JPH10172903A - Remote operating method and semiconductor aligner - Google Patents

Remote operating method and semiconductor aligner

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JPH10172903A
JPH10172903A JP9219746A JP21974697A JPH10172903A JP H10172903 A JPH10172903 A JP H10172903A JP 9219746 A JP9219746 A JP 9219746A JP 21974697 A JP21974697 A JP 21974697A JP H10172903 A JPH10172903 A JP H10172903A
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JP
Japan
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semiconductor exposure
exposure apparatus
remote
semiconductor
remote control
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JP9219746A
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Japanese (ja)
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Hiroiku Ookouchi
浩幾 大河内
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Canon Inc
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent exposure by harmful illumination and to make smooth remote operation possible, by causing a semiconductor aligner to inhibit remote operation individually as occasion demands. SOLUTION: When operation is performed from a semiconductor aligner 1 a controlling unit 3 controls a body part 4 by operation from an operating unit 2. On the occasion of performing on-line operation, an operation command is inputted from a host computer 5. This operation command is reported to the control unit 3 of the semiconductor aligner 1 through a communication line 6, and the control unit 3 controls the body part 4 similarly to the operation from the operating unit 2. Next, when an on-line operation inhibit command is inputted from the operating unit 2 of the semiconductor aligner 1, the control unit 2 reports it to the host computer 5 through the communication line 6. In the host computer 5, an operation input command to the corresponding semiconductor aligner 1 is inhibited and displays its inhibited state. As the result, the semiconductor aligner 1 which operated an on-line operation inhibition function becomes in an on-line operation inhibited state.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体露光装置お
よび半導体露光装置の遠隔操作方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor exposure apparatus and a remote control method for the semiconductor exposure apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体製造工場ではクリーン
ルームにおける無人化や省力化を目的として、オンライ
ンシステムと呼ばれる半導体露光装置の遠隔操作システ
ムが導入されている。このオンラインシステムによりオ
ペレータがクリーンルーム内に入ることなく、ホストコ
ンピューターやパソコン等で複数台の半導体露光装置の
統括操作を行うことが可能である。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor manufacturing plant, a remote control system of a semiconductor exposure apparatus called an online system has been introduced for the purpose of unmanned operation and labor saving in a clean room. This online system allows an operator to control a plurality of semiconductor exposure apparatuses using a host computer or a personal computer without entering the clean room.

【0003】以下、このような従来の半導体露光装置の
遠隔操作システムを図5を用いて説明する。図5は従来
の半導体露光装置のオンラインシステムの外観図であ
り、複数台の半導体露光装置を接続したホストコンピュ
ータと複数台の半導体露光装置のうちの1台の半導体露
光装置を示している。同図中、1は半導体の露光を行う
半導体露光装置であり、不図示のクリーンルーム内に設
置されている。また、2は半導体露光装置1の操作を行
うための操作部、5は半導体露光装置1および不図示の
他の半導体露光装置の操作を行うためのホストコンピュ
ータ、6はホストコンピュータ5と複数台の半導体露光
装置を接続する通信ラインである。
Hereinafter, such a conventional remote control system for a semiconductor exposure apparatus will be described with reference to FIG. FIG. 5 is an external view of an online system of a conventional semiconductor exposure apparatus, showing a host computer to which a plurality of semiconductor exposure apparatuses are connected and one of the plurality of semiconductor exposure apparatuses. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a semiconductor exposure apparatus for exposing a semiconductor, which is installed in a clean room (not shown). Reference numeral 2 denotes an operation unit for operating the semiconductor exposure apparatus 1, 5 denotes a host computer for operating the semiconductor exposure apparatus 1 and another semiconductor exposure apparatus (not shown), and 6 denotes a host computer and a plurality of This is a communication line for connecting a semiconductor exposure apparatus.

【0004】ホストコンピュータ5から操作対象の半導
体露光装置1を指定して操作命令を入力すると通信ライ
ン6を通じて半導体露光装置1は所定の動作を行う。
When a semiconductor exposure apparatus 1 to be operated is specified from a host computer 5 and an operation command is input, the semiconductor exposure apparatus 1 performs a predetermined operation through a communication line 6.

【0005】一方、遠隔操作されている状態では半導体
露光装置1の操作部2からは操作することができないよ
うにロック機能を持たせる場合もある。この場合は、ホ
ストコンピュータ5から遠隔操作状態を解除することに
より、再び半導体露光装置1の操作部2から操作が可能
になる。
On the other hand, there is a case where a lock function is provided so that the remote controller cannot be operated from the operation unit 2 of the semiconductor exposure apparatus 1. In this case, the remote operation state is released from the host computer 5 so that the operation can be performed from the operation unit 2 of the semiconductor exposure apparatus 1 again.

【0006】なお、作業の簡便のためにホストコンピュ
ータに代えて、遠隔操作を専用に行う遠隔操作装置を通
信ラインに接続した遠隔操作システムも存在した。図6
は、このような遠隔操作システムを示す外観図である。
同図において、2および11は半導体露光装置1の操作
部、8は遠隔操作装置、10は接続された複数の半導体
露光装置から遠隔操作する半導体露光装置を選択するた
めの装置選択スイッチである。
[0006] For the sake of simplicity of work, there has been a remote control system in which a remote control device for performing remote control is connected to a communication line instead of a host computer. FIG.
FIG. 1 is an external view showing such a remote control system.
In the figure, reference numerals 2 and 11 denote operation units of the semiconductor exposure apparatus 1, 8 denotes a remote operation apparatus, and 10 denotes an apparatus selection switch for selecting a semiconductor exposure apparatus to be remotely operated from a plurality of connected semiconductor exposure apparatuses.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述のようにクリーン
ルーム内は基本的には無人化されているが、故障修理、
定期メンテナンス等により、半導体露光装置内での作業
が発生することは避けられない。そして、半導体露光装
置内での作業中に装置が作動すると、作業者が装置の駆
動に巻き込まれたり、有害な照明に被曝するなどの危険
が発生するため、通常装置稼働時には装置内部へのアク
セス部である温調チャンバーの扉はロックされており、
温調チャンバーの扉を開けると装置が停止するようにな
っている。
As described above, the clean room is basically unmanned,
It is inevitable that work in the semiconductor exposure apparatus occurs due to regular maintenance or the like. When the apparatus is operated during operation in the semiconductor exposure apparatus, there is a danger that the operator may be involved in driving the apparatus or may be exposed to harmful lighting. The door of the temperature control chamber that is a part is locked,
When the door of the temperature control chamber is opened, the device stops.

【0008】ところが、そのような作業の中には装置を
稼働状態にして装置内部にアクセスすることが必要なも
のもある。こうした作業を行うために、半導体露光装置
からの操作によって温調チャンバーのロックを解除する
手段が設けられ、装置を停止することなく装置内部への
アクセスを可能にしていた。従って、このような場合に
半導体露光装置での作業に気付かないでホストコンピュ
ータからの駆動命令が入力されると、半導体露光装置内
で作業をしている作業者が装置の駆動に巻き込まれた
り、有害な照明に被曝するなどの危険が発生していた。
[0008] However, some of these operations require that the apparatus be put into operation and access inside the apparatus. In order to perform such an operation, a means for unlocking the temperature control chamber by an operation from the semiconductor exposure apparatus is provided, so that the inside of the apparatus can be accessed without stopping the apparatus. Therefore, in such a case, if a drive command is input from the host computer without noticing the work in the semiconductor exposure apparatus, the worker working in the semiconductor exposure apparatus may be involved in driving the apparatus, There was a danger of exposure to harmful lighting.

【0009】このように、半導体露光装置の危険防止機
能を解除して行なう作業時には、前記のような危険防止
機能があっても不意の遠隔操作による作業者への危険が
発生していた。
As described above, at the time of performing the operation after releasing the danger prevention function of the semiconductor exposure apparatus, even if the danger prevention function as described above is provided, there is a danger to the operator due to unexpected remote operation.

【0010】本発明の目的は、このような危険を防止
し、円滑な遠隔操作を可能とする半導体露光装置および
該半導体露光装置の遠隔操作方法を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a semiconductor exposure apparatus and a remote operation method for the semiconductor exposure apparatus, which can prevent such danger and enable smooth remote operation.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、1台あるいは複数台の半導体露光装置を遠隔
操作可能な遠隔操作装置から遠隔操作される半導体露光
装置の遠隔操作方法において、半導体露光装置が必要に
応じて個別に遠隔操作を禁止することを特徴とする。こ
の遠隔操作禁止機能の作動中は該当する半導体露光装置
の遠隔操作ができないようにすることにより、前述のよ
うな危険を防止する。
According to the present invention, there is provided a method for remotely controlling a semiconductor exposure apparatus, wherein one or more semiconductor exposure apparatuses are remotely controlled from a remote control apparatus capable of remotely controlling the semiconductor exposure apparatus. The semiconductor exposure apparatus prohibits remote operation individually as needed. The danger as described above is prevented by preventing remote control of the corresponding semiconductor exposure apparatus during the operation of the remote control prohibition function.

【0012】また、好ましくは、半導体露光装置から遠
隔操作を禁止した場合に、この半導体露光装置の遠隔操
作が禁止状態であることを通信回線を介して遠隔操作を
行う装置に表示する。このような遠隔操作方法によっ
て、半導体露光装置の遠隔操作禁止機能の作動状態で、
遠隔操作装置側からの遠隔操作の作動不良ではないか、
といった誤認識を避けることができる。
Preferably, when remote control is prohibited from the semiconductor exposure apparatus, the fact that remote control of the semiconductor exposure apparatus is prohibited is displayed on a device that performs remote control via a communication line. According to such a remote control method, in the operation state of the remote control prohibition function of the semiconductor exposure apparatus,
Check for remote control operation failure from the remote control device.
Such misrecognition can be avoided.

【0013】本発明の遠隔操作方法において、危険防止
機能を解除する操作等の半導体露光装置からの特定の操
作または半導体露光装置の特定の動作に連動して自動的
に遠隔操作を禁止するようにしてもよい。ここで、危険
防止機能とは、例えば温度調節チャンバーの扉のロック
の解除に連動した半導体露光装置の自動停止機能等を意
味する。このように、特定の操作に連動して自動的に遠
隔操作禁止機能が作動するようにすることで、遠隔操作
禁止機能を作動させ忘れた場合でも危険を防止すること
ができる。また、好ましくは、遠隔操作の禁止状態を解
除する際には、危険防止機能が再度作動した場合、これ
に連動して解除される。
In the remote control method according to the present invention, a specific operation from the semiconductor exposure apparatus such as an operation to release the danger prevention function or a remote operation is automatically prohibited in conjunction with a specific operation of the semiconductor exposure apparatus. You may. Here, the danger prevention function means, for example, an automatic stop function of the semiconductor exposure apparatus in conjunction with the unlocking of the door of the temperature control chamber. In this way, by automatically operating the remote operation prohibition function in conjunction with a specific operation, it is possible to prevent danger even if the remote operation prohibition function is forgotten to be operated. Preferably, when the prohibition state of the remote operation is released, when the danger prevention function is activated again, the danger prevention function is released in conjunction therewith.

【0014】本発明のデバイス製造方法は、上記本発明
の遠隔操作方法により半導体露光装置を遠隔操作して半
導体デバイスを製造する方法である。このデバイス製造
方法により、半導体露光装置の故障時にも安全に修理作
業を行い半導体デバイスを製造することができる。
The device manufacturing method of the present invention is a method of manufacturing a semiconductor device by remotely controlling a semiconductor exposure apparatus by the above-described remote control method of the present invention. According to this device manufacturing method, a repair operation can be performed safely even when the semiconductor exposure apparatus fails, and a semiconductor device can be manufactured.

【0015】また、本発明は、1台あるいは複数台の半
導体露光装置を遠隔操作可能な遠隔操作装置から遠隔操
作される半導体露光装置において、半導体露光装置が個
別に遠隔操作を禁止する遠隔操作禁止手段を有すること
を特徴とする。
The present invention also relates to a semiconductor exposure apparatus in which one or a plurality of semiconductor exposure apparatuses are remotely controlled from a remote control apparatus capable of remotely controlling the semiconductor exposure apparatuses. It is characterized by having means.

【0016】本発明の半導体露光装置は、上記操作方法
の発明と同様に、好ましくは、半導体露光装置からの特
定の操作または半導体露光装置の動作に連動して自動的
に遠隔操作禁止手段を作動する手段を有する。
The semiconductor exposure apparatus of the present invention preferably operates the remote control inhibiting means automatically in conjunction with a specific operation from the semiconductor exposure apparatus or the operation of the semiconductor exposure apparatus, similarly to the invention of the operation method. Have means to do so.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施形態につい
て説明する。ただし、本実施形態の説明において、1台
あるいは複数の半導体露光装置をホストコンピュータに
よって遠隔位置から統括操作するシステムをオンライン
システム、ホストコンピュータから半導体露光装置に対
して操作命令を入力する操作をオンライン操作と呼ぶ。
Embodiments of the present invention will be described below. However, in the description of the present embodiment, a system for controlling one or more semiconductor exposure apparatuses from a remote location by a host computer is an online system, and an operation for inputting an operation command from the host computer to the semiconductor exposure apparatus is an online operation. Call.

【0018】(実施形態1)図1に本実施形態における
半導体露光装置の遠隔操作システムの機能ブロックを示
す。図1において、1は半導体露光装置、2は半導体露
光装置を操作するための操作部、3は操作部からの操作
にしたがって半導体露光装置1の本体の制御を行う制御
部、4は半導体露光装置の本体部、5は1台あるいは複
数台の半導体露光装置を遠隔位置から統括操作するホス
トコンピュータ、6は半導体露光装置と遠隔操作装置間
を双方向に各種情報を送受する通信ラインである。
(Embodiment 1) FIG. 1 shows functional blocks of a remote control system for a semiconductor exposure apparatus according to this embodiment. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a semiconductor exposure apparatus, 2 denotes an operation unit for operating the semiconductor exposure apparatus, 3 denotes a control unit that controls the main body of the semiconductor exposure apparatus 1 in accordance with an operation from the operation unit, and 4 denotes a semiconductor exposure apparatus. Is a host computer for controlling one or more semiconductor exposure apparatuses from a remote location, and 6 is a communication line for bidirectionally transmitting and receiving various information between the semiconductor exposure apparatus and the remote operation apparatus.

【0019】本実施形態における半導体露光装置のオン
ラインシステムの外観図は従来のオンラインシステムと
同様であり、図5により示される。
The external view of the online system of the semiconductor exposure apparatus according to the present embodiment is the same as the conventional online system, and is shown in FIG.

【0020】以下、これらの図を用いて、本実施形態に
係る半導体露光装置の遠隔操作について説明する。
Hereinafter, remote control of the semiconductor exposure apparatus according to this embodiment will be described with reference to these drawings.

【0021】まず、ホストコンピュータ5と半導体露光
装置1とのオンライン操作が禁止されていない状態の操
作について説明する。半導体露光装置1から操作を行う
場合は、操作部2からの操作により制御部3が本体部4
を制御する。オンライン操作を行う場合は、ホストコン
ピュータ5から操作命令入力を行う。この操作命令は通
信ライン6を通じて半導体露光装置1の制御部3に通知
され操作部2からの操作と同様に制御部3が本体部4を
制御する。
First, the operation of the host computer 5 and the semiconductor exposure apparatus 1 in a state where the online operation is not prohibited will be described. When the operation is performed from the semiconductor exposure apparatus 1, the control unit 3 is operated by the operation unit 2 to
Control. When performing an online operation, an operation command is input from the host computer 5. The operation command is notified to the control unit 3 of the semiconductor exposure apparatus 1 through the communication line 6, and the control unit 3 controls the main unit 4 in the same manner as the operation from the operation unit 2.

【0022】次に、半導体露光装置1からのオンライン
操作禁止機能について説明する。半導体露光装置1の操
作部2からオンライン操作禁止コマンドを入力すると制
御部3は通信ライン6を通じてホストコンピュータ5に
通知する。ホストコンピュータ5では、該当する半導体
露光装置1に対する操作命令入力を禁止し、その禁止状
態を表示する。
Next, the function of prohibiting online operation from the semiconductor exposure apparatus 1 will be described. When an online operation prohibition command is input from the operation unit 2 of the semiconductor exposure apparatus 1, the control unit 3 notifies the host computer 5 via the communication line 6. The host computer 5 prohibits input of an operation command to the corresponding semiconductor exposure apparatus 1, and displays the prohibited state.

【0023】こうしてオンライン操作禁止機能を作動さ
せた半導体露光装置1はオンライン操作禁止状態にな
る。ただし、オンライン操作禁止機能を作動させていな
い半導体露光装置(不図示)のオンライン操作はそれま
で通り可能である。
The semiconductor exposure apparatus 1 having activated the online operation prohibiting function in this way enters the online operation prohibiting state. However, online operation of a semiconductor exposure apparatus (not shown) in which the online operation prohibition function is not activated can be performed as before.

【0024】オンライン操作禁止状態にある半導体露光
装置1からオンライン操作禁止機能を解除しない限り、
半導体露光装置1のオンライン操作禁止状態は継続す
る。オンライン操作禁止機能の解除は操作部2から解除
コマンドを入力することによって行なう。
Unless the online operation inhibition function is released from the semiconductor exposure apparatus 1 in the online operation inhibition state,
The online operation prohibition state of the semiconductor exposure apparatus 1 continues. The online operation prohibition function is released by inputting a release command from the operation unit 2.

【0025】(実施形態2)本実施形態は実施形態1の
オンライン操作禁止機能を、半導体露光装置の温調チャ
ンバーの扉のロックのような危険防止機能の解除の操作
に連動させ、自動的に行なうものである。
(Embodiment 2) In this embodiment, the online operation prohibition function of Embodiment 1 is linked to the operation of releasing the danger prevention function such as locking of the door of the temperature control chamber of the semiconductor exposure apparatus, and automatically. It is what you do.

【0026】半導体露光装置1の内部で、半導体露光装
置を稼働状態で作業を行うためには温調チャンバーの扉
のロック解除などの危険防止機能の解除が必要である。
そこで、半導体露光装置1の操作部2から危険防止機能
の解除コマンドを入力することにより危険防止機能が解
除され、操作可能状態の半導体露光装置内部へのアクセ
スが可能となる。
In order to operate the semiconductor exposure apparatus inside the semiconductor exposure apparatus 1 while operating the semiconductor exposure apparatus, it is necessary to release a danger prevention function such as unlocking a door of a temperature control chamber.
Thus, the danger prevention function is released by inputting a danger prevention function release command from the operation unit 2 of the semiconductor exposure apparatus 1, and the inside of the operable semiconductor exposure apparatus can be accessed.

【0027】制御部3はこれらの特定のコマンドを入力
されるとそれに連動して自動的にオンライン操作禁止コ
マンドを通信ライン6を通じてホストコンピュータ5に
通知する。ホストコンピュータ5では、該当する半導体
露光装置1に対する操作命令入力を禁止し、半導体露光
装置1がオンライン操作禁止状態であることを表示す
る。こうして危険防止機能を解除した半導体露光装置1
は自動的にオンライン操作禁止状態になる。
When these specific commands are input, the control unit 3 automatically notifies the host computer 5 via the communication line 6 of an online operation prohibition command in conjunction therewith. The host computer 5 prohibits input of an operation command to the corresponding semiconductor exposure apparatus 1, and indicates that the semiconductor exposure apparatus 1 is in an online operation prohibited state. The semiconductor exposure apparatus 1 in which the danger prevention function has been released in this way.
Automatically disables online operation.

【0028】実施形態1における手動によるオンライン
操作禁止の作動と同じく、オンライン操作禁止状態にあ
る半導体露光装置1からオンライン操作禁止機能を解除
しない限り、半導体露光装置1のオンライン操作禁止状
態は継続する。
As in the manual online operation prohibition operation of the first embodiment, the online operation prohibition state of the semiconductor exposure apparatus 1 is continued unless the online operation prohibition function is released from the semiconductor exposure apparatus 1 in the online operation prohibition state.

【0029】このように本実施形態のオンライン操作シ
ステムによれば、危険防止機能が解除された状態におい
て発生する不意のオンライン操作による作業者への危険
を回避することができる。作業者は、危険防止機能を解
除する前にオンライン操作禁止機能を作動させれば危険
は防止されるが、オンライン操作可能だと気付かなかっ
た場合や単純に作動を忘れている場合がある。こうした
オンライン操作禁止機能の作動忘れを防止するために、
本実施形態のように、危険防止機能の解除に連動させて
オンライン操作禁止機能を自動的に作動させることが有
効である。
As described above, according to the online operation system of the present embodiment, it is possible to avoid a danger to the operator due to an unexpected online operation that occurs when the danger prevention function is released. The operator can prevent the danger by activating the online operation prohibition function before canceling the danger prevention function. However, the operator may not realize that online operation is possible or may simply forget to operate. In order to prevent such online operation prohibition function from being forgotten,
As in the present embodiment, it is effective to automatically activate the online operation prohibition function in conjunction with the release of the danger prevention function.

【0030】次に自動的にオンライン操作禁止状態とな
った半導体露光装置1のオンライン操作禁止機能の解除
について説明する。
Next, the release of the online operation prohibition function of the semiconductor exposure apparatus 1 which has automatically become the online operation prohibition state will be described.

【0031】本実施形態において、半導体露光装置1か
らのオンライン操作禁止機能の解除には次の2つの方法
がある。第1の方法は、手動による作動時と同じく操作
部2から解除コマンドを入力することによって解除する
方法である。第2の方法は、自動的に作動させた機能は
自動的に解除するという考え方に基づき、すべての危険
防止機能が再び作動したことを条件として制御部3が判
断して自動的にオンライン操作禁止機能を解除する方法
である。この方法では制御部3が危険防止機能の解除以
前にオンライン操作禁止状態であったか否かを認識して
いる必要がある。
In this embodiment, there are the following two methods for releasing the online operation prohibition function from the semiconductor exposure apparatus 1. The first method is a method of canceling by inputting a cancel command from the operation unit 2 as in the manual operation. The second method is based on the idea that automatically activated functions are automatically released, and the control unit 3 determines that all danger prevention functions are activated again and automatically prohibits online operation. This is a method to cancel the function. In this method, it is necessary that the control unit 3 recognizes whether or not the online operation is prohibited before the release of the danger prevention function.

【0032】自動的なオンライン操作禁止機能の作動に
対する解除については、第1の方法のみを用意するかま
たは両方の方法を用意する。
With respect to automatic release of the online operation prohibition function, only the first method or both methods are prepared.

【0033】(実施形態3)実施形態1および2では、
ホストコンピュータの端末等の入力装置から半導体露光
装置の遠隔操作およびその制御を行ったが、作業の簡便
のためにこれに代えて遠隔操作およびその制御機能のみ
を有する装置を通信ラインに接続して、半導体露光装置
の制御を行うことも可能である。
(Embodiment 3) In Embodiments 1 and 2,
The remote control and control of the semiconductor exposure apparatus were performed from an input device such as a terminal of a host computer, but instead of this, an apparatus having only the remote control and its control function was connected to a communication line for convenience of operation. It is also possible to control the semiconductor exposure apparatus.

【0034】以下、このような遠隔操作装置および半導
体露光装置の制御の一実施形態について説明する。
Hereinafter, an embodiment of the control of the remote control device and the semiconductor exposure apparatus will be described.

【0035】図2に本実施形態における半導体露光装置
の遠隔操作システムの機能ブロックを示す。図2におい
て、7は遠隔操作禁止機能の作動状態を表示する遠隔操
作禁止状態表示部、8は半導体露光装置を遠隔操作する
ための遠隔操作装置、9は遠隔操作装置8に接続されて
いる半導体露光装置の遠隔操作禁止機能の作動状態を表
示するための遠隔操作禁止状態表示部、10は遠隔操作
を行なう半導体露光装置を選択するための装置選択スイ
ッチ、11は遠隔操作装置における操作部、12は装置
選択スイッチにしたがって遠隔操作する半導体露光装置
を切り換える遠隔操作対象切り換え部、13は遠隔操作
禁止機能を作動・解除するための遠隔操作禁止スイッ
チ、14は半導体露光装置1の操作部を操作部2にする
か遠隔操作装置8側にするかを切り換えるための操作切
り換え部である。なお、図2においても図1と同じ符号
を付したものは同じものを表す。
FIG. 2 shows functional blocks of a remote control system for a semiconductor exposure apparatus according to this embodiment. In FIG. 2, reference numeral 7 denotes a remote operation prohibition state display unit for displaying an operation state of the remote operation prohibition function, 8 denotes a remote operation device for remotely operating the semiconductor exposure apparatus, and 9 denotes a semiconductor connected to the remote operation device 8. A remote operation prohibition state display unit for displaying the operation state of the remote operation prohibition function of the exposure apparatus, 10 is a device selection switch for selecting a semiconductor exposure device to be remotely operated, 11 is an operation unit in the remote operation device, 12 Is a remote operation target switching unit that switches a semiconductor exposure apparatus remotely operated according to an apparatus selection switch, 13 is a remote operation inhibition switch for activating / deactivating a remote operation inhibition function, and 14 is an operation unit of the semiconductor exposure apparatus 1 An operation switching unit for switching between 2 and the remote operation device 8 side. In FIG. 2, the same reference numerals as in FIG. 1 denote the same components.

【0036】図3に、本実施形態における半導体露光装
置の遠隔操作システムの外観図を示す。但し、図3にお
いても、図2と同じ符号を付したものは同じものを示
す。以下、図2および4を用いて、本実施形態に係る半
導体露光装置の遠隔操作について説明する。
FIG. 3 is an external view of a remote control system for a semiconductor exposure apparatus according to this embodiment. However, in FIG. 3, the same reference numerals as in FIG. 2 denote the same components. Hereinafter, remote control of the semiconductor exposure apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

【0037】半導体露光装置1が遠隔操作されていない
状態では操作切り換え部14において操作部2と制御部
3が接続されており、操作部2からの操作により制御部
3が本体部4を制御する。このとき、遠隔操作装置8の
遠隔操作禁止状態表示部9に対象の半導体露光装置1に
ついて遠隔操作禁止状態の表示がされていないときは、
この装置1に対して遠隔操作を行なうことができる。
When the semiconductor exposure apparatus 1 is not remotely operated, the operation section 2 is connected to the control section 3 in the operation switching section 14, and the control section 3 controls the main body section 4 by operation from the operation section 2. . At this time, if the remote operation prohibited state display section 9 of the remote operation device 8 does not display the remote operation prohibited state for the target semiconductor exposure apparatus 1,
The device 1 can be remotely controlled.

【0038】このような状態から遠隔操作を行なう場
合、遠隔操作装置8の装置選択スイッチ10で遠隔操作
を行なう半導体露光装置1を選択する。遠隔操作対象切
り換え部12は操作部11を指定された半導体露光装置
1への通信ライン6に接続するとともに、通信ライン6
を通じて指定された半導体露光装置1に対し遠隔操作へ
の切り換えを要求する。半導体露光装置1では通信ライ
ン6から遠隔操作の要求を受けると、操作切り換え部1
4は操作部2を切り離し、遠隔操作装置8と制御部3を
接続して遠隔操作装置8から遠隔操作可能な状態にす
る。
When remote control is performed from such a state, the semiconductor exposure apparatus 1 to be remotely controlled is selected by the device selection switch 10 of the remote control device 8. The remote operation target switching unit 12 connects the operation unit 11 to the communication line 6 to the designated semiconductor exposure apparatus 1 and
Requests the semiconductor exposure apparatus 1 specified through the remote control to switch to remote operation. When the semiconductor exposure apparatus 1 receives a request for remote operation from the communication line 6, the operation switching unit 1
Reference numeral 4 disconnects the operation unit 2, connects the remote operation device 8 and the control unit 3, and makes the remote operation device 8 remotely operable.

【0039】逆に遠隔操作を解除する場合には、遠隔操
作装置8の装置選択スイッチ10から遠隔操作している
半導体露光装置1の選択を解除する。遠隔操作対象切り
換え部12は操作部11と遠隔操作している半導体露光
装置1への通信ライン6の接続を解除するとともに、通
信ライン6を通じて半導体露光装置1に対し遠隔操作の
解除を通知する。半導体露光装置1では、通信ライン6
から遠隔操作の解除が通知されると操作切り換え部14
が遠隔操作装置8と制御部3の接続を切り離し、再び操
作部2と制御部3を接続して遠隔操作状態を解除する。
Conversely, when canceling the remote control, the selection of the semiconductor exposure apparatus 1 which is remotely controlled is released from the device selection switch 10 of the remote control device 8. The remote operation target switching unit 12 disconnects the communication line 6 from the operation unit 11 to the semiconductor exposure apparatus 1 that is remotely operated, and notifies the semiconductor exposure apparatus 1 of the release of the remote operation through the communication line 6. In the semiconductor exposure apparatus 1, the communication line 6
When the release of the remote operation is notified from the user, the operation switching unit 14
Disconnects the connection between the remote operation device 8 and the control unit 3 and again connects the operation unit 2 and the control unit 3 to release the remote operation state.

【0040】次に、半導体露光装置1側からの遠隔操作
禁止機能について説明する。半導体露光装置1の遠隔操
作禁止スイッチ13は露光装置1が遠隔操作されている
状態でも操作可能である。半導体露光装置1の遠隔操作
禁止スイッチ13から遠隔操作禁止機能の作動要求が入
力されると、遠隔操作状態に関わらず、操作切り換え部
14は操作部2と制御部3を強制的に接続する。同時に
操作切り換え部14は遠隔操作装置8に対して通信ライ
ン6を通じ遠隔操作禁止機能が作動したことを通知す
る。半導体露光装置1の遠隔操作禁止状態表示部9は遠
隔操作が禁止状態になったことを表示する。遠隔操作装
置8では通信ライン6を通じて半導体露光装置1から遠
隔操作禁止機能が作動したという通知を受けると、遠隔
操作対象切り換え部12は該当する半導体露光装置1へ
の切り換えを禁止し、遠隔操作禁止状態表示部9に該当
する半導体露光装置1が選択禁止状態であることを表示
する。遠隔操作禁止状態が解除されるまで、該当する半
導体露光装置1の操作選択スイッチ10は無効となる。
Next, a remote operation prohibition function from the semiconductor exposure apparatus 1 will be described. The remote operation inhibition switch 13 of the semiconductor exposure apparatus 1 can be operated even when the exposure apparatus 1 is remotely operated. When an operation request for the remote operation prohibition function is input from the remote operation prohibition switch 13 of the semiconductor exposure apparatus 1, the operation switching unit 14 forcibly connects the operation unit 2 and the control unit 3 regardless of the remote operation state. At the same time, the operation switching unit 14 notifies the remote operation device 8 via the communication line 6 that the remote operation inhibition function has been activated. The remote operation prohibited state display section 9 of the semiconductor exposure apparatus 1 displays that the remote operation has been prohibited. When the remote operation device 8 receives a notification from the semiconductor exposure apparatus 1 via the communication line 6 that the remote operation inhibition function has been activated, the remote operation target switching unit 12 inhibits switching to the corresponding semiconductor exposure apparatus 1 and prohibits remote operation. The status display section 9 indicates that the corresponding semiconductor exposure apparatus 1 is in the selection prohibited state. Until the remote operation inhibition state is released, the operation selection switch 10 of the corresponding semiconductor exposure apparatus 1 becomes invalid.

【0041】こうして遠隔操作禁止機能を作動させた半
導体露光装置1は遠隔操作禁止状態になる。ただし、遠
隔操作禁止機能を作動させていない他の半導体露光装置
(不図示)の遠隔操作はそれまで通り可能である。
The semiconductor exposure apparatus 1 having activated the remote control prohibiting function in this way enters a remote control prohibiting state. However, remote control of another semiconductor exposure apparatus (not shown) in which the remote control prohibition function is not operated can be performed as before.

【0042】遠隔操作禁止状態にある半導体露光装置1
から遠隔操作禁止機能を解除しない限り、半導体露光装
置1の遠隔操作禁止状態は継続する。遠隔操作禁止機能
の解除は遠隔操作禁止スイッチ13から解除要求を入力
することによって行なう。
Semiconductor exposure apparatus 1 in remote operation prohibited state
The remote operation prohibition state of the semiconductor exposure apparatus 1 continues unless the remote operation prohibition function is released from. The release of the remote control prohibition function is performed by inputting a release request from the remote control prohibition switch 13.

【0043】(実施形態4)本実施形態は、実施形態3
の遠隔操作禁止機能を、半導体露光装置の温調チャンバ
ーの扉のロックのような危険防止機能の解除の操作に連
動させ、自動的に行なう半導体露光装置の遠隔操作シス
テムに関する。
(Embodiment 4) This embodiment corresponds to Embodiment 3
The present invention relates to a remote control system for a semiconductor exposure apparatus, which automatically performs a remote operation prohibition function of the semiconductor exposure apparatus in conjunction with an operation of releasing a danger prevention function such as locking of a door of a temperature control chamber of the semiconductor exposure apparatus.

【0044】図4は本実施形態における半導体露光装置
の遠隔操作システムの機能ブロックを示した図であり、
実施形態3とは操作切り換え部および制御部の機能が異
なっている。同図において、15は操作切り換え部14
からの特定コマンドを判定するための制御部である。但
し、図4において、図2と同じ符号を付したものは同じ
ものを示す。
FIG. 4 is a diagram showing functional blocks of a remote control system for a semiconductor exposure apparatus according to this embodiment.
The functions of the operation switching unit and the control unit are different from those of the third embodiment. In the figure, 15 is an operation switching unit 14
This is a control unit for determining a specific command from the server. However, in FIG. 4, the components denoted by the same reference numerals as those in FIG. 2 indicate the same components.

【0045】図4において、半導体露光装置1における
危険防止機能の解除には、半導体露光装置1の操作部2
から解除のためのコマンドを入力する必要がある。制御
部15はこれらの特定のコマンドを認識する機能をも
ち、これらのコマンドを認識したならば操作切り換え部
14に対して遠隔操作禁止スイッチ13からの遠隔操作
禁止機能の作動要求入力と同等の指令を行なう。この指
令を受けると、手動による遠隔操作禁止機能の作動要求
入力時と同じく、操作切り換え部14は操作部2と制御
部15を強制的に接続する。同時に操作切り換え部14
は遠隔操作装置8に対して通信ライン6を通じ遠隔操作
禁止機能が作動したことを通知する。半導体露光装置1
の遠隔操作禁止状態表示部7は遠隔操作禁止状態になっ
たことを表示する。
In FIG. 4, the release of the danger prevention function of the semiconductor exposure apparatus 1 is performed by operating the operation unit 2 of the semiconductor exposure apparatus 1.
It is necessary to input the command for release from. The control unit 15 has a function of recognizing these specific commands. When recognizing these commands, the control unit 15 instructs the operation switching unit 14 to issue a command equivalent to the input of a remote operation prohibition function activation request input from the remote operation prohibition switch 13. Perform When this command is received, the operation switching unit 14 forcibly connects the operation unit 2 and the control unit 15 as in the case of manually inputting the operation request of the remote operation inhibition function. Operation switching unit 14 at the same time
Notifies the remote operation device 8 via the communication line 6 that the remote operation prohibition function has been activated. Semiconductor exposure apparatus 1
The remote-operation-prohibited state display section 7 indicates that the remote operation has been prohibited.

【0046】この後で制御部15は半導体露光装置1の
危険防止機能を解除する。遠隔操作装置8では通信ライ
ン6を通じて半導体露光装置1から遠隔操作禁止機能が
作動したという通知を受けると、遠隔操作対象切り換え
部12は該当する半導体露光装置1への切り換えを禁止
し、遠隔操作禁止状態表示部9に該当する半導体露光装
置1が選択禁止状態であることを表示する。遠隔操作禁
止状態が解除されるまで該当する半導体露光装置1の装
置選択スイッチ10は無効となる。こうして危険防止機
能を解除した半導体露光装置1は自動的に遠隔操作禁止
状態になる。
Thereafter, the control unit 15 releases the danger prevention function of the semiconductor exposure apparatus 1. When the remote operation device 8 receives a notification from the semiconductor exposure apparatus 1 via the communication line 6 that the remote operation inhibition function has been activated, the remote operation target switching unit 12 inhibits switching to the corresponding semiconductor exposure apparatus 1 and prohibits remote operation. The status display section 9 indicates that the corresponding semiconductor exposure apparatus 1 is in the selection prohibited state. The device selection switch 10 of the corresponding semiconductor exposure apparatus 1 becomes invalid until the remote operation inhibition state is released. In this manner, the semiconductor exposure apparatus 1 from which the danger prevention function has been released automatically enters the remote control prohibited state.

【0047】実施形態3における手動による遠隔操作禁
止の作動と同じく、遠隔操作禁止状態にある半導体露光
装置1から遠隔操作禁止機能を解除しない限り、半導体
露光装置1の遠隔操作禁止状態は継続する。
As in the operation for manually prohibiting remote operation in the third embodiment, the remote operation prohibition state of the semiconductor exposure apparatus 1 continues unless the remote operation prohibition function is released from the semiconductor exposure apparatus 1 in the remote operation prohibition state.

【0048】なお、本実施形態における作用および効果
は、実施形態2と同様である。
The operation and effects of this embodiment are the same as those of the second embodiment.

【0049】(実施形態5)次に、上記説明した露光装
置を利用したデバイスの生産方法を説明する。
(Embodiment 5) Next, a method for producing a device using the above-described exposure apparatus will be described.

【0050】図7は微小デバイス(ICやLSI等の半
導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マ
イクロマシン等)の製造のフローを示す。ステップS1
(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。ス
テップS2(マスク製作)では設計したパターンを形成
したマスクを製作する。一方、ステップS3(ウエハ製
造)ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製
造する。ステップS4(ウエハプロセス)は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップS5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステッ
プS4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ
化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボ
ンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の
工程を含む。ステップS6(検査)では、ステップS5
で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性
テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバ
イスが完成し、これが出荷(ステップS7)される。
FIG. 7 shows a flow of manufacturing micro devices (semiconductor chips such as ICs and LSIs, liquid crystal panels, CCDs, thin-film magnetic heads, micro machines, etc.). Step S1
In (circuit design), a circuit of a semiconductor device is designed. In step S2 (mask production), a mask on which the designed pattern is formed is produced. On the other hand, in step S3 (wafer manufacturing), a wafer is manufactured using a material such as silicon or glass. Step S4 (wafer process) is called a pre-process, and an actual circuit is formed on the wafer by lithography using the prepared mask and wafer. The next step S5 (assembly) is called a post-process, and is a process of forming a semiconductor chip using the wafer produced in step S4, and includes processes such as an assembly process (dicing and bonding) and a packaging process (chip encapsulation). including. In step S6 (inspection), step S5
Inspections such as an operation confirmation test and a durability test of the semiconductor device manufactured in the above are performed. Through these steps, a semiconductor device is completed and shipped (step S7).

【0051】図5は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップS11(酸化)ではウエハの表面を酸
化させる。ステップS12(CVD)ではウエハ表面に
絶縁膜を形成する。ステップS13(電極形成)ではウ
エハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS14
(イオン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステ
ップS15(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布
する。ステップS16(露光)では上記説明した露光の
適否を確認する手段を有する露光装置によってマスクの
回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップS17
(現像)では露光したウエハを現像する。ステップS1
8(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分を
削り取る。ステップS19(レジスト剥離)ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップS11〜19を繰り返し行うことによって、
ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
FIG. 5 shows a detailed flow of the wafer process. In step S11 (oxidation), the surface of the wafer is oxidized. In step S12 (CVD), an insulating film is formed on the wafer surface. In step S13 (electrode formation), electrodes are formed on the wafer by vapor deposition. Step S14
In (ion implantation), ions are implanted into the wafer. In step S15 (resist processing), a photosensitive agent is applied to the wafer. In step S16 (exposure), the circuit pattern of the mask is printed onto the wafer by exposure using an exposure apparatus having a means for confirming the suitability of the above-described exposure. Step S17
In (development), the exposed wafer is developed. Step S1
In step 8 (etching), portions other than the developed resist image are removed. In step S19 (resist stripping), unnecessary resist after etching is removed. By repeatedly performing these steps S11 to S19,
Multiple circuit patterns are formed on the wafer.

【0052】本実施形態では、以上の繰り返し工程にお
いて、故障修理等による半導体露光装置内部への作業時
に、半導体露光装置側からオンライン処理を禁止するこ
とにより作業を安全に行うものである。
In the present embodiment, in the above-described repetitive steps, when the work inside the semiconductor exposure apparatus is performed due to failure repair or the like, the work is performed safely by prohibiting online processing from the semiconductor exposure apparatus side.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、オンラ
イン操作が可能な半導体露光装置において、半導体露光
装置側にオンライン操作の禁止機能を持たせることによ
り、作業者が半導体露光装置での作業中に不意にオンラ
イン操作に切り換えられて発生するさまざまな危険を防
止することができる。
As described above, according to the present invention, in a semiconductor exposure apparatus which can be operated online, by providing a function of prohibiting the online operation on the semiconductor exposure apparatus side, an operator can use the semiconductor exposure apparatus. It is possible to prevent various dangers caused by unexpectedly switching to online operation during work.

【0054】加えて、ホストコンピュータ側でもオンラ
イン操作禁止機能の作動状態を確認できるため、オンラ
イン操作禁止状態においてホストコンピュータ側からの
オンライン操作の作動不良ではないか、といった誤認識
を避けることができ、装置稼働率を向上できる。
In addition, since the operation state of the online operation prohibition function can be confirmed on the host computer side as well, it is possible to avoid erroneous recognition that the online operation from the host computer is malfunctioning in the online operation prohibition state. Equipment operation rate can be improved.

【0055】さらに、危険防止機能の解除といった特定
の操作に連動して自動的にオンライン操作禁止機能を作
動させる機能により、手動によってオンライン操作禁止
機能の作動をさせ忘れた場合においても、オンライン操
作による危険を防止できる。
Furthermore, the function for automatically activating the online operation prohibition function in conjunction with a specific operation such as the release of the danger prevention function allows the user to manually activate the online operation prohibition function even if the user forgets to manually activate the online operation prohibition function. Danger can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施形態1における半導体露光装置の遠隔操
作システムの機能ブロック図。
FIG. 1 is a functional block diagram of a remote control system for a semiconductor exposure apparatus according to a first embodiment.

【図2】 実施形態3における半導体露光装置の遠隔操
作システムの機能ブロック図。
FIG. 2 is a functional block diagram of a remote control system for a semiconductor exposure apparatus according to a third embodiment.

【図3】 図2の半導体露光装置の遠隔操作システムの
外観図。
FIG. 3 is an external view of a remote control system of the semiconductor exposure apparatus of FIG. 2;

【図4】 実施形態4における半導体露光装置の遠隔操
作システムの機能ブロック図。
FIG. 4 is a functional block diagram of a remote control system for a semiconductor exposure apparatus according to a fourth embodiment.

【図5】 ホストコンピュータにより遠隔操作される半
導体露光装置の遠隔操作システムの外観図。
FIG. 5 is an external view of a remote control system of the semiconductor exposure apparatus remotely controlled by a host computer.

【図6】 従来の半導体露光装置の遠隔操作システムの
一例を示す外観図。
FIG. 6 is an external view showing an example of a conventional remote control system for a semiconductor exposure apparatus.

【図7】 微小デバイスの製造工程を示すフローチャー
ト。
FIG. 7 is a flowchart showing a manufacturing process of a micro device.

【図8】 図7のウエハプロセスの詳細なフローチャー
ト。
FIG. 8 is a detailed flowchart of the wafer process of FIG. 7;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:半導体露光装置、2,11:操作部、3,15:制
御部、4:本体部、5:ホストコンピュータ、6:通信
ライン、7,9:遠隔操作禁止状態表示部、8:遠隔操
作装置、10:装置選択スイッチ、12:遠隔操作対象
切り換え部、13:遠隔操作禁止スイッチ、14:操作
切り換え部。
1: semiconductor exposure apparatus, 2, 11: operation unit, 3, 15: control unit, 4: main unit, 5: host computer, 6: communication line, 7, 9: remote operation prohibited state display unit, 8: remote operation Apparatus, 10: apparatus selection switch, 12: remote operation target switching section, 13: remote operation inhibition switch, 14: operation switching section.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1台あるいは複数台の半導体露光装置を
遠隔操作可能な遠隔操作装置から遠隔操作される半導体
露光装置の遠隔操作方法において、前記半導体露光装置
が必要に応じて個別に前記遠隔操作を禁止することを特
徴とする遠隔操作方法。
1. A method of remotely controlling a semiconductor exposure apparatus in which one or more semiconductor exposure apparatuses are remotely controlled from a remote control apparatus capable of remotely controlling the semiconductor exposure apparatuses, wherein the semiconductor exposure apparatuses individually perform the remote control as needed. Remote control method characterized by prohibiting the operation.
【請求項2】 前記半導体露光装置から前記遠隔操作を
禁止した場合に、この半導体露光装置の遠隔操作が禁止
状態であることを通信回線を介して前記遠隔操作を行う
装置に表示することを特徴とする請求項1記載の遠隔操
作方法。
2. When the remote operation is prohibited from the semiconductor exposure apparatus, the fact that the remote operation of the semiconductor exposure apparatus is prohibited is displayed on the apparatus performing the remote operation via a communication line. The remote control method according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記半導体露光装置からの特定の操作ま
たは前記半導体露光装置の特定の動作に連動して自動的
に前記遠隔操作を禁止することを特徴とする請求項1ま
たは2記載の遠隔操作方法。
3. The remote control according to claim 1, wherein the remote control is automatically prohibited in conjunction with a specific operation from the semiconductor exposure apparatus or a specific operation of the semiconductor exposure apparatus. Method.
【請求項4】 前記特定の操作が、前記半導体露光装置
の危険防止機能を解除する操作である請求項3記載の遠
隔操作方法。
4. The remote control method according to claim 3, wherein the specific operation is an operation for releasing a danger prevention function of the semiconductor exposure apparatus.
【請求項5】 前記危険防止機能が、温度調節チャンバ
ーの扉を開けた時に前記半導体露光装置を自動的に停止
する機能であることを特徴とする請求項4記載の遠隔操
作方法。
5. The remote control method according to claim 4, wherein the danger prevention function is a function of automatically stopping the semiconductor exposure apparatus when a door of the temperature control chamber is opened.
【請求項6】 前記遠隔操作の禁止状態で前記危険防止
機能が再度作動した場合、これに連動して前記遠隔操作
の禁止状態を解除することを特徴とする請求項4または
5記載の遠隔操作方法。
6. The remote operation according to claim 4, wherein when the danger prevention function is activated again in the remote operation prohibited state, the remote operation prohibited state is released in conjunction with the operation. Method.
【請求項7】 請求項1〜6記載の遠隔操作方法により
半導体露光装置を操作してデバイスを製造することを特
徴とするデバイス製造方法。
7. A device manufacturing method, wherein a device is manufactured by operating a semiconductor exposure apparatus by the remote operation method according to claim 1.
【請求項8】 1台あるいは複数台の半導体露光装置を
遠隔操作可能な遠隔操作装置から遠隔操作される半導体
露光装置において、前記半導体露光装置が個別に遠隔操
作を禁止する遠隔操作禁止手段を有することを特徴とす
る半導体露光装置。
8. A semiconductor exposure apparatus in which one or a plurality of semiconductor exposure apparatuses are remotely controlled from a remote control apparatus capable of remotely controlling the semiconductor exposure apparatus, wherein the semiconductor exposure apparatuses each have a remote operation prohibition unit for prohibiting a remote operation. A semiconductor exposure apparatus characterized by the above-mentioned.
【請求項9】 前記半導体露光装置からの特定の操作ま
たは前記半導体露光装置の動作に連動して自動的に前記
遠隔操作禁止手段を作動する手段を有することを特徴と
する請求項8記載の半導体露光装置。
9. The semiconductor device according to claim 8, further comprising means for automatically activating said remote control inhibiting means in conjunction with a specific operation from said semiconductor exposure apparatus or an operation of said semiconductor exposure apparatus. Exposure equipment.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003037048A (en) * 2001-07-24 2003-02-07 Canon Inc Semiconductor manufacturing system and method of controlling semiconductor manufacturing apparatus

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