JPH10149589A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

光磁気記録媒体

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JPH10149589A
JPH10149589A JP8308067A JP30806796A JPH10149589A JP H10149589 A JPH10149589 A JP H10149589A JP 8308067 A JP8308067 A JP 8308067A JP 30806796 A JP30806796 A JP 30806796A JP H10149589 A JPH10149589 A JP H10149589A
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JP
Japan
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layer
magneto
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recording
recording medium
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Application number
JP8308067A
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English (en)
Inventor
Haruhisa Iida
晴久 飯田
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高いCN比が得られ、高密度化を実現する。 【解決手段】 基板5に誘電体層11、再生層1、金属
反射層12、記録層2および誘電体層13を個の順序で
順次積層形成する。再生時において、光は再生層1の両
面で多重反射するので、記録層2の情報をノイズとして
拾わず、CN比を向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、記録、再生、消去
が可能な光磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】高密度データが蓄積でき高速に情報処理
可能な光ディスクは、オーディオや画像用途、さらには
コンピュータメモリーとして注目されている。読み出し
専用のCD(コンパクトディスク)は、オーディオ用や
コンピュータ用として急速に普及している。また、1回
のみ情報の書き込みが可能であるライトワンスタイプお
よび繰り返し情報の書き換えが可能であるリライタブル
タイプも徐々に市場に普及しつつある。特に、リライタ
ブルタイプの1つである光磁気ディスクは情報の書き換
えの多数回の繰り返しが可能であり、主としてコンピュ
ータの外部メモリーとして普及が進んでいる。
【0003】最近、一つの記録媒体にさらに多くの情報
を記録したい、そして、そのためにさらに情報を高密度
に記録、再生したいという要求が高まっており、その実
現方法について様々な検討がなされている。これには先
ず再生ヘッドの光源波長を短くすることによって再生用
光スポットをより小さくし、高密度に記録した情報の再
生を可能にするという方法が考えられる。しかし、光ヘ
ッドの光源に通常用いられる半導体レーザーの波長は限
られており、また短波長のレーザーではレーザー光の形
状や出力等が不十分な状態にあるといった問題がある。
【0004】そこで、光源の波長と再生用光スポットの
大きさは変えずより高密度に記録された情報を読み出
し、見掛け上の分解能を向上させるようにした磁気超解
像(Magnetically Induced Super Resolution 以下、M
SRという)と呼ばれる技術が提案され、注目を浴びて
いる。これは、再生光による温度上昇とディスク媒体の
回転移動との組み合わせにより生じる光スポット内の温
度分布に磁気多層膜の磁気的結合力、保持力および磁化
の大きさが温度により変化することを組合わせて光スポ
ットの一部の信号がマスクされるようにしたものであ
る。その結果、再生の有効な開口の領域はスポット径以
下となり、より高密度な情報の再生が可能となる。この
MSR法には、光スポット内の高温部分をマスクするF
AD方式(Front Aperture Detection)と、低温部をマ
スクするRAD方式(Rear ApertureDetection )があ
り、さらには高温部が有効な開口になりかつその中のよ
り高温の部は再びマスクされ非常に小さな開口を実現す
る方式等種々の方式がある。このようなMSR法によれ
ば、光学系の限界を越えて再生分解能を向上させ、線密
度方向の記録密度の向上が可能である。
【0005】このような磁気超解像読み出し可能な光磁
気ディスクとして、図4および図5に示すように再生層
1と記録層2との間に非磁性層からなる誘電体層3を形
成した静磁結合型の光磁気ディスク4が知られている。
5は基板、6は光ビームスポット、7は光ビームスポッ
ト6を記録情報8に沿って導くための、言い換えればト
ラッキングのためのガイドを形成するランドまたはグル
ーブである。この光磁気ディスク4は、再生層1として
室温で面内磁化膜で、温度上昇とともに垂直磁化に移行
する磁性膜を用いている。このような光磁気ディスク4
において、再生層1の磁化は、所定の温度以下の領域
(低温領域)では面内磁化であるが、所定の温度以上の
領域(高温領域)では記録層2の磁化との交換結合力に
より記録層2の磁化と同じ垂直磁化となる。所定の温度
は、光ビームスポット6の照射により垂直磁化する領域
が、温度の分布の中心付近の小さな領域になるように設
定される。その結果、光ビームスポット6の一部分の高
温領域のみ再生層1に情報8が転写され、その情報のみ
が読み出される。そして、光ビームスポット6内の情報
であっても、高温領域から外れた情報は読み出されるこ
とがなく、これによって超解像を実現することができ
る。この光ビームスポット6による温度上昇により再生
層1の垂直磁化膜となった部分に記録層2から生じる磁
界により情報が転写され、スポット内の高温部のみが開
口となることにより超解像を実現することができる。
【0006】また、静磁結合型の別のタイプとしては、
再生層に室温で補償組成近傍のフェリ磁性膜を用い、温
度上昇とともに再生層の磁化の大きさが大きくなり、保
磁力が小さくなるため記録層から生じる磁界により情報
が転写され、やはりスポット内の高温部のみが開口とな
る超解像を実現する方法がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】光磁気記録媒体の高密
度化のためには再生信号により高いCN比(キャリア−
ノイズ比)が求められる。しかしながら、図4に示した
従来の光磁気ディスク4においては、誘電体層3と記録
層2との境界面で実線で示す単反射した光のカー効果を
利用しているため、再生光のカー回転角が小さく、CN
比が悪いという問題があった。この場合、再生層1の膜
厚を薄くすると、破線で示すように誘電体層3の両面で
多重反射するため、再生光のカー回転角を大きくするこ
とはできるが、誘電体層3を透過した光が記録層2の信
号をノイズとして拾うため、CN比の向上は期待できな
い。
【0008】この他、記録層の再生光入射側とは反射側
に金属反射層を設け、記録層で反射された光のカー効果
だけでなく、記録層を透過した光のファラデー効果も併
せて利用し、再生光のカー回転角を大きくし高いCN比
を得るようにしたものも知られている。しかし、通常の
磁気超解像再生を行なう媒体では記録層の後に金属反射
層を設けて透過光を反射させたのでは、透過光は情報が
マスクされていない記録層も透過することになり、超解
像の効果が不十分となってCN比の向上につながらない
という問題があった。
【0009】本発明は上記した従来の問題点を解決する
ためになされたもので、その目的とするところは、高い
CN比が得られ、高密度化を可能にした光磁気記録媒体
を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、再生時には前記記録層から生じる磁界と光
スポット内の温度分布を利用して記録層に記録されてい
る情報を前記再生層に転写し磁気超解像読み出しを行な
う光磁気記録媒体において、前記再生層と前記記録層と
の間に金属反射層を形成したことを特徴とする。また、
本発明は、再生層と金属反射層の間、および金属反射層
と記録層の間のうちの少なくともいずれか一方に透明な
誘電体層を形成したことを特徴とする。また、本発明
は、再生層として室温で面内磁化膜で、温度上昇ととも
に垂直磁化に移行する磁性膜を用いることを特徴とす
る。さらに、本発明は、再生層として補償温度が室温近
傍であるフェリ磁性膜であることを特徴とする。
【0011】静磁結合型の磁気超解像に対しては再生層
と記録層とが連続して積層されている必要がないので、
非磁性の金属反射層を再生層と記録層の間に形成するこ
とが可能である。この金属反射層は記録層より基板側で
あることになるが、記録時には金属反射層側で発生した
熱が記録層にまで伝わるので記録層に情報を記録するこ
とが可能である。一方、再生時には記録層の情報は記録
層が発生する浮遊磁界により再生層に転写されるので、
金属反射層の存在は磁気超解像再生の妨げとならない。
また再生時においては、金属反射層があると、再生層の
両面で光が多重反射して光が反射層を透過せず、記録層
の信号をノイズとして拾わないため、高いCN比が実現
できる。
【0012】この構成を実現するためには、再生層とし
てGdFeやGdFeCoを主成分とする希土類遷移金
属アモルファス合金膜が適しており、記録層としてはT
bFeCoやDyFeCoを主成分とする希土類遷移金
属アモルファス合金膜が適している。金属反射層として
は、Al,Ti,Ta,Ptやこれらの金属の合金を用
いることができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示す実施の
形態に基づいて詳細に説明する。図1は本発明にかかる
光磁気記録媒体の一部分を示す平面図、図2は断面図で
ある。なお、従来技術の欄で示した構成部材等と同一の
ものについては同一符号をもって示し、その説明を適宜
省略する。これらの図において、円板状に形成された基
板5の光源側とは反対側の面には、誘電体層11、再生
層1、金属反射層12、記録層2および誘電体層13が
この順序で順次積層形成されており、これらによって光
磁気ディスク(光磁気記録媒体)14を構成している。
【0014】基板5としては、例えば厚さ1.2mm、
直径130mmのトラッキング用溝(トラッキングピッ
チ1.2μm)付きガラス基板が用いられる。誘電体層
11,13としてはSi34 によって形成され、70
nmの膜厚を有している。再生層1としてはGdFeC
oからなり、30nmの膜厚を有している。金属反射層
12としてはAlTiが用いられ、20nmの膜厚を有
している。記録層2としてはTbFeCoが用いられ、
40nmの膜厚を有している。
【0015】このような光磁気ディスク14は、基板5
をスパッタリング装置内にセットし、装置内部を1×1
ー4Pa以下に排気した後、スパッタリングによりSi
34 (誘電体層11)、GdFeCo(再生層1)、
AlTi(金属反射層12)、TbFeCo(記録層
2)を、それぞれ所要の膜厚で順次積層形成し、最後に
保護膜としてのSi34 (誘電体層13)を成膜する
ことにより製作することができる。Si34 膜の成膜
には、Siターゲットを用い、Ar+N2 雰囲気中で反
応性スパッタリングにより成膜する。その他の層は、合
金ターゲットを用い、Ar雰囲気中で成膜を行なう。各
層のキュリー温度は、再生層1の場合350°C、記録
層2の場合260°Cとする。記録層2は室温で遷移金
属リッチであり、再生層1は室温で希土類リッチで室温
単層では面内磁化膜となり、100°C以上で垂直磁化
膜となる組成であった。
【0016】このような光磁気ディスク14において、
記録時には金属反射層12側で発生した熱が記録層2に
まで伝わるので記録層2に情報を記録することが可能で
ある。一方、再生時には記録層2の情報は記録層2が発
生する浮遊磁界により再生層1に転写されるので、金属
反射層12の存在は磁気超解像再生の妨げとならない。
また、再生時においては、金属反射層12があると、再
生層1の両面で光ビームスポット6が多重反射してカー
回転角を増大させる。また、金属反射層12を透過しな
いので記録層2の信号をノイズとして拾うことがなく、
その結果としてCN比を向上させることができる。
【0017】
【実施例1】上記した光磁気ディスク14を記録再生装
置にセットして線速度9m/sで記録再生を行なった。
装置の光源波長は780nm、対物レンズの開口数(N
A)は0.55であった。記録パワーの高レベル(P
w)=8.0mW、記録パワーの低レベル(Pb)=
1.5mW、記録磁界300Oeで周波数11.3MH
zの信号を記録した。再生磁界−50Oe(記録磁界と
は反対方向)、再生パワー1.0mWで再生したとこ
ろ、CN比=20dBであった。次に、再生パワーを
2.8mWに上げて再生したところ、CN比=46dB
が得られた。マーク長が約0.4μmで45dBを越え
るCN比が得られており、磁気超解像による再生が起こ
っていると考えられる。
【0018】比較のため上記の金属反射層12をSi3
4 に変えた通常の静磁結合型光磁気ディスクも作製し
た。上記したと同じ条件で評価したところ、CN比は4
2dBしか得られなかった。AlTiとSi34 の熱
伝導度の違いにより記録パワーが変わった可能性が考え
られるため、記録パワーを変えてCN比を測定したが、
43dBまでしか得られなかった。このことから金属反
射層12の存在によりカー回転角が増大してCN比が向
上していることが確かめられた。
【0019】図3は本発明の他の実施の形態を示す断面
図である。この実施の形態においては、再生層1と金属
反射層12の間および金属反射層12と記録層2の間に
誘電体層20,21をそれぞれ形成している。このよう
な光磁気ディスク14の製作は、上記した実施の形態と
同様な手順で行われる。誘電体層20は厚さ40nmの
Si34 からなり、誘電体層12は同じく厚さ10n
mのSi34 からなる。このような構成においても、
光ビームスポット6が誘電体層20の両面で多重反射す
るので、大きなカー回転角が得られCN比を向上させる
ことができ、高密度化が実現できる。
【0020】
【実施例2】図3に示す光磁気ディスク14を記録再生
装置にセットし線速度9m/sで記録再生を行なった。
装置の光源波長は780nm、NAは0.55であっ
た。Pw=8.7mW、Pb=1.5m/W、記録磁界
300Oeで周波数11.3MHzの信号を記録した。
再生磁界はなし、再生パワー1.0mWで再生したとこ
ろ、CN比=10dBであった。再生パワーを3.0m
Wに上げて再生したところ、CN比=47dBが得られ
た。
【0021】なお、図3においては、再生層1と金属反
射層12の間および金属反射層12と記録層2の間に誘
電体層20,21をそれぞれ形成した例を示したが、本
発明はこれに限らずいずれか一方にのみ誘電体層を形成
したものであっても同様なCN比を得ることができる。
また、再生層1としては、室温で面内磁化膜で、温度上
昇とともに垂直磁化に移行する磁性膜を用いたものと、
補償温度が室温近傍であるフェリ磁性膜を用いたもので
いずれであってもよい。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る光磁気
記録媒体は、再生時には前記記録層から生じる磁界と光
スポット内の温度分布を利用して記録層に記録されてい
る情報を前記再生層に転写し磁気超解像読み出しを行な
う光磁気ディスク記録媒体において、再生層と記録層の
間に金属反射層を形成したので、磁気超解像再生媒体で
さらに高いCN比が得られ、光磁気記録媒体の高密度化
が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る光磁気ディスクの一部を示す平
面図である。
【図2】 同ディスクの断面図である。
【図3】 本発明の他の実施の形態を示す断面図であ
る。
【図4】 従来の光磁気記録媒体の一部を示す平面図で
ある。
【図5】 同記録媒体の断面図である。
【符号の説明】
1…再生層、2…記録層、3…誘電体層、4…光磁気デ
ィスク、5…基板、6…光ビームスポット、11…誘電
体層、12…金属反射層、13,20,21…誘電体
層。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 再生時には記録層から生じる磁界と光ス
    ポット内の温度分布を利用して記録層に記録されている
    情報を再生層に転写し磁気超解像読み出しを行なう光磁
    気ディスク記録媒体において、前記再生層と前記記録層
    との間に金属反射層を形成したことを特徴とする光磁気
    記録媒体。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の光磁気記録媒体におい
    て、再生層と金属反射層の間、および金属反射層と記録
    層の間のうちの少なくともいずれか一方に透明な誘電体
    層を形成したことを特徴とする光磁気記録媒体。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の光磁気記録媒体
    において、再生層として室温で面内磁化膜で、温度上昇
    とともに垂直磁化に移行する磁性膜を用いることを特徴
    とする光磁気記録媒体。
  4. 【請求項4】 請求項1または2記載の光磁気記録媒体
    において、再生層として補償温度が室温近傍であるフェ
    リ磁性膜であることを特徴とする光磁気記録媒体。
JP8308067A 1996-11-19 1996-11-19 光磁気記録媒体 Pending JPH10149589A (ja)

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JP8308067A JPH10149589A (ja) 1996-11-19 1996-11-19 光磁気記録媒体

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004027759A3 (en) * 2002-09-18 2004-06-03 Koninkl Philips Electronics Nv A magneto-optical storage medium

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