JPH0940659A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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Publication number
JPH0940659A
JPH0940659A JP7196623A JP19662395A JPH0940659A JP H0940659 A JPH0940659 A JP H0940659A JP 7196623 A JP7196623 A JP 7196623A JP 19662395 A JP19662395 A JP 19662395A JP H0940659 A JPH0940659 A JP H0940659A
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JP
Japan
Prior art keywords
group
substituted
unsubstituted
recording medium
wavelength
Prior art date
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Pending
Application number
JP7196623A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taizo Nishimoto
泰三 西本
Tsutayoshi Misawa
伝美 三沢
Kenichi Sugimoto
賢一 杉本
Takeshi Tsuda
武 津田
Hideki Umehara
英樹 梅原
Hirosuke Takuma
啓輔 詫摩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Toatsu Chemicals Inc filed Critical Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority to JP7196623A priority Critical patent/JPH0940659A/en
Publication of JPH0940659A publication Critical patent/JPH0940659A/en
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
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  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an optical recording medium capable of regenerating, etc., by a near infrared laser of 770-830nm wavelength and capable of recording and regenerating by a red laser of 620-690nm wavelength, containing a specific azo compound as a pigment. SOLUTION: This optical recording medium contains an azo compound of formula I having an absorption maximum at 450-630nm wavelength (R1 and R2 are independently H or an alkyl, etc.; R3 , R4 , R5 and R6 are independently H or a halogen, etc.; R7 , R8 and R9 are independently H or a halogen, etc.; X is S or O). The objective compound of the formula I can be obtained by diazotizing a compound of formula II, adding the reaction product to a solution of a compound of formula III and subjecting to a coupling reaction.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体、特
に、波長770〜830nmの近赤外レーザーで再生ま
たは記録再生可能で、且つ、波長620〜690nmの
赤色レーザーで記録再生可能である光記録媒体に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly, an optical recording medium capable of reproducing or recording and reproducing with a near infrared laser having a wavelength of 770 to 830 nm and recording and reproducing with a red laser having a wavelength of 620 to 690 nm. Recording medium

【0002】[0002]

【従来の技術】基板上に反射層を有する光記録媒体とし
てコンパクトディスク(以下、CDと略す)規格に対応
した追記または記録可能なCDが提案されている〔例え
ば、日経エレクトロニクス、No.465,p.10
7,1989年1月23日号〕。この光記録媒体は(図
1)に示すように、基板1上に記録層2、反射層3、保
護層4をこの順に形成されるものである。この光記録媒
体の記録層に半導体レーザー等のレーザー光を高パワー
で照射すると、記録層が物理的あるいは化学的変化を起
こし、ピットの形で情報を記録する。形成されたピット
に低パワーのレーザー光を照射し、反射光を検出するこ
とによりピットの情報を再生することができる。このよ
うな光記録媒体の記録再生には、一般に波長770〜8
30nmの近赤外半導体レーザーが用いられており、レ
ッドブックやオレンジブック等のCDの規格に準拠して
いるため、CDプレーヤーや、CD−ROMプレーヤー
と互換性を有するという特徴を有する。
2. Description of the Related Art As an optical recording medium having a reflective layer on a substrate, a recordable or recordable CD corresponding to the compact disc (hereinafter abbreviated as CD) standard has been proposed [eg Nikkei Electronics, No. 465, p. 10
7, January 23, 1989]. As shown in FIG. 1, this optical recording medium has a recording layer 2, a reflective layer 3 and a protective layer 4 formed in this order on a substrate 1. When the recording layer of this optical recording medium is irradiated with a laser beam such as a semiconductor laser with high power, the recording layer undergoes a physical or chemical change to record information in the form of pits. The pit information can be reproduced by irradiating the formed pits with a low-power laser beam and detecting the reflected light. Generally, wavelengths of 770 to 8 are used for recording / reproducing of such an optical recording medium.
Since a near-infrared semiconductor laser of 30 nm is used and complies with CD standards such as Red Book and Orange Book, it has a feature that it is compatible with CD players and CD-ROM players.

【0003】最近、770nmよりも短波長の半導体レ
ーザーの開発が進み、波長680nm及び630nmの
赤色半導体レーザーが実用化されている〔例えば、日経
エレクトロニクス、No.592,p.65,1993
年10月11日号〕。記録再生用レーザーの短波長化に
よりビームスポットを小さくすることで、高密度な光記
録媒体が可能になる。また、半導体レーザーの短波長化
とデータ圧縮技術などにより、動画を記憶できる大容量
の光記録媒体が開発されてきている〔例えば、日経エレ
クトロニクス、No.589,p.55,1993年8
月30日号〕。このような高密度の光記録媒体は動画の
ような大容量のデータを記録することができ、ビデオC
Dなどの用途に期待されている〔例えば、日経エレクト
ロニクス、No.594,p.169,1993年11
月8日号〕。また、特開平2−278519号公報で
は、680nmの短波長レーザーで高密度に記録して7
80nmで再生する方法により、高密度高速記録が提案
されている。
Recently, development of semiconductor lasers having a wavelength shorter than 770 nm has progressed, and red semiconductor lasers having wavelengths of 680 nm and 630 nm have been put into practical use [eg Nikkei Electronics, No. 592, p. 65,1993
October 11, issue]. By reducing the beam spot by shortening the wavelength of the recording / reproducing laser, a high-density optical recording medium becomes possible. In addition, large-capacity optical recording media capable of storing moving images have been developed by shortening the wavelength of semiconductor lasers and data compression technology [eg, Nikkei Electronics, No. 589, p. 55, 1993 8
Month 30th issue]. Such a high-density optical recording medium can record a large amount of data such as a moving image, and the video C
It is expected to be used for applications such as D. [eg Nikkei Electronics, No. 594, p. 169, 1993 11
Month 8 issue]. Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 278519/1990, high density recording with a short wavelength laser of 680 nm is used.
High density high speed recording has been proposed by a method of reproducing at 80 nm.

【0004】一方、特開平6−40162号公報には、
短波長レーザーで記録再生が可能な光記録媒体が提案さ
れている。この媒体は、記録層にインドカルボシアニン
色素を用いており、630nmの半導体レーザーやヘリ
ウムネオンレーザーで記録可能である。630nmより
さらに短波長の490nmの青/緑色半導体レーザーも
研究されているが、まだ実用化の段階まで至っていない
〔例えば、 Applied PhysicsLetter, p.1272−
1274,Vol.59(1991)や日経エレクトロ
ニクス、No.552,P.90,1992年4月27
日号〕。こうした背景から、光記録媒体の記録再生波長
が630nm付近まで短波長化されていく傾向にある。
従って、これに対応した光記録媒体の開発が必要とな
り、さらに、従来からある780nmにも対応した互換
性のある光記録媒体が望まれている。しかしながら、従
来の光記録媒体では、記録層に用いている有機色素が波
長620〜690nmで吸収が大きく屈折率が小さいた
め反射率が低く、波長680nmまたは630nmの赤
色レーザーでの再生が不可能であることがわかった。
On the other hand, Japanese Patent Laid-Open No. 6-40162 discloses that
An optical recording medium capable of recording / reproducing with a short wavelength laser has been proposed. This medium uses an indocarbocyanine dye in the recording layer and can be recorded with a 630 nm semiconductor laser or a helium neon laser. A 490 nm blue / green semiconductor laser having a wavelength shorter than 630 nm has also been studied, but has not yet reached the stage of practical application [eg, Applied Physics Letter, p. 1272-
1274, Vol. 59 (1991) and Nikkei Electronics, No. 552, P.I. 90, April 27, 1992
Japanese issue]. From such a background, the recording / reproducing wavelength of the optical recording medium tends to be shortened to around 630 nm.
Therefore, it is necessary to develop an optical recording medium compatible with this, and further, a compatible optical recording medium compatible with the conventional 780 nm is also desired. However, in the conventional optical recording medium, since the organic dye used in the recording layer has large absorption at a wavelength of 620 to 690 nm and a small refractive index, the reflectance is low, and reproduction with a red laser having a wavelength of 680 nm or 630 nm is impossible. I knew it was.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、78
0nmの近赤外レーザー(従来より市販のCDプレーヤ
ーなど)で記録及び/又は再生可能で、且つ、波長68
0または630nmの赤色レーザーでも記録及び/又は
再生可能な光記録媒体を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to
It is possible to record and / or reproduce with a near-infrared laser of 0 nm (such as a commercially available CD player), and a wavelength of 68.
An object of the present invention is to provide an optical recording medium capable of recording and / or reproducing with a red laser of 0 or 630 nm.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明は、 基板上に、記録層、反射層及び保護層を有する光記
録媒体において、記録層中に下記一般式(1)(化2)
で示される波長450〜630nmに吸収極大を有する
アゾ化合物を含有する光記録媒体、 記録層中に、さらに波長650〜900nmに吸収
極大を有する光吸収化合物を含有するの光記録媒体、 波長650〜900nmに吸収極大を有する光吸収
化合物が、フタロシアニン化合物であるの光記録媒
体。 波長650〜900nmに吸収極大を有する光吸収
化合物の含有量が、アゾ化合物に対して、0.1〜50
重量%であるまたはの光記録媒体。 波長770〜830nmの近赤外レーザーから選ば
れた光に対する基板側から測定した反射率が65%以上
で、波長770〜830nmの近赤外レーザーで記録及
び/又は再生可能で、且つ、波長620〜690nmの
赤色レーザーから選ばれた光に対する基板側から測定し
た反射率が15%以上で、波長620〜690nmの赤
色レーザーで記録及び/又は再生可能である〜のい
ずれかの光記録媒体、に関する。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, completed the present invention. That is, the present invention provides an optical recording medium having a recording layer, a reflective layer and a protective layer on a substrate, wherein the recording layer has the following general formula (1)
, An optical recording medium containing an azo compound having an absorption maximum at a wavelength of 450 to 630 nm, an optical recording medium containing an optical absorption compound having an absorption maximum at a wavelength of 650 to 900 nm in the recording layer, a wavelength of 650 to An optical recording medium in which the light absorbing compound having an absorption maximum at 900 nm is a phthalocyanine compound. The content of the light absorbing compound having an absorption maximum at a wavelength of 650 to 900 nm is 0.1 to 50 with respect to the azo compound.
An optical recording medium which is or is the weight percent. The reflectance measured from the substrate side with respect to the light selected from the near-infrared laser having the wavelength of 770 to 830 nm is 65% or more, and the recording and / or reproduction can be performed by the near-infrared laser having the wavelength of 770 to 830 nm, and the wavelength of 620. An optical recording medium having a reflectance of 15% or more with respect to light selected from a red laser of 690 nm to a substrate and capable of recording and / or reproducing with a red laser having a wavelength of 620 to 690 nm. .

【0007】[0007]

【化2】 〔式中、R1 及びR2 は各々独立に水素原子、置換また
は未置換のアルキル基、置換または未置換のアリール
基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置
換のアルケニル基を表し、R3 、R4 、R5 及びR6
各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カ
ルボキシル基、スルホン基、スルホンアミド基、アミノ
基、置換または未置換のアルキル基、置換または未置換
のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、置換
または未置換のアシル基、置換または未置換のアルキル
カルボキシル基、置換または未置換のアラルキル基、置
換または未置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換ま
たは未置換のアルキルスルホンアミノ基、置換または未
置換のアルキルアミノ基、置換または未置換のアルキル
スルホン基、置換または未置換のアルケニル基を表し、
1 とR4 、R2 とR6及びR1 とR2 は連結基を介し
て環を形成してもよく、R7 、R8 及びR9 は各々独立
に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ
ル基、スルホン基、スルホンアミド基、アミノ基、置換
または未置換のアルキル基、置換または未置換のアルコ
キシ基、置換または未置換のアリール基、置換または未
置換のアシル基、置換または未置換のアルキルカルボキ
シル基、置換または未置換のアラルキル基、置換または
未置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または未置
換のアルキルスルホンアミノ基、置換または未置換のア
ルキルアミノ基、置換または未置換のアルキルスルホン
基、置換または未置換のアルケニル基、シアノ基、ニト
ロ基、メルカプト基、チオシアノ基、クロロスルホン
基、置換または未置換のアルキルチオ基、置換または未
置換のアルキルアゾメチン基、置換または未置換のアル
キルアミノスルホン基を表し、また、Xは硫黄原子また
は酸素原子を表す〕 本発明では、一般式(1)で示される波長450〜63
0nmに吸収極大を有するアゾ化合物、または、該アゾ
化合物と650〜900nmに吸収極大を有する光吸収
化合物との混合物を記録層に用いることにより、770
〜830nmから選ばれたレーザーで記録及び/又は再
生可能で、且つ、波長620〜690nmの赤色レーザ
ーでも記録及び/又は再生可能な光記録媒体を提供す
る。
Embedded image [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfone group, a sulfonamide group, an amino group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted Alkoxy group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted acyl group, substituted or unsubstituted alkylcarboxyl group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group, substituted or unsubstituted Alkylsulfonamino group, substituted or unsubstituted alkylamino group, substituted or unsubstituted alkylsulfone group, substituted or It represents an unsubstituted alkenyl group,
R 1 and R 4 , R 2 and R 6 and R 1 and R 2 may form a ring through a linking group, and R 7 , R 8 and R 9 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a hydroxy group. Group, carboxyl group, sulfone group, sulfonamide group, amino group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkoxy group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted acyl group, substituted or unsubstituted Substituted alkylcarboxyl group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group, substituted or unsubstituted alkylsulfonamino group, substituted or unsubstituted alkylamino group, substituted or unsubstituted alkylsulfone Group, substituted or unsubstituted alkenyl group, cyano group, nitro group, mercapto group, thiocyano group, chlorosulfone group, substituted or unsubstituted A alkenylthio group, a substituted or unsubstituted alkylazomethine group, a substituted or unsubstituted alkylaminosulfone group, and X represents a sulfur atom or an oxygen atom.] In the present invention, the wavelength 450 represented by the general formula (1) is used. ~ 63
By using an azo compound having an absorption maximum at 0 nm or a mixture of the azo compound and a light absorbing compound having an absorption maximum at 650 to 900 nm for the recording layer, 770
Provided is an optical recording medium which can be recorded and / or reproduced by a laser selected from ˜830 nm and can be recorded and / or reproduced by a red laser having a wavelength of 620 to 690 nm.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明について以下に具体的に説
明する。本発明の光記録媒体は基板上に記録層及び反射
層を有する。光記録媒体とは予め情報を記録されている
再生専用の光再生専用媒体及び情報を記録して再生する
ことのできる光記録媒体の両方を示すものである。但
し、ここでは適例として後者の情報を記録して再生ので
きる光記録媒体、特に基板上に記録層、反射層及び保護
層をこの順で形成した光記録媒体に関して説明する。こ
の光記録媒体は(図1)に示すような4層構造を有して
いる。即ち、基板1上に記録層2が形成されており、そ
の上に密着して反射層3が設けられており、さらにその
上に保護層4が反射層3を覆っている。基板としては、
基本的には記録光及び再生光の波長で透明な材質のもの
であればよい。例えば、ポリカーボネート樹脂、塩化ビ
ニル樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の高分子材料やガラ
ス等の無機材料が利用される。これらの基板材料は射出
成形法等により円盤状の基板に成形される。必要に応じ
て、基板表面に溝を形成することもある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be specifically described below. The optical recording medium of the present invention has a recording layer and a reflective layer on a substrate. The optical recording medium refers to both a read-only optical read-only medium in which information is recorded in advance and an optical recording medium in which information can be recorded and reproduced. However, here, as a suitable example, an optical recording medium capable of recording and reproducing the latter information, particularly an optical recording medium in which a recording layer, a reflective layer and a protective layer are formed in this order on a substrate will be described. This optical recording medium has a four-layer structure as shown in FIG. That is, a recording layer 2 is formed on a substrate 1, a reflective layer 3 is provided in close contact with the recording layer 2, and a protective layer 4 further covers the reflective layer 3. As a substrate,
Basically, any material that is transparent at the wavelengths of the recording light and the reproducing light may be used. For example, polycarbonate resin, vinyl chloride resin, acrylic resin such as polymethylmethacrylate,
Polymer materials such as polystyrene resin and epoxy resin and inorganic materials such as glass are used. These substrate materials are formed into a disk-shaped substrate by an injection molding method or the like. If necessary, a groove may be formed on the substrate surface.

【0009】本発明の光記録媒体において、その記録層
に含有される一般式(1)で示されるアゾ化合物は、λ
max が500nm付近に存在し、620〜690nmで
の屈折率が大きく、吸光度が小さいため、反射率が大き
く取れる。又、770〜830nmの屈折率も大きく吸
収も小さいため、現在使用されている770〜830n
mの半導体レーザーを搭載したCDプレーヤーやCD−
ROMプレーヤーでも再生が可能となる。
In the optical recording medium of the present invention, the azo compound represented by the general formula (1) contained in the recording layer is λ
Since max exists near 500 nm, the refractive index at 620 to 690 nm is large, and the absorbance is small, a large reflectance can be obtained. Moreover, since the refractive index of 770 to 830 nm is large and the absorption is small, the currently used 770 to 830 n is used.
CD player or CD- equipped with m semiconductor laser
It can also be played on a ROM player.

【0010】本発明で用いるアゾ化合物は、前記式
(1)で示されるアゾ化合物である。前記式(1)の置
換基において、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、
臭素、沃素であり、好ましくは、フッ素、塩素、臭素で
ある。置換または未置換のアルキル基としては、直鎖ま
たは分岐のアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコ
キシアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアル
コキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、
アルコキシカルボニルオキシアルキル基、アルコキシア
ルコキシカルボニルオキシアルキル基、ヒドロキシアル
キル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、ヒドロキシ
アルコキシアルコキシアルキル基、シアノアルキル基、
アシルオキシアルキル基、アシルオキシアルコキシアル
キル基、アシルオキシアルコキシアルコキシアルキル
基、ハロゲン化アルキル、スルホンアルキル基、アルキ
ルカルボニルアミノアルキル基、アルキルスルホンアミ
ノアルキル基、スルホンアミドアルキル基、アルキルア
ミノアルキル基、アミノアルキル基、またはアルキルス
ルホンアルキル基等が挙げられる。
The azo compound used in the present invention is the azo compound represented by the above formula (1). In the substituent of the formula (1), the halogen atom is fluorine, chlorine,
Bromine and iodine are preferred, and fluorine, chlorine and bromine are preferred. As the substituted or unsubstituted alkyl group, a linear or branched alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkoxyalkoxyalkyl group, an alkoxyalkoxyalkoxyalkyl group, an alkoxycarbonylalkyl group,
Alkoxycarbonyloxyalkyl group, alkoxyalkoxycarbonyloxyalkyl group, hydroxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkoxyalkyl group, cyanoalkyl group,
Acyloxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkoxyalkyl group, halogenated alkyl, sulfone alkyl group, alkylcarbonylaminoalkyl group, alkylsulfonaminoalkyl group, sulfonamidoalkyl group, alkylaminoalkyl group, aminoalkyl group, or Examples thereof include an alkylsulfone alkyl group.

【0011】直鎖または分岐のアルキル基としては、炭
素数1〜15の炭化水素基が挙げられ、ポリカーボネー
ト、アクリル、エポキシ、ポリオレフィン基板等への塗
布による加工性を考慮すれば、メチル基、エチル基、n-
プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル
基、t-ブチル基、n-ペンチル基、iso-ペンチル基、2-メ
チルブチル基、1-メチルブチル基、neo-ペンチル基、1,
2-ジメチルプロピル基、1,1-ジメチルプロピル基、cycl
o-ペンチル基、n-ヘキシル基、4-メチルペンチル基、3-
メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルペン
チル基、3,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル
基、1,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、1,
2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチル基、3-エチル
ブチル基、2-エチルブチル基、1-エチルブチル基、1,2,
2-トリメチルブチル基、1,1,2-トリメチルブチル基、1-
エチル-2- メチルプロピル基、cyclo-ヘキシル基、n-ヘ
プチル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘキシル基、
4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、2,4-ジメチ
ルペンチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、2,
5-ジメチルヘキシル基、2,5,5-トリメチルペンチル基、
2,4-ジメチルヘキシル基、2,2,4-トリメチルペンチル
基、n-ノニル基、n-デシル基、4-エチルオクチル基、4-
エチル-4,5- ジメチルヘキシル基、n-ウンデシル基、n-
ドデシル基、1,3,5,7-テトラエチルオクチル基、4-ブチ
ルオクチル基、6,6-ジエチルオクチル基、n-トリデシル
基、6-メチル-4- ブチルオクチル基、n-テトラデシル
基、n-ペンタデシル基、3,5-ジメチルヘプチル基、2,6-
ジメチルヘプチル基、2,4-ジメチルヘプチル基、2,2,5,
5-テトラメチルヘキシル基、1-cyclo-ペンチル-2,2- ジ
メチルプロピル基、1-cyclo-ヘキシル-2,2- ジメチルプ
ロピル基等が挙げられる。
Examples of the linear or branched alkyl group include a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. In consideration of workability by coating on a polycarbonate, acryl, epoxy, polyolefin substrate or the like, a methyl group or an ethyl group is used. Base, n-
Propyl, iso-propyl, n-butyl, sec-butyl, t-butyl, n-pentyl, iso-pentyl, 2-methylbutyl, 1-methylbutyl, neo-pentyl, 1,
2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cycl
o-pentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-
Methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,
2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,2,
2-trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-
Ethyl-2-methylpropyl group, cyclo-hexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group,
4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,
5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group,
2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-
Ethyl-4,5-dimethylhexyl group, n-undecyl group, n-
Dodecyl group, 1,3,5,7-tetraethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6-methyl-4-butyloctyl group, n-tetradecyl group, n -Pentadecyl group, 3,5-dimethylheptyl group, 2,6-
Dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,2,5,
Examples thereof include a 5-tetramethylhexyl group, a 1-cyclo-pentyl-2,2-dimethylpropyl group, and a 1-cyclo-hexyl-2,2-dimethylpropyl group.

【0012】アルコキシアルキル基の例としては、メト
キシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル
基、ブトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエ
チル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、n-ヘ
キシルオキシエチル基、4-メチルペントキシエチル基、
1,3-ジメチルブトキシエチル基、2-エチルヘキシルオキ
シエチル基、n-オクチルオキシエチル基、3,5,5-トリメ
チルヘキシルオキシエチル基、2-メチル-1-iso- プロピ
ルプロポキシエチル基、3-メチル-1-iso- プロピルブチ
ルオキシエチル基、2-エトキシ-1- メチルエチル基、3-
メトキシブチル基、3,3,3-トリフルオロプロポキシエチ
ル基、3,3,3-トリクロロプロポキシエチル基などの炭素
数2〜15のものが挙げられる。
Examples of alkoxyalkyl groups are methoxymethyl group, ethoxymethyl group, propoxymethyl group, butoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, propoxyethyl group, butoxyethyl group, n-hexyloxyethyl group, 4-methylpentoxyethyl group,
1,3-dimethylbutoxyethyl group, 2-ethylhexyloxyethyl group, n-octyloxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxyethyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropoxyethyl group, 3- Methyl-1-iso-propylbutyloxyethyl group, 2-ethoxy-1-methylethyl group, 3-
Examples thereof include those having 2 to 15 carbon atoms such as a methoxybutyl group, a 3,3,3-trifluoropropoxyethyl group, and a 3,3,3-trichloropropoxyethyl group.

【0013】アルコキシアルコキシアルキル基の例とし
ては、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエ
チル基、プロポキシエトキシエチル基、ブトキシエトキ
シエチル基、ヘキシルオキシエトキシエチル基、1,2-ジ
メチルプロポキシエトキシエチル基、3-メチル-1-iso-
ブチルブトキシエトキシエチル基、2-メトキシ-1- メチ
ルエトキシエチル基、2-ブトキシ-1- メチルエトキシエ
チル基、2-(2'-エトキシ-1'-メチルエトキシ)-1-メチル
エチル基、3,3,3-トリフルオロプロポキシエトキシエチ
ル基、3,3,3-トリクロロプロポキシエトキシエチル基等
が挙げられる。アルコキシアルコキシアルコキシアルキ
ル基の例としては、メトキシエトキシエトキシエチル
基、エトキシエトキシエトキシエチル基、ブトキシエト
キシエトキシエチル基、2,2,2-トリフルオロエトキシエ
トキシエトキシエチル基、2,2,2-トリクロロエトキシエ
トキシエトキシエチル基等が挙げられる。
Examples of alkoxyalkoxyalkyl groups include methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethyl group, hexyloxyethoxyethyl group, 1,2-dimethylpropoxyethoxyethyl group, 3- Methyl-1-iso-
Butylbutoxyethoxyethyl group, 2-methoxy-1-methylethoxyethyl group, 2-butoxy-1-methylethoxyethyl group, 2- (2'-ethoxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl group, 3 A 3,3,3-trifluoropropoxyethoxyethyl group and a 3,3,3-trichloropropoxyethoxyethyl group. Examples of the alkoxyalkoxyalkoxyalkyl group include a methoxyethoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethoxyethyl group, a butoxyethoxyethoxyethyl group, a 2,2,2-trifluoroethoxyethoxyethoxyethyl group, and a 2,2,2-trichloroethoxy group. Examples thereof include an ethoxyethoxyethyl group.

【0014】アルコキシカルボニルアルキル基の例とし
ては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニ
ルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、メトキシカ
ルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、ブト
キシカルボニルエチル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロ
ポキシカルボニルメチル基、2,2,3,3-テトラクロロプロ
ポキシカルボニルメチル基等が挙げられる。アルコキシ
カルボニルオキシアルキル基の例としては、メトキシカ
ルボニルオキシエチル基、エトキシカルボニルオキシエ
チル基、ブトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2-ト
リフルオロエトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2-
トリクロロエトキシカルボニルオキシエチル基等が挙げ
られる。アルコキシアルコキシカルボニルオキシアルキ
ル基の例としては、メトキシエトキシカルボニルオキシ
エチル基、エトキシエトキシカルボニルオキシエチル
基、ブトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,
2-トリフルオロエトキシエトキシカルボニルオキシエチ
ル基、2,2,2-トリクロロエトキシエトキシカルボニルオ
キシエチル基等が挙げられる。
Examples of alkoxycarbonylalkyl groups include methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, butoxycarbonylmethyl group, methoxycarbonylethyl group, ethoxycarbonylethyl group, butoxycarbonylethyl group, 2,2,3,3- Examples thereof include a tetrafluoropropoxycarbonylmethyl group and a 2,2,3,3-tetrachloropropoxycarbonylmethyl group. Examples of the alkoxycarbonyloxyalkyl group include a methoxycarbonyloxyethyl group, an ethoxycarbonyloxyethyl group, a butoxycarbonyloxyethyl group, a 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxyethyl group, and a 2,2,2-
Examples thereof include trichloroethoxycarbonyloxyethyl group. Examples of the alkoxyalkoxycarbonyloxyalkyl group include a methoxyethoxycarbonyloxyethyl group, an ethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, a butoxyethoxycarbonyloxyethyl group, a 2,2,
Examples thereof include a 2-trifluoroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group and a 2,2,2-trichloroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group.

【0015】ヒドロキシアルキル基の例としては、2-ヒ
ドロキシエチル基、4-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキ
シ-3- メトキシプロピル基、2-ヒドロキシ-3- クロロプ
ロピル基、2-ヒドロキシ-3- エトキシプロピル基、3-ブ
トキシ-2- ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシ-3- フ
ェノキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、2-ヒド
ロキシブチル基等が挙げられる。ヒドロキシアルコキシ
アルキル基の例としては、ヒドロキシエトキシエチル
基、2-(2'-ヒドロキ-1'-メチルエトキシ)-1- メチルエ
チル基、2-(3'-フルオロ-2'-ヒドロキシプロポキシ) エ
チル基、2-(3'-クロロ-2'-ヒドロキシプロポキシ) エチ
ル基等が挙げられ、ヒドロキシアルコキシアルコキシア
ルキル基の例としては、ヒドロキシエトキシエトキシエ
チル基、[2'-(2'-ヒドロキ-1'-メチルエトキシ)-1'-メ
チルエトキシ] エトキシエチル基、[2'-(2'-フルオロ-
1'-ヒドロキシエトキシ)-1'-メチルエトキシ] エトキ
シエチル基、[2'-(2'-クロロ-1'-ヒドロキシエトキシ)
-1'-メチルエトキシ] エトキシエチル基等が挙げられ
る。
Examples of the hydroxyalkyl group include 2-hydroxyethyl group, 4-hydroxyethyl group, 2-hydroxy-3-methoxypropyl group, 2-hydroxy-3-chloropropyl group, 2-hydroxy-3-ethoxy group. Examples thereof include a propyl group, a 3-butoxy-2-hydroxypropyl group, a 2-hydroxy-3-phenoxypropyl group, a 2-hydroxypropyl group and a 2-hydroxybutyl group. Examples of hydroxyalkoxyalkyl groups include hydroxyethoxyethyl group, 2- (2'-hydroxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl group, 2- (3'-fluoro-2'-hydroxypropoxy) ethyl group. Group, 2- (3'-chloro-2'-hydroxypropoxy) ethyl group and the like, and examples of the hydroxyalkoxyalkoxyalkyl group include hydroxyethoxyethoxyethyl group, [2 '-(2'-hydroxy-1 '-Methylethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2'-(2'-fluoro-
1'-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2 '-(2'-chloro-1'-hydroxyethoxy)
-1'-Methylethoxy] ethoxyethyl group and the like.

【0016】シアノアルキル基の例としては、2-シアノ
エチル基、4-シアノブチル基、2-シアノ-3- メトキシプ
ロピル基、2-シアノ-3- クロロプロピル基、2-シアノ-3
- エトキシプロピル基、3-ブトキシ-2- シアノプロピル
基、2-シアノ-3- フェノキシプロピル基、2-シアノプロ
ピル基、2-シアノブチル基等が挙げられる。アシルオキ
シアルキル基の例としては、アセトキシエチル基、プロ
ピオニルオキシエチル基、ブチリルオキシエチル基、バ
レリルオキシエチル基、1-エチルペンチルカルボニルオ
キシエチル基、2,4,4-トリメチルペンチルカルボニルオ
キシエチル基、3-フロオロブチリルオキシエル基、3-ク
ロロブチリルオキシエチル基等が挙げられる。
Examples of the cyanoalkyl group include 2-cyanoethyl group, 4-cyanobutyl group, 2-cyano-3-methoxypropyl group, 2-cyano-3-chloropropyl group and 2-cyano-3 group.
-Ethoxypropyl group, 3-butoxy-2-cyanopropyl group, 2-cyano-3-phenoxypropyl group, 2-cyanopropyl group, 2-cyanobutyl group and the like. Examples of the acyloxyalkyl group, acetoxyethyl group, propionyloxyethyl group, butyryloxyethyl group, valeryloxyethyl group, 1-ethylpentylcarbonyloxyethyl group, 2,4,4-trimethylpentylcarbonyloxyethyl group , 3-fluorobutyryloxyethyl group, 3-chlorobutyryloxyethyl group and the like.

【0017】アシルオキシアルコキシアルキル基の例と
しては、アセトキシエトキシエチル基、プロピオニルオ
キシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシエチル
基、1-エチルペンチルカルボニルオキシエトキシエチル
基、2,4,4-トリメチルペンチルカルボニルオキシエトキ
シエチル基、2-フルオロプロピオニルオキシエトキシエ
チル基、2-クロロプロピオニルオキシエトキシエチル基
等が挙げられ、アシルオキシアルコキシアルコキシアル
キル基の例としては、アセトキシエトキシエトキシエチ
ル基、プロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基、
バレリルオキシエトキシエトキシエチル基、1-エチルペ
ンチルカルボニルオキシエトキシエトキシエチル基、2,
4,4-トリメチルペンチルカルボニルオキシエトキシエト
キシエチル基、2-フルオロプロピオニルオキシエトキシ
エトキシエチル基、2-クロロプロピオニルオキシエトキ
シエトキシエチル基等が挙げられる。ハロゲン化アルキ
ル基の例としては、クロルメチル基、クロルエチル基、
2,2,2-トリフルオロエチル基、トリフルオロメチル基、
ブロムメチル基、ヨウ化メチル基等が挙げられる。
Examples of the acyloxyalkoxyalkyl group are acetoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethyl group, 1-ethylpentylcarbonyloxyethoxyethyl group and 2,4,4-trimethylpentylcarbonyloxy group. Ethoxyethyl group, 2-fluoropropionyloxyethoxyethyl group, 2-chloropropionyloxyethoxyethyl group and the like, examples of the acyloxyalkoxyalkoxyalkyl group, acetoxyethoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethoxyethyl group,
Valeryloxyethoxyethoxyethyl group, 1-ethylpentylcarbonyloxyethoxyethoxyethyl group, 2,
4,4-Trimethylpentylcarbonyloxyethoxyethoxyethyl group, 2-fluoropropionyloxyethoxyethoxyethyl group, 2-chloropropionyloxyethoxyethoxyethyl group and the like can be mentioned. Examples of the halogenated alkyl group include a chloromethyl group, a chloroethyl group,
2,2,2-trifluoroethyl group, trifluoromethyl group,
Examples thereof include bromomethyl group and methyl iodide group.

【0018】スルホンアルキル基の例としては、スルホ
ンメチル基、スルホンエチル基、スルホンプロピル基等
が挙げられる。アルキルカルボニルアミノアルキル基の
例としては、メチルカルボニルアミノエチル基、エチル
カルボニルアミノエチル基、プロピルカルボニルアミノ
エチル基、シクロヘキシルカルボニルアミノエチル基、
スクシンイミノエチル基等が挙げられる。アルキルスル
ホンアミノアルキル基の例としては、メチルスルホンア
ミノエチル基、エチルスルホンアミノエチル基、プロピ
ルスルホンアミノエチル基等が挙げられる。スルホンア
ミドアルキル基の例としては、スルホンアミドメチル
基、スルホンアミドエチル基、スルホンアミドプロピル
基等が挙げられる。
Examples of the sulfone alkyl group include a sulfone methyl group, a sulfone ethyl group, a sulfone propyl group and the like. Examples of the alkylcarbonylaminoalkyl group include a methylcarbonylaminoethyl group, an ethylcarbonylaminoethyl group, a propylcarbonylaminoethyl group, a cyclohexylcarbonylaminoethyl group,
Examples thereof include succiniminoethyl group. Examples of the alkyl sulfone aminoalkyl group include a methyl sulfone aminoethyl group, an ethyl sulfone aminoethyl group, a propyl sulfone aminoethyl group and the like. Examples of the sulfonamide alkyl group include a sulfonamide methyl group, a sulfonamide ethyl group, and a sulfonamide propyl group.

【0019】アルキルアミノアルキル基の例としては、
N-メチルアミノメチル基、N,N-ジメチルアミノメチル
基、N,N-ジエチルアミノメチル基、N,N-ジプロピルアミ
ノメチル基、N,N-ジブルアミノメチル基等が挙げられ
る。アミノアルキル基の例としては、アミノメチル基、
アミノエチル基、アミノプロピル基等が挙げられる。ア
ルキルスルホンアルキル基の例としては、メチルスルホ
ンメチル基、エチルスルホンメチル基、ブチルスルホン
メチル基、メチルスルホンエチル基、エチルスルホンエ
チル基、ブチルスルホンエチル基、2,2,3,3-テトラフル
オロプロピルスルホンメチル基、2,2,3,3-テトラクロロ
プロピルスルホンメチル基等が挙げられる。
Examples of alkylaminoalkyl groups are:
Examples thereof include N-methylaminomethyl group, N, N-dimethylaminomethyl group, N, N-diethylaminomethyl group, N, N-dipropylaminomethyl group and N, N-dibulaminomethyl group. Examples of aminoalkyl groups include aminomethyl groups,
Examples thereof include aminoethyl group and aminopropyl group. Examples of the alkyl sulfone alkyl group include a methyl sulfone methyl group, an ethyl sulfone methyl group, a butyl sulfone methyl group, a methyl sulfone ethyl group, an ethyl sulfone ethyl group, a butyl sulfone ethyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl Examples thereof include a sulfonemethyl group and a 2,2,3,3-tetrachloropropylsulfonemethyl group.

【0020】置換または未置換のアルコキシ基の例とし
ては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有する
アルコキシ基であり、好ましくは、メトキシ基、エトキ
シ基、n-プロポキシ基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ
基、iso-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、
n-ペントキシ基、iso-ペントキシ基、neo-ペントキシ
基、2-メチルブトキシ基などの低級アルコキシ基が挙げ
られる。置換または未置換のアリール基の例としては、
上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアリー
ル基であり、好ましくは、フェニル基、ニトロフェニル
基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチル
フェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ナフチル
基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシ
ナフチル基、メチルナフチル基、トリフルオロメチルナ
フチル基等が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkoxy group are alkoxy groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group. Group, n-butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group,
Lower alkoxy groups such as n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group and 2-methylbutoxy group are exemplified. Examples of substituted or unsubstituted aryl groups include
An aryl group having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a phenyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a hydroxyphenyl group, a methylphenyl group, a trifluoromethylphenyl group, a naphthyl group, and a nitro group. Examples thereof include a naphthyl group, a cyanonaphthyl group, a hydroxynaphthyl group, a methylnaphthyl group and a trifluoromethylnaphthyl group.

【0021】置換または未置換のアシル基の例として
は、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するア
シル基であり、好ましくは、ホルミル基、メチルカルボ
ニル基、エチルカルボニル基、n-プロピルカルボニル
基、iso-プロピルカルボニル基、n-ブチルカルボニル
基、iso-ブチルカルボニル基、sec-ブチルカルボニル
基、t-ブチルカルボニル基、n-ペンチルカルボニル基、
iso-ペンチルカルボニル基、neo-ペンチルカルボニル
基、2-メチルブチルカルボニル基、ニトロベンジルカル
ボニル基等が挙げられる。置換または未置換のアルキル
カルボキシル基の例としては、上記に挙げたアルキル基
と同様な置換基を有するアルキルカルボキシル基であ
り、好ましくは、メチルカルボキシル基、エチルカルボ
キシル基、n-プロピルカルボキシル基、iso-プロピルカ
ルボキシル基、n-ブチルカルボキシル基、iso-ブチルカ
ルボキシル基、sec-ブチルカルボキシル基、t-ブチルカ
ルボキシル基、n-ペンチルカルボキシル基、iso-ペンチ
ルカルボキシル基、neo-ペンチルカルボキシル基、2-メ
チルブチルカルボキシル基等の低級アルキルカルボキシ
ル基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted acyl group are acyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably formyl group, methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group, n-propyl group. Carbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group,
Examples include iso-pentylcarbonyl group, neo-pentylcarbonyl group, 2-methylbutylcarbonyl group, nitrobenzylcarbonyl group and the like. Examples of the substituted or unsubstituted alkylcarboxyl group are alkylcarboxyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methylcarboxyl group, ethylcarboxyl group, n-propylcarboxyl group, iso -Propyl carboxyl group, n-butyl carboxyl group, iso-butyl carboxyl group, sec-butyl carboxyl group, t-butyl carboxyl group, n-pentyl carboxyl group, iso-pentyl carboxyl group, neo-pentyl carboxyl group, 2-methyl Examples thereof include lower alkylcarboxyl groups such as butylcarboxyl group.

【0022】置換または未置換のアラルキル基の例とし
ては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有する
アラルキル基であり、好ましくは、ベンジル基、ニトロ
ベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル
基、メチルベンジル基、トリフルオロメチルベンジル
基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シア
ノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メ
チルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメ
チル基などが挙げられる。置換または未置換のアルキル
カルボニルアミノ基の例としては、上記に挙げたアルキ
ル基と同様な置換基を有するアルキルカルボニルアミノ
基であり、好ましくは、メチルカルボニルアミノ基、エ
チルカルボニルアミノ基、n-プロピルカルボニルアミノ
基、iso-プロピルカルボニルアミノ基、n-ブチルカルボ
ニルアミノ基、iso-ブチルカルボニルアミノ基、sec-ブ
チルカルボニルアミノ基、t-ブチルカルボニルアミノ
基、n-ペンチルカルボニルアミノ基、iso-ペンチルカル
ボニルアミノ基、neo-ペンチルカルボニルアミノ基、2-
メチルブチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカル
ボニルアミノ基、スクシンイミノ基などの低級アルキル
カルボニルアミノ基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyl group are aralkyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably benzyl group, nitrobenzyl group, cyanobenzyl group, hydroxybenzyl group. , Methylbenzyl group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthylmethyl group, methylnaphthylmethyl group, trifluoromethylnaphthylmethyl group and the like. Examples of the substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group include an alkylcarbonylamino group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylcarbonylamino group, an ethylcarbonylamino group, an n-propyl Carbonylamino group, iso-propylcarbonylamino group, n-butylcarbonylamino group, iso-butylcarbonylamino group, sec-butylcarbonylamino group, t-butylcarbonylamino group, n-pentylcarbonylamino group, iso-pentylcarbonyl Amino group, neo-pentylcarbonylamino group, 2-
And lower alkylcarbonylamino groups such as methylbutylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, and succinimino group.

【0023】置換または未置換のアルキルスルホンアミ
ノ基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有するアルキルスルホンアミノ基であり、好まし
くは、メチルスルホンアミノ基、エチルスルホンアミノ
基、n-プロピルスルホンアミノ基、iso-プロピルスルホ
ンアミノ基、n-ブチルスルホンアミノ基、iso-ブチルス
ルホンアミノ基、sec-ブチルスルホンアミノ基、t-ブチ
ルスルホンアミノ基、n-ペンチルスルホンアミノ基、is
o-ペンチルスルホンアミノ基、neo-ペンチルスルホンア
ミノ基、2-メチルブチルスルホンアミノ基、シクロヘキ
シルスルホンアミノ基などの低級アルキルスルホンアミ
ノ基が挙げられる。置換または未置換のアルキルアミノ
基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換
基を有するアルキルアミノ基であり、好ましくは、N-メ
チルアミノ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジエチルア
ミノ基、N,N-ジプロピルアミノ基、N,N-ジブチルアミノ
基などの低級アルキルアミノ基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylsulfonamino group are alkylsulfonamino groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methylsulfonamino group, ethylsulfonamino group, n-propylsulfonamino group, iso-propylsulfonamino group, n-butylsulfonamino group, iso-butylsulfonamino group, sec-butylsulfonamino group, t-butylsulfonamino group, n-pentylsulfonamino group, is
and lower alkylsulfonamino groups such as o-pentylsulfonamino group, neo-pentylsulfonamino group, 2-methylbutylsulfonamino group, and cyclohexylsulfonamino group. Examples of the substituted or unsubstituted alkylamino group include an alkylamino group having the same substituent as the above-described alkyl group, preferably, an N-methylamino group, an N, N-dimethylamino group, And lower alkylamino groups such as N, N-diethylamino group, N, N-dipropylamino group and N, N-dibutylamino group.

【0024】置換または未置換のアルキルスルホン基の
例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を
有するアルキルスルホン基であり、好ましくは、メチル
スルホン基、エチルスルホン基、n-プロピルスルホン
基、iso-プロピルスルホン基、n-ブチルスルホン基、is
o-ブチルスルホン基、sec-ブチルスルホン基、t-ブチル
スルホン基、n-ペンチルスルホン基、iso-ペンチルスル
ホン基、neo-ペンチルスルホン基、2-メチルブチルスル
ホン基、2-ヒドロキシエチルスルホン基、2-シアノエチ
ルスルホン基などの低級アルキルスルホン基が挙げられ
る。置換または未置換のアルケニル基の例としては、上
記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアルケニ
ル基であり、好ましくは、プロペニル基、1-ブテニル
基、iso-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル
基、2-メチル-1- ブテニル基、3-メチル-1- ブテニル
基、2-メチル-2- ブテニル基、2,2-ジシアノビニル基、
2-シアノ-2- メチルカルボキシルビニル基、2-シアノ-2
- メチルスルホンビニル基などの低級アルケニル基が挙
げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylsulfone group are alkylsulfone groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methylsulfone group, ethylsulfone group and n-propylsulfone group. Group, iso-propyl sulfone group, n-butyl sulfone group, is
o-butyl sulfone group, sec-butyl sulfone group, t-butyl sulfone group, n-pentyl sulfone group, iso-pentyl sulfone group, neo-pentyl sulfone group, 2-methylbutyl sulfone group, 2-hydroxyethyl sulfone group, And lower alkylsulfone groups such as a 2-cyanoethylsulfone group. Examples of the substituted or unsubstituted alkenyl group are alkenyl groups having the same substituents as the above-described alkyl groups, preferably, propenyl group, 1-butenyl group, iso-butenyl group, 1-pentenyl group , 2-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group,
2-cyano-2-methylcarboxyl vinyl group, 2-cyano-2
-Lower alkenyl groups such as methylsulfonevinyl groups.

【0025】置換または未置換のアルキルチオ基の例と
しては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有す
るアルキルチオ基であり、好ましくは、メチルチオ基、
エチルチオ基、n-プロピルチオ基、iso-プロピルチオ
基、n-ブチルチオ基、iso-ブチルチオ基、sec-ブチルチ
オ基、t-ブチルチオ基、n-ペンチルチオ基、iso-ペンチ
ルチオ基、neo-ペンチルチオ基、2-メチルブチルチオ
基、メチルカルボキシルエチルチオ基などの低級アルキ
ルチオ基が挙げられる。置換または未置換のアルキルア
ゾメチン基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアルキルアゾメチン基であり、好ま
しくは、メチルアゾメチン基、エチルアゾメチン基、n-
プロピルアゾメチン基、iso-プロピルアゾメチン基、n-
ブチルアゾメチン基、iso-ブチルアゾメチン基、sec-ブ
チルアゾメチン基、t-ブチルアゾメチン基、n-ペンチル
アゾメチン基、iso-ペンチルアゾメチン基、neo-ペンチ
ルアゾメチン基、2-メチルブチルアゾメチン基、ヒドロ
キシエチルアゾメチン基などの低級アルキルアゾメチン
基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylthio group are alkylthio groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a methylthio group,
Ethylthio, n-propylthio, iso-propylthio, n-butylthio, iso-butylthio, sec-butylthio, t-butylthio, n-pentylthio, iso-pentylthio, neo-pentylthio, 2- And lower alkylthio groups such as methylbutylthio group and methylcarboxylethylthio group. Examples of the substituted or unsubstituted alkylazomethine group include an alkylazomethine group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylazomethine group, an ethylazomethine group, or an n-
Propylazomethine group, iso-Propylazomethine group, n-
Butylazomethine group, iso-butylazomethine group, sec-butylazomethine group, t-butylazomethine group, n-pentylazomethine group, iso-pentylazomethine group, neo-pentylazomethine group, 2-methylbutylazomethine group, hydroxyethylazomethine And lower alkylazomethine groups such as a group.

【0026】置換または未置換のアルキルアミノスルホ
ン基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有するアルキルアミノスルホン基であり、好まし
くは、N-メチルアミノスルホン基、N-エチルアミノスル
ホン基、N-(n- プロピル) アミノスルホン基、N-(iso-
プロピル) アミノスルホン基、N-(n- ブチル) アミノス
ルホン基、N-(iso- ブチル) アミノスルホン基、N-(sec
- ブチル) アミノスルホン基、N-(t- ブチル) アミノス
ルホン基、N-(n- ペンチル) アミノスルホン基、N-(iso
- ペンチル) アミノスルホン基、N-(neo- ペンチル) ア
ミノスルホン基、N-(2- メチルブチル) アミノスルホン
基、N-(2- ヒドロキシエチル) アミノスルホン基、N-(2
- シアノエチル) アミノスルホン基などの低級アルキル
アミノスルホン基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylaminosulfone group are alkylaminosulfone groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably N-methylaminosulfone group and N-ethyl. Amino sulfone group, N- (n-propyl) amino sulfone group, N- (iso-
Propyl) aminosulfone group, N- (n-butyl) aminosulfone group, N- (iso-butyl) aminosulfone group, N- (sec
-Butyl) aminosulfone group, N- (t-butyl) aminosulfone group, N- (n-pentyl) aminosulfone group, N- (iso
-Pentyl) amino sulfone group, N- (neo-pentyl) amino sulfone group, N- (2-methylbutyl) amino sulfone group, N- (2-hydroxyethyl) amino sulfone group, N- (2
-Cyanoethyl) lower alkylaminosulfone group such as aminosulfone group.

【0027】R1 とR4 、または、R2 とR6 が連結基
を介して環を形成した例としては、-CH2CH2-, -CH2CH2C
H2-, -CH2CH(Cl)-, -CH2C(=O)CH2-, -CH2C(=O)-,-CH2CH
2C(=O)-, -CH2CH(F)-, -CH2CH(OH)- が挙げられる。ま
た、R1 とR2 が連結基を介して環を形成した例として
は、-CH2CH2OCH2CH2-,-CH2CH2NHCH2CH2-, -CH2CH2N(C
H3)CH2CH2-, -CH2C(=O)OC(=O)CH2-,-CH2C(=O)NHC(=O)CH
2-, -CH2C(=O)N(CH3)C(=O)CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2- 等
が挙げられる。本発明の一般式(1)で表される化合物
は、公知の方法により次の様に製造される。即ち、一般
式(2)(化3)で示されるアミン成分をジアゾ化し、
一般式(3)(化3)で示されるカップリング成分の溶
液に添加し、カップリング反応させて、一般式(1)で
示されるアゾ化合物が得られる。
Examples of R 1 and R 4 or R 2 and R 6 forming a ring via a linking group include —CH 2 CH 2, —CH 2 CH 2 C
H 2- , -CH 2 CH (Cl)-, -CH 2 C (= O) CH 2- , -CH 2 C (= O)-,-CH 2 CH
2 C (= O)-, -CH 2 CH (F)-, -CH 2 CH (OH)-. Further, as an example in which R 1 and R 2 form a ring via a linking group, -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2- , -CH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2- , -CH 2 CH 2 N ( C
H 3 ) CH 2 CH 2- , -CH 2 C (= O) OC (= O) CH 2 -,-CH 2 C (= O) NHC (= O) CH
2- , -CH 2 C (= O) N (CH 3 ) C (= O) CH 2- , -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2- and the like can be mentioned. The compound represented by the general formula (1) of the present invention is produced as follows by a known method. That is, the amine component represented by the general formula (2) (chemical formula 3) is diazotized,
The azo compound represented by the general formula (1) is obtained by adding to the solution of the coupling component represented by the general formula (3) (Chemical Formula 3) and performing a coupling reaction.

【0028】[0028]

【化3】 〔上式中、R1 〜R7 及びXは式(1)の場合と同じ意
味を表す〕
Embedded image [In the above formula, R 1 to R 7 and X have the same meanings as in the case of formula (1)]

【0029】本発明では、620〜690nmと770
〜830nmに対する記録感度向上のために、一般式
(1)で示されるアゾ化合物と650〜900nmに極
大吸収波長のある光吸収化合物とを混合して用いること
もある。この場合、650〜900nmに極大吸収波長
のある光吸収化合物は、アゾ化合物に対して、0.1〜
50重量%混合する。この光吸収化合物を50重量%よ
り多く混合すると630〜690nmと770〜830
nmにおける記録層の吸収係数が大きくなり、再生特性
の反射率を低下させてしまう恐れがある。また、0.1
重量%以下では630〜690nmと770〜830n
mにおける記録層の吸収係数が小さすぎて記録感度が小
さくなり、記録不能の恐れが生ずる。ただし、690〜
740nmにシャープな吸収極大を有する光吸収化合物
を用いる場合には、アゾ化合物に対して、0.1〜15
0重量%混合することができる。
In the present invention, 620 to 690 nm and 770
In order to improve the recording sensitivity to ˜830 nm, an azo compound represented by the general formula (1) and a light absorbing compound having a maximum absorption wavelength at 650 to 900 nm may be mixed and used. In this case, the light absorbing compound having the maximum absorption wavelength in the range of 650 to 900 nm is 0.1 to 0.1% with respect to the azo compound.
Mix 50% by weight. If this light absorbing compound is mixed in an amount of more than 50% by weight, it is 630 to 690 nm and 770 to 830 nm.
The absorption coefficient of the recording layer in nm becomes large, which may reduce the reflectance of the reproducing characteristic. Also, 0.1
630 to 690 nm and 770 to 830 n at weight% or less
Since the absorption coefficient of the recording layer at m is too small, the recording sensitivity is reduced, and there is a risk of recording failure. However, 690 to
When a light absorbing compound having a sharp absorption maximum at 740 nm is used, it is 0.1 to 15 with respect to the azo compound.
0% by weight can be mixed.

【0030】本願で用いる光吸収化合物としては、65
0〜900nmに極大吸収波長を有するものであればよ
く、ペンタメチンシアニン系色素、ヘプタメチンシアニ
ン系色素、インドフェノール系色素、フタロシアニン系
色素、ナフタロシアニン系色素、ピリリウム系色素、チ
オピリリウム系色素、アズレニウム系色素、トリフェニ
ルメタン系色素、キサンテン系色素、インダスレン系色
素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシアニ
ン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オキサ
ジン系色素などがある。これらの色素は単独で用いても
よく、また、複数混合して用いてもよい。中でも、後述
する基盤にダメージを与えない塗布溶媒に充分溶解する
シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシア
ニン系色素、アゾ系色素等が好適である。
The light absorbing compound used in the present application is 65
Any dye having a maximum absorption wavelength of 0 to 900 nm may be used, and pentamethine cyanine dyes, heptamethine cyanine dyes, indophenol dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, azurenium. Dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, induslen dyes, indigo dyes, thioindigo dyes, merocyanine dyes, thiazine dyes, acridine dyes, oxazine dyes and the like. These dyes may be used alone or in combination of two or more. Among them, cyanine dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, azo dyes and the like, which are sufficiently soluble in a coating solvent that does not damage the substrate described later, are suitable.

【0031】上記シアニン系色素としては、例えば、1,
3,3,1',3',3'- ヘキサメチル-2,2'-(4,5,4',5'- ジベン
ゾ) インドジカルボシアニンパークロレート、3,3'- ジ
エチル-2,2'-(6,7,6',7'- ジベンゾ) チアジカルボシア
ニンアイオダイド、3,3'- ジエチル-2,2'-セレネジカル
ボシアニンアイオダイド、1,3'-,ジエチル-4,2'-キノオ
キサジカルボシアニンアイオダイド、3,3',9- トリエチ
ル-2,2'-(4,5,4',5'-ジベンゾ) チアジカルボシアニン
ブロマイド、1,1'- ジエチル-2,4'-キノジカルボシアニ
ンアイオダイド、1,3'- ジエチル-4,2'-キノチアジカル
ボシアニンアイオダイド等が挙げられる。また、上記フ
タロシアニン系色素としては、例えば、下記化学式
(a)〜(j)(化4〜8)で示される化合物等が挙げ
られる。
Examples of the cyanine dyes include 1,
3,3,1 ', 3', 3'- Hexamethyl-2,2 '-(4,5,4', 5'-dibenzo) indodicarbocyanine perchlorate, 3,3'-diethyl-2,2 '-(6,7,6', 7'-Dibenzo) thiadicarbocyanine iodide, 3,3'-diethyl-2,2'-selenice carbocyanine iodide, 1,3 '-, diethyl-4 , 2'-Quinoxadicarbocyanine iodide, 3,3 ', 9-triethyl-2,2'-(4,5,4 ', 5'-dibenzo) thiadicarbocyanine bromide, 1,1'- Examples thereof include diethyl-2,4'-quinodicarbocyanine iodide and 1,3'-diethyl-4,2'-quinothiadicarbocyanine iodide. Examples of the phthalocyanine dye include compounds represented by the following chemical formulas (a) to (j) (Chemical Formulas 4 to 8).

【0032】[0032]

【化4】 Embedded image

【0033】[0033]

【化5】 Embedded image

【0034】[0034]

【化6】 [Chemical 6]

【0035】[0035]

【化7】 [Chemical 7]

【0036】[0036]

【化8】 なお、化合物(b)〜(d)、(h)〜(j)におい
て、Br等はフタロシアニンのベンゼン環に置換してい
る。これらの化合物や色素に、必要に応じて、消光剤や
紫外線吸収剤等の添加剤を混合したり、あるいは、置換
基として導入することも可能である。例えば、添加剤と
しては以下の一般式(4)〜(10)(化9)で示され
るものが挙げられる。
Embedded image In addition, in the compounds (b) to (d) and (h) to (j), Br and the like are substituted on the benzene ring of phthalocyanine. If necessary, additives such as a quencher and an ultraviolet absorber can be mixed with these compounds or dyes, or they can be introduced as a substituent. For example, the additives include those represented by the following general formulas (4) to (10) (chemical formula 9).

【0037】[0037]

【化9】 Embedded image

【0038】上式中、A,A’はベンゼン環あるいは置
換ベンゼン環を形成するか、またはナフタレン環あるい
は置換ナフタレン環を形成する原子群であり、同種であ
っても異種であっても良い。これらの置換基としては、
アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ
ル基、ハロゲン原子、アリール基、アルキルカルボキシ
ル基、アルキルアルコキシル基、アラルキル基、アルキ
ルカルボニル基、金属イオンと結合したスルホネートア
ルキル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、フ
ェニルエチレン基等がある。これらの置換基は、単数で
あっても、複数であってもよい。また、R10〜R32は置
換または未置換のアルキル基、置換または未置換のアル
コキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ハロゲン原
子、置換または未置換のアリル基、置換または未置換の
アルキルカルボキシル基、置換または未置換のアルキル
アルコキシル基、置換または未置換のアラルキル基、置
換または未置換のアルキルカルボニル基、金属イオンと
結合したスルホネートアルキル基、ニトロ基、アミノ
基、置換または未置換のアルキルアミノ基、置換または
未置換のフェニル基、置換または未置換のフェニルエチ
レン基等がある。Mは、Ni、Co、Mn、Cu、Pd
及びPt等の遷移金属を示している。Mは電荷を持ち、
カチオンと塩構造をとっても良い。aはイオン体の電価
数を表し、0を含む正の整数である。Zはカチオンを示
し、a=b×cであり、a=0の時は、b×c=0でZ
は存在せず、化合物は中性体となる。
In the above formula, A and A'are atomic groups forming a benzene ring or a substituted benzene ring, or forming a naphthalene ring or a substituted naphthalene ring, and may be the same or different. As these substituents,
Alkyl group, alkoxy group, hydroxy group, carboxyl group, halogen atom, aryl group, alkylcarboxyl group, alkylalkoxyl group, aralkyl group, alkylcarbonyl group, sulfonate alkyl group bonded to metal ion, nitro group, amino group, alkylamino Group, phenylethylene group and the like. These substituents may be singular or plural. R 10 to R 32 are a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a hydroxy group, a carboxyl group, a halogen atom, a substituted or unsubstituted allyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarboxyl group, A substituted or unsubstituted alkylalkoxyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group, a sulfonate alkyl group bound to a metal ion, a nitro group, an amino group, a substituted or unsubstituted alkylamino group, Examples thereof include a substituted or unsubstituted phenyl group and a substituted or unsubstituted phenylethylene group. M is Ni, Co, Mn, Cu, Pd
And transition metals such as Pt. M has a charge,
It may have a cation and a salt structure. a represents the valence of the ionic substance and is a positive integer including 0. Z represents a cation, a = b × c, and when a = 0, b × c = 0 and Z
Does not exist and the compound becomes neutral.

【0039】これらの化合物や色素は、スピンコート法
やキャスト法等の塗布法、スパッタ法、化学蒸着法、真
空蒸着法等によって基板上に厚さ50〜500nm、好
ましくは100〜150nmの記録層を形成する。特に
塗布法においては色素を溶解あるいは分散させた塗布溶
媒を用いるが、この際溶媒は基板にダメージを与えない
ものを選ぶことが好ましい。例えば、メタノール等のア
ルコール系溶媒、ヘキサンやオクタン等の脂肪族炭化水
素系溶媒、シクロヘキサン等の環状炭化水素系溶媒、ベ
ンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素系溶媒、ジオキサン等のエーテル化炭
化水素系溶媒、メチルセルソルブ等のセロソルブ系溶
媒、アセトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステ
ル系溶媒等が1種あるいは複数混合して用いられる。記
録層は1層だけでなく複数の化合物で多層を形成させた
り、化合物を高分子薄層などに、例えば、好ましくは5
0%程度以上の濃度で分散して用いたりすることもでき
る。また、アゾ系化合物の含有記録層と光吸収化合物を
含有する記録層が異なる多層記録層であっても良い。な
お、基板にダメージを与えない溶媒を選択できない場合
はスパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法などが有効であ
る。
These compounds and dyes have a recording layer having a thickness of 50 to 500 nm, preferably 100 to 150 nm, formed on a substrate by a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method or a vacuum vapor deposition method. To form. Particularly in the coating method, a coating solvent in which a dye is dissolved or dispersed is used, and it is preferable to select a solvent that does not damage the substrate. For example, alcohol solvents such as methanol, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and octane, cyclic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, An etherified hydrocarbon solvent such as dioxane, a cellosolve solvent such as methyl cellosolve, a ketone solvent such as acetone, an ester solvent such as ethyl acetate, etc. are used alone or in combination. The recording layer is not limited to one layer, but may be formed of a multi-layered structure of a plurality of compounds, or the compound may be a thin polymer layer, for example, preferably 5
It can also be used by dispersing it at a concentration of about 0% or more. The recording layer containing the azo compound and the recording layer containing the light absorbing compound may be different from each other. If a solvent that does not damage the substrate cannot be selected, sputtering, chemical vapor deposition, vacuum vapor deposition, etc. are effective.

【0040】次に、記録層の上に、厚さ50〜300n
m、好ましくは100〜150nmの反射層を形成す
る。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十
分高いもの、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Zn、
Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Cr及びPdの金属を
単独あるいは合金にして用いることが可能である。この
なかでもAuやAlは反射率が高く反射層の材料に適し
ている。これ以外に、例えば、Mg、Se、Hf、V、
Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、I
r、Cu、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、T
e、Pb、Po、Sn、Bi等の金属及び半金属を含ん
でいてもよい。また、Auを主成分としているものは反
射率の高い反射層が容易に得られるため好適である。こ
こで主成分というのは含有率が50%以上のことをい
う。金属以外の材料で、低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を
交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いる
ことも可能である。反射層を形成する方法としては、例
えば、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げら
れる。また、反射率を高めるためや、密着性をよくする
ために記録層と反射層の間に、それぞれ反射増幅層や接
着層を設けることもできる。
Next, a thickness of 50 to 300 n is formed on the recording layer.
m, preferably a reflective layer having a thickness of 100 to 150 nm. The material of the reflective layer has a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, such as Au, Al, Ag, Cu, Zn,
Metals of Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Cr and Pd can be used alone or as an alloy. Among these, Au and Al have a high reflectance and are suitable for the material of the reflective layer. Other than this, for example, Mg, Se, Hf, V,
Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, I
r, Cu, Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, T
It may contain a metal and a semimetal such as e, Pb, Po, Sn, and Bi. Further, those containing Au as a main component are preferable because a reflection layer having high reflectance can be easily obtained. Here, the main component means that the content rate is 50% or more. It is also possible to use a material other than metal as a reflective layer by alternately stacking low refractive index thin films and high refractive index thin films to form a multilayer film. Examples of the method of forming the reflective layer include a sputtering method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method and the like. Further, a reflection amplification layer and an adhesive layer may be provided between the recording layer and the reflection layer in order to increase the reflectance and improve the adhesion.

【0041】さらに、本発明の光記録媒体では、反射層
の上に保護層を形成させることもできる。保護層の材料
としては、反射層を外力から保護するものであれば特に
限定しない。例えば、有機物質としては、熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げることがで
き、中でもUV硬化性樹脂が好ましい。又、無機物質と
しては、SiO2 、SiN4 、MgF2 、SnO2 等が
挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な
溶剤に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって
保護層を形成することができる。UV硬化性樹脂は、そ
のままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した
後に、この塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させ
ることによって保護層を形成することができる。UV硬
化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エ
ポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のア
クリレート樹脂を用いることができる。これらの材料は
単独であるいは混合して用いても良いし、1層だけでな
く多層膜にして用いてもいっこうに差し支えない。保護
層の形成の方法としては、記録層と同様にスピンコート
法やキャスト法などの塗布法やスパッタ法や化学蒸着法
等の方法が用いられるが、この中でスピンコート法が好
ましい。
Further, in the optical recording medium of the present invention, a protective layer can be formed on the reflective layer. The material of the protective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. For example, examples of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a UV curable resin, and the like. Among them, the UV curable resin is preferable. Examples of the inorganic substance include SiO 2 , SiN 4 , MgF 2 , and SnO 2 . A protective layer can be formed by dissolving a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like in a suitable solvent, applying a coating solution, and drying. The UV-curable resin can be used as it is or by dissolving it in a suitable solvent to prepare a coating solution, and then coating the coating solution and irradiating it with UV light to cure it, thereby forming a protective layer. As the UV curable resin, for example, an acrylate resin such as urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or as a mixture, or may be used not only as a single layer but also as a multilayer film. As a method of forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, or the like is used as in the recording layer, and the spin coating method is preferable among them.

【0042】本発明における赤色レーザーとしては、6
20〜690nmの波長のレーザーであれば何でも良
い。例えば、可視領域の広範囲で波長選択のできる色素
レーザー、波長633nmのヘリウムネオンレーザー、
最近開発されている波長680nmの高出力半導体レー
ザーなどがあるが、装置に搭載することを考えると半導
体レーザーが好適である。また、近赤外レーザーとして
は、770〜830nmの波長のレーザーであれば何で
も良いが、市販のCDプレーヤーやCDレコーダーに用
いられている半導体レーザーが適している。
As the red laser in the present invention, 6
Any laser having a wavelength of 20 to 690 nm may be used. For example, a dye laser capable of wavelength selection in a wide range of visible region, a helium neon laser with a wavelength of 633 nm,
There is a high output semiconductor laser with a wavelength of 680 nm which has been recently developed, and the semiconductor laser is preferable in consideration of mounting on a device. As the near infrared laser, any laser having a wavelength of 770 to 830 nm may be used, but a semiconductor laser used in a commercially available CD player or CD recorder is suitable.

【0043】[0043]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。 実施例1 一般式(1)で表されるアゾ化合物のうち、表−1(表
1〜3)に記載したアゾ化合物(S-1) 0.2gと、光吸
収化合物としてペンタメチンシアニン色素NK2929
〔1,3,3,1',3',3'- ヘキサメチル-2,2'-(4,5,4',5'- ジ
ベンゾ) インドジカルボシアニンパークロレート、日本
感光色素研究所製〕0.02gをジアセトンアルコール
(東京化成品)10mlに溶解し、色素溶液を調製し
た。基板としては、連続した案内溝(トラックピッチ:
1.6μm)を有する直径120mmφ、厚さ1.2m
mの円盤状のもの(ポリカーボネート樹脂製)を用い
た。この基板上に、色素溶液を回転数1500rpmで
スピンコートし、70℃で2時間乾燥して、記録層を形
成した。この記録層の上にバルザース社製スパッタ装置
(CDI−900)を用いてAuをスパッタし、厚さ1
00nmの反射層を形成した。スパッタガス圧1.0×
10-2Torrで行った。更に、反射層の上に、紫外線
硬化樹脂SD−17(大日本インキ化学工業製)をスピ
ンコートした後、紫外線照射して厚さ6μmの保護層を
形成した。サンプルを680nm赤色半導体レーザーヘ
ッドを搭載したパルスチック工業製光ディスク評価装置
DDU−1000及びKENWOOD製EFMエンコー
ダーを用いて、線速5.6m/s、レーザーパワー10
mWで記録した。記録後、635nm赤色半導体レーザ
ーヘッドを搭載した評価装置を用いて信号を再生し、反
射率を測定した。また、この記録したサンプルを再生波
長が780nmの市販CDプレーヤーで再生評価した結
果、良好な記録特性を示した。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited by these examples. Example 1 Of the azo compounds represented by the general formula (1), 0.2 g of the azo compound (S-1) described in Table 1 (Tables 1 to 3) and a pentamethine cyanine dye NK2929 as a light absorbing compound.
(1,3,3,1 ', 3', 3'-hexamethyl-2,2 '-(4,5,4', 5'-dibenzo) indodicarbocyanine perchlorate, manufactured by Japan Photosensitive Dye Research Institute) 0.02 g was dissolved in 10 ml of diacetone alcohol (Tokyo Kasei) to prepare a dye solution. As a substrate, a continuous guide groove (track pitch:
Diameter of 120 mmφ, thickness of 1.2 m
A m-shaped disc (made of polycarbonate resin) was used. A dye solution was spin-coated on this substrate at a rotation speed of 1500 rpm and dried at 70 ° C. for 2 hours to form a recording layer. Au was sputtered on the recording layer using a Balzers sputtering device (CDI-900) to a thickness of 1
A 00 nm reflective layer was formed. Sputtering gas pressure 1.0 ×
It was carried out at 10 -2 Torr. Further, an ultraviolet curable resin SD-17 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was spin-coated on the reflective layer and then irradiated with ultraviolet rays to form a protective layer having a thickness of 6 μm. The sample was measured using a pulse-tick industrial optical disc evaluation device DDU-1000 equipped with a 680 nm red semiconductor laser head and a KENWOOD EFM encoder to obtain a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10.
Recorded in mW. After recording, the signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 635 nm red semiconductor laser head, and the reflectance was measured. In addition, as a result of performing reproduction evaluation of this recorded sample with a commercially available CD player having a reproduction wavelength of 780 nm, good recording characteristics were shown.

【0044】実施例2〜6 実施例1において、アゾ化合物(S-1) の代わりに、各
々、表−1に記載したアゾ化合物(S-2) 〜(S-6) を用い
ること以外は、実施例1と同様にして光記録媒体を作製
した。作製した媒体について、実施例1と同様に、68
0nm赤色レーザーヘッドを搭載したパルスチック工業
製光ディスク評価装置DDU−1000及びKENWO
OD製EFMエンコーダーを用いて、線速5.6m/
s、レーザーパワー10mWで記録した。記録後、実施
例1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特
性を示した。
Examples 2 to 6 In Example 1, except that the azo compounds (S-2) to (S-6) shown in Table 1 were used instead of the azo compound (S-1), respectively. An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1. About the manufactured medium, 68
Optical disc evaluation system DDU-1000 and KENWO manufactured by Pulstic Industrial Co., Ltd. equipped with a 0 nm red laser head.
Using an EFM encoder manufactured by OD, a linear velocity of 5.6 m /
s, laser power was recorded at 10 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.

【0045】実施例7 実施例1において、表−1に記載したアゾ化合物(S-7)
と、光吸収化合物としてヘプタメチンシアニン色素NK
125〔1,3,3,1',3',3'- ヘキサメチル-2,2'-(4,5,4',
5'- ジベンゾ) インドジカルボシアニンアイオダイド、
日本感光色素研究所製〕を用いること以外は同様にし
て、光記録媒体を作製した。作製した媒体に780nm
近赤外半導体レーザーヘッドを搭載したパルスチック工
業製光ディスク評価装置DDU−1000及びKENW
OOD製EFMエンコーダーを用いて、線速2.8m/
s、レーザーパワー8mWで記録した。記録後、実施例
1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特性
を示した。
Example 7 In Example 1, the azo compounds (S-7) listed in Table 1 were used.
And heptamethine cyanine dye NK as a light absorbing compound
125 [1,3,3,1 ', 3', 3'-hexamethyl-2,2 '-(4,5,4',
5'-dibenzo) indodicarbocyanine iodide,
An optical recording medium was produced in the same manner except that the product manufactured by Japan Photosensitive Dye Institute was used. 780 nm for the prepared medium
Optical disc evaluation device DDU-1000 and KENW manufactured by Pulstic Industrial equipped with a near infrared semiconductor laser head
Using an OOD EFM encoder, a linear velocity of 2.8 m /
s, laser power was recorded at 8 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.

【0046】実施例8〜12 実施例7において、各々、表−1に記載したアゾ化合物
(S-8) 〜(S-12)を用いること以外は同様にして、光記録
媒体を作製した。作製した媒体に実施例7と同様に78
0nm赤色レーザーヘッドを搭載したパルスチック工業
製光ディスク評価装置DDU−1000及びKENWO
OD製EFMエンコーダーを用いて、線速2.8m/
s、レーザーパワー8mWで記録した。記録後、実施例
1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特性
を示した。
Examples 8 to 12 In Example 7, the azo compounds shown in Table 1 were used.
An optical recording medium was produced in the same manner except that (S-8) to (S-12) were used. The prepared medium was used in the same manner as in Example 7 (78).
Optical disc evaluation system DDU-1000 and KENWO manufactured by Pulstic Industrial Co., Ltd. equipped with a 0 nm red laser head.
Using an EFM encoder made by OD, a linear velocity of 2.8 m /
s, laser power was recorded at 8 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.

【0047】実施例13 実施例1において、アゾ化合物(S-13)と、光吸収化合物
としてペンタメチンシアニン色素NK2627〔3,3'-
ジエチル-2,2'-(6,7,6',7'- ジベンゾ) チアジカルボシ
アニンアイオダイド、日本感光色素研究所製〕を用いる
こと以外は同様にして、光記録媒体を作製した。作製し
た媒体に780nm近赤外半導体レーザーヘッドを搭載
したパルスチック工業製光ディスク評価装置DDU−1
000及びKENWOOD製EFMエンコーダーを用い
て、線速1.4m/s、レーザーパワー7mWで記録し
た。記録後、実施例1と同様の測定を行った結果、いず
れも良好な記録特性を示した。
Example 13 In Example 1, the azo compound (S-13) and the pentamethinecyanine dye NK2627 [3,3'- as a light absorbing compound were used.
An optical recording medium was prepared in the same manner except that diethyl-2,2 ′-(6,7,6 ′, 7′-dibenzo) thiadicarbocyanine iodide, manufactured by Japan Photosensitive Dye Research Institute] was used. Optical disc evaluation device DDU-1 manufactured by Pulstic Industrial Co., Ltd. in which a 780 nm near-infrared semiconductor laser head is mounted on the manufactured medium
000 and KENWOOD EFM encoder were used for recording at a linear velocity of 1.4 m / s and a laser power of 7 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.

【0048】実施例14〜18 実施例13において、各々、アゾ化合物(S-14)〜(S-18)
を用いること以外は同様にして、光記録媒体を作製し
た。作製した媒体を実施例13と同様に780nm赤色
レーザーヘッドを搭載したパルスチック工業製光ディス
ク評価装置DDU−1000及びKENWOOD製EF
Mエンコーダーを用いて、線速1.4m/s、レーザー
パワー7mWで記録した。記録後、実施例1と同様の測
定を行った結果、いずれも良好な記録特性を示した。
Examples 14 to 18 In Examples 13, respectively, azo compounds (S-14) to (S-18)
An optical recording medium was prepared in the same manner except that was used. As in Example 13, the manufactured medium was equipped with a 780 nm red laser head, an optical disk evaluation device DDU-1000 manufactured by Pulstic Industrial Co., Ltd., and an EF manufactured by KENWOOD.
Recording was performed at a linear velocity of 1.4 m / s and a laser power of 7 mW using an M encoder. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.

【0049】実施例19 実施例1において、アゾ化合物(S-19)と、光吸収化合物
として前記化学式(c)で示されるフタロシアニン色素
を用いること以外は同様にして、光記録媒体を作製し
た。作製した媒体に680nm近赤外半導体レーザーヘ
ッドを搭載したパルスチック工業製光ディスク評価装置
DDU−1000及びKENWOOD製EFMエンコー
ダーを用いて、線速5.6m/s、レーザーパワー10
mWで記録した。記録後、実施例1と同様の測定を行っ
た結果、いずれも良好な記録特性を示した。
Example 19 An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that the azo compound (S-19) and the phthalocyanine dye represented by the above chemical formula (c) were used as the light absorbing compound. A linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10 were obtained using an optical disk evaluation device DDU-1000 manufactured by Pulstic Industrial Co., Ltd. equipped with a 680 nm near-infrared semiconductor laser head on the manufactured medium and an EFM encoder manufactured by KENWOOD.
Recorded in mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.

【0050】実施例20〜24 実施例19において、各々、アゾ化合物(S-20)〜(S-24)
を用いること以外は同様にして、光記録媒体を作製し
た。作製した媒体に、実施例19と同様に680nm赤
色レーザーヘッドを搭載したパルスチック工業製光ディ
スク評価装置DDU−1000及びKENWOOD製E
FMエンコーダーを用いて、線速5.6m/s、レーザ
ーパワー10mWで記録した。記録後、実施例1と同様
の測定を行った結果、いずれも良好な記録特性を示し
た。
Examples 20 to 24 In Examples 19, azo compounds (S-20) to (S-24), respectively.
An optical recording medium was prepared in the same manner except that was used. An optical disk evaluation device DDU-1000 manufactured by Pulstic Industrial and a E manufactured by KENWOOD in which a 680 nm red laser head is mounted on the manufactured medium as in Example 19
Recording was performed at a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10 mW using an FM encoder. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.

【0051】実施例25 実施例1において、アゾ化合物(S-25)と、光吸収化合物
として前記化学式(d)で示されるフタロシアニン色素
を用いること以外は同様にして、光記録媒体を作製し
た。作製した媒体に、680nm近赤外半導体レーザー
ヘッドを搭載したパルスチック工業製光ディスク評価装
置DDU−1000及びKENWOOD製EFMエンコ
ーダーを用いて、線速5.6m/s、レーザーパワー1
0mWで記録した。記録後、実施例1と同様の測定を行
った結果、いずれも良好な記録特性を示した。
Example 25 An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that the azo compound (S-25) and the phthalocyanine dye represented by the above chemical formula (d) were used as the light absorbing compound. A linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 1 were obtained by using an optical disk evaluation device DDU-1000 manufactured by Pulstic Industrial Co., Ltd. equipped with a 680 nm near-infrared semiconductor laser head and an EFM encoder manufactured by KENWOOD on the manufactured medium.
Recorded at 0 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.

【0052】実施例26〜31 実施例25において、各々、アゾ化合物(S-26)〜(S-31)
を用いること以外は同様にして、光記録媒体を作製し
た。作製した媒体に、実施例25と同様に680nm赤
色レーザーヘッドを搭載したパルスチック工業製光ディ
スク評価装置DDU−1000及びKENWOOD製E
FMエンコーダーを用いて、線速5.6m/s、レーザ
ーパワー10mWで記録した。記録後、実施例1と同様
の測定を行った結果、いずれも良好な記録特性を示し
た。
Examples 26 to 31 In Examples 25 to 31, azo compounds (S-26) to (S-31) are used, respectively.
An optical recording medium was prepared in the same manner except that was used. Similar to Example 25, a 680 nm red laser head was mounted on the manufactured medium, and an optical disk evaluation device DDU-1000 manufactured by Pulstic Industrial Co., Ltd. and E manufactured by KENWOOD.
Recording was performed at a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10 mW using an FM encoder. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.

【0053】実施例32 実施例1において、光吸収化合物を用いることなく、ア
ゾ化合物(S-32)のみを用いた以外は同様にして記録層を
形成した。この形成された記録層の上に、さらに、前記
化学式(b)で示されるフタロシアニン色素0.8gを
ジメチルシクロヘキサン(東京化成)40mlに溶解し
た溶液を用いてスピンコート法により同様の条件で色素
膜を形成し、2層の記録層からなる光記録媒体を作製し
た。作製した光記録媒体に、実施例7と同様に780n
m近赤外半導体レーザーヘッドを搭載したパルスチック
工業製光ディスク評価装置DDU−1000及びKEN
WOOD製EFMエンコーダーを用いて、線速2.8m
/s、レーザーパワー8mWで記録した。記録後、実施
例1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特
性を示した。更に、680nm赤色半導体レーザーヘッ
ドを搭載した評価装置を用いて信号を再生したところ、
反射率は31%と良好な記録特性を示した。
Example 32 A recording layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the light absorbing compound was not used and only the azo compound (S-32) was used. On the formed recording layer, a solution of 0.8 g of the phthalocyanine dye represented by the chemical formula (b) in 40 ml of dimethylcyclohexane (Tokyo Kasei) was used, and a dye film was formed under the same conditions by spin coating. Was formed to prepare an optical recording medium having two recording layers. The optical recording medium thus prepared was processed in the same manner as in Example 7 with 780n.
m Pulsick Industrial optical disk evaluation device DDU-1000 and KEN equipped with near infrared semiconductor laser head
Using a WOOD EFM encoder, a linear velocity of 2.8 m
/ S, laser power was recorded at 8 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics. Furthermore, when a signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 680 nm red semiconductor laser head,
The reflectance was 31%, which was a good recording property.

【0054】実施例33 実施例32において、アゾ化合物(S-33)を用いること以
外は同様にして、光記録媒体を作製した。作製した媒体
に、実施例32と同様に780nm赤色レーザーヘッド
を搭載したパルスチック工業製光ディスク評価装置DD
U−1000及びKENWOOD製EFMエンコーダー
を用いて、線速2.8m/s、レーザーパワー8mWで
記録した。記録後、実施例1と同様の測定を行った結
果、いずれも良好な記録特性を示した。
Example 33 An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 32 except that the azo compound (S-33) was used. An optical disk evaluation device DD manufactured by Pulstic Industrial Co., Ltd. in which a 780 nm red laser head was mounted on the manufactured medium as in Example 32
Recording was performed at a linear velocity of 2.8 m / s and a laser power of 8 mW using a U-1000 and an EFM encoder manufactured by KENWOOD. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.

【0055】実施例34 実施例1において、光吸収化合物を用いることなく、ア
ゾ化合物(S-34)のみを用いた以外は同様にして記録層を
形成した。この形成された記録層の上に、さらに、前記
化学式(b)で示されるフタロシアニン色素0.8gを
ジメチルシクロヘキサン(東京化成)40mlに溶解し
た溶液を用いてスピンコート法により同様の条件で色素
膜を形成し、2層の記録層からなる光記録媒体を作製し
た。作製した光記録媒体に、実施例1と同様に680n
m近赤外半導体レーザーヘッドを搭載したパルスチック
工業製光ディスク評価装置DDU−1000及びKEN
WOOD製EFMエンコーダーを用いて、線速5.6m
/s、レーザーパワー10mWで記録した。記録後、実
施例1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録
特性を示した。更に、680nm赤色半導体レーザーヘ
ッドを搭載した評価装置を用いて信号を再生したとこ
ろ、反射率は30%と良好な記録特性を示した。
Example 34 A recording layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the light absorbing compound was not used and only the azo compound (S-34) was used. On the formed recording layer, a solution of 0.8 g of the phthalocyanine dye represented by the chemical formula (b) in 40 ml of dimethylcyclohexane (Tokyo Kasei) was used, and a dye film was formed under the same conditions by spin coating. Was formed to prepare an optical recording medium having two recording layers. The optical recording medium thus prepared was subjected to 680n in the same manner as in Example 1.
m Pulsick Industrial optical disk evaluation device DDU-1000 and KEN equipped with near infrared semiconductor laser head
Using a WOOD EFM encoder, a linear velocity of 5.6 m
/ S, laser power was recorded at 10 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics. Furthermore, when a signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 680 nm red semiconductor laser head, the reflectance was 30%, which was a good recording characteristic.

【0056】実施例35 実施例1において、光吸収化合物を用いることなく、ア
ゾ化合物(S-35)のみを用いた以外は同様にして記録層を
形成した。この形成された記録層の上に、さらに、前記
化学式(e)で示されるフタロシアニン色素0.8gを
ジメチルシクロヘキサン(東京化成)40mlに溶解し
た溶液を用いてスピンコート法により同様の条件で色素
膜を形成し、2層の記録層からなる光記録媒体を作製し
た。作製した光記録媒体に、実施例7と同様に780n
m近赤外半導体レーザーヘッドを搭載したパルスチック
工業製光ディスク評価装置DDU−1000及びKEN
WOOD製EFMエンコーダーを用いて、線速2.8m
/s、レーザーパワー8mWで記録した。記録後、実施
例1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特
性を示した。更に、680nm赤色半導体レーザーヘッ
ドを搭載した評価装置を用いて信号を再生したところ、
反射率は31%と良好な記録特性を示した。
Example 35 A recording layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the light absorbing compound was not used and only the azo compound (S-35) was used. On the formed recording layer, a solution of 0.8 g of the phthalocyanine dye represented by the chemical formula (e) in 40 ml of dimethylcyclohexane (Tokyo Kasei) was used, and a dye film was formed under the same conditions by spin coating. Was formed to prepare an optical recording medium having two recording layers. The optical recording medium thus prepared was processed in the same manner as in Example 7 with 780n.
m Pulsick Industrial optical disk evaluation device DDU-1000 and KEN equipped with near infrared semiconductor laser head
Using a WOOD EFM encoder, a linear velocity of 2.8 m
/ S, laser power was recorded at 8 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics. Furthermore, when a signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 680 nm red semiconductor laser head,
The reflectance was 31%, which was a good recording property.

【0057】実施例36 実施例1において、光吸収化合物を用いることなく、ア
ゾ化合物(S-36)のみを用いた以外は同様にして記録層を
形成した。この形成された色素層の上に、さらに、前記
化学式(f)で示されるフタロシアニン色素0.8gを
ジメチルシクロヘキサン(東京化成)40mlに溶解し
た溶液を用いてスピンコート法により同様の条件で色素
膜を形成し、2層の記録層からなる光記録媒体を作製し
た。作製した光記録媒体に、実施例7と同様に780n
m近赤外半導体レーザーヘッドを搭載したパルスチック
工業製光ディスク評価装置DDU−1000及びKEN
WOOD製EFMエンコーダーを用いて、線速2.8m
/s、レーザーパワー8mWで記録した。記録後、実施
例1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特
性を示した。更に、680nm赤色半導体レーザーヘッ
ドを搭載した評価装置を用いて信号を再生したところ、
反射率は30%と良好な記録特性を示した。
Example 36 A recording layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the light absorbing compound was not used and only the azo compound (S-36) was used. On the formed dye layer, a solution of 0.8 g of the phthalocyanine dye represented by the chemical formula (f) in 40 ml of dimethylcyclohexane (Tokyo Kasei) was used, and a dye film was formed by spin coating under the same conditions. Was formed to prepare an optical recording medium having two recording layers. The optical recording medium thus prepared was processed in the same manner as in Example 7 with 780n.
m Pulsick Industrial optical disk evaluation device DDU-1000 and KEN equipped with near infrared semiconductor laser head
Using a WOOD EFM encoder, a linear velocity of 2.8 m
/ S, laser power was recorded at 8 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics. Furthermore, when a signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 680 nm red semiconductor laser head,
The reflectance was 30%, which was a good recording property.

【0058】実施例37 実施例1において、光吸収化合物を用いることなく、ア
ゾ化合物(S-37)のみを用いた以外は同様にして記録層を
形成した。この形成された色素層の上に、さらに、前記
化学式(g)で示されるフタロシアニン色素0.8gを
ジメチルシクロヘキサン(東京化成)40mlに溶解し
た溶液を用いてスピンコート法により同様の条件で色素
膜を形成し、2層の記録層からなる光記録媒体を作製し
た。作製した光記録媒体を実施例7と同様に780nm
近赤外半導体レーザーヘッドを搭載したパルスチック工
業製光ディスク評価装置DDU−1000及びKENW
OOD製EFMエンコーダーを用いて、線速2.8m/
s、レーザーパワー8mWで記録した。記録後、実施例
1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特性
を示した。更に、680nm赤色半導体レーザーヘッド
を搭載した評価装置を用いて信号を再生したところ、反
射率は31%と良好な記録特性を示した。
Example 37 A recording layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the light absorbing compound was not used and only the azo compound (S-37) was used. On the formed dye layer, a solution of 0.8 g of the phthalocyanine dye represented by the chemical formula (g) in 40 ml of dimethylcyclohexane (Tokyo Kasei) was used, and a dye film was formed under the same conditions by spin coating. Was formed to prepare an optical recording medium having two recording layers. The produced optical recording medium was processed at 780 nm in the same manner as in Example 7.
Optical disc evaluation device DDU-1000 and KENW manufactured by Pulstic Industrial equipped with a near infrared semiconductor laser head
Using an OOD EFM encoder, a linear velocity of 2.8 m /
s, laser power was recorded at 8 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics. Furthermore, when a signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 680 nm red semiconductor laser head, the reflectance was 31%, which was a good recording characteristic.

【0059】実施例38 実施例1において、光吸収化合物を用いることなく、ア
ゾ化合物(S-38)のみを用いた以外は同様にして記録層を
形成した。この形成された色素層の上に、さらに、前記
化学式(h)で示されるフタロシアニン色素0.8gを
ジメチルシクロヘキサン(東京化成)40mlに溶解し
た溶液を用いてスピンコート法により同様の条件で色素
膜を形成し、2層の記録層からなる光記録媒体を作製し
た。作製した光記録媒体を実施例7と同様に780nm
近赤外半導体レーザーヘッドを搭載したパルスチック工
業製光ディスク評価装置DDU−1000及びKENW
OOD製EFMエンコーダーを用いて、線速2.8m/
s、レーザーパワー8mWで記録した。記録後、実施例
1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特性
を示した。更に、680nm赤色半導体レーザーヘッド
を搭載した評価装置を用いて信号を再生したところ、反
射率は31%と良好な記録特性を示した。
Example 38 A recording layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the light absorbing compound was not used and only the azo compound (S-38) was used. On the formed dye layer, a solution obtained by dissolving 0.8 g of the phthalocyanine dye represented by the chemical formula (h) in 40 ml of dimethylcyclohexane (Tokyo Kasei) was used, and a dye film was formed under the same conditions by spin coating. Was formed to prepare an optical recording medium having two recording layers. The produced optical recording medium was processed at 780 nm in the same manner as in Example 7.
Optical disc evaluation device DDU-1000 and KENW manufactured by Pulstic Industrial equipped with a near infrared semiconductor laser head
Using an OOD EFM encoder, a linear velocity of 2.8 m /
s, laser power was recorded at 8 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics. Furthermore, when a signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 680 nm red semiconductor laser head, the reflectance was 31%, which was a good recording characteristic.

【0060】実施例39 実施例1において、光吸収化合物を用いることなく、ア
ゾ化合物(S-39)のみを用いた以外は同様にして記録層を
形成した。この形成された色素層の上に、さらに、前記
化学式(i)で示されるフタロシアニン色素0.8gを
ジメチルシクロヘキサン(東京化成)40mlに溶解し
た溶液を用いてスピンコート法により同様の条件で色素
膜を形成し、2層の記録層からなる光記録媒体を作製し
た。作製した光記録媒体を実施例7と同様に780nm
近赤外半導体レーザーヘッドを搭載したパルスチック工
業製光ディスク評価装置DDU−1000及びKENW
OOD製EFMエンコーダーを用いて、線速2.8m/
s、レーザーパワー8mWで記録した。記録後、実施例
1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特性
を示した。更に、680nm赤色半導体レーザーヘッド
を搭載した評価装置を用いて信号を再生したところ、反
射率は31%と良好な記録特性を示した。
Example 39 A recording layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the light absorbing compound was not used and only the azo compound (S-39) was used. On the formed dye layer, a solution obtained by dissolving 0.8 g of the phthalocyanine dye represented by the chemical formula (i) in 40 ml of dimethylcyclohexane (Tokyo Kasei) was used, and a dye film was formed under the same conditions by spin coating. Was formed to prepare an optical recording medium having two recording layers. The produced optical recording medium was processed at 780 nm in the same manner as in Example 7.
Optical disc evaluation device DDU-1000 and KENW manufactured by Pulstic Industrial equipped with a near infrared semiconductor laser head
Using an OOD EFM encoder, a linear velocity of 2.8 m /
s, laser power was recorded at 8 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics. Furthermore, when a signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 680 nm red semiconductor laser head, the reflectance was 31%, which was a good recording characteristic.

【0061】実施例40 実施例1において、光吸収化合物を用いることなく、ア
ゾ化合物(S-30)のみを用いた以外は同様にして記録層を
形成した。この形成された色素層の上に、さらに、前記
化学式(j)で示されるフタロシアニン色素0.8gを
ジメチルシクロヘキサン(東京化成)40mlに溶解し
た溶液を用いてスピンコート法により同様の条件で色素
膜を形成し、2層の記録層からなる光記録媒体を作製し
た。作製した光記録媒体を実施例7と同様に780nm
近赤外半導体レーザーヘッドを搭載したパルスチック工
業製光ディスク評価装置DDU−1000及びKENW
OOD製EFMエンコーダーを用いて、線速2.8m/
s、レーザーパワー8mWで記録した。記録後、実施例
1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特性
を示した。更に、680nm赤色半導体レーザーヘッド
を搭載した評価装置を用いて信号を再生したところ、反
射率は31%と良好な記録特性を示した。
Example 40 A recording layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the light absorbing compound was not used and only the azo compound (S-30) was used. On the formed dye layer, a solution of 0.8 g of the phthalocyanine dye represented by the chemical formula (j) in 40 ml of dimethylcyclohexane (Tokyo Kasei) was used, and a dye film was formed under the same conditions by spin coating. Was formed to prepare an optical recording medium having two recording layers. The produced optical recording medium was processed at 780 nm in the same manner as in Example 7.
Optical disc evaluation device DDU-1000 and KENW manufactured by Pulstic Industrial equipped with a near infrared semiconductor laser head
Using an OOD EFM encoder, a linear velocity of 2.8 m /
s, laser power was recorded at 8 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics. Furthermore, when a signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 680 nm red semiconductor laser head, the reflectance was 31%, which was a good recording characteristic.

【0062】実施例41 実施例1において、アゾ化合物(S-38)のみを用い、光吸
収化合物は混合しないこと以外は同様して光記録媒体を
作製した。作製した媒体に、実施例1と同様に680n
m赤色レーザーヘッドを搭載したパルスチック工業製光
ディスク評価装置DDU−1000及びKENWOOD
製EFMエンコーダーを用いて、線速2.8m/s、レ
ーザーパワー9mWで記録した。記録後、実施例1と同
様の測定を行った結果、良好な記録特性を示した。
Example 41 An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that only the azo compound (S-38) was used and the light absorbing compound was not mixed. 680n was applied to the produced medium in the same manner as in Example 1.
m Pulsick Industrial optical disk evaluation device DDU-1000 and KENWOOD equipped with a red laser head
Recording was performed at a linear velocity of 2.8 m / s and a laser power of 9 mW by using an EFM encoder manufactured by. After recording, the same measurement as in Example 1 was performed, and as a result, good recording characteristics were shown.

【0063】実施例42〜46 実施例1において、各々、アゾ化合物(O-1) 〜(O-5) を
用いること以外は同様にして光記録媒体を作製した。作
製した媒体に、実施例1と同様に680nm赤色レーザ
ーヘッドを搭載したパルスチック工業製光ディスク評価
装置DDU−1000及びKENWOOD製EFMエン
コーダーを用いて、線速5.6m/s、レーザーパワー
10mWで記録した。記録後、実施例1と同様の測定を
行った結果、いずれも良好な記録特性を示した。
Examples 42 to 46 Optical recording media were prepared in the same manner as in Example 1 except that the azo compounds (O-1) to (O-5) were used. Recording was performed at a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10 mW on the produced medium using an optical disc evaluation device DDU-1000 manufactured by Pulstic Industrial Co., Ltd. equipped with a 680 nm red laser head and an EFM encoder manufactured by KENWOOD as in Example 1. did. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.

【0064】実施例47 実施例1において、光吸収化合物を用いることなく、ア
ゾ化合物(O-2) のみを用いた以外は同様にして記録層を
形成した。この形成された色素層の上に、さらに、前記
化学式(b)で示されるフタロシアニン色素0.8gを
ジメチルシクロヘキサン(東京化成)40mlに溶解し
た溶液を用いてスピンコート法により同様の条件で色素
膜を形成し、2層の記録層からなる光記録媒体を作製し
た。作製した光記録媒体を実施例7と同様に780nm
近赤外半導体レーザーヘッドを搭載したパルスチック工
業製光ディスク評価装置DDU−1000及びKENW
OOD製EFMエンコーダーを用いて、線速2.8m/
s、レーザーパワー8mWで記録した。記録後、実施例
1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特性
を示した。更に、680nm赤色半導体レーザーヘッド
を搭載した評価装置を用いて信号を再生したところ、反
射率は31%と良好な記録特性を示した。
Example 47 A recording layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the light absorbing compound was not used and only the azo compound (O-2) was used. On the formed dye layer, a solution obtained by dissolving 0.8 g of the phthalocyanine dye represented by the chemical formula (b) in 40 ml of dimethylcyclohexane (Tokyo Kasei) was used, and a dye film was formed under the same conditions by spin coating. Was formed to prepare an optical recording medium having two recording layers. The produced optical recording medium was processed at 780 nm in the same manner as in Example 7.
Optical disc evaluation device DDU-1000 and KENW manufactured by Pulstic Industrial equipped with a near infrared semiconductor laser head
Using an OOD EFM encoder, a linear velocity of 2.8 m /
s, laser power was recorded at 8 mW. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics. Furthermore, when a signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 680 nm red semiconductor laser head, the reflectance was 31%, which was a good recording characteristic.

【0065】比較例1 実施例1において、アゾ化合物は用いず、ペンタメチン
シアニン色素NK2929〔1,3,3,1',3',3'- ヘキサメ
チル-2,2'-(4,5,4',5'- ジベンゾ) インドジカルボシア
ニンパークロレート、日本感光色素研究所製〕のみを用
いたこと以外は同様にして光記録媒体を作製した。作製
した媒体に、実施例1と同様に680nm赤色レーザー
ヘッドを搭載したパルスチック工業製光ディスク評価装
置DDU−1000及びKENWOOD製EFMエンコ
ーダーを用いて、線速5.6m/s、レーザーパワー1
0mWで記録した。記録後、実施例1と同様の測定を行
った。
Comparative Example 1 In Example 1, the azo compound was not used, and the pentamethine cyanine dye NK2929 [1,3,3,1 ', 3', 3'-hexamethyl-2,2 '-(4,5, 4 ', 5'-dibenzo) indodicarbocyanine perchlorate, manufactured by Japan Photosensitive Dye Laboratories] was used in the same manner as above to prepare an optical recording medium. A pulse velocity of 5.6 m / s and a laser power of 1 were applied to the produced medium using an optical disk evaluation device DDU-1000 manufactured by Pulstic Industrial Co., Ltd. equipped with a 680 nm red laser head and an EFM encoder manufactured by KENWOOD as in Example 1.
Recorded at 0 mW. After recording, the same measurement as in Example 1 was performed.

【0066】比較例2 比較例1において、色素をペンタメチンシアニン色素N
K2627〔3,3'- ジエチル-2,2'-(6,7,6',7'- ジベン
ゾ) チアジカルボシアニンアイオダイド、日本感光色素
研究所製〕に代えたこと以外は同様にして光記録媒体を
作製した。作製した媒体に、実施例1と同様に680n
m赤色レーザーヘッドを搭載したパルスチック工業製光
ディスク評価装置DDU−1000及びKENWOOD
製EFMエンコーダーを用いて、線速5.6m/s、レ
ーザーパワー10mWで記録した。記録後、実施例1と
同様の測定を行った。
Comparative Example 2 In Comparative Example 1, the dye was pentamethine cyanine dye N.
K2627 [3,3'-diethyl-2,2 '-(6,7,6', 7'-dibenzo) thiadicarbocyanine iodide, manufactured by Japan Photosensitive Dye Research Institute] An optical recording medium was produced. 680n was applied to the produced medium in the same manner as in Example 1.
m Pulsick Industrial optical disk evaluation device DDU-1000 and KENWOOD equipped with a red laser head
Recording was performed at a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10 mW by using an EFM encoder manufactured by. After recording, the same measurement as in Example 1 was performed.

【0067】比較例3 比較例1において、色素をペンタメチンシアニン色素N
K1456〔1,1'- ジエチル-2,2'-キノジカルボシアニ
ンアイオダイド、日本感光色素研究所製〕に代えたこと
以外は同様にして光記録媒体を作製した。作製した媒体
に、実施例48と同様に780nm近赤外半導体レーザ
ーヘッドを搭載したパルスチック工業製光ディスク評価
装置DDU−1000及びKENWOOD製EFMエン
コーダーを用いて、線速1.4m/s、レーザーパワー
7mWで記録した。記録後、実施例1と同様の測定を行
った。
Comparative Example 3 In Comparative Example 1, the dye was pentamethine cyanine dye N.
An optical recording medium was prepared in the same manner except that K1456 [1,1′-diethyl-2,2′-quinodicarbocyanine iodide, manufactured by Japan Photosensitive Dye Research Institute] was used. A pulse velocity of 1.4 m / s and a laser power were applied to the produced medium using an optical disk evaluation device DDU-1000 manufactured by Pulstic Industrial Co., Ltd. equipped with a 780 nm near infrared semiconductor laser head and an EFM encoder manufactured by KENWOOD as in Example 48. Recorded at 7 mW. After recording, the same measurement as in Example 1 was performed.

【0068】以上の635nm赤色半導体レーザーを用
いた場合の再生反射率および再生波長780nmの市販
CDプレーヤーでの再生反射率、エラー率の測定結果を
表−2(表4〜6)にまとめて示した。
Table 2 (Tables 4 to 6) collectively shows the measurement results of the reproduction reflectance and the reproduction reflectance and the error rate in a commercially available CD player having a reproduction wavelength of 780 nm when the above 635 nm red semiconductor laser was used. It was

【0069】[0069]

【表1】 [Table 1]

【0070】[0070]

【表2】 [Table 2]

【0071】[0071]

【表3】 [Table 3]

【0072】[0072]

【表4】 [Table 4]

【0073】[0073]

【表5】 [Table 5]

【0074】[0074]

【表6】 一般式(1)で示されるアゾ化合物を用いた本願発明の
光記録媒体は、記録層にシアニン色素のみを用いた場合
(比較例1〜3)に比較して、635nmにおける再生
反射率が高く、また、780nmにおける再生時のエラ
ー率も低く、極めて良好な記録特性を示すことが判る。
[Table 6] The optical recording medium of the present invention using the azo compound represented by the general formula (1) has a higher reproduction reflectance at 635 nm than in the case where only the cyanine dye is used in the recording layer (Comparative Examples 1 to 3). Moreover, it is understood that the error rate at the time of reproduction at 780 nm is also low, and extremely good recording characteristics are exhibited.

【0075】[0075]

【発明の効果】本発明は、450〜630nmに吸収極
大を有するアゾ化合物を記録層に用いることにより、従
来より使用されている780nmの近赤外レーザーで記
録再生可能で、且つ、近年移行しつつある、記録再生波
長が635nmや680nmの赤色レーザーでも記録再
生が可能な互換性のある光記録媒体を提供することを可
能にするものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY By using an azo compound having an absorption maximum in the range of 450 to 630 nm in the recording layer, the present invention can record and reproduce with a near-infrared laser of 780 nm which has been conventionally used, and has recently moved. This makes it possible to provide a compatible optical recording medium capable of recording / reproducing even with a red laser having a recording / reproducing wavelength of 635 nm or 680 nm.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】光記録媒体の断面構造図FIG. 1 is a cross-sectional structure diagram of an optical recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:基板 2:記録層 3:反射層 4:保護層 1: substrate 2: recording layer 3: reflective layer 4: protective layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 333/38 C07D 333/42 333/42 409/10 207 409/10 207 307 307 C09B 29/09 A C09B 29/09 Z 8721−5D G11B 7/24 516 G11B 7/24 516 7416−2H B41M 5/26 Y (72)発明者 津田 武 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 梅原 英樹 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 詫摩 啓輔 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication C07D 333/38 C07D 333/42 333/42 409/10 207 409/10 207 307 307 C09B 29/09 A C09B 29/09 Z 8721-5D G11B 7/24 516 G11B 7/24 516 7416-2H B41M 5/26 Y (72) Inventor Takeshi Tsuda 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Hideki Umehara 1190, Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. (72) Keisuke Satsuma 1190, Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、記録層、反射層及び保護層を
有する光記録媒体において、記録層中に下記一般式
(1)(化1)で示される波長450〜630nmに吸
収極大を有するアゾ化合物を含有する光記録媒体。 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は各々独立に水素原子、置換また
は未置換のアルキル基、置換または未置換のアリール
基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置
換のアルケニル基を表し、R3 、R4 、R5 及びR6
各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カ
ルボキシル基、スルホン基、スルホンアミド基、アミノ
基、置換または未置換のアルキル基、置換または未置換
のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、置換
または未置換のアシル基、置換または未置換のアルキル
カルボキシル基、置換または未置換のアラルキル基、置
換または未置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換ま
たは未置換のアルキルスルホンアミノ基、置換または未
置換のアルキルアミノ基、置換または未置換のアルキル
スルホン基、置換または未置換のアルケニル基を表し、
1 とR4 、R2 とR6及びR1 とR2 は連結基を介し
て環を形成してもよく、R7 、R8 及びR9 は各々独立
に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ
ル基、スルホン基、スルホンアミド基、アミノ基、置換
または未置換のアルキル基、置換または未置換のアルコ
キシ基、置換または未置換のアリール基、置換または未
置換のアシル基、置換または未置換のアルキルカルボキ
シル基、置換または未置換のアラルキル基、置換または
未置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または未置
換のアルキルスルホンアミノ基、置換または未置換のア
ルキルアミノ基、置換または未置換のアルキルスルホン
基、置換または未置換のアルケニル基、シアノ基、ニト
ロ基、メルカプト基、チオシアノ基、クロロスルホン
基、置換または未置換のアルキルチオ基、置換または未
置換のアルキルアゾメチン基、置換または未置換のアル
キルアミノスルホン基を表し、また、Xは硫黄原子また
は酸素原子を表す〕
1. An optical recording medium having a recording layer, a reflective layer and a protective layer on a substrate, wherein the recording layer has an absorption maximum at a wavelength of 450 to 630 nm represented by the following general formula (1) (Formula 1). An optical recording medium containing an azo compound. Embedded image [In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfone group, a sulfonamide group, an amino group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted Alkoxy group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted acyl group, substituted or unsubstituted alkylcarboxyl group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group, substituted or unsubstituted Alkylsulfonamino group, substituted or unsubstituted alkylamino group, substituted or unsubstituted alkylsulfone group, substituted or It represents an unsubstituted alkenyl group,
R 1 and R 4 , R 2 and R 6 and R 1 and R 2 may form a ring through a linking group, and R 7 , R 8 and R 9 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a hydroxy group. Group, carboxyl group, sulfone group, sulfonamide group, amino group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkoxy group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted acyl group, substituted or unsubstituted Substituted alkylcarboxyl group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group, substituted or unsubstituted alkylsulfonamino group, substituted or unsubstituted alkylamino group, substituted or unsubstituted alkylsulfone Group, substituted or unsubstituted alkenyl group, cyano group, nitro group, mercapto group, thiocyano group, chlorosulfone group, substituted or unsubstituted Alkylthio group, a substituted or unsubstituted alkyl azomethine group, a substituted or unsubstituted alkyl amino sulfone group, also, X represents a sulfur atom or an oxygen atom]
【請求項2】 記録層中に、さらに波長650〜900
nmに吸収極大を有する光吸収化合物を含有する請求項
1記載の光記録媒体。
2. The recording layer further has a wavelength of 650 to 900.
The optical recording medium according to claim 1, which contains a light absorbing compound having an absorption maximum in nm.
【請求項3】 波長650〜900nmに吸収極大を有
する光吸収化合物が、フタロシアニン化合物であること
を特徴とする請求項2記載の光記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 2, wherein the light absorbing compound having an absorption maximum at a wavelength of 650 to 900 nm is a phthalocyanine compound.
【請求項4】 波長650〜900nmに吸収極大を有
する光吸収化合物の含有量が、アゾ化合物に対して0.
1〜50重量%である請求項2または3記載の光記録媒
体。
4. The content of the light absorbing compound having an absorption maximum at a wavelength of 650 to 900 nm is 0.
The optical recording medium according to claim 2, which is 1 to 50% by weight.
【請求項5】 波長770〜830nmの近赤外レーザ
ーから選ばれた光に対する基板側から測定した反射率が
65%以上で、波長770〜830nmの近赤外レーザ
ーで記録及び/又は再生可能であり、且つ、波長620
〜690nmの赤色レーザーから選ばれた光に対する基
板側から測定した反射率が15%以上で、波長620〜
690nmの赤色レーザーで記録及び/又は再生可能で
あることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の
光記録媒体。
5. The reflectance measured from the substrate side with respect to the light selected from the near infrared laser having a wavelength of 770 to 830 nm is 65% or more, and the recording and / or reproduction can be performed by the near infrared laser having a wavelength of 770 to 830 nm. Yes and wavelength 620
The reflectance measured from the substrate side with respect to the light selected from the red laser of ˜690 nm is 15% or more, and the wavelength is 620 to 620.
The optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, which is recordable and / or reproducible with a red laser of 690 nm.
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