JPH10134568A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH10134568A
JPH10134568A JP9327539A JP32753997A JPH10134568A JP H10134568 A JPH10134568 A JP H10134568A JP 9327539 A JP9327539 A JP 9327539A JP 32753997 A JP32753997 A JP 32753997A JP H10134568 A JPH10134568 A JP H10134568A
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JP
Japan
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address
refresh
memory cells
bit
present
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Pending
Application number
JP9327539A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiko Kajitani
一彦 梶谷
Akira Endo
彰 遠藤
Ryoichi Hori
陵一 堀
Tetsuo Matsumoto
哲郎 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits

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  • Dram (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ロウアドレスのビット数がカラムアドレスの
ビット数より大きく、アドレスマルチプレクス方式でア
ドレスを受ける半導体装置での信号ピンの数の増加を防
ぐ。 【構成】 ロウアドレスを受ける複数の入力ピンのいず
れかを用いてカラムアドレスを受け取り、この複数の入
力ピンのうちの所定の入力ピンは、上記カラムアドレス
以外の所定信号と前記ロウアドレスを時分割で受けるた
めに用いる。 【効果】 半導体装置での信号ピンの数の増加を防ぐこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はDRAMのリフレッシュ
方式に係り、特に16MDRAM以上の大容量DRAM
に好適なリフレッシュ方式に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のDRAMはnビットの容量に対
し、リフレッシュサイクルが(1/2)√n,リフレッ
シュのために活性化されるセンスアンプ数は2√nで構
成されていた。
【0003】DRAMリフレッシュに関しては、例えば
特開昭62−154291がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】DRAMの消費電力の
うち、メモリセルのリフレッシュのために活性化される
センスアンプを通してのビット線充放電電流が占める割
合が大きい。この電流はDRAMが大容量化されればさ
れるほど大きくなり、全消費電流に占める割合も大きく
なる。消費電力の増大はチップの発熱量を大きくし、チ
ップ温度を上昇させる。チップ温度の上昇はメモリセル
拡散層のジャンクション温度を上昇させ、ジャンクショ
ンリーク量を増やし、メモリセルの情報保持特性を劣化
させる。
【0005】従来のDRAMではnビットの容量に対
し、リフレッシュサイクル数を(1/2)√n、同時に
活性化するセンスアンプ数を2√nとしている。アドレ
スマルチプレクスによりロウ,カラム両アドレスを入力
する方式では特定のメモリセルをアクセスするために活
性化しなくてはならないセンスアンプ数は√nで良く、
2√nのセンスアンプを活性化させる事で消費電流の増
大を引きおこす問題がある。本発明の目的は、この電流
を低減することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的は同時に活性化
するセンスアンプ数を√n以下とする(具体的には√
n,(1/2)√n,(1/4)√n,(1/8)√n……)
ことにより達成される。これは見方を変えればリフレッ
シュサイクル数を√n以上とする(具体的には√n、2
√n、4√n、8√n……)ことである。
【0007】しかしこのようにリフレッシュサイクル数
を多くする事は、一定時間(リフレッシュインターバ
ル)内に全てのメモリセルをリフレッシュするために
は、リフレッシュ動作の回数を増やす事になり、DRA
Mのメモリ効率を低下させる。メモリ効率を低下させな
いためには、リフレッシュインターバルを長くする必要
があり、メモリセルの情報保持特性を向上させなくては
ならない。メモリセルの情報電荷は基板と拡散層のジャ
ンクションリークにより減少していくので、ジャンクシ
ョンの面積を少なくできる基板を情報電荷蓄積容量の電
極に使わないタイプの立体構造メモリセルを用いる事に
より、情報保持特性を向上させる事ができ、上記リフレ
ッシュサイクル数を増やすことにより低消費電力化が達
成される。
【0008】
【作用】リフレッシュサイクル数を√n以上とする事に
より同時に活性化するセンスアンプ数を√n以下にでき
る。これにより、リフレッシュ動作時にセンスアンプを
通して流れるビット線充放電電流を低減することができ
る。
【0009】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図を用いて説明す
る。
【0010】図2に、nビットの容量に対し、リフレッ
シュサイクル数を(1/2)√n、同時に活性化される
センスアンプ数2√nとした従来方式を示す。ロウアド
レスによりワード線が2本選択され、それに接続される
2√n個のメモリセルがリフレッシュされる。2本のワ
ード線のうち1本はメモリセルのアクセスには用いられ
ず、リフレッシュのためだけに選択される。
【0011】図1に、nビットの容量に対し、リフレッ
シュサイクル数を√n、同時に活性化されるセンスアン
プ数を√nとした本発明の一実施例を示す。ロウアドレ
スによりワード線が1本選択され、それに接続される√
n個のメモリセルがリフレッシュされる。
【0012】図4は従来方式の(1/4)nワード×4
ビット構成のDRAMを示す。ロウアドレス,カラムア
ドレス共1/2ずつに分け2本選択されるワード線の各
々から2ビットを選択し、4ビット構成としている。リ
フレッシュサイクル数は(1/2)√nである。ロウ,
カラムアドレスが各々1本少なくなる。
【0013】図3は、本発明を用いた(1/4)nワー
ド×4ビット構成のDRAMの一実施例である。カラム
アドレスを1/4に分け、1本のワード線から4ビット
を選択し、4ビット構成としている。リフレッシュサイ
クル数は√nである。カラムアドレスのみ2本少なくな
る。
【0014】図6は従来方式のニブルモードの構成を示
す。4ビット構成の場合と同様に2本のワードから各々
2ビットずつ選択して、/CASのトグルにより順次1
ビットずつアクセスする。この場合、内部で順次選択さ
れるアドレス(ニブルアドレス)はロウ,カラム各々1
本ずつとなる。リフレッシュサイクル数は(1/2)√
nである。
【0015】図5は本発明を用いたニブルモードの構成
を示す。4ビットの構成の場合と同様に1本のワード線
から4ビット選択して、/CASのトグルにより順次1
ビットずつアクセスする。この場合、ニブルアドレスは
カラムアドレス2本となる。リフレッシュサイクル数は
√nである。
【0016】図7(a)は従来方式と本発明の実施例と
のnワード×1ビット構成のアドレス方式を比較した図
である。従来方式ではリフレッシュアドレス(全てのメ
モリセルをリフレッシュするために必要なロウアドレ
ス)はi本のロウアドレスのうち、最上位アドレスを除
いたi−1本である。また、ニブルアドレスはロウ,カ
ラム各々のアドレスの最上位アドレスである。本発明の
実施例では、リフレッシュアドレスがロウアドレス全て
のi本、ニブルアドレスはカラムアドレスの上位から2
本となっている。
【0017】図7(b)は従来方式と本発明の実施例と
の(1/4)nワード×4ビット構成のアドレス方式を
比較した図の場合である。従来方式では、nワード×1
ビット構成に比べてロウ,カラム各アドレス共最上位の
1本ずつが無くなっており、リフレッシュアドレスは1
ビット構成と同じくi−1本である。一方、本発明の実
施例では、1ビット構成に比べカラムアドレスが2本少
なくなっており、リフレッシュアドレスは1ビット構成
と同じくi本である。アドレスマルチプレクスとならな
いアドレスピンが2本でき、×1構成に対してアドレス
ピン数は減らない。
【0018】図8(a)は本発明の一実施例の16Mワ
ード×1ビットDRAMパッケージ外形及びピン配置の
例である。さらに、図8(b)は本発明の一実施例の4
Mワード×1ビットDRAMパッケージ外形及びピン配
置の例である。n=16Mビットの場合を示す。パッケ
ージ外形はスモールアウトラインジェイベントパッケー
ジSOJとジグザグインラインパッケージZiP,16
Mワード×1ビット構成と4Mワード×4ビット構成に
ついて示してある。従来方式に対して、4ビット構成に
おいてA11ピンが存在する事が異なっている。また、
A10,A11ピンはアドレスマルチプレクス入力ピン
でなくなる。
【0019】図9(a)は本発明の一実施例で採用して
いるスタックドキャパシタSTCを用いたメモリセル構
造を示す。
【0020】さらに図9(b)は本発明の一実施例で採
用しているハイスイースプレートキャパシタHSPCを
用いたメモリセル構造を示す。STCセル、HSPCセ
ル共に基板を蓄積容量の電極として用いないタイプの立
体構造メモリセルである。このため、情報電荷を蓄積す
るノードにつく拡散層の面積が少なく、基板との間のジ
ャンクションリークによる情報保持特性の劣化が少ない
メモリセルとなっている。このメモリセルの採用によ
り、メモリ効率を落とすことなく、リフレッシュサイク
ル数を増やすことが可能になっている。
【0021】さらに、16M以上の大容量DRAMで
は、本発明により低消費電力化することでチップの発熱
量を少なくし、メモリセルの情報保持特性を改善するこ
ともできる。
【0022】なお、小面積で立体構造のメモリセルは、
拡散層領域が小さい。これによりジャンクションリーク
による情報保持特性が向上する。ここで√nリフレッシ
ュサイクルを組合せることにより低消費電力化を図るこ
とができる。さらに低発熱量により、情報保持特性が改
善される。
【0023】また、16Mビット以上の大容量DRAM
は、ビット線充放電による消費電力が大きい。従って、
高い発熱量により、情報保持特性が劣化する。ここで、
√nリフレッシュサイクル化が必須となる。従って、√
nリフレッシュサイクル化を行うことにより、低消費電
力化を図ることができ、低発熱量により、情報保持特性
が改善される。
【0024】図10(a)は、本発明を用いたリフレッ
シュ方式とチップ内電圧コンバータを組み合わせた例で
ある。図10(b)はチップ内電圧VCLがセンスアンプ
を通じてビット線を充電する方法を示す図である。電圧
コンバータはこの充電電流を供給するために充分低イン
ピーダンスでなくてはならないがそのためには大きな面
積を必要とし、チップ面積が増加する。本発明を用いれ
ばビット線充電電流を低減することができるため、電圧
コンバータの面積を小さくすることができ、チップ面積
を減らすことができる。
【0025】図11は、電圧コンバータを用いない従来
方のDRAMの例である。
【0026】図12(a),(b)は、Ai−1アドレ
スをI/Oピンから取込む√nリフレッシュ×4構成D
RAMを示す図とタイムチャート図である。本発明にお
いて(1/4)nワード×4ビット構成の場合、従来方
式に比べアドレスピンが1本多く必要となる(図7参
照)。この1本多いアドレスをI/Oピンから他のロウ
アドレスと同じタイミングで取り込んでいる。I/Oピ
ンにはその後時分割でデータ入力を行なうかデータ出力
を取り出す事で動作上全く問題はない。これにより本発
明により従来方式に比べアドレスピンが増加するのを防
ぐことができる。
【0027】図13(a)は本発明の他の実施例を示す
レイアウト図である。さらに図13(b)は、カラムア
ドレス信号/CASビフォアロウアドレス信号/RAS
時のみ(1/2)√nリフレッシュサイクルに変える回
路図である。/CASビフォア/RAS(CBR)リフ
レッシュ時は従来と同じ(1/2)√nリフレッシュサ
イクルで動作させ、その他は本発明の√nリフレッシュ
サイクルで動作する。通常動作の中にリフレッシュ動作
が入る割合はおよそ100回に1回程度なので、CBR
リフレッシュ時のみ消費電流が従来方式並に増加する
が、全体で平均すると低消費電力化が達成でき、さら
に、リフレッシュ動作をCBRリフレッシュで行なえ
ば、リフレッシュサイクル数は従来と同じで済む。
【0028】図13(b)において、/CRはCBRリ
フレッシュ時‘L’になる信号であり、これにより√n
リフレッシュ、(1/2)√nリフレッシュを切りかえ
る。
【0029】図14は、図13(b)に示すリフレッシ
ュサイクル切りかえアドレス信号Axi-1,/Axi-1か
ら、センスアンプ活性化信号PL,/PL,PR,/P
Rを作る回路である。CBR判定信号/CRが‘L’と
なると、Axi-1,/Axi-1共‘H’レベルとなり、ワー
ド線が2本選択されるとともに、PL,/PL,PR,
/PRが全て出力され、センスアンプが2√n個活性化
される。このようにしてCBR時に(1/2)√nリフ
レッシュサイクルの動作が行なわれる。
【0030】図示してないが、このような従来方式に切
りかえる方式は、多ビット同時テストモード時やバーン
インモード時の様に、同時に多ビットをアクセスしたい
時や、ワード線選択回数を増やし、ワード線に対するバ
ーンインストレスデューティを向上させる時に選択的に
用いても良い。
【0031】図15(a)は、単相駆動タイプのピーク
電流増加防止回路図、図15(b)は、2相駆動タイプ
のピーク電流増加防止回路図である。センスアンプ駆動
用パワースイッチを2つの信号でオンさせるようにして
おき、リフレッシュ方式の切りかわりに対応して上記2
つの信号間のタイミングを変化させる。図15(a)で
は/CRが‘L’になると、P1L,/P1LとP2
L,/P2Lとの間にタイミング遅延が生じる。図15
(b)では、/CRが‘L’になると、P1L,/P1
LとP2L,/P2Lとの間のタイミング遅延量がより
大きくなる。どちらの方式も、CBRリフレッシュ時、
従来のリフレッシュ方式に切りかわる事により、ビット
線充放電電流のピーク値が増加する事を防止する。ただ
し、この方式ではビット線充放電時間は長くなるため、
CBRリフレッシュ時のサイクル時間が長くなる。図1
6は、本発明の他の実施例を示す図である。
【0032】図17は、本発明の一実施例を用いたDR
AMのチップレイアウト図である。チップ中央部にボン
ディングPAD及び電圧コンバータ(VCL,VDL)、基
板電圧発生回路(VBB)等が配置されている。特に基板
に少数キャリアを注入しやすいVBB発生回路等を中央部
におき、メモリアレイから離すことでメモリセル特性の
劣化を防いでいる。
【0033】図18(a)は、本実施例のリフレッシュ
サイクル数を2√nとした場合の図、さらに図18
(b)は本実施例のリフレッシュサイクル数を4√nと
した場合の図である。ロウアドレスかカラムアドレスよ
り多くなっている。
【0034】本発明において開示される主な発明は以下
の通りである。
【0035】(1)nビット(nはおおよそ16M以
上)の基板を蓄積容量の電極として使わないタイプの立
体構造メモリセルより構成されるDRAMにおいて、全
てのメモリセルをリフレッシュするために必要なリフレ
ッシュ動作の回数(以下リフレッシュサイクルと記す)
を√n以上とする。
【0036】(2)(1)において、1回のリフレッシ
ュ動作において、メモリセルのリフレッシュのために活
性化されるセンスアンプの数を√n以下とする。
【0037】(3)(1)または(2)において、nビ
ットのDRAMを(n/N)ワード×Nビット(N=
1,2,4,8,……)構成とする時、カラムアドレス
のみを縮退させて作る。
【0038】(4)(1)または(2)において、ニブ
ルモード,バイトモード時にチップ内部で生成されるア
ドレスがカラムアドレスのみからなる。
【0039】(5)(1)乃至(3)において、ロウア
ドレス数とカラムアドレス数が異なる場合、アドレスマ
ルチプレクスにより供給できないどちらか多い方のアド
レスをアドレスピン以外の信号ピンより時分割に入力す
る。
【0040】(6)(1)または(2)において、特定
の動作モード時にリフレッシュサイクル数を√n以下ま
たは活性化するセンスアンプ数を√n以上とする。
【0041】(7)(1)、(2)、(6)のいずれか
において、特定の動作モード時にセンスアンプ活性化タ
イミングを変える。
【0042】(8)(1)又は(2)において、内部電
源降圧回路を更に有する。
【0043】(9)(1)又は(2)において、LOC
(リードオンチップ)構造のパッケージに搭載する。
【0044】
【発明の効果】本発明によれば、メモリ効率を低下させ
ずに、低消費電力の大容量DRAMができるので、ユー
ザにとって使いやすいDRAMを供給することができ
る。従来の(1/2)√nリフレッシュサイクル方式に
比べ本発明で√nリフレッシュサイクル方式を採用する
と、ビット線充放電電流(チップの全消費電流の5〜7
割に相当)を2分の1に低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】nビットの容量に対し、リフレッシュサイクル
数を√n、同時に活性化させるセンスアンプ数を√nと
した本発明における一実施例図。
【図2】nビットの容量に対し、リフレッシュサイクル
数を(1/2)√n、同時に活性化されるセンスアンプ
数を2√nとした従来方式を示す図。
【図3】本発明を用いた(1/4)nワード×4ビット
構造のDRAMの一実施例図。
【図4】従来方式の(1/4)nワード×4ビット構造
のDRAMを示す図。
【図5】本発明を用いたニブルモードの構成を示す図。
【図6】従来方式のニブルモードの構成を示す図。
【図7】(a)は、従来方式と本発明の実施例とのnワ
ード×1ビット構成のアドレス方式を比較した図。
(b)は、従来方式と本発明の実施例との(1/4)n
ワード×4ビット構成のアドレス方式を比較した図。
【図8】(a)は、本発明の一実施例の16MビットD
RAMパッケージ外形及びピン配置を示す図。(b)
は、本発明の一実施例の4MビットDRAMパッケージ
外形及びピン配置を示す図。
【図9】(a)は、本発明の一実施例で採用しているス
タックドキャパシタSTCを用いたメモリセル構造を示
す図。(b)は、本発明の一実施例で採用しているハイ
スイースプレートキャパシタHSPCを用いたメモリセ
ル構造を示す図。
【図10】(a)は、本発明を用いたリフレッシュ方式
とチップ内電圧コンバータを組合せた図。(b)は、チ
ップ内電圧VCLがセンスアンプを通じてビット線を充電
する方法を示す図。
【図11】電圧コンバータを用いない従来方式のDRA
Mの図。
【図12】(a),(b)は、Ai-1アドレスをI/O
ピンから取込む√nリフレッシュ×4構成DRAMを示
す図と、タイムチャート図。
【図13】(a)は、本発明の他の実施例を示す図。
(b)は、カラムアドレス信号/CASビフォアロウア
ドレス信号/RAS時のみ(1/2)√nリフレッシュ
サイクルに変える回路図。
【図14】図13(b)に示すリフレッシュサイクル切
換えアドレス信号Axi-1,/Axi-1から、センスアンプ
活性化信号を作る回路図。
【図15】(a)は、単相駆動タイプのピーク電流増加
防止回路の図。(b)は2相駆動タイプのピーク電流増
加防止回路の図。
【図16】(a),(b)は本発明の他の実施例を示す
図。
【図17】本発明の一実施例を用いたDRAMのチップ
レイアウト図。
【図18】(a)は本実施例のリフレッシュサイクル数
を2√nとした場合の図。(b)は、本実施例のリフレ
ッシュサイクル数を4√nとした場合の図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松本 哲郎 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数のワード線と、複数のビット線と、複
    数のメモリセルとを備え、 前記複数のワード線のいずれかを選択するためのロウア
    ドレスのビット数はカラムアドレスのビット数より大き
    く、 前記ロウアドレスを受ける複数の入力ピンのいずれかを
    用いて前記カラムアドレスを受けるアドレスマルチプレ
    クス方式を取り、 前記複数の入力ピンのうちの所定の入力ピンは、前記カ
    ラムアドレス以外の所定信号と前記ロウアドレスを時分
    割で受けるために用いられることを特徴とする半導体装
    置。
  2. 【請求項2】請求項1において、 前記複数のメモリセルはダイナミック形メモリセルであ
    り、 1回のメモリアクセスで活性化されるセンスアンプ数は
    √n以下であることを特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】請求項1において、 前記複数のメモリセルはダイナミック形メモリセルであ
    り、 1回のメモリアクセスで選択状態にされるワード線に接
    続されるメモリセルの数は√n以下であることを特徴と
    する半導体装置。
  4. 【請求項4】請求項1において、 前記複数のメモリセルはダイナミック形メモリセルであ
    り、 複数回のリフレッシュ動作によってnビットの前記ダイ
    ナミック形メモリセルがリフレッシュされ、 前記nビットをリフレッシュするためのリフレッシュサ
    イクルは√n以上であることを特徴とする半導体装置。
  5. 【請求項5】請求項1から4のいずれかにおいて、 前記所定信号は入力データ又は出力データであることを
    特徴ととする半導体装置。
JP9327539A 1997-11-28 1997-11-28 半導体装置 Pending JPH10134568A (ja)

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