JPH10157301A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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Publication number
JPH10157301A
JPH10157301A JP8325404A JP32540496A JPH10157301A JP H10157301 A JPH10157301 A JP H10157301A JP 8325404 A JP8325404 A JP 8325404A JP 32540496 A JP32540496 A JP 32540496A JP H10157301 A JPH10157301 A JP H10157301A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
substituted
unsubstituted
recording
groove
Prior art date
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Pending
Application number
JP8325404A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Umehara
英樹 梅原
Yoshiteru Taniguchi
義輝 谷口
Sumio Hirose
純夫 広瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Priority to JP8325404A priority Critical patent/JPH10157301A/en
Publication of JPH10157301A publication Critical patent/JPH10157301A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a high density optical recording medium capable of providing excellent recording property when a small pit is formed, by specifying a pitch of a groove of a substrate and the width of the groove, and using an azo compound to be expressed by a specified formula or its metal complex as a coloring matter to be contained in a recording layer. SOLUTION: An optical recording medium such as DVD comprises a recording layer and a reflecting layer on a transparent substrate with a groove. When a diameter of a record beam to be expressed by λ/NA (wherein λ represents a record wavelength and NA represents a numerical aperture of an objective lens) is (r), the pitch of the groove of the substrate is P(μm), and the width of the groove is Wg(μm), Wg and P are decided so as to satisfy an expression 0.24r<=Wg<=0.35r and 0.68r<=P<=0.83r. For a coloring matter to be contained in the recording layer, an azo compound to be expressed by a separately described general formula or its metal complex is used. In the formula, R1 and R2 represent a hydrogen atom and an alkyl group, R3 -R7 represent a hydrogen atom and a halogen atom, X represents a sulfur atom and the like, and Y represents a nitrogen atom and the like.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は透明基板上に色素を
含有する記録層、反射層を有する光記録媒体に関し、特
に高密度に記録可能な光記録媒体に関する。
The present invention relates to an optical recording medium having a recording layer containing a dye and a reflective layer on a transparent substrate, and more particularly to an optical recording medium capable of recording at high density.

【0002】[0002]

【従来の技術】色素を記録層とし、かつ、反射率を大き
くするため記録層の上に金属の反射層を設けた記録可能
な光記録媒体は、例えば、 Optical Data Storage 1989
Technical Digest Series Vol.1,45(1989)に開示さ
れ、記録層にシアニン系色素やフタロシアニン系色素を
用いた媒体はCD−R媒体として市場に供されている。
2. Description of the Related Art A recordable optical recording medium in which a dye is used as a recording layer and a metal reflective layer is provided on the recording layer in order to increase the reflectance is disclosed in, for example, Optical Data Storage 1989.
Technical Digest Series Vol. 1, 45 (1989), a medium using a cyanine dye or a phthalocyanine dye in the recording layer is marketed as a CD-R medium.

【0003】これらの媒体は780 nmの半導体レーザー
で記録することができ、かつ、780nm の半導体レー
ザーを搭載している市販のCDプレーヤーやCD−RO
Mプレーヤーで再生できるという特徴を有している。
[0003] These media can be recorded with a 780 nm semiconductor laser, and a commercially available CD player or CD-RO equipped with a 780 nm semiconductor laser is used.
It has the feature that it can be played on M players.

【0004】しかしながら、これらの媒体は650 MB程
度の容量しか持たず、デジタル動画等のように大容量の
情報を記録すると、記録時間が15分以下と短い。又、機
器の小型化が進む状況に対応するために、従来の媒体を
小型にすると容量が不足する。前記した従来のCD−R
媒体は780 nm前後の波長を有する半導体レーザーを用
いて記録及び再生を行っていたが、最近630 〜655 nm
の半導体レーザーが開発され、より高密度の記録及び/
又は再生が可能となった。現在では、直径120mmの媒
体に約2時間の高画質の動画を記録した光記録媒体が、
DVDとして開発されている。しかしながら、この媒体
は4.7GB/面の記録容量を有するが、ピットを基板
に転写して作られる再生専用の媒体である。そのため、
上記したような再生専用のDVDの記録容量に近い大容
量を有する記録可能な光記録媒体が求められている。
[0004] However, these media have a capacity of only about 650 MB, and when recording large-capacity information such as digital moving pictures, the recording time is as short as 15 minutes or less. In addition, if the size of the conventional medium is reduced in order to cope with a situation where the size of the device is reduced, the capacity becomes insufficient. The conventional CD-R described above
Recording and reproduction were performed using a semiconductor laser having a wavelength of about 780 nm as a medium.
Semiconductor lasers have been developed for higher density recording and / or
Or the reproduction became possible. At present, an optical recording medium that records a high-quality moving image of about 2 hours on a medium having a diameter of 120 mm,
It has been developed as a DVD. However, this medium has a recording capacity of 4.7 GB / side, but is a read-only medium made by transferring pits to a substrate. for that reason,
There is a need for a recordable optical recording medium having a large capacity close to the recording capacity of a read-only DVD as described above.

【0005】一般的に、記録可能な媒体において記録容
量を大きくするには、記録レーザービームを小さくすれ
ばよい。用いるレーザーの波長が短い程、又、対物レン
ズの開口数(NA)が大きい程、ビーム径は小さくな
り、高密度記録に好ましいが、現在の半導体レーザー技
術やレンズのNAから、ビーム径には限界がある。例え
ば、前記したDVDのビーム径は、従来のCDの場合に
比較して記録密度の割には小さくない。従って、記録時
にCD−Rの場合と比較してビーム径に比してより小さ
なピットを正確に形成しなければならない。しかしなが
ら、ピットの大きさが小さくなるほど、記録時のピット
間の熱干渉とクロストークが大きくなり、かつ、最短ピ
ットの変調度が小さくなり、ジッターやエラーレートが
大きくなるという問題点が生じる。そこで記録時に変調
度を犠牲にせずに、細く小さなピットを正確に形成でき
る媒体が求められている。
Generally, to increase the recording capacity of a recordable medium, the recording laser beam may be reduced. As the wavelength of the laser used is shorter and the numerical aperture (NA) of the objective lens is larger, the beam diameter becomes smaller, which is preferable for high-density recording. There is a limit. For example, the beam diameter of the DVD is not small compared to the conventional CD in comparison with the recording density. Therefore, pits smaller than the beam diameter must be accurately formed at the time of recording as compared with the case of CD-R. However, as the size of the pits becomes smaller, there arises a problem that thermal interference and crosstalk between the pits at the time of recording become larger, the degree of modulation of the shortest pit becomes smaller, and the jitter and error rate become larger. Therefore, there is a demand for a medium that can accurately form thin and small pits without sacrificing the degree of modulation during recording.

【0006】含窒素ヘテロ環を有するアゾ化合物の金属
錯体を記録層とする光記録媒体は特公平5-67438 号公報
および特公平07-71868号公報に開示されている。しかし
ながら、本発明で用いているヘテロ環については開示さ
れておらず、従来の近赤外レーザー波長での記録につい
て記述されているのみで、記録容量を大きくするための
種々の条件に関して何ら開示されていない。
Optical recording media using a metal complex of an azo compound having a nitrogen-containing heterocycle as a recording layer are disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-67438 and 07-71868. However, it does not disclose the heterocycle used in the present invention, but only describes recording at a conventional near-infrared laser wavelength, but does not disclose various conditions for increasing the recording capacity. Not.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明者の目的は、記
録ビーム径に対してトラックピッチを小さくしてもクロ
ストークが小さい、従来より小さなピットを形成した際
に良好な記録特性が可能な高密度光記録媒体を提供する
ことである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide good recording characteristics when a smaller pit is formed than in the prior art, in which crosstalk is small even if the track pitch is reduced with respect to the recording beam diameter. An object of the present invention is to provide a high-density optical recording medium.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために、鋭意検討した結果、記録ビーム径、
トラックピッチ、グルーブ形状及び色素について非自明
な選択を行い、本発明を完成した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive studies to achieve the above object, and have found that the recording beam diameter,
The present invention was completed by making non-trivial choices for track pitch, groove shape and dye.

【0009】すなわち、本発明は、 グルーブを有する透明な基板上に、直接又は他の層
を介して、レーザー光を吸収する色素を含有する記録層
と、該記録層の上に直接又は他の層を介して金属の反射
層を有する光記録媒体において、λ/NAで表される記
録ビームの径をr[ここで、λは記録波長(μm)、N
Aは対物レンズの開口数を表す]、基板のグルーブのピ
ッチ(トラックピッチ)をP(μm)、グルーブの幅を
Wg(μm)とした際に、WgおよびPが下記式を満足
し、 0.24r≦Wg≦0.35r 0.68r≦P≦0.83r かつ、該記録層に含有される色素が、下記式(1)〔化
3〕で示されるアゾ化合物またはその金属錯体であるこ
とを特徴とする高密度光記録媒体、
That is, the present invention relates to a recording layer containing a dye absorbing laser light, directly or through another layer, on a transparent substrate having a groove, In an optical recording medium having a metal reflective layer via a layer, the diameter of a recording beam represented by λ / NA is represented by r [where λ is a recording wavelength (μm), N
A represents the numerical aperture of the objective lens], when the groove pitch (track pitch) of the substrate is P (μm), and the width of the groove is Wg (μm), Wg and P satisfy the following expressions: .24r ≦ Wg ≦ 0.35r 0.68r ≦ P ≦ 0.83r and the dye contained in the recording layer is an azo compound represented by the following formula (1) or a metal complex thereof. A high-density optical recording medium,

【0010】[0010]

【化3】 [式中、R1 及びR2 は各々独立に水素原子、置換また
は未置換のアルキル基、置換または未置換のアリール
基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置
換のアルケニル基を表し、R3 、R4 、R5 及びR6
各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カ
ルボキシル基、スルホン基、スルホンアミド基、アミノ
基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換
のアシル基、置換または未置換のアルキルカルボキシル
基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置
換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または未置換の
アルキルスルホンアミノ基、置換または未置換のアルキ
ルアミノ基、置換または未置換のアルキルスルホン基、
置換または未置換のアルケニル基を表し(ここで、金属
錯体を形成する場合は、R3 及びR5 のどちらか一方は
ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、置換または
未置換のアルキルカルボキシル基、置換または未置換の
アルキルカルボニルアミノ基、置換または未置換のアル
キルスルホンアミノ基、置換または未置換のアルキルア
ミノ基であり、他方は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロ
キシ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、アミノ
基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換
のアシル基、置換または未置換のアルキルカルボキシル
基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置
換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または未置換の
アルキルスルホンアミノ基、置換または未置換のアルキ
ルアミノ基、置換または未置換のアルキルスルホン基、
置換または未置換のアルケニル基を表す。)、R1 とR
4 、R2 とR6 及びR1とR2 は連結基を介して環を形
成してもよく、R7 は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロ
キシ基、カルボキシル基、スルホン基、スルホンアミド
基、アミノ基、置換または未置換のアルキル基、置換ま
たは未置換のアルコキシ基、置換または未置換のアリー
ル基、置換または未置換のアシル基、置換または未置換
のアルキルカルボキシル基、置換または未置換のアラル
キル基、置換または未置換のアルキルカルボニルアミノ
基、置換または未置換のアルキルスルホンアミノ基、置
換または未置換のアルキルアミノ基、置換または未置換
のアルキルスルホン基、置換または未置換のアルケニル
基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、チオシアノ
基、クロロスルホン基、置換または未置換のアルキルチ
オ基、置換または未置換のアルキルアゾメチン基、置換
または未置換のアルキルアミノスルホン基を表し、X
は、硫黄原子またはN−R8 を表し(ここで、R8 は水
素原子、置換または未置換のアルキル基、置換または未
置換のアリール基、置換または未置換のアラルキル基、
置換または未置換のアルケニル基を表す。)、Yは窒素
原子またはC−R9 を表す(ここで、R9 はR7 と同じ
意味を表す。)。但し、Xが硫黄原子の時、Yは窒素原
子であり、XがN−R8 の時、YはC−R9 である。] 記録層に含有される色素が、下記式(2)〔化4〕
で示されるアゾ化合物の金属錯体であることを特徴とす
るに記載の高密度光記録媒体、
Embedded image [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfone group, a sulfonamide group, an amino group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted Acyl group, substituted or unsubstituted alkylcarboxyl group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group, substituted or unsubstituted alkylsulfonamino group, substituted or unsubstituted alkylamino group, substituted Or an unsubstituted alkylsulfone group,
Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group (here, when forming a metal complex, one of R 3 and R 5 is a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group, a substituted or unsubstituted alkyl carboxyl group, Or an unsubstituted alkylcarbonylamino group, a substituted or unsubstituted alkylsulfonamino group, a substituted or unsubstituted alkylamino group, and the other is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfonamide group, an amino group A substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted acyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarboxyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group, a substituted or unsubstituted alkyl Sulfonamino group, substituted or unsubstituted alkylamino group, Is an unsubstituted alkylsulfone group,
Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group. ), R 1 and R
4 , R 2 and R 6 and R 1 and R 2 may form a ring via a linking group, and R 7 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfone group, a sulfonamide group, an amino group. Group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkoxy group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted acyl group, substituted or unsubstituted alkylcarboxyl group, substituted or unsubstituted aralkyl group A substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group, a substituted or unsubstituted alkylsulfonamino group, a substituted or unsubstituted alkylamino group, a substituted or unsubstituted alkylsulfone group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a cyano group, Nitro, mercapto, thiocyano, chlorosulfone, substituted or unsubstituted alkylthio, substituted or unsubstituted Alkyl azomethine group, a substituted or unsubstituted alkyl amino sulfone group, X
Represents a sulfur atom or N—R 8 (where R 8 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group,
Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group. ), Y represents a nitrogen atom or C—R 9 (where R 9 has the same meaning as R 7 ). However, when X is a sulfur atom, Y is a nitrogen atom, and when X is N—R 8 , Y is C—R 9 . The dye contained in the recording layer is represented by the following formula (2):
A high-density optical recording medium according to the above, which is a metal complex of an azo compound represented by

【0011】[0011]

【化4】 [式中、R1 、R2 、R4 、R5 及びR6 は式(1)と
同じ意味を表し、R8 は、ヒドロキシ基またはカルボキ
シル基を表し、R9 は水素原子またはハロゲン原子を表
す。] λが0.630〜0.655μm、NAが0.60
±0.05であることを特徴とするまたはに記載の
高密度光記録媒体である。
Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and R 6 have the same meaning as in formula (1), R 8 represents a hydroxy group or a carboxyl group, and R 9 represents a hydrogen atom or a halogen atom. Represent. Λ is 0.630 to 0.655 μm and NA is 0.60
The high-density optical recording medium according to or described above, wherein ± 0.05.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の光記録媒体は、透明な基
板上に少なくともレーザー光を吸収する色素を含有する
記録層、金属の反射層からなるものであり、記録ビーム
径の割にはトラックピッチを小さくしても変調度を犠牲
にせずにクロストークを低減した高密度の記録を可能と
するものである。本発明の光記録媒体の断面図の一例を
〔図1〕、〔図2〕に示す。〔図1〕に示すように基板
1、記録層2、反射層3及び保護層4が順次積層してい
る4層構造または〔図2〕に示すように基板1’、記録
層2’、反射層3’が順次積層され、その上に接着層
4’を介して基板5’が貼り合わされている構造を有す
ものがある。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The optical recording medium of the present invention comprises a recording layer containing a dye absorbing at least laser light on a transparent substrate, and a metal reflective layer. This enables high-density recording with reduced crosstalk without sacrificing the degree of modulation even if the track pitch is reduced. One example of a sectional view of the optical recording medium of the present invention is shown in FIG. 1 and FIG. As shown in FIG. 1, a four-layer structure in which a substrate 1, a recording layer 2, a reflective layer 3, and a protective layer 4 are sequentially laminated, or a substrate 1 ', a recording layer 2', and a reflective layer as shown in FIG. Some have a structure in which a layer 3 'is sequentially laminated, and a substrate 5' is bonded thereon via an adhesive layer 4 '.

【0013】記録層に色素を用いる場合、スピンコート
法により記録層を成膜することができる。グルーブを有
する基板上にスピンコート法で記録層を成膜した場合、
グルーブ部の記録層の膜厚は、グルーブ間(ランド)部
の記録層の膜厚より通常厚くなる。
When a dye is used for the recording layer, the recording layer can be formed by spin coating. When a recording layer is formed by a spin coating method on a substrate having a groove,
The thickness of the recording layer in the groove portion is usually larger than the thickness of the recording layer in the portion between the grooves (lands).

【0014】通常、記録感度は記録層の膜厚に依存し、
特に記録層の上に金属の反射層を設けた媒体の場合は、
この反射層へ熱が拡散し記録感度が低下する。記録層の
膜厚が薄いほど、この熱拡散の影響を大きく受け、感度
が低下し易い。すなわち、グルーブとランド部の記録感
度に大きな差が生じるのである。それ故に、記録レーザ
ービームのビーム径が大きくても細いピットを形成する
ことができ、クロストークの小さな記録が可能となる。
Usually, the recording sensitivity depends on the thickness of the recording layer.
Especially in the case of a medium provided with a metal reflective layer on the recording layer,
Heat is diffused into the reflective layer and the recording sensitivity is reduced. The smaller the thickness of the recording layer, the greater the influence of this thermal diffusion, and the lower the sensitivity. That is, a large difference occurs in the recording sensitivity between the groove and the land. Therefore, a thin pit can be formed even if the beam diameter of the recording laser beam is large, and recording with small crosstalk can be performed.

【0015】しかしながら、いくら細いピットが記録で
きても、トラックピッチを小さくできるわけではない。
なぜなら、トラックピッチを無制限に小さくしても、再
生する際のレーザービームの径が大きいと変調度が小さ
くなるだけでなく、クロストークが大きくなり過ぎて再
生できなくなるからである。クロストークは、再生の際
のビーム径とトラックピッチ及び記録したピットの幅に
関係するのだが、通常、記録時と再生時のビーム径は同
じでなので、トラックピッチを小さくして、細いピット
でクロストークの小さな記録ができても、再生時はクロ
ストークが大きくなってしまうからである。
However, no matter how thin pits can be recorded, the track pitch cannot be reduced.
This is because, even if the track pitch is reduced indefinitely, if the diameter of the laser beam at the time of reproduction is large, not only the degree of modulation becomes small, but also the crosstalk becomes too large to make reproduction possible. Crosstalk is related to the beam diameter and track pitch during reproduction, and the width of the recorded pits.Because the beam diameter during recording and reproduction is usually the same, the track pitch should be reduced and the narrow pits should be used. This is because even when recording with small crosstalk can be performed, crosstalk increases during reproduction.

【0016】本発明において、再生時の変調度を犠牲に
せずにクロストークをが小さくなるように記録するに
は、λ/NA〔λは記録波長(μm)、NAは対物レン
ズの開口数を表す〕で表される記録ビーム径をrとする
と、基板のグルーブのピッチ(トラックピッチ)(P)
を0.68r〜0.83rに、かつ、グルーブの幅(W
g)を0.24r〜0.35rにするのが好ましい。こ
こでグルーブの幅とは半値幅を意味する。トラックピッ
チが0.68r未満の場合はクロストークが大きくなり
過ぎて変調度が小さくなり、かつ、ジッター及びエラー
レートが大きくなり好ましくなく、0.83rを越える
場合は半径方向の記録密度が大きくならず、目的の記録
容量が得られない。一方、グルーブの幅が0.24r未
満の場合は変調度が小さくなり、0.35rを越える場
合はクロストークが大きくなり好ましくない。
In the present invention, λ / NA [λ is the recording wavelength (μm), and NA is the numerical aperture of the objective lens, in order to reduce the crosstalk without sacrificing the degree of modulation at the time of reproduction. Let r be the recording beam diameter represented by the following expression: pitch of the groove of the substrate (track pitch) (P)
From 0.68r to 0.83r, and the width of the groove (W
g) is preferably from 0.24r to 0.35r. Here, the width of the groove means a half width. If the track pitch is less than 0.68r, the crosstalk becomes too large and the modulation is small, and the jitter and error rate are undesirably large. If it exceeds 0.83r, the radial recording density is large. And the desired recording capacity cannot be obtained. On the other hand, if the width of the groove is less than 0.24r, the degree of modulation is small, and if it exceeds 0.35r, the crosstalk is undesirably large.

【0017】本発明における記録、再生の際のビーム径
は、用いるレーザーの波長が短い程、又、対物レンズの
開口数(NA)が大きい程小さくなり高密度記録に好ま
しいが、装置の小型化や光学系を単純にできる等の点や
装置の経済性の点から、記録に利用できる高出力のレー
ザーとしては、0.630〜0.655μmの半導体レ
ーザーが好ましく、0.630〜0.640μmが最も
好ましい。又、レンズのNAは基板の厚みムラや、基板
の傾きによる収差の点から0.60±0.05である。
The beam diameter at the time of recording and reproduction in the present invention becomes smaller as the wavelength of the laser used becomes shorter and the numerical aperture (NA) of the objective lens becomes larger, which is preferable for high-density recording. As a high-output laser usable for recording, a semiconductor laser of 0.630 to 0.655 μm is preferable, and 0.630 to 0.640 μm Is most preferred. Further, the NA of the lens is 0.60 ± 0.05 from the viewpoint of thickness unevenness of the substrate and aberration due to the inclination of the substrate.

【0018】本発明の光記録媒体において用いられる透
明な基板としては、信号の記録や読み出しを行う光の透
過率が85%以上で、かつ、光学異方性の小さいものが好
ましい。例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリオレフィン樹脂等の公知の樹脂基板が挙げられ
る。
The transparent substrate used in the optical recording medium of the present invention preferably has a transmittance of light for recording and reading signals of 85% or more and a small optical anisotropy. For example, a known resin substrate such as an acrylic resin, a polycarbonate resin, and a polyolefin resin may be used.

【0019】これらの基板は、板状でもフィルム状でも
良く、又、その形状は円形でもカード状でも良い。これ
らの基板の表面には記録位置を表すグルーブ及び/又は
ピットを有する。このようなグルーブやピットは、基板
の成形時に付与するのが好ましいが、基板の上に紫外線
硬化樹脂層を設けて付与することもできる。トラック
(グルーブ)ピッチ及びグルーブの幅は前記したが、グ
ルーブの深さは70〜180nm程度が好ましい。
These substrates may be plate-shaped or film-shaped, and may be circular or card-shaped. The surfaces of these substrates have grooves and / or pits indicating recording positions. Such grooves and pits are preferably provided at the time of molding the substrate, but may also be provided by providing an ultraviolet curable resin layer on the substrate. Although the track (groove) pitch and the groove width are described above, the groove depth is preferably about 70 to 180 nm.

【0020】本発明においては記録層に色素を含有して
なるが、この記録層に用いられる色素は良好な記録感
度、反射率、変調度を獲得するために重要な要素の一つ
である。その中でも特に変調度に対して色素種の特性が
大きく効く。高密度記録に際しては、同じ大きさのピッ
トを形成した場合に大きな変調度が得られ、かつ、しき
い値特性に優れた色素が特に好ましく、この点から、前
記した式(1)に示されるアゾ化合物又は該化合物の金
属錯体、式(2)に示される化合物の金属錯体が好まし
い。
In the present invention, the recording layer contains a dye, and the dye used in the recording layer is one of the important factors for obtaining good recording sensitivity, reflectance and modulation. Among them, the characteristics of the dye species are particularly effective for the degree of modulation. In high-density recording, a dye having a large modulation degree when pits of the same size are formed and having excellent threshold characteristics is particularly preferable. From this point, the dye is represented by the above formula (1). An azo compound, a metal complex of the compound, and a metal complex of the compound represented by the formula (2) are preferable.

【0021】式(1)、(2)の置換基において、ハロ
ゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素であ
り、好ましくは、フッ素、塩素、臭素である。
In the substituents of formulas (1) and (2), the halogen atom is fluorine, chlorine, bromine or iodine, preferably fluorine, chlorine or bromine.

【0022】置換または未置換のアルキル基としては、
直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルコキシアルキ
ル基、アルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシア
ルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル
アルキル基、アルコキシカルボニルオキシアルキル基、
アルコキシアルコキシカルボニルオキシアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル
基、ヒドロキシアルコキシアルコキシアルキル基、シア
ノアルキル基、アシルオキシアルキル基、アシルオキシ
アルコキシアルキル基、アシルオキシアルコキシアルコ
キシアルキル基、ハロゲン化アルキル基、スルホンアル
キル基、アルキルカルボニルアミノアルキル基、アルキ
ルスルホンアミノアルキル基、スルホンアミドアルキル
基、アルキルアミノアルキル基、アミノアルキル基、及
びアルキルスルホンアルキル基の中から選択される。
The substituted or unsubstituted alkyl group includes
Linear, branched or cyclic alkyl group, alkoxyalkyl group, alkoxyalkoxyalkyl group, alkoxyalkoxyalkoxyalkyl group, alkoxycarbonylalkyl group, alkoxycarbonyloxyalkyl group,
Alkoxyalkoxycarbonyloxyalkyl group, hydroxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkoxyalkyl group, cyanoalkyl group, acyloxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkoxyalkyl group, halogenated alkyl group, sulfonealkyl group, It is selected from an alkylcarbonylaminoalkyl group, an alkylsulfonaminoalkyl group, a sulfonamidoalkyl group, an alkylaminoalkyl group, an aminoalkyl group, and an alkylsulfonalkyl group.

【0023】ここで、直鎖、分岐または環状のアルキル
基としては、炭素数1〜15の炭化水素基で、ポリカー
ボネート、アクリル、エポキシ、ポリオレフィン基板等
への塗布による加工性を考慮すれば、メチル基、エチル
基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec-
ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、iso-ペンチル
基、2-メチルブチル基、1-メチルブチル基、neo-ペンチ
ル基、1,2-ジメチルプロピル基、1,1-ジメチルプロピル
基、cyclo-ペンチル基、n-ヘキシル基、4-メチルペンチ
ル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メ
チルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチル
ブチル基、1,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル
基、1,2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチル基、3-
エチルブチル基、2-エチルブチル基、1-エチルブチル
基、1,2,2-トリメチルブチル基、1,1,2-トリメチルブチ
ル基、1-エチル-2- メチルプロピル基、cyclo-ヘキシル
基、n-ヘプチル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘキ
シル基、4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、2,
4-ジメチルペンチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシ
ル基、2,5-ジメチルヘキシル基、2,5,5-トリメチルペン
チル基、2,4-ジメチルヘキシル基、2,2,4-トリメチルペ
ンチル基、n-ノニル基、n-デシル基、4-エチルオクチル
基、4-エチル-4,5- メチルヘキシル基、n-ウンデシル
基、n-ドデシル基、1,3,5,7-テトラエチルオクチル基、
4-ブチルオクチル基、6,6-ジエチルオクチル基、n-トリ
デシル基、6-メチル-4- ブチルオクチル基、n-テトラデ
シル基、n-ペンタデシル基、3,5-ジメチルヘプチル基、
2,6-ジメチルヘプチル基、2,4-ジメチルヘプチル基、2,
2,5,5-テトラメチルヘキシル基、1-cyclo-ペンチル-2,2
- ジメチルプロピル基、1-cyclo-ヘキシル-2,2- ジメチ
ルプロピル基等が挙げられる。
Here, the straight-chain, branched or cyclic alkyl group is a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. Considering the workability by coating on a polycarbonate, acrylic, epoxy, polyolefin substrate or the like, methyl is preferred. Group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec-
Butyl, t-butyl, n-pentyl, iso-pentyl, 2-methylbutyl, 1-methylbutyl, neo-pentyl, 1,2-dimethylpropyl, 1,1-dimethylpropyl, cyclo -Pentyl, n-hexyl, 4-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 1-methylpentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 1 , 3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,1-dimethylbutyl, 3-
Ethylbutyl, 2-ethylbutyl, 1-ethylbutyl, 1,2,2-trimethylbutyl, 1,1,2-trimethylbutyl, 1-ethyl-2-methylpropyl, cyclo-hexyl, n- Heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,
4-dimethylpentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl Group, n-nonyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4,5-methylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1,3,5,7-tetraethyloctyl Group,
4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6-methyl-4-butyloctyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3,5-dimethylheptyl group,
2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,
2,5,5-tetramethylhexyl group, 1-cyclo-pentyl-2,2
-Dimethylpropyl group, 1-cyclo-hexyl-2,2-dimethylpropyl group and the like.

【0024】また、アルコキシアルキル基としては、メ
トキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル
基、ブトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエ
チル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、n-ヘ
キシルオキシエチル基、4-メチルペントキシエチル基、
1,3-ジメチルブトキシエチル基、2-エチルヘキシルオキ
シエチル基、n-オクチルオキシエチル基、3,5,5-トリメ
チルヘキシルオキシエチル基、2-メチル-1-iso- プロピ
ルプロポキシエチル基、3-メチル-1-iso- プロピルブチ
ルオキシエチル基、2-エトキシ-1- メチルエチル基、3-
メトキシブチル基、3,3,3-トリフルオロプロポキシエチ
ル基、3,3,3-トリクロロプロポキシエチル基などの炭素
数2〜15のものが挙げられる。
Examples of the alkoxyalkyl group include methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl, butoxyethyl, n-hexyloxyethyl, and the like. 4-methylpentoxyethyl group,
1,3-dimethylbutoxyethyl group, 2-ethylhexyloxyethyl group, n-octyloxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxyethyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropoxyethyl group, 3- Methyl-1-iso-propylbutyloxyethyl group, 2-ethoxy-1-methylethyl group, 3-
Examples thereof include those having 2 to 15 carbon atoms such as a methoxybutyl group, a 3,3,3-trifluoropropoxyethyl group, and a 3,3,3-trichloropropoxyethyl group.

【0025】アルコキシアルコキシアルキル基の例とし
ては、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエ
チル基、プロポキシエトキシエチル基、ブトキシエトキ
シエチル基、ヘキシルオキシエトキシエチル基、1,2-ジ
メチルプロポキシエトキシエチル基、3-メチル-1-iso-
ブチルブトキシエトキシエチル基、2-メトキシ-1- メチ
ルエトキシエチル基、2-ブトキシ-1- メチルエトキシエ
チル基、2-(2'-エトキシ-1'-メチルエトキシ)-1-メチル
エチル基、3,3,3-トリフルオロプロポキシエトキシエチ
ル基、3,3,3-トリクロロプロポキシエトキシエチル基な
どが挙げられる。
Examples of the alkoxyalkoxyalkyl group include methoxyethoxyethyl, ethoxyethoxyethyl, propoxyethoxyethyl, butoxyethoxyethyl, hexyloxyethoxyethyl, 1,2-dimethylpropoxyethoxyethyl, 3- Methyl-1-iso-
Butylbutoxyethoxyethyl group, 2-methoxy-1-methylethoxyethyl group, 2-butoxy-1-methylethoxyethyl group, 2- (2'-ethoxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl group, 3 A 3,3,3-trifluoropropoxyethoxyethyl group and a 3,3,3-trichloropropoxyethoxyethyl group.

【0026】アルコキシアルコキシアルコキシアルキル
基の例としては、メトキシエトキシエトキシエチル基、
エトキシエトキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシ
エトキシエチル基、2,2,2-トリフルオロエトキシエトキ
シエトキシエチル基、2,2,2-トリクロロエトキシエトキ
シエトキシエチル基などが挙げられる。
Examples of the alkoxyalkoxyalkoxyalkyl group include a methoxyethoxyethoxyethyl group,
Examples thereof include an ethoxyethoxyethoxyethyl group, a butoxyethoxyethoxyethyl group, a 2,2,2-trifluoroethoxyethoxyethoxyethyl group, and a 2,2,2-trichloroethoxyethoxyethoxyethyl group.

【0027】アルコキシカルボニルアルキル基の例とし
ては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニ
ルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、メトキシカ
ルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、ブト
キシカルボニルエチル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロ
ポキシカルボニルメチル基、2,2,3,3-テトラクロロプロ
ポキシカルボニルメチル基等が挙げられる。
Examples of the alkoxycarbonylalkyl group include methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylmethyl, butoxycarbonylmethyl, methoxycarbonylethyl, ethoxycarbonylethyl, butoxycarbonylethyl, 2,2,3,3- Examples thereof include a tetrafluoropropoxycarbonylmethyl group and a 2,2,3,3-tetrachloropropoxycarbonylmethyl group.

【0028】アルコキシカルボニルオキシアルキル基の
例としては、メトキシカルボニルオキシエチル基、エト
キシカルボニルオキシエチル基、ブトキシカルボニルオ
キシエチル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル
オキシエチル基、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル
オキシエチル基などが挙げられる。
Examples of the alkoxycarbonyloxyalkyl group include a methoxycarbonyloxyethyl group, an ethoxycarbonyloxyethyl group, a butoxycarbonyloxyethyl group, a 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxyethyl group, a 2,2,2 -Trichloroethoxycarbonyloxyethyl group and the like.

【0029】アルコキシアルコキシカルボニルオキシア
ルキル基の例としては、メトキシエトキシカルボニルオ
キシエチル基、エトキシエトキシカルボニルオキシエチ
ル基、ブトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、2,
2,2-トリフルオロエトキシエトキシカルボニルオキシエ
チル基、2,2,2-トリクロロエトキシエトキシカルボニル
オキシエチル基などが挙げられる。
Examples of the alkoxyalkoxycarbonyloxyalkyl group include a methoxyethoxycarbonyloxyethyl group, an ethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, a butoxyethoxycarbonyloxyethyl group,
Examples thereof include a 2,2-trifluoroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group and a 2,2,2-trichloroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group.

【0030】ヒドロキシアルキル基の例としては、2-ヒ
ドロキシエチル基、4-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキ
シ-3- メトキシプロピル基、2-ヒドロキシ-3- クロロプ
ロピル基、2-ヒドロキシ-3- エトキシプロピル基、3-ブ
トキシ-2- ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシ-3- フ
ェノキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、2-ヒド
ロキシブチル基などが挙げられる。
Examples of the hydroxyalkyl group include a 2-hydroxyethyl group, a 4-hydroxyethyl group, a 2-hydroxy-3-methoxypropyl group, a 2-hydroxy-3-chloropropyl group, and a 2-hydroxy-3-ethoxy group. Propyl group, 3-butoxy-2-hydroxypropyl group, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-hydroxybutyl group and the like.

【0031】ヒドロキシアルコキシアルキル基の例とし
ては、ヒドロキシエトキシエチル基、2-(2'-ヒドロキ-
1'-メチルエトキシ)-1- メチルエチル基、2-(3'-フル
オロ-2'-ヒドロキシプロポキシ) エチル基、2-(3'-クロ
ロ-2'-ヒドロキシプロポキシ)エチル基などが挙げら
れ、ヒドロキシアルコキシアルコキシアルキル基の例と
しては、ヒドロキシエトキシエトキシエチル基、[2'-
(2'-ヒドロキシ-1'-メチルエトキシ)-1'-メチルエトキ
シ] エトキシエチル基、[2'-(2'-フルオロ-1'-ヒドロキ
シエトキシ)-1'-メチルエトキシ] エトキシエチル基、
[2'-(2'-クロロ-1'-ヒドロキシエトキシ)-1'-メチルエ
トキシ] エトキシエチル基などが挙げられる。
Examples of the hydroxyalkoxyalkyl group include a hydroxyethoxyethyl group, 2- (2'-hydroxy-
1'-methylethoxy) -1-methylethyl group, 2- (3'-fluoro-2'-hydroxypropoxy) ethyl group, 2- (3'-chloro-2'-hydroxypropoxy) ethyl group and the like. Examples of the hydroxyalkoxyalkoxyalkyl group include a hydroxyethoxyethoxyethyl group, [2′-
(2'-hydroxy-1'-methylethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2 '-(2'-fluoro-1'-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group,
[2 '-(2'-chloro-1'-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group and the like.

【0032】シアノアルキル基の例としては、2-シアノ
エチル基、4-シアノブチル基、2-シアノ-3- メトキシプ
ロピル基、2-シアノ-3- クロロプロピル基、2-シアノ-3
- エトキシプロピル基、3-ブトキシ-2- シアノプロピル
基、2-シアノ-3- フェノキシプロピル基、2-シアノプロ
ピル基、2-シアノブチル基などが挙げられる。
Examples of cyanoalkyl groups include 2-cyanoethyl, 4-cyanobutyl, 2-cyano-3-methoxypropyl, 2-cyano-3-chloropropyl, 2-cyano-3
-Ethoxypropyl, 3-butoxy-2-cyanopropyl, 2-cyano-3-phenoxypropyl, 2-cyanopropyl, 2-cyanobutyl and the like.

【0033】アシルオキシアルキル基の例としては、ア
セトキシエチル基、プロピオニルオキシエチル基、ブチ
リルオキシエチル基、バレリルオキシエチル基、1-エチ
ルペンチルカルボニルオキシエチル基、2,4,4-トリメチ
ルペンチルカルボニルオキシエチル基、3-フルオロブチ
リルオキシエチル基、3-クロロブチリルオキシエチル基
などが挙げられ、アシルオキシアルコキシアルキル基の
例としては、アセトキシエトキシエチル基、プロピオニ
ルオキシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシエ
チル基、1-エチルペンチルカルボニルオキシエトキシエ
チル基、2,4,4-トリメチルペンチルカルボニルオキシエ
トキシエチル基、2-フルオロプロピオニルオキシエトキ
シエチル基、2-クロロプロピオニルオキシエトキシエチ
ル基などが挙げられ、アシルオキシアルコキシアルコキ
シアルキル基の例としては、アセトキシエトキシエトキ
シエチル基、プロピオニルオキシエトキシエトキシエチ
ル基、バレリルオキシエトキシエトキシエチル基、1-エ
チルペンチルカルボニルオキシエトキシエトキシエチル
基、2,4,4-トリメチルペンチルカルボニルオキシエトキ
シエトキシエチル基、2-フルオロプロピオニルオキシエ
トキシエトキシエチル基、2-クロロプロピオニルオキシ
エトキシエトキシエチル基などが挙げられる。
Examples of the acyloxyalkyl group include an acetoxyethyl group, a propionyloxyethyl group, a butyryloxyethyl group, a valeryloxyethyl group, a 1-ethylpentylcarbonyloxyethyl group, a 2,4,4-trimethylpentylcarbonyl Oxyethyl group, 3-fluorobutyryloxyethyl group, 3-chlorobutyryloxyethyl group and the like.Examples of acyloxyalkoxyalkyl group include acetoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxy group. Ethyl group, 1-ethylpentylcarbonyloxyethoxyethyl group, 2,4,4-trimethylpentylcarbonyloxyethoxyethyl group, 2-fluoropropionyloxyethoxyethyl group, 2-chloropropionyloxyethoxyethyl group, and the like. Examples of the oxyalkoxyalkoxyalkyl group include an acetoxyethoxyethoxyethyl group, a propionyloxyethoxyethoxyethyl group, a valeryloxyethoxyethoxyethyl group, a 1-ethylpentylcarbonyloxyethoxyethoxyethyl group, and a 2,4,4-trimethylpentyl group. Examples thereof include a carbonyloxyethoxyethoxyethyl group, a 2-fluoropropionyloxyethoxyethoxyethyl group, and a 2-chloropropionyloxyethoxyethoxyethyl group.

【0034】ハロゲン化アルキル基の例としては、クロ
ルメチル基、クロルエチル基、2,2,2-トリフルオロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、ブロムメチル基、ヨウ化
メチル基などが挙げられる。スルホンアルキル基の例と
しては、スルホンメチル基、スルホンエチル基、スルホ
ンプロピル基などが挙げられる。
Examples of the halogenated alkyl group include a chloromethyl group, a chloroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a trifluoromethyl group, a bromomethyl group and a methyl iodide group. Examples of the sulfonealkyl group include a sulfonemethyl group, a sulfoneethyl group, a sulfonepropyl group, and the like.

【0035】アルキルカルボニルアミノアルキル基の例
としては、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカ
ルボニルアミノエチル基、プロピルカルボニルアミノエ
チル基、シクロヘキシルカルボニルアミノエチル基、ス
クシンイミノエチル基などが挙げられる。アルキルスル
ホンアミノアルキル基の例としては、メチルスルホンア
ミノエチル基、エチルスルホンアミノエチル基、プロピ
ルスルホンアミノエチル基などが挙げられる。
Examples of the alkylcarbonylaminoalkyl group include a methylcarbonylaminoethyl group, an ethylcarbonylaminoethyl group, a propylcarbonylaminoethyl group, a cyclohexylcarbonylaminoethyl group, a succiniminoethyl group and the like. Examples of the alkylsulfonaminoalkyl group include a methylsulfonaminoethyl group, an ethylsulfonaminoethyl group, a propylsulfonaminoethyl group, and the like.

【0036】スルホンアミドアルキル基の例としては、
スルホンアミドメチル基、スルホンアミドエチル基、ス
ルホンアミドプロピル基などが挙げられる。アルキルア
ミノアルキル基の例としては、N-メチルアミノメチル
基、N,N-ジメチルアミノメチル基、N,N-ジエチルアミノ
メチル基、N,N-ジプロピルアミノメチル基、N,N-ジブチ
ルアミノメチル基、などが挙げられる。アミノアルキル
基の例としては、アミノメチル基、アミノエチル基、ア
ミノプロピル基などが挙げられる。
Examples of the sulfonamidoalkyl group include:
Examples include a sulfonamidomethyl group, a sulfonamidoethyl group, and a sulfonamidopropyl group. Examples of the alkylaminoalkyl group include N-methylaminomethyl group, N, N-dimethylaminomethyl group, N, N-diethylaminomethyl group, N, N-dipropylaminomethyl group, N, N-dibutylaminomethyl Groups, and the like. Examples of the aminoalkyl group include an aminomethyl group, an aminoethyl group, an aminopropyl group and the like.

【0037】アルキルスルホンアルキル基の例として
は、メチルスルホンメチル基、エチルスルホンメチル
基、ブチルスルホンメチル基、メチルスルホンエチル
基、エチルスルホンエチル基、ブチルスルホンエチル
基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピルスルホンメチル
基、2,2,3,3-テトラクロロプロピルスルホンメチル基な
どが挙げられる。
Examples of the alkylsulfonalkyl group include methylsulfonmethyl, ethylsulfonmethyl, butylsulfonmethyl, methylsulfonethyl, ethylsulfonethyl, butylsulfonethyl, 2,2,3,3- Examples thereof include a tetrafluoropropylsulfonemethyl group and a 2,2,3,3-tetrachloropropylsulfonemethyl group.

【0038】置換または未置換のアルコキシ基の例とし
ては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有する
アルコキシ基であり、好ましくは、メトキシ基、エトキ
シ基、n-プロポキシ基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ
基、iso-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、
n-ペントキシ基、iso-ペントキシ基、neo-ペントキシ
基、2-メチルブトキシ基などの低級アルコキシ基が挙げ
られる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkoxy group are alkoxy groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methoxy, ethoxy, n-propoxy, iso-propoxy. Group, n-butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group,
Lower alkoxy groups such as n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group and 2-methylbutoxy group are exemplified.

【0039】置換または未置換のアリール基の例として
は、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するア
リール基であり、好ましくは、フェニル基、ニトロフェ
ニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メ
チルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ナフ
チル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロ
キシナフチル基、メチルナフチル基、トリフルオロメチ
ルナフチル基などが挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted aryl groups are aryl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably phenyl, nitrophenyl, cyanophenyl, hydroxyphenyl and the like. , A methylphenyl group, a trifluoromethylphenyl group, a naphthyl group, a nitronaphthyl group, a cyanonaphthyl group, a hydroxynaphthyl group, a methylnaphthyl group, a trifluoromethylnaphthyl group and the like.

【0040】置換または未置換のアシル基の例として
は、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するア
シル基であり、好ましくは、ホルミル基、メチルカルボ
ニル基、エチルカルボニル基、n-プロピルカルボニル
基、iso-プロピルカルボニル基、n-ブチルカルボニル
基、iso-ブチルカルボニル基、sec-ブチルカルボニル
基、t-ブチルカルボニル基、n-ペンチルカルボニル基、
iso-ペンチルカルボニル基、neo-ペンチルカルボニル
基、2-メチルブチルカルボニル基、ニトロベンジルカル
ボニル基などが挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted acyl groups include acyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably formyl, methylcarbonyl, ethylcarbonyl, n-propyl Carbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group,
Examples include an iso-pentylcarbonyl group, a neo-pentylcarbonyl group, a 2-methylbutylcarbonyl group, and a nitrobenzylcarbonyl group.

【0041】置換または未置換のアルキルカルボキシル
基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換
基を有するアルキルカルボキシル基であり、好ましく
は、メチルカルボキシル基、エチルカルボキシル基、n-
プロピルカルボキシル基、iso-プロピルカルボキシル
基、n-ブチルカルボキシル基、iso-ブチルカルボキシル
基、sec-ブチルカルボキシル基、t-ブチルカルボキシル
基、n-ペンチルカルボキシル基、iso-ペンチルカルボキ
シル基、neo-ペンチルカルボキシル基、2-メチルブチル
カルボキシル基などの低級アルキルカルボキシル基が挙
げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkyl carboxyl group include alkyl carboxyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methyl carboxyl group, ethyl carboxyl group, and n-carboxyl group.
Propyl carboxyl, iso-propyl carboxyl, n-butyl carboxyl, iso-butyl carboxyl, sec-butyl carboxyl, t-butyl carboxyl, n-pentyl carboxyl, iso-pentyl carboxyl, neo-pentyl carboxyl And a lower alkylcarboxyl group such as a 2-methylbutylcarboxyl group.

【0042】置換または未置換のアラルキル基の例とし
ては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有する
アラルキル基であり、好ましくは、ベンジル基、ニトロ
ベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル
基、メチルベンジル基、トリフルオロメチルベンジル
基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シア
ノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メ
チルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメ
チル基などが挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyl groups are aralkyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably benzyl, nitrobenzyl, cyanobenzyl, hydroxybenzyl , Methylbenzyl, trifluoromethylbenzyl, naphthylmethyl, nitronaphthylmethyl, cyanonaphthylmethyl, hydroxynaphthylmethyl, methylnaphthylmethyl, trifluoromethylnaphthylmethyl and the like.

【0043】置換または未置換のアルキルカルボニルア
ミノ基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な
置換基を有するアルキルカルボニルアミノ基であり、好
ましくは、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニ
ルアミノ基、n-プロピルカルボニルアミノ基、iso-プロ
ピルカルボニルアミノ基、n-ブチルカルボニルアミノ
基、iso-ブチルカルボニルアミノ基、sec-ブチルカルボ
ニルアミノ基、t-ブチルカルボニルアミノ基、n-ペンチ
ルカルボニルアミノ基、iso-ペンチルカルボニルアミノ
基、neo-ペンチルカルボニルアミノ基、2-メチルブチル
カルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ
基、スクシンイミノ基などの低級アルキルカルボニルア
ミノ基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group include an alkylcarbonylamino group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylcarbonylamino group, an ethylcarbonylamino group, n-propylcarbonylamino group, iso-propylcarbonylamino group, n-butylcarbonylamino group, iso-butylcarbonylamino group, sec-butylcarbonylamino group, t-butylcarbonylamino group, n-pentylcarbonylamino group, iso And lower alkylcarbonylamino groups such as -pentylcarbonylamino group, neo-pentylcarbonylamino group, 2-methylbutylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, and succinimino group.

【0044】置換または未置換のアルキルスルホンアミ
ノ基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有するアルキルスルホンアミノ基であり、好まし
くは、メチルスルホンアミノ基、エチルスルホンアミノ
基、n-プロピルスルホンアミノ基、iso-プロピルスルホ
ンアミノ基、n-ブチルスルホンアミノ基、iso-ブチルス
ルホンアミノ基、sec-ブチルスルホンアミノ基、t-ブチ
ルスルホンアミノ基、n-ペンチルスルホンアミノ基、is
o-ペンチルスルホンアミノ基、neo-ペンチルスルホンア
ミノ基、2-メチルブチルスルホンアミノ基、シクロヘキ
シルスルホンアミノ基などの低級アルキルスルホンアミ
ノ基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylsulfonamino group include an alkylsulfonamino group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylsulfonamino group, an ethylsulfonamino group, n-propyl sulfone amino group, iso-propyl sulfone amino group, n-butyl sulfone amino group, iso-butyl sulfone amino group, sec-butyl sulfone amino group, t-butyl sulfone amino group, n-pentyl sulfone amino group, is
and lower alkylsulfonamino groups such as o-pentylsulfonamino group, neo-pentylsulfonamino group, 2-methylbutylsulfonamino group, and cyclohexylsulfonamino group.

【0045】置換または未置換のアルキルアミノ基の例
としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有
するアルキルアミノ基であり、好ましくは、N-メチルア
ミノ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルアミノ
基、N,N-ジプロピルアミノ基、N,N-ジブチルアミノ基な
どの低級アルキルアミノ基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylamino group include an alkylamino group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably an N-methylamino group or an N, N-dimethylamino group. And lower alkylamino groups such as N, N-diethylamino group, N, N-dipropylamino group and N, N-dibutylamino group.

【0046】置換または未置換のアルキルスルホン基の
例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を
有するアルキルスルホン基であり、好ましくは、メチル
スルホン基、エチルスルホン基、n-プロピルスルホン
基、iso-プロピルスルホン基、n-ブチルスルホン基、is
o-ブチルスルホン基、sec-ブチルスルホン基、t-ブチル
スルホン基、n-ペンチルスルホン基、iso-ペンチルスル
ホン基、neo-ペンチルスルホン基、2-メチルブチルスル
ホン基、2-ヒドロキシエチルスルホン基、2-シアノエチ
ルスルホン基などの低級アルキルスルホン基が挙げられ
る。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylsulfone group include an alkylsulfone group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylsulfone group, an ethylsulfone group, or an n-propylsulfone group. Group, iso-propylsulfone group, n-butylsulfone group, is
o-butyl sulfone group, sec-butyl sulfone group, t-butyl sulfone group, n-pentyl sulfone group, iso-pentyl sulfone group, neo-pentyl sulfone group, 2-methylbutyl sulfone group, 2-hydroxyethyl sulfone group, And lower alkylsulfone groups such as a 2-cyanoethylsulfone group.

【0047】置換または未置換のアルケニル基の例とし
ては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有する
アルケニル基であり、好ましくは、プロペニル基、1-ブ
テニル基、iso-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテ
ニル基、2-メチル-1- ブテニル基、3-メチル-1- ブテニ
ル基、2-メチル-2- ブテニル基、2,2-ジシアノビニル
基、2-シアノ-2- メチルカルボキシルビニル基、2-シア
ノ-2- メチルスルホンビニル基などの低級アルケニル基
が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyl groups are alkenyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a propenyl group, a 1-butenyl group, an iso-butenyl group, -Pentenyl group, 2-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-2- And lower alkenyl groups such as a methylcarboxylvinyl group and a 2-cyano-2-methylsulfonevinyl group.

【0048】置換または未置換のアルキルチオ基の例と
しては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有す
るアルキルチオ基であり、好ましくは、メチルチオ基、
エチルチオ基、n-プロピルチオ基、iso-プロピルチオ
基、n-ブチルチオ基、iso-ブチルチオ基、sec-ブチルチ
オ基、t-ブチルチオ基、n-ペンチルチオ基、iso-ペンチ
ルチオ基、neo-ペンチルチオ基、2-メチルブチルチオ
基、メチルカルボキシルエチルチオ基などの低級アルキ
ルチオ基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylthio groups are the alkylthio groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a methylthio group,
Ethylthio, n-propylthio, iso-propylthio, n-butylthio, iso-butylthio, sec-butylthio, t-butylthio, n-pentylthio, iso-pentylthio, neo-pentylthio, 2- And lower alkylthio groups such as methylbutylthio group and methylcarboxylethylthio group.

【0049】置換または未置換のアルキルアゾメチン基
の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基
を有するアルキルアゾメチン基であり、好ましくは、メ
チルアゾメチン基、エチルアゾメチン基、n-プロピルア
ゾメチン基、iso-プロピルアゾメチン基、n-ブチルアゾ
メチン基、iso-ブチルアゾメチン基、sec-ブチルアゾメ
チン基、t-ブチルアゾメチン基、n-ペンチルアゾメチン
基、iso-ペンチルアゾメチン基、neo-ペンチルアゾメチ
ン基、2-メチルブチルアゾメチン基、ヒドロキシエチル
アゾメチン基などの低級アルキルアゾメチン基が挙げら
れる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylazomethine group include an alkylazomethine group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylazomethine group, an ethylazomethine group, an n-propylazomethine group. Group, iso-propylazomethine group, n-butylazomethine group, iso-butylazomethine group, sec-butylazomethine group, t-butylazomethine group, n-pentylazomethine group, iso-pentylazomethine group, neo-pentylazomethine group, And lower alkylazomethine groups such as a 2-methylbutylazomethine group and a hydroxyethylazomethine group.

【0050】置換または未置換のアルキルアミノスルホ
ン基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有するアルキルアミノスルホン基であり、好まし
くは、N-メチルアミノスルホン基、N-エチルアミノスル
ホン基、N-(n- プロピル) アミノスルホン基、N-(iso-
プロピル) アミノスルホン基、N-(n- ブチル) アミノス
ルホン基、N-(iso- ブチル) アミノスルホン基、N-(sec
- ブチル) アミノスルホン基、N-(t- ブチル) アミノス
ルホン基、N-(n- ペンチル) アミノスルホン基、N-(iso
- ペンチル) アミノスルホン基、N-(neo- ペンチル) ア
ミノスルホン基、N-(2- メチルブチル) アミノスルホン
基、N-(2- ヒドロキシエチル) アミノスルホン基、N-(2
- シアノエチル) アミノスルホン基などの低級アルキル
アミノスルホン基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylaminosulfone group include an alkylaminosulfone group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, and preferably an N-methylaminosulfone group or an N-ethyl group. Aminosulfone group, N- (n-propyl) aminosulfone group, N- (iso-
Propyl) aminosulfone group, N- (n-butyl) aminosulfone group, N- (iso-butyl) aminosulfone group, N- (sec
-Butyl) aminosulfone group, N- (t-butyl) aminosulfone group, N- (n-pentyl) aminosulfone group, N- (iso
-Pentyl) aminosulfone group, N- (neo-pentyl) aminosulfone group, N- (2-methylbutyl) aminosulfone group, N- (2-hydroxyethyl) aminosulfone group, N- (2
-Cyanoethyl) lower alkylaminosulfone group such as aminosulfone group.

【0051】R1 とR4 またはR2 とR6 が連結基を介
して環を形成する例としては、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-
、-CH2CH(Cl)- 、 -CH2C(=O)CH2-、-CH2C(=O)-、-CH2C
H2C(=O)- 、-CH2CH(F)-、または-CH2CH(OH)- 等が挙げ
られる。
Examples of the case where R 1 and R 4 or R 2 and R 6 form a ring via a linking group include —CH 2 CH 2 — and —CH 2 CH 2 CH 2
, -CH 2 CH (Cl)-, -CH 2 C (= O) CH 2- , -CH 2 C (= O)-, -CH 2 C
H 2 C (= O) —, —CH 2 CH (F) —, or —CH 2 CH (OH) —.

【0052】R1 とR2 が連結基を介して環を形成する
例としては、-CH2CH2OCH2CH2- 、-CH2CH2NHCH2CH2-、 -
CH2CH2N(CH3)CH2CH2--CH2C(=O)OC(=O)CH2- 、-CH2C(=O)
NHC(=O)CH2-、-CH2C(=O)N(CH3)C(=O)CH2-、または-CH2C
H2CH2CH2CH2- 等が挙げられる。
Examples of the case where R 1 and R 2 form a ring via a linking group include -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2- , -CH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 -,-
CH 2 CH 2 N (CH 3 ) CH 2 CH 2 --CH 2 C (= O) OC (= O) CH 2- , -CH 2 C (= O)
NHC (= O) CH 2- , -CH 2 C (= O) N (CH 3 ) C (= O) CH 2- , or -CH 2 C
H 2 CH 2 CH 2 CH 2- and the like.

【0053】本発明の式(1)で表されるアゾ化合物
は、公知の方法により、次の様に製造される。すなわ
ち、式(3)〔化5〕で示されるアミン成分をジアゾ化
し、式(4)〔化5〕で示されるカップリング成分の溶
液に添加し、カップリング反応させて式(1)で示され
るアゾ化合物が得られる。
The azo compound of the present invention represented by the formula (1) is produced by a known method as follows. That is, the amine component represented by the formula (3) [formula 5] is diazotized, added to a solution of the coupling component represented by the formula (4) [formula 5], subjected to a coupling reaction, and subjected to a coupling reaction represented by the formula (1). Is obtained.

【0054】[0054]

【化5】 〔上式中、R1 〜R7 、X及びYは式(1)の場合と同
じ意味を表す。〕
Embedded image [In the above formula, R 1 to R 7 , X and Y have the same meanings as in formula (1). ]

【0055】また、本発明においては、前記アゾ化合物
の金属錯体の製造法は公知の方法、例えば、古川;Anal
ytica Chimica Acta 140(1982) 281-289に記載の方法等
に準じて製造することができる。アゾ化合物の金属錯体
を形成する金属としては、例えば、ニッケル、コバル
ト、鉄、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銅、オス
ミウム、イリジウム、白金、亜鉛、マグネシウム、マン
ガン等の金属が好ましく、特にニッケル、コバルト、
銅、パラジウム、鉄、亜鉛、マンガンが好ましい。これ
らは製造時に酢酸塩、ハロゲン化物、BF4-塩等の形で
用いられ、Ni2+、Co2+、Co3+、Cu2+、Pd2+
Fe2+、Fe3+、Zn2+、Mn2+等としてアゾ化合物に
配位した錯体として得られる。このアゾ化合物の金属錯
体は、単独でも複数の化合物を混合しても良い。さら
に、ジチオール錯体などのクエンチャーを混合しても良
い。
In the present invention, the method for producing the metal complex of the azo compound is a known method, for example, Furukawa;
ytica Chimica Acta 140 (1982) 281-289. As the metal forming the metal complex of the azo compound, for example, metals such as nickel, cobalt, iron, ruthenium, rhodium, palladium, copper, osmium, iridium, platinum, zinc, magnesium and manganese are preferable, and particularly nickel, cobalt,
Copper, palladium, iron, zinc and manganese are preferred. These are used in the form of acetates, halides, BF4 - salts and the like at the time of production, and Ni2 + , Co2 + , Co3 + , Cu2 + , Pd2 + ,
It is obtained as a complex coordinated to an azo compound as Fe 2+ , Fe 3+ , Zn 2+ , Mn 2+ or the like. The metal complex of the azo compound may be used alone or as a mixture of a plurality of compounds. Further, a quencher such as a dithiol complex may be mixed.

【0056】本発明においては、基板の上に直接に、あ
るいは、無機系又は有機系の他の層(下引き層)を介し
て前記した色素を含有する記録層を設ける。該記録層を
設ける方法は、例えば、スピンコート法、浸漬法、スプ
レー法、蒸着法等があるが、スピンコート法が好まし
い。
In the present invention, a recording layer containing the above-described dye is provided directly on the substrate or via another inorganic or organic layer (undercoat layer). The method for providing the recording layer includes, for example, a spin coating method, a dipping method, a spraying method, and a vapor deposition method, and the spin coating method is preferable.

【0057】スピンコート法で成膜する際の塗布溶剤と
しては、基板へのダメージを与えない溶剤であれば特に
限定されない。好ましい溶剤としては、例えば、エチル
アルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、
フルフリルアルコール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、テトラフルオロプロパノール等のアルコール
系溶剤が挙げられる。
The coating solvent for forming a film by spin coating is not particularly limited as long as it does not damage the substrate. Preferred solvents include, for example, ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol,
Examples include alcohol solvents such as furfuryl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, and tetrafluoropropanol.

【0058】記録層を成膜する際に、必要に応じて、バ
インダーを併用することもできる。好ましいバインダー
としては、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン
樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカー
ボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。又、記録特
性などの改善のために他の色素を添加することもでき
る。記録層の膜厚は変調度や反射率に影響するが、本発
明においては40nm〜300 nm、好ましくは60nm〜20
0 nmである。
When forming the recording layer, a binder may be used together if necessary. Preferred binders include nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like. Further, other dyes can be added for improving recording characteristics and the like. Although the thickness of the recording layer affects the degree of modulation and the reflectance, in the present invention, the thickness is 40 nm to 300 nm, preferably 60 nm to 20 nm.
0 nm.

【0059】記録層を基板の上に成膜する際に、基板の
耐溶剤性や反射率、記録感度等を改良するために基板の
上に無機物やポリマーからなる層を設けても良い。
When the recording layer is formed on the substrate, a layer made of an inorganic substance or a polymer may be provided on the substrate in order to improve the solvent resistance, the reflectance, the recording sensitivity and the like of the substrate.

【0060】本発明においては、前記記録層の上に反射
層を設けるが、反射層としては、金、銀、アルミニウ
ム、銅、白金等の金属やこれらの金属を含有する合金が
用いられるが、反射率や耐久性の点から金、アルミニウ
ム、銀、またはこれらの金属を主成分とする合金が好ま
しい。反射層の膜厚は通常40nm〜300 nm、好ましく
は60nm〜200 nmである。反射層を成膜する方法は、
例えば、真空蒸着、スパッタ法、イオンプレーティング
法等が挙げられる。
In the present invention, a reflective layer is provided on the recording layer. As the reflective layer, metals such as gold, silver, aluminum, copper and platinum and alloys containing these metals are used. In terms of reflectance and durability, gold, aluminum, silver, or an alloy containing these metals as a main component is preferable. The thickness of the reflective layer is usually 40 nm to 300 nm, preferably 60 nm to 200 nm. The method for forming the reflective layer is as follows:
For example, a vacuum deposition, a sputtering method, an ion plating method and the like can be mentioned.

【0061】本発明においては、反射率、変調度等の特
性を改良するために、前記した色素を含有する記録層と
反射層の間に光干渉層を設けることもできる。光干渉層
を形成する材料としては、無機誘電体、ポリマーや色素
等が挙げられる。
In the present invention, a light interference layer may be provided between the recording layer containing the dye and the reflective layer in order to improve the characteristics such as the reflectance and the degree of modulation. Examples of a material for forming the light interference layer include an inorganic dielectric, a polymer, and a dye.

【0062】本発明においては、対物レンズの開口数が
大きいので、収差を小さくするために基板の厚みは0.5
〜0.8 mm程度が好ましい。この際、媒体の強度や機械
特性の向上のために、接着剤を用いて2枚を貼り合わせ
て供されてもよい。貼り合わせに当たっては、反射層上
に保護層を成膜することなしに、又は、保護層を成膜し
た後、貼り合わせることができる。保護層としては、紫
外線硬化性アクリル樹脂、紫外線硬化性エポキシ樹脂、
シリコーン系ハードコート樹脂等が用いられる。又、貼
り合わせる際の接着剤としては紫外線硬化性アクリル樹
脂、紫外線硬化性エポキシ樹脂、ホットメルト接着剤等
が用いられる。
In the present invention, since the numerical aperture of the objective lens is large, the thickness of the substrate is set to 0.5 to reduce aberration.
It is preferably about 0.8 mm. At this time, in order to improve the strength and mechanical properties of the medium, two sheets may be attached to each other using an adhesive. In bonding, the bonding can be performed without forming a protective layer on the reflective layer, or after forming the protective layer. UV-curable acrylic resin, UV-curable epoxy resin,
A silicone hard coat resin or the like is used. In addition, as an adhesive for bonding, an ultraviolet curable acrylic resin, an ultraviolet curable epoxy resin, a hot melt adhesive, or the like is used.

【0063】このようにして得られた本発明の光記録媒
体は、レーザー光を記録層に集束することにより、ビー
ム径の割には、はるかに高密度に記録や再生を行うこと
ができる。記録する際の信号としては、例えば、CDや
DVD等に用いられている変調信号が、本発明の効果を
達成する上で好ましい。
The optical recording medium of the present invention thus obtained can perform recording and reproduction at a much higher density than the beam diameter by focusing the laser beam on the recording layer. As a signal at the time of recording, for example, a modulation signal used for a CD, a DVD, or the like is preferable for achieving the effects of the present invention.

【0064】[0064]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明の実施の態様はこれにより限定されるもの
ではない。 (実施例1)厚さ 0.6mm、直径 120mmのスパイラル
状のグルーブ(深さ100 nm、幅 0.28 μm、ピッチ0.
80μm)を有する射出成形ポリカーボネート基板のグル
ーブを有する面に、この樹脂基板を回転させながら、下
記式(5)〔化6〕で表されるアゾ色素のNi錯体の3.
5 重量%2,2,3,3-テトラフルオロ-1- プロパノール溶液
を滴下し、基板上に実質的に色素のみからなる記録層を
成膜した。記録層の膜厚は100 nmであった。
EXAMPLES The present invention will be described below in more detail with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto. Example 1 Spiral groove having a thickness of 0.6 mm and a diameter of 120 mm (depth 100 nm, width 0.28 μm, pitch 0.
While rotating the resin substrate on the grooved surface of an injection-molded polycarbonate substrate having a thickness of 80 μm), the azo dye Ni complex represented by the following formula (5)
A 5% by weight solution of 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol was added dropwise to form a recording layer consisting essentially of a dye on the substrate. The thickness of the recording layer was 100 nm.

【0065】[0065]

【化6】 Embedded image

【0066】この記録層の上に反射層として厚さ80nm
の金薄膜をスパッターにより成膜した後、この反射層の
上に紫外線硬化接着剤を塗布した。この接着剤の上に前
記したのと同じ0.6 mmの基板を重ね合わせ、高速で回
転し余分の接着剤を除去した後、紫外線を照射して貼り
合わせた光記録媒体を製作した。
A 80 nm thick reflective layer was formed on this recording layer.
After forming a gold thin film by sputtering, an ultraviolet curing adhesive was applied on the reflective layer. The same 0.6 mm substrate as described above was overlaid on this adhesive, rotated at a high speed to remove excess adhesive, and then irradiated with ultraviolet rays to produce an optical recording medium bonded thereto.

【0067】この光記録媒体をターンテーブルに乗せ、
2.8m/sの線速で回転させながら、640 nmの発振波長を
有する半導体レーザーとNAが0.6 の対物レンズからな
る光ヘッドを搭載したパルステック工業製光ディスク評
価装置(DDU−1000)及びKENWOOD 製EFM エンコ
ーダーを用いて、レーザービームを基板を通してグルー
ブ上の記録層に集束するように制御しながら、記録レー
ザーパワーを変化させながら最短ピット長が0.4 μmの
EFM 変調信号を記録した後、同じ装置を用いてレーザー
出力を0.5 mWにして記録した信号の読み出しを行っ
た。なお、読み出す際はイコライゼーション処理を施し
た。記録パワーが8.0 mWのレーザー出力の時が最もエ
ラーレートが小さく(最適記録パワー)、バイトエラー
レートは5×10-4、又、その際のジッターは、ピットの
立ち上がりも、立ち下がりもチャネルビットクロックの
7.0 %であった。未記録部の反射率は52%、最短ピット
の変調度(I3/I11:最短ピットの振幅の最長ピットの振
幅に対する割合)の26%、クロストークは61%であり、
きわめて良好な記録、再生ができた。又、再生波形には
殆ど歪は観測されなかった。なお、この場合のWgは0.
26r、Pは0.75rであった。
This optical recording medium is put on a turntable,
While rotating at a linear speed of 2.8 m / s, an optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial equipped with an optical head composed of a semiconductor laser having an oscillation wavelength of 640 nm and an objective lens having an NA of 0.6, and manufactured by KENWOOD Using an EFM encoder, while controlling the laser beam to focus on the recording layer on the groove through the substrate, the minimum pit length is 0.4 μm while changing the recording laser power.
After recording the EFM modulated signal, the recorded signal was read using the same apparatus at a laser output of 0.5 mW. Note that an equalization process was performed when reading. When the recording power is 8.0 mW laser output, the error rate is the smallest (optimum recording power), the byte error rate is 5 × 10 -4 , and the jitter at that time is both the rise and fall of the pit and the channel bit. Clock
7.0%. The reflectance of the unrecorded area is 52%, the modulation degree of the shortest pit (I3 / I11: the ratio of the shortest pit amplitude to the longest pit amplitude) is 26%, and the crosstalk is 61%.
Extremely good recording and reproduction were achieved. Almost no distortion was observed in the reproduced waveform. In this case, Wg is 0.
26r and P were 0.75r.

【0068】(実施例2)実施例1で作製した媒体を、
633 nmの発振波長を有する半導体レーザーとNAが0.
63の対物レンズからなる光ヘッドを搭載したパルステッ
ク工業製光ディスク評価装置(DDU−1000)を用
いる以外は実施例1と同様に評価した。記録パワーが8.
2 mWのレーザー出力の時が最もエラーレートが小さく
(最適記録パワー)、バイトエラーレートは3 ×10-4
又、その際のジッターは、ピットの立ち上がりも、立ち
下がりもチャネルビットクロックの7.3 %であった。未
記録部の反射率は50%、最短ピットの変調度(I3/I11:
最短ピットの振幅の最長ピットの振幅に対する割合)の
30%、クロストークは58%であり、きわめて良好な記
録、再生ができた。又、再生波形には殆ど歪は観測され
なかった。なお、この場合のWgは0.28r、Pは0.80r
であった。
Example 2 The medium prepared in Example 1 was replaced with
A semiconductor laser with an oscillation wavelength of 633 nm and NA of 0.
Evaluation was performed in the same manner as in Example 1 except that an optical disk evaluation apparatus (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial equipped with an optical head having 63 objective lenses was used. Recording power is 8.
When the laser output is 2 mW, the error rate is the smallest (optimum recording power), the byte error rate is 3 × 10 -4 ,
The jitter at that time was 7.3% of the channel bit clock at both the rising and falling of the pit. The reflectance of the unrecorded area is 50%, and the modulation degree of the shortest pit (I3 / I11:
Ratio of shortest pit amplitude to longest pit amplitude)
30% and crosstalk were 58%, and extremely good recording and reproduction were possible. Almost no distortion was observed in the reproduced waveform. In this case, Wg is 0.28r and P is 0.80r.
Met.

【0069】(実施例3〜6及び比較例1〜3)実施例
1において〔表1〕に示すグルーブ形状の基板を用いる
以外は実施例1と同じ方法で媒体を作製し、評価した。
結果は〔表2〕にまとめた。〔表2〕から明らかなよう
に、本発明の実施例においては極めて良好な記録、再生
ができたが、比較例においてはクロストークが大きかっ
たり、最短ピットの変調度が小さく、エラーレート及び
ジッターが大きく、良好な記録、再生ができなかった。
(Examples 3 to 6 and Comparative Examples 1 to 3) A medium was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that a groove-shaped substrate shown in Table 1 was used.
The results are summarized in [Table 2]. As is apparent from Table 2, extremely good recording and reproduction were achieved in the example of the present invention, but in the comparative example, the crosstalk was large, the modulation degree of the shortest pit was small, and the error rate and the jitter were small. And good recording and reproduction could not be performed.

【0070】[0070]

【表1】 [Table 1]

【0071】[0071]

【表2】 [Table 2]

【0072】(実施例7〜10)記録層に用いる色素と
して下記式(6)〜(8)〔化7〕に示されるアゾ化合
物またはそのアゾ化合物の〔表3〕に示された金属錯体
を用い、かつ、トラックピッチ0.8 μm、グルーブ幅0.
32μm、深さ100 nmの基板を用いる以外は実施例1と
同じ方法で媒体を作製し、評価した。結果は〔表3〕に
まとめた。なお、この場合のWgは0.30r、Pは0.75r
であった。
(Examples 7 to 10) As a dye used in the recording layer, an azo compound represented by the following formulas (6) to (8) or a metal complex shown in [Table 3] of the azo compound was used. Used, track pitch 0.8 μm, groove width 0.
A medium was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that a substrate having a thickness of 32 μm and a depth of 100 nm was used. The results are summarized in [Table 3]. In this case, Wg is 0.30r and P is 0.75r.
Met.

【0073】[0073]

【化7】 Embedded image

【0074】[0074]

【表3】 [Table 3]

【0075】[0075]

【発明の効果】本発明の実施例及び比較例から明らかな
ように、本発明においては、基板上に少なくとも色素を
含有する記録層、反射層を有してなる光記録媒体におい
て、記録層に特定の色素を含有させ、トラックピッチ及
びグルーブ幅をλ/NAで表される記録ビーム径(λは
記録波長、NAは対物レンズの開口数)に対して規定す
ることにより、クロストークを可能な限り小さくでき、
高密度で記録することができる。
As is clear from the examples and comparative examples of the present invention, in the present invention, in an optical recording medium having a recording layer containing at least a dye and a reflective layer on a substrate, the recording layer By including a specific dye and defining the track pitch and groove width with respect to the recording beam diameter represented by λ / NA (λ is the recording wavelength, NA is the numerical aperture of the objective lens), crosstalk is possible. Can be as small as possible,
High-density recording is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光記録媒体の層構成の一例を示す構造
断面図
FIG. 1 is a structural sectional view showing an example of a layer configuration of an optical recording medium of the present invention.

【図2】本発明の光記録媒体の層構成の一例を示す構造
断面図
FIG. 2 is a structural sectional view showing an example of a layer configuration of the optical recording medium of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 記録層 3 反射層 4 保護層 1’ 基板 2’ 記録層 3’ 反射層 4’ 接着層 5’ 基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Recording layer 3 Reflective layer 4 Protective layer 1 'Substrate 2' Recording layer 3 'Reflective layer 4' Adhesive layer 5 'Substrate

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 グルーブを有する透明な基板上に、直接
又は他の層を介して、レーザー光を吸収する色素を含有
する記録層と、該記録層の上に直接又は他の層を介して
金属の反射層を有する光記録媒体において、λ/NAで
表される記録ビームの径をr[ここで、λは記録波長
(μm)、NAは対物レンズの開口数を表す]、基板の
グルーブのピッチ(トラックピッチ)をP(μm)、グ
ルーブの幅をWg(μm)とした際に、WgおよびPが
下記式を満足し、 0.24r≦Wg≦0.35r 0.68r≦P≦0.83r かつ、該記録層に含有される色素が、下記式(1)〔化
1〕で示されるアゾ化合物またはその金属錯体であるこ
とを特徴とする高密度光記録媒体。 【化1】 [式中、R1 及びR2 は各々独立に水素原子、置換また
は未置換のアルキル基、置換または未置換のアリール
基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置
換のアルケニル基を表し、R3 、R4 、R5 及びR6
各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カ
ルボキシル基、スルホン基、スルホンアミド基、アミノ
基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換
のアシル基、置換または未置換のアルキルカルボキシル
基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置
換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または未置換の
アルキルスルホンアミノ基、置換または未置換のアルキ
ルアミノ基、置換または未置換のアルキルスルホン基、
置換または未置換のアルケニル基を表し(ここで、金属
錯体を形成する場合は、R3 及びR5 のどちらか一方は
ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、置換または
未置換のアルキルカルボキシル基、置換または未置換の
アルキルカルボニルアミノ基、置換または未置換のアル
キルスルホンアミノ基、置換または未置換のアルキルア
ミノ基であり、他方は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロ
キシ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、アミノ
基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換
のアシル基、置換または未置換のアルキルカルボキシル
基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置
換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または未置換の
アルキルスルホンアミノ基、置換または未置換のアルキ
ルアミノ基、置換または未置換のアルキルスルホン基、
置換または未置換のアルケニル基を表す。)、R1 とR
4 、R2 とR6 及びR1とR2 は連結基を介して環を形
成してもよく、R7 は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロ
キシ基、カルボキシル基、スルホン基、スルホンアミド
基、アミノ基、置換または未置換のアルキル基、置換ま
たは未置換のアルコキシ基、置換または未置換のアリー
ル基、置換または未置換のアシル基、置換または未置換
のアルキルカルボキシル基、置換または未置換のアラル
キル基、置換または未置換のアルキルカルボニルアミノ
基、置換または未置換のアルキルスルホンアミノ基、置
換または未置換のアルキルアミノ基、置換または未置換
のアルキルスルホン基、置換または未置換のアルケニル
基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、チオシアノ
基、クロロスルホン基、置換または未置換のアルキルチ
オ基、置換または未置換のアルキルアゾメチン基、置換
または未置換のアルキルアミノスルホン基を表し、X
は、硫黄原子またはN−R8 を表し(ここで、R8 は水
素原子、置換または未置換のアルキル基、置換または未
置換のアリール基、置換または未置換のアラルキル基、
置換または未置換のアルケニル基を表す。)、Yは窒素
原子またはC−R9 を表す(ここで、R9 はR7 と同じ
意味を表す。)。但し、Xが硫黄原子の時、Yは窒素原
子であり、XがN−R8 の時、YはC−R9 である。]
1. A recording layer containing a dye that absorbs laser light, directly or through another layer, on a transparent substrate having a groove, and directly or through another layer on the recording layer. In an optical recording medium having a metal reflective layer, the diameter of the recording beam represented by λ / NA is r [where λ is the recording wavelength (μm), NA is the numerical aperture of the objective lens], and the groove of the substrate is When the pitch (track pitch) is P (μm) and the width of the groove is Wg (μm), Wg and P satisfy the following formula: 0.24r ≦ Wg ≦ 0.35r 0.68r ≦ P ≦ 0.83r A high density optical recording medium characterized in that the dye contained in the recording layer is an azo compound represented by the following formula (1) or a metal complex thereof. Embedded image [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfone group, a sulfonamide group, an amino group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted Acyl group, substituted or unsubstituted alkylcarboxyl group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group, substituted or unsubstituted alkylsulfonamino group, substituted or unsubstituted alkylamino group, substituted Or an unsubstituted alkylsulfone group,
Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group (here, when forming a metal complex, one of R 3 and R 5 is a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group, a substituted or unsubstituted alkyl carboxyl group, Or an unsubstituted alkylcarbonylamino group, a substituted or unsubstituted alkylsulfonamino group, a substituted or unsubstituted alkylamino group, and the other is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfonamide group, an amino group A substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted acyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarboxyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group, a substituted or unsubstituted alkyl Sulfonamino group, substituted or unsubstituted alkylamino group, Is an unsubstituted alkylsulfone group,
Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group. ), R 1 and R
4 , R 2 and R 6 and R 1 and R 2 may form a ring via a linking group, and R 7 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfone group, a sulfonamide group, an amino group. Group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkoxy group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted acyl group, substituted or unsubstituted alkylcarboxyl group, substituted or unsubstituted aralkyl group A substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group, a substituted or unsubstituted alkylsulfonamino group, a substituted or unsubstituted alkylamino group, a substituted or unsubstituted alkylsulfone group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a cyano group, Nitro, mercapto, thiocyano, chlorosulfone, substituted or unsubstituted alkylthio, substituted or unsubstituted Alkyl azomethine group, a substituted or unsubstituted alkyl amino sulfone group, X
Is a sulfur atom or N-R 8 (wherein, R 8 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group,
Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group. ), Y represents a nitrogen atom or C—R 9 (where R 9 has the same meaning as R 7 ). However, when X is a sulfur atom, Y is a nitrogen atom, and when X is N—R 8 , Y is C—R 9 . ]
【請求項2】 記録層に含有される色素が、下記式
(2)〔化2〕で示されるアゾ化合物の金属錯体である
ことを特徴とする請求項1に記載の高密度光記録媒体。 【化2】 [式中、R1 、R2 、R4 、R5 及びR6 は式(1)と
同じ意味を表し、R8 は、ヒドロキシ基またはカルボキ
シル基を表し、R9 は水素原子またはハロゲン原子を表
す。]
2. The high-density optical recording medium according to claim 1, wherein the dye contained in the recording layer is a metal complex of an azo compound represented by the following formula (2). Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and R 6 have the same meaning as in formula (1), R 8 represents a hydroxy group or a carboxyl group, and R 9 represents a hydrogen atom or a halogen atom. Represent. ]
【請求項3】 λが0.630〜0.655μm、NA
が0.60±0.05であることを特徴とする請求項1
または2に記載の高密度光記録媒体。
3. λ is 0.630 to 0.655 μm, NA
Is 0.60 ± 0.05.
Or a high-density optical recording medium according to 2.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999003686A1 (en) * 1997-07-14 1999-01-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical recording medium and method of producing the same
US6737143B2 (en) 2001-06-14 2004-05-18 Ricoh Company Ltd. Optical recording medium, optical recording method and optical recording device
US6936323B2 (en) 2003-04-30 2005-08-30 Ricoh Company, Ltd. Optical recording medium, and method and device using the same

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