JPH10140394A - Aluminum foil for electrolytic capacitor - Google Patents
Aluminum foil for electrolytic capacitorInfo
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- JPH10140394A JPH10140394A JP29297796A JP29297796A JPH10140394A JP H10140394 A JPH10140394 A JP H10140394A JP 29297796 A JP29297796 A JP 29297796A JP 29297796 A JP29297796 A JP 29297796A JP H10140394 A JPH10140394 A JP H10140394A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は電解コンデンサの電
極に使用されるアルミニウム箔に関し、特に、静電容量
を高めることができる電解コンデンサ用アルミニウム箔
及びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aluminum foil used for an electrode of an electrolytic capacitor, and more particularly to an aluminum foil for an electrolytic capacitor capable of increasing the capacitance and a method of manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、電解コンデンサの小型化及び
高容量化を目的として、電解コンデンサの電極に使用さ
れるアルミニウム箔を電解エッチングすることにより、
その表面積を拡大する方法が使用されている。このと
き、エッチング層を厚く成長させることにより、単位面
積あたりの静電容量は増加する。そこで、電解エッチン
グによる表面積の拡大に耐えることができる電解コンデ
ンサ用アルミニウム箔を形成するために、種々の多数の
技術が提案されている。2. Description of the Related Art Conventionally, for the purpose of reducing the size and increasing the capacity of an electrolytic capacitor, an aluminum foil used for an electrode of the electrolytic capacitor is electrolytically etched.
Methods have been used to increase its surface area. At this time, by growing the etching layer thickly, the capacitance per unit area increases. Therefore, various techniques have been proposed to form an aluminum foil for an electrolytic capacitor that can withstand an increase in surface area due to electrolytic etching.
【０００３】例えば、アルミニウム箔の表面から０．１
μｍまでの領域、即ち、箔の表層部において、Ｐｂ含有
量を５０乃至１００重量ｐｐｍに濃縮させた電解コンデ
ンサ用アルミニウム箔が提案されている（特公昭６２−
４２３７０）。表面に濃縮されて存在するＰｂは、電解
エッチングの際にエッチングピットを形成する起点とな
るので、アルミニウム箔の表層部におけるＰｂ量を規定
すると、エッチングピットの形成によりその表面積が拡
大し、静電容量を高める効果を得ることができる。For example, 0.1 mm from the surface of an aluminum foil
An aluminum foil for electrolytic capacitors in which the Pb content is concentrated to 50 to 100 ppm by weight in the region up to μm, that is, in the surface layer portion of the foil, has been proposed (Japanese Patent Publication No. 62-1987).
42370). Since Pb concentrated and present on the surface serves as a starting point for forming an etching pit during electrolytic etching, if the amount of Pb in the surface layer portion of the aluminum foil is defined, the surface area increases due to the formation of the etching pit, and the electrostatic pits increase. The effect of increasing the capacity can be obtained.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近時、
更に一層電解コンデンサの小型化及び高容量化が要求さ
れており、前述の従来技術を使用しても、電解エッチン
グによる表面積の拡大効果は十分ではないという問題点
がある。即ち、アルミニウム箔の表層部においてＰｂを
濃縮させた場合においても、エッチング条件によっては
エッチングピットを形成するための局部的な溶解を得る
ことができず、アルミニウム箔の表面が全面溶解するこ
とがある。従って、微細なトンネル状のエッチングピッ
トを形成することが困難になり、静電容量を十分に高め
ることができない。However, recently,
Furthermore, there is a demand for further miniaturization and higher capacity of the electrolytic capacitor, and there is a problem that even if the above-mentioned conventional technology is used, the effect of increasing the surface area by electrolytic etching is not sufficient. That is, even when Pb is concentrated in the surface layer portion of the aluminum foil, local dissolution for forming etching pits cannot be obtained depending on the etching conditions, and the entire surface of the aluminum foil may be dissolved. . Therefore, it is difficult to form fine tunnel-shaped etching pits, and the capacitance cannot be sufficiently increased.
【０００５】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、微細なエッチングピットを均一に形成して
その表面積を拡大し、これにより、更に一層静電容量を
高めることができる電解コンデンサ用アルミニウム箔を
提供することを目的とする。The present invention has been made in view of such a problem, and an electrolytic capacitor capable of uniformly forming fine etching pits to increase its surface area and thereby further increasing the capacitance. It is intended to provide an aluminum foil for use.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明に係る電解コンデ
ンサ用アルミニウム箔は、Ａｌを９９．９重量％以上及
びＰｂを０．２乃至１重量ｐｐｍ含有するアルミニウム
箔において、表面からの距離をＤ、表面からの距離Ｄが
０以上０．３４μｍ未満の領域におけるＰｂ含有量をＹ
1（重量ｐｐｍ）、表面からの距離Ｄが０．３４乃至２
μｍの領域におけるＰｂ含有量をＹ2（重量ｐｐｍ）と
したとき、Ｙ1が（−１００Ｄ＋５０）乃至（−２５０
Ｄ＋１６０）であり、Ｙ2が（−１０．２４Ｄ＋２１．
４８）乃至（−３９．１６Ｄ＋８８．３１）であると共
に、Ｙ1＞Ｙ2であり、且つ表面に酸化皮膜を有し、前記
酸化皮膜の膜厚が３０乃至８０Åであることを特徴とす
る。An aluminum foil for an electrolytic capacitor according to the present invention is an aluminum foil containing not less than 99.9% by weight of Al and 0.2 to 1 ppm by weight of Pb. The Pb content in a region where the distance D from the surface is 0 or more and less than 0.34 μm is represented by Y
1 (weight ppm), distance D from surface 0.34 to 2
Assuming that the Pb content in the region of μm is Y 2 (weight ppm), Y 1 is (−100 D + 50) to (−250 D).
D + 160), and Y 2 is (−10.24D + 21.
48) to (−39.16D + 88.31), Y 1 > Y 2 , an oxide film on the surface, and a thickness of the oxide film of 30 to 80 °.
【０００７】このＹ1は（−１８０Ｄ＋８０）乃至（−
３００Ｄ＋１５０）、Ｙ2は（−１３．８６Ｄ＋２９．
７１）乃至（−２４．１０Ｄ＋５６．１９）であること
が好ましい。This Y 1 is (−180D + 80) through (−)
300D + 150), Y 2 is (-13.86D + 29.
71) to (−24.10D + 56.19).
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】本願発明者等が前記課題を解決す
るために鋭意実験研究を重ねた結果、トンネル状のエッ
チングピットを効率よく発生させるためには、アルミニ
ウム箔表面においてエッチングの起点となるピットを形
成した後、ピットを横方向に拡大させることなく、ピッ
トの進行方向を箔の深さ方向に向ける必要があることを
見い出した。このような効果を得るために、本発明にお
いては、Ｐｂ含有量の適切な範囲をアルミニウム箔の深
さ方向に応じて規定する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As a result of intensive experiments and research conducted by the present inventors to solve the above-mentioned problems, in order to efficiently generate tunnel-like etching pits, it becomes a starting point of etching on the aluminum foil surface. After forming the pits, it has been found that the pits need to be oriented in the direction of the foil depth without expanding the pits laterally. In order to obtain such an effect, in the present invention, an appropriate range of the Pb content is defined according to the depth direction of the aluminum foil.
【０００９】以下、本発明における電解コンデンサ用ア
ルミニウム箔に含有されるＰｂ及びＡｌの組成限定理由
並びに表面からの距離に応じたＰｂ含有量の数値限定理
由について説明する。The reasons for limiting the composition of Pb and Al contained in the aluminum foil for an electrolytic capacitor and the reasons for limiting the numerical value of the Pb content according to the distance from the surface will be described below.
【００１０】Ａｌ：９９．９重量％以上 Ａｌ含有量（Ａｌ純度）が９９．９重量％未満である
と、不純物の量が増加して立方体方位の成長を阻害し
て、エッチング後の表面積の拡大率が低下するので、静
電容量が減少する。また、アルミニウム箔表面に形成さ
れる陽極酸化皮膜の欠陥が増大することによって、漏洩
電流が増加してしまう。従って、電解コンデンサ用アル
ミニウム箔中のＡｌ含有量は９９．９重量％以上とす
る。なお、好ましくは、Ａｌ含有量は９９．９８重量％
である。[0010] Al: If the Al content (Al purity) is 99.9% by weight or more and less than 99.9% by weight, the amount of impurities increases, hinders the growth of the cubic orientation, and reduces the surface area after etching. Since the magnification is reduced, the capacitance is reduced. Further, leakage current increases due to an increase in defects of the anodic oxide film formed on the aluminum foil surface. Therefore, the Al content in the aluminum foil for an electrolytic capacitor is set to 99.9% by weight or more. Preferably, the Al content is 99.98% by weight.
It is.
【００１１】Ｐｂ：０．１乃至１重量ｐｐｍ Ｐｂはエッチングピット形成の起点となる作用を有する
元素である。アルミニウム箔全重量あたりのＰｂ含有量
が０．１重量ｐｐｍ未満であると、箔表面の反応抵抗が
高くなり、表面が極めて溶けにくくなるので、未エッチ
ング部が増加する。その結果、エッチング後の表面積の
拡大率が低下するので、静電容量が減少する。一方、Ｐ
ｂ含有量が１重量ｐｐｍを超えると、特にエッチング中
において箔表面が激しく溶解し、エッチング後の表面積
の拡大率が低下するので、静電容量が減少する。従っ
て、アルミニウム箔全重量あたりのＰｂ含有量は０．１
乃至１重量ｐｐｍとする。なお、好ましくは、Ｐｂ含有
量は０．３乃至０．８重量ｐｐｍである。 Pb: 0.1 to 1 ppm by weight Pb is an element having a function as a starting point of etching pit formation. If the Pb content is less than 0.1 ppm by weight based on the total weight of the aluminum foil, the reaction resistance on the foil surface increases, and the surface becomes extremely difficult to melt, so that the unetched portion increases. As a result, the enlargement ratio of the surface area after the etching is reduced, so that the capacitance is reduced. On the other hand, P
If the b content exceeds 1 ppm by weight, the foil surface will be severely dissolved, particularly during the etching, and the enlargement ratio of the surface area after the etching will decrease, so that the capacitance will decrease. Therefore, the Pb content based on the total weight of the aluminum foil is 0.1%.
To 1 ppm by weight. Preferably, the Pb content is 0.3 to 0.8 ppm by weight.
【００１２】Ｙ1：（−１００Ｄ＋５０）乃至（−２５
０Ｄ＋１６０） アルミニウム箔の表面からの距離をＤとし、このＤが０
以上０．３４μｍ未満の領域におけるＰｂ含有量をＹ1
（重量ｐｐｍ）としたとき、Ｙ1が（−１００Ｄ＋５
０）重量ｐｐｍ未満であると、Ｐｂの濃縮量が少ないの
で、エッチングピットの起点が不足し、エッチング後の
ピット密度が低下する。その結果、エッチング後の表面
積の拡大率が低下するので、静電容量が減少する。一
方、Ｙ1が（−２５０Ｄ＋１６０）重量ｐｐｍを超える
と、エッチングを開始するときに、ピットを形成する前
に箔の表面溶解が発生し、エッチング後のピット密度が
減少してしまう。その結果、エッチング後の表面積の拡
大率が低下するので、静電容量が減少する。従って、ア
ルミニウム箔の表面からの距離Ｄが０以上０．３４μｍ
未満の領域においては、Ｐｂ含有量Ｙ1を−１００Ｄ＋
５０）乃至（−２５０Ｄ＋１６０）重量ｐｐｍとする。
なお、好ましくは、Ｙ1は（−１８０Ｄ＋８０）乃至
（−３００Ｄ＋１５０）重量ｐｐｍである。 Y 1 : (−100D + 50) to (−25)
0D + 160) The distance from the surface of the aluminum foil is D, and this D is 0
The Pb content in the region of less than 0.34 μm is defined as Y 1
(Weight ppm), Y 1 is (−100D + 5)
0) If the content is less than ppm by weight, the concentration of Pb is small, so the starting point of the etching pit is insufficient, and the pit density after etching is reduced. As a result, the enlargement ratio of the surface area after the etching is reduced, so that the capacitance is reduced. On the other hand, when Y 1 exceeds (-250D + 160) weight ppm, when starting the etching, the surface dissolution of the foil occurs before the formation of the pit, the pit density after etching is decreased. As a result, the enlargement ratio of the surface area after the etching is reduced, so that the capacitance is reduced. Therefore, the distance D from the surface of the aluminum foil is 0 to 0.34 μm.
In less area, -100D the Pb content Y 1 +
50) to (-250D + 160) ppm by weight.
Preferably, Y 1 is (−180D + 80) to (−300D + 150) weight ppm.
【００１３】Ｙ2：（−１０．２４Ｄ＋２１．４８）乃
至（−３９．１６Ｄ＋８８．３１） アルミニウム箔の表面からの距離をＤとし、このＤが
０．３４乃至２μｍの領域におけるＰｂ含有量をＹ
2（重量ｐｐｍ）としたとき、Ｙ2が（−１０．２４Ｄ＋
２１．４８）重量ｐｐｍ未満であると、アルミニウム箔
表面におけるＰｂの濃縮によって高密度のエッチングピ
ットが発生しても、そのピットを成長させる駆動力が不
足し、エッチング後のピット密度が減少する。その結
果、エッチング後の表面積の拡大率が低下するので、静
電容量が減少する。一方、Ｙ2が（−３９．１６Ｄ＋８
８．３１）を超えると、アルミニウム箔内部においてＰ
ｂの濃度が高くなりすぎて、内部が極めて溶けやすくな
り、エッチングピットがアルミニウム箔の表面から深さ
方向に垂直に進行せず、その表面に平行な方向に延びて
しまうので、他のエッチングピットの成長を阻害してし
まう。その結果、エッチング後の表面積の拡大率が低下
するので、静電容量が減少する。従って、アルミニウム
箔の表面からの距離Ｄが０．３４乃至２μｍの領域にお
いては、Ｐｂ含有量Ｙ2を（−１０．２４Ｄ＋２１．４
８）乃至（−３９．１６Ｄ＋８８．３１）とする。な
お、好ましくは、Ｙ2は（−１３．８６Ｄ＋２９．７
１）乃至（−２４．１０Ｄ＋５６．１９）である。 Y 2 : (-10.24D + 21.48)
D is the distance from the surface of the (−39.16D + 88.31) aluminum foil, and the Pb content in a region where D is 0.34 to 2 μm is Y.
2 (weight ppm), Y 2 is (−10.24D +
21.48) When the content is less than ppm by weight, even if high-density etching pits are generated due to the concentration of Pb on the aluminum foil surface, the driving force for growing the pits is insufficient, and the pit density after etching decreases. As a result, the enlargement ratio of the surface area after the etching is reduced, so that the capacitance is reduced. On the other hand, Y 2 is (−39.16D + 8)
If the ratio exceeds 8.31), P
If the concentration of b becomes too high, the inside becomes extremely soluble, and the etching pit does not proceed perpendicularly to the depth direction from the surface of the aluminum foil but extends in a direction parallel to the surface. Hinders the growth of As a result, the enlargement ratio of the surface area after the etching is reduced, so that the capacitance is reduced. Therefore, in a region where the distance D from the surface of the aluminum foil is 0.34 to 2 μm, the Pb content Y 2 is set to (−10.24D + 21.4).
8) to (−39.16D + 88.31). Preferably, Y 2 is (−13.86D + 29.7)
1) to (−24.10D + 56.19).
【００１４】Ｙ1＞Ｙ2 Ｙ１≦Ｙ２のとき、即ち、アルミニウム箔の表面から
０．３４μｍ未満の深さの領域におけるＰｂ含有量が、
０．３４乃至２μｍまでの領域におけるＰｂ含有量以下
であると、アルミニウム箔表層部におけるＰｂの濃縮量
が不足してエッチングピットの起点が減少するので、エ
ッチング後のピット密度が低下する。その結果、エッチ
ング後の表面積の拡大率が低下するので、静電容量が減
少する。従って、Ｙ1＞Ｙ2となるようにＰｂ含有量を調
整する。When Y 1 > Y 2 Y 1 ≦ Y 2 , that is, the Pb content in a region having a depth of less than 0.34 μm from the surface of the aluminum foil is:
If the Pb content is not more than 0.34 to 2 μm, the concentration of Pb in the surface layer of the aluminum foil is insufficient and the starting point of the etching pit is reduced, so that the pit density after etching is reduced. As a result, the enlargement ratio of the surface area after the etching is reduced, so that the capacitance is reduced. Therefore, the Pb content is adjusted so that Y 1 > Y 2 .
【００１５】なお、エッチング前のアルミニウム箔表面
には酸化皮膜が存在するが、この膜厚はアルミニウム箔
のエッチング性に影響を与える。従って、本発明におい
ては、酸化皮膜の膜厚について規定している。その限定
理由について以下に説明する。An oxide film is present on the surface of the aluminum foil before etching, and this thickness affects the etching properties of the aluminum foil. Therefore, in the present invention, the thickness of the oxide film is specified. The reason for the limitation will be described below.
【００１６】酸化皮膜厚：３０乃至８０Å 酸化皮膜厚が３０Å未満であると、エッチングを開始し
たときにエッチングピットが発生する前に表面溶解が起
こり、エッチング後のピット密度が低下する。その結
果、エッチング後の表面積の拡大率が低下するので、静
電容量が減少する。一方、酸化皮膜厚が８０Åを超える
と、表面の反応抵抗が高くなり、箔表面が極めて溶けや
すい状態となるので、未エッチング部が増加する。その
結果、エッチング後の表面積の拡大率が低下するので、
静電容量が減少する。従って、本発明においては、アル
ミニウム箔表面に形成される酸化皮膜の膜厚は３０乃至
８０Åであることが望ましい。なお、より好ましくは、
酸化皮膜の膜厚は３５乃至５５Åである。 Oxide film thickness: 30 to 80 ° If the oxide film thickness is less than 30 °, surface melting occurs before etching pits occur when etching is started, and the pit density after etching is reduced. As a result, the enlargement ratio of the surface area after the etching is reduced, so that the capacitance is reduced. On the other hand, when the thickness of the oxide film exceeds 80 °, the reaction resistance of the surface becomes high, and the foil surface becomes extremely easily melted, so that the unetched portion increases. As a result, the enlargement rate of the surface area after etching decreases,
The capacitance decreases. Therefore, in the present invention, the thickness of the oxide film formed on the surface of the aluminum foil is desirably 30 to 80 °. In addition, more preferably,
The thickness of the oxide film is 35 to 55 °.
【００１７】[0017]
【実施例】以下、本発明に係る電解コンデンサ用アルミ
ニウム箔の実施例についてその比較例と比較して具体的
に説明する。EXAMPLES Examples of the aluminum foil for an electrolytic capacitor according to the present invention will be specifically described below in comparison with comparative examples.
【００１８】先ず、アルミニウム含有量（純度）が９
９．９重量％以上である純アルミニウム地金を下記表１
に示す組成となるように調整し、溶解鋳造した後、５５
０℃の温度で６時間の均質化熱処理を施し、熱間圧延及
び冷間圧延をすることにより、箔厚が０．１ｍｍである
アルミニウム箔を製造した。次に、この箔の表面を溶剤
によって十分に脱脂した後、真空引きをし、アルゴンを
主成分とする不活性ガスを流入させると共に、５３０乃
至５５０℃の温度で圧力を実質的に大気圧となるように
調整してアルミニウム箔を焼鈍することにより、試験材
を作製した。First, when the aluminum content (purity) is 9
Pure aluminum ingot of 9.9% by weight or more is shown in Table 1 below.
After being adjusted to have the composition shown in FIG.
An aluminum foil having a foil thickness of 0.1 mm was manufactured by performing a homogenizing heat treatment at a temperature of 0 ° C. for 6 hours and performing hot rolling and cold rolling. Next, after the surface of the foil is sufficiently degreased with a solvent, the foil is evacuated, an inert gas containing argon as a main component is caused to flow, and the pressure is substantially reduced to atmospheric pressure at a temperature of 530 to 550 ° C. A test material was prepared by annealing the aluminum foil so as to be as follows.
【００１９】そして、これらの試験材に対して、ＧＤ−
ＭＳによって試験材の表面から０．３０μｍの位置（Ｄ
＝０．３０）におけるＰｂ含有量Ｙ1及び表面から１．
５μｍの位置（Ｄ＝１．５）におけるＰｂ含有量Ｙ2を
測定した。また、ホウ酸系の溶液を使用した静電容量法
によって、試験材の表面に形成された酸化皮膜厚を測定
した。なお、Ｄが３０μｍである領域において、本発明
におけるＹ1の規定範囲は２０乃至８５重量ｐｐｍであ
り、Ｄが１．５μｍである領域において、本発明におけ
るＹ2の規定範囲は６．１２乃至２９．５７である。Then, GD-
The position of 0.30 μm from the surface of the test material by MS (D
= 1 from the Pb content Y 1 and surface of 0.30).
The Pb content Y 2 at a position of 5 μm (D = 1.5) was measured. The thickness of the oxide film formed on the surface of the test material was measured by a capacitance method using a boric acid-based solution. In the region where D is 30 μm, the specified range of Y 1 in the present invention is 20 to 85 ppm by weight, and in the region where D is 1.5 μm, the specified range of Y 2 in the present invention is 6.12 to ppm. 29.57.
【００２０】次いで、これらの試験材に対して、下記表
２に示す電解条件で第１直流エッチング及び第２直流エ
ッチングを施した後、得られたエッチド箔を化成処理溶
液によって３７５Ｖの電圧で化成処理し、静電容量を測
定した。各実施例及び比較例の測定結果を下記表１に併
せて示す。Next, these test materials were subjected to a first DC etching and a second DC etching under the electrolytic conditions shown in Table 2 below, and the resulting etched foil was subjected to chemical conversion at a voltage of 375 V with a chemical conversion treatment solution. After processing, the capacitance was measured. Table 1 below also shows the measurement results of the examples and the comparative examples.
【００２１】[0021]
【表１】 [Table 1]
【００２２】[0022]
【表２】 [Table 2]
【００２３】上記表１に示すように、実施例Ｎｏ．１乃
至４は、Ｐｂ含有量及びＡｌ純度が本発明の範囲内であ
ると共に、アルミニウム箔表面からの距離に対応して、
その領域に含有されるＰｂが本発明の範囲内であるの
で、比較例と比較して静電容量が高いものとなった。As shown in Table 1 above, Example No. 1 to 4, Pb content and Al purity are within the range of the present invention, and corresponding to the distance from the aluminum foil surface,
Since the Pb contained in that region was within the range of the present invention, the capacitance was higher than that of the comparative example.
【００２４】一方、比較例Ｎｏ．５はＡｌ純度が本発明
範囲の下限未満であり、比較例Ｎｏ．６及び７はＰｂ含
有量が本発明の範囲から外れているので、静電容量が低
いものとなった。また、比較例Ｎｏ．８はＤが０．３０
μｍである領域のＰｂ含有量Ｙ1が本発明範囲の下限未
満であり、比較例Ｎｏ．９はＤが１．５μｍである領域
のＰｂ含有量Ｙ2が本発明範囲の下限未満であるので、
静電容量が低いものとなった。比較例Ｎｏ．１０はＹ1
＞Ｙ2を満足していないので、静電容量が低いものとな
った。比較例Ｎｏ．１１は酸化皮膜の厚さが本発明範囲
の下限値を下回り、比較例Ｎｏ．１２は酸化皮膜の厚さ
が本発明範囲の上限値を超えるので、いずれも静電容量
が低い。また、比較例Ｎｏ．１３はＹ1が本発明範囲の
上限を超え、比較例Ｎｏ．１４はＹ2が本発明範囲の上
限を超えるものであるので、静電容量が低い。On the other hand, in Comparative Example No. In Comparative Example No. 5, the Al purity was less than the lower limit of the range of the present invention. In Nos. 6 and 7, since the Pb content was out of the range of the present invention, the capacitance was low. Also, in Comparative Example No. 8 is D 0.30
[mu] m Pb content Y 1 region is is less than the lower limit of the range of the present invention, Comparative Example No. 9, since the Pb content Y 2 in the region where D is 1.5 μm is less than the lower limit of the range of the present invention,
The capacitance became low. Comparative Example No. 10 is Y 1
> Y 2 , the capacitance was low. Comparative Example No. In Comparative Example No. 11, the thickness of the oxide film was less than the lower limit of the range of the present invention. No. 12 has a low capacitance because the thickness of the oxide film exceeds the upper limit of the range of the present invention. Also, in Comparative Example No. 13 Y 1 exceeds the upper limit of the range of the present invention, Comparative Example No. 14 Since Y 2 is one that exceeds the upper limit of the range of the present invention, the capacitance is low.
【００２５】[0025]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
アルミニウム箔のＡｌ純度及びＰｂ含有量を規定すると
共に、アルミニウム箔表面からの距離に対応して、その
領域に含有されるＰｂ量を規定しているので、箔表面に
微細なエッチングピットを形成してその表面積を拡大
し、これにより、静電容量を高めることができる。ま
た、アルミニウム箔表面に形成される酸化皮膜の膜厚を
規定すると、更に一層静電容量を向上させることができ
る。As described in detail above, according to the present invention,
Since the Al purity and the Pb content of the aluminum foil are specified and the amount of Pb contained in the area is specified corresponding to the distance from the aluminum foil surface, fine etching pits are formed on the foil surface. Thus, the surface area can be increased to thereby increase the capacitance. When the thickness of the oxide film formed on the surface of the aluminum foil is specified, the capacitance can be further improved.
Claims (2)
０．２乃至１重量ｐｐｍ含有するアルミニウム箔におい
て、表面からの距離をＤ、表面からの距離Ｄが０以上
０．３４μｍ未満の領域におけるＰｂ含有量をＹ1（重
量ｐｐｍ）、表面からの距離Ｄが０．３４乃至２μｍの
領域におけるＰｂ含有量をＹ2（重量ｐｐｍ）としたと
き、Ｙ1が（−１００Ｄ＋５０）乃至（−２５０Ｄ＋１
６０）であり、Ｙ2が（−１０．２４Ｄ＋２１．４８）
乃至（−３９．１６Ｄ＋８８．３１）であると共に、Ｙ
1＞Ｙ2であり、且つ表面に酸化皮膜を有し、前記酸化皮
膜の膜厚が３０乃至８０Åであることを特徴とする電解
コンデンサ用アルミニウム箔。1. An aluminum foil containing at least 99.9% by weight of Al and 0.2 to 1 ppm by weight of Pb, wherein the distance from the surface is D, and the distance D from the surface is 0 to less than 0.34 μm. When the Pb content is Y 1 (weight ppm) and the Pb content in a region where the distance D from the surface is 0.34 to 2 μm is Y 2 (weight ppm), Y 1 is (−100D + 50) to (−100). 250D + 1
60) and Y 2 is (−10.24D + 21.48)
To (−39.16D + 88.31), and Y
An aluminum foil for an electrolytic capacitor, wherein 1 > Y 2 and an oxide film is formed on the surface, and the oxide film has a thickness of 30 to 80 °.
（−３００Ｄ＋１５０）、Ｙ2は（−１３．８６Ｄ＋２
９．７１）乃至（−２４．１０Ｄ＋５６．１９）である
ことを特徴とする請求項１に記載の電解コンデンサ用ア
ルミニウム箔。Wherein said Y 1 is to (-180D + 80) (-300D + 150), Y 2 is (-13.86D + 2
9. The aluminum foil for an electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the thickness is from 9.71) to (-24.10D + 56.19).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29297796A JPH10140394A (en) | 1996-11-05 | 1996-11-05 | Aluminum foil for electrolytic capacitor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29297796A JPH10140394A (en) | 1996-11-05 | 1996-11-05 | Aluminum foil for electrolytic capacitor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10140394A true JPH10140394A (en) | 1998-05-26 |
Family
ID=17788883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29297796A Pending JPH10140394A (en) | 1996-11-05 | 1996-11-05 | Aluminum foil for electrolytic capacitor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10140394A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2790008A1 (en) * | 1999-02-23 | 2000-08-25 | Pechiney Rhenalu | REFINED ALLUMINUM SHEET FOR ELECTROLYTIC CAPACITORS |
-
1996
- 1996-11-05 JP JP29297796A patent/JPH10140394A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2790008A1 (en) * | 1999-02-23 | 2000-08-25 | Pechiney Rhenalu | REFINED ALLUMINUM SHEET FOR ELECTROLYTIC CAPACITORS |
| EP1031638A1 (en) * | 1999-02-23 | 2000-08-30 | Pechiney Rhenalu | High purity aluminium foil for electrolytic capacitors |
| US6471793B1 (en) | 1999-02-23 | 2002-10-29 | Pechiney Rhenalu | Refined aluminum foil for electrolytic capacitors |
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