JPH10181877A - Substrate holding device and substrate carrier device - Google Patents

Substrate holding device and substrate carrier device

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JPH10181877A
JPH10181877A JP34904396A JP34904396A JPH10181877A JP H10181877 A JPH10181877 A JP H10181877A JP 34904396 A JP34904396 A JP 34904396A JP 34904396 A JP34904396 A JP 34904396A JP H10181877 A JPH10181877 A JP H10181877A
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substrate
arm
substrate holding
holding device
length
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Yasushi Sanada
恭 真田
Hideo Nagai
秀雄 永井
Takahiro Kokubo
高弘 小久保
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To conform a substrate holding device to a deep stage without inviting an increase of scale of the device by using an arm having a bending part as the arm having a movable supporting part and further preventing a location displacement means from being provided on the bending part. SOLUTION: One end of two first arms 5 is fixed to the movable part 2a of a moving mechanism 2 and one end of two second arms 6 having bending parts is fixed to the movable part 3a of a moving mechanism 3. Within the tip part of the second arm 6, a revolution driving mechanism 4 (location displacement means main body) having a revolution mechanism is provided. At the other end of the first arm 5, a pawl 7 (first supporting part) is provided. At the other end of the second arm 6, a movable pawl 8 (second supporting part) of a length H is provided. The movable pawl 8 is fixed to the output shaft 4a of the revolution driving mechanism 4. The movable pawl 8 performs a revolving motion with the second arm 6 as a center by revolving the output shaft 4a. The revolution driving mechanism 4 is provided on the side of the movable pawl 8 for the bending part of the second arm 6.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、大規模集積回路
(LSI)や液晶表示装置(LCD)などの半導体装置
の製造や検査などにおいて使用される基板保持装置およ
び基板搬送装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a substrate holding device and a substrate transfer device used in the manufacture and inspection of semiconductor devices such as large-scale integrated circuits (LSI) and liquid crystal display devices (LCD).

【0002】[0002]

【従来の技術】LSIやLCDなどの半導体装置の製造
や検査において使用される装置は、無人で自動運転され
ることが多く、かつ一般的に基板搬送装置が並設されて
いる。基板搬送装置は、製造工程や検査工程などの工程
で処理される基板を所定の位置に搬送するために使用さ
れる。
2. Description of the Related Art In many cases, devices used in the manufacture and inspection of semiconductor devices such as LSIs and LCDs are operated automatically and unattended, and a substrate transfer device is generally provided in parallel. The substrate transfer device is used to transfer a substrate to be processed in a process such as a manufacturing process or an inspection process to a predetermined position.

【0003】基板搬送装置には、基板保持装置が装備さ
れている。基板保持装置は、所定の位置で基板に対しチ
ャック動作、リリース動作、および基板搬送中において
基板(ウェハ)の保持を行なう。
[0003] The substrate transfer device is equipped with a substrate holding device. The substrate holding device performs a chucking operation and a releasing operation on a substrate at a predetermined position, and holds the substrate (wafer) during the transfer of the substrate.

【0004】一般的に、基板は、処理前後はマガジンに
格納されており、処理中はステージ上に載置されてい
る。そのため、基板保持装置は、マガジン、ステージに
おいて基板をチャック、リリースする。
Generally, a substrate is stored in a magazine before and after processing, and is placed on a stage during processing. Therefore, the substrate holding device chucks and releases the substrate in the magazine and the stage.

【0005】図16に、従来の基板保持装置の側面図を
示す。図中、101はベースを示しており、このベース
101は位置決め機構102に固定されている。図中、
矢印103間は機構部、矢印104間は基板保持部を示
している。
FIG. 16 shows a side view of a conventional substrate holding device. In the drawing, reference numeral 101 denotes a base, and the base 101 is fixed to a positioning mechanism 102. In the figure,
An arrow 103 indicates a mechanical unit, and an arrow 104 indicates a substrate holding unit.

【0006】第1、第2のアーム109,110の移動
機構105,106はベース101に固定されており、
移動機構105,106の可動部105a,106aは
各々図16の左右方向へ移動可能である。モータあるい
はロータリーソレノイド等の回転機構を有する回転駆動
機構108は、移動機構106の可動部106aに固定
されている。
The moving mechanisms 105 and 106 of the first and second arms 109 and 110 are fixed to the base 101.
The movable portions 105a and 106a of the moving mechanisms 105 and 106 are respectively movable in the left and right directions in FIG. A rotation drive mechanism 108 having a rotation mechanism such as a motor or a rotary solenoid is fixed to a movable part 106 a of the movement mechanism 106.

【0007】第1のアーム109の一端は移動機構10
5の可動部105aに、軸径dの円断面を持つ第2のア
ーム110の一端は回転駆動機構108の出力軸108
aに固定されている。第1のアーム109の他端には爪
111、第2のアーム110の他端には長さHの爪11
2が固定されている。
One end of the first arm 109 is connected to the moving mechanism 10
5, one end of a second arm 110 having a circular cross section with a shaft diameter d is connected to the output shaft 108 of the rotary drive mechanism 108.
a. A claw 111 is provided at the other end of the first arm 109, and a claw 11 having a length H is provided at the other end of the second arm 110.
2 is fixed.

【0008】図中、破線で示す基板113は、爪11
1,112の台座部111a,112aで下面より支持
もしくは爪111,112の側面部111b,112b
との摩擦力、またはこれら両方により支持される。ま
た、破線で示す基板113は、マガジン100内に他の
破線で示す基板114とともに爪112の長さHよりも
小さい基板間隔Lで格納されている。
In the figure, a substrate 113 indicated by a broken line
1, 112 support bases 111a, 112a from the lower surface or side surfaces 111b, 112b of claws 111, 112
, Or both. The substrate 113 indicated by the broken line is stored in the magazine 100 together with the other substrates 114 indicated by the broken lines at a substrate interval L smaller than the length H of the claw 112.

【0009】図17に、図16の基板保持装置を矢視A
−A´断面図を示す。爪112は第2のアーム110の
軸径d以下の幅hを持つ。二点鎖線で示す爪112′は
爪112を回転したときの位置を示している。
FIG. 17 shows the substrate holding device of FIG.
FIG. The claw 112 has a width h equal to or less than the shaft diameter d of the second arm 110. A nail 112 'indicated by a two-dot chain line indicates a position when the nail 112 is rotated.

【0010】また、図18に、図16の基板保持装置と
ステージとの位置関係を示す。ステージ115の上面か
ら深さWの位置に台座116が固定されている。基板1
13はステージ115に固定された台座116に支持さ
れる。
FIG. 18 shows the positional relationship between the substrate holding device shown in FIG. 16 and the stage. A pedestal 116 is fixed at a position at a depth W from the upper surface of the stage 115. Substrate 1
13 is supported by a pedestal 116 fixed to the stage 115.

【0011】このような構成の基板保持装置において、
回転駆動機構108を動作させると、第2のアーム11
0に固定された爪112をアーム110を中心に回転さ
せることができる。また、爪111,112が図16の
位置にあるとき、移動機構105,3を動作させて爪1
11,112を基板113に接触させることでチャッ
ク、逆に移動機構105,106を動作させて爪11
1,112を基板113に接触しない位置まで移動させ
ることでリリースすることができる。
In the substrate holding device having such a configuration,
When the rotation drive mechanism 108 is operated, the second arm 11
The pawl 112 fixed to 0 can be rotated around the arm 110. When the claws 111 and 112 are at the positions shown in FIG.
The chucks 11 and 112 are brought into contact with the substrate 113, and the moving mechanisms 105 and 106 are operated to move the claws 11 and 112.
The release can be performed by moving 1,112 to a position where it does not contact the substrate 113.

【0012】また、マガジン100内の基板113に対
して、図16で示す位置に基板保持装置を位置決めする
ためには以下の手順で行なう。
In order to position the substrate holding device at the position shown in FIG. 16 with respect to the substrate 113 in the magazine 100, the following procedure is performed.

【0013】すなわち、基板保持部104がマガジン1
00の外にある状態において、爪111,112をリリ
ース位置まで移動し、次に二点鎖線で示す爪112′の
位置に回転し、次に基板113とベース101が図16
の位置関係になるようにベース101を移動し、次に二
点鎖線で示す爪112′を爪112の位置に回転し、最
後に爪111,112をチャック位置に移動する。これ
により、爪112の長さHよりも小さい基板間隔Lでマ
ガジン100に格納されている基板113を保持するこ
とができる。
That is, the substrate holding section 104 is
00, the pawls 111 and 112 are moved to the release position, and then rotated to the position of the pawl 112 'shown by a two-dot chain line.
Then, the base 101 is moved so as to satisfy the following positional relationship, and then the pawl 112 'shown by a two-dot chain line is rotated to the position of the pawl 112, and finally the pawls 111 and 112 are moved to the chuck position. Thus, the board 113 stored in the magazine 100 can be held at the board interval L smaller than the length H of the nail 112.

【0014】しかしながら、この種の従来の基板保持装
置には以下のような問題がある。
However, this type of conventional substrate holding apparatus has the following problems.

【0015】この基板保持装置においては、回転駆動機
構108が機構部103内に配置されており、かつ爪1
12の回転軸と回転駆動機構108の回転軸が同軸上に
配置されている。
In this substrate holding device, a rotation drive mechanism 108 is disposed in the mechanism section 103 and the claw 1
The twelve rotation axes and the rotation drive mechanism 108 are arranged coaxially.

【0016】このため、ステージ115の深さWを変更
すると、爪112の長さHを変更しなければならない。
すなわち、ステージ115の深さWが深くなったら、爪
112の長さHを長くしなければならない。
Therefore, when the depth W of the stage 115 is changed, the length H of the claw 112 must be changed.
That is, as the depth W of the stage 115 increases, the length H of the claw 112 must be increased.

【0017】したがって、ステージ115の深さWが深
くなると、マガジン100の基板間隔Lは爪112の長
さの増加分だけ大きくなるので、基板の格納枚数を変え
ないためには、マガジン100を大型化する必要が生
じ、また、マガジン100を大型化しないと、格納枚数
を削減する必要が生じる。
Therefore, when the depth W of the stage 115 is increased, the substrate interval L of the magazine 100 is increased by the increase in the length of the claw 112. Therefore, in order to keep the number of stored substrates, the magazine 100 must be large. If the magazine 100 is not enlarged, it is necessary to reduce the number of stored magazines.

【0018】図19に、従来の他の基板保持装置の側面
図を示す。また、図20に図19の基板保持装置を矢視
A−A´断面図、図21に図19の基板保持装置とステ
ージとの位置関係を示す。図16〜図18の従来の基板
保持装置と対応する部分には図16〜図18と同一符号
を付してあり、詳細な説明は省略する。
FIG. 19 is a side view of another conventional substrate holding apparatus. FIG. 20 is a sectional view of the substrate holding device of FIG. 19 taken along the line AA ′, and FIG. 21 shows the positional relationship between the substrate holding device of FIG. 19 and the stage. 16 to 18 corresponding to those of the conventional substrate holding device are denoted by the same reference numerals as those in FIGS.

【0019】図16の従来の基板保持装置との相違点
は、第2のアーム110が回転軸変換機構117を介し
て回転駆動機構108に接続され、爪112から回転駆
動機構108までの間に屈曲部が形成されていることに
ある。
The difference from the conventional substrate holding apparatus shown in FIG. 16 is that the second arm 110 is connected to the rotation drive mechanism 108 via the rotation axis conversion mechanism 117 and between the claw 112 and the rotation drive mechanism 108. This is because a bent portion is formed.

【0020】すなわち、回転駆動機構108の出力軸1
08aは回転軸変換機構117の入力軸117aに接続
され、入力軸117aよりも下に位置する回転軸変換機
構117の出力軸117bにはアーム110が固定され
ている。出力軸108aと出力軸117bとの間で屈曲
部が形成されている。回転軸変換機構117は例えば回
転駆動機構108に固定されている。
That is, the output shaft 1 of the rotary drive mechanism 108
08a is connected to the input shaft 117a of the rotation axis conversion mechanism 117, and the arm 110 is fixed to the output shaft 117b of the rotation axis conversion mechanism 117 located below the input shaft 117a. A bent portion is formed between the output shaft 108a and the output shaft 117b. The rotation axis conversion mechanism 117 is fixed to, for example, the rotation drive mechanism 108.

【0021】このような構成の基板保持装置において
も、図16で示した基板保持装置と同様な手順で、爪1
12の長さHよりも小さい基板間隔Lでマガジン100
に格納されている基板113をチャック、リリースする
ことができる。
In the substrate holding apparatus having such a configuration, the claw 1 is formed in the same procedure as that of the substrate holding apparatus shown in FIG.
Magazine 100 with a substrate interval L smaller than the length H of the magazine 12
Can be chucked and released.

【0022】さらに、ステージ115の深さWが変わっ
た場合には、それに対応して、回転軸変換機構117の
入力軸117aと出力軸117bとの軸間距離(屈曲部
の深さ)が変わったものを用いれば良いので、図16の
基板保持装置の場合とは異なり、爪112の長さを変更
しなくて済む。これにより、爪112の長さは基板の厚
さによってのみ決定される最小寸法に設定することがで
きる。したがって、ステージ115の深さWが深くなっ
ても、マガジンを大きくしたり、格納枚数を削減する必
要ない。
Furthermore, when the depth W of the stage 115 changes, the distance between the input shaft 117a and the output shaft 117b of the rotating shaft conversion mechanism 117 (the depth of the bent portion) changes correspondingly. Unlike the case of the substrate holding device of FIG. 16, the length of the claws 112 does not need to be changed. Thus, the length of the nail 112 can be set to the minimum dimension determined only by the thickness of the substrate. Therefore, even if the depth W of the stage 115 is increased, it is not necessary to increase the magazine or reduce the number of stored magazines.

【0023】しかしながら、この種の従来の基板保持装
置には以下のような問題がある。
However, this type of conventional substrate holding apparatus has the following problems.

【0024】すなわち、回転軸変換機構117は、一般
に、歯車、カム、ユニバーサルジョイント、フレキシブ
ルワイヤ等の組み合わせで構成されているので、回転軸
変換機構117のサイズ(特に横方向のサイズ)が大き
くなり、装置が(特に横方向に関して)大型化するとい
う問題がある。
That is, since the rotation axis conversion mechanism 117 is generally composed of a combination of gears, cams, universal joints, flexible wires, etc., the size of the rotation axis conversion mechanism 117 (particularly the size in the lateral direction) increases. However, there is a problem that the device becomes large (especially in the lateral direction).

【0025】LSIやLCDなどの半導体装置の基板保
持装置は、クリーンルーム内で生産ラインに組み込まれ
て使用されるため、小型化が要求されている。
Since a substrate holding device for a semiconductor device such as an LSI or an LCD is used by being incorporated in a production line in a clean room, a reduction in size is required.

【0026】小型化は、クリーンルーム内での占有面積
を縮小化できるため、より多くの製造装置および検査装
置を設置できる。これにより、生産コスト当たりのクリ
ーンルームの維持費を低減でき、コストの削減を図るこ
とが可能になる。
The miniaturization can reduce the area occupied in the clean room, so that more manufacturing apparatuses and inspection apparatuses can be installed. Thereby, the maintenance cost of the clean room per production cost can be reduced, and the cost can be reduced.

【0027】特に、高精度の加工、検査が要求される装
置では基板の恒温化も重要になり、高価な恒温チャンバ
に入れて使用することが多い。このため、装置全体の小
型化もさることながら、コスト低減の観点から小型化も
重要な課題になっている。
Particularly, in an apparatus requiring high-precision processing and inspection, it is important to keep the temperature of the substrate constant, and it is often used in an expensive constant temperature chamber. For this reason, miniaturization has become an important issue from the viewpoint of cost reduction, as well as miniaturization of the entire apparatus.

【0028】ところで、最近の半導体製造においては、
基板の多種多様化が進んでいる。基板の多種多様化によ
り、自動搬送を行なう基板搬送装置に対して基板に対す
る適合性の向上が強く求められている。特に、基板外形
寸法の多様化に対する適合性の向上は大きな課題となっ
ている。
By the way, in recent semiconductor manufacturing,
Diversification of substrates is advancing. Due to the diversification of substrates, there is a strong demand for improved substrate compatibility for substrate transfer devices that perform automatic transfer. In particular, improvement of adaptability to diversification of the board external dimensions has become a major issue.

【0029】オペレータの介在を極力低減することは、
クリーンネスの向上のみならず、スループットの向上、
生産コストの低減に効果が高い。外形寸法の異なる基板
を、長時間、無人で処理することが求められる半導体製
造装置には、任意の外形寸法の基板に適合できる基板搬
送装置が不可欠となっている。このために、任意の外形
寸法の基板に適合できる基板保持装置が提案されてい
る。
To minimize operator intervention,
Not only improvement of cleanness but also improvement of throughput,
Highly effective in reducing production costs. 2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing apparatus which is required to process substrates having different external dimensions unattended for a long period of time, a substrate transfer device adapted to a substrate having an arbitrary external dimension is indispensable. For this reason, a substrate holding device that can be adapted to a substrate having an arbitrary external dimension has been proposed.

【0030】図22に、従来の外形寸法の異なる基板の
保持が可能な基板保持装置の平面図を示す。また、図2
3に、図22の基板保持装置の矢視A−A´断面図を示
す。図中、121はフィンガを示しており、このフィン
ガ121はガイドフィンガ122に案内されて伸縮動作
可能となっている。このフィンガ121とガイドフィン
ガ122からなる伸縮機構を駆動するための駆動機構
は、モータ123、ネジ124、ナット125、駆動部
フレーム126および連結部材127により構成されて
いる。これらのうちネジ124、ナット125およびモ
ータ123は基板(マスク)面内に位置する。
FIG. 22 is a plan view of a conventional substrate holding device capable of holding substrates having different external dimensions. FIG.
FIG. 3 shows a cross-sectional view of the substrate holding device of FIG. In the figure, reference numeral 121 denotes a finger, which is guided by a guide finger 122 so as to be able to expand and contract. A drive mechanism for driving the expansion / contraction mechanism including the finger 121 and the guide finger 122 includes a motor 123, a screw 124, a nut 125, a drive unit frame 126, and a connecting member 127. Among these, the screw 124, the nut 125 and the motor 123 are located in the substrate (mask) plane.

【0031】フィンガ121は連結部材127に固定さ
れており、モータ123を駆動することによって任意の
位置に位置決め可能となっている。なお、ガイドフィン
ガ122と駆動部フレーム126はベース128に固定
されており、また、ベース128は位置決め機構129
に固定されている。基板130は基板受け131に支持
される。
The finger 121 is fixed to the connecting member 127, and can be positioned at an arbitrary position by driving the motor 123. The guide finger 122 and the drive unit frame 126 are fixed to a base 128, and the base 128 is provided with a positioning mechanism 129.
It is fixed to. The substrate 130 is supported by the substrate receiver 131.

【0032】一般的に、この種の装置で扱う基板は数m
m程度の厚さであり、わずかな間隔を置いて複数枚設置
された場所から搬送することが多く、フィンガ121お
よびガイドフィンガ122の厚さは薄くなる。しかし、
これらより薄いモータ123を選定することは困難であ
ることが多い。
Generally, the substrate handled by this type of apparatus is several meters.
m, and is often conveyed from a place where a plurality of sheets are installed at small intervals, and the thickness of the fingers 121 and the guide fingers 122 is reduced. But,
It is often difficult to select a thinner motor 123.

【0033】すなわち、必要以上に大きなモータ123
を使用せざる得ないことが多く、モータ123を基板面
内に位置するよう構成した基板保持装置の小型化は困難
である。したがって、この種の基板保持装置を用いた基
板搬送装置の小型化も困難となる。
That is, an unnecessarily large motor 123
In many cases, it is difficult to reduce the size of a substrate holding device in which the motor 123 is located in the plane of the substrate. Therefore, it is difficult to reduce the size of the substrate transfer device using this type of substrate holding device.

【0034】また、基板を複数格納するためのマガジン
やキャリア内などにおける基板間隔は、モータ123に
より決まる厚さより大きくならざるを得ない。したがっ
て、モータ123が基板面内に位置する基板保持装置を
用いると、マガジンやキャリアを小型化できない、ある
いは格納できる基板枚数を増やせないなどの問題が生じ
る。
Further, the interval between the substrates in a magazine or a carrier for storing a plurality of substrates must be larger than the thickness determined by the motor 123. Therefore, when a substrate holding device in which the motor 123 is located in the plane of the substrate is used, there arises a problem that a magazine or a carrier cannot be downsized, or the number of substrates that can be stored cannot be increased.

【0035】図24に、従来の他の外形寸法の異なる基
板の保持が可能な基板保持装置の平面図を示す。また、
図25に、図24の基板保持装置の矢視A−A´断面図
を示す。図22、図23の従来の基板保持装置と対応す
る部分には図22、図23と同一符号を付してあり、詳
細な説明は省略する。
FIG. 24 is a plan view of another conventional substrate holding device capable of holding substrates having different external dimensions. Also,
FIG. 25 is a cross-sectional view of the substrate holding device of FIG. 22 and FIG. 23 are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 22 and FIG. 23, and detailed description is omitted.

【0036】フィンガ121はガイド131に固定され
ている。モータ123、ネジ124、ナット125、軸
受132、軸受133、連結部材127により駆動機構
が構成されている。モータ123は軸受133に、軸受
133,132はベース128に固定されている。フィ
ンガ46およびガイドレール135もベース128に固
定されている。フィンガ121は連結部材127に固定
されて、任意の位置に位置決め可能となっている。ま
た、ベース128は位置決め機構129に固定されてい
る。
The finger 121 is fixed to the guide 131. A drive mechanism is configured by the motor 123, the screw 124, the nut 125, the bearing 132, the bearing 133, and the connecting member 127. The motor 123 is fixed to a bearing 133, and the bearings 133 and 132 are fixed to a base 128. Fingers 46 and guide rails 135 are also fixed to base 128. The finger 121 is fixed to the connecting member 127 and can be positioned at an arbitrary position. The base 128 is fixed to the positioning mechanism 129.

【0037】この基板保持装置では、フィンガ121を
駆動するネジ124、ナット125、モータ123は、
基板面内ではなく、ベース128上に備えられている。
すなわち、図22の基板保持装置とは異なり、基板面内
にネジ124、ナット125、モータ123が無いの
で、マガジン内などにおける基板間隔を縮小できる。
In this substrate holding apparatus, the screw 124, the nut 125, and the motor 123 for driving the finger 121
It is provided on the base 128, not in the plane of the substrate.
That is, unlike the substrate holding device of FIG. 22, since there are no screws 124, nuts 125, and motors 123 in the substrate surface, the substrate interval in a magazine or the like can be reduced.

【0038】しかしながら、この基板保持装置におい
て、フィンガ121のストロークを図22の基板保持装
置のそれと同じにすると、基板面内の外側にあるネジ1
24、ガイドレール135の分だけ、図22の基板保持
装に比べて、装置の全長は長くなる。
However, in this substrate holding apparatus, if the stroke of the finger 121 is made the same as that of the substrate holding apparatus shown in FIG.
24 and the guide rail 135, the overall length of the apparatus is longer than that of the substrate holding device of FIG.

【0039】図26に、外形寸法の異なる基板を保持可
能な基板搬送装置の搬送装置(搬送ロボット)の平面図
を示す。
FIG. 26 is a plan view of a transfer device (transfer robot) of a substrate transfer device capable of holding substrates having different external dimensions.

【0040】搬送装置136は、第1アーム136a、
第2アーム136b、本体136cから構成されてお
り、第2アーム136bの先端に基板保持装置137が
固定されている。基板保持装置137は基板130を保
持している。
The transfer device 136 includes a first arm 136a,
The second arm 136b includes a main body 136c, and a substrate holding device 137 is fixed to a tip of the second arm 136b. The substrate holding device 137 holds the substrate 130.

【0041】ここで、基板保持装置137の全長が長く
なると、図に示すように、旋回半径Rが大きくなるの
で、搬送装置136の動作面積は増大する。このため、
図24に示したような全長が長い基板保持装置は、基板
搬送装置の小型化を妨げるという問題がある。
Here, when the total length of the substrate holding device 137 is increased, the turning radius R is increased as shown in the figure, so that the operating area of the transfer device 136 is increased. For this reason,
The substrate holding device having a long overall length as shown in FIG. 24 has a problem that it hinders downsizing of the substrate transfer device.

【0042】[0042]

【発明が解決しようとする課題】上述の如く、従来の基
板保持装置は、深いステージに適合させようとすると、
大型化するという問題があった。また、外形寸法の異な
る基板の保持が可能な基板搬送装置は、装置自身のサイ
ズ(全長)または装置の動作面積が大きくなり、小型化
が困難であるという問題があった。
As described above, the conventional substrate holding apparatus is required to be adapted to a deep stage.
There was a problem of being larger. In addition, a substrate transfer device capable of holding substrates having different external dimensions has a problem that the size (total length) of the device itself or the operation area of the device is large, and it is difficult to reduce the size.

【0043】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
で、その目的とするところは、装置の大型化を招くこと
なく、深いステージに適合できる基板保持装置を提供す
ることにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate holding device that can be adapted to a deep stage without increasing the size of the device.

【0044】また、本発明の他の目的は、外形寸法の異
なる基板の保持が可能な小型の基板搬送装置を提供する
ことにある。
Another object of the present invention is to provide a small-sized substrate transfer device capable of holding substrates having different external dimensions.

【0045】[0045]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

[概要]上記目的を達成するために、本発明に係る基板
保持装置(請求項1)は、先端に基板を支持する第1の
支持部が設けられた可動な第1のアームと、先端に前記
第1の支持部とともに基板を支持する第2の支持部が設
けられ、かつ屈曲部を有する可動な第2のアームと、前
記第1および第2のアームを移動させるアーム移動手段
と、前記第2のアームに対する前記第2の支持部の相対
位置を変える位置変位手段本体を有し、この位置変位手
段本体が前記屈曲部に対して前記第2の支持部側に設け
られてなる位置変位手段とを具備したことを特徴とす
る。
[Summary] To achieve the above object, a substrate holding device according to the present invention (Claim 1) includes a movable first arm provided with a first support portion for supporting a substrate at a tip, and a movable first arm with a tip provided at a tip. A movable second arm having a bent portion and a second support portion for supporting the substrate together with the first support portion; an arm moving means for moving the first and second arms; A position displacement means main body for changing a relative position of the second support portion with respect to a second arm, wherein the position displacement means main body is provided on the second support portion side with respect to the bent portion; Means.

【0046】また、本発明に係る他の基板保持装置(請
求項2)は、上記基板保持装置(請求項1)において、
前記位置変位手段本体が、前記位置変位手段本体が、前
記第2のアーム内に設けられ、軸方向が前記第2のアー
ムの長手方向である回転軸を中心にして、前記第2のア
ーム支持部を前記第2の支持部の前記先端で回転させる
ものであることを特徴とする。
Further, another substrate holding device according to the present invention (claim 2) is the same as the above substrate holding device (claim 1).
The position displacement means main body is provided in the second arm, and the second arm support is provided around a rotation axis whose axial direction is the longitudinal direction of the second arm. A part is rotated by the tip of the second support part.

【0047】また、本発明に係る他の基板保持装置(請
求項3)は、上記基板保持装置(請求項1)において、
前記位置変位手段本体が、前記第2のアーム外に設けら
れ、前記第2のアームの直線運動を円運動に変換して、
軸方向が前記第2のアームの長手方向である回転軸を中
心にして、前記第2のアーム支持部を前記第2の支持部
の前記先端で回転させるものであることを特徴とする。
Another substrate holding device according to the present invention (Claim 3) is the same as the substrate holding device (Claim 1),
The position displacement means main body is provided outside the second arm, and converts a linear motion of the second arm into a circular motion,
It is characterized in that the second arm support portion is rotated at the tip of the second support portion around a rotation axis whose axial direction is the longitudinal direction of the second arm.

【0048】また、本発明に係る他の基板保持装置(請
求項4)は、上記基板保持装置(請求項3)において、
前記位置変位手段本体が、前記第2の支持部を含むリン
ク機構により構成されていることを特徴とする。
Further, another substrate holding device according to the present invention (Claim 4) is the same as the substrate holding device (Claim 3),
The position displacement means main body is constituted by a link mechanism including the second support portion.

【0049】また、本発明に係る他の基板保持装置(請
求項5)は、上記基板保持装置(請求項3)において、
前記位置変位手段本体が、ネジ溝を有する軸部材とナッ
ト部材とにより構成されていることを特徴とする。
Another substrate holding device according to the present invention (Claim 5) is the substrate holding device (Claim 3) according to the present invention.
The main body of the position displacement means is constituted by a shaft member having a thread groove and a nut member.

【0050】また、本発明に係る他の基板保持装置(請
求項6)は、長さが変えられる状態および長さが変えら
れない状態の一方の状態を選択的に取り得る基板保持手
段と、前記基板保持手段をその長さが変えられる状態お
よび長さが変えられない状態の一方の状態に選択的に設
定する状態設定手段と、前記基板保持手段の長さを変え
られる状態のときに、前記基板保持手段の長さを変え、
かつ前記基板保持手段との連結および切り離しが自在の
変長手段と、前記基板保持手段を搬送する搬送手段とを
具備したことを特徴とする。
Further, another substrate holding device according to the present invention is a substrate holding means capable of selectively taking one of a state in which the length is changed and a state in which the length is not changed, State setting means for selectively setting the substrate holding means to one of a state in which the length can be changed and a state in which the length cannot be changed, and a state in which the length of the substrate holding means can be changed, Changing the length of the substrate holding means,
In addition, it is characterized by comprising a length changing means which can be freely connected to and disconnected from the substrate holding means, and a transport means for transporting the substrate holding means.

【0051】また、本発明に係る他の基板保持装置(請
求項7)は、上記基板保持装置(請求項6)において、
前記変長手段が、前記状態設定手段を兼ねることを特徴
とする。
Further, another substrate holding device according to the present invention (claim 7) is the above substrate holding device (claim 6),
The length changing means also serves as the state setting means.

【0052】また、本発明に係る他の基板保持装置(請
求項8)は、上記基板保持装置(請求項6)において、
前記搬送手段が、前記変長手段を兼ねることを特徴とす
る。 [作用]本発明(請求項1〜請求項5)では、第2のア
ームとして屈曲部を有するものを用いているので、ステ
ージの深さが変わった場合には、それに対応して、屈曲
部の深さが変わったアームを用いれば良い。
Another substrate holding device according to the present invention (claim 8) is the above substrate holding device (claim 6).
The transfer means also serves as the length changing means. [Operation] In the present invention (claims 1 to 5), since the second arm has a bent portion, if the depth of the stage changes, the bent portion is correspondingly changed. Arms with different depths may be used.

【0053】このため、第2のアームの先端に設けれら
れた第2の支持部の長さを変更しなくて済むので、第2
の支持部の長さは基板の厚さによってのみ決定される最
小寸法に設定することができる。
For this reason, it is not necessary to change the length of the second support portion provided at the tip of the second arm.
Can be set to a minimum dimension determined only by the thickness of the substrate.

【0054】また、本発明では、第2の支持部の位置を
変える位置変位手段を屈曲部に対して第2の支持部側に
設けているので、つまり、屈曲部には設けていないの
で、装置の大型化を招く原因となる回転軸変換機構を用
いる必要がなくなる。
Also, in the present invention, since the position displacement means for changing the position of the second support portion is provided on the second support portion side with respect to the bent portion, that is, not provided on the bent portion, It is not necessary to use a rotation axis conversion mechanism that causes an increase in the size of the apparatus.

【0055】したがって、本発明によれば、装置の大型
化を招くことなく、深いステージに適合できる基板搬送
装置を提供できるようになる。
Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a substrate transfer apparatus that can be adapted to a deep stage without increasing the size of the apparatus.

【0056】また、本発明(請求項6〜請求項8)で
は、搬送手段の動作半径の増大の原因となる変長手段
を、基板保持手段から切り離すことができる。
According to the present invention (claims 6 to 8), the length changing means which causes an increase in the operating radius of the transport means can be separated from the substrate holding means.

【0057】この結果、変長手段が一体化された従来の
基板保持手段に比べて、本発明の基板保持手段は小型・
軽量になる。したがって、搬送手段を小型化でき、基板
搬送装置の小型化を図れるようになる。
As a result, the substrate holding means of the present invention is smaller and smaller than the conventional substrate holding means in which the length changing means is integrated.
Become lightweight. Therefore, the size of the transfer means can be reduced, and the size of the substrate transfer device can be reduced.

【0058】さらに、基板を搬送する際に、変長手段を
基板保持手段から切り離すことにより、搬送手段の動作
半径の増大を防止できるので、これによっても基板搬送
装置の小型化を図れるようになる。
Further, when the substrate is transferred, the operating radius of the transfer means can be prevented from being increased by separating the length changing means from the substrate holding means, so that the size of the substrate transfer apparatus can be reduced. .

【0059】[0059]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態(以下、実施形態という)を説明する。
Embodiments of the present invention (hereinafter, referred to as embodiments) will be described below with reference to the drawings.

【0060】(第1の実施形態)図1は、本発明の第1
の実施形態に係る基板保持装置を示す側面図、図2は同
基板保持装置の矢視A−A´断面図、図3は同基板保持
装置のアーム部分を示す斜視図、図4は図1の基板保持
装置とステージとの位置関係を示す図である。
(First Embodiment) FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of the substrate holding device, FIG. 3 is a perspective view showing an arm portion of the substrate holding device, and FIG. FIG. 5 is a diagram showing a positional relationship between the substrate holding device and the stage.

【0061】図中、1はベースを示しており、このベー
ス1は位置決め機構16に固定されている。矢印17間
は機構部、矢印18間は基板保持部を示している。移動
機構2,3(アーム移動手段)はベース1に固定されて
おり、移動機構2,3の可動部は各々図の左右方向へ移
動可能である。
In the figure, reference numeral 1 denotes a base, which is fixed to a positioning mechanism 16. The arrow 17 indicates the mechanism, and the arrow 18 indicates the substrate holder. The moving mechanisms 2 and 3 (arm moving means) are fixed to the base 1, and the movable portions of the moving mechanisms 2 and 3 can move in the left and right directions in the drawing.

【0062】2本の第1のアーム5の一端は移動機構2
の可動部2aに、2本の厚さtの屈曲部を有する第2の
アーム6の一端は移動機構3の可動部3aに固定されて
いる。第2のアーム6の先端部内にはモータあるいはロ
ータリーソレノイド等の回転機構を有する回転駆動機構
4(位置変位手段本体)が設けられている。
One end of each of the two first arms 5 is connected to the moving mechanism 2.
One end of a second arm 6 having two bent portions having a thickness t in the movable portion 2 a is fixed to the movable portion 3 a of the moving mechanism 3. A rotation drive mechanism 4 (position displacement means main body) having a rotation mechanism such as a motor or a rotary solenoid is provided in the distal end portion of the second arm 6.

【0063】一方、第1のアーム5の他端には爪7(第
1の支持部)、第2のアーム6の他端には長さHの可動
爪8(第2の支持部)が設けられている。この可動爪8
は回転駆動機構4の出力軸4aに固定されている。可動
爪8は出力軸4aが回転することにより、第2のアーム
を中心にして回転運動する。
On the other hand, a claw 7 (first support) is provided at the other end of the first arm 5, and a movable claw 8 (second support) having a length H is provided at the other end of the second arm 6. Is provided. This movable claw 8
Is fixed to the output shaft 4a of the rotary drive mechanism 4. The movable claw 8 rotates around the second arm as the output shaft 4a rotates.

【0064】なお、回転駆動機構4は第2のアーム6の
屈曲部に対して可動爪8側に設けられているが、回転駆
動機構4の駆動源等は必ずしもそうである必要はない。
すなわち、第2のアーム6に対する可動爪8の相対位置
を変える位置変位手段の全体が、第2のアーム6の屈曲
部に対して可動爪8側に設けられている必要はない。ま
た、第1、第2のアーム5,6の数は2本に限定される
ものではない。
Although the rotary drive mechanism 4 is provided on the movable claw 8 side with respect to the bent portion of the second arm 6, the drive source of the rotary drive mechanism 4 is not necessarily required to be so.
That is, it is not necessary that the entire position displacement unit that changes the relative position of the movable claw 8 with respect to the second arm 6 be provided on the movable claw 8 side with respect to the bent portion of the second arm 6. Further, the number of the first and second arms 5 and 6 is not limited to two.

【0065】破線で示すウェハ等の基板9は、爪7,8
の台座部7a,8aで下面より支持もしくは爪7,8の
側面部7b,8bとの摩擦力により、またはこれら両方
により支持される。また、破線で示す基板9は、マガジ
ン10内に他の破線で示す基板11とともに可動爪8の
長さHよりも小さい基板間隔Lで格納されている。
A substrate 9 such as a wafer shown by a broken line is
Are supported by the lower surfaces of the pedestals 7a and 8a, or are supported by the frictional force with the side surfaces 7b and 8b of the claws 7 and 8 or both. The substrate 9 indicated by the broken line is stored in the magazine 10 together with the substrate 11 indicated by the other broken line at a substrate interval L smaller than the length H of the movable claw 8.

【0066】図2において、可動爪8の幅hはアーム6
の厚さt以下である。二点鎖線で示す可動爪8′は可動
爪8を回転したときの位置を示している。
In FIG. 2, the width h of the movable claw 8 is
Is not more than the thickness t. A movable claw 8 'indicated by a two-dot chain line indicates a position when the movable claw 8 is rotated.

【0067】図4において、ステージ12上面から深さ
Wの位置に台座13が固定されている。破線で示した基
板9はステージ12に固定された台座13に支持され
る。
In FIG. 4, a pedestal 13 is fixed at a depth W from the upper surface of the stage 12. The substrate 9 indicated by a broken line is supported by a pedestal 13 fixed to a stage 12.

【0068】このような構成によれば、回転駆動機構4
を動作させると出力軸4aに固定された可動爪8を、出
力軸4aを中心に回転させることができる。また、爪
7,8が図1の位置にあるとき、移動機構2,3を動作
させて爪7,8を基板9に接触させることでチャック、
逆に移動機構2,3を動作させて爪7,8を基板9に接
触しない位置まで移動させることでリリースすることが
できる。
According to such a configuration, the rotation driving mechanism 4
Is operated, the movable pawl 8 fixed to the output shaft 4a can be rotated about the output shaft 4a. When the pawls 7 and 8 are at the positions shown in FIG. 1, the moving mechanisms 2 and 3 are operated to bring the pawls 7 and 8 into contact with the substrate 9 so that the chuck,
Conversely, the release can be performed by operating the moving mechanisms 2 and 3 to move the claws 7 and 8 to a position where they do not contact the substrate 9.

【0069】図1で示した基板保持装置がマガジン10
内の基板9に対して図1で示すように位置決めするため
には以下の手順で行なう。
The substrate holding device shown in FIG.
In order to perform positioning with respect to the substrate 9 in the inside as shown in FIG. 1, the following procedure is performed.

【0070】すなわち、基板保持部18がマガジン10
の外にある状態において、移動機構2,3を動作させて
爪7,8をリリース位置まで移動し、次に回転駆動機構
4を動作させて可動爪8を二点鎖線で示す可動爪8′の
位置に回転し、次に基板9とベース1が図1の位置関係
になるように、ベース1を位置決め機構16により移動
し、次に回転駆動機構4を動作させて二点鎖線で示す可
動爪8′を可動爪8の位置に回転し、最後に移動機構
2,3を動作させて爪7,8をチャック位置に移動す
る。この結果、マガジン10に格納されている基板9を
保持することができる。
That is, the substrate holding section 18 is
, The pawls 7 and 8 are moved to the release position by operating the moving mechanisms 2 and 3 and then the rotary driving mechanism 4 is operated to move the movable pawl 8 to the movable pawl 8 ′ shown by a two-dot chain line. Then, the base 1 is moved by the positioning mechanism 16 so that the substrate 9 and the base 1 have the positional relationship shown in FIG. 1, and then the rotation drive mechanism 4 is operated to move the base 9 by the two-dot chain line. The pawl 8 'is rotated to the position of the movable pawl 8, and finally the moving mechanisms 2, 3 are operated to move the pawls 7, 8 to the chuck position. As a result, the substrate 9 stored in the magazine 10 can be held.

【0071】マガジン10から基板9を搬出するには、
図1の基板保持装置で基板9を保持した状態で、位置決
め機構16を図1の右方向へ移動する。このとき、前記
マガジン10内で基板9が滑ってダスト等が基板9に付
着しないように、例えば位置決め機構16を上方へ移動
しておくことが好ましい。基板9マガジン10内へ基板
9を搬入するには、以上の手順を逆に行なえば良い。
To unload the substrate 9 from the magazine 10,
With the substrate 9 held by the substrate holding device of FIG. 1, the positioning mechanism 16 is moved rightward in FIG. At this time, it is preferable that the positioning mechanism 16 be moved upward, for example, so that the substrate 9 does not slide on the magazine 10 and dust or the like does not adhere to the substrate 9. To carry the substrate 9 into the substrate 9 magazine 10, the above procedure may be reversed.

【0072】また、深さWのステージ12へ基板を搬入
するには、図1に示す基板保持装置で基板9を保持した
状態で、基板9とベース1が図4の位置関係になるよう
に、ベース1を位置決め機構16により移動した後、移
動機構2,3を動作させて爪7,8をリリース位置に移
動する。この結果、基板保持装置で保持していた基板9
をステージ12の台座13上に搬入することができる。
ステージ12から基板9を搬出するには、以上の手順を
逆に行なえば良い。
In order to carry the substrate into the stage 12 having the depth W, the substrate 9 is held by the substrate holding device shown in FIG. After the base 1 is moved by the positioning mechanism 16, the moving mechanisms 2, 3 are operated to move the claws 7, 8 to the release position. As a result, the substrate 9 held by the substrate holding device
Can be carried onto the pedestal 13 of the stage 12.
To carry out the substrate 9 from the stage 12, the above procedure may be reversed.

【0073】本実施形態によれば、マガジン10内に入
る爪が可動爪8なので、図11、図14の従来の基板保
持装置と同様に、可動爪8の長さHよりも小さい基板間
隔Lでマガジン10に格納されている基板9を保持する
ことができる。
According to the present embodiment, since the claw that enters the magazine 10 is the movable claw 8, the substrate spacing L smaller than the length H of the movable claw 8 is the same as in the conventional substrate holding device shown in FIGS. Can hold the substrate 9 stored in the magazine 10.

【0074】また、本実施形態によれば、第2のアーム
6が屈曲部を有するので、図14の従来の基板保持装置
と同様に、ステージ12の深さWが変わった場合には、
それに対応した深さの屈曲部を有するものを用いれば良
いので、可動爪8の長さを変更しなくて済む。これによ
り、可動爪8の長さは基板の厚さtによってのみ決定さ
れる最小寸法に設定することができる。したがって、ス
テージ12の深さWが深くなっても、マガジンを大きく
したり、格納枚数を削減する必要ない。なお、可動爪8
の長さを最小寸法に設定できることは、縦方向に関して
装置を小型化できることを意味している。
Further, according to the present embodiment, since the second arm 6 has a bent portion, when the depth W of the stage 12 changes, similarly to the conventional substrate holding device of FIG.
Since it is sufficient to use a member having a bent portion having a depth corresponding to that, it is not necessary to change the length of the movable claw 8. Thereby, the length of the movable claw 8 can be set to the minimum dimension determined only by the thickness t of the substrate. Therefore, even if the depth W of the stage 12 is increased, it is not necessary to increase the magazine or reduce the number of stored magazines. In addition, the movable claw 8
The length of the device can be set to the minimum size, which means that the device can be downsized in the vertical direction.

【0075】さらに、このようにステージ12の深さに
対応した第2のアーム6を用いることにより、ステージ
12は第2のアーム6とは独立に設計できる。これによ
り、ステージの高精度化、高安定化が可能となる。
Further, by using the second arm 6 corresponding to the depth of the stage 12, the stage 12 can be designed independently of the second arm 6. This makes it possible to achieve high precision and high stability of the stage.

【0076】また、本実施形態では、可動爪8を第2の
アーム8の先端部内に設けられた回転駆動機構4によっ
てアーム6を中心にして回転可能となっている。すなわ
ち、第2のアーム8の屈曲部には設けられていない回転
駆動機構4によって回転可能となっている。このため、
回転駆動機構4は、図14に示した従来の屈曲部に設け
られた回転軸変換機構117とは異なり、簡単な構成で
済み、(特に横方向に関して)大型化することはない。
したがって、ステージ12の深さWが深くなっても、装
置が(特に横方向に関して)大型化することはない。
In this embodiment, the movable claw 8 is rotatable around the arm 6 by the rotation drive mechanism 4 provided in the distal end of the second arm 8. That is, the second arm 8 is rotatable by the rotation drive mechanism 4 that is not provided at the bent portion. For this reason,
The rotation drive mechanism 4 is different from the rotation axis conversion mechanism 117 provided in the conventional bent portion shown in FIG. 14 in that it has a simple configuration and does not increase in size (particularly in the lateral direction).
Therefore, even if the depth W of the stage 12 is increased, the size of the apparatus is not increased (especially in the lateral direction).

【0077】また、このような種々の効果を有する基板
保持装置を用いることにより、半導体装置(LSI)や
液晶表示装置の製造装置や検査装置のいろいろな要求に
合致した、実用性、汎用性の高い基板搬送装置を実現で
きるようになる。
Further, by using the substrate holding device having such various effects, practicality and versatility meeting various requirements of a semiconductor device (LSI), a liquid crystal display device manufacturing device and an inspection device can be met. A high substrate transfer device can be realized.

【0078】(第2の実施形態)図5は、本発明の第2
の実施形態に係る基板保持装置のアーム部分を示す斜視
図である。また、図6は本実施形態の基板保持装置を示
す側面図、図7は図6の基板保持装置の矢示A−A´断
面図、図8は図6の基板保持装置とステージとの位置関
係を示す図である。
(Second Embodiment) FIG. 5 shows a second embodiment of the present invention.
It is a perspective view showing the arm part of the substrate holding device concerning an embodiment. 6 is a side view showing the substrate holding device of the present embodiment, FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line AA 'of the substrate holding device of FIG. 6, and FIG. 8 is the position of the substrate holding device and the stage of FIG. It is a figure showing a relation.

【0079】図中、1はベースを示しており、このベー
ス1は位置決め機構16に固定されている。矢印17間
は機構部、矢印18間は基板保持部を示してる。移動機
構14,15(アーム移動手段)はベース1上に固定さ
れている。移動機構14,15の可動部14a,15a
は各々座標軸36のX方向へ移動可能である。移動機構
2,3は各々移動機構14,15の可動部14a,15
aに固定されており、移動機構2,3の可動部2a,3
aは各々座標軸のZ方向へ移動可能である。
In the drawing, reference numeral 1 denotes a base, and the base 1 is fixed to a positioning mechanism 16. The arrow 17 indicates a mechanical unit, and the arrow 18 indicates a substrate holding unit. The moving mechanisms 14 and 15 (arm moving means) are fixed on the base 1. Moving parts 14a, 15a of moving mechanisms 14, 15
Are movable in the X direction of the coordinate axes 36. The moving mechanisms 2 and 3 are movable parts 14a and 15 of the moving mechanisms 14 and 15, respectively.
a of the moving mechanisms 2 and 3
a can be moved in the Z direction of the coordinate axes.

【0080】2本の第1のアーム5の一端は移動機構2
の可動部2aに、厚さtの2本の第2のアーム6の一端
は移動機構3の可動部3aに固定されている。一方、第
1のアーム5の他端には爪7が固定、第2のアーム6の
他端には長さHの可動爪8が回転可能に固定されてい
る。可動爪8はリンク19によって可動爪8の回転軸8
dの中心より偏芯距離nだけ偏芯した位置で連結されて
いる。
One end of each of the two first arms 5 is connected to the moving mechanism 2.
One end of each of the two second arms 6 having a thickness t is fixed to the movable part 3 a of the moving mechanism 3. On the other hand, a claw 7 is fixed to the other end of the first arm 5, and a movable claw 8 having a length H is rotatably fixed to the other end of the second arm 6. The movable claw 8 is connected to the rotating shaft 8 of the movable claw 8 by a link 19.
They are connected at a position eccentric from the center of d by an eccentric distance n.

【0081】図6において、破線で示す基板9は、爪
7,8の台座部7a,8aで下面より支持あるいは爪
7,8の側面部7b,8bとの摩擦力により支持され
る。また、破線で示す基板9は、マガジン10内に他の
破線で示す基板11とともに可動爪8の長さHよりも小
さい基板間隔Lで格納されている様子を示している。
In FIG. 6, the substrate 9 indicated by a broken line is supported by the lower surfaces of the bases 7a, 8a of the claws 7, 8 or supported by the frictional force with the side surfaces 7b, 8b of the claws 7, 8. In addition, the substrate 9 indicated by the broken line shows that the magazine 10 is stored together with the substrate 11 indicated by the other broken lines at a substrate interval L smaller than the length H of the movable claw 8.

【0082】図7において、可動爪8はアーム6の厚さ
t以下の幅hを持つ。二点鎖線で示す可動爪8′は可動
爪8を回転したときの位置を示している。
In FIG. 7, the movable claw 8 has a width h which is smaller than the thickness t of the arm 6. A movable claw 8 'indicated by a two-dot chain line indicates a position when the movable claw 8 is rotated.

【0083】図8において、ステージ12上面から深さ
Wの位置に台座13が固定されている。基板9はステー
ジ12に固定された台座13に支持される。
In FIG. 8, a pedestal 13 is fixed at a depth W from the upper surface of the stage 12. The substrate 9 is supported on a pedestal 13 fixed to a stage 12.

【0084】このような構成によれば、図5において移
動機構14,15を動作させると可動部14a,15a
に固定された移動機構2,3は座標軸36のX方向へ移
動する。
According to such a configuration, when the moving mechanisms 14 and 15 are operated in FIG. 5, the movable parts 14a and 15a
Are moved in the X direction of the coordinate axis 36.

【0085】このとき、移動機構2,3の可動部2a,
3aに固定されたアーム5,6およびアーム5,6に固
定された爪7,8についても座標軸36のX方向へ移動
する。リンク19の長さmが一定であるのに対し、2つ
の可動爪8の回転中心8dの間の距離が変化することに
より、偏芯距離nと移動機構3により発生する駆動力と
の積で表されるモーメントが可動爪8の回転中心8d回
りに発生する。これにより、可動爪8は回転動作を行な
うことができる。
At this time, the movable parts 2a,
The arms 5 and 6 fixed to 3a and the claws 7 and 8 fixed to the arms 5 and 6 also move in the X direction of the coordinate axis 36. While the length m of the link 19 is constant, the distance between the rotation centers 8d of the two movable claws 8 changes, so that the product of the eccentric distance n and the driving force generated by the moving mechanism 3 is obtained. The expressed moment is generated around the rotation center 8 d of the movable claw 8. Thereby, the movable claw 8 can perform a rotating operation.

【0086】また、爪7,8が図6の位置にあるとき、
移動機構2,3を動作させて爪7,8を基板9に接触さ
せることでチャック、逆に移動機構2,3を動作させて
爪7,8を基板9に接触しない位置まで移動させること
でリリースすることができる。
When the claws 7 and 8 are at the positions shown in FIG.
By operating the moving mechanisms 2 and 3 to bring the claws 7 and 8 into contact with the substrate 9, the moving mechanisms 2 and 3 are operated to move the claws 7 and 8 to a position where they do not contact the substrate 9. Can be released.

【0087】図6で示した基板保持装置がマガジン10
内の基板9に対して図6で示すように位置決めするため
には以下の手順で行なう。
The substrate holding device shown in FIG.
In order to perform positioning with respect to the substrate 9 inside as shown in FIG. 6, the following procedure is performed.

【0088】すなわち、基板保持部18がマガジン10
の外にある状態において、移動機構2,3を動作させて
爪7,8をリリース位置まで移動し、次に移動機構15
を動作させて可動爪8を二点鎖線で示す可動爪8′の位
置に回転し、次に基板9とベース1が図6の位置関係に
なるように、ベース1を位置決め機構16により移動
し、次に移動機構15を動作させて二点鎖線で示す可動
爪8′を可動爪8の位置に回転し、最後に移動機構2,
3を動作させて爪7,8をチャック位置に移動する。こ
の結果、マガジン10に格納されている基板9を保持す
ることがてきる。マガジン10から基板9を搬出するに
は、図6の基板保持装置で基板9を保持した状態で、位
置決め機構16を図6の右方向へ移動する。このとき、
マガジン10内で基板9が滑ってダスト等が基板9に付
着しないように、例えば位置決め機構16を上方へ移動
しておくことが好ましい。マガジン10内へ基板9を搬
入するには、以上の手順を行なえば良い。
That is, the substrate holding section 18 is
, The pawls 7, 8 are moved to the release position by operating the moving mechanisms 2, 3, and then the moving mechanism 15,
Is operated to rotate the movable claw 8 to the position of the movable claw 8 'shown by the two-dot chain line, and then the base 1 is moved by the positioning mechanism 16 so that the substrate 9 and the base 1 have the positional relationship of FIG. Next, the moving mechanism 15 is operated to rotate the movable claw 8 ′ shown by the two-dot chain line to the position of the movable claw 8, and finally, the moving mechanism 2,
3 is operated to move the claws 7, 8 to the chuck position. As a result, the substrate 9 stored in the magazine 10 can be held. To carry out the substrate 9 from the magazine 10, the positioning mechanism 16 is moved rightward in FIG. 6 while the substrate 9 is held by the substrate holding device in FIG. At this time,
For example, it is preferable to move the positioning mechanism 16 upward so that the substrate 9 does not slip and the dust 9 adheres to the substrate 9 in the magazine 10. In order to carry the substrate 9 into the magazine 10, the above procedure may be performed.

【0089】また、深さWのステージ12へ基板を搬入
するには、図6に示す基板保持装置で基板9を保持した
状態で、基板9とベース1が図8の位置関係になるよう
に、ベース1を位置決め機構16により移動し、移動機
構2,3を動作させて爪7,8をリリース位置に移動す
る。この結果、基板保持装置で保持していた基板9をス
テージ12の台座13上に搬入することができる。ステ
ージ12から基板9を搬出するには、以上の手順を逆に
行なえば良い。
In order to carry the substrate into the stage 12 having the depth W, the substrate 9 is held by the substrate holding device shown in FIG. Then, the base 1 is moved by the positioning mechanism 16, and the moving mechanisms 2, 3 are operated to move the claws 7, 8 to the release position. As a result, the substrate 9 held by the substrate holding device can be carried onto the pedestal 13 of the stage 12. To carry out the substrate 9 from the stage 12, the above procedure may be reversed.

【0090】本実施形態によれば、マガジン10内に入
る爪が可動爪8なので、第1の実施形態と同様に、可動
爪8の長さHよりも小さい基板間隔Lでマガジン10に
格納されている基板9を保持することができる。
According to this embodiment, since the claws entering the magazine 10 are the movable claws 8, the claws are stored in the magazine 10 at the substrate interval L smaller than the length H of the movable claws 8, as in the first embodiment. Substrate 9 can be held.

【0091】また、本実施形態によれば、第2のアーム
6が屈曲部を有するので、第1の実施形態と同様に、可
動爪8の長さは基板の厚さtによってのみ決定される最
小寸法に設定することができるので、ステージ12の深
さWが深くなっても、マガジンを大きくしたり、格納枚
数を削減する必要ない。
Further, according to the present embodiment, since the second arm 6 has the bent portion, the length of the movable claw 8 is determined only by the thickness t of the substrate, as in the first embodiment. Since the minimum dimension can be set, even if the depth W of the stage 12 is increased, there is no need to increase the size of the magazine or reduce the number of sheets stored.

【0092】本実施形態では、2つの可動爪8とリンク
19で構成されるリンク構成の回転運動変換機構をアー
ム6の先端付近に配置し、かつ可動爪8をアーム6の先
端部に回転可能に固定している。
In the present embodiment, a rotary motion converting mechanism having a link structure composed of two movable claws 8 and a link 19 is arranged near the tip of the arm 6, and the movable claw 8 can be rotated on the tip of the arm 6. It is fixed to.

【0093】これにより、移動機構15によるアーム6
の直線運動は、リンク構成の回転運動変換機構により、
回転運動に変換されるので、第1の実施形態と同様に、
可動爪8はアーム6を中心にして回転可能となる。
Thus, the arm 6 by the moving mechanism 15
The linear motion of the
Since it is converted into a rotational motion, similar to the first embodiment,
The movable claw 8 is rotatable around the arm 6.

【0094】すなわち、第2のアーム8の屈曲部には設
けられていないリンク構成の回転駆動変換機構によって
回転可能となっている。このため、回転駆動機構4は、
図14に示した従来の屈曲部に設けられた回転軸変換機
構117とは異なり、簡単な構成で済み、大型化するこ
とはない。したがって、ステージ12の深さWが深くな
っても、装置が大型化することはない。
That is, the second arm 8 is rotatable by a rotary drive conversion mechanism having a link structure that is not provided at the bent portion. For this reason, the rotation drive mechanism 4
Unlike the conventional rotation axis conversion mechanism 117 provided at the bent portion shown in FIG. 14, a simple configuration is sufficient and the size is not increased. Therefore, even if the depth W of the stage 12 increases, the size of the apparatus does not increase.

【0095】また、本実施形態の場合、リンク機構を用
いて可動爪8を回転させているので、基板9の近くに放
熱源は存在しない。一方、第1の実施形態の場合、モー
タを用いて可動爪8の回転を行なっているため、モータ
が放熱源となる。基板9が熱膨張係数の大きいウェハの
場合、モータからの熱により基板9が反るなどの不都合
が起こる。本実施形態は放熱源がないのでこのような不
都合は起こらない。また、基板9が大型化しても、アー
ム6と可動爪8との接続部等を太くするだけ、必要な強
度が得られ、安定に基板9を保持できる。
In the case of the present embodiment, since the movable claw 8 is rotated using the link mechanism, there is no heat radiation source near the substrate 9. On the other hand, in the case of the first embodiment, since the movable claw 8 is rotated using a motor, the motor serves as a heat radiation source. When the substrate 9 is a wafer having a large coefficient of thermal expansion, inconveniences such as warpage of the substrate 9 due to heat from the motor occur. In the present embodiment, since there is no heat radiation source, such an inconvenience does not occur. Further, even if the substrate 9 becomes large, the required strength can be obtained and the substrate 9 can be stably held only by increasing the thickness of the connection portion between the arm 6 and the movable claw 8.

【0096】なお、回転運動変換機構へ入力される直線
動作は必ずしも基板重量を支持するアーム6によって与
えられる必要はない。図9に、本実施形態の変形例に係
る基板保持部の斜視図を示す。本実施形態と同じ構造部
材については説明を省略する。
The linear motion input to the rotary motion conversion mechanism does not necessarily need to be given by the arm 6 supporting the weight of the substrate. FIG. 9 is a perspective view of a substrate holding unit according to a modification of the present embodiment. The description of the same structural members as in the present embodiment will be omitted.

【0097】駆動アーム20は本実施形態の移動機構3
に固定されている。駆動アーム20の先端には、リンク
19が回転可能に固定されている。この構成の場合、1
つの第2のアーム6の直線運動が円運動に変換される。
このような構成でも、本実施形態と同様の効果を得るこ
とができる。
The driving arm 20 is provided with the moving mechanism 3 of the present embodiment.
It is fixed to. A link 19 is rotatably fixed to the tip of the drive arm 20. In this configuration, 1
The linear movement of the two second arms 6 is converted into a circular movement.
With such a configuration, the same effect as in the present embodiment can be obtained.

【0098】また、本実施形態において、2つのアーム
6はどれも移動機構3に固定されているが、少なくとも
1つのアーム6が移動機構3に固定されていれば良い。
さらに、回転運動変換機構から出力として得られる回転
力は、直接可動爪6を回転動作させる必要はない。
In this embodiment, both the two arms 6 are fixed to the moving mechanism 3, but it is sufficient that at least one arm 6 is fixed to the moving mechanism 3.
Further, the rotational force obtained as an output from the rotational motion conversion mechanism does not need to directly rotate the movable claw 6.

【0099】図10に、本実施形態の他の変形例に係る
基板保持部の斜視図を示す。なお、本実施形態と同じ構
造部材については説明を省略する。
FIG. 10 is a perspective view of a substrate holder according to another modification of the present embodiment. The description of the same structural members as in the present embodiment will be omitted.

【0100】リンク22はアーム6の先端に回転可能に
固定されている。可動爪21はリンク22に回転可能に
固定されている。このような構成において、アーム6が
X軸方向に移動すると、リンク22は回転動作を行なう
とともに、可動爪21はZ軸方向へ移動する。このよう
な構成でも、本実施形態と同様の効果を得ることができ
る。
The link 22 is rotatably fixed to the tip of the arm 6. The movable claw 21 is rotatably fixed to the link 22. In such a configuration, when the arm 6 moves in the X-axis direction, the link 22 rotates and the movable claw 21 moves in the Z-axis direction. With such a configuration, the same effect as in the present embodiment can be obtained.

【0101】図11に、本実施形態のさらに別の変形例
に係る基板保持部の斜視図を示す。なお、本実施形態と
同じ構造部材については説明は省略する。これは回転運
動変換機構にリンク機構を用いない例である。
FIG. 11 is a perspective view of a substrate holder according to still another modification of the present embodiment. The description of the same structural members as in the present embodiment will be omitted. This is an example in which a link mechanism is not used for a rotary motion conversion mechanism.

【0102】ナット23の両端は2つのアーム6のそれ
ぞれの先端に固定されている。長手方向に対し中心付近
から対称的にネジ溝が構成されたネジ軸24は、ナット
23に接続されている。ネジ軸24には1つの爪25が
固定されており、ネジ軸24と爪25により可動爪が構
成されている。このような構成において、アーム6がY
軸方向へ移動すると、ナット23とネジ軸24により回
転力が生じ、ネジ軸24がY軸方向への軸中心に回転動
作を行なうので、爪25は回転するようになる。
Both ends of the nut 23 are fixed to the respective ends of the two arms 6. A screw shaft 24 having a screw groove formed symmetrically from near the center in the longitudinal direction is connected to a nut 23. One claw 25 is fixed to the screw shaft 24, and the screw shaft 24 and the claw 25 form a movable claw. In such a configuration, the arm 6 is
When moved in the axial direction, a rotational force is generated by the nut 23 and the screw shaft 24, and the screw shaft 24 rotates around the axis in the Y-axis direction, so that the claw 25 rotates.

【0103】(第3の実施形態)図12は、本発明の第
3の実施形態に係る外形寸法の異なる基板の保持が可能
な基板保持装置38(基板保持手段)およびそのフィン
ガ伸縮装置39(変長手段)を示す斜視図である。
(Third Embodiment) FIG. 12 shows a substrate holding device 38 (substrate holding means) capable of holding substrates having different external dimensions according to a third embodiment of the present invention, and a finger expansion / contraction device 39 ( It is a perspective view which shows a length change means.

【0104】フィンガ31はガイドフィンガ32に案内
されて伸縮動作可能となっている。このガイドフィンガ
32には、フィンガ31のガイドフィンガ32の案内方
向への位置を位置決め固定する機能を有する、フィンガ
ストッパ33が設けられている。すなわち、基板保持装
置38は、フィンガ31を伸縮できる状態および伸縮で
きない状態の一方を選択的に取ることができる。
The finger 31 is guided by the guide finger 32 and is capable of extending and contracting. The guide finger 32 is provided with a finger stopper 33 having a function of positioning and fixing the position of the finger 31 in the guide direction of the guide finger 32. That is, the substrate holding device 38 can selectively take one of a state in which the finger 31 can be expanded and contracted and a state in which the finger 31 cannot be expanded and contracted.

【0105】ガイドフィンガ32はベース34に固定さ
れており、また、ベース34は基板搬送装置(ロボッ
ト)などの位置決め装置35に固定されている。図示し
ない基板は基板受け37に支持される。
The guide fingers 32 are fixed to a base 34, and the base 34 is fixed to a positioning device 35 such as a substrate transfer device (robot). A substrate (not shown) is supported by the substrate receiver 37.

【0106】フィンガ31は、真空チャック、電磁石ま
たは位置決めピンなどで構成される吸着連結機構40と
連結および切り離しが可能となっている。吸着連結機構
40は、フィンガ31との密着性、衝撃吸収性を高める
ために、フレキシブルジョイント41に固定されてい
る。
The finger 31 can be connected to and disconnected from a suction connection mechanism 40 composed of a vacuum chuck, an electromagnet or a positioning pin. The suction connection mechanism 40 is fixed to a flexible joint 41 in order to enhance the adhesion to the finger 31 and the shock absorption.

【0107】このフレキシブルジョイント41はガイド
42に固定されており、このガイド42はベース52に
固定されたガイドレール43に案内されてフィンガ31
の伸縮方向へ移動可能となっている。
The flexible joint 41 is fixed to a guide 42. The guide 42 is guided by a guide rail 43 fixed to a base 52, and
It can be moved in the direction of expansion and contraction.

【0108】2つのガイド42はブラケット44に固定
されており、このブラケット44に固定されたナット4
5、ネジ46によって構成されるボールネジなどのネジ
系によって移動方向への動力が同時に伝達される。ネジ
46はベース52に固定された軸受47,48によって
支持されており、モータ49の駆動力によって駆動され
る。
The two guides 42 are fixed to a bracket 44, and the nut 4 fixed to the bracket 44
5. Power in the moving direction is simultaneously transmitted by a screw system such as a ball screw constituted by the screw 46. The screw 46 is supported by bearings 47 and 48 fixed to the base 52, and is driven by a driving force of a motor 49.

【0109】フィンガストッパ33の解除機構50(状
態設定手段)はブロック51を介してベース52に固定
されている。すなわち、解除機構50はフィンガ伸縮装
置(変調手段)と同じ基体に形成されており、フィンガ
伸縮装置は解除機構50を兼ねている。この解除機構5
0は、フィンガ31が吸着連結機構40と連結するとき
にフィンガストッパ33を解除でき、フィンガ31が吸
着機構40と切り放されるときにフィンガストッパ33
を動作できる機構を有している。
The release mechanism 50 (state setting means) of the finger stopper 33 is fixed to the base 52 via the block 51. That is, the release mechanism 50 is formed on the same base as the finger extension / contraction device (modulation means), and the finger extension / contraction device also serves as the release mechanism 50. This release mechanism 5
0, the finger stopper 33 can be released when the finger 31 is connected to the suction connection mechanism 40, and the finger stopper 33 can be released when the finger 31 is separated from the suction mechanism 40.
Is provided.

【0110】次にフィンガ伸縮動作の詳細について説明
する。
Next, details of the finger extension / contraction operation will be described.

【0111】フィンガ31と吸着連結機構40の水平面
内方向へ位置合わせを、位置決め機構35によって行な
い、図12の位置に合わせる。位置決め機構35または
フィンガ伸縮装置39の台(不図示)を上下方向へ移動
して、フィンガ31と吸着連結機構40を接触させる。
The positioning of the finger 31 and the suction coupling mechanism 40 in the horizontal plane direction is performed by the positioning mechanism 35, and the position is adjusted to the position shown in FIG. The positioning mechanism 35 or the base (not shown) of the finger extension / contraction device 39 is moved up and down to bring the finger 31 into contact with the suction connection mechanism 40.

【0112】このとき、解除機構50とフィンガストッ
パ33がほぼ同時に接触し、フィンガストッパ33はフ
ィンガ31の位置決め固定動作を解除する。吸着連結機
構40を動作させてフィンガ31に吸着連結する。
At this time, the release mechanism 50 and the finger stopper 33 come into contact almost at the same time, and the finger stopper 33 releases the positioning and fixing operation of the finger 31. The suction connection mechanism 40 is operated to be suction-connected to the finger 31.

【0113】モータ49によりネジ46を駆動し、ナッ
ト45を固定されたブラケット44を移動させることに
より、ガイド42、このガイド42に固定されたフレキ
シブルジョイント41、フレキシブルジョイントに固定
された吸着連結機構40を移動させて、フィンガ31が
移動する。
By driving the screw 46 by the motor 49 and moving the bracket 44 to which the nut 45 is fixed, the guide 42, the flexible joint 41 fixed to the guide 42, and the suction coupling mechanism 40 fixed to the flexible joint To move the finger 31.

【0114】目的の位置までフィンガ31を移動した後
にモータ49を停止し、吸着連結機構40の動作を解除
して、フィンガ31と吸着連結機構との連結を切り放
す。
After moving the finger 31 to the target position, the motor 49 is stopped, the operation of the suction connection mechanism 40 is released, and the connection between the finger 31 and the suction connection mechanism is disconnected.

【0115】この後、位置決め機構35を上方へ移動す
ることでフィンガストッパ33と解除機構50が切り放
され、同時に、フィンガストッパ33がフィンガ31を
位置決め固定する。これでフィンガ31の伸縮動作が完
了する。
Thereafter, by moving the positioning mechanism 35 upward, the finger stopper 33 and the release mechanism 50 are cut off, and at the same time, the finger stopper 33 positions and fixes the finger 31. This completes the extension / contraction operation of the finger 31.

【0116】図13に図12の基板保持装置の平面図、
図14に図13の基板保持装置の矢視A−A´断面図を
示す。図中、36は基板を示している。図から、基板間
隔は図24、図25の従来の基板保持装置を用いた場合
と同じ間隔にでき、かつ基板保持装置の全長は図22、
図23の従来の基板保持装置と同じ短い全長にできるこ
とが分かる。
FIG. 13 is a plan view of the substrate holding device of FIG.
FIG. 14 is a cross-sectional view taken along the line AA 'of the substrate holding device of FIG. In the drawing, 36 indicates a substrate. From the figure, it is possible to set the substrate interval to the same interval as when using the conventional substrate holding device of FIGS. 24 and 25, and the total length of the substrate holding device is shown in FIG.
It can be seen that the overall length can be as short as the conventional substrate holding device of FIG.

【0117】このように本実施形態によれば、基板保持
装置38にフィンガ31を伸縮させるためのフィンガ伸
縮装置39を設けることなく、外形寸法の異なる基板3
6に合わせて基板保持装置38のフィンガ31を伸縮す
ることができるようになる。また、本実施形態によれ
ば、フィンガ伸縮機構39が基板保持装置38から独立
しているので、フィンガ伸縮装置39が無い分だけ、基
板保持装置38の基板面内の厚みおよび全長を縮小する
ことができ、基板保持装置38の小型化、軽量化を実現
できるようになる。
As described above, according to the present embodiment, the substrate holding device 38 is not provided with the finger extending / contracting device 39 for extending / contracting the finger 31 and the substrate 3 having different external dimensions is provided.
6, the fingers 31 of the substrate holding device 38 can be expanded and contracted. In addition, according to the present embodiment, since the finger expansion / contraction mechanism 39 is independent of the substrate holding device 38, the thickness and the total length of the substrate holding device 38 in the substrate surface can be reduced by the absence of the finger expansion / contraction device 39. Thus, the size and weight of the substrate holding device 38 can be reduced.

【0118】すなわち、同一寸法のマガジンにおいて格
納可能な基板枚数を増加することができるようになる。
あるいは同一基板枚数に対してマガジンサイズを低減す
ることが可能となる。
That is, the number of substrates that can be stored in a magazine of the same size can be increased.
Alternatively, the magazine size can be reduced for the same number of substrates.

【0119】また、基板搬送装置の基板保持装置とし
て、本実施形態の基板保持装置38を用いれば、基板保
持装置の旋回半径を縮小できるので、基板搬送装置の動
作面積は小さくなる。
When the substrate holding device 38 of this embodiment is used as the substrate holding device of the substrate transfer device, the turning radius of the substrate holding device can be reduced, so that the operating area of the substrate transfer device is reduced.

【0120】さらに、基板保持装置の重量を軽くできる
ので、基板搬送装置の搬送重量が低下し、基板搬送装置
の可搬重量の増加や、基板搬送装置の小型化、さらには
基板搬送装置の高速動作が可能となる。
Further, since the weight of the substrate holding device can be reduced, the carrying weight of the substrate carrying device is reduced, the load carrying capacity of the substrate carrying device is increased, the size of the substrate carrying device is reduced, and the speed of the substrate carrying device is increased. Operation becomes possible.

【0121】さらにまた、基板搬送装置(ロボット)の
先端へ配線される信号線、動力線は数量的に制限がある
ことが多いが、フィンガ31を伸縮させるためのフィン
ガ伸縮装置39に利用していた駆動機構が取り外せたこ
とにより、それを基板の有無検出などのセンサ等に流用
可能となる。また、このような基板搬送装置を用いるこ
とにより、半導体製造装置のシステム全体の小型化も図
れるようになる。
Further, signal lines and power lines wired to the tip of the substrate transfer device (robot) are often limited in number, but are used for a finger extension / contraction device 39 for extending / contracting the finger 31. Since the drive mechanism can be removed, the drive mechanism can be used as a sensor for detecting the presence or absence of a substrate. In addition, by using such a substrate transfer device, the size of the entire system of the semiconductor manufacturing apparatus can be reduced.

【0122】(第4の実施形態)図15は、本発明の第
4の実施形態に係る外形寸法の異なる基板の保持が可能
な基板搬送装置を示す模式図である。なお、図12〜図
14の基板保持機構およびフィンガ伸縮機構と対応する
部分には図12〜図14と同一符号を付してあり、詳細
な説明は省略する。
(Fourth Embodiment) FIG. 15 is a schematic view showing a substrate transfer apparatus according to a fourth embodiment of the present invention, which can hold substrates having different external dimensions. Parts corresponding to the substrate holding mechanism and the finger extending / contracting mechanism in FIGS. 12 to 14 are denoted by the same reference numerals as in FIGS. 12 to 14, and detailed description is omitted.

【0123】本実施形態は、フィンガの伸縮手段とし
て、図12に示したようなフィンガ伸縮装置の代わり
に、基板搬送ロボット60を用いる例である。すなわ
ち、基板保持装置の搬送手段である基板搬送ロボット5
が、フィンガの伸縮手段を兼ねている例である基板搬送
ロボット60はテーブル61とともに架台62に固定さ
れている。基板搬送ロボット60は、エレベータ63、
ロボット本体64、第1アーム65、第2アーム66か
ら構成されている。
The present embodiment is an example in which a substrate transfer robot 60 is used as a finger expansion / contraction device instead of the finger expansion / contraction device as shown in FIG. That is, the substrate transfer robot 5 as the transfer means of the substrate holding device.
However, the substrate transfer robot 60, which is also an example that also serves as a finger expansion / contraction means, is fixed to a gantry 62 together with a table 61. The substrate transfer robot 60 includes an elevator 63,
The robot body 64 includes a first arm 65 and a second arm 66.

【0124】テーブル61には、それに対して上下方向
へ駆動可能な機能を有し、高さの調整が可能なベース6
7が固定されている。このベース67には、フレキシブ
ルジョイント41と、解除機構50をフィンガの伸縮方
向へ移動可能に固定している位置保持型案内機構68と
が固定されている。
The table 61 has a function of being able to be driven up and down with respect to it, and the height of the base 6 is adjustable.
7 is fixed. The flexible joint 41 and a position holding type guide mechanism 68 that fixes the release mechanism 50 movably in the direction in which the fingers extend and contract are fixed to the base 67.

【0125】次にフィンガ31の伸縮の方法について説
明する。
Next, a method for expanding and contracting the finger 31 will be described.

【0126】フィンガ31を伸縮するには、基板搬送ロ
ボット60を図15(a)に示す位置に位置決めする。
このとき、エレベータ63またはベース67もしくはこ
れら両方を駆動して、図15(b)に示す位置に基板搬
送ロボット60を位置決めし、フィンガ31と吸着連結
機構40を接触させる。さらに、解除機構50は図示し
ないフィンガストッパと連結すると同時に、フィンガス
トッパ33を駆動し、フィンガ31の位置決め動作を解
除する。
To extend and contract the fingers 31, the substrate transfer robot 60 is positioned at the position shown in FIG.
At this time, the elevator 63 and / or the base 67 are driven to position the substrate transfer robot 60 at the position shown in FIG. 15B, and the finger 31 and the suction connection mechanism 40 are brought into contact. Further, the release mechanism 50 is connected to a finger stopper (not shown), and at the same time, drives the finger stopper 33 to release the positioning operation of the finger 31.

【0127】次に吸着連結機構40を動作させ、フィン
ガ31と吸着連結機構40を連結固定させる。ここで、
基板搬送ロボット60をフィンガ31の伸縮方向へ駆動
すると、フィンガ31はガイド42から引き出される。
このとき、解除機構50はフィンガストッパ33ととも
に移動する。
Next, the suction connection mechanism 40 is operated, and the finger 31 and the suction connection mechanism 40 are connected and fixed. here,
When the substrate transfer robot 60 is driven in the direction in which the finger 31 expands and contracts, the finger 31 is pulled out from the guide 42.
At this time, the release mechanism 50 moves together with the finger stopper 33.

【0128】この後、吸着連結機構40を動作させ、フ
ィンガ31との連結を切り放し、基板搬送ロボット60
またはベース67を駆動して、フィンガ31と吸着連結
機構40を分離する。これにより、解除機構50もフィ
ンガストッパ33から切り放され、同時にフィンガスト
ッパ33はフィンガ31を位置決め固定する。
Thereafter, the suction connection mechanism 40 is operated to release the connection with the finger 31 and the substrate transfer robot 60
Alternatively, the finger 31 and the suction connection mechanism 40 are separated by driving the base 67. As a result, the release mechanism 50 is also cut off from the finger stopper 33, and at the same time, the finger stopper 33 positions and fixes the finger 31.

【0129】以上のように、フィンガ31の伸縮動作を
基板搬送ロボット60のような位置決め機構によって行
なうことによっても、第3の実施形態と同様な効果を得
ることができる。
As described above, the same effects as in the third embodiment can be obtained by performing the extension / contraction operation of the fingers 31 by the positioning mechanism such as the substrate transfer robot 60.

【0130】なお、本実施形態では、基板搬送装置を構
成する基板搬送ロボット60を用いたが、基板搬送装置
とは別に設けられた他の駆動機構、例えば、基板を処理
するステージなどの駆動機構を用いて、フィンガ31の
伸縮動作を行なうことでも、同様な効果を得ることがで
きる。
In this embodiment, the substrate transfer robot 60 constituting the substrate transfer device is used. However, another drive mechanism provided separately from the substrate transfer device, for example, a drive mechanism such as a stage for processing a substrate. The same effect can be obtained by performing the extension / contraction operation of the finger 31 by using.

【0131】なお、本発明は上記実施形態に限定される
ものではない。例えば、第1、第2の実施形態の基板保
持装置において、第3、第4の実施形態のフィンガの伸
縮機構に相当するアームの駆動機構を独立にしても良
い。その他、本発明の技術的範囲で、種々変形して実施
できる。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the substrate holding devices of the first and second embodiments, the arm driving mechanism corresponding to the finger extension and contraction mechanism of the third and fourth embodiments may be independent. In addition, various modifications can be made within the technical scope of the present invention.

【0132】[0132]

【発明の効果】以上述べたように、本発明(請求項1〜
請求項5)によれば、可動な支持部を有するアームとし
て屈曲部を有するものを用い、さらにこの屈曲部に位置
変位手段を設けないようにすることにより、装置の大型
化を招くことなく、深いステージに適合できる基板搬送
装置を実現できるようになる。
As described above, the present invention (Claims 1 to 5)
According to claim 5), by using an arm having a bent portion as an arm having a movable support portion, and by not providing a position displacement means at the bent portion, the device is not increased in size. A substrate transfer device that can be adapted to a deep stage can be realized.

【0133】また、本発明(請求項6〜請求項8)によ
れば、基板保持手段の長さを変える変長手段が、基板保
持手段から切り離すことができるので、小型な基板搬送
装置を実現できるようになる。
Further, according to the present invention (claims 6 to 8), since the length changing means for changing the length of the substrate holding means can be separated from the substrate holding means, a small-sized substrate transfer device is realized. become able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る基板保持装置を
示す側面図
FIG. 1 is a side view showing a substrate holding device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の基板保持装置の矢視A−A´断面図FIG. 2 is a cross-sectional view of the substrate holding device of FIG.

【図3】図1の基板保持装置のアーム部分を示す斜視図FIG. 3 is a perspective view showing an arm portion of the substrate holding device of FIG. 1;

【図4】図1の基板保持装置とステージとの位置関係を
示す図
FIG. 4 is a diagram showing a positional relationship between the substrate holding device and the stage in FIG. 1;

【図5】本発明の第2の実施形態に係る基板保持装置の
アーム部分を示す斜視図
FIG. 5 is a perspective view showing an arm portion of a substrate holding device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本実施形態の基板保持装置を示す側面図FIG. 6 is a side view showing the substrate holding device of the present embodiment.

【図7】図6の基板保持装置の矢示A−A´断面図7 is a cross-sectional view of the substrate holding device shown in FIG.

【図8】図6の基板保持装置とステージとの位置関係を
示す図
FIG. 8 is a diagram showing a positional relationship between the substrate holding device and the stage in FIG. 6;

【図9】第2の実施形態の変形例に係る基板保持部を示
す斜視図
FIG. 9 is a perspective view showing a substrate holding unit according to a modification of the second embodiment.

【図10】第2の実施形態の他の変形例に係る基板保持
部を示す斜視図
FIG. 10 is a perspective view showing a substrate holding unit according to another modification of the second embodiment.

【図11】第2の実施形態のさらに別の変形例に係る基
板保持部を示す斜視図
FIG. 11 is a perspective view showing a substrate holding unit according to still another modification of the second embodiment.

【図12】本発明の第3の実施形態に係る外形寸法の異
なる基板の保持が可能な基板保持装置およびフィンガ伸
縮装置を示す斜視図
FIG. 12 is a perspective view showing a substrate holding device and a finger extension / contraction device capable of holding substrates having different external dimensions according to a third embodiment of the present invention.

【図13】図12の基板保持装置およびフィンガ伸縮装
置の平面図
FIG. 13 is a plan view of the substrate holding device and the finger extension / contraction device of FIG.

【図14】図13の基板保持機構およびフィンガ伸縮機
構の矢視A−A断面図
FIG. 14 is a cross-sectional view of the substrate holding mechanism and the finger extending / contracting mechanism shown in FIG.

【図15】本発明の第4の実施形態に係る外形寸法の異
なる基板の保持が可能な基板搬送装置を示す模式図
FIG. 15 is a schematic view showing a substrate transfer apparatus according to a fourth embodiment of the present invention, which can hold substrates having different external dimensions.

【図16】従来の基板保持装置の側面図FIG. 16 is a side view of a conventional substrate holding device.

【図17】図16の基板保持装置を矢視A−A´断面図17 is a cross-sectional view of the substrate holding device of FIG.

【図18】図16の基板保持装置とステージとの位置関
係を示す図
FIG. 18 is a diagram showing a positional relationship between the substrate holding device and the stage in FIG.

【図19】従来の他の基板保持装置の側面図FIG. 19 is a side view of another conventional substrate holding device.

【図20】図19の基板保持装置を矢視A−A´断面図20 is a sectional view of the substrate holding device shown in FIG.

【図21】図19の基板保持装置とステージとの位置関
係を示す図
FIG. 21 is a diagram showing a positional relationship between the substrate holding device of FIG. 19 and a stage.

【図22】従来の外形寸法の異なる基板の保持が可能な
基板保持装置の平面図
FIG. 22 is a plan view of a conventional substrate holding device capable of holding substrates having different external dimensions.

【図23】図22の基板保持装置の矢視A−A´断面図23 is a sectional view of the substrate holding device shown in FIG.

【図24】従来の他の外形寸法の異なる基板の保持が可
能な基板保持装置の平面図
FIG. 24 is a plan view of another conventional substrate holding device capable of holding substrates having different external dimensions.

【図25】図24の基板保持装置の矢視A−A´断面図25 is a cross-sectional view of the substrate holding device of FIG. 24, taken along the line AA '.

【図26】外形寸法の異なる基板を保持可能な搬送装置
(搬送ロボット)の平面図
FIG. 26 is a plan view of a transfer device (transfer robot) capable of holding substrates having different external dimensions.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ベース 2…移動機構(アーム移動手段) 2a…可動部 3…移動機構(アーム移動手段) 3a…可動部 4…回転駆動機構(位置変位手段本体) 4a…出力軸 5…第1のアーム 6…第2のアーム 7…爪(第1の支持部) 7a…台座部 7b…側面部 8…可動爪(第2の支持部) 8a…台座部 8b…側面部 9…基板 10…マガジン 11…基板 12…ステージ 13…台座 14…移動機構 14a…可動部 15…移動機構 15a…可動部 16…位置決め機構 17…機構部 18…基板保持部 19…リンク 20…駆動アーム 21…可動爪 22…リンク 23…ナット 24…ネジ軸 25…爪 31…フィンガ 32…ガイドフィンガ 33…フィンガストッパ 34…ベース 35…位置決め機構 36…座標軸 37…基板受 38…基板保持装置 39…フィンガ伸縮装置 40…吸着連結機構(状態設定手段) 41…フレキシブルジョイント 42…ガイド 43…ガイドレール 44…ブラケット 45…ナット 46…ネジ 47…軸受 48…軸受 49…モータ 50…解除機構 51…ブロック 52…ベース 60…基板搬送ロボット(搬送手段) 61…テーブル 62…架台 63…エレベータ 64…ロボット本体 65…第1アーム 66…第2アーム 67…ベース 68…案内機構 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base 2 ... Moving mechanism (arm moving means) 2a ... Movable part 3 ... Moving mechanism (arm moving means) 3a ... Movable part 4 ... Rotation drive mechanism (position displacement means main body) 4a ... Output shaft 5 ... 1st arm Reference Signs List 6: second arm 7: claw (first support portion) 7a: pedestal portion 7b: side surface portion 8: movable claw (second support portion) 8a: pedestal portion 8b: side surface portion 9: substrate 10: magazine 11 ... Substrate 12 ... Stage 13 ... Pedestal 14 ... Movement mechanism 14a ... Movable part 15 ... Movement mechanism 15a ... Moveable part 16 ... Positioning mechanism 17 ... Mechanism part 18 ... Substrate holding part 19 ... Link 20 ... Drive arm 21 ... Moveable claw 22 ... Link 23 Nut 24 Screw axis 25 Claw 31 Finger 32 Guide finger 33 Finger stopper 34 Base 35 Positioning mechanism 36 Coordinate axis 37 Board receiver 38 Board holding device 39: Finger expansion / contraction device 40: Suction coupling mechanism (state setting means) 41: Flexible joint 42: Guide 43: Guide rail 44: Bracket 45: Nut 46: Screw 47: Bearing 48: Bearing 49: Motor 50: Release mechanism 51: Block 52: Base 60: Substrate transfer robot (transfer means) 61: Table 62: Stand 63: Elevator 64: Robot body 65: First arm 66: Second arm 67: Base 68: Guide mechanism

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】先端に基板を支持する第1の支持部が設け
られた可動な第1のアームと、 先端に前記第1の支持部とともに基板を支持する第2の
支持部が設けられ、かつ屈曲部を有する可動な第2のア
ームと、 前記第1および第2のアームを移動させるアーム移動手
段と、 前記第2のアームに対する前記第2の支持部の相対位置
を変える位置変位手段本体を有し、この位置変位手段本
体が前記屈曲部に対して前記第2の支持部側に設けられ
てなる位置変位手段と具備してなることを特徴とする基
板保持装置。
1. A movable first arm having a first support for supporting a substrate at a tip thereof, and a second support for supporting a substrate together with the first support at a tip, A movable second arm having a bent portion; an arm moving device for moving the first and second arms; and a position displacement device main body for changing a relative position of the second support portion with respect to the second arm. Wherein the main body of position displacement means comprises position displacement means provided on the side of the second support portion with respect to the bent portion.
【請求項2】前記位置変位手段本体が、前記第2のアー
ム内に設けられ、軸方向が前記第2のアームの長手方向
である回転軸を中心にして、前記第2のアーム支持部を
前記第2の支持部の前記先端で回転させるものであるこ
とを特徴とする請求項1に記載の基板保持装置。
2. The position displacement means main body is provided in the second arm, and the second arm support portion is provided around a rotation axis whose axial direction is the longitudinal direction of the second arm. 2. The substrate holding device according to claim 1, wherein the substrate is rotated by the tip of the second support.
【請求項3】前記位置変位手段本体は、前記第2のアー
ム外に設けられ、前記第2のアームの直線運動を円運動
に変換して、軸方向が前記第2のアームの長手方向であ
る回転軸を中心にして、前記第2のアーム支持部を前記
第2の支持部の前記先端で回転させるものであることを
特徴とする請求項1に記載の基板保持装置。
3. The position displacing means main body is provided outside the second arm, converts a linear motion of the second arm into a circular motion, and sets an axial direction in a longitudinal direction of the second arm. 2. The substrate holding device according to claim 1, wherein the second arm support is rotated by the tip of the second support about a certain rotation axis.
【請求項4】前記位置変位手段本体は、前記第2の支持
部を含むリンク機構により構成されていることを特徴と
する請求項3に記載の基板保持装置。
4. The substrate holding device according to claim 3, wherein said position displacement means main body is constituted by a link mechanism including said second support portion.
【請求項5】前記位置変位手段本体は、ネジ溝を有する
軸部材とナット部材とにより構成されていることを特徴
とする請求項3に記載の基板保持装置。
5. The substrate holding device according to claim 3, wherein said position displacement means main body is constituted by a shaft member having a thread groove and a nut member.
【請求項6】長さが変えられる状態および長さが変えら
れない状態の一方の状態を選択的に取り得る基板保持手
段と、 前記基板保持手段をその長さが変えられる状態および長
さが変えられない状態の一方の状態に選択的に設定する
状態設定手段と、 前記基板保持手段の長さを変えれる状態のときに、前記
基板保持手段の長さを変え、かつ前記基板保持手段との
連結および切り離しが自在の変長手段と、 前記基板保持手段を搬送する搬送手段とを具備してなる
ことを特徴とする基板搬送装置。
6. A substrate holding means capable of selectively taking one of a state in which the length is changed and a state in which the length is not changed, and a state in which the length of the substrate holding means is changed and a state in which the length is changed. State setting means for selectively setting one of the unchangeable states; and, when the length of the substrate holding means can be changed, changing the length of the substrate holding means, and A substrate transport apparatus comprising: a length changing means capable of freely connecting and disconnecting the substrate; and a transport means for transporting the substrate holding means.
【請求項7】前記変長手段は、前記状態設定手段を兼ね
ることを特徴とする請求項6に記載の基板搬送装置。
7. The substrate transfer device according to claim 6, wherein said length changing means also serves as said state setting means.
【請求項8】前記搬送手段は、前記変長手段を兼ねるこ
とを特徴とする請求項6に記載の基板搬送装置。
8. The substrate transfer apparatus according to claim 6, wherein said transfer means also serves as said length changing means.
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