JPH10181180A - Method for forming ink layer on projecting pattern - Google Patents

Method for forming ink layer on projecting pattern

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JPH10181180A
JPH10181180A JP34133396A JP34133396A JPH10181180A JP H10181180 A JPH10181180 A JP H10181180A JP 34133396 A JP34133396 A JP 34133396A JP 34133396 A JP34133396 A JP 34133396A JP H10181180 A JPH10181180 A JP H10181180A
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JP
Japan
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ink layer
layer
electrode
acrylate
forming
Prior art date
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Pending
Application number
JP34133396A
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Japanese (ja)
Inventor
Yozo Kosaka
陽三 小坂
Kounosuke Tanaka
浩之介 田中
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming an ink layer on a projecting pattern by which it is possible to form a dielectric layer free from transfer omitting on a base including a projecting electrode pattern face, improve the yield, and form a layer on which the dielectric layer is formed with outstanding surface smoothness, uniform film thickness and high distribution accuracy, on a plasma display panel(PDP) or a multilayer electrode plate. SOLUTION: A transfer sheet S with at least, an ink layer 12 containing an inorganic particle of glass frit and a resin to be removed by firing, formed on a base film 11, is laminated on a base 14 with a striped projecting pattern 13 from the ink layer 12 side. When transferring the ink layer 12 to the surface of the base 14 with the projecting pattern 13, the transfer sheet S is laminated in a direction which is parallel with the stripe direction of the projecting pattern 13 to transfer the ink layer 12.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(以下、PDP)やフィールドエミッション
ディスプレイ(FED)、蛍光表示ディスプレイ、液晶
表示装置等のディスプレイ、あるいは多層プリント配線
板等におけるストライプ状電極層の如き凸状パターン上
に、誘電体層形成層や絶縁層をそれぞれ転写により形成
するのに適した凸状パターン上へのインキ層形成方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display such as a plasma display panel (hereinafter, PDP), a field emission display (FED), a fluorescent display, a liquid crystal display, and a striped electrode layer in a multilayer printed wiring board. The present invention relates to a method for forming an ink layer on a convex pattern suitable for forming a dielectric layer forming layer and an insulating layer on the convex pattern by transfer.

【0002】[0002]

【従来の技術】PDPや多層プリント配線板等において
は、一般に、絶縁性を高める観点、或いは駆動電圧を制
御する観点から誘電体層をその層構成中に有している。
PDPを例としてその構造を説明する。
2. Description of the Related Art In general, a PDP, a multilayer printed wiring board, and the like have a dielectric layer in a layer structure from the viewpoint of enhancing insulation properties or controlling a driving voltage.
The structure will be described using a PDP as an example.

【0003】図5にAC型PDPの一構成例を示す。こ
の図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、2
枚のガラス基板1、2が互いに平行に且つ対向して配設
されており、両者は背面板となるガラス基板2上に互い
に平行に設けられたセル障壁3により一定の間隔に保持
されている。前面板となるガラス基板1の背面側には、
放電維持電極である透明電極4とバス電極である金属電
極5とで構成される複合電極が互いに平行に形成され、
これを覆って誘電体層6が形成されており、さらにその
上に保護層(MgO層)が形成されている。また、背面
板となるガラス基板2の前面側には介して前記複合電極
と直交するようにセル障壁3の間に位置してアドレス電
極8が互いに平行に形成されており、さらにセル障壁3
の壁面とセル底面を覆うようにして蛍光面9が設けられ
ている。
FIG. 5 shows a configuration example of an AC type PDP. This figure shows the front panel and the rear panel separated from each other.
Glass substrates 1 and 2 are arranged in parallel and opposite to each other, and both are held at a fixed interval by a cell barrier 3 provided in parallel with each other on a glass substrate 2 serving as a back plate. . On the back side of the glass substrate 1 serving as the front plate,
A composite electrode composed of a transparent electrode 4 serving as a discharge sustaining electrode and a metal electrode 5 serving as a bus electrode is formed in parallel with each other,
A dielectric layer 6 is formed so as to cover this, and a protective layer (MgO layer) is further formed thereon. On the front side of the glass substrate 2 serving as a back plate, address electrodes 8 are formed between the cell barriers 3 so as to be orthogonal to the composite electrodes with the interposition therebetween, and are formed in parallel with each other.
The fluorescent screen 9 is provided so as to cover the wall surface and the bottom of the cell.

【0004】また、図6に示すように、背面板となるガ
ラス基板2に誘電体からなる下地層10を形成した後、
アドレス電極8を設け、更にその上に誘電体層6′を積
層した後、セル障壁3、蛍光体面9を設けた構造とした
ものもある。このAC型PDPは面放電型であって、前
面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、空間に漏れた
電界で放電させる構造である。この場合、交流をかけて
いるために電界の向きは周波数に対応して変化する。
[0006] As shown in FIG. 6, after a base layer 10 made of a dielectric is formed on a glass substrate 2 serving as a back plate,
There is also a structure in which an address electrode 8 is provided, a dielectric layer 6 'is further laminated thereon, and then a cell barrier 3 and a phosphor surface 9 are provided. The AC type PDP is of a surface discharge type, and has a structure in which an AC voltage is applied between composite electrodes on a front panel to discharge by an electric field leaking into a space. In this case, since the alternating current is applied, the direction of the electric field changes according to the frequency.

【0005】なお、DC型PDPにあっては、電極は誘
電体層で被覆されていない構造を有する点で相違する
が、その放電現象は同一である。そして、この放電によ
り生じる紫外線により蛍光体9を発光させ、前面板を透
過する光を観察者が視認できるものである。
The DC type PDP differs in that the electrodes have a structure that is not covered with a dielectric layer, but the discharge phenomenon is the same. Then, the phosphor 9 is caused to emit light by the ultraviolet rays generated by the discharge, and the light transmitted through the front plate can be visually recognized by an observer.

【0006】従来、このような層を形成するには、厚膜
ペーストを用いてスクリーン印刷により形成されている
が、膜厚分布が大きい、メッシュ目等の表面の凹凸が大
きい、更に量産性に劣るといった問題を有する。そのた
め、誘電体層形成層を剥離可能に積層した転写シートを
使用し、ストライプ状のアドレス電極やバス電極上に誘
電体層形成層を転写により形成することが試みられてい
る。
Conventionally, such a layer is formed by screen printing using a thick film paste. However, such a layer has a large film thickness distribution, large irregularities on the surface such as meshes, and a large productivity. There is a problem that it is inferior. Therefore, it has been attempted to form a dielectric layer forming layer on a stripe-shaped address electrode or bus electrode by transfer using a transfer sheet in which the dielectric layer forming layer is releasably laminated.

【0007】このような誘電体層形成層は、そのインキ
組成においてガラスフリット等の無機粒子を多量に含有
するものであるが、転写シートを使用して誘電体層形成
層を転写形成しようとすると、下地層と電極層の境界部
分において空泡を封じ込め、焼成により誘電体層とした
際に絶縁不良を生じるという問題がある。
[0007] Such a dielectric layer forming layer contains a large amount of inorganic particles such as glass frit in its ink composition. However, when a transfer sheet is used to transfer and form the dielectric layer forming layer, it is difficult to form the dielectric layer forming layer. In addition, there is a problem that air bubbles are sealed at the boundary between the underlayer and the electrode layer, and insulation failure occurs when the dielectric layer is formed by firing.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、PD
Pや多層電極板において、凸状電極パターン上も含め基
板上に転写抜けのない誘電体層を形成でき、歩留りを向
上させることができる凸状パターンへのインキ層形成方
法の提供にある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a PD
An object of the present invention is to provide a method for forming an ink layer on a convex pattern that can form a dielectric layer without transfer omission on a substrate including a convex electrode pattern on P and a multilayer electrode plate and can improve the yield.

【0009】また、本発明の目的は、誘電体層形成層の
表面平滑性に優れ、かつ膜厚が均一で分布精度の良好な
層形成を可能とする凸状パターンへのインキ層形成方法
の提供にある。
Another object of the present invention is to provide a method of forming an ink layer on a convex pattern which is excellent in surface smoothness of a dielectric layer forming layer, has a uniform film thickness, and enables formation of a layer with good distribution accuracy. On offer.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の凸状パターンへ
のインキ層形成方法は、ストライプ状の凸状パターンを
有する基板上に、ベースフイルム上に少なくもガラスフ
リットを有する無機粒子および焼成により除去される樹
脂とを含有するインキ層を有する転写シートをそのイン
キ層側からラミネートし、該インキ層を凸状パターンを
有する基板上に転写するに際して、前記転写シートを、
凸状パターンのストライプ方向と平行な方向にラミネー
トしてインキ層を転写することを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a method for forming an ink layer on a convex pattern, comprising the steps of: forming inorganic particles having at least glass frit on a base film on a substrate having a stripe-shaped convex pattern; Laminating a transfer sheet having an ink layer containing the resin to be removed from the ink layer side, when transferring the ink layer onto a substrate having a convex pattern, the transfer sheet,
The ink layer is transferred by laminating in a direction parallel to the stripe direction of the convex pattern.

【0011】また、本発明の凸状パターンへのインキ層
形成方法は、上記の凸状パターンがプラズマディスプレ
イパネルにおける電極パターンであり、また、インキ層
が誘電体層形成用インキ層であり、該インキ層が電極パ
ターンを有する基板上に転写されることを特徴とする。
In the method of forming an ink layer on a convex pattern according to the present invention, the convex pattern is an electrode pattern in a plasma display panel, and the ink layer is an ink layer for forming a dielectric layer. The ink layer is transferred onto a substrate having an electrode pattern.

【0012】また、本発明の凸状パターンへのインキ層
形成方法は、上記の基板が、ガラス基板上に下地層を介
して電極パターンを有するものであり、インキ層が電極
パターンを有する下地層上に転写されるものであること
を特徴とする。
Further, in the method of forming an ink layer on a convex pattern according to the present invention, the substrate has an electrode pattern on a glass substrate via an underlayer, and the ink layer has an electrode pattern. It is characterized by being transcribed on top.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】図1は、本発明において使用する
転写シートの断面図であり、図中、Sは転写シート、1
1はベースフイルム、12はインキ層である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a transfer sheet used in the present invention. In FIG.
1 is a base film, and 12 is an ink layer.

【0014】ベースフイルム11は、塗液における溶剤
に侵されず、また、溶剤の乾燥工程、転写工程での加熱
処理により収縮延伸しないことが必要である。例えばポ
リエチレンテレフタレート(以下、PET)、1,4−
ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、
ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリサルホン、アラミ
ド、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、セロハ
ン、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリエチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ナイロン、ポリイミド、アイオノ
マー等の各フイルム、シート、更にアルミニウム、銅等
の金属箔が例示され、膜厚4μm〜400μm、好まし
くは4.5μm〜200μmのものである。
It is necessary that the base film 11 is not affected by the solvent in the coating liquid and does not shrink and stretch due to heat treatment in the solvent drying step and the transfer step. For example, polyethylene terephthalate (hereinafter, PET), 1,4-
Polycyclohexylene dimethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide,
Examples include cellulose derivatives such as polystyrene, polypropylene, polysulfone, aramid, polycarbonate, polyvinyl alcohol, cellophane, and cellulose acetate; films and sheets such as polyethylene, polyvinyl chloride, nylon, polyimide, and ionomer; and metal foils such as aluminum and copper. The thickness is 4 μm to 400 μm, preferably 4.5 μm to 200 μm.

【0015】次に、インキ層12は、少なくともガラス
フリットを有する無機粒子と焼成により除去される樹脂
とからなる。
Next, the ink layer 12 is composed of inorganic particles having at least glass frit and a resin removed by firing.

【0016】ガラスフリットとしては、その軟化点が3
50℃〜650℃で、熱膨張係数α300 が60×10-7
/℃〜100×10-7/℃のものが挙げられる。ガラス
フリットの軟化点が650℃を越えると焼成温度を高く
する必要があり、その積層対象によっては熱変形したり
するので好ましくなく、また、350℃より低いと熱可
塑性樹脂等が分解、揮発する前にガラスフリットが融着
し、層中に空隙等の発生が生じるので好ましくない。ま
た、熱膨張係数が60×10-7/℃〜100×10-7
℃の範囲外であると、PDPの場合、ガラス基板の熱膨
張係数との差が大きく、歪み等を生じるので好ましくな
い。
The glass frit has a softening point of 3
At 50 ° C. to 650 ° C., the coefficient of thermal expansion α 300 is 60 × 10 −7
/ ° C to 100 × 10 -7 / ° C. If the softening point of the glass frit exceeds 650 ° C., it is necessary to raise the firing temperature, and depending on the lamination object, it is not preferable because it is thermally deformed. If it is lower than 350 ° C., the thermoplastic resin and the like are decomposed and volatilized. It is not preferable because the glass frit is fused before and a void or the like is generated in the layer. The thermal expansion coefficient is 60 × 10 −7 / ° C. to 100 × 10 −7 /
If the temperature is out of the range, the PDP is not preferable because the difference from the thermal expansion coefficient of the glass substrate is large, causing distortion and the like.

【0017】また、無機粒子として、ガラスフリットの
他に無機骨材、無機顔料をそれぞれ2種以上を混合して
使用してもよい。
As the inorganic particles, two or more types of inorganic aggregates and inorganic pigments may be used in addition to the glass frit.

【0018】無機骨材は、必要に応じて添加されるもの
であり、焼成に際しての流延防止、緻密性向上を目的と
し、ガラスフリットより軟化点が高いものである。例え
ば酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、
酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウ
ム、酸化バリウム、炭酸カルシウム等の各無機骨材が利
用できる。無機骨材の使用割合はガラスフリット100
重量部に対して0重量部〜30重量部とするとよい。
The inorganic aggregate is added as necessary, and has a softening point higher than that of glass frit for the purpose of preventing casting at the time of firing and improving denseness. For example, aluminum oxide, boron oxide, silica, titanium oxide,
Various inorganic aggregates such as magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, and calcium carbonate can be used. The proportion of inorganic aggregate used is 100 glass frit
The amount is preferably 0 to 30 parts by weight based on parts by weight.

【0019】また、無機顔料を添加してもよく、その場
合には、コントラストを向上するためには、一般的な黒
色顔料が、また、輝度向上のため白色顔料が用いられ
る。
In addition, an inorganic pigment may be added. In this case, a general black pigment is used for improving the contrast, and a white pigment is used for improving the luminance.

【0020】次に、焼成により除去される樹脂として
は、PDPや多層電極板作製に際して焼成除去されるも
のであり、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂等が使用される。
Next, as the resin to be removed by firing, a resin which is removed by firing at the time of producing a PDP or a multilayer electrode plate, such as a thermoplastic resin or a curable resin is used.

【0021】これらの樹脂は、無機粒子のバインダーと
して、また、転写性の向上を目的として含有させるもの
であり、熱可塑性樹脂としては、例えばメチルアクリレ
ート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エ
チルメタクリレート、n−プロピルアクリレート、n−
プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、
イソプロピルメタクリレート、sec−ブチルアクリレ
ート、sec−ブチルメタクリレート、イソブチルアク
リレート、イソブチルメタクリレート、tert−ブチ
ルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、n
−ペンチルアクリレート、n−ペンチルメタクリレー
ト、n−ヘキシルアクリレート、n−ヘキシルメタクリ
レート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチル
ヘキシルメタクリレート、n−オクチルアクリレート、
n−オクチルメタクリレート、n−デシルアクリレー
ト、n−デシルメタクリレート、ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキ
プロピルアクリレート、ヒドロキプロピルメタクリレー
ト、スチレン、α−メチルスチレン、N−ビニル−2−
ピロリドン等の1種以上からなるポリマーまたはコポリ
マー、エチルセルロース等のセルロース誘導体等が挙げ
られる。
These resins are contained as a binder for inorganic particles and for the purpose of improving transferability. Examples of thermoplastic resins include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, and n-methacrylate. Propyl acrylate, n-
Propyl methacrylate, isopropyl acrylate,
Isopropyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, n
-Pentyl acrylate, n-pentyl methacrylate, n-hexyl acrylate, n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-octyl acrylate,
n-octyl methacrylate, n-decyl acrylate, n-decyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, styrene, α-methylstyrene, N-vinyl-2-
Examples thereof include polymers or copolymers composed of one or more kinds such as pyrrolidone and cellulose derivatives such as ethyl cellulose.

【0022】特に、メチルアクリレート、メチルメタク
リレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタクリ
レート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタ
クリレート、sec−ブチルアクリレート、sec−ブ
チルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブ
チルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、
tert−ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルア
クリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロ
キプロピルアクリレート、ヒドロキプロピルメタクリレ
ート等の1種以上からなるポリマーまたはコポリマー、
エチルセルロースが好ましい。
In particular, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert -Butyl acrylate,
polymers or copolymers of one or more of tert-butyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, and the like;
Ethyl cellulose is preferred.

【0023】また、硬化性樹脂としては、硬化後、焼成
に際して分解・除去されるものであり、公知の電離放射
線硬化性樹脂や、熱硬化性樹脂を用いることができる。
電離放射線硬化性樹脂としては、紫外線或いは電子線硬
化性樹脂等が使用でき、分子中に重合性不飽和結合また
はエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び/
または単量体を適宜混合した組成物を用いることができ
る。プレポリマー、オリゴマーとしては、不飽和ジカル
ボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステ
ル類、エポキシ樹脂、ポリエステルメタクリレート、ポ
リエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート
等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、ポ
リエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート等の
アクリレート類が挙げられる。
The curable resin is one that is decomposed and removed during firing after curing, and a known ionizing radiation curable resin or a thermosetting resin can be used.
As the ionizing radiation curable resin, an ultraviolet ray or electron beam curable resin can be used, and a prepolymer, oligomer and / or a polymer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in a molecule can be used.
Alternatively, a composition in which monomers are appropriately mixed can be used. Examples of the prepolymer and oligomer include unsaturated polyesters such as a condensate of an unsaturated dicarboxylic acid and a polyhydric alcohol, methacrylates such as an epoxy resin, polyester methacrylate, polyether methacrylate, and polyol methacrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, and polyol. Acrylates such as acrylate are exemplified.

【0024】単量体としては、少なくとも1つの重合可
能な炭素−炭素不飽和結合を有する化合物が挙げられ
る。例えばアリルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレング
リコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニル
アクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、グリ
セロールアクリレート、グリシジルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデキシ
ルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリル
アクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メト
キシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチ
ルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレング
リコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアク
リレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、
1,5−ペンタンジオールジアクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジアクリレート、1,3−プロパンジオ
ールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオール
ジアクリレート、2,2−ジメチロールプロパンジアク
リレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレ
ングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポ
リオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジ
アクリレート、1,2,4−ブタントリオールトリアク
リレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタン
ジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、1,1
0−デカンジオールジメチルアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、及び上記のアクリレ
ート体をメタクリレート体に変えたもの、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニル−2−
ピロリドン等の1種または2種以上の混合物が挙げられ
る。
The monomer includes a compound having at least one polymerizable carbon-carbon unsaturated bond. For example, allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxyethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate,
Dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol acrylate, glycidyl acrylate, 2-
Hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isobonyl acrylate, isodexyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol Diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate,
1,5-pentanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,3-propanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 2,2-dimethylolpropane diacrylate, glycerol diacrylate, Tripropylene glycol diacrylate, glycerol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, polyoxyethylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyoxypropyl trimethylolpropane triacrylate , Butylene glycol diacrylate, 1,2,4-butanetriol triacrylate, 2,2 4-trimethyl-1,3-pentanediol diacrylate, diallyl fumarate, 1,1
0-decanediol dimethyl acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the above acrylate compound changed to a methacrylate compound, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-
One or a mixture of two or more such as pyrrolidone is mentioned.

【0025】特に、紫外線硬化型の場合には、前記組成
物に光開始剤として、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル
安息香酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミノ)ベン
ゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフ
ェノン、α−アミノアセトフェノン、4,4−ジクロロ
ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニ
ルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−
ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−
フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル
プロピオフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセ
トフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサント
ン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオ
キサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチ
ルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ア
ントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、
2−アミルアントラキノン、β−クロロアントラキノ
ン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロ
ン、メチレンアントロン、4−アジドベンジルアセトフ
ェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シク
ロヘキサン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)
−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2
−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシ
ム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキ
シカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパ
ントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシ
ム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−
2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2
−メチル−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モル
フォリノ−1−プロパン、ナフタレンスルホニルクロラ
イド、キノリンスルホニルクロライド、n−フェニルチ
オアクリドン、4,4−アゾビスイソブチロニトリル、
ジフェニルジスルフィド、ベンゾチアゾールジスルフィ
ド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭
素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾ
イル、エオシン、メチレンブルー等の光還元性の色素と
アスコルビン酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組
合せ等が挙げられ、また、これらの光開始剤の1種また
は2種以上を組み合わせて使用してもよい。
In particular, in the case of an ultraviolet curable type, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, and 4,4-bis (diethylamino) are used as photoinitiators in the composition. Benzophenone, α-aminoacetophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenylketone, dibenzylketone, fluorenone, 2,2-
Diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-
Phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethylketal, benzylmethoxyethylacetal , Benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone,
2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzsuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzylacetophenone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) cyclohexane, 2,6-bis (p-azidobenzylidene)
-4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2
-Butadione-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, -Phenyl-3-ethoxy-propanetrione-
2- (o-benzoyl) oxime, Michler's ketone, 2
-Methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane, naphthalenesulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, n-phenylthioacridone, 4,4-azobisisobutyronitrile,
Photoreducing dyes such as diphenyl disulfide, benzothiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, carbon tetrabromide, tribromophenyl sulfone, benzoyl peroxide, eosin, and methylene blue and reducing agents such as ascorbic acid and triethanolamine Combinations and the like can be mentioned, and one or more of these photoinitiators may be used in combination.

【0026】硬化性樹脂として、感光性樹脂を使用する
と、インキ層を電極パターンを有する基板上に転写後、
マスクを介してパターニングし誘電体層をパターニング
することができる。
When a photosensitive resin is used as the curable resin, the ink layer is transferred onto a substrate having an electrode pattern,
The dielectric layer can be patterned by patterning through a mask.

【0027】無機粒子と樹脂との使用割合は、無機粒子
100重量部に対して樹脂3重量部〜70重量部、好ま
しくは10重量部〜50重量部の割合からなる。インキ
層において、樹脂が3重量部より少ないと、インキ層の
保持性が低く、特に、巻き取った状態での保存性、取り
扱い性に問題を生じ、更に転写性が悪化し、また、70
重量部より多くなると、焼成後の膜中にカーボンが残
り、品質が低下するので好ましくない。
The use ratio of the inorganic particles to the resin is 3 to 70 parts by weight, preferably 10 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the inorganic particles. When the amount of the resin in the ink layer is less than 3 parts by weight, the holding property of the ink layer is low, and in particular, the storage property in the wound state and the handling property are problematic, and the transferability is further deteriorated.
If the amount is more than the weight part, carbon remains in the film after firing, and the quality is deteriorated.

【0028】また、インキ層には、必要に応じて可塑
剤、分散剤、沈降防止剤、消泡剤、剥離剤、レベリング
剤等が添加される。
Further, a plasticizer, a dispersant, an antisettling agent, an antifoaming agent, a release agent, a leveling agent and the like are added to the ink layer as required.

【0029】可塑剤は、転写性、インキの流動性を向上
させることを目的として添加され、例えばジメチルフタ
レート、ジブチルフタレート、ジ−n−オクチルフタレ
ート等のノルマルアルキルフタレート類、ジ−2−エチ
ルヘキシルフタレート、ジイソデシルフタレート、ブチ
ルベンジルフタレート、ジイソノニルフタレート、エチ
ルフタルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグ
リコレート等のフタル酸エステル類、トリ−2−エチル
ヘキシルトリメリテート、トリ−n−アルキルトリメリ
テート、トリイソノニルトリメリテート、トリイソデシ
ルトリメリテート等のトリメリット酸エステル、ジメチ
ルアジペート、ジブチルアジペート、ジー2−エチルヘ
キシルアジペート、ジイソデシルアジペート、ジブチル
ジグリコールアジペート、ジー2−エチルヘキシルアゼ
テート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジ
ー2−エチルヘキシルセバケート、ジー2−エチルヘキ
シルマレート、アセチル−トリ−(2−エチルヘキシ
ル)シトレート、アセチル−トリ−n−ブチルシトレー
ト、アセチルトリブチルシトレート等の脂肪族二塩基酸
エステル類、ポリエチレングリコールベンゾエート、ト
リエチレングリコール−ジ−(2−エチルヘキソエー
ト)、ポリグリコールエーテル等のグリコール誘導体、
グリセロールトリアセテート、グリセロールジアセチル
モノラウレート等のグリセリン誘導体、セバシン酸、ア
ジピン酸、アゼライン酸、フタル酸などからなるポリエ
ステル系、分子量300〜3,000の低分子量ポリエ
ーテル、同低分子量ポリ−α−スチレン、同低分子量ポ
リスチレン、トリメチルホスフェート、トリエチルホス
フェート、トリブチルホスフェート、トリ−2−エチル
ヘキシルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェー
ト、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェ
ート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニ
ルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、
2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート等の正リン
酸エステル類、メチルアセチルリシノレート等のリシノ
ール酸エステル類、ポリ−1,3−ブタンジオールアジ
ペート、エポキシ化大豆油等のポリエステル・エポキシ
化エステル類、グリセリントリアセテート、2−エチル
ヘキシルアセテート等の酢酸エステル類が例示される。
The plasticizer is added for the purpose of improving the transferability and the fluidity of the ink. For example, normal alkyl phthalates such as dimethyl phthalate, dibutyl phthalate and di-n-octyl phthalate, and di-2-ethylhexyl phthalate Phthalic acid esters such as diisodecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisononyl phthalate, ethyl phthalethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, tri-2-ethylhexyl trimellitate, tri-n-alkyl trimellitate, triiso Trimellitate esters such as nonyl trimellitate and triisodecyl trimellitate, dimethyl adipate, dibutyl adipate, di-2-ethylhexyl adipate, diisodecyl adipate, dibutyl diglycol adipate , Di-2-ethylhexyl acetate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, di-2-ethylhexyl sebacate, di-2-ethylhexyl malate, acetyl-tri- (2-ethylhexyl) citrate, acetyl-tri-n-butyl Aliphatic dibasic acid esters such as citrate and acetyl tributyl citrate, glycol derivatives such as polyethylene glycol benzoate, triethylene glycol di- (2-ethylhexoate) and polyglycol ether;
Glycerol derivatives such as glycerol triacetate and glycerol diacetyl monolaurate; polyesters composed of sebacic acid, adipic acid, azelaic acid, phthalic acid, etc .; low molecular weight polyethers having a molecular weight of 300 to 3,000; low molecular weight poly-α-styrene , The same low molecular weight polystyrene, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, tri-2-ethylhexyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylendiphenyl Phosphate,
Orthophosphates such as 2-ethylhexyldiphenyl phosphate, ricinoleates such as methylacetyl ricinoleate, poly-1,3-butanediol adipate, polyester epoxidized esters such as epoxidized soybean oil, glycerin triacetate, Acetates such as 2-ethylhexyl acetate are exemplified.

【0030】分散剤、沈降防止剤としては、無機粒子の
分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであり、例
えば燐酸エステル系、シリコーン系、ひまし油エステル
系、各種界面滑性剤等が例示され、消泡剤としては、例
えばシリコーン系、アクリル系、各種界面滑性剤等が例
示され、剥離剤としては、例えばシリコーン系、フッ素
油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸エステル系、ひ
まし油系、ワックス系、コンパウンドタイプが例示さ
れ、レベリング剤としては、例えばフッ素系、シリコー
ン系、各種界面滑性剤等が例示され、それぞれ、適宜量
添加される。
The dispersant and the anti-settling agent are intended to improve the dispersibility and anti-settling property of the inorganic particles. Examples of the dispersant include a phosphate ester type, a silicone type, a castor oil ester type, and various interfacial lubricants. Examples of the defoaming agent include, for example, silicone type, acrylic type, various interfacial lubricating agents, etc., and examples of the release agent include silicone type, fluorine oil type, paraffin type, fatty acid type, fatty acid ester type, castor oil. Examples include a system, a wax, and a compound type, and examples of the leveling agent include a fluorine-based, silicone-based, and various interfacial lubricating agents, each of which is added in an appropriate amount.

【0031】上記の形成用材料は、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケト
ン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン等のアノン
類、塩化メチレン、3−メトキシブチルアセテート、エ
チレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレング
リコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレング
リコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコー
ルモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリ
コールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコール
モノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリ
コールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコー
ルモノアルキルエーテルアセテート類、α−若しくはβ
−テルピオネール等のテルペン類に溶解、または分散さ
せ、ベースフイルム上にダイコート、ブレードコート、
コンマコート、ロールコート、グラビアリバースコート
法、グラビアダイレクト法、スリットリバース法等によ
り塗布し、乾燥させ、所定の膜厚とされる。
The above-mentioned materials for the formation include anions such as methanol, ethanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, cyclohexanone, methylene chloride, 3-methoxybutyl acetate, ethylene glycol monoalkyl ethers, ethylene glycol alkyl ether. Acetates, diethylene glycol monoalkyl ethers, diethylene glycol monoalkyl ether acetates, propylene glycol monoalkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ether acetates, dipropylene glycol monoalkyl ethers, dipropylene glycol monoalkyl ether acetates, α- Or β
-Dissolve or disperse in terpenes such as terpionaire, and die-coat, blade-coat,
It is applied by a comma coat, a roll coat, a gravure reverse coat method, a gravure direct method, a slit reverse method, or the like, and dried to have a predetermined film thickness.

【0032】転写シートにおいては、インキ層12上に
は保護フイルムが必要に応じて積層されてもよく、ま
た、保護フイルムはインキ層12上に必要に応じて接着
層を介して積層されてもよい。また、転写性を向上させ
ることを目的として、インキ層12をベースフイルム1
1に必要に応じて剥離層を介して積層してもよく、更
に、ベースフイルム11におけるインキ層12を設けた
面とは反対側の面に必要に応じて耐熱層が設けられても
よい。また、転写シートは枚葉状でもよく、ロール状と
してもよい。
In the transfer sheet, a protective film may be laminated on the ink layer 12 as necessary, and the protective film may be laminated on the ink layer 12 via an adhesive layer as necessary. Good. Further, for the purpose of improving transferability, the ink layer 12 is coated with the base film 1.
1 may be laminated via a release layer as needed, and a heat-resistant layer may be provided as necessary on the surface of the base film 11 opposite to the surface on which the ink layer 12 is provided. Further, the transfer sheet may have a sheet shape or a roll shape.

【0033】次に、本発明の凸状パターンへのインキ層
転写方法を、PDPパネル基板上に、上記で作成した転
写シートを使用して誘電体層形成層を転写形成する方法
を例として説明する。
Next, the method of transferring an ink layer to a convex pattern according to the present invention will be described by taking as an example a method of transferring and forming a dielectric layer forming layer on a PDP panel substrate using the transfer sheet prepared above. I do.

【0034】図2(a)は、電極パターンを有するPD
P基板平面図であり、また、同図(b)は、同図(a)
のXY方向での断面図であり、図中、Kは電極パターン
を有するPDP基板、13は電極層、14はPDPパネ
ルにおけるガラス基板である。また、図中の矢印方向は
転写シートのラミネート方向を示す。
FIG. 2A shows a PD having an electrode pattern.
FIG. 3B is a plan view of a P substrate, and FIG.
3 is a cross-sectional view in the XY directions of the PDP panel, in which K is a PDP substrate having an electrode pattern, 13 is an electrode layer, and 14 is a glass substrate in a PDP panel. The arrow direction in the drawing indicates the lamination direction of the transfer sheet.

【0035】図2(a)(b)に図示するPDPパネル
は、本発明におけるインキ層の被転写体であり、ガラス
基板14上に電極層13が積層されている。
The PDP panel shown in FIGS. 2A and 2B is a transfer member of the ink layer in the present invention, and has an electrode layer 13 laminated on a glass substrate 14.

【0036】電極層は、少なくともガラスフリットから
なる無機粒子、焼成により除去される樹脂、導電性粒子
とからなるインキを使用し、パターン状にスクリーン印
刷、凹版オフセット印刷によりパターン状に形成しても
よく、また、感光性電極ペーストを使用し、スクリーン
印刷、ダイコート等によってベタ塗布した後、電極パタ
ーン状に露光、現像して形成してもよい。
The electrode layer may be formed by screen printing or intaglio offset printing using an ink composed of at least inorganic particles made of glass frit, a resin removed by firing, and conductive particles. Alternatively, a photosensitive electrode paste may be used, and may be formed by solid printing by screen printing, die coating, or the like, and then exposing and developing into an electrode pattern.

【0037】また、感光性電極ペーストを上述したと同
様のベースフイルム上に層形成して転写シートとし、ガ
ラス基板上に電極形成層を転写し、電極パターン状に露
光した後、現像して形成してもよい。現像に際してはウ
エット処理による現像または剥離現像等が挙げられる。
また、ベースフイルム上にパターン状に電極形成層を形
成した転写シートを使用して、パターン状の電極形成層
をガラス基板上に転写形成してもよい。
Further, a photosensitive electrode paste is formed on the same base film as described above to form a layer to form a transfer sheet. The electrode forming layer is transferred onto a glass substrate, exposed to an electrode pattern, developed, and developed. May be. At the time of development, development by wet processing or peeling development may be mentioned.
Alternatively, a patterned electrode forming layer may be transferred and formed on a glass substrate using a transfer sheet in which an electrode forming layer is formed in a pattern on a base film.

【0038】本発明の凸状パターンへのインキ層形成方
法においては、電極形成層を焼成して電極層とした後に
適用されてもよく、また、凸状の電極形成層上に適用し
て焼成し、電極層、誘電体層を同時に形成してもよい。
In the method of forming an ink layer on a convex pattern according to the present invention, the method may be applied after firing the electrode forming layer to form the electrode layer, or may be applied on the convex electrode forming layer and fired. Then, the electrode layer and the dielectric layer may be formed simultaneously.

【0039】また、電極層としては、ガラス基板上に電
極材料を直接、蒸着やスパッタ法等により形成した薄膜
電極であってもよい。
The electrode layer may be a thin-film electrode formed by directly depositing an electrode material on a glass substrate by vapor deposition or sputtering.

【0040】図3は、本発明の凸状パターンへのインキ
層形成方法を説明するための図で、図中、Rは熱ラミネ
ーターであり、図1〜図2と同一符号は同一内容を示
す。
FIG. 3 is a view for explaining a method of forming an ink layer on a convex pattern according to the present invention. In the figure, R is a thermal laminator, and the same reference numerals as those in FIGS. .

【0041】本発明の凸状パターンへのインキ層形成方
法は、図3に示すように、ストライプ状の凸状パターン
を有する基板K上に、ベースフイルム上に少なくもガラ
スフリットを有する無機粒子および焼成により除去され
る樹脂とを含有するインキ層を有する転写シートSをそ
のインキ層12側からラミネートし、該インキ層12を
凸状パターンを有する基板S上に転写するに際して、前
記転写シートSを、図2(a)において矢印で示す方
向、即ち凸状パターン13のストライプ方向と平行な方
向に、熱ラミネーターRによりラミネートしてインキ層
12を転写するものである。図4は、インキ層12が転
写された状態を示す。
As shown in FIG. 3, the method for forming an ink layer on a convex pattern according to the present invention comprises the steps of: forming an inorganic particle having at least glass frit on a base film on a substrate K having a stripe-shaped convex pattern; When a transfer sheet S having an ink layer containing a resin to be removed by baking is laminated from the ink layer 12 side and the ink layer 12 is transferred onto the substrate S having a convex pattern, the transfer sheet S is 2A, the ink layer 12 is transferred by laminating with a thermal laminator R in the direction indicated by the arrow, that is, in the direction parallel to the stripe direction of the convex pattern 13. FIG. FIG. 4 shows a state where the ink layer 12 has been transferred.

【0042】インキ層12は、熱ラミネーターRにより
加熱軟化した状態で凸状電極パターン13上に転写され
るが、凸状電極パターン13のストライプ方向と平行な
方向にラミネートされるので、凸状電極パターンの長さ
方向における電極とガラス基板との界面に気泡を巻き込
むことなく、インキ層を転写することを可能とするもの
である。転写形成された誘電体層形成層は、焼成されて
誘電体層とされるが、転写抜けのない誘電体層を形成で
き、歩留りを向上させることができる。
The ink layer 12 is transferred onto the convex electrode pattern 13 while being heated and softened by the thermal laminator R. However, since the ink layer 12 is laminated in a direction parallel to the stripe direction of the convex electrode pattern 13, the convex electrode pattern is laminated. The ink layer can be transferred without entrapping air bubbles at the interface between the electrode and the glass substrate in the length direction of the pattern. The transferred dielectric layer forming layer is baked to form a dielectric layer. However, a dielectric layer without transfer omission can be formed, and the yield can be improved.

【0043】また、ガラス基板上に下地層を形成し、そ
の下地層上に電極を形成したものを基板とし、その基板
上に誘電体層形成層を電極ストライプと平行な方向に転
写して形成してもよい。
Further, an underlayer is formed on a glass substrate, and an electrode is formed on the underlayer as a substrate, and a dielectric layer forming layer is formed on the substrate by transferring it in a direction parallel to the electrode stripes. May be.

【0044】上記では電極層13を有するガラス基板上
に誘電体層形成層12を転写形成したが、ガラス基板上
に下地形成層、電極形成層を順次形成した後、本発明の
凸状パターンへのインキ層形成方法により誘電体層形成
層を被覆形成し、下地形成層、電極形成層、誘電体層形
成層を同時に焼成してもよく、PDPパネル部材を効率
よく作成することができる。
In the above description, the dielectric layer forming layer 12 was transferred and formed on the glass substrate having the electrode layer 13. However, after the base forming layer and the electrode forming layer were sequentially formed on the glass substrate, the projection pattern of the present invention was formed. The dielectric layer forming layer may be coated and formed by the ink layer forming method described above, and the base forming layer, the electrode forming layer, and the dielectric layer forming layer may be fired simultaneously, whereby a PDP panel member can be efficiently produced.

【0045】[0045]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明す
る。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.

【0046】(実施例) (下地形成層の形成) 組成 ・ガラスフリット{主成分;PbO、SiO2 、B2 3 (無アルカリ)} (ガラスフリットの軟化点570℃、Tg480℃、熱膨張係数α300 =83 ×10-7/℃、平均粒径1μm、粒径が20μm以上の粒子が5重量%) ・・・・ 65重量部 ・Al2 3 (平均粒径4μm、粒径が20μm以上の粒子が5重量%) ・・・・ 11重量部 ・CuO(平均粒径3μm、粒径が20μm以上の粒子が5重量%) ・・・・ 4重量部 ・ポリメチルメタクリレート ・・・・ 10重量部 ・ジブチルフタレート ・・・・ 10重量部 ・イソプロピルアルコール ・・・・ 15重量部 ・メチルエチルケトン ・・・・ 10重量部 をビーズミルを使用して混合分散処理した後、PETフ
イルム上にロールコート塗布し、100℃で乾燥し、膜
厚20±2μmのインキ層を形成した。形成されたイン
キ層表面は、平滑性に優れるものであった。そのインキ
層表面上にポリエチレンフイルムをラミネートし、転写
シートを作製した。
(Example) (Formation of Underlayer) Layer Composition: Glass frit (main component: PbO, SiO 2 , B 2 O 3 (alkali-free)) (Softening point of glass frit: 570 ° C., Tg: 480 ° C., thermal expansion) Coefficient α 300 = 83 × 10 −7 / ° C., average particle diameter 1 μm, 5% by weight of particles having a particle diameter of 20 μm or more) 65 parts by weight Al 2 O 3 (average particle diameter 4 μm, particle diameter 11 parts by weight CuO (3 μm average particle diameter, 5% by weight particles having a particle diameter of 20 μm or more) 4 parts by weight Polymethyl methacrylate・ 10 parts by weight ・ Dibutyl phthalate ・ ・ ・ ・ 10 parts by weight ・ Isopropyl alcohol ・ ・ ・ ・ 15 parts by weight ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ ・ 10 parts by weight using a bead mill, mix and disperse the mixture, and then put on PET film. And Rukoto coated, dried at 100 ° C., to form an ink layer having a thickness of 20 ± 2 [mu] m. The surface of the formed ink layer was excellent in smoothness. A polyethylene film was laminated on the surface of the ink layer to prepare a transfer sheet.

【0047】ポリエチレンフイルムを剥離し、オートカ
ットラミネーター(旭化成(株)製、型式ACL−91
00)を使用し、基板プレヒート温度60℃、ラミロー
ル温度100℃の転写条件で、ガラス基板上にラミネー
トし、下地形成層を形成した。
The polyethylene film was peeled off, and an auto cut laminator (Model ACL-91, manufactured by Asahi Kasei Corporation)
00), the substrate was pre-heated at a temperature of 60 ° C. and the temperature of the ramirole was transferred at 100 ° C. to form a base layer on a glass substrate.

【0048】(電極形成層の形成) 下記組成 ・感光性樹脂(下記組成) ・・・・ 20重量部 ・銀粉(平均粒径1μm、粒径が15μm以上の粒子が5重量%) ・・・・ 70重量部 ・ガラスフリット{主成分;Bi2 3 、SiO2 、B2 3 (無アルカリ)平 均粒径1μm、粒径が15μm以上の粒子が1重量%、軟化点600℃} ・・・・ 5重量部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテル ・・・・ 20重量部 (感光性樹脂内訳 ・アルカリ現像型バインダーポリマー(メチルメタクリレート/メタク リル酸共重合体にグリシジルアクリレートを7mol%添加したもの 、酸価100mgKOH/g) ・・ 100重量部 ・ポリオキシエチル化トリメチロープロパントリアクリレート ・・・ 60重量部 ・光開始剤(チバガイギー社製「イルガキュア369」) ・・・ 5重量部) の電極形成層形成用塗布液を、PETフイルム上にスリ
ットリバースコート法により塗布し、乾燥膜厚15μm
の電極形成層を有する電極形成用転写シートを作製し
た。
(Formation of Electrode Forming Layer) The following composition: photosensitive resin (the following composition): 20 parts by weight; silver powder (average particle diameter: 1 μm, 5% by weight of particles having a particle diameter of 15 μm or more) 70 weight parts Glass frit (main component: Bi 2 O 3 , SiO 2 , B 2 O 3 (non-alkali) Average particle size 1 μm, 1% by weight of particles having a particle size of 15 μm or more, softening point 600 ° C.) ··· 5 parts by weight · Propylene glycol monomethyl ether · · · 20 parts by weight (Breakdown of photosensitive resin · Alkaline developable binder polymer (methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer with 7 mol% of glycidyl acrylate added, 100 mg KOH / g) 100 parts by weight Polyoxyethylated trimethylopropane triacrylate 60 parts by weight Photoinitiator (Ciba-Geigy) The company made "Irgacure 369") 5 parts by weight) of the electrode forming layer coating solution was applied by a slit reverse coating on a PET film, a dry film thickness of 15μm
An electrode-forming transfer sheet having the electrode-forming layer was prepared.

【0049】次いで、上記で得た下地形成層上に、この
電極形成用転写シートを電極形成層側から90℃の熱ロ
ールを使用してラミネートした。PETフイルム上から
PDPのアドレス電極のネガパターンマスクを介して紫
外線を100mJ/cm2 照射した後、PETフイルム
を剥離し、0.5%炭酸ナトリウム水溶液現像液を使用
して、未露光部を剥離、現像し、電極形成層を形成し
た。
Next, the transfer sheet for electrode formation was laminated on the underlayer formation layer obtained above using a hot roll at 90 ° C. from the electrode formation layer side. After irradiating 100 mJ / cm 2 of ultraviolet light from above the PET film through the negative pattern mask of the address electrode of the PDP, the PET film is peeled off, and the unexposed part is peeled off using a 0.5% aqueous solution of sodium carbonate aqueous solution. And developing to form an electrode forming layer.

【0050】得られた基板全体を600℃で焼成し、膜
厚9μmの下地層と膜厚6μm、幅70μmのストライ
プ状のアドレス電極パターンを形成した。
The entire substrate obtained was fired at 600 ° C. to form a 9 μm-thick underlayer and a 6 μm-thick, 70 μm-wide striped address electrode pattern.

【0051】(凸状パターンへのインキ層形成方法) 組成 ・ガラスフリット{主成分;Bi2 3 、ZnO2 、B2 3 (無アルカリ) 平均粒径3μm、粒径が20μm以上の粒子が5重量%} ・・・・ 70重量部 ・TiO2 (平均粒径4μm、粒径が20μm以上の粒子が5重量%) ・・・・ 3重量部 ・Al2 3 (平均粒径4μm、粒径が20μm以上の粒子が5重量%) ・・・・ 7重量部 (上記の無機粒子混合体の軟化点570℃、Tg485℃、熱膨張係数α300 =80×10-7/℃) ・n−ブチルメタクリレート/ヒドロキシエチルヘキシルメタクリレート共重合 体(8/2) ・・・・ 10重量部 ・ベンジルブチルフタレート ・・・・ 7重量部 ・イソプロピルアルコール ・・・・ 15重量部 ・メチルエチルケトン ・・・・ 5重量部 をビーズミルを使用して混合分散処理した後、PETフ
イルム上にコンマコート塗布し、100℃で乾燥し、膜
厚20±2μmのインキ層を形成し、ポリエチレンフイ
ルムを積層した。
(Method of Forming Ink Layer on Convex Pattern) Composition Glass frit Main component: Bi 2 O 3 , ZnO 2 , B 2 O 3 (alkali-free) Particles having an average particle size of 3 μm and a particle size of 20 μm or more 70% by weight TiO 2 (4 μm average particle diameter, 5% by weight of particles having a particle diameter of 20 μm or more) 3 parts by weight Al 2 O 3 (4 μm average particle diameter) 7% by weight (softening point of the above-mentioned mixture of inorganic particles: 570 ° C, Tg: 485 ° C, coefficient of thermal expansion α 300 = 80 × 10 -7 / ° C)・ N-butyl methacrylate / hydroxyethylhexyl methacrylate copolymer (8/2) 10 parts by weight ・ benzyl butyl phthalate 7 parts by weight ・ isopropyl alcohol 15 parts by weight ・ methyl ethyl ketone After mixing and dispersing 5 parts by weight using a bead mill, a comma coat was applied on a PET film, dried at 100 ° C. to form an ink layer having a thickness of 20 ± 2 μm, and a polyethylene film was laminated.

【0052】次いで、ポリエチレンフイルムを剥離し、
オートカットラミネーター(旭化成(株)製、型式AC
L−9100)を使用し、基板プレヒート温度80℃、
ラミロール温度100℃の転写条件で、上記で作成した
PDP基板上に、図2(a)に示す矢印方向に、図3に
示すようにラミネートし、図4に示す如く誘電体層形成
層12を転写した。
Next, the polyethylene film is peeled off,
Auto cut laminator (Asahi Kasei Corporation, Model AC
L-9100) using a substrate preheat temperature of 80 ° C.
Under the transfer conditions of a lami roll temperature of 100 ° C., the above-prepared PDP substrate was laminated as shown in FIG. 3 in the direction of the arrow shown in FIG. 2A, and the dielectric layer forming layer 12 was formed as shown in FIG. Transcribed.

【0053】次に、ピーク温度570℃で焼成し、焼成
後の膜厚は10±1μmの誘電体層を得た。抜けがな
く、均一な誘電体層が形成できた。
Next, firing was performed at a peak temperature of 570 ° C. to obtain a dielectric layer having a thickness of 10 ± 1 μm after firing. There was no omission and a uniform dielectric layer was formed.

【0054】(比較例)上記の実施例において、誘電体
層形成用転写シートのラミネート方向を、図2(a)に
おける矢印方向とは直交する方向に変更して、ラミネー
トし、誘電体層形成層を同様に転写形成した。転写後の
外観には、気泡混入によるムラが現れた。
(Comparative Example) In the above embodiment, the laminating direction of the transfer sheet for forming a dielectric layer was changed to a direction orthogonal to the direction of the arrow in FIG. The layers were similarly transferred. The appearance after transfer showed unevenness due to the inclusion of bubbles.

【0055】実施例と同様にピーク温度570℃で焼成
したところ、焼成後の膜厚は5〜10μmとなり、焼成
後の外観にもムラが残った。
When the film was fired at a peak temperature of 570 ° C. in the same manner as in the example, the film thickness after firing was 5 to 10 μm, and the appearance after firing remained uneven.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明の凸状パターンへのインキ層形成
方法は、凸状電極パターン上も含め基板上に転写抜けの
ない誘電体層を形成でき、歩留りを向上できると共に、
作製時間を短縮でき、また、転写により形成される誘電
体層表面は、ベースフイルムの表面に対応したものであ
るので表面平滑性に優れ、かつ膜厚が均一で分布精度の
良好なものとできる。
According to the method for forming an ink layer on a convex pattern of the present invention, a dielectric layer without transfer omission can be formed on a substrate including a convex electrode pattern, and the yield can be improved.
The production time can be shortened, and the surface of the dielectric layer formed by transfer corresponds to the surface of the base film, so that the surface is excellent in surface smoothness, the film thickness is uniform, and the distribution accuracy can be excellent. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明で使用する転写シートをその断面図で
説明するための図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining a transfer sheet used in the present invention in a sectional view thereof.

【図2】 凸状電極パターンを有する基板を説明するた
めの図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a substrate having a convex electrode pattern.

【図3】 本発明の凸状パターンへのインキ層形成方法
を説明するための図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a method for forming an ink layer on a convex pattern according to the present invention.

【図4】 凸状パターンへインキ層を積層した状態を説
明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a state in which an ink layer is laminated on a convex pattern.

【図5】 AC型プラズマディスプレイパネルを説明す
るための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining an AC type plasma display panel.

【図6】 AC型プラズマディスプレイパネルの他の例
を説明するための図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining another example of the AC type plasma display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1は前面板、2は背面板、3はセル障壁、4は維持電
極、5はバス電極、6、6′は誘電体層、7はMgO
層、8はアドレス電極、9は蛍光体層、10は下地層、
Sは転写シート、Kは電極パターンを有するPDP基
板、11はベースフイルム、12はインキ層、13は電
極層、14はPDPパネルにおけるガラス基板である。
1 is a front plate, 2 is a back plate, 3 is a cell barrier, 4 is a sustain electrode, 5 is a bus electrode, 6, 6 'are dielectric layers, and 7 is MgO.
Layer, 8 an address electrode, 9 a phosphor layer, 10 an underlayer,
S is a transfer sheet, K is a PDP substrate having an electrode pattern, 11 is a base film, 12 is an ink layer, 13 is an electrode layer, and 14 is a glass substrate in a PDP panel.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ストライプ状の凸状パターンを有する基
板上に、ベースフイルム上に少なくもガラスフリットを
有する無機粒子および焼成により除去される樹脂とを含
有するインキ層を有する転写シートをそのインキ層側か
らラミネートし、該インキ層を凸状パターンを有する基
板上に転写するに際して、前記転写シートを、凸状パタ
ーンのストライプ方向と平行な方向にラミネートしてイ
ンキ層を転写することを特徴とする凸状パターンへのイ
ンキ層形成方法。
1. A transfer sheet having an ink layer containing, on a substrate having a stripe-shaped convex pattern, inorganic particles having at least a glass frit on a base film and a resin to be removed by firing, the ink layer is provided. When laminating from the side and transferring the ink layer onto a substrate having a convex pattern, the transfer sheet is laminated in a direction parallel to the stripe direction of the convex pattern to transfer the ink layer. A method for forming an ink layer on a convex pattern.
【請求項2】 凸状パターンがプラズマディスプレイパ
ネルにおける電極パターンであり、また、インキ層が誘
電体層形成用インキ層であり、該インキ層が電極パター
ンを有する基板上に転写されることを特徴とする請求項
1記載の凸状パターンへのインキ層形成方法。
2. The method according to claim 1, wherein the convex pattern is an electrode pattern in a plasma display panel, the ink layer is an ink layer for forming a dielectric layer, and the ink layer is transferred onto a substrate having the electrode pattern. The method for forming an ink layer on a convex pattern according to claim 1.
【請求項3】 基板が、ガラス基板上に下地層を介して
電極パターンを有するものであり、インキ層が電極パタ
ーンを有する下地層上に転写されるものであることを特
徴とする請求項2記載の凸状パターンへのインキ層形成
方法。
3. The substrate according to claim 2, wherein the substrate has an electrode pattern on a glass substrate via an underlayer, and the ink layer is transferred onto the underlayer having the electrode pattern. A method for forming an ink layer on a convex pattern as described in the above.
JP34133396A 1996-11-12 1996-12-20 Method for forming ink layer on projecting pattern Pending JPH10181180A (en)

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