JPH10135577A - 紫外レーザ光用光学材 - Google Patents
紫外レーザ光用光学材Info
- Publication number
- JPH10135577A JPH10135577A JP8289898A JP28989896A JPH10135577A JP H10135577 A JPH10135577 A JP H10135577A JP 8289898 A JP8289898 A JP 8289898A JP 28989896 A JP28989896 A JP 28989896A JP H10135577 A JPH10135577 A JP H10135577A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lithium tetraborate
- laser light
- ultraviolet laser
- optical
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
い透過率で透過可能であって、熱伝導率が良好で割れに
くく、カラーセンタが発生せず、曇りのない紫外レーザ
光用光学材を得る。 【解決手段】 紫外レーザ光の光路10に設けられる紫
外レーザ光用の窓材11、レンズ材12、アッテネータ
材、ビームスプリッタ材、レーザキャビティオプティク
ス材及びビームシェイピングオプティクス材等の光学材
を四ほう酸リチウムガラスで構成する。
Description
光(以下、紫外レーザ光という)の光路に設けられる窓
材、レンズ材、アッテネータ(attenuator)材、ビーム
スプリッタ(beamsplitters)材、レーザキャビティオ
プティクス(laser cavity optics)材及びビームシェ
イピングオプティクス(beam-shaping optics)材等の
紫外レーザ光用光学材に関する。更に詳しくは四ほう酸
リチウム(Li2B407)ガラスからなる紫外レーザ光
用光学材に関するものである。
してエキシマレーザ(excimer laser)がある。エキシ
マレーザは、1970年にソ連のBasov等により液
体Xeを電子ビームで励起する方法で初めて実現した。
1976年には放電励起方式でも発振に成功し、産業用
レーザとして使用されるようになった。放電励起エキシ
マレーザは紫外線のパルス繰返し発振レーザであって、
ArF(193nm)、KrF(248nm)、XeCl(308n
m)などの化合物が発する紫外光を光共振器により増大
させ、レーザ光として取り出したものである。このレー
ザの応用としては、高分子材料の加工(アブレーション
加工)、表面改質、マーキング、薄膜作製等の他に、医
薬品の製造、同位体の分離、レーザレーダなどの多くの
研究が進められている。
光を取り出し、使用に供するために、紫外レーザ光を透
過可能な窓材、レンズ材等が設けられている。従来、こ
の種の紫外レーザ光用窓材、レンズ材等は、CaF2、
MgF2、合成シリカ等により構成される。
gF2は透過率が良好である反面、熱伝導率が悪く、も
ろく割れ易い欠点があった。またCaF2やMgF2はカ
ラーセンタが発生し易く、紫外レーザ光用光学材に使用
するときには、カラーセンタが発生していない箇所を選
別する必要があった。また合成シリカはカラーセンタは
発生しにくいものの、長い間使用すると曇りが生じ易い
欠点があった。本発明の目的は、熱伝導率が良好で割れ
にくく、カラーセンタが発生せず、曇りを生じない紫外
レーザ光用光学材を提供することにある。本発明の別の
目的は、高出力の紫外レーザ光を損傷することなく高い
透過率で透過可能な紫外レーザ光用光学材を提供するこ
とにある。
図1に示すように、紫外レーザ光の光路10に設けられ
る窓材11を含む紫外レーザ光用光学材において、窓材
11が四ほう酸リチウムガラスからなることを特徴とす
る。請求項2に係る発明は、図1に示すように、紫外レ
ーザ光の光路10に設けられるレンズ材12を含む紫外
レーザ光用光学材において、レンズ材12が四ほう酸リ
チウムガラスからなることを特徴とする。
路10に設けられるアッテネータ材を含む紫外レーザ光
用光学材において、アッテネータ材が四ほう酸リチウム
ガラスからなることを特徴とする。請求項4に係る発明
は、紫外レーザ光の光路10に設けられるビームスプリ
ッタ材を含む紫外レーザ光用光学材において、ビームス
プリッタ材が四ほう酸リチウムガラスからなることを特
徴とする。
路10に設けられるレーザキャビティオプティクス材を
含む紫外レーザ光用光学材において、レーザキャビティ
オプティクス材が四ほう酸リチウムガラスからなること
を特徴とする。請求項6に係る発明は、紫外レーザ光の
光路10に設けられるビームシェイピングオプティクス
材を含む紫外レーザ光用光学材において、ビームシェイ
ピングオプティクス材が四ほう酸リチウムガラスからな
ることを特徴とする。
の波長に対する透明領域が広く、光損傷しきい値が高
い。また単結晶と異なり複屈折することがなく、結晶方
位を決めて切断する必要もなく、任意の大きさに作製で
き、加工性に優れる。このため、紫外レーザ光用の窓
材、レンズ材、アッテネータ材、ビームスプリッタ材、
レーザキャビティオプティクス材及びビームシェイピン
グオプティクス材等の光学材として最適である。ここで
レンズはレーザビームの集光又は拡大に使用される。ア
ッテネータは光強度が強すぎる場合に所望の強度まで減
衰させるために、またビームスプリッタはレーザビーム
を分割するためにそれぞれ使用される。レーザキャビテ
ィオプティクスは光共振器を構成するレンズ、ミラーを
含む光学部品である。更にビームシェイピングオプティ
クスはレーザビーム幅を調整するための光学部品であ
る。
は、四ほう酸リチウム粉末原料を融解して、公知のガラ
ス製造法により作られる。製造された四ほう酸リチウム
ガラスを紫外レーザ光用の窓材、レンズ材、アッテネー
タ材、ビームスプリッタ材、レーザキャビティオプティ
クス材及びビームシェイピングオプティクス材等の光学
材に応じた形状に加工する。
る。 <実施例1>内径150mm、高さ130mmの有底筒
状のアルミナるつぼの内側に外径及び高さをアルミナる
つぼに合わせた有底筒状の厚さ0.1mmの白金を挿着
した。4Nの四ほう酸リチウム粉末原料をるつぼ内に充
填し、1050℃まで加熱して四ほう酸リチウム粉末原
料を融解した。融解物を1050℃で5時間維持した
後、10時間かけて室温まで冷却した。アルミナるつぼ
を壊し、白金箔を剥離すると、円柱状の四ほう酸リチウ
ムのガラスが得られた。この四ほう酸リチウムガラスの
屈折率変動は10-6/mm以下であった。これらのこと
からこのガラスが紫外レーザ光用の窓材、レンズ材、ア
ッテネータ材、ビームスプリッタ材、レーザキャビティ
オプティクス材及びビームシェイピングオプティクス材
等の光学材に適していることが判った。そのため、得ら
れた四ほう酸リチウムガラスを加工して、上記紫外レー
ザ光用光学材の中から、30mm×30mm×1mmの
正方形の窓材11及び直径20mmの凸レンズ材12を
製造した。
F2からなる実施例1と同形同大の窓材及び凸レンズ材
を比較例1とした。
F2からなる実施例1と同形同大の窓材及び凸レンズ材
を比較例2とした。
シリカからなる実施例1と同形同大の窓材及び凸レンズ
材を比較例3とした。
べた。その結果を図2に示す。図2から明らかなよう
に、エキシマレーザのArF(193nm)及びKrF(248
nm)の波長において、四ほう酸リチウムガラスからなる
実施例1は、フッ化物結晶の比較例1,2より劣るが、
合成シリカからなる比較例3と比べて透過率が高かっ
た。
て屈折率変動が生じる光損傷しきい値を測定した。即
ち、Nd:YAGレーザ(1064nm)により10ナノ秒間
レーザ光を照射して光損傷しきい値を測定した。その結
果を図3に示す。図3より明らかなように、四ほう酸リ
チウムガラスからなる実施例1の窓材は合成シリカから
なる比較例3の窓材と比べて、約4倍であった。このこ
とは強力な紫外レーザ光の照射に対して、実施例1の窓
材は比較例3の窓材より耐久性が良好であることを示し
ている。
ーセンタの生成状況を調べた。即ち、400Hz、10
0mJのKrF(248nm)のエキシマレーザを光学研磨
した実施例1及び比較例1〜3の凸レンズ材に照射し
た。その結果、1時間の照射で比較例1及び比較例2の
フッ化物結晶には着色が見られた。この着色は結晶中に
カラーセンタが生じたことによる。一方、100時間照
射しても実施例1の四ほう酸リチウムガラス及び比較例
3の合成シリカには着色は生じなかった。カラーセンタ
が生じると、透過率が低下し、レーザ品質が低下するよ
うになる。
光用窓材及びレンズ材を四ほう酸リチウムガラスで構成
することにより、窓材及びレンズ材は熱伝導率が良好で
割れにくくなり、カラーセンタ及び曇りを生じず、また
高出力の紫外レーザ光を損傷することなく高い透過率で
透過することができる優れた効果を奏する。
むエキシマレーザ装置の構成図。
域での透過率を示す図。
を示す図。
Claims (6)
- 【請求項1】 紫外レーザ光の光路(10)に設けられる窓
材(11)を含む紫外レーザ光用光学材において、前記窓材
(11)が四ほう酸リチウムガラスからなることを特徴とす
る紫外レーザ光用光学材。 - 【請求項2】 紫外レーザ光の光路(10)に設けられるレ
ンズ材(12)を含む紫外レーザ光用光学材において、前記
レンズ材(12)が四ほう酸リチウムガラスからなることを
特徴とする紫外レーザ光用光学材。 - 【請求項3】 紫外レーザ光の光路(10)に設けられるア
ッテネータ材を含む紫外レーザ光用光学材において、前
記アッテネータ材が四ほう酸リチウムガラスからなるこ
とを特徴とする紫外レーザ光用光学材。 - 【請求項4】 紫外レーザ光の光路(10)に設けられるビ
ームスプリッタ材を含む紫外レーザ光用光学材におい
て、前記ビームスプリッタ材が四ほう酸リチウムガラス
からなることを特徴とする紫外レーザ光用光学材。 - 【請求項5】 紫外レーザ光の光路(10)に設けられるレ
ーザキャビティオプティクス材を含む紫外レーザ光用光
学材において、前記レーザキャビティオプティクス材が
四ほう酸リチウムガラスからなることを特徴とする紫外
レーザ光用光学材。 - 【請求項6】 紫外レーザ光の光路(10)に設けられるビ
ームシェイピングオプティクス材を含む紫外レーザ光用
光学材において、前記ビームシェイピングオプティクス
材が四ほう酸リチウムガラスからなることを特徴とする
紫外レーザ光用光学材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8289898A JPH10135577A (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | 紫外レーザ光用光学材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8289898A JPH10135577A (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | 紫外レーザ光用光学材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10135577A true JPH10135577A (ja) | 1998-05-22 |
Family
ID=17749206
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8289898A Pending JPH10135577A (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | 紫外レーザ光用光学材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10135577A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5999472A (en) * | 1997-08-08 | 1999-12-07 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Multi-bank synchronous semiconductor memory device with easy control |
-
1996
- 1996-10-31 JP JP8289898A patent/JPH10135577A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5999472A (en) * | 1997-08-08 | 1999-12-07 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Multi-bank synchronous semiconductor memory device with easy control |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3626442B2 (ja) | レーザ加工方法 | |
US20060285561A1 (en) | Pulsed laser source with adjustable grating compressor | |
US20040180773A1 (en) | Photostructurable body and process for treating a glass and/or a glass-ceramic | |
US20080143021A1 (en) | Method For Finely Polishing/Structuring Thermosensitive Dielectric Materials By A Laser Beam | |
JP2007152958A (ja) | レーザー切断装置 | |
JP2011037707A (ja) | レーザを用いたガラスの加工方法および加工装置 | |
JP3751970B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
Ma et al. | Surface damage and threshold determination of Ge–As–Se glasses in femtosecond pulsed laser micromachining | |
JP3867102B2 (ja) | 半導体材料基板の切断方法 | |
JPH10135577A (ja) | 紫外レーザ光用光学材 | |
US6768762B2 (en) | High repetition rate UV excimer laser | |
JP2006205260A (ja) | レーザ加工装置 | |
EP0838701B1 (en) | A laser processing method to an optical waveguide | |
JPH10284793A (ja) | 短波長領域のレーザ光用光学材 | |
JP4095092B2 (ja) | 半導体チップ | |
JP2003088982A (ja) | レーザ加工方法 | |
JP2006148175A (ja) | レーザ加工方法 | |
JPH10101486A (ja) | 紫外レーザ光用光学材 | |
JP3649283B2 (ja) | 紫外レーザ光用光学材の製造方法 | |
JP2015142937A (ja) | プラスチック製品のレーザマーキング装置及びその方法 | |
Hohnholz et al. | Optics and Apparatus for CO 2 and CO Laser Micro-processing | |
JP2002343087A (ja) | 透明固体内部のボイドの移動方法 | |
GB2076334A (en) | Working gemstones | |
CN214849530U (zh) | 一种带激光调q开关的二氧化碳玻璃管激光器 | |
Edward | Diode pumped fiber laser |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040420 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040617 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040709 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070109 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100119 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 4 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 4 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 4 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 4 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 4 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120119 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |