JPH1015829A - 遠心式砥粒投射装置 - Google Patents
遠心式砥粒投射装置Info
- Publication number
- JPH1015829A JPH1015829A JP18880396A JP18880396A JPH1015829A JP H1015829 A JPH1015829 A JP H1015829A JP 18880396 A JP18880396 A JP 18880396A JP 18880396 A JP18880396 A JP 18880396A JP H1015829 A JPH1015829 A JP H1015829A
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- JP
- Japan
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- abrasive
- impeller
- liner
- cover
- abrasive grain
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガイド部材を用いることなく扇形状を成す砥
粒群の先端部を制限させることができる遠心式砥粒投射
装置を提供する。 【解決手段】 回転可能に支持されたインペラ３と、イ
ンペラ３を包囲するカバー４と、カバー４の内面に着脱
可能に取付けられインペラ３から遠心投射される砥粒に
対してカバー４を保護するライナー５とを備えた遠心式
砥粒投射装置において、ライナー５における砥粒投射口
１０を形成しかつ投射される砥粒の衝突する左・右側部
５１、５２の砥粒投射口１０付近が相互に対向しかつほ
ぼ平行に延ばし、さらに左・右側部５１、５２における
砥粒投射口１０付近を除く部分とインペラ３との隙間を
１０〜６０ｍｍにして、砥粒群をライナー５の先端部に
よって制限するようにする。
粒群の先端部を制限させることができる遠心式砥粒投射
装置を提供する。 【解決手段】 回転可能に支持されたインペラ３と、イ
ンペラ３を包囲するカバー４と、カバー４の内面に着脱
可能に取付けられインペラ３から遠心投射される砥粒に
対してカバー４を保護するライナー５とを備えた遠心式
砥粒投射装置において、ライナー５における砥粒投射口
１０を形成しかつ投射される砥粒の衝突する左・右側部
５１、５２の砥粒投射口１０付近が相互に対向しかつほ
ぼ平行に延ばし、さらに左・右側部５１、５２における
砥粒投射口１０付近を除く部分とインペラ３との隙間を
１０〜６０ｍｍにして、砥粒群をライナー５の先端部に
よって制限するようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、砥粒に遠心力を付
与してこれを投射する遠心式砥粒投射装置の改良に関す
る。
与してこれを投射する遠心式砥粒投射装置の改良に関す
る。
【０００２】
【従来技術と課題】従来のこの種の装置は、一般に回転
可能に支持されたインペラと、このインペラを包囲する
カバーと、このカバーの内面に着脱可能に取付けられ前
記インペラから遠心投射される砥粒に対して前記カバー
を保護するライナーとで構成されており、さらにライナ
ーにおける砥粒投射口を形成する部分付近は、相互に対
向しかつ末広がり状に延びている。従って、インペラに
よって遠心投射された砥粒は、何らの制限を受けること
なく扇形状に大きく広がり、かつ扇形状を成す砥粒群の
先端部は密度が粗いなどの問題があった。そのため、扇
形状を成す砥粒群の先端部の密度を高める場合には、ガ
イド部材により、砥粒群の先端部を制限させる方法が為
されていたが、構造が複雑になる新たな問題が起きてい
た。さらに、被処理品が砥粒の扇形状の投射分布より小
さい場合、砥粒は無駄な投射が多くなるとともに、研掃
室内の部品を摩耗させることとなり、研掃効率が悪く、
かつ、ランニングコストが高くなる問題もあった。本発
明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、その目的
は、ガイド部材を用いることなく扇形状を成す砥粒群の
先端部を制限させることができ、しかも、研掃効率を高
め、ランニングコストを低減できる遠心式砥粒投射装置
を提供することにある。
可能に支持されたインペラと、このインペラを包囲する
カバーと、このカバーの内面に着脱可能に取付けられ前
記インペラから遠心投射される砥粒に対して前記カバー
を保護するライナーとで構成されており、さらにライナ
ーにおける砥粒投射口を形成する部分付近は、相互に対
向しかつ末広がり状に延びている。従って、インペラに
よって遠心投射された砥粒は、何らの制限を受けること
なく扇形状に大きく広がり、かつ扇形状を成す砥粒群の
先端部は密度が粗いなどの問題があった。そのため、扇
形状を成す砥粒群の先端部の密度を高める場合には、ガ
イド部材により、砥粒群の先端部を制限させる方法が為
されていたが、構造が複雑になる新たな問題が起きてい
た。さらに、被処理品が砥粒の扇形状の投射分布より小
さい場合、砥粒は無駄な投射が多くなるとともに、研掃
室内の部品を摩耗させることとなり、研掃効率が悪く、
かつ、ランニングコストが高くなる問題もあった。本発
明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、その目的
は、ガイド部材を用いることなく扇形状を成す砥粒群の
先端部を制限させることができ、しかも、研掃効率を高
め、ランニングコストを低減できる遠心式砥粒投射装置
を提供することにある。
【０００３】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに発明における遠心式砥粒投射装置は、回転可能に支
持されたインペラと、このインペラを包囲するカバー
と、このカバーの内面に着脱可能に取付けられ前記イン
ペラから遠心投射される砥粒に対して前記カバーを保護
するライナーとを備えた遠心式砥粒投射装置において、
前記ライナーにおける砥粒投射口を形成しかつ投射され
る砥粒の衝突する左・右側部の前記砥粒投射口付近が相
互に対向しかつほぼ平行に延び、さらに前記左・右側部
における前記砥粒投射口付近を除く部分と前記インペラ
との隙間を１０〜６０ｍｍにして、扇形状を成す砥粒群
の先端部を前記ライナーの先端部である程度制限するよ
うにする。
めに発明における遠心式砥粒投射装置は、回転可能に支
持されたインペラと、このインペラを包囲するカバー
と、このカバーの内面に着脱可能に取付けられ前記イン
ペラから遠心投射される砥粒に対して前記カバーを保護
するライナーとを備えた遠心式砥粒投射装置において、
前記ライナーにおける砥粒投射口を形成しかつ投射され
る砥粒の衝突する左・右側部の前記砥粒投射口付近が相
互に対向しかつほぼ平行に延び、さらに前記左・右側部
における前記砥粒投射口付近を除く部分と前記インペラ
との隙間を１０〜６０ｍｍにして、扇形状を成す砥粒群
の先端部を前記ライナーの先端部である程度制限するよ
うにする。
【０００４】
【実施例】本発明の実施例について図面に基づき詳細に
説明する。図１に示すように、研掃室を構成するキャビ
ネット１の外面に、本発明の遠心式砥粒投射装置２が装
着してあり、遠心式砥粒投射装置２は、回転可能に支持
されたインペラ３と、このインペラ３を包囲するカバー
４と、このカバー４の内面に着脱可能に取付けられ前記
インペラ３から遠心投射される砥粒に対して前記カバー
４を保護するライナー５とで構成してある。そして、前
記カバー４は上下方向へ延びかつ上部の左右両側だけが
先細り状を成す本体４１と、本体４１の上端上に着脱可
能に取り付けられた上蓋４２とで構成してある。上蓋４
２は、前記本体４１に装着された締め付け機構６により
着脱可能に固定してあり、締め付け機構６は前記カバー
４に装着されたボルト７と、ボルト７に螺着されたナッ
ト８とで構成してある。
説明する。図１に示すように、研掃室を構成するキャビ
ネット１の外面に、本発明の遠心式砥粒投射装置２が装
着してあり、遠心式砥粒投射装置２は、回転可能に支持
されたインペラ３と、このインペラ３を包囲するカバー
４と、このカバー４の内面に着脱可能に取付けられ前記
インペラ３から遠心投射される砥粒に対して前記カバー
４を保護するライナー５とで構成してある。そして、前
記カバー４は上下方向へ延びかつ上部の左右両側だけが
先細り状を成す本体４１と、本体４１の上端上に着脱可
能に取り付けられた上蓋４２とで構成してある。上蓋４
２は、前記本体４１に装着された締め付け機構６により
着脱可能に固定してあり、締め付け機構６は前記カバー
４に装着されたボルト７と、ボルト７に螺着されたナッ
ト８とで構成してある。
【０００５】また、前記ライナー５は、投射される砥粒
が衝突する左・右側部５１、５２と、この左・右側部５
１、５２の上端間に仮設された天井部５３と、前・後壁
部５４とで構成してあり（後壁部だけ図示）、左・右側
部５１、５２は、上部の突起５１ａ、５２ａが前記本体
４１の内面に突設された支持部材４１ａにより掛止支持
されかつカバー４に螺着されたボルト９で内側へ向け押
して固定してある。そして、左・右側部５１、５２は、
砥粒投射口１０を形成する下部分が相互に対向しかつほ
ぼ平行に延び、さらに前記砥粒投射口１０付近を除く部
分と前記インペラ３との隙間を１０〜６０ｍｍにしてあ
る。なお、左・右側部５１、５２とインペラ３との隙間
を１０ｍｍ以下にすると、左・右側部５１、５２の摩耗
量が極端に多くなり、また、１０ｍｍ以上にすると、左
・右側部５１、５２の摩耗量が大幅に少なくなることが
実験により明らかにされている。しかし、６０ｍｍ以上
にすると、差程、摩耗量の減少が少なくなること、さに
ら砥粒群の広がりを制限することが難しくなるから、そ
れらの間隔は１０〜６０ｍｍの範囲が好適である。ま
た、前記ランナー５の左・右側部５１、５２の下方に
は、これと本体４１との隙間を閉鎖する閉鎖部材１１が
前記キャビネット１に装着してある。
が衝突する左・右側部５１、５２と、この左・右側部５
１、５２の上端間に仮設された天井部５３と、前・後壁
部５４とで構成してあり（後壁部だけ図示）、左・右側
部５１、５２は、上部の突起５１ａ、５２ａが前記本体
４１の内面に突設された支持部材４１ａにより掛止支持
されかつカバー４に螺着されたボルト９で内側へ向け押
して固定してある。そして、左・右側部５１、５２は、
砥粒投射口１０を形成する下部分が相互に対向しかつほ
ぼ平行に延び、さらに前記砥粒投射口１０付近を除く部
分と前記インペラ３との隙間を１０〜６０ｍｍにしてあ
る。なお、左・右側部５１、５２とインペラ３との隙間
を１０ｍｍ以下にすると、左・右側部５１、５２の摩耗
量が極端に多くなり、また、１０ｍｍ以上にすると、左
・右側部５１、５２の摩耗量が大幅に少なくなることが
実験により明らかにされている。しかし、６０ｍｍ以上
にすると、差程、摩耗量の減少が少なくなること、さに
ら砥粒群の広がりを制限することが難しくなるから、そ
れらの間隔は１０〜６０ｍｍの範囲が好適である。ま
た、前記ランナー５の左・右側部５１、５２の下方に
は、これと本体４１との隙間を閉鎖する閉鎖部材１１が
前記キャビネット１に装着してある。
【０００６】このように構成したものは、インペラ３の
回転によって遠心投射されて扇形状に広がる砥粒群Ｓの
うち左端部のものは、ライナー５の左側部５１の下端部
でその広がりを制限されて、所要の広がりをもって投射
されることとなる。
回転によって遠心投射されて扇形状に広がる砥粒群Ｓの
うち左端部のものは、ライナー５の左側部５１の下端部
でその広がりを制限されて、所要の広がりをもって投射
されることとなる。
【０００７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明
は、ライナーにおける砥粒投射口を形成しかつ投射され
る砥粒の衝突する左・右側部の砥粒投射口付近を、相互
に対向しかつほぼ平行に延ばし、さらに前記左・右側部
における前記砥粒投射口付近を除く部分と前記インペラ
との隙間を１０〜６０ｍｍにしたから、別途ガイド部材
を設けることなく、砥粒群の広がりをある程度制限する
ことができ、しかも構造が従来のガイド部材を設けたも
のと比較して簡単になり、さらに、研掃効率を高めると
ともに、ランニングコストを低減できるなどの優れた効
果を奏する。
は、ライナーにおける砥粒投射口を形成しかつ投射され
る砥粒の衝突する左・右側部の砥粒投射口付近を、相互
に対向しかつほぼ平行に延ばし、さらに前記左・右側部
における前記砥粒投射口付近を除く部分と前記インペラ
との隙間を１０〜６０ｍｍにしたから、別途ガイド部材
を設けることなく、砥粒群の広がりをある程度制限する
ことができ、しかも構造が従来のガイド部材を設けたも
のと比較して簡単になり、さらに、研掃効率を高めると
ともに、ランニングコストを低減できるなどの優れた効
果を奏する。
【図１】本発明の一実施例の概略縦断面図である。
３ インペラ ４ カバー４ ５ ライナー １０ 砥粒投射口 ５１ 左側部 ５２ 右側部
Claims (1)
- 【請求項１】 回転可能に支持されたインペラ３と、こ
のインペラ３を包囲するカバー４と、このカバー４の内
面に着脱可能に取付けられ前記インペラ３から遠心投射
される砥粒に対して前記カバー４を保護するライナー５
とを備えた遠心式砥粒投射装置において、前記ライナー
５における砥粒投射口１０を形成しかつ投射される砥粒
の衝突する左・右側部５１、５２の前記砥粒投射口１０
付近が相互に対向しかつほぼ平行に延び、さらに前記左
・右側部５１、５２における前記砥粒投射口１０付近を
除く部分と前記インペラ３との隙間を１０〜６０ｍｍに
したことを特徴とする遠心式砥粒投射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18880396A JPH1015829A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 遠心式砥粒投射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18880396A JPH1015829A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 遠心式砥粒投射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1015829A true JPH1015829A (ja) | 1998-01-20 |
Family
ID=16230085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18880396A Pending JPH1015829A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 遠心式砥粒投射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1015829A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110229335A1 (en) * | 2008-12-12 | 2011-09-22 | Masakatsu Ito | Machine for centrifugally shooting abrasives |
-
1996
- 1996-06-28 JP JP18880396A patent/JPH1015829A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110229335A1 (en) * | 2008-12-12 | 2011-09-22 | Masakatsu Ito | Machine for centrifugally shooting abrasives |
| US8702476B2 (en) * | 2008-12-12 | 2014-04-22 | Sintokogio, Ltd. | Machine for centrifugally shooting abrasives |
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