブチルチオ基、iso-ブチルチオ基、sec-ブチルチ
オ基、t-ブチルチオ基、n-ペンチルチオ基、iso-ペンチ
ルチオ基、neo-ペンチルチオ基、2-メチルブチルチオ
基、メチルカルボキシルエチルチオ基などの低級アルキ
ルチオ基が挙げられる。置換または未置換のアルキルア
ゾメチン基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアルキルアゾメチン基であり、好ま
しくは、メチルアゾメチン基、エチルアゾメチン基、n-
プロピルアゾメチン基、iso-プロピルアゾメチン基、n-
ブチルアゾメチン基、iso-ブチルアゾメチン基、sec-ブ
チルアゾメチン基、t-ブチルアゾメチン基、n-ペンチル
アゾメチン基、iso-ペンチルアゾメチン基、neo-ペンチ
ルアゾメチン基、2-メチルブチルアゾメチン基、ヒドロ
キシエチルアゾメチン基などの低級アルキルアゾメチン
基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylthio groups are the alkylthio groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a methylthio group,
Ethylthio, n-propylthio, iso-propylthio, n-butylthio, iso-butylthio, sec-butylthio, t-butylthio, n-pentylthio, iso-pentylthio, neo-pentylthio, 2- And lower alkylthio groups such as methylbutylthio group and methylcarboxylethylthio group. Examples of the substituted or unsubstituted alkylazomethine group include an alkylazomethine group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylazomethine group, an ethylazomethine group, or an n-
Propylazomethine group, iso-propylazomethine group, n-
Butylazomethine group, iso-butylazomethine group, sec-butylazomethine group, t-butylazomethine group, n-pentylazomethine group, iso-pentylazomethine group, neo-pentylazomethine group, 2-methylbutylazomethine group, hydroxyethylazomethine And lower alkylazomethine groups such as a group.

【0032】置換または未置換のアルキルアミノスルホ
ン基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有するアルキルアミノスルホン基であり、好まし
くは、N-メチルアミノスルホン基、N-エチルアミノスル
ホン基、N-(n- プロピル) アミノスルホン基、N-(iso-
プロピル) アミノスルホン基、N-(n- ブチル) アミノス
ルホン基、N-(iso- ブチル) アミノスルホン基、N-(sec
- ブチル) アミノスルホン基、N-(t- ブチル) アミノス
ルホン基、N-(n- ペンチル) アミノスルホン基、N-(iso
- ペンチル) アミノスルホン基、N-(neo- ペンチル) ア
ミノスルホン基、N-(2- メチルブチル) アミノスルホン
基、N-(2- ヒドロキシエチル) アミノスルホン基、N-(2
- シアノエチル) アミノスルホン基などの低級アルキル
アミノスルホン基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylaminosulfone groups include alkylaminosulfone groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably N-methylaminosulfone group, N-ethyl Aminosulfone group, N- (n-propyl) aminosulfone group, N- (iso-
Propyl) aminosulfone group, N- (n-butyl) aminosulfone group, N- (iso-butyl) aminosulfone group, N- (sec
-Butyl) aminosulfone group, N- (t-butyl) aminosulfone group, N- (n-pentyl) aminosulfone group, N- (iso
-Pentyl) aminosulfone group, N- (neo-pentyl) aminosulfone group, N- (2-methylbutyl) aminosulfone group, N- (2-hydroxyethyl) aminosulfone group, N- (2
-Cyanoethyl) lower alkylaminosulfone group such as aminosulfone group.

【0033】さらに具体的には、窒素原子とYまたは
Y’からなる5員環としては、インドリン環(Y、Y’
がCR4 5 で、A1 とA2 またはA3 とA4 がベンゼ
ン環を形成)、ベンゾインドリン環(Y、Y’がCR4
5 で、A1 とA2 またはA3とA4 がナフタレン環を
形成)、チアゾール環(Y、Y’がS)、ベンゾチアゾ
ール環(Y、Y’がSで、A1 とA2 またはA3 とA4
がベンゼン環を形成)、ナフトチアゾール環(Y、Y’
がSで、A1 とA2 またはA3 とA4 がナフタレン環を
形成)、オキサゾール環(Y、Y’がO)、ベンゾオキ
サゾール環(Y、Y’がOで、A1 とA2 またはA3
4 がベンゼン環を形成)、ナフトオキサゾール環
(Y、Y’がOで、A1 とA2 またはA3 とA4 がナフ
タレン環を形成)、イミダゾール環(Y、Y’がN
6 )、ベンズイミダゾール環(Y、Y’がNR6 で、
1 とA2 またはA3 とA4 がベンゼン環を形成)、ナ
フトイミダゾール環(Y、Y’がNR6 で、A1 とA2
またはA3 とA4 がナフタレン環を形成)、セレナゾー
ル環(Y、Y’がSe)、ベンゾセレナゾール環、ナフ
トセレナゾール環等が挙げられる。
More specifically, the five-membered ring consisting of a nitrogen atom and Y or Y 'includes an indoline ring (Y, Y'
Is CR 4 R 5 , A 1 and A 2 or A 3 and A 4 form a benzene ring), and a benzoindoline ring (Y and Y ′ are CR 4
In R 5 , A 1 and A 2 or A 3 and A 4 form a naphthalene ring), a thiazole ring (Y and Y ′ are S), a benzothiazole ring (Y and Y ′ are S and A 1 and A 2 Or A 3 and A 4
Forms a benzene ring), a naphthothiazole ring (Y, Y ′
Is S, A 1 and A 2 or A 3 and A 4 form a naphthalene ring), an oxazole ring (Y and Y ′ are O), a benzoxazole ring (Y and Y ′ are O and A 1 and A 2 Or A 3 and A 4 form a benzene ring), a naphthoxazole ring (Y and Y ′ are O and A 1 and A 2 or A 3 and A 4 form a naphthalene ring), an imidazole ring (Y and Y ′ Is N
R 6 ), a benzimidazole ring (Y and Y ′ are NR 6)
A 1 and A 2 or A 3 and A 4 form a benzene ring), a naphthoimidazole ring (Y and Y ′ are NR 6 and A 1 and A 2
Or A 3 and A 4 form a naphthalene ring), a selenazole ring (Y and Y ′ are Se), a benzoselenazole ring, a naphthoselenazole ring and the like.

【0034】A1 とA2 またはA3 とA4 が形成するベ
ンゼン環またはナフタレン環は置換基を有していても良
い。置換基の具体例としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ
素等のハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アルキル
チオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ
基等が挙げられる。また、Xとしてはハロゲンイオン、
過塩素酸イオン、ホスホニウムイオン、スルフォニウム
イオン、1重項酸素クエンチャーとして知られている金
属ジチオール錯体陰イオン等の1価の陰イオンが挙げら
れる。
The benzene or naphthalene ring formed by A 1 and A 2 or A 3 and A 4 may have a substituent. Specific examples of the substituent include halogen such as fluorine, chlorine, bromine, and iodine, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryl group, an aryloxy group, and an arylthio group. X is a halogen ion,
Monovalent anions such as perchlorate ions, phosphonium ions, sulfonium ions, and metal dithiol complex anions known as singlet oxygen quencher are exemplified.

【0035】本発明に於いては、基板の上に、直接又は
無機系又は有機系の下引き層を介して前記した色素を含
有する記録層を設ける。該記録層を設ける方法は、例え
ば、スピンコート法、浸漬法、スプレー法、蒸着法等が
あるが、スピンコート法が好ましい。スピンコート法で
成膜する際の塗布溶剤としては、基板へのダメージを与
えない溶剤であれば特に限定されない。好ましい溶剤と
しては、例えば、エチルアルコール、プロピルアルコー
ル、ブチルアルコール、フルフリルアルコール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、テトラフルオロプロ
パノール等のアルコール系溶剤が挙げられる。また、色
素の側鎖に非極性基をつければ、アルコール系溶媒より
も極性の低いヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶剤やジ
ブチルエーテルのようなエーテル系溶剤などの使用も可
能である。これらの溶剤は単独で使用しても良いし2種
類以上の溶剤を混合しても良い。
In the present invention, a recording layer containing the above-mentioned dye is provided on a substrate directly or via an inorganic or organic undercoat layer. The method for providing the recording layer includes, for example, a spin coating method, a dipping method, a spraying method, and a vapor deposition method, and the spin coating method is preferable. The coating solvent used for forming a film by spin coating is not particularly limited as long as it does not damage the substrate. Preferred solvents include, for example, alcohol solvents such as ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, furfuryl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, and tetrafluoropropanol. If a non-polar group is added to the side chain of the dye, it is possible to use an aliphatic hydrocarbon solvent such as hexane having a lower polarity than the alcohol solvent, or an ether solvent such as dibutyl ether. These solvents may be used alone or as a mixture of two or more solvents.

【0036】記録層を成膜する際に、必要に応じてバイ
ンダーを併用することもできる。好ましいバインダーと
しては、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン樹
脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボ
ネート、ポリオレフィン等が挙げられる。また、記録特
性などの改善のために、他の色素を添加することもでき
る。記録層の膜厚は、変調度や反射率に影響するが、本
発明に於いては、グルーブ上の膜厚で40nm〜 300n
m、好ましくは60nm〜 200nmである。記録層を基板
の上に成膜する際に、基板の耐溶剤性や反射率、記録感
度等を改良するために、基板の上に無機物やポリマーか
らなる層を設けても良い。
In forming the recording layer, a binder can be used together if necessary. Preferred binders include nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like. Further, other dyes can be added for improving recording characteristics and the like. The thickness of the recording layer affects the degree of modulation and the reflectance, but in the present invention, the thickness on the groove is 40 nm to 300 nm.
m, preferably 60 nm to 200 nm. When forming the recording layer on the substrate, a layer made of an inorganic substance or a polymer may be provided on the substrate in order to improve the solvent resistance, the reflectance, the recording sensitivity, and the like of the substrate.

【0037】本発明に於いては、反射率、変調度等の特
性をを改良するために、前記した色素を含有する記録層
と反射層の間に、光干渉層を設けることもできる。光干
渉層を形成する材料としては、無機誘電体、ポリマーや
色素等が挙げられる。本発明に於いては、前記記録層の
上に反射層を設けるが、反射層としては、金、銀、アル
ミニウム、銅、白金等の金属やこれらの金属を含有する
合金が用いられるが、反射率や耐久性の点から金、アル
ミニウム、銀やこれらの金属を主成分とする合金が好ま
しい。反射層の膜厚は通常40nm〜 300nm 、好まし
くは60nm〜 200nmである。反射層を成膜する方法
は、例えば、真空蒸着、スパッタ法、イオンプレーティ
ング法等が挙げられる。
In the present invention, a light interference layer may be provided between the recording layer containing the dye and the reflection layer in order to improve the characteristics such as the reflectance and the degree of modulation. Examples of a material for forming the light interference layer include an inorganic dielectric, a polymer, and a dye. In the present invention, a reflective layer is provided on the recording layer. As the reflective layer, metals such as gold, silver, aluminum, copper and platinum and alloys containing these metals are used. From the viewpoint of efficiency and durability, gold, aluminum, silver and alloys containing these metals as main components are preferable. The thickness of the reflective layer is usually 40 nm to 300 nm, preferably 60 nm to 200 nm. Examples of the method for forming the reflective layer include vacuum deposition, sputtering, and ion plating.

【0038】本発明に於いては、対物レンズの開口数が
大きいために、収差を小さくするため、基板の厚みは、
0.5 〜0.8mm 程度が好ましい。この際媒体の強度や機械
特性の向上のために、接着剤を用いて2枚を貼り合わせ
てもよい。貼り合わせに当たっては、反射層上に保護層
を成膜することなしに、又は保護層を成膜した後、貼り
合わせることができる。保護層としては、紫外線硬化性
アクリル樹脂、紫外線硬化性エポキシ樹脂、シリコーン
系ハードコート樹脂等が用いられる。又、貼り合わせる
際の接着剤としては、紫外線硬化性アクリル樹脂、紫外
線硬化性エポキシ樹脂、ホットメルト接着剤等が用いら
れる。このようにして得られた本発明の光記録媒体は、
レーザー光を記録層に集束することにより、ビーム径の
割には、はるかに高密度に記録や再生を行うことが出来
る。記録する際の信号としては、例えば、CDやDVD
等に用いられている変調信号が、本発明の効果を達成す
る上で好ましい。
In the present invention, since the numerical aperture of the objective lens is large and the aberration is reduced, the thickness of the substrate is
It is preferably about 0.5 to 0.8 mm. At this time, in order to improve the strength and mechanical properties of the medium, the two sheets may be bonded using an adhesive. In bonding, the bonding can be performed without forming a protective layer on the reflective layer or after forming the protective layer. As the protective layer, an ultraviolet curable acrylic resin, an ultraviolet curable epoxy resin, a silicone hard coat resin, or the like is used. In addition, as an adhesive for bonding, an ultraviolet curable acrylic resin, an ultraviolet curable epoxy resin, a hot melt adhesive, or the like is used. The optical recording medium of the present invention thus obtained is
By focusing the laser beam on the recording layer, recording and reproduction can be performed at a much higher density than the beam diameter. Signals for recording include, for example, CDs and DVDs.
The modulation signal used for the above is preferable for achieving the effects of the present invention.

【0039】[0039]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明の実施の態様はこれにより限定されるもの
ではない。 実施例1 厚さ 0.6mm、直径 120mmのスパイラル状のグルーブ(深
さ 150nm 、ピッチ0.74μm)を有する射出成形ポリ
カーボネート基板のグルーブを有する面に、この樹脂基
板を回転させながら、下記式(2)(化3)で表される
色素1、すなわちトリメチンシアニン色素の3−エチル
−2−[2−[(3−エチルナフト[2,1−d]チア
ゾール−2−(3H)−イリデン)メチル]−1−ブテ
ニル]ナフト[2,1−d]チアゾリウムヨーダイド
(株式会社日本感光色素研究所製、NK−1056)の
5.0重量%を2,2,3,3-テトラフルオロ-1- プロパノール
に溶解した溶液を滴下して、スピンコートし、基板上に
色素層を成膜した(グルーブ膜厚 130nm, ランド膜厚
50nm)。なお、635 nmにおける色素の屈折率nabs
は 2.2、基板の屈折率nsub は 1.6であった。
EXAMPLES The present invention will be described below in more detail with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto. Example 1 While rotating this resin substrate on the grooved surface of an injection-molded polycarbonate substrate having a spiral groove (depth 150 nm, pitch 0.74 μm) having a thickness of 0.6 mm and a diameter of 120 mm, the following formula (2) was used. Dye 1 represented by (Chemical Formula 3), that is, 3-ethyl-2- [2-[(3-ethylnaphtho [2,1-d] thiazole-2- (3H) -ylidene) methyl] trimethinecyanine dye -1-butenyl] naphtho [2,1-d] thiazolium iodide (NK-1056, manufactured by Japan Photographic Dye Laboratory Co., Ltd.)
A solution in which 5.0% by weight of 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol was dissolved was dropped and spin-coated to form a dye layer on the substrate (groove film thickness 130 nm, land film thickness).
50 nm). The refractive index of the dye at 635 nm, nabs
Was 2.2 and the refractive index nsub of the substrate was 1.6.

【0040】[0040]

【化3】 Embedded image

【0041】この記録層の上に、反射層として厚さ80n
mの金薄膜をスパッタにより成膜した後、この反射層の
上に、紫外線硬化接着剤を塗布した。この接着剤の上
に、前記したのと同じ 0.6mmの基板を重ね合わせ、高速
でスピンコートした後、紫外線を照射して貼り合わせた
光記録媒体を製作した。この光記録媒体をターンテーブ
ルに乗せ、3.5m/sの線速で回転させながら、635nmの
発振波長を有する半導体レーザーと、NAが 0.6の対物
レンズからなる光ヘッドを搭載したパルステック工業製
光ディスク評価装置(DDU−1000)及び KENWOOD
製 EFMエンコーダーを用いて、レーザービームを基板を
通してグルーブ上の記録層に集束するように制御しなが
ら、記録レーザーパワーを変化させながら最短ピット長
が0.44μmの EFM変調信号を記録した後、同じ装置を用
いてレーザー出力を 0.5mWにして記録した信号の読み出
しを行った。尚、読み出す際はイコライゼーション処理
を施した。記録パワーが 9.0mWのレーザー出力の時が最
もエラーレートが小さく(最適記録パワー)、バイトエ
ラーレートは 5×10-4、またその際のジッターは、ピッ
トの立ち上がりも立ち下がりもチャネルビットクロック
の 8%であった。未記録部の反射率は 52%、最短ピット
の変調度(I3/Itop=[(3T信号の最大強度)-( 3T信号の最
小強度)]/(11T信号の最大強度) )が22%であり、良好
な記録、再生ができた。又、再生波形には殆ど歪は観測
されなかった。未記録のRCbは0.07であり、トラッキ
ングは安定にかかった。なお、エラーレートはケンウッ
ド社製CDデコーダー(DR3552)を用いて計測
し、RCbは以下の式により求めた。 RCb=2(Il−Ig)/(Il+Ig) Il:未記録ランド反射電位 Ig:未記録グルーブ反射電位 また、この場合のdsub は0.14r、Pは0.70r 、△Tは
0.20である。
On this recording layer, a 80 n thick reflective layer
After forming a gold thin film of m by sputtering, an ultraviolet curing adhesive was applied on this reflective layer. The same 0.6 mm substrate as described above was superimposed on this adhesive, spin-coated at a high speed, and then irradiated with ultraviolet rays to produce an optical recording medium. This optical recording medium is put on a turntable and rotated at a linear speed of 3.5 m / s. An optical disk manufactured by Pulstec Industrial, equipped with a semiconductor laser having an oscillation wavelength of 635 nm and an optical head consisting of an objective lens with NA of 0.6. Evaluation device (DDU-1000) and KENWOOD
After recording an EFM modulated signal with a minimum pit length of 0.44 μm while changing the recording laser power while controlling the laser beam to focus on the recording layer on the groove using the EFM encoder manufactured by The recorded signal was read out at a laser output of 0.5 mW using. Note that when reading, an equalization process was performed. When the recording power is 9.0 mW laser output, the error rate is the smallest (optimal recording power), the byte error rate is 5 × 10 -4 , and the jitter at that time is the rising and falling of the pits and the channel bit clock. 8%. The reflectance of the unrecorded area is 52%, and the modulation degree of the shortest pit (I3 / Itop = [(maximum intensity of 3T signal)-(minimum intensity of 3T signal)] / (maximum intensity of 11T signal)) is 22%. There was good recording and reproduction. Almost no distortion was observed in the reproduced waveform. The unrecorded RCb was 0.07, and tracking was stable. The error rate was measured using a Kenwood CD decoder (DR3552), and RCb was determined by the following equation. RCb = 2 (Il-Ig) / (Il + Ig) Il: Unrecorded land reflection potential Ig: Unrecorded groove reflection potential In this case, dsub is 0.14r, P is 0.70r, and ΔT is
It is 0.20.

【0042】実施例2〜5及び比較例1〜3 実施例1に於いて、第1表(表1、表2)に示すグルー
ブ形状の基板を用いる以外は実施例1と同じ方法で媒体
を作り、評価した。なお、このとき、下記式(3)(化
4)で表される色素2:5,6−ジクロロ−2−[3−
(5,6−ジクロロ−1,3−ジエチル−2(3H)−
ベンズイミダゾオイリデン)−1−プロペニル]−1,
3−ジエチルベンズイミダゾリウムヨーダイド(株式会
社日本感光色素研究所製、NK−1420)、下記式
(4)(化4)で表される色素3:2−[3−(1,3
−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−2H−インドー
ル−2−イリデン)−1−プロペニル]−1,3,3−
トリメチル−3H−インドリウムヨーダイド(株式会社
日本感光色素研究所製、NK−79)、下記式(5)
(化4)で表される色素4:3−エチル−2−[3−
(3−エチル−2(3H)−ベンズオキサゾルイリデ
ン)−1−プロペニル]ベンズオキサゾリウムヨーダイ
ド(株式会社日本感光色素研究所製、NK−85)の色
素を用いた。
Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 In Example 1, a medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that a groove-shaped substrate shown in Table 1 (Tables 1 and 2) was used. Made and evaluated. At this time, the dye 2: 5,6-dichloro-2- [3- represented by the following formula (3)
(5,6-dichloro-1,3-diethyl-2 (3H)-
Benzimidazooilidene) -1-propenyl] -1,
3-Diethylbenzimidazolium iodide (NK-1420, manufactured by Japan Photographic Dye Laboratories), dye 3: 2- [3- (1,3) represented by the following formula (4)
-Dihydro-1,3,3-trimethyl-2H-indole-2-ylidene) -1-propenyl] -1,3,3-
Trimethyl-3H-indolium iodide (NK-79, manufactured by Japan Photosensitive Dye Laboratories, Inc.), the following formula (5)
Dye 4: 3-ethyl-2- [3-
(3-Ethyl-2 (3H) -benzoxazolylidene) -1-propenyl] benzoxazolium iodide (NK-85, manufactured by Japan Photographic Dye Laboratory Co., Ltd.) was used.

【0043】[0043]

【化4】 Embedded image

【0044】また、比較例では、色素1、下記式(6)
(化5)で表される色素5:1−エチル−2−[5−
(1−エチルナフト[1,2−d]チアゾール−2(1
H)−イリデン)−1,3−ペンタジエチル]ナフト
「1,2−d]チアゾリウムヨーダイド(株式会社日本
感光色素研究所製、NK−2409)、下記式(7)
(化5)で表される色素6:1−エチル−4−[5−
(1−エチル−4(1H)−キノリニリデン)−1,3
−ペンタジエチル]キノリニウムヨーダイド(株式会社
日本感光色素研究所製、NK−1144)、下記式
(8)(化5)で表される色素7:1−エチル−2−
[3−(1−エチル−2(1H)−キノリニリデン)−
1−プロペニル]キノリニウムヨーダイド(株式会社日
本感光色素研究所製、NK−3)を用いた。結果は第2
表(表3)にまとめた。第2表から明らかなように、本
発明の実施例に於いては極めて良好な記録、再生が出来
たが、比較例に於いては最短ピットの変調度(I3/Itop)
が小さく、エラーレート及びジッターは大きく、良好な
記録、再生ができなかった。また、比較例では、ラジア
ルコントラスト(RCb) が小さいため記録時のトラッキン
グが不安定なものもあった。
In Comparative Example, Dye 1 was prepared according to the following formula (6).
Dye 5 represented by the following formula (5): 1-ethyl-2- [5-
(1-Ethylnaphtho [1,2-d] thiazole-2 (1
H) -Ilidene) -1,3-pentadiethyl] naphtho [1,2-d] thiazolium iodide (NK-2409, manufactured by Japan Photographic Dye Laboratories, Inc.), the following formula (7)
Dye 6: 1-ethyl-4- [5-
(1-ethyl-4 (1H) -quinolinylidene) -1,3
-Pentadiethyl] quinolinium iodide (NK-1144, manufactured by Japan Photographic Dye Laboratories, Inc.), dye 7: 1-ethyl-2- represented by the following formula (8)
[3- (1-Ethyl-2 (1H) -quinolinylidene)-
1-Propenyl] quinolinium iodide (NK-3, manufactured by Japan Photographic Dye Laboratory Co., Ltd.) was used. The result is the second
The results are summarized in Table (Table 3). As is clear from Table 2, in the example of the present invention, extremely good recording and reproduction were performed, but in the comparative example, the modulation degree of the shortest pit (I3 / Itop) was obtained.
And the error rate and jitter were large, and good recording and reproduction could not be performed. In some comparative examples, tracking during recording was unstable due to low radial contrast (RCb).

【0045】[0045]

【化5】 Embedded image

【0046】[0046]

【表1】 [Table 1]

【0047】[0047]

【表2】 [Table 2]

【0048】[0048]

【表3】 [Table 3]

【0049】実施例5〜7及び比較例6 記録層に用いる色素に、色素2、3、4及び下記式
(9)(化6)で表される色素8のフタロシアニン色素
を用い、且つトラックピッチ 0.8μm、深さ 150nmの
基板を用いる以外は、実施例1と同じ方法で媒体を作り
評価した。評価は3.5m/sの線速で回転させながら、633
nmの発振波長を有する半導体レーザーと、NAが0.63
の対物レンズからなる光ヘッドを搭載したパルステック
工業製光ディスク評価装置(DDU−1000)を用い
る以外は、実施例1と同様に行った。また、この場合の
dsub は 0.15r、Pは 0.80rであり、色素膜厚及び△T
は第 3表(表4)にまとめた。評価結果は第4表(表
5)にまとめた。第4表から明らかなように、本発明の
実施例に於いては極めて良好な記録、再生が出来たが、
比較例に於いては反射率は低く、信号波形は汚く、最短
ピットの変調度(I3/Itop) 、ジッターは測定が不可能で
あった。
Examples 5 to 7 and Comparative Example 6 Dyes 2, 3, and 4 and a phthalocyanine dye of Dye 8 represented by the following formula (9) were used as dyes for the recording layer, and a track pitch was used. A medium was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that a substrate having a thickness of 0.8 μm and a depth of 150 nm was used. The evaluation was 633 while rotating at a linear speed of 3.5 m / s.
A semiconductor laser having an oscillation wavelength of nm and an NA of 0.63
Example 1 was performed except that an optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. equipped with an optical head including the objective lens was used. In this case, dsub is 0.15r, P is 0.80r, and the dye film thickness and ΔT
Are summarized in Table 3 (Table 4). The evaluation results are summarized in Table 4 (Table 5). As is clear from Table 4, in the embodiment of the present invention, extremely good recording and reproduction were performed.
In the comparative example, the reflectance was low, the signal waveform was dirty, and the modulation of the shortest pit (I3 / Itop) and jitter could not be measured.

【0050】[0050]

【化6】 Embedded image

【0051】[0051]

【表4】 [Table 4]

【0052】[0052]

【表5】 [Table 5]

【0053】実施例8 記録層に用いる色素に色素1を用い、実施例1と同じ方
法で媒体を作り評価した。評価は3.5m/sの線速で回転さ
せながら、633 nmの発振波長を有する半導体レーザー
と、NAが0.68の対物レンズからなる光ヘッドを搭載し
たパルステック工業製光ディスク評価装置(DDU−1
000)を用いる以外は、実施例1と同様に行った。d
sub は 0.14r、Pは 0.74rであり、グルーブ膜厚 130n
m 、ランド膜厚45nm、△Tは0.14であった。記録パ
ワーが 8.5mWのレーザー出力の時が最もエラーレートが
小さく、バイトエラーレートは 6×10-4、又その際のジ
ッターはチャネルビットクロックの 9.0%であった。未
記録部の反射率は 50%、最短ピットの変調度が 20%であ
り、良好な記録、再生ができた。又、再生波形には殆ど
歪は観測されなかった。
Example 8 A medium was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that Dye 1 was used as a dye for the recording layer. The evaluation was carried out while rotating at a linear velocity of 3.5 m / s, an optical disk evaluation device (DDU-1 manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd.) equipped with a semiconductor laser having an oscillation wavelength of 633 nm and an optical head comprising an objective lens with an NA of 0.68.
000) was used, except that 000) was used. d
sub is 0.14r, P is 0.74r, and the groove film thickness is 130n.
m, the land thickness was 45 nm, and ΔT was 0.14. The error rate was the smallest when the recording power was 8.5 mW, and the byte error rate was 6 × 10 -4 , and the jitter at that time was 9.0% of the channel bit clock. The reflectivity of the unrecorded area was 50%, and the modulation degree of the shortest pit was 20%. Almost no distortion was observed in the reproduced waveform.

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明に於いては、基板上に少なくとも
色素を含有する記録層、反射層を有してなる光記録媒体
に於いて、トラックピッチ及びグルーブ深さをλ/NA
で表される記録ビーム径(λは記録波長、NAは対物レ
ンズの開口数)に対しての規定、記録層を含めた光学位
相差の規定さらには色素種の限定をすることにより、記
録時のトラッキングが安定しており、良好な記録特性を
有した高密度記録が可能な光記録媒体が実現される。
According to the present invention, in an optical recording medium having a recording layer containing at least a dye and a reflective layer on a substrate, the track pitch and groove depth are set to λ / NA.
The recording beam diameter (λ is the recording wavelength, NA is the numerical aperture of the objective lens), the optical phase difference including the recording layer, and the type of dye are limited by An optical recording medium which is stable in tracking and has good recording characteristics and capable of high-density recording is realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光記録媒体の層構成を示す断面構造図FIG. 1 is a sectional structural view showing a layer configuration of an optical recording medium of the present invention.

【図2】本発明の光記録媒体の層構成を示す断面構造図FIG. 2 is a sectional structural view showing a layer configuration of the optical recording medium of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:基板 2:記録層 3:反射層 4:保護層 1’:基板 2’:記録層 3’:反射層 4’:接着層 5’:基板 1: substrate 2: recording layer 3: reflective layer 4: protective layer 1 ': substrate 2': recording layer 3 ': reflective layer 4': adhesive layer 5 ': substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷口 義輝 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 笹川 知由 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 広瀬 純夫 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yoshiteru Taniguchi 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Tomoyoshi Sasakawa 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Within Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Sumio Hirose 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スパイラル状にグルーブが形成された基
板上に直接または他の層を介してレーザー光を吸収する
色素を含有する記録層、該記録層の上に直接または他の
層を介して金属の反射層を有する光記録媒体において、
λ/NAで表される記録ビームの径をr〔ここで、λは
記録波長(μm)、NAは対物レンズの開口数を表
す〕、基板のグルーブのピッチをP(μm)、グルーブ
の深さをdsub (μm)、該記録層のグルーブ部の色素
膜厚をdg (μm)、ランド部の色素膜厚dl (μ
m)、波長λでの記録層の屈折率をnabs 、基板の屈折
率をnsub としたとき、下記式の関係を有し、 0.66r≦P≦0.89r 0.12r≦dsub ≦0.20r 1.8≦nabs ≦2.7 また、光学位相差(△T)=2〔nsub ・dsub +nab
s(dl −dg)〕/λが、0.13≦△T≦ 0.41
で、かつdg −dl ≦dsub であり、且つ記録層に含有
される色素が一般式(化1)で示されるトリメチンシア
ニン化合物であることを特徴とする高密度光記録媒体。 【化1】 〔式中、Y、Y’はそれぞれ、CR4 5 、O、S、S
eまたはNR6 を表し、R1 〜R6 は水素原子あるいは
炭素数1〜12の無置換または置換アルキル基、A1
4 は水素原子あるいは炭素数1〜4のアルキル基を表
し、A1 とA2 、A3 とA4 は無置換または置換のベン
ゼン環あるいはナフタレン環を形成していても良く、X
は1価の陰イオンを表す。ただし、R1 が1価の陰イオ
ン置換基の場合は、Xは存在しない〕
1. A recording layer containing a dye that absorbs laser light directly or via another layer on a substrate having a spiral groove formed thereon, and directly or via another layer on the recording layer. In an optical recording medium having a metal reflective layer,
The diameter of the recording beam represented by λ / NA is r (where λ is the recording wavelength (μm), NA is the numerical aperture of the objective lens), the pitch of the groove of the substrate is P (μm), and the depth of the groove is Is dsub (μm), the dye film thickness at the groove portion of the recording layer is dg (μm), and the dye film thickness at the land portion is dl (μm).
m), assuming that the refractive index of the recording layer at the wavelength λ is nabs and the refractive index of the substrate is nsub, the following relationship is established: 0.66r ≦ P ≦ 0.89r 0.12r ≦ dsub ≦ 0. 20r 1.8 ≦ nabs ≦ 2.7 Also, the optical phase difference (ΔT) = 2 [nsub · dsub + nab
s (dl−dg)] / λ is 0.13 ≦ ΔT ≦ 0.41
And dg-dl≤dsub, and the dye contained in the recording layer is a trimethinecyanine compound represented by the general formula (Formula 1). Embedded image [Wherein, Y and Y ′ are each CR 4 R 5 , O, S, S
e or NR 6 , wherein R 1 to R 6 are a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, A 1 to
A 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, A 1 and A 2 , A 3 and A 4 may form an unsubstituted or substituted benzene ring or a naphthalene ring;
Represents a monovalent anion. However, when R 1 is a monovalent anionic substituent, X does not exist.]
【請求項2】 λが0.630〜0.655μm、NA
が0.58〜0.70である請求項1記載の高密度光記
録媒体。
2. λ is 0.630 to 0.655 μm, NA
2. The high-density optical recording medium according to claim 1, wherein is 0.58 to 0.70.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002102598A1 (en) * 2001-06-18 2002-12-27 Sony Corporation Optical recording medium
US6737143B2 (en) 2001-06-14 2004-05-18 Ricoh Company Ltd. Optical recording medium, optical recording method and optical recording device
US7247417B2 (en) * 2002-09-11 2007-07-24 Tdk Corporation Optical recording medium and optical recording/reproducing method
JP2007193938A (en) * 2007-02-13 2007-08-02 Ricoh Co Ltd Optical recording medium

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