JPH1015082A - ハイパーサーミア用アプリケータ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は体腔内に挿入可能な挿入部の先端部よ
り前方を加温領域とし、この加温領域の少なくとも一部
が重なり合う領域に放射線を照射するようにしたハイパ
ーサーミア用アプリケータを提供することにある。 【解決手段】本発明は、体腔内に挿入可能な支持シャフ
ト体２０と、前記支持シャフト体２０の先端部より前方
の治療対象部位を加温すべく加温領域を形成するように
設けられたキャップ状の電極体２５と、前記加温領域と
少なくとも一部が重なり合う領域に放射線を照射するよ
うに放射線源を保持可能であり、その放射線源の少なく
とも一部を前記前方加温型加温部より外側に位置させて
保持するように設けた挿通管路用チューブ２１と、前記
挿通管路用チューブ２１に対して小線源移送チューブ１
１を導入し、前記放射線源を出し入れ可能にするように
したものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、患者の体腔内に発
生した腫瘍などの患部を加温して治療するハイパーサー
ミア用アプリケータに関する。

【０００２】

【従来の技術】患者の体腔、特に子宮頸部等に発生した
腫瘍患部を加温して治療する装置として実公平６−３６
８３４号公報に示された体内ハイパーサーミア用アプリ
ケータが知られている。ここで提案された体内ハイパー
サーミア用アプリケータの電極体は先端円板部とこれに
連設する円筒部とを有するキャップ状の電極構造のもの
である。

【０００３】このキャップ状の電極体を用いれば、電極
体の前端面に対応する前方部位の加温に加え、円筒部の
周辺部位の加温も同時に行うことができる。このため、
子宮頸部癌が進行し、癌の浸潤が生じた場合でも、子宮
頸部と浸潤領域を含めた広い範囲にわたる患部を全体的
に加温することができる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、腫瘍患
部を治療する方法として、この温熱治療の他に放射線治
療がある。温熱治療と放射線治療とを併用して治療がな
されることが多いが、放射線治療と放射線治療の手技は
異なるため、放射線治療後に温熱治療を実施したり、温
熱治療の後に放射線治療を実施したり、各治療が別々に
行われている。

【０００５】ところで、治療効果は温熱治療と放射線治
療を同時に行うときが最も高いといわれている。このた
め、各治療を別々の時期に行うと、治療効果が低くなっ
てしまうという問題点があった。また、温熱治療と放射
線治療を併用する場合、その各治療を別々に行うので、
非常に手間がかかってしまうし、患者の負担も大きいと
いう問題点があった。

【０００６】本発明は前記問題点に着目してなされたも
ので、その目的とするところは、少なくとも体腔内に挿
入可能な挿入部の先端部より前方を加温領域とし、この
加温領域の少なくとも一部が重なり合う領域に放射線を
照射するようにして、体腔内患部の温熱治療と放射線治
療を同時に行うことにより治療効果を高めることができ
るとともに、温熱治療と放射線治療を同時に行うことに
よって、これまで各治療を別々に行ってきた手間を省
き、患者の負担を軽減することができるハイパーサーミ
ア用アプリケータを提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】課題を解決するために本
発明のハイパーサーミア用アプリケータは、体腔内に挿
入可能な挿入部を有する支持体と、前記挿入部の先端部
より前方の治療対象部位を加温すべく加温領域を形成す
るように、前記挿入部の先端部に設けられた前方加温型
加温部と、前記加温領域と少なくとも一部が重なり合う
領域に放射線を照射するように放射線源を保持可能であ
り、その放射線源の少なくとも一部を前記前方加温型加
温部より外側に位置させて保持するように設けた線源保
持部と、前記支持体の外部から、該支持体に沿って前記
線源保持部に対して前記放射線源を出し入れ可能にする
放射線源挿脱部とを備えたものである。そして、少なく
とも体腔内に挿入可能な挿入部の先端部より前方を加温
領域とし、この加温領域に少なくとも部分が重なり合う
領域に放射線を照射するようにして、体腔内患部の温熱
治療と放射線治療を同時に行う。

【０００８】

【発明の実施の形態】

（第１実施形態）図１ないし図４を参照して、本発明の
第１実施形態を説明する。 ＜構成＞本実施形態に係る腔内アプリケータ１を図１に
示す。図３はその腔内アプリケータ１を用いて治療室２
内で温熱治療と放射線治療の併用を行う治療装置３を示
す。

【０００９】治療室２は放射線シールド壁４によって外
部から放射線シールドされた部屋である。この治療室２
内には前記腔内アプリケータ１の他に患者５の体外に装
着される体外アプリケータ６、患者５を載置するベット
７、ハイパーサーミア装置本体８および小線源治療器本
体９などの機器が設置されている。ハイパーサーミア装
置本体８にはハイパーサーミア用の給電ケーブルやチュ
ーブ類１０が接続されている。ハイパーサーミア装置本
体８は加温する温度を自動制御する機能を備える。小線
源治療器本体９には小線源移送チューブ１１が接続され
ている。

【００１０】治療室２の外には隣接してコントロール室
１２が設けられている。コントローラ室１２には小線源
治療器コントローラ１３が設置されている。また、コン
トロール室１２から透明な観察窓１４を通じて治療室２
内を観察することができるようになっている。

【００１１】前記腔内アプリケータ１は支持体としての
可撓性のある支持シャフト体２０を備える。支持シャフ
ト体２０は図１（ｃ）で示すように複数のルーメンを軸
方向に沿って平行に形成した円柱形状の、いわゆる一体
成形のマルチルーメンチューブによって構成されてい
る。各ルーメンは互いに平行に形成されているが、少な
くとも支持シャフト体２０の中央に配置されたルーメン
を有する。他のルーメンはその中央のルーメンの周囲に
配置されている。

【００１２】中央のルーメンは支持シャフト体２０の軸
心に一致して配置されている。そして、この中央のルー
メンにはこれを貫通するように挿通管路用チューブ２１
が挿入配置されている。挿通管路用チューブ２１はその
内腔で前述した小線源移送チューブ１１を挿通して誘導
する挿通管路２２を形成する。挿通管路２２は線源案内
管部を構成する。また、この線源案内管部を通じて、支
持シャフト体２０の外部から、放射線源を出し入れ可能
とする放射線源挿脱部を構成している。

【００１３】挿通管路用チューブ２１の遠位端部分は支
持シャフト体２０の先端から突き出し、その遠位端は閉
塞された球形の先端を形成している。そして、挿通管路
用チューブ２１はこの先端部まで前記小線源移送チュー
ブ１１を導入し、放射線源を保持する。つまり、挿通管
路用チューブ２１は線源保持部を構成するものでもあ
る。

【００１４】一方、中央のルーメンの周囲に配置された
他のルーメンは冷却媒体を導入する導入通路２３や冷却
媒体を排出するため排出通路２４を形成し、さらに導線
を導くための通路などにも利用可能である。

【００１５】支持シャフト体２０はその先端部を所定の
設置部位に誘導設置するために変形可能な可撓性を有す
るとともに形状を保持することが可能な構造を持つ。こ
のような素材として例えば可撓性高分子材と金属を組み
合わせた部材が用いられている。もっとも、支持シャフ
ト体２０の形状や大きさおよび特性等はその使用目的に
応じて任意に設計すればよいものである。

【００１６】支持シャフト体２０の先端部にはその先端
部より前方の治療対象部位を加温する加温領域を形成す
る前方加温型加温部が設けられている。ここでの前方加
温型加温部として電極体２５が用いられている。また、
支持シャフト体２０の先端側部分は体腔内に挿入可能な
挿入部を構成する。この挿入部の先端部には加温用電極
体２５が位置する部分まで含まれる。

【００１７】前記電極体２５は支持シャフト体２０の遠
位端面に配置された円板形状の第１電極部２５ａと、こ
の第１電極部２５ａの周端に続く円筒形状の第２電極部
２５ｂとを備えてなり、全体としてキャップ状の電極体
を構成している。第２電極部２５ｂは支持シャフト体２
０の先端部の全周側面を囲むように配設されている。第
１電極部２５ａと第２電極部２５ｂは支持シャフト体２
０の軸心に対して同心的に配置されている。第１電極部
２５ａと第２電極部２５ｂは支持シャフト体２０の表面
に密着させてもよいが、この実施形態では支持シャフト
体２０の表面との間に隙間が形成されるようにして第１
電極部２５ａと第２電極部２５ｂが保持されている。

【００１８】第１電極部２５ａの円板部中央部位は支持
シャフト体２０の軸心延長上に位置した貫通孔２６が形
成されている。この貫通孔２６は前記挿通管路用チュー
ブ２１と同軸上に配置される。そして、この貫通孔２６
には挿通管路用チューブ２１の遠位端部が貫通し、これ
により挿通管路用チューブ２１の遠位端部は第１電極部
２５ａの前方に誘導されて後述する冷却媒体収容部材内
の空間内に突き出している。

【００１９】前記電極体２５の電極部２５ａ，２５ｂは
銅や銀等の電気良導体で板状物、箔状物、網目状物ある
いはコイル状物等の形態で全体的に導電性を持つように
形成されている。電極体２５の形状の具体的な各種の例
を図２に示す。図２の（ａ）から（ｃ）および（ｅ）の
電極体２５は、第１電極部２５ａと第２電極部２５ｂの
両方を板状物、箔状物または網目状物で形成したもので
あり、図２の（ｂ）、（ｃ）および（ｅ）のものは第２
電極部２５ｂの円筒状周部に複数の通孔２７を形成した
ものである。通孔２７を形成することにより多くの循環
流路を確保するようにしたものである。図２の（ｄ）の
電極体２５は第２電極部２５ｂの円筒状部分をコイル状
に形成したものである。さらに図２の（ｅ）の電極体２
５ではその表面に溝２８を形成し、循環流路をより多く
確保するようにしたものである。

【００２０】なお、各電極部２５ａ，２５ｂの形状は支
持シャフト体２０の外観形状に必ずしも依存する必要は
ない。また、第１電極部２５ａと第２電極部２５ｂは一
体のものであっても別々のものであってもよい。

【００２１】電極体２５の電極部２５ａ，２５ｂには導
線２９が接続され、この導線２９は支持シャフト体２０
を貫通し、給電ケーブル３０を介してハイパーサーミア
装置本体８の電源（図示せず）に接続されている。

【００２２】支持シャフト体２０の先端部には電極体２
５を覆う冷却媒体収容部材、つまり弾性体シートとして
の、例えば可撓性高分子膜３１が設けられている。この
可撓性高分子膜３１は支持シャフト体２０との間に前記
電極体２５を包含する気密または少なくとも液密な空間
３２を形成する。この液密な空間３２内には支持シャフ
ト体２０に備えられた導入通路２３と排出通路２４の先
端がそれぞれ開口しており、これらの導入通路２３と排
出通路２４を通じて前記空間３２内に水または導電性液
体等の冷却媒体を満たし、かつ冷却媒体を循環させるよ
うになっている。

【００２３】図１（ｃ）で示すように、導入通路２３の
先端は電極体２５の第２電極部２５ｂの後端より手元側
に位置して開口しており、排出通路２４の先端部は電極
体２５の第１電極部２５ａの周端に並べて空間３２内の
前方部位に向けて開口している。もっとも、この配置は
逆にしてもよいし、冷却媒体の導入と排出の向きを外部
装置によって選択的に切り換えて行うようにしてもよ
い。

【００２４】ここで循環させる冷却媒体は第１に温熱治
療時の局部加熱を防止するためのものであるが、同時に
可撓性高分子膜３１を膨脹させることにより、その可撓
性高分子膜３１を目標部位の体腔内面に密着固定させ、
電極体２５を保持させる機能もある。このような冷却媒
体の使用目的を効果的に達成し得るために前記可撓性高
分子膜３１の材料の例としては天然ゴムまたは合成ゴム
などによる高分子膜、たとえばシリコンゴム等が用いら
れる。

【００２５】また、可撓性高分子膜３１の外表面には温
熱治療中の加温状態を監視するための温度センサー感温
部３３が設置されている。この温度センサー感温部３３
は支持シャフト体２０内を貫通する温度センサーリード
線３４に接続されている。温度センサーリード線３４は
支持シャフト体２０から導出する温度センサーケーブル
３５を通じて前記ハイパーサーミア装置本体８に接続さ
れる。

【００２６】温度センサーリード線３４は図１（ａ）に
示すように可撓性高分子膜３１の外側に沿って這わせて
も、その可撓性高分子膜３１の内側すなわち空間３２に
配置させ、温度センサー感温部３３のみを可撓性高分子
膜３１の外側に出す構造としても良い。

【００２７】図１（ｂ）で示すように、挿通管路用チュ
ーブ２１の近位端には口金３６が設けられている。口金
３６にはリング状のゴム栓３７と中空の締付けねじ３８
を具備する。そして、挿通管路用チューブ２１に小線源
移送チューブ１１を挿入した後、締付けねじ３８を絞め
ることによりゴム栓３７が潰れ、潰れたゴム栓３７が前
記小線源移送チューブ１１を固定する仕組みとなってい
る。

【００２８】前記挿通管路用チューブ２１は柔軟性のあ
るシリコンや滑り性のよいテフロン等が望ましいが、そ
れに限定されるものではない。また挿通管路用チューブ
２１は放射線を均一に照射させるために支持シャフト体
２０および電極体２５の中心軸上に配置させているが、
わざと放射線の照射を片寄らせるために、挿通管路用チ
ューブ２１、およびこれを挿通する支持シャフト体２０
のルーメンや第１電極部２５ａの貫通孔２６を、その支
持シャフト体２０の中心軸から外れた所に位置させても
よい。

【００２９】なお、挿通管路用チューブ２１を挿入配置
するルーメン以外の各ルーメンについては必ずしも図１
（ｃ）に示す場所に配置されている必然性はなく、この
支持シャフト体２０の先端部側の各ルーメンの開口部と
手元側端部に接続される対応チューブとの間が支持シャ
フト体２０内の各ルーメンを通して連通されていればよ
い。この実施形態では支持シャフト体２０の先端部にお
いては挿通管路用チューブ２１がその支持シャフト体２
０の全長にわたり軸心位置に正確に配置されているが、
支持シャフト体２０の先端部以外の部分では必ずしも軸
心位置に配置する必要はない。支持シャフト体２０の手
元側端部には前記導入通路２３に通じる供給チューブ３
９と、前記排出通路２４に通じる排出チューブ４０が接
続されている。

【００３０】＜作用＞次に、前記構成の作用について説
明する。前記腔内アプリケータ１は図３に示すように、
放射線シールドされた治療室２内で使用される。腔内ア
プリケータ１を実際に使用するときには、まず可撓性高
分子膜３１を萎ませ、支持シャフト体２０と可撓性高分
子膜３１の間の空間３２を小さくする。可撓性高分子膜
３１を小さくした状態で腔内アプリケータ１を患者５の
体腔内に挿入し、腔内アプリケータ１における挿入部の
先端部が治療対象部位である患部４１に対向位置するま
で挿入する。

【００３１】一方、小線源移送チューブ１１は腔内アプ
リケータ１を患部４１に挿入する前に挿通管路用チュー
ブ２１に入れておくか、あるいは腔内アプリケータ１を
患部４１に挿入後に、腔内アプリケータ１の挿通管路用
チューブ２１を通じて挿入する。

【００３２】そして、腔内アプリケータ１の挿入部の先
端部を体腔内に患部４１近くまで挿入位置させた後、冷
却水を循環させ、同時に可撓性高分子膜３１を膨らませ
る。これによって可撓性高分子膜３１の外表面が体腔の
内周面に密着し、腔内アプリケータ１の挿入部の先端部
が患部４１に固定される。このようにして腔内アプリケ
ータ１を患部４１の位置に固定した後、患部４１の温熱
治療および放射線治療を次のように行う。

【００３３】実際の治療手順については医師のプロトコ
ルによって異なるが、ここでは治療手順の一例として、
小線源治療と温熱治療の同時併用について記述する。ま
ず、腔内アプリケータ１の電極体２５と体外アプリケー
タ６の電極との間に高周波電流を通電し、温熱治療を開
始する。

【００３４】そして、加温温度が安定した時点で、術者
はシールドルームである治療室２の外に出る。その場
合、ハイパーサーミア装置本体８については加温温度の
自動制御機能の設定を行い、その実行を行わせる。これ
により、術者が治療室２の外にいても、正しく温熱治療
を継続できる。この温熱治療時の温度状況等は治療室２
の外のモニターなどに表示される。この表示については
例えばハイパーサーミア装置本体８の表示される部分が
治療室２の外から見える方向に向いているだけのもので
もよい。

【００３５】続いて、術者は治療室２の外で放射線治療
の作業を行う。この作業時には治療室２の外にある小線
源治療器コントローラ１３を用いて小線源治療装置本体
９から小線源移送チューブ１１を介して患部４１に小線
源を送り込む。ここで、小線源移送チューブ１１は腔内
アプリケータ１の支持シャフト体２０および電極体２５
内にわたって設置された挿通管路用チューブ２１に挿入
されているので、結果として小線源は電極体２５の第１
電極部２５ａと第２電極部２５ｂの付近に配置される。
特に挿通管路用チューブ２１の遠位端部分は第１電極部
２５ａよりも前方に配置されるので、その挿通管路用チ
ューブ２１に送り込まれた小線源も、そのチューブ２１
の先端付近まで達して位置する。つまり、小線源の少な
くとも一部は前方加温型加温部の前方に配置される。小
線源は小線源移送チューブ１１内を通じて、小線源治療
器本体９で予めプログラムされた範囲を設定された放射
線量が照射されるまでの時間をかけて移動する。本実施
形態では図４で示す照射領域ｂになるように小線源移送
チューブ１１の先端側を小線源がゆっくり移動する例を
示す。この場合、小線源移送チューブ１１の先端側に小
線源が停滞するので小線源移送チューブ１１の先端側の
放射線量が多くなっている。

【００３６】このような状態で、小線源から放射線が放
射され、所定の時間、患部に放射線が照射される。その
後、小線源は小線源治療器本体９に回収される。ハイパ
ーサーミア装置本体８による温熱治療は小線源からの放
射線の照射終了後も継続され、所定の加温時間が経過し
た時点で自動的に加温終了となる。また、小線源が低線
量率の場合には患部４１への照射時間が長いため、小線
源治療器本体９による放射線の照射中にハイパーサーミ
ア装置本体８による加温が開始され、終了するというプ
ロトコルで、温熱治療と放射線治療との同時併用が行わ
れる。

【００３７】また、ハイパーサーミア装置本体８による
患部４１の加温と小線源治療器本体９による放射線の照
射を同時に行わず、小線源治療器本体９による放射線の
照射後にハイパーサーミア装置本体８による患部４１の
加温を行うというプロトコル、またはハイパーサーミア
装置本体８により加温した後の患部４１の部位に小線源
治療器本体９による放射線の照射というプロトコルも、
この腔内アプリケータ１を用いて行うことができる。

【００３８】図４は温熱治療と放射線治療を行う場合の
加温領域の分布と放射線照射の領域分布を示す。電極体
２５は第１電極部２５ａと第２電極部２５ｂとからな
り、全体としてキャップ状の電極体を構成しているた
め、電極体２５の前方からその側方周辺にわたり加温領
域ａが分布する。小線源の少なくとも一部は第１電極部
２５ａよりも前方に配置されるので、その放射線の照射
領域ｂは電極体２５の前方の加温領域ａに入り込んで分
布する。加温領域ａと放射線の照射領域ｂが重なり、そ
れぞれが同じ患部４１に作用し、特に加温部前方の治療
効果を高める。

【００３９】＜効果＞この実施形態のものによれば、ハ
イパーサーミア装置本体８による患部４１への温熱治療
と小線源治療器本体９による放射線治療との同時併用が
可能となるので、患者５の体腔内の患部４１の治療効果
を増大させることができる。また、腔内アプリケータ１
に、温熱治療用の電極体２５の電極部２５ａ，２５ｂ
と、放射線治療用小線源を送るための線源移送チューブ
１１の挿通管路２２を設けたので、患者５の体腔内の癌
治療で全身的な副作用の少ない放射線治療の小線源治療
と体腔内温熱治療との両方を行う際、患者５に腔内アプ
リケータ１を挿入する作業の回数が１回で済み、簡便に
治療が行えると同時に患者５の負担が大幅に軽減する。
また、加温部前方の加温領域ａに放射線の照射領域ｂが
重なり、それぞれが加温部前方の患部４１の部位に作用
し、その治療効果を高める。

【００４０】（第２実施形態）図５を参照して、本発明
の第２実施形態を説明する。 ＜構成＞この第２実施形態での構成は第１実施形態と基
本的な構成を同じくするが、第１実施形態と異なるとこ
ろは腔内アプリケータ１に形成する小線源移送チューブ
用挿通管路２２の構成である。本実施形態の場合におい
て、小線源移送チューブ用挿通管路２２は支持シャフト
体２０に形成された中央のルーメンによって直接に形成
され、その遠位端がチューブとして突き出さない構成と
したものである。第１電極部体２５ａには挿通管路２２
の軸心延長上に一致する挿通孔４５が形成されている。

【００４１】また、支持シャフト体２０の後端からは前
記挿通管路２２に連通する挿通管路用チューブ２１が導
出している。支持シャフト体２０と可撓性高分子膜３１
との間の気密な空間３２は前記挿通管路２２に直接に連
通する状態にある。このため、その空間３２に循環する
冷却水は挿通管路２２の内部まで入ってくるが、前述し
たように挿通管路用チューブ２１の近位端側に設けられ
た口金３６のゴム栓３７が締付けねじ３８を捩じ込むこ
とによって水密な状態となり、冷却水は外へ出ない構造
となっている。

【００４２】＜作用＞第１実施形態の作用とほぼ同じで
あるが、この第２実施形態では、冷却水を循環する前
に、小線源移送チューブ１１を挿通管路２２に挿入し、
予め口金３６を締めておかなければならない。

【００４３】＜効果＞第１実施形態の効果とほぼ同じで
ある。異なる点は小線源移送チューブ用挿通管路２２の
遠位端がチューブ状に突き出してはおらず、その代わり
に第１電極部２５ａには挿通管路２２の軸心延長上に一
致する挿通孔５２が形成されていることである。従っ
て、小線源移送チューブ１１を挿入案内する通路が形成
し易く、腔内アプリケータ１の製作が容易となる。

【００４４】（第３実施形態）図６から図９を参照し
て、本発明の第３実施形態を説明する。 ＜構成＞第３実施形態の構成は基本的に第１実施形態の
構成と同じである。異なる点は小線源移送チューブ用挿
通管路２２を形成する挿通管路用チューブ２１の遠位端
が、可撓性高分子膜３１の前面壁を越え、さらに前方へ
伸びているということである。可撓性高分子膜３１より
もさらに先端側に伸びた挿通管路用チューブ２１の先端
部は図６で示すように真っ直ぐに伸びていても、図７
（ａ）で示すように角度がついて斜めに突き出してもよ
い。

【００４５】また、挿通管路用チューブ２１の遠位端は
閉じているが、図７（ｂ）のように開口させてもよい。
なお、挿通管路用チューブ２１の遠位端が閉じている場
合には図９で示すようにその挿通管路用チューブ２１の
近位端部分が途中で寸断されていて可撓性高分子膜３１
内の空間３２に開放されたものでもよい。これは冷却媒
体収容部材としての可撓性高分子膜３１が線源案内管部
の先端側の一部を構成することになる。要は小線源移送
チューブ１１が挿通管路２２の先端まで挿入できるよう
になっている構成であればよいものである。

【００４６】＜作用＞挿通管路用チューブ２１が可撓性
高分子膜３１の前面壁よりさらに先方へ伸びているの
で、小線源移送チューブ１１を電極体２５の第１電極部
２５ａよりもかなり先方の領域に配置させることができ
る。それにより小線源を電極体２５の先端よりもかなり
先方に送ることができる。

【００４７】ここで、小線源は小線源移送チューブ１１
内を通じて、小線源治療器本体９で予めプログラムされ
た範囲を設定された放射線量が照射されるまでの時間を
かけて移動する。本実施形態では図８（ｂ）で示す照射
領域ｂになるように小線源移送チューブ１１の先端側を
小線源がゆっくり移動する例を示す。この場合、小線源
移送チューブ１１の先端側に小線源が停滞するので小線
源移送チューブ１１の先端側の放射線量が多くなってい
る。

【００４８】従って、前方の加温領域に放射線の照射領
域を一致させ、より多く重なり合うようにすることがで
きる。図８（ａ）は腔内アプリケータ１の電極体２５に
よる加温領域ａの分布であり、図８（ｂ）は小線源の照
射領域ｂの分布であるが、実際の治療時において、その
加温領域ａと小線源の照射領域ｂが図８（ｃ）で示すよ
うに多く重なり、このため、特に前方の患部４１に効果
的に作用する。

【００４９】＜効果＞第１実施形態の効果とほぼ同じで
あるが、それに加えて腔内アプリケータ１の前方の加温
領域ａの分布と小線源の照射領域ｂの分布がより一致す
るので、治療効果がさらに高まる。また、図７（ａ）で
示すように挿通管路用チューブ２１の先端部分に角度を
つけた場合、その挿通管路用チューブ２１の子宮などへ
の挿入性がよくなる。さらに図７（ｂ）で示すように挿
通管路用チューブ２１の遠位端が開口している場合、小
線源移送チューブ１１をいわば無限に挿入することがで
きる。また図９で示すように挿通管路２２を途中で寸断
した場合には第２実施形態と同じような理由で腔内アプ
リケータ１の製作が容易になる。

【００５０】（第４実施形態）図１０を参照して、本発
明の第４実施形態を説明する。 ＜構成＞第４実施形態は前述した第１実施形態の構成と
基本的な構成を同じくするが、異なる点は小線源移送チ
ューブ用挿通管路２２を複数本備わっているところであ
る。各挿通管路２２に対応した挿通管路用チューブ２１
は支持シャフト体２０の中心軸を中心として点対称的に
配設されている。挿通管路２２の本数は限定されない
が、図１０で示すものは上下左右の４本のものを設けて
ある。

【００５１】＜作用＞第１実施形態の作用とほぼ同じで
あるが、複数の小線源移送チューブ１１から選択した１
本または複数の挿通管路２２に挿入し、あるいは全ての
挿通管路２２に小線源移送チューブ１１を挿入させるこ
とができる。

【００５２】＜効果＞複数の挿通管路２２を設け、その
挿通管路２２に小線源移送チューブ１１を選択的に挿入
することにより、患部４１の形態に合わせ小線源を配置
することができ、特に周方向に指向性の強い照射分布が
得られる。その結果、偏りのある患部４１に対してもそ
の特定の患部４１のみへ集中的な照射を行うことができ
る。

【００５３】（第５実施形態）図１１から図１５を参照
して、本発明の第５実施形態を説明する。 ＜構成＞第５実施形態の構成は前述した第１実施形態と
ほぼ同じである。異なる点は小線源移送チューブ用挿通
管路２２を形成する挿通管路用チューブ２１が、支持シ
ャフト体２０と可撓性高分子膜３１の間の気密な空間３
２内で、支持シャフト体２０の側方から飛び出して電極
体２５の第２電極部２５ｂの外周に伸びていることであ
る。また、排出通路２４が支持シャフト体２０の中心を
貫通して設けられ、これに排出チューブ４０が接続され
ている。

【００５４】図１１および図１２で示すものでは挿通管
路用チューブ２１の先端部が円筒形状の第２電極部２５
ｂの外周の回りを一周して巻き付いた状態に取り付けら
れてて、前方加温型加温部の外周に位置して設けられる
線源保持管を構成している。

【００５５】また、図１４で示すものでは挿通管路用チ
ューブ２１の先端部が円筒形状の第２電極部２５ｂの外
周の、第１電極部２５ａに接する面に一周、巻き付いた
状態に取り付けられている。

【００５６】また、図１５（ａ）で示すものは複数の挿
通管路用チューブ２１を設け、これらの挿通管路用チュ
ーブ２１の先端部が電極体２５の円筒形状の第２電極部
２５ｂの外側に支持シャフト体２０の軸心に平行に並ん
で設置されている例を示す。この場合、挿通管路用チュ
ーブ２１は支持シャフト体２０内に入り込まず、支持シ
ャフト体２０の上に沿って配置されている。

【００５７】＜作用＞第１実施形態の作用とほぼ同じで
あるが、図１１および図１２で示すものではその加温領
域ａの分布と照射領域ｂの分布が図１３で示すように組
み合わさって配置される。また、図１５（ａ）で示すも
のではその加温領域ａと照射領域ｂが図１５（ｂ）で示
すように組み合わさり重なって一致する。

【００５８】＜効果＞第１実施形態とほぼ同じである
が、挿通管路用チューブ２１が電極体２５の外側に設置
するため、色々な形態で小線源移送チューブ用挿通管路
を形成することができる。よって、色々な患部に適応で
きる複雑な放射線の照射分布を得ることができる。

【００５９】（第６実施形態）図１６から図１９を参照
して、本発明の第６実施形態を説明する。 ＜構成＞第６実施形態の構成は前述した第１実施形態と
基本的に同じくするが、異なるところは挿通管路用チュ
ーブ２１の遠位端部分が支持シャフト体２０および可撓
性高分子膜３１の外側へ出ているところである。図１６
で示すものでは支持シャフト体２０の先端部付近で支持
シャフト体２０内から挿通管路用チューブ２１の遠位端
部分が外に突出し、可撓性高分子膜３１の外周に巻き付
いて取り付けられている。

【００６０】図１７で示すものでは各挿通管路用チュー
ブ２１の全長が腔内アプリケータ１の外表面に出ている
例である。ここでは挿通管路用チューブ２１の数が４本
となっているが、何本でも構わない。

【００６１】図１８および図１９で示すものでは１本の
挿通管路用チューブ２１のものが第３実施形態での図７
で示すものと同じく先端部が角度がついて斜めに突き出
している。残りの複数の挿通管路用チューブ２１はすべ
て支持シャフト体２０の外側に設置され、かつ各先端部
分が電極体２５の第１電極部２５ａの先端面に張り付い
て設けられている。

【００６２】＜作用＞第３実施形態および第４実施形態
と基本的な作用を同じくするが、先端部が斜めに突き出
した挿通管路用チューブ２１を設けてあり、また、他の
挿通管路用チューブ２１が支持シャフト体２０の外側に
設置したので、図１９で示すように腔内アプリケータ１
による加温分布ａと小線源移送チューブ１１内へ送り込
まれる小線源による照射分布ｂを一致させることがより
容易となる。

【００６３】＜効果＞第５実施形態の効果とほぼ同じで
あるが、それに加えて挿通管路用チューブ２１が第５実
施形態のものに加え、さらに自由度をもって変形させら
れることができるので、腔内アプリケータ１による加温
分布ａと小線源による照射分布ｂを一致させることがよ
り容易となる。また、可撓性高分子膜３１で覆われた液
密な空間３２内に設ける必要がなくなるため、その製作
が容易である。

【００６４】（第７実施形態）図２０を参照して、本発
明の第７実施形態を説明する。 ＜構成＞この第７実施形態の構成は前述した第１実施形
態および第３実施形態の構成とほぼ同じであるが、本実
施形態には前記挿通管路用チューブ２１がなく、その代
わりに小線源移送チューブ１１が支持シャフト体２０、
電極体２５および可撓性高分子膜３１にわたりそのまま
通っている。このため、支持シャフト体２０には中央の
ルーメンを利用して小線源移送チューブ用挿通管路２２
を形成し、電極体２５の第１電極部２５ａには貫通孔６
１、可撓性高分子膜３１には貫通孔６２を形成してあ
る。

【００６５】＜作用＞第１実施形態の作用とほぼ同じで
あるが、本実施形態の場合、小線源移送チューブ１１を
挿入する動作はしないでよい。小線源移送チューブ１１
はそのまま小線源治療器本体９に接続され、小線源が腔
内アプリケータ１に組み込まれている小線源移送チュー
ブ１１に直接入ってくる。

【００６６】＜効果＞小線源移送チューブ１１がもとも
と腔内アプリケータ１に組み込まれているので、小線源
移送チューブ１１をわざわざ腔内アプリケータ１に挿入
しないでもよいので治療の簡便化が図れる。また小線源
移送チューブ１１を挿入するための挿通管路を作るチュ
ーブを設ける必要がないので、そのチューブの厚さ分だ
け支持シャフト体２０の外径を細くすることができる。

【００６７】＜付記＞ １．体腔内に挿入可能な挿入部を有する支持体と、少な
くとも前記挿入部の先端部より前方の治療対象部位を加
温すべく加温領域を形成するように、前記挿入部の先端
部に設けられた前方加温型加温部と、少なくとも一部が
前記前方加温型加温部より前方に突出して設けられ、前
記加温領域と少なくとも一部が重なり合う領域に放射線
を照射するように放射線源を保持可能な線源保持部と、
前記支持体の外部から、該支持体を介して前記線源保持
部に対して前記放射線源を出し入れ可能にする線源挿脱
部とを備えたことを特徴とするハイパーサーミア用アプ
リケータ。

【００６８】２．体腔内に挿入可能な挿入部を有する支
持体と、少なくとも前記挿入部の先端部の側周外方向の
領域を含み、該先端部より前方の領域の治療対象部位を
加温すべく加温領域を形成するように、前記先端部に設
けられた前方加温型加温部と、少なくとも一部が前記前
方加温型加温部の外周に位置して設けられ、放射線源を
保持可能な線源保持部と、前記支持体の外部から、該支
持体を介して前記線源保持部に対して前記放射線源を出
し入れ可能にする線源挿脱部とを備えたことを特徴とす
るハイパーサーミア用アプリケータ。

【００６９】（付記１の下位クレーム） -1) 体腔内に挿入可能な挿入部を有する支持体と、少な
くとも前記挿入部の先端部に形成された先端面より前方
の領域を加温すべく加温領域を形成するように、前記先
端面を覆うように前記先端部に設けられた前方加温型加
温部と、前記前方加温型加温部に設けられた開口部と、
前記支持体に設けられ、前記開口部と連通し、放射線源
を出し入れする案内路となる線源案内管部と、を備えた
ことを特徴とするハイパーサーミア用アプリケータ。

【００７０】-2) -1)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記前方加温型加温部は、電磁波を用いて
治療対象部位を加温する高周波加温手段（電極体）を有
することを特徴とする。

【００７１】-3) -2)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記前方加温型加温部は、前記高周波加温
手段を覆い、冷却媒体を収容する膨縮自在な冷却媒体収
容部材を有することを特徴とする。

【００７２】-4) -1)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記線源案内管部は、前記放射線源を直接
に案内することを特徴とする。 -5) -1)のハイパーサーミア用アプリケータであって、
前記線源案内管部は、前記放射線源を案内する専用の線
源挿脱管を案内することを特徴とする。

【００７３】-6) -1)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記線源案内管部は、前記開口部よりさら
に先端側に突出して形成されることを特徴とする。

【００７４】-7) -3)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記線源案内管部は、前記冷却媒体収容部
材を介してさらに先端側に突出して形成されることを特
徴とする。

【００７５】-8) -3)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記冷却媒体収容部材は、前記線源案内管
部の先端側の一部を構成することを特徴とする。

【００７６】-9) -6)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記線源案内管部の先端部は、前記支持体
の軸心に対して傾斜して突出形成されていることを特徴
とする。

【００７７】（付記２の下位クレーム） -1) 体腔内に挿入可能な挿入部を有する支持体と、少な
くとも前記挿入部の先端部の側周外方向の領域を含み、
先端部より前方の領域の生体部位を加温すべく加温領域
を形成するように、前記先端部を覆うように設けられた
前方加温型加温部と、前記支持体に設けられ、放射線源
を出し入れする案内路となる線源案内管部と、前記線源
案内管部と連通し、少なくとも一部が前記前方加温型加
温部の外周に位置して設けられた線源保持管と、を備え
たことを特徴とするハイパーサーミア用アプリケータ。

【００７８】-2) -1)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記前方加温型加温部は、電磁波を用いて
治療対象部位を加温する高周波加温手段（電極体）を有
することを特徴とする。

【００７９】-3) -2)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記前方加温型加温部は、前記高周波加温
手段を覆い、冷却媒体を収容する膨縮自在な冷却媒体収
容部材を有することを特徴とする。

【００８０】-4) -1)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記線源案内管部は、前記放射線源を直接
に案内することを特徴とする。 -5) -1)のハイパーサーミア用アプリケータであって、
前記線源案内管部は、前記放射線源を案内する専用の線
源挿脱管を案内することを特徴とする。

【００８１】-6) -1)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記線源案内管部は、前記開口部よりさら
に先端側に突出して形成されることを特徴とする。

【００８２】-7) -3)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記線源案内管部は、前記冷却媒体収容部
材を介してさらに先端側に突出して形成されることを特
徴とする。

【００８３】-8) -3)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記冷却媒体収容部材は、前記線源案内管
部の先端側の一部を構成することを特徴とする。

【００８４】-9) -6)のハイパーサーミア用アプリケー
タであって、前記線源案内管部の先端部は、前記支持体
の軸心に対して傾斜して突出形成されていることを特徴
とする。

【００８５】３．電極体を先端に支持する支持体と、前
記支持体との間に前記電極体を包含するように液密な空
間を形成する可撓性高分子膜と、前記液密な空間内に配
置されるとともに円筒形のキャップ状電極体と、前記キ
ャップ状電極体を支持する支持体に設けられ前記空間内
に冷却媒体の導入と排出を行う冷却媒体導入排出路とを
有し、目標加温部の近傍に配置されるべく構成されたハ
イパーサーミア用アプリケータにおいて、前記支持体の
近位端から前記電極体近傍に小線源を配置させる通路を
有することを特徴とするハイパーサーミア用アプリケー
タ。

【００８６】４．電極体を先端に支持する支持体と、前
記支持体との間に前記電極体を包含するように液密な空
間を形成する可撓性高分子膜と、前記液密な空間内に配
置されるとともに円筒形のキャップ状電極体と、前記キ
ャップ状電極体を支持する支持体に設けられ前記空間内
に冷却媒体の導入と排出を行う冷却媒体導入排出路とを
有し、目標加温部の近傍に配置されるべく構成されたハ
イパーサーミア用アプリケータにおいて、前記支持体の
近位端から放射線源を移送する線源移送チューブを挿入
する管路を有することを特徴とし、小線源治療用の線源
移送チューブを管路に挿入することができ、電極体によ
る患部への加温と管路に挿入された線源移送チューブに
小線源を送ることにより患部への放射線照射を同時に行
うという作用を持つハイパーサーミア用アプリケータ。

【００８７】５．電極体を先端に支持する支持体と、前
記支持体との間に前記電極体を包含するように液密な空
間を形成する可撓性高分子膜と、前記液密な空間内に配
置されるとともに円筒形のキャップ状電極体と、前記キ
ャップ状電極体を支持する支持体に設けられ前記空間内
に冷却媒体の導入と排出を行う冷却媒体導入排出路とを
有し、目標加温部の近傍に配置されるべく構成されたハ
イパーサーミア用アプリケータにおいて、放射線源を移
送する線源移送チューブがアプリケータ内に組み込まれ
ていることを特徴とし、前記線源移送チューブを管路に
挿入することを省くという作用を持つハイパーサーミア
用アプリケータ。

【００８８】６．付記第３項のハイパーサーミア用アプ
リケータにおいて、前記支持体および前記電極体の内部
を通り、前記支持体との間に前記電極体を包含するよう
に気密な空間を形成する可撓性高分子膜の遠位端側に突
出するように前記支持体の近位端から前記電極体近傍に
小線源を配置させる通路が伸びていることを特徴とし、
線源移送チューブに送られる小線源が電極体よりさらに
前方へ移動できるという作用を持ち、加温分布に一致さ
せるように放射線を照射することができるハイパーサー
ミア用アプリケータ。

【００８９】７．付記第３項のハイパーサーミア用アプ
リケータにおいて、前記支持体の近位端から前記電極体
近傍に小線源を配置させる通路が前記電極体の外側に配
設されていることを特徴とし、多種多様な放射線の照射
分布を作るという作用を持つハイパーサーミア用アプリ
ケータ。

【００９０】８．付記第３項のハイパーサーミア用アプ
リケータにおいて、前記支持体の近位端から前記電極体
近傍に小線源を配置させる複数の通路を有することを特
徴とし、多種多様な放射線の照射分布を作るという作用
を持つハイパーサーミア用アプリケータ。

【００９１】９．付記第４項のハイパーサーミア用アプ
リケータにおいて、前記支持体の近位端から放射線源を
移送する線源移送チューブを挿入する管路の遠位端が開
口していることを特徴とし、線源移送チューブのアプリ
ケータ軸方向の動きの制限を無くす作用を持つハイパー
サーミア用アプリケータ。

【００９２】１０．付記第４項のハイパーサーミア用ア
プリケータにおいて、前記支持体の近位端から放射線源
を移送する線源移送チューブを挿入する管路が冷却媒体
の循環する気密な空間に開口していることを特徴とし、
前記管路を可撓性高分子膜で覆われる気密な空間に設け
る必要が無くなるハイパーサーミア用アプリケータ。

【００９３】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、放
射線治療と温熱治療を同時に行うことによって、これま
で各治療を別々に行ってきた手間を省き、治療の簡便化
と患者の負担の軽減を図ることができる。しかも、挿入
部の先端部より前方の治療対象部位を加温することがで
きるとともに、その加温領域と少なくとも一部が重なり
合う領域に放射線を照射するようにしたので、例えば子
宮頸部や子宮等の体腔内部位の患部でも温熱治療と放射
線治療の同時治療を有効に行うことができ、その治療効
果を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は第１実施形態に係る腔内アプリケータ
の斜視図、（ｂ）はその挿通管路用チューブの口金部分
の側面図、（ｃ）は前記腔内アプリケータの縦断面図。

【図２】第１実施形態に係る腔内アプリケータの電極体
の具体的な各種の例を示す説明図。

【図３】前記腔内アプリケータを用いて治療を行う治療
装置の概略的な説明図。

【図４】前記腔内アプリケータによる加温領域と放射線
の照射領域の組み合わせ状態の説明図。

【図５】（ａ）は第２実施形態に係る腔内アプリケータ
の斜視図、（ｂ）は同じくその腔内アプリケータの縦断
面図。

【図６】（ａ）は第３実施形態に係る腔内アプリケータ
の斜視図、（ｂ）は同じくその腔内アプリケータの縦断
面図。

【図７】（ａ）は前記第３実施形態の他の腔内アプリケ
ータの挿入部の先端部の斜視図、（ｂ）は前記腔内アプ
リケータの斜視図。

【図８】前記第３実施形態の腔内アプリケータにおける
加温領域と放射線の照射領域の組み合わせ状態の説明
図。

【図９】（ａ）は第３実施形態に係る他の腔内アプリケ
ータの斜視図、（ｂ）は同じくその腔内アプリケータの
縦断面図。

【図１０】第４実施形態に係る腔内アプリケータの先端
側付近の斜視図。

【図１１】第５実施形態に係る腔内アプリケータの斜視
図。

【図１２】第５実施形態に係る腔内アプリケータの縦断
面図。

【図１３】第５実施形態に係る腔内アプリケータにおけ
る加温領域と放射線の照射領域の組み合わせ状態の説明
図。

【図１４】（ａ）は第５実施形態に係るさらに他の腔内
アプリケータの斜視図、（ｂ）はその腔内アプリケータ
の縦断面図。

【図１５】（ａ）は第５実施形態に係るさらに他の腔内
アプリケータの斜視図、（ｂ）はその腔内アプリケータ
における加温領域と放射線の照射領域の組み合わせ状態
の説明図。

【図１６】（ａ）は第６実施形態に係る他の腔内アプリ
ケータの斜視図、（ｂ）はその腔内アプリケータの縦断
面図。

【図１７】第６実施形態に係るさらに他の腔内アプリケ
ータの斜視図。

【図１８】第６実施形態に係るさらに他の腔内アプリケ
ータの斜視図。

【図１９】図１８の腔内アプリケータにおける加温領域
と放射線の照射領域の組み合わせ状態の説明図。

【図２０】（ａ）は第７実施形態に係る他の腔内アプリ
ケータの斜視図、（ｂ）はその腔内アプリケータの縦断
面図。

【符号の説明】

１…腔内アプリケータ、１１…小線源移送チューブ、２
０…支持シャフト体、２１…挿通管路用チューブ、２２
…挿通管路、２５…加温用電極体、３１…可撓性高分子
膜、３２…空間。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】体腔内に挿入可能な挿入部を有する支持体
   と、 前記挿入部の先端部より前方の治療対象部位を加温すべ
   く加温領域を形成するように、前記挿入部の先端部に設
   けられた前方加温型加温部と、 前記加温領域と少なくとも一部が重なり合う領域に放射
   線を照射するように放射線源を保持可能であり、その放
   射線源の少なくとも一部を前記前方加温型加温部より外
   側に位置させて保持するように設けた線源保持部と、 前記支持体の外部から、該支持体に沿って前記線源保持
   部に対して前記放射線源を出し入れ可能にする放射線源
   挿脱部とを備えたことを特徴とするハイパーサーミア用
   アプリケータ。