JPH10175084A - Line type laser marker device, its optical device and its marking method - Google Patents

Line type laser marker device, its optical device and its marking method

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Publication number
JPH10175084A
JPH10175084A JP8353463A JP35346396A JPH10175084A JP H10175084 A JPH10175084 A JP H10175084A JP 8353463 A JP8353463 A JP 8353463A JP 35346396 A JP35346396 A JP 35346396A JP H10175084 A JPH10175084 A JP H10175084A
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JP
Japan
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laser
incident
laser beam
laser light
mask
Prior art date
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Pending
Application number
JP8353463A
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Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Muneda
昭彦 宗田
Youichi Kawasa
洋一 川佐
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Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP8353463A priority Critical patent/JPH10175084A/en
Publication of JPH10175084A publication Critical patent/JPH10175084A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To uniformize marking depth and to improve marking quality by scanning and emitting on a mask surface such an incident laser beam from a laser generator as deflected in an oscillatory manner in the direction roughly orthogonally crossing the scanning direction. SOLUTION: A laser beam outgoing from a laser generator 1 is shaped in its beam by means of a beam adjusting lens 2. In addition, the beam is made incident on a polygon mirror 3 through an optical device 10 equipped with a prism 11 arranged rotatably on the optical path, reflected and passed through a field lens 4, scanning a liquid crystal mask 5 in one direction, i.e., in its longitudinal direction. Furthermore, the laser beam is made to form an image reducibly by an image-forming lens 6, transformed into a parallel luminous flux by an image relay lens 7, and then reflected by an image scanning mirror 8a, 8b, forming an image on the marking surface of a work through an objective lens 9. In this case, the image-forming position is moved by oscillating the scanning mirror 8a, 8b each in the X and Y directions, so that a larger pattern as a whole is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザマーカ装置
に関し、特にはレーザ光の走査を一方向のみとするライ
ン式レーザマーカ装置及びその刻印方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser marker device, and more particularly, to a line type laser marker device that scans a laser beam in only one direction, and a method of engraving the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、金属、樹脂、セラミック、紙、布
等で構成されたワーク上に、任意の文字、記号、図形、
模様等の組み合わせによるパターンを刻印する方法の一
つとして、レーザ光によるレーザマーカ装置が多く使用
されている。このレーザマーカ装置は、上記刻印対象と
するパターンをマスク上に形成し、このマスクにレーザ
光をラスタ走査しながら照射して刻印している。従来か
ら、液晶表示器で構成されたマスクを使用する液晶式レ
ーザマーカ装置、あるいは、所定パターンのマスク型を
使用するレーザマーカ装置等が使用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, arbitrary characters, symbols, figures, and the like are placed on a work made of metal, resin, ceramic, paper, cloth, or the like.
As one method of imprinting a pattern by a combination of patterns and the like, a laser marker device using a laser beam is often used. This laser marker device forms the pattern to be marked on a mask, and irradiates the mask with laser light while performing raster scanning to mark. 2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal laser marker device using a mask constituted by a liquid crystal display, a laser marker device using a mask having a predetermined pattern, and the like have been used.

【0003】上記液晶式レーザマーカ装置の中に、機構
上の簡単性のために、マスク面での走査を一方向にのみ
行うライン式レーザマーカ装置が提案されており、この
ようなライン式レーザマーカ装置としては、例えば特開
平6−226476号公報に開示されたものが良く知ら
れている。この技術によると、刻印対象ワークのパター
ンは走査一行分の大きさの複数のパターン(これを、分
割パターンと呼ぶ)に分割され、この複数の分割パター
ンを順次液晶マスク上に表示するとともに、各パターン
毎に走査を行って一行分の刻印を行う。そして、マスク
表示器の表示パターンを変える毎に、ワーク上における
刻印のエリアを一分割パターン分づつシフトしながら刻
印することによって、全体として合成された一つのパタ
ーンが刻印されるようになっている。
[0003] Among the above-mentioned liquid crystal laser marker devices, a line type laser marker device which performs scanning on a mask surface in only one direction has been proposed because of its mechanical simplicity. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-226476 is well known. According to this technique, the pattern of the work to be marked is divided into a plurality of patterns each having a size corresponding to one scanning line (this is called a division pattern). The plurality of division patterns are sequentially displayed on a liquid crystal mask, and each pattern is displayed. Scanning is performed for each pattern, and marking for one line is performed. Then, every time the display pattern of the mask display is changed, the engraved area on the work is engraved while being shifted by one division pattern, so that one pattern synthesized as a whole is engraved. .

【0004】図22は、一行分のパターンを液晶マスク
5の面上に走査したときのレーザビームの軌跡を表した
ものである。同図において、各円は、Qスイッチ等によ
りレーザ光をパルス出力したときの1ショットのレーザ
ビームを表している。レーザビームの光軸に直交する断
面は略円形状になっており、この断面のレーザビームの
強度分布は図23に示すようなガウシアン型になってい
るものが多い。同図において、横軸は上記レーザビーム
断面の中心からの距離を、縦軸はビーム強度を表してお
り、このとき、ビーム断面の中心で最も強度が大きく、
外周になる程強度が小さくなっている。
FIG. 22 shows a trajectory of a laser beam when a pattern for one row is scanned on the surface of the liquid crystal mask 5. In the figure, each circle represents one shot of a laser beam when a pulse of laser light is output by a Q switch or the like. A cross section orthogonal to the optical axis of the laser beam has a substantially circular shape, and the intensity distribution of the laser beam on this cross section is often a Gaussian type as shown in FIG. In the figure, the horizontal axis represents the distance from the center of the laser beam cross section, and the vertical axis represents the beam intensity. At this time, the intensity is highest at the center of the beam cross section,
The strength becomes smaller toward the outer periphery.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなレーザビームで図22の如く一方向に刻印した場
合、そのラインの中心線上の部分が最も刻印深さ(レー
ザビームにより掘られた溝の深さ)が深くなり、この中
心線に直交する方向に離れた位置では、徐々に浅くなっ
て行く。図24は走査方向に直交する断面の刻印深さを
表しており、横軸がラインの中心線からの距離を、縦軸
が刻印深さを表している。同図でも分かるように、中心
線上の深さとこれに直交する側のライン端部の深さとが
異なっているので、全体としてライン方向にすじが入っ
たように見えてしまい、刻印品質の低下となっている。
また、これによって、刻印後の外観検査により不良品と
判断される場合があり、歩留りの低下を招いている。
However, when the laser beam as described above is engraved in one direction as shown in FIG. 22, the portion on the center line of the line is the most engraved depth (the depth of the groove dug by the laser beam). (Depth) becomes deeper, and gradually becomes shallower at positions separated in a direction orthogonal to the center line. FIG. 24 shows the engraved depth of a cross section orthogonal to the scanning direction. The horizontal axis represents the distance from the center line of the line, and the vertical axis represents the engraved depth. As can be seen from the figure, the depth on the center line is different from the depth of the line end perpendicular to the center line. Has become.
In addition, this may result in a defective product being determined by the appearance inspection after the marking, which leads to a decrease in yield.

【0006】この問題を解消するために、従来のエリア
式レーザマーカ装置のように、ポリゴンミラーの前にス
キャンミラーとリレーレンズを配置して液晶マスク面を
2次元的にラスタ走査することによって、レーザビーム
強度が均一になるようにマスク面を平面的に走査する方
法が取られているものもある。しかしながら、この方法
では、一つの刻印パターンに対する刻印速度の低下や、
装置全体の大型化、及びコストアップ等を招く問題があ
る。
In order to solve this problem, as in a conventional area type laser marker device, a scan mirror and a relay lens are arranged in front of a polygon mirror to two-dimensionally raster-scan a liquid crystal mask surface. There is a method in which a mask surface is scanned in a plane so that the beam intensity becomes uniform. However, in this method, a reduction in the engraving speed for one engraving pattern,
There is a problem that the size of the entire apparatus is increased and the cost is increased.

【0007】また、ポリゴンミラーの前に、単峰性ビー
ムを双峰性ビームに変換するような光学素子を挿入する
方法も提案されている。すなわち、レーザビーム強度の
極大値をビーム内の異なる位置に発生させ、疑似的に強
度を平坦化している。これにより液晶マスク面上での走
査を2ラインで行うことも、刻印深さの均一化には有効
な手段であると考えられる。しかしながら、この方法で
はレーザパワーのロスが大きくなり、このために発色性
が悪くなる、すなわち、ワークを刻印することが可能な
パワースレッシュレベルよりも小さくなるという問題が
生じる。この場合に発色性を良くする対策として、レー
ザ出力のパワーアップをするか、あるいは、ポリゴンミ
ラーの回転速度を下げて刻印速度を遅くするなどが考え
られるが、これは上記同様に刻印速度やコスト面でのマ
イナス要因となり、好ましくない。
[0007] A method has also been proposed in which an optical element for converting a unimodal beam into a bimodal beam is inserted before the polygon mirror. That is, local maximum values of the laser beam intensity are generated at different positions in the beam, and the intensity is pseudo-flattened. Thus, performing scanning on the liquid crystal mask surface in two lines is also considered to be an effective means for making the marking depth uniform. However, this method has a problem in that the loss of laser power is large, and thus the color developability is poor, that is, the power threshold level is smaller than the power threshold level at which the work can be imprinted. In this case, as a measure to improve the color development, it is conceivable to increase the power of the laser output or to reduce the engraving speed by lowering the rotation speed of the polygon mirror. This is a negative factor on the surface, which is not desirable.

【0008】本発明は、上記の問題点に着目してなされ
たものであり、刻印速度及び装置サイズ等の装置性能を
損なわずに、ラインの刻印深さを均一にできるライン式
レーザマーカ装置、その光学装置及びその刻印方法を提
供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and a line type laser marker device capable of making a line marking depth uniform without impairing device performance such as a marking speed and a device size. An object of the present invention is to provide an optical device and an engraving method thereof.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、請求項1に記載の発明は、レーザ
発振器1から出射されたレーザ光を走査器に入射し、こ
の走査器によって前記レーザ光を、ワークに刻印するパ
ターンが描かれたマスクの面上に一方向に走査して照射
し、前記マスクから透過されたレーザ光をワークの所定
刻印位置に照射して前記パターンを刻印するライン式レ
ーザマーカ装置において、前記レーザ発振器1と前記走
査器との間に配設され、かつ、レーザ発振器1から入射
した前記レーザ光を前記走査方向に対して略直交する方
向に振動的に偏向する光学装置10を備えた構成として
いる。
Means for Solving the Problems, Functions and Effects In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a laser beam emitted from a laser oscillator 1 is incident on a scanner. The laser light is irradiated in one direction by scanning and irradiating the surface of the mask on which a pattern to be engraved on the work is drawn, and the laser light transmitted from the mask is applied to a predetermined engraved position of the work to apply the pattern. In a line type laser marker device for engraving, the laser beam is provided between the laser oscillator 1 and the scanner, and vibrates the laser light incident from the laser oscillator 1 in a direction substantially orthogonal to the scanning direction. The configuration is provided with an optical device 10 for deflecting light.

【0010】請求項1に記載の発明によると、光学装置
10は、レーザ発振器から入射したレーザ光を走査方向
に対して略直交する方向に振動的に偏向して走査器に出
射する。そして、走査器はこの振動的に偏向されたレー
ザ光をマスク面上に走査して照射する。これによって、
レーザ光はマスク面上で走査方向に略直交する方向に振
れながら照射されるので、マスク面の単位面積当たりの
レーザビーム強度が略均一になる。この結果、刻印深さ
が均一になるので、刻印品質が向上する。
According to the first aspect of the present invention, the optical device 10 oscillately deflects the laser light incident from the laser oscillator in a direction substantially orthogonal to the scanning direction and emits the laser light to the scanner. Then, the scanner scans and irradiates the mask surface with the vibratingly deflected laser light. by this,
Since the laser light is irradiated on the mask surface while oscillating in a direction substantially perpendicular to the scanning direction, the laser beam intensity per unit area of the mask surface becomes substantially uniform. As a result, the marking depth becomes uniform, so that the marking quality is improved.

【0011】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載のライン式レーザマーカ装置において、前記光学
装置10が、前記レーザ光が入射する入射面21と出射
する出射面22が非平行であるプリズム11、31と、
このプリズム11、31を前記入射面21に交わる軸の
回りに回転させる回転駆動手段32とを備えた構成とし
ている。
The invention described in claim 2 is the first invention.
In the line-type laser marker device described in the above, the optical device 10, the prism 11, 31 wherein the incident surface 21 on which the laser light is incident and the exit surface 22 from which the laser light exits are non-parallel,
Rotation driving means 32 for rotating the prisms 11 and 31 around an axis intersecting the incident surface 21 is provided.

【0012】また、請求項9に記載の発明は、レーザ発
振器1から出射されたレーザ光を所定方向に偏向して走
査器に入射し、この走査器によって、前記偏向されたレ
ーザ光がパターンが描かれたマスクの面上に一方向に走
査され、透過したレーザ光で前記パターンが刻印される
ライン式レーザマーカ装置用の光学装置において、レー
ザ発振器1からのレーザ光が入射する入射面21と、入
射したレーザ光が出射する出射面22とが非平行なプリ
ズム11、31が、前記入射面21に交わる軸の回りに
回転自在に設けられた光学装置としている。
According to a ninth aspect of the present invention, the laser beam emitted from the laser oscillator 1 is deflected in a predetermined direction and is incident on a scanner, and the scanner causes the deflected laser beam to form a pattern. In an optical device for a line-type laser marker device in which the pattern is engraved with the transmitted laser light by being scanned in one direction on the drawn mask surface, an incident surface 21 on which laser light from the laser oscillator 1 is incident; The optical device is provided with prisms 11 and 31 that are non-parallel to the emission surface 22 from which the incident laser light is emitted, and are rotatably provided around an axis that intersects the incidence surface 21.

【0013】請求項16に記載の発明は、レーザ発振器
1から出射されたレーザ光を、パターンが描かれたマス
ク面上を一方向に走査させ、前記マスクから透過された
レーザ光をワークに照射して前記パターンを刻印するラ
イン式レーザマーカ装置の刻印方法において、レーザ発
振器1から出射された前記レーザ光を、前記マスク面内
で回転偏向させると共に、このマスク面上を走査させる
方法としている。
According to a sixteenth aspect of the present invention, a laser beam emitted from the laser oscillator 1 is scanned in one direction on a mask surface on which a pattern is drawn, and a laser beam transmitted from the mask is irradiated on a work. In the marking method of the line type laser marker device for marking the pattern, the laser light emitted from the laser oscillator 1 is rotationally deflected in the mask surface and scanned on the mask surface.

【0014】請求項2、9及び16に記載の発明による
と、レーザ光をマスク面内で回転偏向させながらマスク
面上を走査させると、レーザビームのマスク面上での軌
跡はトロコイド状又はサイクロイド状となる。このよう
な軌跡は、以下のようにして描くことができる。レーザ
光の入射面と出射面が所定角度を成したプリズム(偏角
プリズムと呼ぶ)をこの入射面に交わる軸の回りに回転
させると共に、上記入射面にレーザ光を入射させること
によって、上記出射面から、入射側の光軸を中心にして
回転偏向されるレーザ光が出射される。この回転偏向さ
れたレーザ光を走査器によってマスク面上に走査する
と、レーザビームがトロコイド状又はサイクロイド状の
軌跡を描く。これによって、レーザビームはマスク面上
で走査方向に略直交する方向に振れながら照射される。
このとき、前記偏角プリズムの回転速度や走査速度、ま
た偏角プリズムの入射面と出射面が成す前記所定角度等
の大きさを調整することにより、レーザビームの軌跡が
マスク面に略均一に分布するようになるので、マスク面
の単位面積当たりのレーザビーム強度が略均一になる。
この結果、刻印深さが均一になるので、刻印品質が向上
する。
According to the second, ninth and sixteenth aspects, when the laser beam is scanned on the mask surface while being rotationally deflected within the mask surface, the trajectory of the laser beam on the mask surface becomes trochoidal or cycloidal. State. Such a locus can be drawn as follows. By rotating a prism (referred to as a declination prism) having a predetermined angle between the incident surface and the emission surface of the laser light around an axis intersecting the incident surface, and making the laser light incident on the incident surface, the emission is achieved. A laser beam that is rotationally deflected about the optical axis on the incident side is emitted from the surface. When this rotationally deflected laser light is scanned on a mask surface by a scanner, the laser beam draws a trochoidal or cycloidal trajectory. As a result, the laser beam is irradiated on the mask surface while swinging in a direction substantially perpendicular to the scanning direction.
At this time, the trajectory of the laser beam is made substantially uniform on the mask surface by adjusting the rotation speed and scanning speed of the deflection prism, and the size of the predetermined angle formed by the entrance surface and the emission surface of the deflection prism. Since the laser beam is distributed, the laser beam intensity per unit area of the mask surface becomes substantially uniform.
As a result, the marking depth becomes uniform, so that the marking quality is improved.

【0015】また、請求項3に記載の発明は、請求項2
に記載のライン式レーザマーカ装置において、前記プリ
ズム31が、円筒形状の光透過部材を少なくとも1面は
底面に対して非平行で、かつ、互いに非平行な2面で切
断して形成されている。
The invention according to claim 3 is the same as the invention according to claim 2.
, The prism 31 is formed by cutting a cylindrical light transmitting member at two surfaces that are non-parallel to one another and at least one surface is non-parallel to the bottom surface.

【0016】請求項10に記載の発明は、請求項9記載
のライン式レーザマーカ装置用の光学装置において、前
記プリズム31が、円筒形状の光透過部材を少なくとも
1面は底面に対して非平行で、かつ、互いに非平行な2
面で切断して形成されている。
According to a tenth aspect of the present invention, in the optical device for a line type laser marker device according to the ninth aspect, the prism 31 includes a cylindrical light transmitting member having at least one surface non-parallel to the bottom surface. And two non-parallel to each other
It is formed by cutting the surface.

【0017】請求項3及び10に記載の発明によると、
前記偏角プリズムは、円筒形状のガラス等の光透過部材
を少なくとも1面は底面に対して非平行で、かつ、互い
に非平行な2面で切断した場合のような、入射面から見
た断面が円形又は楕円形であるようなプリズムで構成す
ることができる。したがって、このような偏角プリズム
を容易に製作することが可能となり、コスト的に有利と
なる。
According to the third and tenth aspects of the present invention,
The deflection prism has a cross-section viewed from an incident surface, such as when a light-transmitting member such as a cylindrical glass is cut at two surfaces that are nonparallel to at least one surface and nonparallel to each other. May be configured as a prism having a circular or elliptical shape. Therefore, such a deflection prism can be easily manufactured, which is advantageous in cost.

【0018】また、請求項4に記載の発明は、請求項1
に記載のライン式レーザマーカ装置において、前記光学
装置10が、ガラス等の光透過材で構成されるととも
に、前記レーザ発振器1からのレーザ光が入射する入射
面21と、入射したレーザ光が出射する出射面22とを
平行にし、前記入射面21に対して直角以外の所定角度
を成す軸の回りに回転可能で、かつ、この回転中心軸に
平行に前記レーザ光を入射させる平行板35と、前記回
転中心軸の回りに前記平行板35を回転させる回転駆動
手段32とを備えた構成としている。
The invention described in claim 4 is the first invention.
In the line type laser marker device, the optical device 10 is made of a light transmitting material such as glass, and the incident surface 21 on which the laser light from the laser oscillator 1 is incident, and the incident laser light is emitted. A parallel plate 35 that is parallel to the light exit surface 22 and is rotatable around an axis that forms a predetermined angle other than a right angle with respect to the light incident surface 21 and that makes the laser light incident parallel to the rotation center axis; A rotation drive unit 32 for rotating the parallel plate 35 around the rotation center axis is provided.

【0019】請求項11に記載の発明は、レーザ発振器
1から出射されたレーザ光を所定方向に偏向して走査器
に入射し、この走査器によって、前記偏向されたレーザ
光がパターンが描かれたマスクの面上に一方向に走査さ
れ、透過したレーザ光で前記パターンが刻印されるライ
ン式レーザマーカ装置用の光学装置において、ガラス等
の光透過材で構成されると共に、レーザ発振器1からの
レーザ光が入射する入射面21と、入射したレーザ光が
出射する出射面22とを平行にし、かつ、前記入射面2
1に対して直角以外の所定角度でレーザ光を入射させる
平行板35が、このレーザ光の光軸と平行な軸の回りに
回転自在に設けられた光学装置である。
According to an eleventh aspect of the present invention, the laser light emitted from the laser oscillator 1 is deflected in a predetermined direction and is incident on a scanner, and the scanner draws a pattern on the deflected laser light. An optical device for a line-type laser marker device in which the pattern is engraved with the transmitted laser light by being scanned in one direction on the surface of the mask, which is formed of a light transmitting material such as glass, The incident surface 21 on which the laser light is incident and the exit surface 22 from which the incident laser light exits are parallel to each other, and the incident surface 2
This is an optical device in which a parallel plate 35 for allowing laser light to enter at a predetermined angle other than a right angle with respect to 1 is rotatably provided around an axis parallel to the optical axis of the laser light.

【0020】請求項4及び11に記載の発明によると、
例えばガラス等の光透過材で構成した平行板を設け、こ
の平行板の平行な両面の一方の面をレーザ光の入射面、
また他方の面を出射面とする。そして、入射面に対して
直角以外の所定角度を成す回転軸を中心に上記平行板を
回転させると共に、この回転中心軸に平行にレーザ光を
入射させる。このとき、平行板の回転に伴って、レーザ
光の入射側の光軸と入射面と成す角度は周期的に変化す
ることになり、よって、入射側の光軸を中心に回転し、
かつ、この光軸に平行なレーザ光が出射面で偏向されて
出射される。したがって、この回転偏向されたレーザ光
を走査器によってマスク面上に走査すると、レーザビー
ムがトロコイド状又はサイクロイド状の軌跡を描く。こ
れによって、レーザビームはマスク面上で走査方向に略
直交する方向に振れながら照射される。このとき、前記
平行板の回転速度や走査速度、また光軸と入射面との成
す角度及び平行板の厚さ等の大きさを調整することによ
り、レーザビームの軌跡がマスク面に略均一に分布する
ようになるので、マスク面の単位面積当たりのレーザビ
ーム強度が略均一になる。この結果、刻印深さが均一に
なるので、刻印品質が向上する。
According to the invention described in claims 4 and 11,
For example, a parallel plate made of a light transmitting material such as glass is provided, and one of two parallel surfaces of the parallel plate is a laser light incident surface,
The other surface is an emission surface. Then, the parallel plate is rotated about a rotation axis that forms a predetermined angle other than a right angle with respect to the incident surface, and the laser beam is incident parallel to the rotation center axis. At this time, with the rotation of the parallel plate, the angle formed between the optical axis on the incident side of the laser beam and the incident surface will periodically change, so that it rotates about the optical axis on the incident side,
In addition, the laser light parallel to the optical axis is emitted after being deflected on the emission surface. Therefore, when the rotationally deflected laser light is scanned on the mask surface by the scanner, the laser beam draws a trochoidal or cycloidal trajectory. As a result, the laser beam is irradiated on the mask surface while swinging in a direction substantially perpendicular to the scanning direction. At this time, by adjusting the rotation speed and scanning speed of the parallel plate, the angle between the optical axis and the incident surface, and the size of the parallel plate, the trajectory of the laser beam is substantially uniform on the mask surface. Since the laser beam is distributed, the laser beam intensity per unit area of the mask surface becomes substantially uniform. As a result, the marking depth becomes uniform, so that the marking quality is improved.

【0021】また、請求項5に記載の発明は、請求項4
に記載のライン式レーザマーカ装置において、前記平行
板35の前記入射面21の外形が円形又は楕円形である
ことを特徴としている。
The invention described in claim 5 is the same as the invention in claim 4.
In the line-type laser marker device described in (1), the outer shape of the incident surface 21 of the parallel plate 35 is circular or elliptical.

【0022】請求項12に記載の発明は、請求項11記
載のライン式レーザマーカ装置用の光学装置において、
前記平行板35の前記入射面21の外形が円形又は楕円
形であることを特徴としている。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the optical device for a line type laser marker device according to the eleventh aspect,
The outer shape of the incident surface 21 of the parallel plate 35 is circular or elliptical.

【0023】請求項5及び12に記載の発明によると、
前記平行板は、入射面の外形を円形又は楕円形としてい
る。このような平行板は、円筒形状の光透過部材を底面
に対して平行に又は非平行に、互いに平行な2面で切断
して製作できる。これによって、平行板を容易に製作可
能となり、コスト的にも有利となる。
According to the fifth and twelfth aspects of the invention,
The parallel plate has a circular or elliptical outer shape of an incident surface. Such a parallel plate can be manufactured by cutting a cylindrical light-transmitting member parallel or non-parallel to the bottom surface at two parallel surfaces. Thereby, the parallel plate can be easily manufactured, which is advantageous in cost.

【0024】また、請求項6に記載の発明は、請求項1
に記載のライン式レーザマーカ装置において、前記光学
装置10が、ガラス等の光透過材で構成され、かつ、回
転自在に配設された偏向部材40と、前記回転中心軸の
回りに偏向部材40を回転させる回転駆動手段32とを
備えると共に、前記偏向部材40は、前記回転中心軸に
直交し、かつ、この回転中心軸から所定距離離れた位置
Eに前記レーザ光が入射される平らな入射面21と、こ
の入射面21から入射したレーザ光を、この光軸を含む
特定の平面内の、少なくとも2つ以上の異なる方向へ前
記回転に伴って周期的に偏向させて出射する偏向曲面を
有する出射面22とを備えている。
The invention described in claim 6 is the first invention.
In the line-type laser marker device described in the above, the optical device 10 is made of a light transmitting material such as glass, and is provided with a deflecting member 40 rotatably disposed, and a deflecting member 40 around the rotation center axis. And a rotation driving means 32 for rotating, and the deflecting member 40 is a flat incident surface on which the laser beam is incident at a position E orthogonal to the rotation center axis and at a predetermined distance from the rotation center axis. And a deflection curved surface which periodically deflects the laser light incident from the incident surface 21 in at least two or more different directions within the specific plane including the optical axis with the rotation and emits the laser light. An emission surface 22 is provided.

【0025】請求項15に記載の発明は、レーザ発振器
1から出射されたレーザ光を、パターンが描かれたマス
ク面上を一方向に走査させ、前記マスクから透過された
レーザ光をワークに照射して前記パターンを刻印するラ
イン式レーザマーカ装置の刻印方法において、レーザ発
振器1から出射された前記レーザ光を、前記走査方向に
対して略直交する方向に振動的に偏向させると共に、前
記マスク面上を走査させる方法としている。
According to a fifteenth aspect of the present invention, a laser beam emitted from the laser oscillator 1 is scanned in one direction on a mask surface on which a pattern is drawn, and a laser beam transmitted from the mask is irradiated on a work. In the marking method of the line type laser marker device for marking the pattern, the laser beam emitted from the laser oscillator 1 is vibratedly deflected in a direction substantially orthogonal to the scanning direction, and the laser light is emitted on the mask surface. Are scanned.

【0026】請求項6及び15に記載の発明によると、
レーザ光をマスク面上で走査方向に対して略直交する方
向に振動的に照射しながら走査すると、レーザビームは
マスク面に略三角波状に振れる軌跡を描く。このような
軌跡は、次のようにして描くことができる。レーザ光を
偏向部材の入射面の回転中心から所定距離離れた位置E
に入射すると、レーザ光は透過して出射面に到達する。
偏向部材の回転に伴って、出射面に設けられた偏向曲面
によって、上記レーザ光は、光軸を含む特定の平面内
の、少なくとも2つ以上の異なる方向へ周期的に偏向さ
れる。このとき、この偏向されたレーザ光は走査器によ
ってマスク面上に走査されると共に、上記の周期的な偏
向が走査方向に対して略直交するように導かれる。これ
によって、レーザビームはマスク面上で走査方向に略直
交する方向に振れながら照射される。このとき、前記偏
向部材の回転速度や走査速度、また偏向方向や偏向角度
等を調整することにより、レーザビームの軌跡がマスク
面に均一に分布するようになるので、マスク面の単位面
積当たりのレーザビーム強度が略均一になる。この結
果、刻印深さが均一になり、刻印品質が向上する。
According to the invention described in claims 6 and 15,
When scanning is performed while oscillating the laser light on the mask surface in a direction substantially orthogonal to the scanning direction, the laser beam draws a locus of a substantially triangular wave on the mask surface. Such a locus can be drawn as follows. A position E at a predetermined distance from the center of rotation of the incident surface of the deflecting member.
, The laser light is transmitted and reaches the emission surface.
With the rotation of the deflecting member, the laser light is periodically deflected in at least two or more different directions within a specific plane including the optical axis by the deflection curved surface provided on the emission surface. At this time, the deflected laser light is scanned on the mask surface by the scanner, and the periodic deflection is guided so as to be substantially orthogonal to the scanning direction. As a result, the laser beam is irradiated on the mask surface while swinging in a direction substantially perpendicular to the scanning direction. At this time, by adjusting the rotation speed and scanning speed of the deflecting member, the deflection direction and the deflection angle, etc., the trajectory of the laser beam becomes uniformly distributed on the mask surface. The laser beam intensity becomes substantially uniform. As a result, the marking depth becomes uniform and the marking quality is improved.

【0027】また、請求項7に記載の発明は、請求項6
に記載のライン式レーザマーカ装置において、前記偏向
部材40は、前記偏向曲面を、前記回転に伴う前記レー
ザ光の軌跡43に沿って滑らかに所定周期で起伏する波
面を有する波面部材42、又は、前記軌跡46に沿って
配設され、かつ、多角錐体の外周側面の互いに隣接する
複数面と相似の面を有する多面部材45、又は、前記軌
跡48に沿って配設され、かつ、円錐体の外周側面と相
似の面を有する円錐部材47のいずれか一つによって形
成している。
[0027] The invention described in claim 7 is the same as in claim 6.
In the line-type laser marker device described in the above, the deflecting member 40 has a wavefront member 42 having a wavefront that smoothly undulates at a predetermined period along the trajectory 43 of the laser light accompanying the rotation, or A polyhedral member 45 arranged along the locus 46 and having surfaces similar to a plurality of adjacent surfaces on the outer peripheral side surface of the polygonal pyramid, or a polyhedral member 45 arranged along the locus 48 and It is formed by any one of the conical members 47 having a surface similar to the outer peripheral side surface.

【0028】請求項13に記載の発明は、レーザ発振器
1から出射されたレーザ光を所定方向に偏向して走査器
に入射し、この走査器によって、前記偏向されたレーザ
光がパターンが描かれたマスクの面上に一方向に走査さ
れ、透過したレーザ光で前記パターンが刻印されるライ
ン式レーザマーカ装置用の光学装置において、ガラス等
の光透過材で構成され、かつ、回転自在な偏向部材40
を設け、この偏向部材40は、前記回転中心軸に直交
し、かつ、この回転中心軸から所定距離離れた位置Eに
前記レーザ光が入射される平らな入射面21と、この入
射面21から入射したレーザ光を、この光軸を含む特定
の平面内の、少なくとも2つ以上の異なる方向へ上記回
転に伴って周期的に偏向させて出射する偏向曲面を有す
る出射面22とを有し、前記偏向曲面は、前記回転に伴
う前記位置Eの軌跡43に沿って滑らかに所定周期で起
伏する波面を有する波面部材42、又は、前記軌跡46
に沿って配設され、かつ、多角錐体の外周側面の互いに
隣接する複数面と相似の面を有する多面部材45、又
は、軌跡48に沿って配設され、かつ、円錐体の外周側
面と相似の面を有する円錐部材47のいずれか一つによ
って形成された光学装置としている。
According to a thirteenth aspect of the present invention, the laser light emitted from the laser oscillator 1 is deflected in a predetermined direction and is incident on a scanner, and the scanner draws a pattern on the deflected laser light. An optical device for a line type laser marker device in which the pattern is engraved with the transmitted laser light by being scanned in one direction on the surface of the mask, which is formed of a light transmitting material such as glass, and a rotatable deflection member 40
The deflecting member 40 has a flat incident surface 21 at which the laser beam is incident at a position E perpendicular to the rotation center axis and at a predetermined distance from the rotation center axis. Incident laser light, within a specific plane including this optical axis, having an emission surface 22 having a deflection curved surface that periodically deflects and emits in accordance with the rotation in at least two or more different directions, The deflection curved surface has a wavefront member 42 having a wavefront that smoothly rises and falls at a predetermined period along a locus 43 of the position E due to the rotation, or the locus 46.
And a polyhedral member 45 having surfaces similar to a plurality of mutually adjacent surfaces of the outer peripheral side surface of the polygonal pyramid, or arranged along the trajectory 48, and the outer peripheral side surface of the cone. The optical device is formed by any one of the conical members 47 having similar surfaces.

【0029】請求項7及び13に記載の発明によると、
前記偏向部材の出射面の偏向曲面は、入射面のレーザ光
が入射される位置が偏向部材の回転に伴って出射面側に
描く軌跡に沿って滑らかに所定周期で起伏する波面を有
する波面部材、又は、前記軌跡に沿って配設され、か
つ、多角錐体の外周側面の互いに隣接する複数面と相似
の面を有する多面部材、又は、軌跡に沿って配設され、
かつ、円錐体の外周側面と相似の面を有する円錐部材の
いずれか一つによって形成されている。これらの偏向曲
面によって、入射されたレーザ光は光軸を含む特定の平
面内の、少なくとも2つ以上の異なる方向へ周期的に偏
向されて出射される。これによって、レーザビームをマ
スク面上で走査方向に略直交する方向に振れながら照射
することが可能となる。このとき、前記偏向部材の回転
速度や走査速度、また偏向方向や偏向角度等を調整する
ことにより、レーザビームの軌跡がマスク面に均一に分
布するようになるので、マスク面の単位面積当たりのレ
ーザビーム強度が略均一になる。この結果、刻印深さが
均一になるので、刻印品質が向上する。
According to the seventh and thirteenth aspects of the invention,
The deflection curved surface of the exit surface of the deflecting member is a wavefront member having a wavefront in which the position on the incident surface where the laser beam is incident smoothly rises and falls at a predetermined period along a locus drawn on the exit surface side with the rotation of the deflecting member. Or, arranged along the trajectory, and a polyhedral member having surfaces similar to a plurality of adjacent surfaces of the outer peripheral side surface of the polygonal pyramid, or disposed along the trajectory,
And it is formed by any one of the conical members having a surface similar to the outer peripheral side surface of the conical body. With these deflection curved surfaces, the incident laser light is periodically deflected in at least two or more different directions within a specific plane including the optical axis and emitted. This makes it possible to irradiate the laser beam on the mask surface while swinging in a direction substantially perpendicular to the scanning direction. At this time, by adjusting the rotation speed and scanning speed of the deflecting member, the deflection direction and the deflection angle, etc., the trajectory of the laser beam becomes uniformly distributed on the mask surface. The laser beam intensity becomes substantially uniform. As a result, the marking depth becomes uniform, so that the marking quality is improved.

【0030】また、請求項8に記載の発明は、請求項1
に記載のライン式レーザマーカ装置において、前記光学
装置10が、前記レーザ発振器1と前記走査器との間
に、前記レーザ光の光軸に対して所定角度で傾斜した特
定方向に振動自在に配設され、この振動時に、前記走査
方向に対して略直交する方向に振動的に前記レーザ光を
偏向するプリズム51と、このプリズム51を上記振動
方向に振動させる振動手段52とを備えた構成としてい
る。
The invention described in claim 8 is the first invention.
In the line type laser marker device, the optical device 10 is disposed between the laser oscillator 1 and the scanner so as to be able to vibrate in a specific direction inclined at a predetermined angle with respect to the optical axis of the laser light. A prism 51 for deflecting the laser light in a direction substantially orthogonal to the scanning direction at the time of the vibration, and a vibration means 52 for vibrating the prism 51 in the vibration direction are provided. .

【0031】請求項14に記載の発明は、レーザ発振器
1から出射されたレーザ光を所定方向に偏向して走査器
を経由してマスクに照射するライン式レーザマーカ装置
用の光学装置において、レーザ発振器1からのレーザ光
の光軸に対して所定角度で傾斜した特定方向に振動さ
れ、この振動時に、前記入射されたレーザ光をこの光軸
を含む特定の平面内の、少なくとも2つ以上の異なる方
向へ偏向して出射するプリズム51と、このプリズム5
1を上記振動方向に振動させる振動手段52とを備えた
光学装置としている。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided an optical apparatus for a line type laser marker device for deflecting a laser beam emitted from a laser oscillator 1 in a predetermined direction and irradiating a mask via a scanner. The laser light is vibrated in a specific direction inclined at a predetermined angle with respect to the optical axis of the laser light from the first laser light, and at the time of this vibration, the incident laser light is at least two or more different in a specific plane including the optical axis. A prism 51 for deflecting light in the direction of the
1 is an optical device including a vibration means 52 for vibrating in the vibration direction.

【0032】請求項8及び14に記載の発明によると、
光軸に対して所定角度で傾斜した特定方向に振動される
と共に、この振動時に入射されたレーザ光をこの光軸を
含む特定の平面内の、少なくとも2つ以上の異なる方向
へ(走査方向に対して直交する方向に)偏向して出射す
るプリズムを設ける。このプリズムから出射された振動
的なレーザ光を走査器によってマスク面上に走査する
と、レーザビームをマスク面上で走査方向に略直交する
方向に振れながら照射することが可能となる。このと
き、振動数や走査速度、また偏向方向や偏向角度等を調
整することにより、レーザビームの軌跡がマスク面に均
一に分布するようになるので、マスク面の単位面積当た
りのレーザビーム強度が略均一になる。この結果、刻印
深さが均一になり、刻印品質が向上する。
According to the invention described in claims 8 and 14,
The laser beam is vibrated in a specific direction inclined at a predetermined angle with respect to the optical axis, and the laser beam incident at the time of the vibration is directed to at least two or more different directions in a specific plane including the optical axis (in the scanning direction). A prism that deflects and emits light (in a direction perpendicular to the direction) is provided. When the oscillatory laser light emitted from the prism is scanned on the mask surface by the scanner, the laser beam can be irradiated on the mask surface while swinging in a direction substantially orthogonal to the scanning direction. At this time, the trajectory of the laser beam is uniformly distributed on the mask surface by adjusting the frequency, scanning speed, deflection direction, deflection angle, and the like, so that the laser beam intensity per unit area of the mask surface is reduced. It becomes almost uniform. As a result, the marking depth becomes uniform and the marking quality is improved.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下に、図面を参照しながら実施
形態を詳細に説明する。なお、以下の説明においては、
マスクとして液晶マスクを用いた例を示しているが、こ
れに限定はされない。まず、図1〜図4に基づいて第1
実施形態を説明する。図1は、第1実施形態に係わるレ
ーザマーカ装置の要部斜視図である。このレーザマーカ
装置は、レーザ光源として例えばYAGレーザ発振器か
らなるレーザ発振器1を有しており、このレーザ発振器
1から出射されるレーザ光はビーム調整レンズ2によっ
てビームが整形される。この整形されたビームは、光路
上に回転可能に配設されたプリズム11を備えた光学装
置10を経由してポリゴンミラー3に入射し、ポリゴン
ミラー3により反射してフィールドレンズ4を経由して
液晶マスク5を一方向に、すなわち液晶マスク5の長手
方向に走査する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In the following description,
Although an example in which a liquid crystal mask is used as a mask is shown, the invention is not limited to this. First, based on FIGS.
An embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view of a main part of the laser marker device according to the first embodiment. This laser marker device has a laser oscillator 1 composed of, for example, a YAG laser oscillator as a laser light source, and a laser beam emitted from the laser oscillator 1 is shaped into a beam by a beam adjusting lens 2. The shaped beam enters the polygon mirror 3 via the optical device 10 having the prism 11 rotatably arranged on the optical path, is reflected by the polygon mirror 3 and passes through the field lens 4. The liquid crystal mask 5 is scanned in one direction, that is, in the longitudinal direction of the liquid crystal mask 5.

【0034】液晶マスク5を透過したレーザ光は、結像
レンズ6によって縮小結像される。この結像は像リレー
レンズ7によって平行光束に変換され、さらに像スキャ
ンミラー8a、8bによって反射された後、対物レンズ
9を経由してワークWの刻印面上に結像される。このと
き、ワークWの刻印面をXY平面とすると、像スキャン
ミラー8a、8bをそれぞれX方向、Y方向に振ること
によって、上記刻印面上での結像位置を移動させること
ができる。そして、この移動機構により結像を合成し、
全体としてより大きなパターンを刻印することが可能と
なる。
The laser light transmitted through the liquid crystal mask 5 is reduced and imaged by the imaging lens 6. This image is converted into a parallel light beam by the image relay lens 7, further reflected by the image scan mirrors 8 a and 8 b, and then imaged on the marking surface of the work W via the objective lens 9. At this time, assuming that the engraving surface of the work W is the XY plane, the image forming position on the engraving surface can be moved by swinging the image scan mirrors 8a and 8b in the X direction and the Y direction, respectively. Then, an image is synthesized by this moving mechanism,
It is possible to imprint a larger pattern as a whole.

【0035】図2は、本実施形態における光学装置10
aのプリズム11の回転駆動部の一例を表した構成図で
ある。プリズム11は、レーザ光Aが入射する面と出射
する面とが非平行であるプリズム(以後、偏角プリズム
と呼ぶ)で構成されている。レーザ光Aは、この入射面
及び出射面の略中央を透過するようになっている。そし
て、このプリズム11は、中空の円筒部材12に内接し
て取着されており、円筒部材12の中心軸線がレーザ光
Aの光軸と一致するように配設されている。また、円筒
部材12の外周面には、例えば合成樹脂等で構成された
摩擦係数の大きな外周部材13が設けられている。さら
に、外周部材13の外周面は、レーザマーカ装置のシャ
ーシ(図示せず)に取着された少なくとも3個のローラ
17によって支持されており、各ローラ17と外周部材
13の外周面は互いに回動自在に接触している。
FIG. 2 shows an optical device 10 according to this embodiment.
3A is a configuration diagram illustrating an example of a rotation driving unit of the prism 11 of FIG. The prism 11 is configured by a prism (hereinafter, referred to as a deflected prism) in which a surface on which the laser beam A is incident and a surface on which the laser beam A is emitted are non-parallel. The laser light A passes through substantially the center of the incident surface and the exit surface. The prism 11 is attached so as to be in contact with the hollow cylindrical member 12, and is disposed so that the central axis of the cylindrical member 12 coincides with the optical axis of the laser beam A. Further, on the outer peripheral surface of the cylindrical member 12, an outer peripheral member 13 made of, for example, a synthetic resin and having a large coefficient of friction is provided. Further, the outer peripheral surface of the outer peripheral member 13 is supported by at least three rollers 17 attached to a chassis (not shown) of the laser marker device, and each roller 17 and the outer peripheral surface of the outer peripheral member 13 rotate relative to each other. Contact freely.

【0036】また、円筒形状の外周面を有し、かつ、回
転可能な回転部材14の外周部にも、外周部材13と同
じく摩擦係数の大きな外周部材15が設けられている。
前記外周部材13と外周部材15の外周面は互いに圧接
されているとともに、回転部材14の回転軸の方向は円
筒部材12の前記中心軸線と平行になるように配設され
ている。また、回転部材14は例えば電動モータ等の回
転駆動手段32によって回転される。そして、回転駆動
手段32が回転部材14を回転させると、外周部材15
及び外周部材13の回転摩擦によって円筒部材12が中
心軸線を中心に回転し、プリズム11が光軸を中心に回
転する。
An outer peripheral member 15 having a cylindrical outer peripheral surface and having a large friction coefficient like the outer peripheral member 13 is also provided on the outer peripheral portion of the rotatable rotating member 14.
The outer peripheral surfaces of the outer peripheral member 13 and the outer peripheral member 15 are pressed against each other, and the direction of the rotation axis of the rotating member 14 is arranged to be parallel to the central axis of the cylindrical member 12. The rotating member 14 is rotated by a rotation driving unit 32 such as an electric motor. When the rotation driving means 32 rotates the rotating member 14, the outer peripheral member 15
The cylindrical member 12 rotates about the central axis due to the rotational friction of the outer peripheral member 13 and the prism 11 rotates about the optical axis.

【0037】いま、プリズム11の入射面はレーザ光A
の光軸に対して直交しており、出射面は所定の角度をも
って傾斜しているとすると、出射面から出射するレーザ
光Aは入射側の光軸方向に対して所定角度をなしてい
る。図3は、この作用の説明図である。図3において、
プリズム11の入射面21と出射面22とはその延長面
において所定角度θで交わっており、レーザ光Aが入射
面21に直交して入射したときに、出射面22から出射
するレーザ光Aが入射側の光軸方向に対して角度δだけ
屈折したとする。また、プリズム11の屈折率をnとす
る。ここで、光軸が出射面22と交わる点をBとし、点
Bを通って出射面22に垂直な直線Cを想定する。
Now, the incident surface of the prism 11 is
Assuming that the emission surface is inclined at a predetermined angle, the laser beam A emitted from the emission surface forms a predetermined angle with respect to the optical axis direction on the incident side. FIG. 3 is an explanatory diagram of this operation. In FIG.
The entrance surface 21 and the exit surface 22 of the prism 11 intersect at a predetermined angle θ on the extension surface thereof, and when the laser beam A enters the entrance surface 21 at right angles, the laser beam A emitted from the exit surface 22 It is assumed that the light is refracted by an angle δ with respect to the optical axis direction on the incident side. Further, the refractive index of the prism 11 is set to n. Here, it is assumed that a point at which the optical axis intersects the emission surface 22 is B, and a straight line C passing through the point B and perpendicular to the emission surface 22 is assumed.

【0038】このとき、入射側の光軸と直線Cと成す角
度はθとなり、また出射側の光軸と直線Cと成す角度α
は、角度の符号も考慮すると、以下の数1で表される。
At this time, the angle between the optical axis on the incident side and the straight line C is θ, and the angle α between the optical axis on the output side and the straight line C is α.
Is expressed by the following equation 1 in consideration of the sign of the angle.

【数1】 α=θ+δ スネルの公式によって、屈折率nと屈折角度との関係は
数2で表される。
## EQU00001 ## The relationship between the refractive index n and the refraction angle is expressed by Expression 2 according to the formula of α = θ + δ Snell.

【数2】 n・sin θ=sin α いま、角度θ及び角度αの大きさが共に微小とすると、
数2は数1の関係から、
N · sin θ = sin α Now, if both the angle θ and the angle α are small,
Equation 2 is obtained from the relationship of Equation 1,

【数3】 n・θ=θ+δ となり、したがって、数3より数4が得られる。[Mathematical formula-see original document] n.theta. =. Theta. +. Delta.

【数4】 δ=(n−1)・θ このように、出射面22から出射するレーザ光Aが入射
側の光軸方向に対して数4に基づく角度δだけ屈折する
ことになる。
Δ = (n−1) · θ Thus, the laser beam A emitted from the emission surface 22 is refracted by the angle δ based on Expression 4 with respect to the optical axis direction on the incident side.

【0039】そして、プリズム11が入射側の光軸を中
心にして回転しているときは、出射側のレーザ光は角度
δだけ屈折した状態で入射側の光軸の回りに円錐体の外
周面を形成するように回転する。この回転速度ωは、プ
リズム11の回転速度ωと同一となる。この回転するレ
ーザ光はポリゴンミラー3に入射し、この反射面からの
レーザ光はポリゴンミラー3の回転速度に応じた走査速
度Vで液晶マスク5の面上に一方向に走査される。この
とき、レーザ光は、液晶マスク5の面内で上記回転速度
ωで回転しながら、上記走査速度Vで一方向に走査する
ので、その軌跡は図4に示すようなトロコイド状又はサ
イクロイド状の軌跡となる。そして、回転速度ωと走査
速度Vとの比率に応じて、トロコイド状としたり、又は
サイクロイド状としたりすることができる。また、この
比率によって、単位面積当たりのレーザ光軌跡が通過す
る密度を調整することができる。
When the prism 11 is rotating around the optical axis on the incident side, the laser beam on the output side is refracted by the angle δ and the outer peripheral surface of the cone around the optical axis on the incident side. Rotate to form This rotation speed ω is the same as the rotation speed ω of the prism 11. The rotating laser light is incident on the polygon mirror 3, and the laser light from the reflecting surface is scanned in one direction on the surface of the liquid crystal mask 5 at a scanning speed V corresponding to the rotation speed of the polygon mirror 3. At this time, the laser beam scans in one direction at the scanning speed V while rotating at the rotation speed ω in the plane of the liquid crystal mask 5, so that the trajectory has a trochoidal or cycloidal shape as shown in FIG. It becomes a trajectory. Then, according to the ratio between the rotation speed ω and the scanning speed V, it is possible to form a trochoid or a cycloid. Further, the density at which the laser light trajectory per unit area passes can be adjusted by this ratio.

【0040】このようにして、レーザ光軌跡を走査方向
に対して直交する方向に振ることによって、また上記の
ように回転速度ωと走査速度Vの大きさを調整すること
によって、単位面積当たりのレーザ光強度分布が均一に
なるように調整することができる。この結果、走査速度
Vを遅くしなくても液晶マスク5の面上でのレーザ光強
度が均一化されるので、刻印速度を犠牲にせずに刻印深
さが均一となる。これによって、刻印外観品質が向上す
る。なお、本実施形態では、前記入射面21に直交する
軸の回りにプリズム11を回転させるとともに、レーザ
光Aを前記入射面21に直交するように入射させている
が、これには限定されない。すなわち、前記入射面21
に対して垂直以外の所定の角度で交わる軸の回りに回転
させるとともに、レーザ光Aを入射面21に対して垂直
以外の所定の角度で交わるように入射させてもよい。こ
のとき、入射面21とこの回転軸との成す角度、及び入
射面21と入射レーザ光Aとの成す角度を調整して、出
射面からの出射光が液晶マスク5の面上で略トロコイド
状又はサイクロイド状の軌跡を描くようにすることが可
能であり、本光学装置10aは上記同様の作用及び効果
を有する。
In this manner, by oscillating the laser beam trajectory in the direction orthogonal to the scanning direction and adjusting the rotation speed ω and the scanning speed V as described above, the Adjustment can be made so that the laser light intensity distribution becomes uniform. As a result, the laser beam intensity on the surface of the liquid crystal mask 5 is made uniform without lowering the scanning speed V, so that the marking depth becomes uniform without sacrificing the marking speed. This improves the quality of the stamp appearance. In the present embodiment, the prism 11 is rotated around an axis orthogonal to the incident surface 21 and the laser light A is incident so as to be orthogonal to the incident surface 21. However, the present invention is not limited to this. That is, the incident surface 21
May be rotated about an axis that intersects at a predetermined angle other than perpendicular to the laser beam A, and the laser beam A may be incident on the incident surface 21 so as to intersect at a predetermined angle other than perpendicular. At this time, the angle formed between the incident surface 21 and the rotation axis and the angle formed between the incident surface 21 and the incident laser light A are adjusted so that the light emitted from the emission surface is substantially trochoidal on the surface of the liquid crystal mask 5. Alternatively, it is possible to draw a cycloidal locus, and the optical device 10a has the same operation and effect as described above.

【0041】次に、図5〜図7に基づいて第2実施形態
を説明する。図5は本実施形態の光学装置10bを表す
斜視図を示し、図6はその側面図を示している。プリズ
ム31は、レーザ光Aが入射する入射面21と出射する
出射面22とは非平行になっており、また、この入射面
21から見たプリズム31の外形は円形又は楕円形をし
ている。このようなプリズム31は、円筒形状の光透過
部材を、少なくとも1面は底面に対して非平行で、か
つ、互いに非平行な2面で切断して形成することができ
る。本実施形態では、円筒形状の光透過部材を、1つの
面は底面に平行に、他面は底面に非平行に切断した例を
示している。そして、プリズム31はこの円形又は楕円
形の中心線の回りに回動自在に設けられている。プリズ
ム31の回動中心には回転駆動手段32の回転シャフト
が取着されており、プリズム31はこの回転駆動手段3
2によって所定方向に回動するようになっている。そし
て、レーザ光Aが前記入射面21に直交して入射するよ
うに、ビーム調整レンズ2とポリゴンミラー3間にプリ
ズム31及び回転駆動手段32は配設されている。(図
1を参照)
Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a perspective view showing the optical device 10b of the present embodiment, and FIG. 6 is a side view thereof. In the prism 31, the incident surface 21 on which the laser light A is incident and the exit surface 22 from which the laser light A exits are non-parallel, and the outer shape of the prism 31 viewed from the incident surface 21 is circular or elliptical. . Such a prism 31 can be formed by cutting a cylindrical light transmitting member by two surfaces that are non-parallel to at least one surface and non-parallel to the bottom surface. In the present embodiment, an example is shown in which a cylindrical light transmitting member is cut such that one surface is parallel to the bottom surface and the other surface is non-parallel to the bottom surface. The prism 31 is provided rotatably around the circular or elliptical center line. The rotation shaft of the rotation driving means 32 is attached to the center of rotation of the prism 31.
2 rotates in a predetermined direction. The prism 31 and the rotation driving means 32 are arranged between the beam adjusting lens 2 and the polygon mirror 3 so that the laser light A is incident on the incident surface 21 at right angles. (See Fig. 1)

【0042】以下に、このような構成における作用を説
明する。プリズム31が回転すると、図6における側面
から見た出射面22のレーザ光Aの光軸に対する傾斜角
度βが所定角度範囲以内で変化する。すなわち、この傾
斜角度βは90°を中心にして(90°±θ)の角度範
囲以内で振れることになる。いま、プリズム31が図6
に実線で描かれた位置にあるとき、レーザ光Aは出射面
22の点D1 で入射側の光軸に対して図示で下方に角度
δだけ偏向し、また、二点鎖線で描かれた位置にあると
きは、レーザ光Aは出射面22の点D2 で入射側の光軸
に対して図示で上方に角度δだけ偏向する。このことか
らも分かるように、出射面22からの出射光は、その偏
向点が上記点D1 〜点D2 間を往復し、かつ、この偏向
点から入射側の光軸の回りにプリズム31と同一の回転
方向に回転することになる。そして、プリズム31から
出射されたレーザ光Aはポリゴンミラー3によって反射
され、液晶マスク5の面上を走査する。これによって、
前記図4で示した軌跡と同様に、レーザ光は略トロコイ
ド状又はサイクロイド状の軌跡を描く。ただし、液晶マ
スク5の面内での軌跡の回転半径が、上記屈折点の点D
1 〜点D2 間の往復に伴って変化する。しかし、この変
化量は液晶マスク5の寸法に比して非常に小さいので、
液晶マスク5の面内での軌跡は、前実施形態の場合と略
同様であると見做される。
The operation of such a configuration will be described below. When the prism 31 rotates, the inclination angle β of the emission surface 22 with respect to the optical axis of the laser light A as viewed from the side in FIG. 6 changes within a predetermined angle range. That is, the inclination angle β swings within an angle range of (90 ° ± θ) around 90 °. Now, the prism 31 is shown in FIG.
When the laser beam A is in the position drawn by the solid line, the laser beam A is deflected downward by an angle δ with respect to the optical axis on the incident side at the point D1 on the emission surface 22 as shown in FIG. , The laser light A is deflected upward by an angle δ with respect to the optical axis on the incident side at the point D2 on the emission surface 22 as shown in FIG. As can be seen from this, the outgoing light from the outgoing surface 22 has its deflection point reciprocating between the points D1 and D2 and the same as the prism 31 around the optical axis on the incident side from this deflection point. Will rotate in the direction of rotation. The laser beam A emitted from the prism 31 is reflected by the polygon mirror 3 and scans the surface of the liquid crystal mask 5. by this,
Similar to the locus shown in FIG. 4, the laser beam draws a substantially trochoidal or cycloidal locus. However, the radius of gyration of the locus in the plane of the liquid crystal mask 5 is the point D of the refraction point.
It changes with reciprocation between 1 and point D2. However, since this variation is very small compared to the size of the liquid crystal mask 5,
The locus in the plane of the liquid crystal mask 5 is considered to be substantially the same as in the case of the previous embodiment.

【0043】このようにして、本実施形態においても、
レーザ光軌跡を走査方向に対して直交する方向に振るこ
とが可能となり、またプリズム31の回転速度ωとポリ
ゴンミラー3の走査速度Vの大きさを調整することによ
って、液晶マスク5の単位面積当たりのレーザ光強度分
布を調整することができる。この結果、走査速度Vを遅
くしなくても液晶マスク5の面上でのレーザ光強度が均
一化されるので、刻印速度を犠牲にせずに刻印深さが均
一となる。したがって、刻印外観品質が向上する。
As described above, also in this embodiment,
The laser beam trajectory can be swung in a direction orthogonal to the scanning direction, and by adjusting the rotation speed ω of the prism 31 and the scanning speed V of the polygon mirror 3, the unit area of the liquid crystal mask 5 can be changed. Can be adjusted. As a result, the laser beam intensity on the surface of the liquid crystal mask 5 is made uniform without lowering the scanning speed V, so that the marking depth becomes uniform without sacrificing the marking speed. Therefore, the quality of the stamp appearance is improved.

【0044】なお、本実施形態の上記の説明では、プリ
ズム31の入射面21から見た外形を円形又は楕円形と
しているが、これに限定するものでなく、入射面21と
出射面22とが非平行であればよく、入射面21から見
た外形形状は問わない。例えば、図7で示す光学装置1
0cのように、前実施形態で示したプリズム11と同様
に、入射面21から見た形状を多角形(図1では、4角
形)としてもよい。また、本実施形態では、前記入射面
21に直交する軸の回りにプリズム31を回転させると
ともに、レーザ光Aを前記入射面21に直交するように
入射させているが、これには限定されない。すなわち、
前記入射面21に対して垂直以外の所定の角度で交わる
軸の回りに回転させるとともに、レーザ光Aを入射面2
1に対して垂直以外の所定の角度で交わるように入射さ
せてもよい。このとき、入射面21とこの回転軸との成
す角度、及び入射面21と入射レーザ光Aとの成す角度
を調整して、出射面からの出射光が液晶マスク5の面上
で略トロコイド状又はサイクロイド状の軌跡を描くよう
にすることが可能であり、本光学装置10bは上記同様
の作用及び効果を有する。
In the above description of the present embodiment, the outer shape of the prism 31 as viewed from the incident surface 21 is circular or elliptical. However, the present invention is not limited to this. The shape may be non-parallel, and the external shape viewed from the incident surface 21 does not matter. For example, the optical device 1 shown in FIG.
Like 0c, similar to the prism 11 shown in the previous embodiment, the shape viewed from the incident surface 21 may be a polygon (a quadrangle in FIG. 1). In the present embodiment, the prism 31 is rotated around an axis orthogonal to the incident surface 21 and the laser light A is incident so as to be orthogonal to the incident surface 21. However, the present invention is not limited to this. That is,
The laser light A is rotated about an axis that intersects the incident surface 21 at a predetermined angle other than perpendicular to the incident surface 21 and the laser light A is incident on the incident surface 2.
Alternatively, the light may be incident so as to intersect at a predetermined angle other than perpendicular to 1. At this time, the angle formed between the incident surface 21 and the rotation axis and the angle formed between the incident surface 21 and the incident laser light A are adjusted so that the light emitted from the emission surface is substantially trochoidal on the surface of the liquid crystal mask 5. Alternatively, it is possible to draw a cycloidal locus, and the optical device 10b has the same operation and effect as described above.

【0045】次に、図8及び図9に基づいて、第3実施
形態を説明する。図8は、本実施形態の要部斜視図を示
している。同図において、ガラス等の光透過材で構成さ
れた平行板35は回転自在に設けられており、回転駆動
手段32によって所定方向に回転される。平行板35の
互いに平行な入射面21及び出射面22は、平行板35
の回転中心軸に対して所定角度θ(ただし、90°を除
く)だけ傾斜して取着されている。ここで本実施形態で
は、この平行板35の外形形状は円形となっており、円
筒部材を底面に平行な2面で切断したものであるが、こ
の形状に限定されない。例えば、円筒部材を底面に非平
行で、かつ、互いに平行な2面で切断したもので構成し
てもよいし、あるいは、多角柱部材を平行な2面で切断
したものでも構成してもよい。
Next, a third embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is a perspective view of a main part of the present embodiment. In the figure, a parallel plate 35 made of a light transmitting material such as glass is provided rotatably, and is rotated in a predetermined direction by a rotation driving unit 32. The parallel entrance surface 21 and exit surface 22 of the parallel plate 35 are
Is attached at a predetermined angle θ (excluding 90 °) with respect to the rotation center axis. Here, in the present embodiment, the outer shape of the parallel plate 35 is circular, and the cylindrical member is cut by two surfaces parallel to the bottom surface, but is not limited to this shape. For example, the cylindrical member may be formed by cutting the base member in two planes that are non-parallel to each other and parallel to each other, or may be formed by cutting the polygonal column member in two parallel planes. .

【0046】また、レーザ光Aが上記回転中心軸の方向
と平行に入射面21に入射するように、ビーム調整レン
ズ2とポリゴンミラー3間に平行板35及び回転駆動手
段32は配設されている。(図1を参照)したがって、
平行板35の回転に伴って、レーザ光の入射面21への
入射角度が変化する、すなわち、光軸に対して「θ〜
(180°−θ)」で表されるような所定角度範囲で振
れることになる。
The parallel plate 35 and the rotation driving means 32 are arranged between the beam adjusting lens 2 and the polygon mirror 3 so that the laser light A is incident on the incident surface 21 in parallel with the direction of the rotation center axis. I have. (See FIG. 1)
With the rotation of the parallel plate 35, the incident angle of the laser light on the incident surface 21 changes, that is, “θθ
(180 ° −θ) ”.

【0047】図9は、本実施形態の作用を説明してい
る。いま、平行板35がレーザ光Aに対して図9(1) に
示すような位置にあるとき、出射面22からの出射光
は、入射側の光軸と平行で、かつ、光軸から距離Lだけ
離れて図示で下方に出射される。また、平行板35がレ
ーザ光Aに対して図9(2) に示すような位置にあると
き、出射面22からの出射光は、入射側の光軸と平行
で、かつ、光軸から距離Lだけ離れて図示で上方に出射
される。なお、この距離Lは、平行板35の厚さ、及び
平行板35と回転中心軸との角度θによって設定され
る。したがって、平行板35の回転に伴って、この出射
光は入射側の光軸を中心にして、かつ、光軸からの距離
がLであるような円筒面を描くことになる。そして、上
記出射光はポリゴンミラー3によって反射され、液晶マ
スク5の面上を走査するので、前記図4で示した軌跡と
同様に、レーザビームはトロコイド状又はサイクロイド
状の軌跡を描く。
FIG. 9 illustrates the operation of the present embodiment. Now, when the parallel plate 35 is at a position as shown in FIG. 9A with respect to the laser light A, the light emitted from the emission surface 22 is parallel to the optical axis on the incident side and at a distance from the optical axis. The light is emitted downward by a distance L in the figure. When the parallel plate 35 is at a position shown in FIG. 9 (2) with respect to the laser beam A, the light emitted from the emission surface 22 is parallel to the optical axis on the incident side and at a distance from the optical axis. The light is emitted upward by a distance L in the figure. The distance L is set by the thickness of the parallel plate 35 and the angle θ between the parallel plate 35 and the rotation center axis. Accordingly, with the rotation of the parallel plate 35, the emitted light draws a cylindrical surface whose center is the optical axis on the incident side and whose distance from the optical axis is L. The emitted light is reflected by the polygon mirror 3 and scans the surface of the liquid crystal mask 5, so that the laser beam draws a trochoidal or cycloidal trajectory, similarly to the trajectory shown in FIG.

【0048】このようにして、レーザ光軌跡を液晶マス
ク5の面上の走査方向に対して直交する方向に振ること
が可能となる。また、平行板35の回転速度ωとポリゴ
ンミラー3の走査速度Vの大きさを調整することによっ
て、液晶マスク5の単位面積当たりのレーザ光強度分布
を調整することができる。この結果、走査速度Vを遅く
しなくても液晶マスク5の面上でのレーザ光強度が均一
化されるので、刻印速度を犠牲にせずに刻印深さが均一
となる。したがって、刻印外観品質が向上する。また、
出射光が光軸に平行となり、光軸からの距離Lを平行板
35の厚さや傾斜角によって容易に調整できるので、マ
スク面状の軌跡を調整し易くなる。
In this way, it is possible to traverse the laser beam trajectory in a direction orthogonal to the scanning direction on the surface of the liquid crystal mask 5. Further, by adjusting the rotation speed ω of the parallel plate 35 and the scanning speed V of the polygon mirror 3, the laser light intensity distribution per unit area of the liquid crystal mask 5 can be adjusted. As a result, the laser beam intensity on the surface of the liquid crystal mask 5 is made uniform without lowering the scanning speed V, so that the marking depth becomes uniform without sacrificing the marking speed. Therefore, the quality of the stamp appearance is improved. Also,
The emitted light becomes parallel to the optical axis, and the distance L from the optical axis can be easily adjusted by the thickness and the inclination angle of the parallel plate 35, so that it is easy to adjust the locus of the mask plane.

【0049】次に、図10〜図13に基づいて、第4実
施形態を説明する。図10は、本実施形態に係わる光学
装置10eの要部斜視図を示している。偏向部材40
は、入射されるレーザ光Aを透過して出射するときに、
光軸を含む平面内で、2つ以上の方向に振動的に偏向し
て出射するものであり、その透過部は例えばガラス等の
光透過材によって構成される。この偏向部材40は、円
板41と、この円板41の一方の面に環状に配設され、
かつ、波面状の屈折面を有する波面部材42とからなっ
ている。この円板41及び波面部材42は上記光透過材
よりなり、波面部材42の波面に反対側の面は円板41
に張り付け等によって取着されている。また、この偏向
部材40は回転可能に設けられており、図示しない回転
駆動手段(例えば、図5の回転駆動手段32と同等)に
よって回転される。レーザ光は円板41の波面部材42
と反対側の入射面21に入射し、この入射面21は上記
回転の中心軸と直交している。そして、レーザ光Aの光
軸がこの回転中心軸と平行となるように、偏向部材40
は、ビーム調整レンズ2とポリゴンミラー3間に配設さ
れている。(図1を参照)よって、レーザ光は円板41
の入射面21に直交して入射され、円板41及び波面部
材42を透過し、波面部材42の波面状の屈折面から出
射される。
Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a perspective view of a main part of an optical device 10e according to the present embodiment. Deflection member 40
Is transmitted through the incident laser light A and emitted.
The light is emitted while being deflected in two or more directions in a plane including the optical axis, and the transmitting portion is made of a light transmitting material such as glass. The deflecting member 40 is disposed in a circular shape on a circular plate 41 and on one surface of the circular plate 41.
And a wavefront member 42 having a wavefront refraction surface. The disk 41 and the wavefront member 42 are made of the above-described light transmitting material, and the surface of the wavefront member 42 opposite to the wavefront is a disk 41.
It is attached by sticking to. The deflecting member 40 is rotatably provided, and is rotated by a rotation driving unit (not shown) (for example, equivalent to the rotation driving unit 32 in FIG. 5). The laser beam is applied to the wavefront member 42 of the disc 41.
The incident surface 21 is opposite to the incident surface 21, and the incident surface 21 is orthogonal to the center axis of the rotation. Then, the deflecting member 40 is set so that the optical axis of the laser beam A is parallel to the rotation center axis.
Is disposed between the beam adjusting lens 2 and the polygon mirror 3. (See FIG. 1).
Are incident orthogonally to the incident surface 21 of the first lens, pass through the disk 41 and the wavefront member 42, and are emitted from the wavefront-like refraction surface of the wavefront member 42.

【0050】レーザ光Aが上記入射面21に入射してい
る状態で偏向部材40が回転すると、レーザ光Aが円板
41に入射する位置Eの軌跡43は回転軸を中心とした
円となる。この軌跡43に沿って、波面部材42が配設
されている。この軌跡43に沿った断面図P−Pを、図
11に示す。波面部材42の波面は、この軌跡43に沿
って一周したときに、丁度所定数の波が形成されるよう
になっており、例えば正弦波や他の連続したなだらかな
振動関数によって表現される波面によって構成される。
なお、この波面部材42は、成形によって全体を一体化
して構成してもよいし、1周期の波面毎に分割した複数
の部材で構成してもよい。
When the deflecting member 40 rotates while the laser light A is incident on the incident surface 21, the trajectory 43 of the position E where the laser light A is incident on the disk 41 becomes a circle centered on the rotation axis. . Along the trajectory 43, a wavefront member 42 is provided. FIG. 11 shows a cross-sectional view PP along the locus 43. When the wavefront of the wavefront member 42 makes a round along the trajectory 43, a predetermined number of waves are formed, and for example, a wavefront expressed by a sine wave or another continuous gentle vibration function. Composed of
The wavefront member 42 may be integrally formed by molding or may be formed of a plurality of members divided for each cycle of the wavefront.

【0051】このような構成の偏向部材40による作用
を、図12に基づいて説明する。いま、図12(1) や図
12(3) に示すように、レーザ光Aが波面の山又は谷の
部分と異なる傾斜面に入射したとき、出射光はこの傾斜
面の傾斜角度に応じた方向及び角度に従って屈折する。
図12(1) では下方に、また図12(3) では上方に屈折
している。また、図12(2) に示すように、レーザ光A
が波面の山又は谷の頂点に相当する面に入射したとき
は、出射光は屈折せずに直進する。この偏向部材40を
所定方向に回転させることによって、レーザ光の入射位
置が前記軌跡43の波面に沿って移動するので、出射光
は入射側の光軸方向を中心にして所定角度範囲で(図1
2では、上下方向に)連続的に振れることになる。した
がって、この出射光の振れる方向を液晶マスク5の走査
方向に直交する方向とすることによって、液晶マスク5
の面上を均一に走査することができる。
The operation of the deflecting member 40 having such a configuration will be described with reference to FIG. Now, as shown in FIG. 12 (1) and FIG. 12 (3), when the laser beam A is incident on an inclined surface different from the peak or valley of the wavefront, the emitted light depends on the inclination angle of this inclined surface. Refracts according to direction and angle.
In FIG. 12 (1), it is refracted downward, and in FIG. 12 (3), it is refracted upward. In addition, as shown in FIG.
Is incident on the surface corresponding to the peak of the peak or valley of the wavefront, the emitted light goes straight without being refracted. By rotating the deflecting member 40 in a predetermined direction, the incident position of the laser beam moves along the wavefront of the trajectory 43, so that the outgoing light has a predetermined angle range centered on the optical axis direction on the incident side (see FIG. 1
In (2), the vibration is continuous (in the vertical direction). Therefore, by setting the direction in which the emitted light fluctuates in a direction perpendicular to the scanning direction of the liquid crystal mask 5, the liquid crystal mask 5
Can be uniformly scanned on the surface of the.

【0052】図13は、本実施形態におけるレーザビー
ムの液晶マスク5での軌跡を示している。同図で示すよ
うに、レーザビームは走査方向に直交する方向に所定の
周期(波面の周期と等しい)で振れて走査されるので、
その軌跡は略三角波状となる。ここで、波面の波形、偏
向部材40の一回転当たりの波数、偏向部材40の回転
速度ω及び走査速度Vの関係によって、上記軌跡形状が
変化する。したがって、これらの関係を所定値に設定す
ることによって、液晶マスク5の面内における単位面積
当たりのレーザビームの強度分布を均一にすることがで
きる。この結果、刻印深さを均一にすることが可能とな
る。
FIG. 13 shows the trajectory of the laser beam on the liquid crystal mask 5 in this embodiment. As shown in the figure, the laser beam is scanned while swinging at a predetermined cycle (equal to the cycle of the wavefront) in a direction orthogonal to the scanning direction.
The trajectory is substantially triangular. Here, the locus shape changes depending on the relationship between the wavefront waveform, the number of waves per rotation of the deflecting member 40, the rotation speed ω of the deflecting member 40, and the scanning speed V. Therefore, by setting these relationships to predetermined values, the intensity distribution of the laser beam per unit area in the plane of the liquid crystal mask 5 can be made uniform. As a result, it is possible to make the marking depth uniform.

【0053】なお、本実施形態では、レーザ光は偏向部
材40の入射面21に直交して入射するようにしている
が、これに限定されない。すなわち、例えば、前記入射
位置Eを通る円板41の半径方向に直交する平面内で、
かつ、入射面21に対して所定角度傾斜させた方向から
レーザ光を入射してもよい。この場合には、入射したレ
ーザ光は円板41によって所定方向に屈折し、この屈折
したレーザ光が波面部材42を透過して出射面22に到
達し、この出射面22で偏向される。この偏向方向は、
上記での説明と同様にして、光軸を含む平面(この場合
は、光軸を含み、かつ、入射位置Eを通る円板41の半
径方向に直交する平面)内の複数方向に連続的に振れ
る。この出射されたレーザ光を上記同様にして液晶マス
ク5面上に走査することによって、液晶マスク5の面内
における単位面積当たりのレーザビームの強度分布を均
一にすることができる。
In this embodiment, the laser beam is made to enter the incident surface 21 of the deflecting member 40 at right angles. However, the present invention is not limited to this. That is, for example, in a plane orthogonal to the radial direction of the disc 41 passing through the incident position E,
Further, the laser light may be incident from a direction inclined at a predetermined angle with respect to the incident surface 21. In this case, the incident laser light is refracted in a predetermined direction by the disk 41, and the refracted laser light passes through the wavefront member 42 and reaches the emission surface 22, where it is deflected. The direction of this deflection is
Similarly to the above description, continuously in a plurality of directions in a plane including the optical axis (in this case, a plane including the optical axis and orthogonal to the radial direction of the disk 41 passing through the incident position E). Swing. By scanning the emitted laser light on the surface of the liquid crystal mask 5 in the same manner as described above, the intensity distribution of the laser beam per unit area in the surface of the liquid crystal mask 5 can be made uniform.

【0054】次に、図14〜図17に基づいて第5実施
形態を説明する。本実施形態では、前述の第4実施形態
における波面部材42の代替として、前記出射面22に
多角錐の側面外周部を用いた多面部材を使用している。
このときの光学装置10fの偏向部材40の斜視図を図
14に示している。円板41の入射面21と反対側の面
には、レーザ光Aの入射位置Eが描く軌跡46に沿っ
て、複数の多面部材45が互いに密に隣接して配設され
ている。円板41と複数の多面部材45はガラス等の光
透過材よりなり、多面部材45の多面側と反対側の面は
円板41に張り付け等によって取着されている。また、
この偏向部材40は回転可能に設けられており、図示し
ない回転駆動手段(例えば、図5の回転駆動手段32と
同等)によって回転される。レーザ光は円板41の多面
部材45と反対側の入射面21に入射し、この入射面2
1は上記回転の中心軸と直交している。そして、レーザ
光Aの光軸がこの回転中心軸と平行となるように、偏向
部材40は、ビーム調整レンズ2とポリゴンミラー3間
に配設されている。(図1を参照)よって、レーザ光は
円板41の入射面21に直交して入射され、円板41及
び多面部材45を透過し、多面部材45の多面状の出射
面22から出射される。
Next, a fifth embodiment will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, as an alternative to the wavefront member 42 in the above-described fourth embodiment, a polyhedral member having a polygonal pyramid side peripheral portion is used for the emission surface 22.
FIG. 14 is a perspective view of the deflection member 40 of the optical device 10f at this time. A plurality of polyhedral members 45 are arranged closely adjacent to each other on a surface of the disk 41 opposite to the incident surface 21 along a locus 46 drawn by the incident position E of the laser beam A. The disk 41 and the plurality of polyhedral members 45 are made of a light transmitting material such as glass, and the surface of the polyhedral member 45 on the side opposite to the polyhedral side is attached to the disk 41 by bonding or the like. Also,
The deflecting member 40 is rotatably provided, and is rotated by rotation driving means (not shown) (for example, equivalent to the rotation driving means 32 in FIG. 5). The laser light is incident on the incident surface 21 of the disk 41 on the side opposite to the polyhedral member 45, and the incident surface 2
1 is orthogonal to the center axis of the rotation. The deflecting member 40 is disposed between the beam adjusting lens 2 and the polygon mirror 3 so that the optical axis of the laser beam A is parallel to the rotation center axis. Therefore, the laser beam is incident perpendicularly to the incident surface 21 of the disk 41, passes through the disk 41 and the polyhedral member 45, and is emitted from the polyhedral emission surface 22 of the polyhedral member 45. .

【0055】各多面部材45の出射面22は多角錐の側
面の互いに隣接する複数面と相似の多面で形成されてて
おり、図14においては、所定の多角錐の隣接する3つ
の側面と相似形状となっている。各多面部材45は、上
記出射面22が入射面21と反対側になるように、か
つ、上記多角錐の頂点が円板41の回転中心と一致する
ように、前記軌跡46に沿って環状に配設されている。
このときの軌跡46に沿った断面図Q−Qを、図15に
示す。レーザ光Aはこの断面形状の偏向部材40の入射
面21に入射し、偏向部材40の回転に伴って、上記断
面形状の偏向部材40がレーザ光を連続的に横切ること
になる。
The outgoing surface 22 of each polyhedral member 45 is formed by a polyhedron similar to a plurality of adjacent sides of the polygonal pyramid, and in FIG. 14, it is similar to three adjacent sides of a predetermined polygonal pyramid. It has a shape. Each polyhedral member 45 is formed in an annular shape along the trajectory 46 such that the emission surface 22 is on the opposite side of the incidence surface 21 and the apex of the polygonal pyramid coincides with the rotation center of the disk 41. It is arranged.
FIG. 15 shows a sectional view QQ along the locus 46 at this time. The laser light A is incident on the incident surface 21 of the deflecting member 40 having the cross-sectional shape, and the deflecting member 40 having the cross-sectional shape continuously crosses the laser light as the deflecting member 40 rotates.

【0056】このような構成の偏向部材40による作用
を、図16に基づいて説明する。いま、図16(1) に示
すように、多面部材45の中央部の出射面22がレーザ
光Aを横切っているときは、本例では光軸が出射面22
に直交しているので出射光は出射面22で屈折せず直進
する。次に、図16(2) 及び図16(3) に示すように、
中央部の出射面22と異なる面がレーザ光Aを横切って
いるときは、光軸が出射面22と90°以外の所定角度
を成しているので、出射光はこの傾斜角度に応じた方向
及び角度に従って屈折する。図16(2) では上方に、ま
た図16(3) では下方に屈折する。また、偏向部材40
を所定方向に回転させることによって、レーザ光Aの入
射位置が前記軌跡46に沿って順次(図16の(1) →
(2) →(3)→(1) のように)移動するので、出射光は入
射側の光軸方向を中心にして所定角度で(図16では、
上下方向に)振れることになる。したがって、出射光の
振れる方向を液晶マスク5の走査方向に直交する方向と
することによって、液晶マスク5の面上を均一に走査す
ることができる。
The operation of the deflecting member 40 having such a configuration will be described with reference to FIG. Now, as shown in FIG. 16A, when the emission surface 22 at the center of the polyhedral member 45 crosses the laser beam A, in this example, the optical axis is
Are emitted, and the emitted light goes straight without being refracted on the emission surface 22. Next, as shown in FIGS. 16 (2) and 16 (3),
When a plane different from the emission surface 22 at the center crosses the laser beam A, the optical axis forms a predetermined angle other than 90 ° with the emission surface 22, so that the emission light is directed in a direction corresponding to the inclination angle. And refracted according to the angle. The light is refracted upward in FIG. 16 (2) and downward in FIG. 16 (3). The deflection member 40
Is rotated in a predetermined direction, so that the incident position of the laser beam A is sequentially along the trajectory 46 ((1) in FIG. 16 →
(2) → (3) → (1)), the emitted light is at a predetermined angle around the optical axis direction on the incident side (in FIG. 16,
(Up and down). Therefore, by setting the direction in which the emitted light fluctuates in a direction perpendicular to the scanning direction of the liquid crystal mask 5, the surface of the liquid crystal mask 5 can be uniformly scanned.

【0057】図17は、本実施形態におけるレーザビー
ムの液晶マスク5での軌跡を示している。同図で示すよ
うに、レーザビームは走査方向に直交する方向に所定の
周期(多面の周期と等しい)で振れて走査されるので、
その軌跡は略三角波状となる。ここで、各多面部材45
の面数、隣接する面同士の成す角度、偏向部材40の一
回転当たりの多面部材45の数、偏向部材40の回転速
度ω及び走査速度V等の関係によって、上記軌跡形状が
変化する。したがって、これらの関係を所定値に設定す
ることによって、液晶マスク5の面内における単位面積
当たりのレーザビームの強度分布を均一にすることがで
きる。この結果、刻印深さを均一にすることが可能とな
る。
FIG. 17 shows the trajectory of the laser beam on the liquid crystal mask 5 in this embodiment. As shown in the figure, since the laser beam is scanned while swinging at a predetermined period (equal to the period of the multi-plane) in a direction orthogonal to the scanning direction,
The trajectory is substantially triangular. Here, each polyhedral member 45
The shape of the trajectory changes depending on the relationship between the number of surfaces, the angle between adjacent surfaces, the number of polyhedral members 45 per rotation of the deflecting member 40, the rotational speed ω of the deflecting member 40, the scanning speed V, and the like. Therefore, by setting these relationships to predetermined values, the intensity distribution of the laser beam per unit area in the plane of the liquid crystal mask 5 can be made uniform. As a result, it is possible to make the marking depth uniform.

【0058】なお、本実施形態では、レーザ光は偏向部
材40の入射面21に直交して入射するようにしている
が、これに限定されない。すなわち、例えば、多面部材
45の多角錐の中心線に直交する平面内で、かつ、入射
面21に対して所定角度傾斜させた方向からレーザ光を
入射してもよい。この場合には、入射したレーザ光は円
板41によって所定方向に屈折し、この屈折したレーザ
光が多面部材45を透過して出射面22に到達し、この
出射面22で偏向される。この偏向方向は、上記での説
明と同様にして、光軸を含む平面(この場合は、光軸を
含み、かつ、多面部材45の上記多角錐中心線に直交す
る平面)内の、出射面22の偏向曲面の各面に対応した
複数の所定方向に振れる。この出射されたレーザ光を上
記同様にして液晶マスク5面上に走査することによっ
て、液晶マスク5の面内における単位面積当たりのレー
ザビームの強度分布を均一にすることができる。
In this embodiment, the laser beam is made to enter the incidence surface 21 of the deflecting member 40 at right angles. However, the present invention is not limited to this. That is, for example, the laser beam may be incident on a plane orthogonal to the center line of the polygonal pyramid of the polyhedral member 45 and in a direction inclined at a predetermined angle with respect to the incident surface 21. In this case, the incident laser light is refracted in a predetermined direction by the disk 41, and the refracted laser light passes through the polyhedral member 45 and reaches the emission surface 22, where it is deflected. The direction of this deflection is, as described above, an emission surface in a plane including the optical axis (in this case, a plane including the optical axis and perpendicular to the polygonal pyramid center line of the polyhedral member 45). The deflection surface swings in a plurality of predetermined directions corresponding to the respective surfaces of the 22 deflection curved surfaces. By scanning the emitted laser light on the surface of the liquid crystal mask 5 in the same manner as described above, the intensity distribution of the laser beam per unit area in the surface of the liquid crystal mask 5 can be made uniform.

【0059】次に、第6実施形態を図18及び図19に
基づいて説明する。図18は、本実施形態に係わる光学
装置10gの偏向部材40の斜視図を示す。本実施形態
では、偏向部材40は円板41と円錐部材47とからな
っており、前述の第5実施形態における多面部材45の
代替として、前記屈折面に円錐の側面外周部を用いた円
錐部材47を使用している。円板41の入射面21と反
対側の面には、レーザ光Aの入射位置Eが描く軌跡48
に沿って、複数の円錐部材47が互いに密に隣接して配
設されている。円板41と複数の円錐部材47はガラス
等の光透過材よりなり、円錐部材47の円錐側面側と反
対側の面は円板41に張り付け等によって取着されてい
る。また、この偏向部材40は回転可能に設けられてお
り、図示しない回転駆動手段(例えば、図5の回転駆動
手段32と同等)によって回転される。レーザ光が入射
する円板41の入射面21は、上記回転の中心軸と直交
している。そして、レーザ光Aの光軸がこの回転中心軸
と平行となるように、偏向部材40は、ビーム調整レン
ズ2とポリゴンミラー3間に配設されている。(図1を
参照)よって、レーザ光は円板41の入射面21に直交
して入射され、円板41及び円錐部材47を透過し、円
錐部材47の円錐面状の出射面22から出射される。
Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 18 is a perspective view of the deflection member 40 of the optical device 10g according to the present embodiment. In the present embodiment, the deflecting member 40 is composed of a disc 41 and a conical member 47. As an alternative to the polyhedral member 45 in the above-described fifth embodiment, a conical member using a conical side outer peripheral portion for the refraction surface. 47 are used. On the surface opposite to the incident surface 21 of the disk 41, a locus 48 of the incident position E of the laser beam A is drawn.
, A plurality of conical members 47 are disposed closely adjacent to each other. The disk 41 and the plurality of conical members 47 are made of a light transmitting material such as glass, and the surface of the conical member 47 on the side opposite to the conical side surface is attached to the disk 41 by attaching or the like. The deflecting member 40 is rotatably provided, and is rotated by a rotation driving unit (not shown) (for example, equivalent to the rotation driving unit 32 in FIG. 5). The incident surface 21 of the disk 41 on which the laser light is incident is orthogonal to the central axis of the rotation. The deflecting member 40 is disposed between the beam adjusting lens 2 and the polygon mirror 3 so that the optical axis of the laser beam A is parallel to the rotation center axis. Therefore, the laser beam is incident perpendicularly to the incident surface 21 of the disk 41, passes through the disk 41 and the conical member 47, and is emitted from the conical emission surface 22 of the conical member 47. You.

【0060】各円錐部材47の出射面22は、円錐の側
面の一部と同一の形状を備えている。各円錐部材47
は、上記出射面22が前記入射面21と反対側になるよ
うに、かつ、上記円錐の頂点が円板41の回転中心と一
致するように、前記軌跡48に沿って環状に配設されて
いる。軌跡48に沿った断面形状は、円弧状の部材が密
に隣接して配設されたようになっている。レーザ光Aは
この断面形状の入射面21に入射し、偏向部材40の回
転に伴って、上記断面形状の偏向部材40がレーザ光を
連続的に横切ることになる。これによって、レーザ光A
は円錐形状の出射面22によって、光軸を含む平面(図
18の場合は、光軸を含み、かつ、入射面21に直交す
る平面)内の複数の所定方向に連続的に偏向される。ま
た、隣接する円錐部材47の出射面22に切り替わると
きには、不連続的に偏向される。このようにして、図1
9に示すような軌跡を描くことになる。
The exit surface 22 of each conical member 47 has the same shape as a part of the side surface of the cone. Each conical member 47
Are arranged annularly along the trajectory 48 such that the emission surface 22 is on the opposite side to the incidence surface 21 and the apex of the cone is coincident with the center of rotation of the disk 41. I have. The cross-sectional shape along the trajectory 48 is such that arc-shaped members are closely arranged. The laser light A is incident on the incident surface 21 having this cross-sectional shape, and the deflecting member 40 having the above-mentioned cross-sectional shape continuously crosses the laser light with the rotation of the deflecting member 40. Thereby, the laser light A
Is continuously deflected by the conical emission surface 22 in a plurality of predetermined directions in a plane including the optical axis (in FIG. 18, a plane including the optical axis and orthogonal to the incident surface 21). Also, when switching to the exit surface 22 of the adjacent conical member 47, it is deflected discontinuously. Thus, FIG.
A locus as shown in FIG. 9 is drawn.

【0061】図19は、本実施形態におけるレーザビー
ムの液晶マスク5での軌跡を示している。同図で示すよ
うに、レーザビームは走査方向に直交する方向に所定の
周期(円錐部材47の周期と等しい)で振れて走査され
るので、その軌跡は略三角波状となる。ここで、各円錐
部材47の円弧の半径、偏向部材40の一回転当たりの
円錐部材47の数、偏向部材40の回転速度ω及び走査
速度V等の関係によって、上記軌跡形状が変化する。し
たがって、これらの関係を所定値に設定することによっ
て、液晶マスク5の面内における単位面積当たりのレー
ザビームの強度分布を均一にすることができる。この結
果、刻印深さを均一にすることが可能となる。
FIG. 19 shows the trajectory of the laser beam on the liquid crystal mask 5 in this embodiment. As shown in the figure, since the laser beam is scanned while being swung in a direction perpendicular to the scanning direction at a predetermined period (equal to the period of the conical member 47), the trajectory is substantially triangular. Here, the locus shape changes depending on the relationship between the radius of the arc of each conical member 47, the number of conical members 47 per one rotation of the deflecting member 40, the rotation speed ω of the deflecting member 40, the scanning speed V, and the like. Therefore, by setting these relationships to predetermined values, the intensity distribution of the laser beam per unit area in the plane of the liquid crystal mask 5 can be made uniform. As a result, it is possible to make the marking depth uniform.

【0062】なお、本実施形態では、レーザ光は偏向部
材40の入射面21に直交して入射するようにしている
が、これに限定されない。すなわち、例えば、円錐部材
47の円錐中心線に直交する平面内で、かつ、入射面2
1に対して所定角度傾斜させた方向からレーザ光を入射
してもよい。この場合には、入射したレーザ光は円板4
1によって所定方向に屈折し、この屈折したレーザ光が
円錐部材47を透過して出射面22に到達し、この出射
面22で偏向される。この偏向方向は、上記での説明と
同様にして、光軸を含む平面(この場合は、光軸を含
み、かつ、円錐部材47の円錐中心線に直交する平面)
内の複数の所定方向に連続的に変化し、また、隣接する
円錐部材47の出射面22に切り替わるときには不連続
的に変化する。この出射されたレーザ光を上記同様にし
て液晶マスク5面上に走査することによって、液晶マス
ク5の面内における単位面積当たりのレーザビームの強
度分布を均一にすることができる。
In this embodiment, the laser beam is made to be incident on the incident surface 21 of the deflecting member 40 at right angles. However, the present invention is not limited to this. That is, for example, in a plane orthogonal to the conical center line of the conical member 47 and the incident surface 2
Laser light may be incident from a direction inclined at a predetermined angle with respect to 1. In this case, the incident laser light is
The laser light is refracted in a predetermined direction by 1, and the refracted laser light passes through the conical member 47 and reaches the emission surface 22, where it is deflected. The deflection direction is the plane including the optical axis (in this case, the plane including the optical axis and orthogonal to the conical center line of the conical member 47) in the same manner as described above.
And continuously changes in a plurality of predetermined directions, and changes discontinuously when switching to the emission surface 22 of the adjacent conical member 47. By scanning the emitted laser light on the surface of the liquid crystal mask 5 in the same manner as described above, the intensity distribution of the laser beam per unit area in the surface of the liquid crystal mask 5 can be made uniform.

【0063】さらに、図20〜図22に基づいて第7実
施形態を説明する。図20は、本実施形態の要部側面図
を示している。プリズム51は上下動可能になってお
り、その下部に取着された振動手段52によって上下方
向に振動する。なお、この振動手段52は、例えば、圧
電素子、スピーカ駆動用の振動コイル等によって構成す
ることができる。プリズム51は上下動方向に平行な入
射面21を有し、この入射面21に垂直にレーザ光Aが
入射する。入射面21と反対側の出射面22には、多角
柱の側面外周部の隣接する複数の面を備えた偏向曲面が
配設されており、これらの複数の面の水平方向成分(紙
面に直交)は互いに平行になっている。
Further, a seventh embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 20 shows a side view of a main part of the present embodiment. The prism 51 can move up and down, and vibrates in the up and down direction by vibrating means 52 attached to a lower part thereof. The vibration means 52 can be composed of, for example, a piezoelectric element, a vibration coil for driving a speaker, and the like. The prism 51 has an incident surface 21 parallel to the vertical movement direction, and the laser light A is incident on the incident surface 21 perpendicularly. A deflection curved surface having a plurality of adjacent surfaces on the outer peripheral portion of the side surface of the polygonal prism is disposed on the exit surface 22 opposite to the entrance surface 21, and a horizontal component of the plurality of surfaces (perpendicular to the paper). ) Are parallel to each other.

【0064】上記構成における作用を説明する。振動手
段52によって振動しているプリズム51の入射面21
からレーザ光Aを入射すると、レーザ光Aは出射面の上
記複数の面を横切るので、各面に対応して上下方向に振
動的に偏向して出射される。この出射されたレーザ光
は、ポリゴンミラー3を介して液晶マスク5に照射され
る。これによって、図21のように、レーザビームは液
晶マスク5の面内で走査方向に直交する方向に所定の周
期(振動手段52の駆動周期と等しい)で振れて走査さ
れるので、その軌跡は略三角波状となる。ここで、駆動
周期時間、駆動振幅の大きさ及び走査速度V等の関係に
よって、上記軌跡形状が変化する。したがって、これら
の関係を所定値に設定することによって、液晶マスク5
の面内における単位面積当たりのレーザビームの強度分
布を均一にすることができる。この結果、刻印深さを均
一にすることが可能となる。
The operation of the above configuration will be described. Incident surface 21 of prism 51 vibrated by vibrating means 52
When the laser light A enters from above, the laser light A crosses the plurality of emission surfaces, so that the laser light A is emitted while being vibratingly deflected vertically corresponding to each surface. The emitted laser light is applied to the liquid crystal mask 5 via the polygon mirror 3. As a result, as shown in FIG. 21, the laser beam is scanned while being swung in the direction perpendicular to the scanning direction in the plane of the liquid crystal mask 5 at a predetermined cycle (equal to the drive cycle of the vibration means 52). It has a substantially triangular wave shape. Here, the locus shape changes depending on the relationship between the driving cycle time, the magnitude of the driving amplitude, the scanning speed V, and the like. Therefore, by setting these relationships to predetermined values, the liquid crystal mask 5
The intensity distribution of the laser beam per unit area in the plane can be made uniform. As a result, it is possible to make the marking depth uniform.

【0065】なお、本実施形態におけるプリズム51の
出射面の偏向曲面は、多角柱の側面外周部の隣接する複
数の面によって形成しているが、これに限定されず、光
軸を含んだ平面内で、かつ、少なくとも2つ以上の異な
る方向に偏向する曲面で形成してもよい。例えば、滑ら
かな波面や、円柱の外周側面と相似の曲面等で形成する
ことができる。また、本実施形態においては、振動方向
を光軸に直交する方向としているが、これに限定されな
い。例えば、光軸に対して直角と異なる所定角度で傾斜
した方向に振動させ、かつ、出射面22に垂直な平面が
光軸を含むように、プリズム51及び振動手段52を配
設する。このとき、出射面22において、レーザ光は光
軸を含む面内で、出射面22の偏向曲面に対応した少な
くとも2つ以上の異なる方向に偏向される。
In the present embodiment, the deflection curved surface of the exit surface of the prism 51 is formed by a plurality of adjacent surfaces on the outer peripheral portion of the side surface of the polygonal prism, but is not limited to this. And a curved surface that deflects in at least two or more different directions. For example, it can be formed with a smooth wavefront or a curved surface similar to the outer peripheral side surface of a cylinder. In the present embodiment, the vibration direction is a direction orthogonal to the optical axis, but is not limited to this. For example, the prism 51 and the vibrating means 52 are arranged so as to vibrate in a direction inclined at a predetermined angle different from a right angle with respect to the optical axis, and so that a plane perpendicular to the emission surface 22 includes the optical axis. At this time, the laser light is deflected on the emission surface 22 in at least two or more different directions corresponding to the deflection curved surface of the emission surface 22 within a plane including the optical axis.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態に係わるレーザマーカ装
置の要部斜視図を示す。
FIG. 1 is a perspective view of a main part of a laser marker device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】第1実施形態に係わるプリズムの回転駆動部の
一例を表す構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram illustrating an example of a rotation drive section of the prism according to the first embodiment.

【図3】第1実施形態に係わるプリズムの作用の説明図
である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of an operation of a prism according to the first embodiment.

【図4】第1実施形態に係わるマスク面上でのレーザビ
ームの軌跡図を示す。
FIG. 4 shows a trajectory diagram of a laser beam on a mask surface according to the first embodiment.

【図5】第2実施形態に係わる光学装置の斜視図であ
る。
FIG. 5 is a perspective view of an optical device according to a second embodiment.

【図6】図5の側面図を示す。FIG. 6 shows a side view of FIG.

【図7】第2実施形態に係わる光学装置の他例を示す構
成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram illustrating another example of the optical device according to the second embodiment.

【図8】第3実施形態における光学装置の斜視図を示
す。
FIG. 8 is a perspective view of an optical device according to a third embodiment.

【図9】第3実施形態における作用説明図である。FIG. 9 is an operation explanatory view in the third embodiment.

【図10】第4実施形態における光学装置の要部斜視図
を示す。
FIG. 10 is a perspective view of a main part of an optical device according to a fourth embodiment.

【図11】第4実施形態の図10における偏向部材のP
−P断面図を示す。
FIG. 11 is a view showing the P of the deflection member in FIG. 10 of the fourth embodiment;
FIG.

【図12】第4実施形態における作用説明図を示す。FIG. 12 is an operation explanatory view in the fourth embodiment.

【図13】第4実施形態に係わるマスク面上でのレーザ
ビームの軌跡図を示す。
FIG. 13 shows a trajectory diagram of a laser beam on a mask surface according to a fourth embodiment.

【図14】第5実施形態における偏向部材の斜視図を示
す。
FIG. 14 is a perspective view of a deflection member according to a fifth embodiment.

【図15】第5実施形態の図14における偏向部材のQ
−Q断面図を示す。
FIG. 15 is a view showing Q of the deflection member in FIG.
The Q sectional view is shown.

【図16】第5実施形態における作用説明図を示す。FIG. 16 is an operation explanatory view in the fifth embodiment.

【図17】第5実施形態に係わるマスク面上でのレーザ
ビームの軌跡図を示す。
FIG. 17 shows a trajectory diagram of a laser beam on a mask surface according to a fifth embodiment.

【図18】第6実施形態における偏向部材の斜視図を示
す。
FIG. 18 is a perspective view of a deflection member according to a sixth embodiment.

【図19】第6実施形態に係わるマスク面上でのレーザ
ビームの軌跡図を示す。
FIG. 19 is a trajectory diagram of a laser beam on a mask surface according to a sixth embodiment.

【図20】第7実施形態における要部側面図を示す。FIG. 20 shows a side view of a main part in a seventh embodiment.

【図21】第7実施形態に係わるマスク面上でのレーザ
ビームの軌跡図を示す。
FIG. 21 shows a trajectory diagram of a laser beam on a mask surface according to a seventh embodiment.

【図22】従来技術に係わるマスク面上でのレーザビー
ム軌跡の説明図を示す。
FIG. 22 is an explanatory diagram of a laser beam trajectory on a mask surface according to the related art.

【図23】レーザビームの断面における光強度分布を示
す。
FIG. 23 shows a light intensity distribution in a cross section of a laser beam.

【図24】従来技術に問題を説明する図22の場合の刻
印深さを表す。
FIG. 24 shows the engraved depth in the case of FIG. 22 for explaining the problem in the prior art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…レーザ発振器、2…ビーム調整レンズ、3…ポリゴ
ンミラー、4…フィールドレンズ、5…液晶マスク、6
…結像レンズ、7…像リレーレンズ、8a、8b…像ス
キャンミラー、9…対物レンズ、10、10a〜10h
…光学装置、11、31、51…プリズム、12…円筒
部材、13、15…外周部材、14…回転部材、17…
ローラ、21…入射面、22…出射面、32…回動駆動
手段、35…平行板、40…偏向部材、41…円板、4
2…波面部材、43、46、48…軌跡、45…多面部
材、47…円錐部材、52…振動手段。
REFERENCE SIGNS LIST 1 laser oscillator 2 beam adjusting lens 3 polygon mirror 4 field lens 5 liquid crystal mask 6
... image forming lens, 7 ... image relay lens, 8a, 8b ... image scan mirror, 9 ... objective lens, 10, 10a-10h
... Optical device, 11, 31, 51 ... Prism, 12 ... Cylindrical member, 13, 15 ... Outer peripheral member, 14 ... Rotating member, 17 ...
Roller, 21: incident surface, 22: outgoing surface, 32: rotating drive means, 35: parallel plate, 40: deflecting member, 41: disk, 4
2. Wavefront member, 43, 46, 48: locus, 45: polyhedral member, 47: conical member, 52: vibrating means.

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ発振器(1) から出射されたレーザ
光を走査器に入射し、この走査器によって前記レーザ光
を、ワークに刻印するパターンが描かれたマスクの面上
に一方向に走査して照射し、前記マスクから透過された
レーザ光をワークの所定刻印位置に照射して前記パター
ンを刻印するライン式レーザマーカ装置において、 前記レーザ発振器(1) と前記走査器との間に配設され、
かつ、レーザ発振器(1) から入射した前記レーザ光を前
記走査方向に対して略直交する方向に振動的に偏向する
光学装置(10)を備えたことを特徴とするライン式レーザ
マーカ装置。
A laser beam emitted from a laser oscillator (1) is incident on a scanner, and the laser beam scans the laser beam in one direction on a surface of a mask on which a pattern for engraving a workpiece is drawn. In the line type laser marker device which irradiates the laser beam transmitted from the mask to a predetermined engraving position of the work and engraves the pattern, the line type laser marker device is disposed between the laser oscillator (1) and the scanner. And
And a line type laser marker device comprising an optical device (10) for oscillatingly deflecting the laser light incident from the laser oscillator (1) in a direction substantially orthogonal to the scanning direction.
【請求項2】 前記光学装置(10)が、 前記レーザ光が入射する入射面(21)と出射する出射面(2
2)が非平行であるプリズム(11)、(31)と、 このプリズム(11)、(31)を前記入射面(21)に交わる軸の
回りに回転させる回転駆動手段(32)とを備えたことを特
徴とする請求項1に記載のライン式レーザマーカ装置。
The optical device (10) has an incident surface (21) on which the laser light is incident and an exit surface (2) on which the laser light exits.
2) non-parallel prisms (11) and (31), and rotation driving means (32) for rotating the prisms (11) and (31) around an axis intersecting the incident surface (21). The line type laser marker device according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記プリズム(31)が、円筒形状の光透過
部材を少なくとも1面は底面に対して非平行で、かつ、
互いに非平行な2面で切断して形成されたことを特徴と
する請求項2に記載のライン式レーザマーカ装置。
3. The prism (31) includes a cylindrical light transmitting member having at least one surface non-parallel to a bottom surface, and
3. The line-type laser marker device according to claim 2, wherein the line-type laser marker device is formed by cutting two non-parallel surfaces.
【請求項4】 前記光学装置(10)が、 ガラス等の光透過材で構成されるとともに、前記レーザ
発振器(1) からのレーザ光が入射する入射面(21)と、入
射したレーザ光が出射する出射面(22)とを平行にし、前
記入射面(21)に対して直角以外の所定角度を成す軸の回
りに回転可能で、かつ、この回転中心軸に平行に前記レ
ーザ光を入射させる平行板(35)と、 前記回転中心軸の回りに前記平行板(35)を回転させる回
転駆動手段(32)とを備えたことを特徴とする請求項1に
記載のライン式レーザマーカ装置。
4. The optical device (10) is made of a light transmitting material such as glass, and an incident surface (21) on which a laser beam from the laser oscillator (1) is incident, and an incident laser beam. The emission surface (22) for emitting light is parallel to the laser light, and the laser light can be rotated about an axis forming a predetermined angle other than a right angle with respect to the incident surface (21), and the laser light is incident parallel to the rotation center axis. 2. The line-type laser marker device according to claim 1, further comprising: a parallel plate (35) for rotating the parallel plate (35) around the rotation center axis. 3.
【請求項5】 前記平行板(35)の前記入射面(21)の外形
が円形又は楕円形であることを特徴とする請求項4に記
載のライン式レーザマーカ装置。
5. The line-type laser marker device according to claim 4, wherein an outer shape of said entrance surface of said parallel plate is circular or elliptical.
【請求項6】 前記光学装置(10)が、 ガラス等の光透過材で構成され、かつ、回転自在に配設
された偏向部材(40)と、 前記回転中心軸の回りに偏向部材(40)を回転させる回転
駆動手段(32)とを備えると共に、前記偏向部材(40)は、 前記回転中心軸に直交し、かつ、この回転中心軸から所
定距離離れた位置(E)に前記レーザ光が入射される平ら
な入射面(21)と、 この入射面(21)から入射したレーザ光を、この光軸を含
む特定の平面内の、少なくとも2つ以上の異なる方向へ
上記回転に伴って周期的に偏向させて出射する偏向曲面
を有する出射面(22)とを備えたことを特徴とする請求項
1に記載のライン式レーザマーカ装置。
6. The optical device (10) is composed of a light transmitting material such as glass and is rotatably disposed. A deflecting member (40) is provided around the rotation center axis. ), And the deflection member (40) is provided at a position (E) orthogonal to the rotation center axis and at a predetermined distance from the rotation center axis. A flat incident surface (21) on which the laser beam is incident, and the laser light incident from the incident surface (21) is rotated in at least two or more different directions in a specific plane including the optical axis by the rotation. The line-type laser marker device according to claim 1, further comprising: an emission surface (22) having a deflection curved surface that deflects and emits periodically.
【請求項7】 請求項6に記載のライン式レーザマーカ
装置において、前記偏向部材(40)は、前記偏向曲面を、 前記回転に伴う前記レーザ光の軌跡(43)に沿って滑らか
に所定周期で起伏する波面を有する波面部材(42)、又
は、前記軌跡(46)に沿って配設され、かつ、多角錐体の
外周側面の互いに隣接する複数面と相似の面を有する多
面部材(45)、又は、前記軌跡(48)に沿って配設され、か
つ、円錐体の外周側面と相似の面を有する円錐部材(47)
のいずれか一つによって形成したことを特徴とするライ
ン式レーザマーカ装置。
7. The line-type laser marker device according to claim 6, wherein the deflecting member (40) smoothly moves the deflecting curved surface at a predetermined cycle along a trajectory (43) of the laser light accompanying the rotation. A wavefront member (42) having an undulating wavefront, or a polyhedral member (45) arranged along the trajectory (46) and having surfaces similar to a plurality of adjacent surfaces on the outer peripheral side surface of the polygonal pyramid (45) Or a conical member (47) disposed along the trajectory (48), and having a surface similar to the outer peripheral side surface of the cone.
A line type laser marker device formed by any one of the above.
【請求項8】 前記光学装置(10)が、 前記レーザ発振器(1) と前記走査器との間に、前記レー
ザ光の光軸に対して所定角度で傾斜した特定方向に振動
自在に配設され、この振動時に、前記走査方向に対して
略直交する方向に振動的に前記レーザ光を偏向するプリ
ズム(51)と、 このプリズム(51)を上記振動方向に振動させる振動手段
(52)とを備えたことを特徴とする請求項1に記載のライ
ン式レーザマーカ装置。
8. The optical device (10) is disposed between the laser oscillator (1) and the scanner so as to be capable of oscillating in a specific direction inclined at a predetermined angle with respect to the optical axis of the laser light. A prism (51) for vibrating the laser light in a direction substantially orthogonal to the scanning direction during the vibration; and a vibrating means for vibrating the prism (51) in the vibration direction.
The line type laser marker device according to claim 1, further comprising (52).
【請求項9】 レーザ発振器(1) から出射されたレーザ
光を所定方向に偏向して走査器に入射し、この走査器に
よって、前記偏向されたレーザ光がパターンが描かれた
マスクの面上に一方向に走査され、透過したレーザ光で
前記パターンが刻印されるライン式レーザマーカ装置用
の光学装置において、 レーザ発振器(1) からのレーザ光が入射する入射面(21)
と、入射したレーザ光が出射する出射面(22)とが非平行
なプリズム(11)、(31)が、前記入射面(21)に交わる軸の
回りに回転自在に設けられたことを特徴とするライン式
レーザマーカ装置用の光学装置。
9. A laser beam emitted from a laser oscillator (1) is deflected in a predetermined direction and is incident on a scanner, and the deflected laser beam is applied to a surface of a mask on which a pattern is drawn by the scanner. In the optical device for a line type laser marker device, which is scanned in one direction and the pattern is engraved with the transmitted laser light, an incident surface (21) on which laser light from a laser oscillator (1) is incident
Prisms (11) and (31), whose output surfaces (22) from which the incident laser light is output are non-parallel, are provided rotatably around an axis intersecting the incident surface (21). Optical device for a line type laser marker device.
【請求項10】 前記プリズム(31)が、円筒形状の光透
過部材を少なくとも1面は底面に対して非平行で、か
つ、互いに非平行な2面で切断して形成されたことを特
徴とする請求項9記載のライン式レーザマーカ装置用の
光学装置。
10. The prism (31) is formed by cutting a cylindrical light transmitting member at two surfaces that are non-parallel to one another and at least one surface is non-parallel to the bottom surface. An optical device for a line-type laser marker device according to claim 9.
【請求項11】 レーザ発振器(1) から出射されたレー
ザ光を所定方向に偏向して走査器に入射し、この走査器
によって、前記偏向されたレーザ光がパターンが描かれ
たマスクの面上に一方向に走査され、透過したレーザ光
で前記パターンが刻印されるライン式レーザマーカ装置
用の光学装置において、 ガラス等の光透過材で構成されると共に、レーザ発振器
(1) からのレーザ光が入射する入射面(21)と、入射した
レーザ光が出射する出射面(22)とを平行にし、かつ、前
記入射面(21)に対して直角以外の所定角度でレーザ光を
入射させる平行板(35)が、このレーザ光の光軸と平行な
軸の回りに回転自在に設けられたことを特徴とするライ
ン式レーザマーカ装置用の光学装置。
11. A laser beam emitted from a laser oscillator (1) is deflected in a predetermined direction and is incident on a scanner. The scanner causes the deflected laser beam to fall on a mask surface on which a pattern is drawn. An optical device for a line-type laser marker device which is scanned in one direction and the pattern is engraved with the transmitted laser light, comprising a light transmitting material such as glass and a laser oscillator.
The incident surface (21) on which the laser light from (1) is incident is parallel to the exit surface (22) from which the incident laser light is emitted, and a predetermined angle other than a right angle with respect to the incident surface (21). An optical device for a line-type laser marker device, characterized in that a parallel plate (35) on which laser light is incident is rotatably provided around an axis parallel to the optical axis of the laser light.
【請求項12】 前記平行板(35)の前記入射面(21)の外
形が円形又は楕円形であることを特徴とする請求項11
記載のライン式レーザマーカ装置用の光学装置。
12. An outer shape of said entrance surface (21) of said parallel plate (35) is circular or elliptical.
An optical device for the line-type laser marker device as described in the above.
【請求項13】 レーザ発振器(1) から出射されたレー
ザ光を所定方向に偏向して走査器に入射し、この走査器
によって、前記偏向されたレーザ光がパターンが描かれ
たマスクの面上に一方向に走査され、透過したレーザ光
で前記パターンが刻印されるライン式レーザマーカ装置
用の光学装置において、 ガラス等の光透過材で構成され、かつ、回転自在な偏向
部材(40)を設け、この偏向部材(40)は、 前記回転中心軸に直交し、かつ、この回転中心軸から所
定距離離れた位置(E)に前記レーザ光が入射される平ら
な入射面(21)と、 この入射面(21)から入射したレーザ光を、この光軸を含
む特定の平面内の、少なくとも2つ以上の異なる方向へ
上記回転に伴って周期的に偏向させて出射する偏向曲面
を有する出射面(22)とを有し、 前記偏向曲面は、前記回転に伴う前記位置(E) の軌跡(4
3)に沿って滑らかに所定周期で起伏する波面を有する波
面部材(42)、又は、前記軌跡(46)に沿って配設され、か
つ、多角錐体の外周側面の互いに隣接する複数面と相似
の面を有する多面部材(45)、又は、軌跡(48)に沿って配
設され、かつ、円錐体の外周側面と相似の面を有する円
錐部材(47)のいずれか一つによって形成されたことを特
徴とするライン式レーザマーカ装置用の光学装置。
13. A laser beam emitted from a laser oscillator (1) is deflected in a predetermined direction and is incident on a scanner. The scanner causes the deflected laser beam to fall on a mask surface on which a pattern is drawn. An optical device for a line-type laser marker device that is scanned in one direction and the pattern is engraved with the transmitted laser light, comprising a light transmitting material such as glass and a rotatable deflection member (40). The deflecting member (40) has a flat incidence surface (21) in which the laser beam is incident at a position (E) orthogonal to the rotation center axis and at a predetermined distance from the rotation center axis, and An emission surface having a deflection curved surface that periodically deflects laser light incident from the incident surface (21) in accordance with the rotation in at least two or more different directions in a specific plane including the optical axis and emits the laser light. (22), wherein the deflecting curved surface is Trajectory of the position due to (E) (4
A wavefront member (42) having a wavefront that smoothly undulates at a predetermined cycle along 3), or a plurality of surfaces that are arranged along the trajectory (46) and are adjacent to each other on the outer peripheral side surface of the polygonal pyramid. A polyhedral member (45) having a similar surface, or a conical member (47) disposed along the trajectory (48) and having a surface similar to the outer peripheral side surface of the cone is formed. An optical device for a line-type laser marker device.
【請求項14】 レーザ発振器(1) から出射されたレー
ザ光を所定方向に偏向して走査器を経由してマスクに照
射するライン式レーザマーカ装置用の光学装置におい
て、 レーザ発振器(1) からのレーザ光の光軸に対して所定角
度で傾斜した特定方向に振動され、この振動時に、前記
入射されたレーザ光をこの光軸を含む特定の平面内の、
少なくとも2つ以上の異なる方向へ偏向して出射するプ
リズム(51)と、 このプリズム(51)を上記振動方向に振動させる振動手段
(52)とを備えたことを特徴とするライン式レーザマーカ
装置の光学装置。
14. An optical device for a line-type laser marker device for deflecting a laser beam emitted from a laser oscillator (1) in a predetermined direction and irradiating the mask via a scanner, wherein the laser beam is emitted from the laser oscillator (1). Vibrated in a specific direction inclined at a predetermined angle with respect to the optical axis of the laser light, at the time of this vibration, the incident laser light in a specific plane including this optical axis,
A prism (51) that deflects and emits light in at least two or more different directions, and vibrating means that vibrates the prism (51) in the vibration direction
(52) An optical device for a line-type laser marker device, comprising:
【請求項15】 レーザ発振器(1) から出射されたレー
ザ光を、パターンが描かれたマスク面上を一方向に走査
させ、前記マスクから透過されたレーザ光をワークに照
射して前記パターンを刻印するライン式レーザマーカ装
置の刻印方法において、 レーザ発振器(1) から出射された前記レーザ光を、前記
走査方向に対して略直交する方向に振動的に偏向させる
と共に、前記マスク面上を走査させることを特徴とする
ライン式レーザマーカ装置の刻印方法。
15. A laser beam emitted from a laser oscillator (1) is scanned in one direction on a mask surface on which a pattern is drawn, and a laser beam transmitted from the mask is applied to a work to irradiate the pattern. In the marking method of a line type laser marker device for marking, the laser beam emitted from a laser oscillator (1) is vibratedly deflected in a direction substantially orthogonal to the scanning direction and scanned on the mask surface. An engraving method for a line-type laser marker device, characterized in that:
【請求項16】 レーザ発振器(1) から出射されたレー
ザ光を、パターンが描かれたマスク面上を一方向に走査
させ、前記マスクから透過されたレーザ光をワークに照
射して前記パターンを刻印するライン式レーザマーカ装
置の刻印方法において、 レーザ発振器(1) から出射された前記レーザ光を、前記
マスク面内で回転偏向させると共に、このマスク面上を
走査させることを特徴とするライン式レーザマーカ装置
の刻印方法。
16. A laser beam emitted from a laser oscillator (1) is scanned in one direction on a mask surface on which a pattern is drawn, and a laser beam transmitted from the mask is irradiated on a work to change the pattern. A marking method of a line type laser marker device for marking, wherein the laser beam emitted from a laser oscillator (1) is rotationally deflected in the mask surface and scanned on the mask surface. How to engrave the device.
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